KR101769924B1 - Electrolytic polishing apparatus - Google Patents

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KR101769924B1 KR1020170052341A KR20170052341A KR101769924B1 KR 101769924 B1 KR101769924 B1 KR 101769924B1 KR 1020170052341 A KR1020170052341 A KR 1020170052341A KR 20170052341 A KR20170052341 A KR 20170052341A KR 101769924 B1 KR101769924 B1 KR 101769924B1
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Abstract

The present invention relates to an electrolytic polishing apparatus capable of easily installing an anode plate to electrolytically polish an object to electrolytically be polished. According to one embodiment of the present invention, the apparatus comprises: an electrolysis bath having a reception space to receive the object to electrolytically be polished and an electrolyte solution; an anode holding and fixation plate mounted on a polishing part formed on one surface of the object to electrolytically be polished; an anode plate immersed in the electrolyte solution, and mounted on the polishing part of the object to electrolytically be polished; a C-shaped clamp installed in the anode holding and fixation plate to fixate the anode plate; and a rectifier electrically connected to the object to electrolytically be polished and the anode plate, applying a positive pole (+) to the object to electrolytically be polished, and applying a negative pole (-) to the anode plate. The anode plate comprises: a first anode lattice plate formed in a strip shape to vertically be disposed in the polishing part of the object to electrolytically be polished; and a second anode lattice plate assembled in a first anode plate in a lattice shape to horizontally be disposed in the polishing part of the object to electrolytically be polished to modularize the anode plate.

Description

전해연마장치{ELECTROLYTIC POLISHING APPARATUS}ELECTROLYTIC POLISHING APPARATUS [0001]

본 발명은 전해연마장치에 관한 것이다. 더욱 상세하게는 양극과 음극에 전류를 인가하여 전해액을 매개로 금속의 표면에 전기분해를 일으켜 연마하기 위한 전해연마장치에 관한 것이다.The present invention relates to an electrolytic polishing apparatus. More particularly, the present invention relates to an electrolytic polishing apparatus for electrolyzing a surface of a metal through an electrolytic solution by applying an electric current to the anode and the cathode.

전해연마(Electrolytic Polishing)는 전해액에 용해되는 금속을 양극(Anode)으로 하고, 전해액에 불용성인 금속을 음극(Cathode)으로 사용하여 양극과 음극에 전압을 인가함으로써, 상기 전해액을 매개로 금속의 표면에서 전기분해를 일으켜 연마하는 방법이다.Electrolytic polishing is a method in which a metal dissolving in an electrolytic solution is used as an anode and a metal insoluble in an electrolytic solution is used as a cathode and a voltage is applied to the anode and the cathode, Which is a method of polishing the substrate by electrolysis.

이러한 전해연마를 이용하여 금속을 연마하기 위해서는 전해조에 전해액(電解液)을 채우고, 연마하고자 하는 금속을 양극으로 설치하고, 전해액에 용해하지 않는 금속을 음극으로 설치한 다음 양극과 음극에 직류를 인가한다.In order to polish a metal by using such electrolytic polishing, an electrolytic solution (electrolytic solution) is filled in an electrolytic bath, a metal to be polished is set as an anode, a metal which is not dissolved in the electrolytic solution is installed as a cathode, do.

한편, 전해연마가 진행되면 양극으로부터 용해된 금속이온을 다량 함유한 고점도 액체층(점성층)이 양극을 둘러싼다. 금속이온으로 포화된 액체층에서는 더는 금속이 용해되지 않고, 높은 양극 전위를 형성하므로, 산소와 활발히 결합하여 산화물 피막을 형성한다.On the other hand, when electrolytic polishing proceeds, a high-viscosity liquid layer (viscous layer) containing a large amount of dissolved metal ions from the positive electrode surrounds the positive electrode. In the liquid layer saturated with the metal ions, the metal is not dissolved further and forms a high positive electrode potential, so that it is actively bonded with oxygen to form an oxide film.

이때 용해된 금속이온은 금속 표면의 오목한 부분에 주로 축적되며, 오목한 부분에서는 금속이온의 이동과 확산이 적어 전기가 잘 통하지 않으므로, 금속이 용해되지 않는다.At this time, the dissolved metal ions are mainly accumulated in the concave portion of the metal surface, and the metal does not dissolve because the metal ions do not migrate and diffuse in the concave portion and the electricity does not pass well.

반면, 금속 표면의 볼록 부분에서는 금속 이온층이 얇게 형성되므로, 전류가 집중되어 금속 표면을 쉽게 용해시켜 전체적으로 금속의 표면이 평활하게 된다.On the other hand, since the metal ion layer is formed thinly at the convex portion of the metal surface, the current is concentrated and the metal surface is easily dissolved, so that the surface of the metal as a whole is smooth.

여기서 이러한 전해연마는 전해연마장치를 통해 실시하게 되는데, 종래기술에 따른 전해연마장치는 (특허문헌 1)에서 개시하고 있는바, 이를 첨부된 도면을 참조하여 구체적으로 설명하면 다음과 같다.Here, the electrolytic polishing is performed through an electrolytic polishing apparatus. The electrolytic polishing apparatus according to the related art is disclosed in Patent Document 1, and will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 종래기술에 따른 전해연마장치를 전체적으로 나타내 보인 사시도이다. 즉 도 1에서 보듯이, 종래기술에 따른 전해연마장치는 전해액(112)이 수용되어 있는 전해조(110)의 내부에 챔버, 탱크, 배관 등을 포함하는 전해연마 대상재(102)를 설치한 상태에서 상기 전해연마 대상재(120)의 연마부(104)에 복수의 음극거치 고정대(120)를 장착한 후 음극판(130)을 상기 복수의 음극거치 고정대(120) 사이에 거치한 상태에서 C형 클램프(140)로 고정하여 사각 음극 기본틀을 만들고 있다.1 is a perspective view of an electrolytic polishing apparatus according to the related art as a whole. That is, as shown in FIG. 1, the electrolytic polishing apparatus according to the related art includes a case where an electrolytic polishing target material 102 including a chamber, a tank, a piping, and the like is installed in an electrolytic bath 110 containing an electrolytic solution 112 A plurality of cathode mounts 120 are mounted on the polishing portion 104 of the electrolytic polishing object 120 and then a cathode plate 130 is mounted between the plurality of cathode mounts 120, And fixed with a clamp 140 to form a square cathode base frame.

또한, 음극 기본틀 사이 사이에는 음극판(130)을 소정의 간격으로 배치하여 C형 클램프(140)로 조립하고 있다. 이렇게 전해연마 대상재(102)의 연마부(104)에 음극이 완성된다.In addition, a negative electrode plate 130 is arranged at a predetermined interval between the negative electrode base frames and assembled with a C-type clamp 140. The negative electrode is thus completed in the polishing section 104 of the electrolytic polishing object member 102. [

아울러, 상기 전해연마 대상재(102)의 나머지 면에도 동일하게 구성하되, 면과 면 사이는 음극판(130)과 C형 클램프(140)를 사용하여 얼개를 만들어 견고하게 고정하고 있다.The cathode plate 130 and the C-type clamp 140 are used to firmly fix the plate to the other surface of the electrolytic polishing object 102. The cathode plate 130 and the C-

따라서 종래기술에 따른 전해연마장치는 음극거치 고정대(120)와 C형 클램프(140)를 통해 전해연마 대상재(102)의 연마부(104)에 균일한 간격으로 음극판(130)을 다수로 설치할 수 있어 비교적 큰 가공물을 내외면 전체에 걸쳐서 용이하게 연마할 수 있다.The electrolytic polishing apparatus according to the related art has a structure in which a plurality of anode plates 130 are installed at uniform intervals in the polishing section 104 of the electrolytic polishing object member 102 through the cathode mounting table 120 and the C- A relatively large workpiece can be easily polished over the entire inner and outer surfaces.

그러나 종래기술에 따른 전해연마장치는 전술한 바와 같이, 전해연마 대상재(102)의 연마부(104)에 음극거치 고정대(120)를 설치하고, C형 클램프(140)를 통해 음극판(130)을 개별적으로 설치하는 방법으로 진행해야 하므로, 전해연마를 하기 위한 상기 음극판(130)의 설치시간이 오래 걸리는 문제점이 있다.However, in the electrolytic polishing apparatus according to the prior art, as described above, the cathode mounting table 120 is provided in the polishing section 104 of the electrolytic polishing object 102, and the cathode plate 130 is connected to the cathode plate 130 through the C- So that it takes a long time to install the negative electrode plate 130 for electrolytic polishing.

대한민국 등록특허공보 제10-1183218호Korean Registered Patent No. 10-1183218

본 발명의 목적은 전해연마대상의 규격별로 음극판을 미리 제작하여 모듈화함으로써, 전해연마대상의 전해연마를 하기 위한 음극판을 용이하게 설치할 수 있도록 한 전해연마장치를 제공하는 데 있다.An object of the present invention is to provide an electrolytic polishing apparatus capable of easily mounting a negative electrode plate for electrolytic polishing of electrolytic polishing target by preliminarily manufacturing a negative electrode plate according to specifications of the electrolytic polishing target and modularizing it.

상기 과제를 해결하기 위하여,In order to solve the above problems,

본 발명의 일실시 예에 따른 전해연마장치는 전해연마대상과 전해액이 수용되는 수용공간이 내부에 마련된 전해조(Electrolytic Cell);An electrolytic polishing apparatus according to an embodiment of the present invention includes: an electrolytic cell having an electrolytic polishing object and a housing space in which an electrolytic solution is accommodated;

상기 전해연마대상의 일면에 형성된 연마부에 장착되는 음극거치 고정대;A negative electrode holder fixed to a polishing part formed on one surface of the electrolytic polishing object;

상기 전해연마대상의 연마부에 장착되는 음극판;A negative electrode plate mounted on the polishing portion of the electrolytic polishing object;

상기 음극거치 고정대에 설치되어 음극판을 고정하는 C형 클램프(C-type Clamp); 및A C-type clamp installed at the cathode mounting table for fixing the cathode plate; And

상기 전해연마대상과 음극판에 각기 전기적으로 연결되며, 전해연마대상에 양극(+)을 인가하고, 음극판에 음극(-)을 인가하는 정류기;A rectifier electrically connected to the electrolytic polishing target and the negative electrode plate, the positive electrode being applied to the electrolytic polishing target and the negative electrode being applied to the negative electrode plate;

를 포함하며,/ RTI >

상기 음극판은 다각형 또는 원통형으로 형성된 전해연마대상의 연마부와 일치하는 규격으로 모듈(Module)화 가능하도록 스트립(Strip) 형태로 형성되어 상기 연마부에 수직방향으로 배열배치된 제1 음극격자판; 및The negative electrode plate may include a first negative electrode grid formed in a strip shape so as to be module-compatible with a polished portion formed in a polygonal or cylindrical shape and coinciding with a polishing portion to be electrolytically polished, and arranged in a direction perpendicular to the polishing portion; And

상기 전해연마대상의 연마부에 수평방향으로 배치되도록 제1 음극격자판의 교차방향으로 거치공간을 형성하면서 배열되어 격자형으로 조립되는 제2 음극격자판;A second cathode grid array arranged in a lattice shape while being formed in a crossing direction of the first cathode grid plates so as to be horizontally arranged on the polishing portion of the electrolytic polishing object;

을 포함할 수 있다.. ≪ / RTI >

또한, 본 발명의 일실시 예에 따른 전해연마장치에 있어서, 상기 제1 음극격자판과 제2 음극격자판은 'ㅡ'자, 'ㄱ'자 또는 'ㅁ'자 횡단면을 갖는 직선형 또는 라운드형으로 형성될 수 있다.In addition, in the electrolytic polishing apparatus according to an embodiment of the present invention, the first cathode grid and the second cathode grid are formed in a straight or round shape having a cross-sectional shape of 'a', 'a' .

또한, 본 발명의 일실시 예에 따른 전해연마장치에 있어서, 상기 제1 음극격자판과 제2 음극격자판은 리벳(Rivet) 결합하여 일체화될 수 있다.Further, in the electrolytic polishing apparatus according to an embodiment of the present invention, the first negative grid and the second negative grid may be integrated by riveting.

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또한, 본 발명의 일실시 예에 따른 전해연마장치에 있어서, 상기 전해연마대상은 다각형 또는 원통형으로 형성될 수 있으며, 내부와 외부에 연마부가 각기 형성될 수 있다.Further, in the electrolytic polishing apparatus according to an embodiment of the present invention, the electrolytic polishing target may be formed in a polygonal or cylindrical shape, and each of the polishing units may be formed inside and outside.

또한, 본 발명의 일실시 예에 따른 전해연마장치에 있어서, 상기 전해연마대상의 내부와 외부의 연마부에 각기 배치된 음극판은 서로 전기적으로 연결될 수 있다.Further, in the electrolytic polishing apparatus according to an embodiment of the present invention, the negative plates arranged in the inside and outside polishing units of the electrolytic polishing target may be electrically connected to each other.

또한, 본 발명의 일실시 예에 따른 전해연마장치에 있어서, 상기 음극거치 고정대는 사각모양의 플레이트;In addition, in the electrolytic polishing apparatus according to an embodiment of the present invention, the cathode mounting base includes a square plate;

상기 플레이트의 일 측면에 연결된 체결볼트;A fastening bolt connected to one side of the plate;

상기 체결볼트에 나사 체결되는 고정너트;A fixing nut screwed to the fastening bolt;

를 포함할 수 있다.. ≪ / RTI >

또한, 본 발명의 일실시 예에 따른 전해연마장치에 있어서, 상기 음극거치 고정대는 사각모양의 플레이트의 양면에 각기 부착되며, 고무, 우레탄, PVC 또는 베이클라이트(Bakelite) 중 어느 하나로 이루어진 절연판;In addition, in the electrolytic polishing apparatus according to an embodiment of the present invention, the negative electrode holder fixing base is attached to both sides of a rectangular plate and is composed of an insulating plate made of any one of rubber, urethane, PVC, or Bakelite;

을 포함할 수 있다.. ≪ / RTI >

이러한 해결 수단은 첨부된 도면에 의거한 다음의 발명을 실시하기 위한 구체적인 내용으로부터 더욱 명백해질 것이다.These solutions will become more apparent from the following detailed description taken in conjunction with the accompanying drawings.

이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이고 사전적인 의미로 해석되어서는 아니 되며, 발명자가 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합되는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.Prior to this, terms and words used in the present specification and claims should not be construed in a conventional and dictionary sense, and the inventor may appropriately define the concept of a term in order to best describe its invention The present invention should be construed in accordance with the spirit and scope of the present invention.

본 발명의 일실시 예에 따르면, 다각형 또는 원통형으로 형성된 전해연마대상의 규격별로 음극판을 미리 제작하여 전해연마대상의 전해연마를 하기 위한 음극의 설치시간을 단축 가능함으로써, 전해연마를 용이하게 실시할 수 있다는 측면에서 효과적이다.According to the embodiment of the present invention, it is possible to shorten the installation time of the negative electrode for electrolytic polishing of electrolytic polishing target by previously preparing the negative electrode plate in accordance with the standard of electrolytic polishing formed in a polygonal or cylindrical shape, thereby facilitating electrolytic polishing It is effective in terms of being able to.

도 1은 종래기술에 따른 전해연마장치를 전체적으로 나타내 보인 사시도.
도 2는 본 발명의 일실시 예에 따른 전해연마장치를 나타내 보인 사시도.
도 3은 본 발명의 일실시 예에 따른 음극거치 고정대를 나타내 보인 사시도.
도 4는 본 발명의 일실시 예에 따른 전해연마장치의 설치상태를 나타내 보인 사시도.
도 5 내지 6은 본 발명의 일실시 예에 따른 전해연마장치를 나타내 보인 사시도.1 is a perspective view of a conventional electrolytic polishing apparatus as a whole.
2 is a perspective view showing an electrolytic polishing apparatus according to an embodiment of the present invention.
3 is a perspective view illustrating a cathode mount fixture according to an embodiment of the present invention.
4 is a perspective view showing an installation state of an electrolytic polishing apparatus according to an embodiment of the present invention.
5 to 6 are perspective views showing an electrolytic polishing apparatus according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 특이한 관점, 특정한 기술적 특징들은 첨부된 도면들과 연관되는 이하의 구체적인 내용과 일실시 예로부터 더욱 명백해 질 것이다. 본 명세서에서 각 도면의 구성요소들에 참조 부호를 부가함에 있어, 동일한 구성요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의해야 한다. 또한, 본 발명의 일실시 예를 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.The specific aspects, specific technical features of the present invention will become more apparent from the following detailed description with reference to the accompanying drawings. Note that, in the drawings, like reference numerals denote like elements throughout the drawings, unless otherwise indicated. In the following description of the present invention, detailed description of known functions and configurations incorporated herein will be omitted when it may make the subject matter of the present invention rather unclear.

또한, 본 발명의 구성요소를 설명하는 데 있어서, 제1, 제2, A, B, (a), (b) 등의 용어를 사용할 수 있다. 이러한 용어는 그 구성요소를 다른 구성 요소와 구별하기 위한 것일 뿐, 그 용어에 의해 해당 구성요소의 본질이나 차례 또는 순서 등이 한정되지 않는다. 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결", "결합" 또는 "접속"된다고 기재된 경우, 그 구성요소는 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되거나 또는 접속될 수 있지만, 각 구성요소 사이에 또 다른 구성요소가 "연결", "결합" 또는 "접속"될 수도 있다고 이해되어야 할 것이다.In describing the components of the present invention, terms such as first, second, A, B, (a), and (b) may be used. These terms are intended to distinguish the constituent elements from other constituent elements, and the terms do not limit the nature, order or order of the constituent elements. When a component is described as being "connected", "coupled", or "connected" to another component, the component may be directly connected to or connected to the other component, It should be understood that an element may be "connected," "coupled," or "connected."

이하, 본 발명의 일실시 예를 첨부된 도면에 의거하여 구체적으로 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2 내지 6에서 보듯이, 본 발명에 따른 전해연마장치는 전해액이 채워지는 전해조(20), 음극거치 고정대(30), C형 클램프(50), 정류기(60), 그리고 격자형 음극판(40)을 포함한다.2 to 6, the electrolytic polishing apparatus according to the present invention includes an electrolytic bath 20 filled with an electrolytic solution, a cathode mounting base 30, a C-type clamp 50, a rectifier 60, and a grid- ).

상기 전해조(20)는 내부에 수용공간(21)이 마련되어 상기 수용공간(21)에 전해액이 채워지게 된다. 전해연마대상(10)은 수용공간(21)에 수용되어 전해액에 담가지게 되며, 일면에 전해연마를 하기 위한 연마부(11)가 형성된다.The electrolytic bath 20 has an accommodation space 21 therein to fill the accommodation space 21 with an electrolyte. The electrolytic polishing object 10 is accommodated in the accommodation space 21 and immersed in the electrolytic solution, and a polishing part 11 for electrolytic polishing is formed on one surface.

예컨대, 상기 전해연마대상(10)은 다각형의 챔버(Chamber)나 원통형의 탱크(Tank)일 수 있다. 다만, 이는 하나의 예로써, 전해연마대상(10)을 반드시 이로 한정하는 것은 아님을 사전에 밝혀둔다.For example, the electrolytic polishing target 10 may be a polygonal chamber or a cylindrical tank. It should be noted, however, that this is not limitative of the electrolytic polishing target 10 as an example.

또한, 상기 연마부(11)는 전해연마대상(10)의 외부 또는 내부에 형성될 수 있으며, 상기 전해연마대상(10)의 내,외부에 모두 형성될 수도 있다.The polishing unit 11 may be formed outside or inside the electrolytic polishing target 10 and may be formed both inside and outside the electrolytic polishing target 10.

이러한 전해연마대상(10)은 전해조(20)에 수용되기 전에 내,외부에 형성된 연마부(11)에 음극거치 고정대(30)가 장착된다. 즉 상기 연마부(11)에 음극거치 고정대(30)를 장착하고, 상기 음극거치 고정대(30)에 C형 클램프(50)를 설치하여 격자형 음극판(40)을 고정토록 하게 된다.The electrolytic polishing object 10 is mounted on the polishing portion 11 formed on the inside and the outside of the electrolytic bath 20 before being accommodated in the electrolytic bath 20. That is, the cathode mounting table 30 is mounted on the polishing unit 11 and the C-type clamp 50 is mounted on the cathode mounting table 30 to fix the grid-shaped cathode plate 40.

여기서 상기 음극거치 고정대(30)는 예컨대, 스테인리스강 소재로 제조된 사각모양의 플레이트(31)를 포함하고, 상기 플레이트(31)의 일 측면에 봉 형상의 체결볼트(32)를 연결하여 구성될 수 있으며, 상기 체결볼트(32)를 통해 전해연마대상(10)의 연마부(11)에 장착 후 고정너트(33)를 나사 체결하여 고정할 수 있다.The cathode mounting fixture 30 includes a square plate 31 made of stainless steel and a bar-shaped fastening bolt 32 connected to one side of the plate 31 And the fixing nut 33 can be screwed and fixed to the polishing portion 11 of the electrolytic polishing target 10 through the fastening bolt 32 after the mounting.

또한, 상기 음극거치 고정대(30)는 플레이트(31)의 양면에 고무, 우레탄, PVC 또는 베이클라이트(Bakelite) 중 어느 하나로 이루어진 절연판(34)을 부착하여 절연할 수 있다.The negative electrode holder fixing base 30 may be insulated by inserting an insulating plate 34 made of rubber, urethane, PVC or Bakelite on both sides of the plate 31.

이러한 음극거치 고정대(30)는 전해연마대상(10)의 연마부(11)에 도면상 위아래 및 좌우에 설치되어 C형 클램프(50)와 함께 격자형 음극판(40)을 고정함으로써, 전해연마 과정에서 상기 격자형 음극판(40)이 전해연마대상(10)에서 분리되지 않게 된다.This cathode mounting table 30 is provided on the polishing portion 11 of the electrolytic polishing object 10 in the upper and lower portions and on the left and right in the drawing to fix the grid type cathode plate 40 together with the C- The grid-shaped negative electrode plate 40 is not separated from the electrolytic polishing target 10.

한편, 본 발명의 일실시 예에 따른 격자형 음극판(40)은 예컨대 동, 알루미늄, 스테인리스강 등의 포함하는 전기 전도성이 우수한 소재를 이용하여 가늘고 긴 스트립(Strip) 형태로 형성된 제1,2 음극격자판(41)(42)을 포함한다.Meanwhile, the lattice type cathode plate 40 according to an embodiment of the present invention may be formed by using a material having excellent electrical conductivity, such as copper, aluminum, stainless steel, etc., And lattice plates 41 and 42.

상기 제1 음극격자판(41)은 전해연마대상(10)의 형상에 따라 'ㅡ'자, 'ㄱ'자 또는 'ㅁ'자 횡단면을 갖는 직선형 또는 라운드형으로 형성되어 연마부(11)에 수직방향으로 배열배치되며, 상기 전해연마대상(10)의 연마부(11)에 수평방향으로 배치되도록 제1 음극격자판(41)의 교차방향으로 직선형 또는 라운드형의 제2 음극격자판(42)이 배열배치되어 조립된다.The first cathode grid 41 is formed in a straight or round shape having a cross-sectional shape of '?', '?' Or '?' According to the shape of the electrolytic polishing target 10, And a second negative electrode grid plate 42 arranged in a direction parallel to the surface of the electrolytic polishing target 10 and linear or round in the cross direction of the first negative electrode grid plate 41 so as to be arranged horizontally in the polishing portion 11 of the electrolytic polishing object 10 And assembled.

예컨대, 상기 제1,2 음극격자판(41)(42)은 리벳(Rivet), 볼트(Bolt) 또는 용접 등을 포함하는 통상의 조립수단을 통해 서로 조립되어 일체화하게 된다. 다만, 이하의 실시 예에서는 리벳(43) 결합을 통해 일체화하는 것으로 설명하게 된다.For example, the first and second cathode grid plates 41 and 42 are assembled and integrated with each other through a conventional assembling means including a rivet, a bolt, or welding. However, in the following embodiments, it will be described that they are integrated through the rivets 43.

또한, 상기 제1 음극격자판(41)이 수직방향으로 배열시 이와 교차하는 수평방향으로 제2 음극격자판(42)이 거치공간(44)을 형성하면서 배열되어 리벳(43) 결합을 통해 일체화된다.In addition, when the first cathode grid plates 41 are arranged in the vertical direction, the second cathode grid plates 42 are arranged in a horizontal direction so as to form a mounting space 44 and are integrated through rivets 43.

즉 전해연마대상(10)의 연마부(11)와 실질적으로 일치하는 규격으로 제1,2 음극격자판(41)(42)을 리벳(43) 결합하여 일체화하는 방법으로 격자형 음극판(40)을 미리 제작하여 모듈화하고, 거치공간(44)을 이용하여 상기 연마부(11)에 장착된 음극거치 고정대(30)에 연마부(11)와 일정 간격을 두고 거치한 상태에서 C형 클램프(50)를 상기 음극거치 고정대(30)에 설치하여 상기 격자형 음극판(40)을 고정하게 된다.That is, the first and second negative grid plates 41 and 42 are combined with the rivets 43 in a standard that substantially coincides with the abrasive portion 11 of the electropolished object 10, The C-type clamp 50 is preliminarily manufactured and modularized and the C-type clamp 50 is mounted on the cathode mounting base 30 mounted on the polishing unit 11, The negative electrode plate 40 is fixed to the negative electrode holder 30.

여기서 상기 거치공간(44)의 간격은 전해연마대상(10)의 크기나 종류 또는 연마부(11)의 위치 등에 따라 좁거나 넓게 형성될 수 있음을 사전에 밝혀둔다.It is noted in advance that the spacing of the mounting space 44 may be narrow or wide depending on the size or type of the electrolytic polishing target 10 or the position of the polishing part 11 or the like.

상기 C형 클램프(50)는 예컨대, 내산성이 우수한 스테인리스강 소재로 형성되어 도면상 위아래에 위치하는 고정부(51)를 통해 음극거치 고정대(30)에 설치되며, 이를 통해 연마부(11)에 격자형 음극판(40)을 용이하게 고정할 수 있게 된다.The C-type clamp 50 is formed of a stainless steel material having excellent resistance to acid, for example, and is installed on the negative electrode fixing base 30 through the fixing portion 51 located above and below the drawing, The grid-shaped negative electrode plate 40 can be easily fixed.

도 2에서 보듯이, 본 발명의 일실시 예에 따른 전해연마대상(10)이 다각형으로 형성되고, 이러한 다각형 전해연마대상(10a)의 내부 및 외부에 연마부(11)가 형성되어 있으면, 예컨대 직선형의 제1,2 음극격자판(41)(42)을 리벳(43) 결합하여 모듈화한 격자형 음극판(40)을 상기 전해연마대상(10)의 내부에 먼저 배치하고, 이후 전해연마대상(10)의 외부에 상기 격자형 음극판(40)을 배치하는 방법으로 전해연마를 준비할 수 있다.As shown in FIG. 2, when the object 10 to be electrolytically polished according to the embodiment of the present invention is formed into a polygonal shape and the polishing unit 11 is formed inside and outside the polygonal electrolytic polishing target 10a, A grid-shaped negative electrode plate 40 modularized by connecting linear first and second negative grid plates 41 and 42 with rivets 43 is disposed in advance within the electrolytic polishing target 10 and then the electrolytic polishing target 10 The electrolytic polishing can be prepared by a method of disposing the lattice type negative electrode plate 40 on the outside of the cell.

예컨대, 상기 다각형 전해연마대상(10a)의 외부에 격자형 음극판(40)을 배치하는 방법은 먼저, 연마부(11)와 실질적으로 일치하는 규격으로 미리 제작된 격자형 음극판(40)을 거치공간(44)을 이용하여 음극거치 고정대(30)에 거치한 후 C형 클램프(50)를 상기 음극거치 고정대(30)에 설치하여 음극판 기본틀(40a)을 완성하게 된다.For example, in the method of disposing the grid-shaped negative electrode plate 40 on the outside of the polygonal electrolytic polishing target 10a, a grid-shaped negative electrode plate 40, which has been manufactured in advance to have a size substantially identical to that of the polishing unit 11, The cathode plate base frame 40a is completed by mounting the C-type clamp 50 on the cathode mounting base 30 after the anode base plate 40 is mounted on the cathode mounting base 30 using the base plate 44.

여기서 연마부(11)와 실질적으로 일치하는 규격의 격자형 음극판(40)이 준비되어 있지 않으면, 현장에서 둘 이상의 격자형 음극판(40)을 C형 클램프(50)를 통해 결합하여 조합함으로써, 음극판 기본틀(40a)을 완성하게 된다. 이후 나머지 연마부(11)에 대해서도 동일한 방법으로 격자형 음극판(40)을 설치하여 음극판 최종틀(도 6의 40b)을 완성하게 된다.If two or more lattice type negative electrode plates 40 are combined and combined via a C type clamp 50 in the field, if the lattice type negative electrode plate 40 having a size substantially equal to that of the abrasive portion 11 is not prepared, The basic frame 40a is completed. Thereafter, the grating-type negative electrode plate 40 is also provided for the remaining grinding portion 11 in the same manner to complete the negative plate endplate 40b (FIG. 6).

한편, 상기 전해연마대상(10)의 내부와 외부에 각기 배치되는 음극판 기본틀(40a)은 서로 전기적으로 연결되어 정류기(60)를 통한 음극의 인가가 용이하게 이루어지도록 할 수 있다. 따라서 어느 하나의 음극판 기본틀(40a)에 음극(-)이 인가되더라도 전해연마가 용이하게 이루어질 수 있게 된다.Meanwhile, the negative electrode base frame 40a, which is disposed inside and outside the electropolishing object 10, is electrically connected to each other, so that the negative electrode through the rectifier 60 can be easily applied. Therefore, electrolytic polishing can be easily performed even if a negative electrode (-) is applied to any one of the anode plate base frame 40a.

도 4 내지 5에서 보듯이, 본 발명의 일실시 예에 따른 전해연마대상이 원통형으로 형성되고, 이러한 원통형 전해연마대상(10b)의 외부에 연마부(11)가 형성되어 있으면, 예컨대 직선형의 제1 음극격자판(41)에 라운드형의 제2 음극격자판(42)을 리벳(43) 결합하여 모듈화한 격자형 음극판(40)을 상기 전해연마대상(10)의 외부에 설치된 음극거치 고정대에 거치한 후 C형 클램프를 상기 음극거치 고정대에 설치하여 음극판 최종틀(40b)을 완성하게 된다.As shown in FIGS. 4 to 5, when the object to be electrolytically polished according to the embodiment of the present invention is formed into a cylindrical shape and the polishing portion 11 is formed outside the cylindrical electropolished object 10b, for example, A lattice type negative electrode plate 40 modularized by connecting a first negative electrode grid plate 42 with a rivet 43 to a negative electrode grid plate 41 is placed on a negative electrode holder fixing base provided outside the electrolytic polishing target 10 And then the C-type clamp is installed on the negative electrode holder fixing base to complete the cathode plate final frame 40b.

여기서 이러한 격자형 음극판(40)의 용이한 고정을 위하여 전술한 음극거치 고정대 및 C형 클램프는 물론이고, 예컨대, 원통형 전해연마대상(10b)의 상부에 원형틀이나 사각틀 또는 다각틀 형상의 보조 고정대(45)를 설치하여 운용할 수 있다.In order to easily fix the lattice type negative electrode plate 40, for example, the negative electrode lattice fixing table and the C-type clamp may be formed on the cylindrical electropolishing object 10b in the form of a rectangular or square- (45) can be installed and operated.

또한, 상기 보조 고정대(45)와 격자형 음극판(40)은 서로 전기적으로 연결될 수 있으며, 보조 고정대(45)를 통해 원통형 전해연마대상(10b)의 내부에 격자형 음극판(40)을 설치할 수 있다.The auxiliary fixing table 45 and the grid type cathode plate 40 may be electrically connected to each other and the grid type cathode plate 40 may be provided inside the cylindrical electropolishing object 10b through the auxiliary fixing table 45 .

도 6에서 보듯이, 본 발명의 일실시 예에 따른 전해연마장치는 전해액이 채워진 전해조(20)의 수용공간(21)에 음극판 최종틀(40b)이 설치되어 있는 전해연마대상(10)을 수용시킨 상태에서 전선 등을 통해 정류기(60)와 전기적으로 연결함으로써, 전해연마를 진행하게 된다.6, the electrolytic polishing apparatus according to an embodiment of the present invention includes an electrolytic polishing target 10 in which a cathode plate final frame 40b is provided in a receiving space 21 of an electrolytic bath 20 filled with an electrolytic solution, The electrolytic polishing is performed by electrically connecting to the rectifier 60 through a wire or the like.

여기서 상기 전해연마대상(10)은 대형일 경우, 자체무게 및 격자형 음극판(40)의 설치로 인해 무게가 상당하므로, 예컨대, 기중기 등을 이용하여 들어올린 상태에서 전해조(20)의 수용공간(21)에 수용하게 된다.Since the weight of the electrolytic polishing target 10 is large due to its own weight and the provision of the lattice-shaped cathode plate 40, the electrolytic polishing object 10 may be easily removed from the accommodating space of the electrolytic bath 20 21).

이후 정류기(60)를 통해 전해연마대상(10)에 양극(+)이 인가되고, 음극판 최종틀(40b)에 음극(-)이 인가되면, 전해액을 매개로 전기분해가 발생하여 전해연마대상(10)의 연마부(11)를 전해연마하게 된다.Thereafter, when the positive electrode (+) is applied to the electrolytic polishing target 10 through the rectifier 60 and the negative electrode (-) is applied to the negative electrode plate final frame 40b, electrolysis occurs through the electrolytic solution, 10 are polished by electrolytic polishing.

따라서 본 발명의 일실시 예에 따르면, 전해연마대상(10)의 규격별로 미리 제작된 격자형 음극판을 통해 완성된 음극판 최종틀(40b)을 통해 전해연마대상(10)의 전해연마가 이루어짐으로써, 전해연마를 하기 위한 음극의 설치시간을 효과적으로 단축할 수 있으며, 이로 인해 전체적인 전해연마공정의 시간단축이 가능하다.Therefore, according to the embodiment of the present invention, the electrolytic polishing of the electrolytic polishing target 10 is performed through the finished cathode plate final frame 40b through the grid-shaped negative electrode plate previously manufactured according to the standard of the electrolytic polishing target 10, It is possible to effectively shorten the installation time of the negative electrode for electrolytic polishing, thereby shortening the time of the entire electrolytic polishing process.

이상 본 발명을 일실시 예를 통하여 상세히 설명하였으나, 이는 본 발명을 구체적으로 설명하기 위한 것으로, 본 발명에 따른 전해연마장치는 이에 한정되지 않는다. 그리고 이상에서 기재된 "포함하다", "구성하다", 또는 "가지다", 등의 용어는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 해당 구성요소가 내재될 수 있음을 의미하는 것이므로, 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것으로 해석되어야 하며, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함한 모든 용어들은, 다르게 정의되지 않는 한, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가진다.Although the present invention has been described in detail with reference to the embodiments thereof, it is to be understood that the present invention is not limited thereto. It is to be understood that the terms "comprises", "comprising", or "having", etc., as used herein, mean that a component can be implanted unless specifically stated to the contrary, And all terms including technical and scientific terms are to be understood as being understood to be generally understood by those skilled in the art to which the invention belongs, Have the same meaning.

또한, 이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형 가능하다. 따라서, 본 발명에 개시된 일실시 예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 일실시 예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the essential characteristics thereof. Therefore, the embodiments disclosed in the present invention are not intended to limit the scope of the present invention but to limit the scope of the present invention. The scope of protection of the present invention should be construed according to the following claims, and all technical ideas within the scope of equivalents should be construed as falling within the scope of the present invention.

10 - 전해연마대상 10a - 다각형 전해연마대상
10b - 원통형 전해연마대상 11 - 연마부
20 - 전해조 21 - 수용공간
30 - 음극거치 고정대 31 - 플레이트
32 - 체결볼트 33 - 고정너트
34 - 절연판 40 - 음극판
40a - 음극판 기본틀 40b - 음극판 최종틀
41 - 제1 음극격자판 42 - 제2 음극격자판
43 - 리벳 44 - 거치공간
45 - 보조 고정대 50 - C형 클램프
51 - 고정부 60 - 정류기10 - electrolytic polishing target 10a - polygonal electrolytic polishing target
10b - Cylindrical electrolytic polishing target 11 - Polishing portion
20 - electrolytic cell 21 - accommodation space
30 - Cathode mounting plate 31 - Plate
32 - Fastening bolt 33 - Fastening nut
34 - Insulation plate 40 - Negative plate
40a - Cathode frame base frame 40b - Cathode frame frame
41 - First cathode grid 42 - Second cathode grid
43 - Rivet 44 - Mounting space
45 - Auxiliary fixture 50 - C-type clamp
51 - Fixed part 60 - Rectifier

Claims (6)

전해연마대상과 전해액이 수용되는 수용공간이 내부에 마련된 전해조;
상기 전해연마대상의 일면에 형성된 연마부에 장착되는 음극거치 고정대;
상기 전해연마대상의 연마부에 장착되는 음극판;
상기 음극거치 고정대에 설치되어 음극판을 고정하는 C형 클램프; 및
상기 전해연마대상과 음극판에 각기 전기적으로 연결되며, 전해연마대상에 양극(+)을 인가하고, 음극판에 음극(-)을 인가하는 정류기;
를 포함하며,
상기 음극판은 다각형 또는 원통형으로 형성된 전해연마대상의 연마부와 일치하는 규격으로 모듈화 가능하도록 스트립 형태로 형성되어 상기 연마부에 수직방향으로 배열배치된 제1 음극격자판; 및
상기 전해연마대상의 연마부에 수평방향으로 배치되도록 제1 음극격자판의 교차방향으로 거치공간을 형성하면서 배열되어 격자형으로 조립되는 제2 음극격자판;
을 포함하는 전해연마장치.
An electrolytic bath in which an object to be electrolytically polished and an accommodation space in which an electrolytic solution is accommodated is provided;
A negative electrode holder fixed to a polishing part formed on one surface of the electrolytic polishing object;
A negative electrode plate mounted on the polishing portion of the electrolytic polishing object;
A C-type clamp installed in the negative electrode holder fixing table and fixing the negative plate; And
A rectifier electrically connected to the electrolytic polishing target and the negative electrode plate, the positive electrode being applied to the electrolytic polishing target and the negative electrode being applied to the negative electrode plate;
/ RTI >
Wherein the negative electrode plate is formed in a strip shape so as to be modularized in conformity with a polishing portion of a polygonal or cylindrical shape to be polished for electrolytic polishing and arranged in a vertical direction in the polishing portion; And
A second cathode grid array arranged in a lattice shape while being formed in a crossing direction of the first cathode grid plates so as to be horizontally arranged on the polishing portion of the electrolytic polishing object;
And an electrolytic polishing apparatus.
청구항 1에 있어서.
상기 제1 음극격자판과 제2 음극격자판은 직선형 또는 라운드형으로 형성된 전해연마장치.
The method of claim 1,
Wherein the first cathode grid plate and the second cathode grid plate are formed in a straight or round shape.
청구항 2에 있어서,
상기 제1 음극격자판과 제2 음극격자판은 리벳 결합하여 일체화된 전해연마장치.
The method of claim 2,
Wherein the first negative grid and the second negative grid are integrated by riveting.
삭제delete 청구항 1에 있어서,
상기 전해연마대상은 내부와 외부에 연마부가 각기 형성된 전해연마장치.
The method according to claim 1,
The electrolytic polishing apparatus according to claim 1,
청구항 5에 있어서,
상기 전해연마대상의 내부와 외부의 연마부에 각기 배치된 음극판은 서로 전기적으로 연결된 전해연마장치.The method of claim 5,
And an anode plate disposed in each of the inner and outer polishing portions of the electrolytic polishing object are electrically connected to each other.
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