KR102226831B1

KR102226831B1 - Electrode frame having electrode separating member for electro polishing and electro polishing apparatus including the same

Info

Publication number: KR102226831B1
Application number: KR1020180036236A
Authority: KR
Inventors: 황재상
Original assignee: 황재상
Priority date: 2018-03-29
Filing date: 2018-03-29
Publication date: 2021-03-11
Also published as: KR20190037065A

Abstract

실시예는 전해연마용 전극 프레임 및 이를 포함하는 전해연마 장치에 관한 것이다.
실시예에 따른 전극 프레임은, 전해연마 대상물과 전해액이 수용되는 수용공간이 내부에 마련된 전해조에 이용되는 전극 프레임에 있어서, 상기 전해연마 대상물의 연마면의 일측에 배치된 음극 프레임; 및 상기 음극 프레임의 일측에 배치되어 상기 음극 프레임을 상기 전해연마 대상물의 측면 또는 바닥면으로부터 이격시키는 전극 이격부재;를 포함할 수 있다.The embodiment relates to an electrode frame for electrolytic polishing and an electrolytic polishing apparatus including the same.
The electrode frame according to the embodiment is an electrode frame used in an electrolytic cell having an accommodation space in which an electrolytic polishing object and an electrolyte are accommodated, comprising: a cathode frame disposed on one side of a polishing surface of the electrolytic polishing object; And an electrode spacer member disposed on one side of the cathode frame to separate the cathode frame from a side surface or a bottom surface of the electrolytic polishing object.

Description

TECHNICAL FIELD The electrode frame for electrolytic polishing having an electrode separating member, and an electrolytic polishing device including the same.

실시예는 전해연마용 전극 프레임 및 이를 포함하는 전해연마 장치에 관한 것으로, 전해연마 대상물의 연마 품질을 향상시키기 위한 전해연마 장치에 관한 것이다.The embodiment relates to an electrode frame for electrolytic polishing and an electrolytic polishing apparatus including the same, and to an electrolytic polishing apparatus for improving polishing quality of an electrolytic polishing object.

일반적으로, 전해연마(Electro polishing)는, 전해액에 용해되는 금속 제품을 양극(Anode)으로 사용하고, 전해액에 불용성인 금속을 음극(Cathode)으로 사용하여, 상기 양극과 음극 사이에 전압을 인가함으로써, 전해연마 대상물인 금속 제품의 표면에서 전기분해를 일으켜, 금속 제품의 표면을 연마하는 방법이다.In general, in electropolishing, a metal product dissolved in an electrolyte is used as an anode, and a metal insoluble in an electrolyte is used as a cathode, and a voltage is applied between the anode and the cathode. , This is a method of polishing the surface of a metal product by electrolysis on the surface of a metal product that is an electrolytic polishing object.

전해연마를 이용하여 금속을 연마하기 위해서는 전해조에 전해액을 채우고, 연마하고자 하는 금속을 양극으로 설치하고, 전해액에 용해하지 않는 금속을 음극으로 설치한 다음 양극과 음극에 직류를 인가한다.To polish metal using electrolytic polishing, an electrolytic bath is filled with an electrolyte solution, the metal to be polished is installed as an anode, and a metal that does not dissolve in the electrolyte is installed as a cathode, and then direct current is applied to the anode and the cathode.

전해연마가 진행되면 양극으로부터 용해된 금속이온을 다량 함유한 고점도 액체층(점성층)이 양극을 둘러싼다. 금속이온으로 포화된 액체층에서는 금속이 더이상 용해되지 않고, 높은 양극 전위를 형성하므로, 산소와 활발히 결합하여 산화물 피막을 형성한다. 이때, 용해된 금속이온은 금속 표면의 오목한 부분에 주로 축적되며 오목한 부분에서는 금속이온의 이동과 확산이 적어 전기가 잘 통하지 않으므로 금속이 용해되지 않는다. 반면, 금속 표면의 볼록 부분에서는 금속 이온층이 얇게 형성되므로, 전류가 집중되어 금속 표면을 쉽게 용해시켜 전체적으로 금속의 표면이 평활하게 된다.When electrolytic polishing proceeds, a high-viscosity liquid layer (viscous layer) containing a large amount of dissolved metal ions from the anode surrounds the anode. In the liquid layer saturated with metal ions, since the metal is no longer dissolved and forms a high anode potential, it is actively combined with oxygen to form an oxide film. At this time, the dissolved metal ions are mainly accumulated in the concave portion of the metal surface, and the movement and diffusion of the metal ions are small in the concave portion, so electricity does not pass well, so the metal does not dissolve. On the other hand, since the metal ion layer is formed thinly in the convex portion of the metal surface, current is concentrated to easily dissolve the metal surface, thereby making the metal surface smooth as a whole.

전해연마는 전해연마장치를 통해 실시하게 되는데, 종래기술에 따른 전해연마장치는 전해조 내에 양극 전위를 갖는 전해연마 대상물을 배치하고, 상기 전해연마 대상물의 연마면에 이격되도록 음극 프레임을 배치시켜 구성하게 된다. 음극 프레임은 전해연마 대상물의 형상에 따라 변경되어야 하기 때문에 전해연마 대상물의 형상에 따라 조립 후 전해조 내에 설치하게 된다.Electrolytic polishing is performed through an electrolytic polishing device, and in the electrolytic polishing device according to the prior art, an electrolytic polishing object having an anode potential is placed in an electrolytic bath, and a cathode frame is disposed so as to be spaced apart from the polishing surface of the electrolytic polishing object. do. Since the cathode frame must be changed according to the shape of the electrolytic polishing object, it is installed in the electrolyzer after assembly according to the shape of the electrolytic polishing object.

상기와 같이 조립된 음극 프레임은 전해연마 대상물과 접촉되지 않도록 전해조 내에 설치해야 한다. The cathode frame assembled as described above must be installed in the electrolytic cell so as not to contact the object to be electropolished.

그런데 음극 프레임은 전해연마 대상물과 근접하게 일정한 거리를 유지하면서 배치되어야 균일한 연마가 가능하여 전해연마 품질이 향상된다.However, the cathode frame must be placed close to the electrolytic polishing object while maintaining a constant distance to achieve uniform polishing, thereby improving the electrolytic polishing quality.

그러나 종래기술에서는 음극 프레임을 전해연마 대상물과 근접하게 일정한 거리를 유지하도록 견고하게 배치하지 못하는 실정이었다.However, in the prior art, the cathode frame was not rigidly disposed to maintain a constant distance close to the electrolytic polishing object.

한편, 이건 출원의 발명자는 음극 프레임을 전해연마 대상물에 형성된 탭 홀에 음극 거치대를 사용하여 전해연마 대상물의 일측에 근접하면서도 균일하게 고정시키는 발명을 제안하여 특허등록을 받은 바 있다(한국등록특허 10-1183218호 참조).On the other hand, the inventor of this application has received a patent registration by proposing the invention of uniformly fixing the cathode frame to one side of the electrolytic polishing object by using a cathode cradle in the tab hole formed in the electrolytic polishing object (Korean Patent Registration No. 10). -1183218).

하지만, 전해연마 대상물은 그 형상이 다양하기 때문에 전해연마 대상물에 탭 홀과 같은 거치 영역이 없는 경우가 발생된다. 따라서, 전해연마 대상물의 형상에 따라 매번 음극판의 거치 영역을 별도로 설치해야 하는 번거로움이 발생된다. 이에 따라, 거치 영역을 설치하여 전해 연마를 수행하기까지 걸리는 시간이 상당히 소요되고, 조립 비용이 상승되는 문제점이 발생된다.However, since the electrolytic polishing object has various shapes, there is a case where there is no mounting area such as a tap hole in the electrolytic polishing object. Therefore, it is troublesome to separately install a mounting area of the negative electrode plate each time depending on the shape of the electrolytic polishing object. Accordingly, it takes a considerable amount of time to perform electrolytic polishing by installing the mounting region, and there is a problem that the assembly cost is increased.

특히, 전해연마 대상물의 형상이 상당히 복잡한 구조인 경우, 음극 프레임을 전해연마 대상물의 일측에 설치하지 못하는 경우가 발생된다.In particular, when the shape of the electrolytic polishing object is a fairly complex structure, there is a case where the cathode frame cannot be installed on one side of the electrolytic polishing object.

현재 종래업계의 기술로는 음극 프레임이 연마대상재에 닺지 않을 정도의 거리를 두어 음극 봉을 전해조에 늘어뜨리거나, 음극 망 형태로 큰 망을 형성한 후 이를 전해조에 늘어뜨려 대략적으로 전해연마를 진행하고 있으나, 음극봉이나 음극망이 연마대상재와 균일하면서도 근접하게 고정되지 못하므로 전해연마 품질이나 공정효율이 매우 낮은 실정이다.Currently, as a technology in the prior art, the cathode rod is suspended in the electrolyzer at a distance that is not close to the object to be polished by the cathode frame, or a large net is formed in the form of a cathode net and then drooped in the electrolyzer to roughly perform electrolytic polishing. Although progress is being made, the quality of electrolytic polishing and process efficiency are very low since the cathode rod or the cathode mesh is not fixed evenly and close to the polishing target material.

한편, 종래 기술의 음극판은 별도의 지지부재인 클램프에 의해 지지되고 있으나, 음극판과 전해연마 대상물 사이의 거리가 매우 근접하게 배치되기 때문에 음극판과 전해연마 대상물 사이의 좁은 공간에서 클램프를 설치하기가 쉽지 않다. 즉, 클램프는 도전성 재질로 형성되기 때문에 클램프가 양극의 전해연마 대상물과 접촉하게 되면, 음극을 가지는 음극판과 전기적인 단락이 발생된다.On the other hand, the negative electrode plate of the prior art is supported by a separate support member, a clamp, but since the distance between the negative electrode plate and the electrolytic polishing object is arranged very close, it is easy to install the clamp in a narrow space between the negative electrode plate and the electrolytic polishing object. not. That is, since the clamp is made of a conductive material, when the clamp comes into contact with the electrolytic polishing object of the positive electrode, an electrical short occurs with the negative plate having the negative electrode.

실시예는 별도의 탭 홀이 없는 영역에서도 전해연마 대상물의 일측에 음극 프레임을 근접하면서도 균일하게 설치하기 위한 전해연마용 전극 프레임 및 이를 포함하는 전해연마 장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.An object of the embodiment is to provide an electrode frame for electrolytic polishing and an electrolytic polishing apparatus including the same for uniformly installing a cathode frame on one side of an electrolytic polishing object even in a region without a separate tap hole.

또한, 실시예는 별도의 거치대가 없는 전해연마 대상물의 일측에 음극 프레임을 효과적으로 설치하기 위한 전해연마 장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.In addition, an object of the embodiment is to provide an electrolytic polishing apparatus for effectively installing a cathode frame on one side of an electrolytic polishing object without a separate cradle.

또한, 실시예는 클램프에 의해 음극판과 전해연마 대상물 사이의 전기전인 단락이 발생되는 것을 방지하기 위한 전해연마 장치를 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다.In addition, another object of the embodiment is to provide an electrolytic polishing apparatus for preventing an electric short circuit between a negative electrode plate and an electrolytic polishing object from occurring by a clamp.

실시예에 따른 전극 프레임은, 전해연마 대상물과 전해액이 수용되는 수용공간이 내부에 마련된 전해조에 이용되는 전극 프레임에 있어서, 상기 전해연마 대상물의 연마면의 일측에 배치된 음극 프레임; 및 상기 음극 프레임의 일측에 배치되어 상기 음극 프레임을 상기 전해연마 대상물의 측면 또는 바닥면으로부터 이격시키는 전극 이격부재;를 포함할 수 있다.In the electrode frame according to the embodiment, an electrode frame used in an electrolytic cell having an accommodation space in which an electrolytic polishing object and an electrolyte are accommodated, comprising: a cathode frame disposed on one side of a polishing surface of the electrolytic polishing object; And an electrode spacer member disposed on one side of the cathode frame to separate the cathode frame from a side surface or a bottom surface of the electrolytic polishing object.

상기 전극 이격부재는 상기 음극 프레임에 결합할 수 있다 상기 전극 이격부재는, 상기 전해연마 대상물의 바닥면에 접하면서 상기 음극 프레임을 지지할 수 있다.The electrode spacing member may be coupled to the cathode frame. The electrode spacing member may support the cathode frame while contacting the bottom surface of the electrolytic polishing object.

상기 전극 이격부재는, 상기 전해연마 대상물의 바닥면에 접하면서 상기 음극 프레임을 지지하는 제1 전극 이격부재를 포함할 수 있다The electrode spacing member may include a first electrode spacing member supporting the cathode frame while contacting the bottom surface of the electrolytic polishing object.

상기 제1 전극 이격부재는, 탭홀을 이용하지 않고도 상기 음극 프레임을 지지할 수 있다.The first electrode spacing member may support the cathode frame without using a tab hole.

실시예에 따른 전해연마 장치는 전해연마 대상물과 전해액이 수용되는 수용공간이 내부에 마련된 전해조와, 상기 전해연마 대상물의 연마면의 일측에 배치된 음극 프레임과, 상기 음극 프레임의 일측에 배치되어 상기 음극 프레임을 상기 전해연마 대상물의 바닥면으로부터 이격시키는 전극 이격부재를 포함할 수 있다.The electrolytic polishing apparatus according to the embodiment includes an electrolytic cell having an electrolytic cell having a receiving space in which an electrolytic polishing object and an electrolyte are accommodated, a cathode frame disposed on one side of a polishing surface of the electrolytic polishing object, and a cathode frame disposed at one side of the cathode frame. It may include an electrode spacer member for separating the cathode frame from the bottom surface of the electrolytic polishing object.

상기 음극 프레임 및 상기 전극 이격부재는 중첩 배치되고, 상기 음극 프레임 및 전극 이격부재는 클램프에 의해 고정될 수 있다.The cathode frame and the electrode spacing member are disposed to overlap, and the cathode frame and the electrode spacing member may be fixed by a clamp.

상기 전해연마 대상물의 바닥부에는 홈 또는 홀이 형성되고, 상기 전극 이격부재의 하부 일부가 상기 홈 또는 홀에 끼워져 결합되며, 상기 전극 이격부재의 하부 일부의 폭은 점차적으로 작아질 수 있다.A groove or hole is formed in the bottom portion of the electrolytic polishing object, a lower portion of the electrode spacing member is fitted into the groove or hole, and a width of a lower portion of the electrode spacing member may gradually decrease.

상기 전극 이격부재는 스테인리스 강 소재를 포함하고, 상기 전극 이격부재의 표면에 절연 물질이 코팅되며, 상기 전극 이격부재는 상기 음극 프레임과 중첩 배치되어 클램프에 의해 고정될 수 있다.The electrode separating member may include a stainless steel material, an insulating material is coated on the surface of the electrode separating member, and the electrode separating member may be disposed to overlap the cathode frame and fixed by a clamp.

상기 전해연마 대상물은 측벽부를 포함하고, 상기 전극 이격부재는 상기 전해연마 대상물의 측벽부의 상부에 배치될 수 있다.The electrolytic polishing object may include a sidewall portion, and the electrode spacing member may be disposed above the sidewall portion of the electrolytic polishing object.

상기 음극 프레임의 상부에는 지지대가 더 결합되고, 상기 지지대의 일측에 상기 전극 이격부재가 결합될 수 있다.A support is further coupled to an upper portion of the cathode frame, and the electrode spacer member may be coupled to one side of the support.

상기 전해연마 대상물은 측벽부를 포함하고, 상기 전극 이격부재는 상기 전해연마 대상물의 측벽부의 상부에 배치될 수 있다. 상기 음극 프레임은 전해연마 대상물의 내측 또는 외측에 배치되고, 상기 전해연마 대상물의 외측에 배치된 음극 프레임은 상기 지지대의 일측과 결합될 수 있다.The electrolytic polishing object may include a sidewall portion, and the electrode spacing member may be disposed above the sidewall portion of the electrolytic polishing object. The cathode frame may be disposed inside or outside the electrolytic polishing object, and the cathode frame disposed outside the electrolytic polishing object may be coupled to one side of the support.

실시예는 음극 프레임 일측에 전극 이격부재를 배치하여 음극 프레임을 전해연마 대상물 상에 배치시킴으로써, 음극 프레임을 별도의 거치대가 없는 전해연마 대상물의 내부 또는 외부에 효과적으로 배치할 수 있고, 이에 따라 음극 프레임을 전해연마 대상물에 신속배치할 수 있어 전해연마의 공정 효율이 향상됨과 근접하게 균일하게 배치할 수 있어서 전해연마의 품질이 현저히 향상될 수 있다. In the embodiment, an electrode spacing member is disposed on one side of the cathode frame and the cathode frame is disposed on the electrolytic polishing object, so that the cathode frame can be effectively disposed inside or outside the electrolytic polishing object without a separate cradle, and accordingly, the cathode frame The electrolytic polishing can be quickly disposed on the object, so that the process efficiency of the electrolytic polishing can be improved, and the quality of the electrolytic polishing can be remarkably improved.

또한, 실시예는 전극 이격부재의 하부의 폭을 점차적으로 작아지도록 형성하고 전해연마 대상물의 바닥부에 형성된 홈 또는 홀에 끼워 결합시킴으로써, 음극 프레임의 보다 효과적으로 고정시킬 수 있는 효과가 있다.In addition, according to the embodiment, the width of the lower portion of the electrode spacing member is gradually reduced, and by fitting into a groove or hole formed in the bottom of the electrolytic polishing object, the cathode frame can be more effectively fixed.

실시예는 전극 이격부재를 전해연마 대상물의 측벽부 상부에 배치시킴으로써, 음극 프레임을 전해연마 대상물의 바닥부로부터 이격시키면서 안정적으로 음극 프레임을 지지할 수 있는 효과가 있다.The embodiment has the effect of stably supporting the cathode frame while separating the cathode frame from the bottom of the electrolytic polishing object by disposing the electrode spacing member on the sidewall portion of the electrolytic polishing object.

또한, 실시예는 전극 이격부재를 전해연마 대상물의 바닥부와 접촉되지 않도록 배치시킴으로써, 전극 이격부재와 전해연마 대상물과의 접촉에 의한 손상을 방지할 수 있는 효과가 있다.In addition, in the embodiment, by disposing the electrode spacing member so as not to contact the bottom of the electrolytic polishing object, there is an effect of preventing damage due to contact between the electrode spacing member and the electrolytic polishing object.

또한, 실시예는 지지대를 이용함으로써, 음극 프레임을 전해연마 대상물의 내측 및 외측에 효과적으로 설치할 수 있는 효과가 있다.In addition, in the embodiment, by using the support, there is an effect that the cathode frame can be effectively installed inside and outside the electrolytic polishing object.

도 1은 제1 실시예에 따른 전해연마 장치를 나타낸 단면도이다.
도 2는 도 1의 전극 이격부재를 나타낸 사시도이다.
도 3은 도 1의 전극 이격부재가 전해연마 대상물에 고정되는 모습을 나타낸 개략 사시도이다.
도 4 내지 도 6은 제1 실시예에 따른 전극 이격부재의 다양한 구조를 나타낸 사시도이다.
도 7a 및 도 7b는 도 1의 C형 클램프의 나타낸 사시도이다.
도 8은 도 1의 음극 프레임의 변형예를 나타낸 사시도이다.
도 9는 제2 실시예에 따른 전해연마 장치를 나타낸 단면도이다.
도 10은 제3 실시예에 따른 전해연마 장치를 나타낸 단면도이다.
도 11은 도 10의 음극 프레임이 지지대에 결합되는 모습을 나타낸 사시도이다.
도 12는 제4 실시예에 따른 전해연마 장치를 나타낸 단면도이다.1 is a cross-sectional view showing an electrolytic polishing apparatus according to a first embodiment.
Figure 2 is a perspective view showing the electrode spacer member of Figure 1;
3 is a schematic perspective view showing a state in which the electrode spacing member of FIG. 1 is fixed to an electrolytic polishing object.
4 to 6 are perspective views showing various structures of the electrode spacing member according to the first embodiment.
7A and 7B are perspective views illustrating the C-type clamp of FIG. 1.
8 is a perspective view showing a modified example of the cathode frame of FIG. 1.
9 is a cross-sectional view showing an electrolytic polishing apparatus according to a second embodiment.
10 is a cross-sectional view showing an electrolytic polishing apparatus according to a third embodiment.
11 is a perspective view showing a state in which the cathode frame of FIG. 10 is coupled to a support.
12 is a cross-sectional view showing an electrolytic polishing apparatus according to a fourth embodiment.

이하, 도면을 참조하여 실시예를 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, embodiments will be described in detail with reference to the drawings.

도 1은 제1 실시예에 따른 전해연마 장치를 나타낸 단면도이고, 도 2는 도 1의 전극 이격부재를 나타낸 사시도이고, 도 3은 도 1의 전극 이격부재가 전해연마 대상물에 고정되는 모습을 나타낸 개략 사시도이고, 도 4 내지 도 6은 제1 실시예에 따른 전극 이격부재의 다양한 구조를 나타낸 사시도이고, 도 7a 및 도 7b는 도 1의 C형 클램프의 나타낸 사시도이고, 도 8은 도 1의 음극 프레임의 변형예를 나타낸 사시도이다.1 is a cross-sectional view showing an electrolytic polishing apparatus according to a first embodiment, FIG. 2 is a perspective view showing an electrode spacing member of FIG. 1, and FIG. 3 is a view showing a state in which the electrode spacing member of FIG. 1 is fixed to an electrolytic polishing object. A schematic perspective view, FIGS. 4 to 6 are perspective views showing various structures of an electrode spacer according to a first embodiment, FIGS. 7A and 7B are perspective views illustrating a C-type clamp of FIG. 1, and FIG. 8 is It is a perspective view showing a modified example of the cathode frame.

도 1을 참조하면, 실시예에 따른 전극 프레임은, 전해연마 대상물과 전해액이 수용되는 수용공간이 내부에 마련된 전해조에 이용되는 전극 프레임에 있어서, 상기 전해연마 대상물의 연마면의 일측에 배치된 음극 프레임(300) 및 상기 음극 프레임의 일측에 배치되어 상기 음극 프레임을 상기 전해연마 대상물의 측면 또는 바닥면으로부터 이격시키는 전극 이격부재(400)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 1, in the electrode frame according to the embodiment, in the electrode frame used in an electrolytic cell in which an electrolytic polishing object and an accommodation space for accommodating an electrolyte are provided, a cathode disposed on one side of a polishing surface of the electrolytic polishing object It may include a frame 300 and an electrode spacing member 400 disposed on one side of the cathode frame to separate the cathode frame from a side surface or a bottom surface of the electrolytic polishing object.

또한 제1 실시예에 따른 전해연마 장치는 전해연마 대상물(200)과 전해액(110)이 수용되는 수용 공간이 내부에 마련된 전해조(100)와, 상기 전해연마 대상물(200)의 연마면의 일측에 배치된 음극 프레임(300)과, 상기 음극 프레임(300)의 일측에 배치되어 상기 음극 프레임(300)을 상기 전해연마 대상물(200)의 바닥면으로부터 이격시키는 전극 이격부재(400)를 포함할 수 있다.In addition, the electrolytic polishing apparatus according to the first embodiment includes an electrolytic bath 100 having an accommodation space in which the electrolytic polishing object 200 and the electrolyte 110 are accommodated, and one side of the polishing surface of the electrolytic polishing object 200. It may include a cathode frame 300 disposed, and an electrode spacing member 400 disposed on one side of the cathode frame 300 to separate the cathode frame 300 from the bottom surface of the electrolytic polishing object 200. have.

전해조(100)는 내부에 수용 공간이 마련된 박스 형상으로 형성될 수 있다. 전해조(100)는 원통형, 다각 박스 또는 링 형상을 포함할 수 있으나 그 형상은 한정되지 않는다.The electrolytic cell 100 may be formed in a box shape in which an accommodation space is provided therein. The electrolytic cell 100 may include a cylindrical shape, a polygonal box, or a ring shape, but the shape is not limited.

전해조(100)의 내부에는 전해액(110)이 채워질 수 있다. 전해액(110)으로는 증류수(H2O), 황산(H₂SO₄)계, 인산(H₃PO₄)계, 크롬산계, 질산나트륨(NaNO₃), 염화나트륨(NaCl), 글리세린계로 구성된 그룹으로부터 선택된 적어도 하나의 물질을 혼합하여 이루어질 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. An electrolyte solution 110 may be filled inside the electrolytic cell 100. The electrolyte 110 is selected from the group consisting of distilled water (H2O), sulfuric acid (H ₂ SO ₄ ), phosphoric acid (H ₃ PO ₄ ), chromic acid, sodium nitrate (NaNO ₃ ), sodium chloride (NaCl), and glycerin. It may be formed by mixing at least one material, but is not limited thereto.

전해액(110)은 전해조(100)에 채워진 상태에서 전해연마 대상물(200)의 전해연마를 마친 후, 교체될 수 있다. 이와 다르게 전해액(110)은 전해조(100)의 일측에 별도로 형성된 펌프에 의해 유입 유출될 수 있다. 전해조(100)와 펌프 사이에는 전해액 유입관, 전해액 유출관이 형성될 수 있으며, 전해액 유량 조절부, 필터를 더 포함할 수 있다. 필터는 전해액에 포함된 가공물 슬러지 및 이물질을 여과시킬 수 있다.The electrolytic solution 110 may be replaced after electrolytic polishing of the electrolytic polishing object 200 is completed while being filled in the electrolytic bath 100. Unlike this, the electrolyte solution 110 may be introduced and discharged by a pump separately formed on one side of the electrolytic cell 100. An electrolyte inlet pipe and an electrolyte outlet pipe may be formed between the electrolyzer 100 and the pump, and may further include an electrolyte flow control unit and a filter. The filter can filter processed sludge and foreign matter contained in the electrolyte.

전해조(100)의 내부에는 전해연마 대상물(200)이 수용될 수 있다. 전해조(100)의 크기는 전해연마 대상물(200) 보다 크게 형성될 수 있다. 전해연마 대상물(200)은 다각형 또는 원통형의 챔버나 탱크 일 수 있다. 전해연마 대상물(200)은 OLED 제조를 위한 챔버 일 수 있다. 또한, 전해연마 대상물(200)은 OLED 챔버의 일부 구성 부품일 수도 있다. 전해연마 대상물(200)은 플레이트, 박스 형상 또는 상하가 관통 형성된 링 형상일 수 있다. 전해연마 대상물(200)의 이에 한정되지 않으며 금속 재질의 제품 모두를 전해연마 대상물로 지정할 수 있다. 전해연마 대상물(200)은 전해액(110) 내에 침지된다.An electrolytic polishing object 200 may be accommodated in the electrolytic cell 100. The size of the electrolytic cell 100 may be formed larger than that of the electrolytic polishing object 200. The electrolytic polishing object 200 may be a polygonal or cylindrical chamber or tank. The electrolytic polishing object 200 may be a chamber for manufacturing an OLED. In addition, the electrolytic polishing object 200 may be a part of the OLED chamber. The electrolytic polishing object 200 may have a plate shape, a box shape, or a ring shape having top and bottom holes formed therethrough. The electrolytic polishing object 200 is not limited thereto, and all metal products may be designated as the electrolytic polishing object. The electrolytic polishing object 200 is immersed in the electrolyte solution 110.

전해연마 대상물(200)은 그 무게가 상당하므로 예컨대, 기중기 등을 이용하여 들어올린 상태에서 전해조(100)의 수용 공간에 수용될 수 있다. 예를 들어, 전해연마 대상물(200)이 OLED용 챔버이거나 LED용 MOCVD 챔버 등의 경우에는 그 중량은 수백 kg에서 수천 kg(수 ton)에 이르는 거대한 경우도 있다.Since the electrolytic polishing object 200 has a significant weight, it may be accommodated in the accommodation space of the electrolytic cell 100 while being lifted using, for example, a crane. For example, in the case where the electrolytic polishing object 200 is a chamber for OLED or a MOCVD chamber for LED, the weight of the object 200 may range from several hundred to several thousand kg (several tons).

전해연마 대상물(200)의 연마면은 전해연마 대상물(200)의 외측, 내측, 바닥면 등을 포함할 수 있다. The polishing surface of the electrolytic polishing object 200 may include an outer side, an inner side, and a bottom surface of the electrolytic polishing object 200.

전해조(200)의 일측에는 정류기가 더 배치될 수 있다. 정류기는 전해연마 대상에 양극(+)의 전압을 인가시킬 수 있으며, 음극 프레임(300)에 음극(-)의 전압을 인가시킬 수 있다. 정류기는 전선 등에 의해 전해연마 대상물(200)과 전기적으로 연결될 수 있다.A rectifier may be further disposed on one side of the electrolytic cell 200. The rectifier may apply the voltage of the anode (+) to the electrolytic polishing target, and may apply the voltage of the cathode (-) to the cathode frame 300. The rectifier may be electrically connected to the electrolytic polishing object 200 by an electric wire or the like.

음극 프레임(300)은 전해연마 대상물(200)의 내부 및/또는 외부에 배치될 수 있다. 음극 프레임(300)은 전해연마 대상물(200)의 연마면과 일정 간격 이격 배치될 수 있다. 예컨대, 음극 프레임(300)은 전해연마 대상물(200)과의 50mm±20mm의 거리로 균일하게 이격 배치됨에 따라 전해연마 효율이 향상되며 전해연마 품질이 매우 우수하다.The cathode frame 300 may be disposed inside and/or outside the electrolytic polishing object 200. The cathode frame 300 may be disposed to be spaced apart from the polishing surface of the electrolytic polishing object 200 at a predetermined interval. For example, as the cathode frame 300 is uniformly spaced apart from the electrolytic polishing object 200 at a distance of 50 mm ± 20 mm, the electrolytic polishing efficiency is improved and the electrolytic polishing quality is very excellent.

음극 프레임(300)은 전해연마 대상물(200)의 연마면인 내측, 외측 또는 바닥면을 선택적으로 또는 동시에 모든 면을 연마할 수 있다. 본 실시예에서는 설명의 편의를 위해 음극 프레임(300)이 전해연마 대상물(200)의 내측에 배치된 구조에 대해 설명하기로 한다. The cathode frame 300 may selectively or simultaneously polish all surfaces of an inner, outer, or bottom surface of the electrolytic polishing object 200, which is a polishing surface. In this embodiment, for convenience of explanation, a structure in which the cathode frame 300 is disposed inside the electrolytic polishing object 200 will be described.

음극 프레임(300)은 격자 구조의 판 형상을 포함할 수 있다. 음극 프레임(300)은 전기 전도도 내산성이 뛰어난 스테인리스 강 소재일 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. 음극 프레임(300)은 바(bar) 형상, L자 형상, 각 형상, 봉 형상, 와이어 메쉬, 익스펜디드 메탈, 라운드 형상의 플레이트일 수 있다. The cathode frame 300 may have a plate shape having a lattice structure. The cathode frame 300 may be a stainless steel material having excellent electrical conductivity and acid resistance, but is not limited thereto. The cathode frame 300 may be a bar shape, an L shape, each shape, a rod shape, a wire mesh, an expanded metal, or a round plate.

음극 프레임(300)은 전해연마 대상물(200)의 연마면을 따라 배치되므로 전해연마 대상물(200)이 상부가 개방된 사각 박스 형상으로 형성될 경우, 그에 대응되도록 다수의 음극 프레임(300)은 사각 박스 형상으로 형성될 수 있다.Since the cathode frame 300 is disposed along the polishing surface of the electropolishing target 200, when the electropolishing target 200 is formed in a rectangular box shape with an open top, a plurality of cathode frames 300 are rectangular to correspond thereto. It can be formed in a box shape.

음극 프레임(300)은 제1 음극 플레이트(310)와 제2 음극 플레이트(320)를 포함할 수 있다. 제1 음극 플레이트(310)와 제2 음극 플레이트(320)가 격자 구조로 이루도록 배치될 수 있다. 제1 음극 플레이트(310)는 긴 막대 형상으로 형성될 수 있다. 제1 음극 플레이트(310)는 다수의 플레이트로 구성되어 상하 이격 배치되도록 구성될 수 있다. The cathode frame 300 may include a first cathode plate 310 and a second cathode plate 320. The first negative electrode plate 310 and the second negative electrode plate 320 may be arranged to have a lattice structure. The first cathode plate 310 may be formed in a long rod shape. The first cathode plate 310 may be configured to be formed of a plurality of plates and arranged to be spaced apart from each other up and down.

제2 음극 플레이트(320)는 긴 막대 형상으로 형성될 수 있다. 제2 음극 플레이트(320)는 다수의 플레이트로 구성되어 좌우로 이격되도록 배치될 수 있다. 제1 음극 플레이트(310)와 제2 음극 플레이트(320)는 90도를 이루도록 배치될 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.The second cathode plate 320 may be formed in a long rod shape. The second cathode plate 320 may be formed of a plurality of plates and may be disposed to be spaced from the left and right. The first cathode plate 310 and the second cathode plate 320 may be disposed to achieve 90 degrees, but are not limited thereto.

제1 음극 플레이트(310)와 제2 음극 플레이트(320)가 교차되는 영역은 나사 등에 의해 리벳 결합될 수 있다. 이와 다르게, 제1 음극 플레이트(310)와 제2 음극 플레이트(320)가 교차되는 영역은 C형 클램프에 의해 고정될 수도 있다.A region where the first negative plate 310 and the second negative plate 320 intersect may be riveted by screws or the like. Alternatively, a region where the first cathode plate 310 and the second cathode plate 320 cross may be fixed by a C-type clamp.

상기에서는 음극 프레임이 고정된 길이를 가지는 구조에 대해 설명하였으나, 전해연마 대상물이 커짐에 따라 음극 프레임의 크기를 가변시킬 수 있는 가변 구조의 음극 프레임이 사용될 수 있다.In the above, a structure in which the cathode frame has a fixed length has been described, but a cathode frame having a variable structure capable of varying the size of the cathode frame as the electrolytic polishing object increases may be used.

도 8에 도시된 바와 같이, 음극 프레임(300)은 제1 음극 플레이트(310)와 제2 음극 플레이트(330)를 포함할 수 있다. 제1 음극 플레이트(310)와 제2 음극 플레이트(330)가 격자 구조로 이루도록 배치될 수 있다.As shown in FIG. 8, the negative electrode frame 300 may include a first negative electrode plate 310 and a second negative electrode plate 330. The first negative electrode plate 310 and the second negative electrode plate 330 may be arranged to have a lattice structure.

제1 음극 플레이트(310)는 다수의 지지대로 이루어져 그 길이가 늘어나거나 줄어들 수 있도록 구성될 수 있다. 제2 음극 플레이트(330)의 구조는 제1 음극 플레이트(310)의 구조와 동일할 수 있다. 이하에서는 제1 음극 플레이트(310)를 구조를 중심으로 설명한다.The first cathode plate 310 may be configured as a plurality of supports to increase or decrease its length. The structure of the second cathode plate 330 may be the same as that of the first cathode plate 310. Hereinafter, the structure of the first cathode plate 310 will be described.

제1 음극 플레이트(310)는 다수의 지지대가 연결되도록 구성될 수 있다. 제1 음극 플레이트(310)는 일부가 중첩되도록 배치되어 서로 멀어지거나 가까운 방향으로 이동될 수 있다. 제1 음극 플레이트(310)는 다수의 지지대로 구성되었으나, 설명의 편의상 제1 음극 플레이트(310)가 제1 지지대(312)와 상기 제1 지지대(312)와 연결된 제2 지지대(314)로 이루어진 구조를 중심으로 설명한다.The first negative plate 310 may be configured such that a plurality of supports are connected. The first cathode plate 310 may be disposed so as to partially overlap and may be moved away from each other or in a direction close to each other. The first cathode plate 310 is composed of a plurality of supports, but for convenience of explanation, the first cathode plate 310 is composed of a first support 312 and a second support 314 connected to the first support 312. The explanation is focused on the structure.

제1 지지대(312)는 L자 형상일 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. 제1 지지대(312)의 일부 영역은 제2 지지대(314)의 일부 영역과 중첩되어 형성될 수 있다. 제1 지지대(312)와 제2 지지대(314)의 중첩된 영역은 C형 클램프(600)에 의해 지지될 수 있다. 상기 제1 지지대(312)와 상기 제2 지지대(314)의 중첩된 영역을 지지하는 C형 클램프(600)는 제2 클램프로 칭해질 수 있다.The first support 312 may have an L shape, but is not limited thereto. A partial region of the first support 312 may be formed to overlap a partial region of the second support 314. The overlapped region of the first support 312 and the second support 314 may be supported by the C-shaped clamp 600. The C-shaped clamp 600 supporting the overlapped region of the first support 312 and the second support 314 may be referred to as a second clamp.

제1 지지대(312)와 제2 지지대(314)는 서로 멀어지거나 가까워지는 방향으로 이동시킬 수 있다. C형 클램프(600)는 제1 지지대(312)와 제2 지지대(314)가 서로 이동될 수 있을 정도의 힘으로 제1 지지대(312)와 제2 지지대(314)를 지지할 수 있다. 이와 다르게, C형 클램프(600)는 제1 지지대(312)와 제2 지지대(314)를 이동시킨 후 고정력을 더하여 제1 지지대(312)와 제2 지지대(314)를 지지할 수 있다.The first support 312 and the second support 314 may be moved in a direction moving away or closer to each other. The C-shaped clamp 600 may support the first support 312 and the second support 314 with a force sufficient to move the first support 312 and the second support 314 to each other. Alternatively, the C-shaped clamp 600 may support the first support 312 and the second support 314 by adding a fixing force after moving the first support 312 and the second support 314.

제2 음극 플레이트(330)는 제1 음극 플레이트(310)와 동일하도록 제1 지지대와 제2 지지대를 포함할 수 있다. 제2 음극 플레이트(330)는 막대 형상의 플레이트로 형성될 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. 제2 음극 플레이트(330)의 제1 지지대(332)는 제2 지지대(334)로부터 멀어지거나 가까워지는 방향으로 이동될 수 있다.The second negative electrode plate 330 may include a first support and a second support to be the same as the first negative plate 310. The second cathode plate 330 may be formed as a rod-shaped plate, but is not limited thereto. The first support 332 of the second cathode plate 330 may be moved in a direction away from or close to the second support 334.

제2 음극 플레이트(330)의 제1 지지대(332)와 제2 지지대(334)는 일부 중첩되도록 배치될 수 있다. 제2 음극 플레이트(330)의 제1 지지대(332)와 제2 지지대(334)의 중첩되는 영역은 C형 클램프(600)에 의해 지지될 수 있다. 이로 인해 제2 음극 플레이트(330)는 길이는 가변될 수 있다.The first support 332 and the second support 334 of the second cathode plate 330 may be disposed to partially overlap each other. The overlapping region of the first support 332 and the second support 334 of the second cathode plate 330 may be supported by the C-shaped clamp 600. Accordingly, the length of the second cathode plate 330 may be variable.

도 1로 돌아가서, 음극 프레임(300)은 양극의 전해연마 대상물(200)과 접촉되면 쇼트가 발생된다. 이를 방지하기 위해 음극 프레임(300)은 전해연마 대상물(200)의 바닥면 및 측면과 이격되도록 구성해야 한다. Returning to FIG. 1, when the cathode frame 300 contacts the electrolytic polishing object 200 of the anode, a short circuit occurs. To prevent this, the cathode frame 300 must be configured to be spaced apart from the bottom and side surfaces of the electrolytic polishing object 200.

본 실시예에서는 음극 프레임(300)을 전해연마 대상물(200)의 바닥면 및 측면으로부터 이격시키도록 전극 이격부재(400)가 마련될 수 있다.In this embodiment, the electrode spacing member 400 may be provided to separate the cathode frame 300 from the bottom and side surfaces of the electrolytic polishing object 200.

전극 이격부재(400)는 음극 프레임(300)의 일측에 결합될 수 있다. 전극 이격부재(400)는 최하위에 배치된 제1 음극 플레이트(310)의 일측에 결합될 수 있다. 전극 이격부재(400)는 제1 음극 플레이트(310)로부터 하부로 돌출되도록 제1 음극 플레이트(310)의 일측에 결합될 수 있다. 이로 인해 전극 이격부재(400)는 전해연마 대상물(200)의 바닥면과 접촉될 수 있다. The electrode spacing member 400 may be coupled to one side of the cathode frame 300. The electrode spacing member 400 may be coupled to one side of the first cathode plate 310 disposed at the bottom. The electrode spacing member 400 may be coupled to one side of the first negative plate 310 so as to protrude downward from the first negative plate 310. Accordingly, the electrode spacing member 400 may be in contact with the bottom surface of the electrolytic polishing object 200.

전극 이격부재(400)는 제1 음극 플레이트(310)로부터 측면으로 돌출되도록 제1 음극 플레이트(310)의 일측에 결합될 수 있다. 이로 인해 전극 이격부재(400)는 전해연마 대상물(200)의 측면과 접촉될 수 있다.The electrode spacing member 400 may be coupled to one side of the first negative plate 310 so as to protrude laterally from the first negative plate 310. Accordingly, the electrode spacing member 400 may be in contact with the side surface of the electrolytic polishing object 200.

전극 이격부재(400)에 의해 음극 프레임(300)과 전해연마 대상물(200)이 쇼트되는 것을 방지하기 위해 전극 이격부재(400)는 절연 재질로 형성될 수 있다. 전극 이격부재(400)는 음극 프레임(300)의 무게를 견딜 수 있으며 내산성이 강한 재질로 형성될 수 있다. 전극 이격부재(400)는 PVC, 고무, 우레탄 고무, 백그라이트 중 어느 하나를 포함할 수 있다. 음극 프레임(300) 및 전극 이격부재(400)는 C형 클램프(600)에 의해 결합될 수 있다. 상기 음극 프레임(300)과 상기 전극 이격부재(400)를 결합하는 C형 클램프(600)는 제1 클램프로 칭해질 수 있다.In order to prevent a short circuit between the cathode frame 300 and the electrolytic polishing object 200 by the electrode spacing member 400, the electrode spacing member 400 may be formed of an insulating material. The electrode spacing member 400 may withstand the weight of the cathode frame 300 and may be formed of a material having strong acid resistance. The electrode spacing member 400 may include any one of PVC, rubber, urethane rubber, and backlight. The cathode frame 300 and the electrode spacing member 400 may be coupled by a C-type clamp 600. The C-shaped clamp 600 that couples the cathode frame 300 and the electrode spacing member 400 may be referred to as a first clamp.

도 7에 도시된 바와 같이, C형 클램프(600)는 대향 배치된 고정부(610)를 포함할 수 있다. 고정부(610)는 중첩 배치된 전극 이격부재(400)의 일측과 제1 음극 플레이트(310)의 타측에 배치되어 음극 프레임(300) 및 전극 이격부재(400)를 안정적으로 고정시킬 수 있다. C형 클램프(600)는 내산성이 우수한 스테인리스 강 소재로 형성될 수 있다. 이와 다르게 C형 클램프(600)는 절연 재질로 형성될 수 있다.As shown in FIG. 7, the C-shaped clamp 600 may include a fixing portion 610 disposed opposite to each other. The fixing part 610 may be disposed on one side of the electrode spacing member 400 and the other side of the first cathode plate 310 to stably fix the cathode frame 300 and the electrode spacing member 400. The C-type clamp 600 may be formed of a stainless steel material having excellent acid resistance. Unlike this, the C-shaped clamp 600 may be formed of an insulating material.

C형 클램프(600)는 음극 프레임(300)과 전극 이격부재(400)를 영구적으로 고정시키지 않기 때문에 C형 클램프(600)를 사용하게 되면 음극 프레임(300)과 전극 이격부재(400)의 용이하게 설치 및 분리할 수 있게 된다. 즉, 전극 이격부재(400)는 전해연마 대상물(200)의 형상에 따라 그 설치 위치가 달라질 수 있기 때문에 C형 클램프(600)는 음극 프레임(300)에 결합되는 전극 이격부재(400)의 설치 위치를 용이하게 변경시킬 수 있다.Since the C-type clamp 600 does not permanently fix the cathode frame 300 and the electrode spacing member 400, the use of the C-type clamp 600 makes the cathode frame 300 and the electrode spacing member 400 easy. It can be installed and removed. That is, since the installation position of the electrode spacer member 400 may vary according to the shape of the electrolytic polishing object 200, the C-type clamp 600 is provided with the electrode spacer member 400 coupled to the cathode frame 300. The location can be easily changed.

한편, 클램프(600)는 도전성 재질로 형성되기 때문에 음극 프레임(300)과 전해연마 대상물(200) 사이의 협소한 공간에 설치된 C형 클램프(600)는 전해연마 대상물(200)과 접촉되어 음극 프레임(300)과 전해연마 대상물(200) 사이에서 전기적인 단락을 발생시킬 수 있다.On the other hand, since the clamp 600 is formed of a conductive material, the C-type clamp 600 installed in a narrow space between the cathode frame 300 and the electrolytic polishing object 200 is in contact with the electrolytic polishing object 200 and thus the cathode frame An electrical short may occur between the 300 and the electrolytic polishing object 200.

이를 방지하기 위해 음극 프레임(300)들 사이를 고정하는 고정부(610)의 일측에는 절연부(620)가 더 형성될 수 있다. 여기서, 고정부(610)는 제1 몸체(640)와 제2 몸체(650)의 일측에 각각 배치될 수 있다. 제2 몸체(650)는 C자 형상으로 형성되어 제1 몸체(640)와 결합될 수 있다. 제1 몸체(640)는 제2 몸체(650)에 결합되어 상하로 이동될 수 있다. 이로 인해 제1 몸체(640)와 제2 몸체(650)에 대향 배치된 고정부(510)는 서로 가까워지는 방향 또는 멀어지는 방향으로 이동될 수 있다.In order to prevent this, an insulating part 620 may be further formed on one side of the fixing part 610 that fixes the cathode frames 300. Here, the fixing part 610 may be disposed on one side of the first body 640 and the second body 650, respectively. The second body 650 may be formed in a C shape to be coupled to the first body 640. The first body 640 may be coupled to the second body 650 and move up and down. Accordingly, the fixing portions 510 disposed opposite to the first body 640 and the second body 650 may be moved in a direction closer to or away from each other.

절연부(620)는 고정부(610)의 일측에 형성되어 음극 프레임(300) 및 전극 이격부재(400)와 접촉될 수 있다. 이로 인해 C형 클램프(600)는 전해연마 대상물(200)의 일측과 접촉되더라도 전해연마 대상물(200)과 음극 프레임(300) 사이의 전기적인 단락을 방지할 수 있다. 절연부(620)는 탄성을 가지는 재질을 포함할 수 있다. 절연부(620)는 PVC, 고무, 우레탄 고무, 백크라이트 등을 포함할 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.The insulating part 620 may be formed on one side of the fixing part 610 to come into contact with the cathode frame 300 and the electrode spacing member 400. Accordingly, even if the C-type clamp 600 is in contact with one side of the electrolytic polishing object 200, it is possible to prevent an electrical short between the electrolytic polishing object 200 and the cathode frame 300. The insulating part 620 may include a material having elasticity. The insulating part 620 may include PVC, rubber, urethane rubber, backcrite, etc., but is not limited thereto.

또한, C자 형상의 제2 몸체(650)의 일부가 전해연마 대상물(200) 또는 음극 플레이트의 일측과 접촉될 수 있다. 이를 방지하기 위해 제2 몸체(650)의 표면에 절연막(650b)을 더 포함할 수 있다. 제2 몸체(650)의 내부는 강성을 유지하기 위해 도전성 물질(650a)로 이루어질 수 있으며, 제2 몸체(650)의 외측면에 절연막(650b)이 코팅되어 형성될 수 있다.In addition, a part of the C-shaped second body 650 may be in contact with the electrolytic polishing object 200 or one side of the cathode plate. In order to prevent this, an insulating film 650b may be further included on the surface of the second body 650. The inside of the second body 650 may be made of a conductive material 650a to maintain rigidity, and may be formed by coating an insulating film 650b on the outer surface of the second body 650.

또한, C형 클램프(600)에는 서로 결합되는 프레임의 고정력을 극대화하기 위해 돌기(530)가 더 형성될 수 있다. 돌기(630)는 C형 클램프(600)가 예컨대, 음극 프레임(300)으로부터 미끄러짐을 방지하여 C형 클램프(600)가 음극 프레임(300)으로부터 이탈되는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.In addition, the C-shaped clamp 600 may be further formed with a protrusion 530 to maximize the fixing force of the frames coupled to each other. The protrusion 630 has an effect of preventing the C-type clamp 600 from slipping from, for example, the cathode frame 300, thereby preventing the C-type clamp 600 from being separated from the cathode frame 300.

상기에서는 C형 클램프(600)의 고정부(610)의 일측에 절연부(620)를 형성하였으나, 고정부(620)를 절연 재질로 형성하고, 절연부(620)를 제거할 수 있다.In the above, the insulating part 620 is formed on one side of the fixing part 610 of the C-type clamp 600, but the fixing part 620 is formed of an insulating material, and the insulating part 620 may be removed.

도 1로 돌아가서, 전극 이격부재(400)는 최하위에 배치된 제1 음극 플레이트(310)의 일측 및 타측에 이격되도록 배치될 수 있다. 전극 이격부재(400)는 음극 프레임(300)의 무게가 한 방향으로 치우치지 않도록 균형을 맞춰 지지할 수 있다. 전극 이격부재(400)의 설치 개수는 한정되지 않으며, 3개 이상으로 형성될 수 있다. 전극 이격부재(400)는 전해연마 대상물(200) 내측의 다른 연마면들과 이격 배치된 다수의 음극 프레임(300)들의 하부에 형성될 수 있다.Returning to FIG. 1, the electrode spacing member 400 may be disposed to be spaced apart from one side and the other side of the first cathode plate 310 disposed at the bottom. The electrode spacing member 400 may be supported in a balanced manner so that the weight of the cathode frame 300 is not biased in one direction. The number of electrode spacing members 400 is not limited, and may be formed in three or more. The electrode spacing member 400 may be formed under the plurality of cathode frames 300 spaced apart from other polishing surfaces inside the electrolytic polishing object 200.

또한, 전해연마 대상물(200)의 바닥부 및 측면에 고정되는 이격부재(400)가 음극 프레임(300)의 코너부에 설치되면 음극 프레임(300)의 중심을 잡아주게 되어 음극 프레임(300)을 보다 견고하게 설치할 수 있다.In addition, when the spacing member 400 fixed to the bottom and the side of the electrolytic polishing object 200 is installed at the corner of the cathode frame 300, it holds the center of the cathode frame 300, thereby forming the cathode frame 300. It can be installed more firmly.

전극 이격부재(400)는 L자 형상, 바(bar) 형상, 각 형상, 봉 형상으로 형성될 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. 이하에서는 전극 이격부재(400)의 형상이 앞서 언급된 형상 중 어느 하나에 대해 설명하기로 한다. 하지만. 전극 이격부재(400)의 형상은 이하에서 설명될 형상에 한정되지 않는다.The electrode spacing member 400 may be formed in an L shape, a bar shape, each shape, or a rod shape, but is not limited thereto. Hereinafter, the shape of the electrode spacing member 400 will be described for any one of the aforementioned shapes. But. The shape of the electrode spacing member 400 is not limited to the shape to be described below.

도 2에 도시된 바와 같이, 전극 이격부재(400)는 하부의 폭이 작아지도록 형성될 수 있다. 이를 통해 전극 이격부재(400)이 전해연마대상물(200)과 접하는 영역을 최소화하여 전해연마대상물(200)의 전체적인 고른 전해연마품질을 유지할 수 있다.As shown in FIG. 2, the electrode spacing member 400 may be formed such that the width of the lower portion thereof is reduced. Through this, the electrode spacing member 400 can minimize the area in contact with the electrolytic polishing object 200 to maintain an overall uniform electrolytic polishing quality of the electrolytic polishing object 200.

전극 이격부재(400)의 길이(L)는 전극 이격부재(400)의 폭(W)보다 크게 형성될 수 있다. 전극 이격부재(400)의 길이(L)는 제1 음극 플레이트(310)의 폭 보다 크게 형성될 수 있다. 이로 인해 전극 이격부재(400)는 제1 음극 플레이트(310)의 하부로 돌출되도록 배치될 수 있다. The length L of the electrode spacing member 400 may be formed larger than the width W of the electrode spacing member 400. The length L of the electrode spacing member 400 may be formed larger than the width of the first cathode plate 310. Accordingly, the electrode spacing member 400 may be disposed to protrude from the lower portion of the first cathode plate 310.

일 예로, 전극 이격부재(400)의 길이(L)는 8㎝ 내지 12㎝를 포함할 수 있다. 전극 이격부재(400)의 폭(W)은 2㎝ 내지 7㎝를 포함할 수 있다. 전극 이격부재(400)의 두께(T)는 2㎚ 내지 7㎚를 포함할 수 있다. 전극 이격부재(400)의 길이(L), 폭(W) 및 두께(T)는 이에 한정되지 않는다.For example, the length (L) of the electrode spacing member 400 may include 8 cm to 12 cm. The width (W) of the electrode spacing member 400 may include 2 cm to 7 cm. The thickness T of the electrode spacing member 400 may include 2 nm to 7 nm. The length (L), width (W), and thickness (T) of the electrode spacing member 400 are not limited thereto.

전극 이격부재(400)는 제1 지지부(410)와, 제2 지지부(430)를 포함할 수 있다. 제1 지지부(410)는 사각 플레이트 형상으로 형성될 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. 제2 지지부(430)는 하부로 갈수록 그 폭이 작아지도록 형성될 수 있다. 일 예로, 제2 지지부(430)는 하부에 꼭지점을 가지는 역 삼각형 형상으로 형성될 수 있으나 이에 한정되지 않는다. 전해연마 대상물(200)의 바닥면에는 제1 지지부(410)의 측면 들 중 어느 하나의 면 또는 제2 지지부(430)의 측면들 중 어느 하나의 면과 접촉될 수 있다.The electrode spacing member 400 may include a first support part 410 and a second support part 430. The first support part 410 may be formed in a rectangular plate shape, but is not limited thereto. The second support part 430 may be formed such that its width decreases toward the bottom. For example, the second support part 430 may be formed in an inverted triangular shape having a vertex at the bottom, but is not limited thereto. The bottom surface of the electrolytic polishing object 200 may be in contact with one of the side surfaces of the first support part 410 or any one of the side surfaces of the second support part 430.

도 3에 도시된 바와 같이, 제2 지지부(430)의 꼭지점이 전해연마 대상물(200)의 바닥면 또는 측면과 접촉될 수 있다. 전해연마 대상물(200)은 그 형상에 따라 바닥면에는 홈 또는 홀이 형성될 수 있다. 전극 이격부재(400)는 전해연마 대상물(200)에 형성된 홈 또는 홀(210)에 일부가 끼워질 수 있다. 전해연마 대상물(200)에 형성된 홈 또는 홀(210)에는 전극 이격부재(400)의 제2 지지부(430)의 꼭지점 영역이 끼워져 결합될 수 있다. 제2 지지부(430)는 하부 폭이 좁게 형성되기 때문에 제2 지지부(430)의 일부는 홈 또는 홀(210)의 크기에 상관없이 끼워져 결합될 수 있다. 이로 인해 전해연마 대상물(200)의 바닥부에 홈 또는 홀(210)이 존재할 경우, 홈 또는 홀(210)을 이용하여 음극 프레임(400)을 더욱 효과적으로 고정시킬 수 있는 효과가 있다.As shown in FIG. 3, a vertex of the second support part 430 may be in contact with the bottom or side surface of the electrolytic polishing object 200. The electrolytic polishing object 200 may have grooves or holes formed on the bottom surface according to its shape. The electrode spacing member 400 may be partially fitted into a groove or hole 210 formed in the electrolytic polishing object 200. A vertex region of the second support portion 430 of the electrode spacing member 400 may be inserted into the groove or hole 210 formed in the electrolytic polishing object 200 to be coupled. Since the second support part 430 has a narrow lower width, a part of the second support part 430 may be fitted and coupled regardless of the size of the groove or hole 210. Accordingly, when there is a groove or hole 210 in the bottom portion of the electrolytic polishing object 200, there is an effect that the cathode frame 400 can be more effectively fixed by using the groove or hole 210.

상기에서 전해연마 대상물(200)에 홈 또는 홀(210)이 형성되지 않더라도 이격부재(400)가 전해연마 대상물(200)의 바닥면과 측면에 접촉되어 고정되므로, 음극 프레임(300)이 보다 견고하게 설치될 수 있는 효과가 있다.Even if the groove or hole 210 is not formed in the electrolytic polishing object 200 above, the spacing member 400 is fixed in contact with the bottom surface and the side surface of the electrolytic polishing object 200, so that the cathode frame 300 is more robust. There is an effect that can be installed properly.

앞서 설명한 전극 이격부재(400)는 다양한 형상으로 형성될 수 있다. 전극 이격부재(400)는 도 4 내지 도 6과 같이 형성될 수 있다.The electrode spacing member 400 described above may be formed in various shapes. The electrode spacing member 400 may be formed as shown in FIGS. 4 to 6.

도 4에 도시된 바와 같이, 전극 이격부재(400)는 내측 지지부재(450)와, 상기 외측 지지부재(460)를 포함할 수 있다. 내측 지지부재(450)는 단단한 강도를 가지는 콘크리트용 갈브럭 또는 철편을 포함할 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. 내측 지지부재(450)는 전극 이격부재(400)의 강도를 향상시킬 수 있다. 외측 지지부재(460)는 내측 지지부재(450)의 표면에 형성될 수 있다. 외측 지지부재(460)는 절연 재질의 소재를 포함할 수 있다. 외측 지지부재(460)는 플라스틱과 같은 절연 소재를 포함할 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.As shown in FIG. 4, the electrode spacing member 400 may include an inner support member 450 and the outer support member 460. The inner support member 450 may include a gal block or iron piece for concrete having a solid strength, but is not limited thereto. The inner support member 450 may improve the strength of the electrode spacing member 400. The outer support member 460 may be formed on the surface of the inner support member 450. The outer support member 460 may include an insulating material. The outer support member 460 may include an insulating material such as plastic, but is not limited thereto.

도 5에 도시된 바와 같이, 전극 이격부재(400)는 제1 지지부(410)와, 제2 지지부(430)를 포함할 수 있다. 제1 지지부(410)는 사각 플레이트 형상으로 형성될 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. 제2 지지부(430)는 하부로 갈수록 그 폭이 작아지도록 형성될 수 있다. As shown in FIG. 5, the electrode spacing member 400 may include a first support part 410 and a second support part 430. The first support part 410 may be formed in a rectangular plate shape, but is not limited thereto. The second support part 430 may be formed such that its width decreases toward the bottom.

제2 지지부(430)는 상부면의 폭보다 하부면의 폭이 작은 사다리꼴 형상일 수 있다. 제2 지지부(430)의 하부면은 전해연마 대상물의 바닥면과 접촉될 수 있다. 제2 지지부(430)의 하부면은 모서리가 뾰족한 전극 이격부재와 비해 전해연마 대상물(200)과의 접촉 면적이 넓기 때문에 음극 프레임(300)을 보다 효과적으로 지지할 수 있는 효과가 있다. 전해연마 대상물(200)의 바닥부에 홈 또는 홀이 형성될 경우, 제2 지지부(430)의 일부는 전해연마 대상물(200)의 홈 또는 홀에 끼워질 수 있다. The second support part 430 may have a trapezoidal shape in which the width of the lower surface is smaller than that of the upper surface. The lower surface of the second support part 430 may be in contact with the bottom surface of the electrolytic polishing object. The lower surface of the second support part 430 has an effect of more effectively supporting the cathode frame 300 because the contact area with the electrolytic polishing object 200 is wider than that of the electrode spacing member having sharp corners. When a groove or hole is formed in the bottom portion of the electrolytic polishing object 200, a part of the second support part 430 may be fitted into the groove or hole of the electrolytic polishing object 200.

도 6에 도시된 바와 같이, 전극 이격부재(400)는 제1 지지부(410)와, 제2 지지부(430)를 포함할 수 있다. 제1 지지부(410)는 사각 플레이트 형상으로 형성될 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. 제2 지지부(430)는 하부로 갈수록 그 폭이 작아지도록 형성될 수 있다. As shown in FIG. 6, the electrode spacing member 400 may include a first support part 410 and a second support part 430. The first support part 410 may be formed in a rectangular plate shape, but is not limited thereto. The second support part 430 may be formed such that its width decreases toward the bottom.

제2 지지부(430)는 하부가 둥근 모서리를 가지도록 형성될 수 있다. 제2 지지부(430)의 하부면은 전해연마 대상물(200)의 바닥면과 접촉될 수 있다. 제2 지지부(430)의 하부면은 전해연마 대상물(200)과 접촉 시 전해연마 대상물에 흠집을 내는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다. 전해연마 대상물(200)의 바닥부에 홈 또는 홀이 형성될 경우, 제2 지지부(430)의 일부는 전해연마 대상물(200)의 홈 또는 홀에 끼워질 수 있다.The second support part 430 may be formed such that the lower part has a rounded corner. The lower surface of the second support part 430 may be in contact with the bottom surface of the electrolytic polishing object 200. The lower surface of the second support part 430 has an effect of preventing the electrolytic polishing object from being scratched when it comes into contact with the electrolytic polishing object 200. When a groove or hole is formed in the bottom portion of the electrolytic polishing object 200, a part of the second support part 430 may be fitted into the groove or hole of the electrolytic polishing object 200.

제1 실시예에 따른 전극 이격부재(400)는 음극 프레임(300) 하부에 전극 이격부재(400)를 배치함으로써, 음극 프레임(300)을 별도의 거치대가 없는 전해연마 대상물(200)에 효과적으로 배치할 수 있다. In the electrode spacer member 400 according to the first embodiment, by disposing the electrode spacer member 400 under the cathode frame 300, the cathode frame 300 is effectively disposed on the electrolytic polishing object 200 without a separate holder. can do.

전해연마 대상물(200)이 도어와 같은 판 형상일 경우, 전극 이격부재(400)에 의해 음극 프레임(300)을 지지한 상태에서 전해연마 대상물(200)의 상부에 배치한 후, 전해 연마를 수행할 수 있다. 이어서, 음극 프레임(300)이 제거된 상태에서 전해연마 대상물(200)을 뒤집어 배치하고, 음극 프레임(300)을 전해연마 대상물의 상부에 재배치할 수 있다. 이어서, 전해연마 대상물(200)에 전해연마를 수행하면 설치 및 전해 연마에 걸리는 시간을 단축시킬 수 있는 효과가 있다.When the electrolytic polishing object 200 has a plate shape such as a door, the cathode frame 300 is supported by the electrode spacing member 400 and placed on the top of the electrolytic polishing object 200, and then electrolytic polishing is performed. can do. Subsequently, in a state in which the cathode frame 300 is removed, the electrolytic polishing object 200 is turned upside down, and the cathode frame 300 may be rearranged on the electrolytic polishing object. Subsequently, when electrolytic polishing is performed on the electrolytic polishing object 200, there is an effect of shortening the time required for installation and electropolishing.

상기에서는 전극 이격부재(400)를 전해연마 대상물(200)의 바닥부와 접촉되는 구조를 설명하였지만, 이와 다르게, 전극 이격부재(400)를 전해연마 대상물의 측벽부와 접촉되는 구조로 형성하여 음극 프레임을 전해연마 대상물의 연마면으로부터 이격시킬 수 있다. In the above, a structure in which the electrode spacing member 400 is in contact with the bottom portion of the electrolytic polishing object 200 has been described, but differently, the electrode spacing member 400 is formed in a structure in contact with the sidewall portion of the electrolytic polishing object to form a cathode. The frame can be separated from the polished surface of the electropolished object.

이하에서는 도 9 내지 도 12을 참조하여 다양한 실시예에 따른 전해연마 장치의 구조를 살펴보기로 한다.Hereinafter, a structure of an electrolytic polishing apparatus according to various embodiments will be described with reference to FIGS. 9 to 12.

도 9는 제2 실시예에 따른 전해연마 장치를 나타낸 단면도이다.9 is a cross-sectional view showing an electrolytic polishing apparatus according to a second embodiment.

도 9를 참조하면, 제2 실시예에 따른 전해연마 장치는 전해연마 대상물(200)과 전해액이 수용되는 수용공간이 내부에 마련된 전해조(100)와, 상기 전해연마 대상물(200)의 연마면의 일측에 배치된 음극 프레임(300)과, 상기 음극 프레임(300)의 일측에 배치되어 상기 음극 프레임(300)을 상기 전해연마 대상물(200)의 바닥면으로부터 이격시키는 전극 이격부재(400)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 9, in the electrolytic polishing apparatus according to the second embodiment, an electrolytic bath 100 in which an electrolytic polishing object 200 and an accommodation space for accommodating an electrolytic solution is provided therein, and a polishing surface of the electrolytic polishing object 200 A cathode frame 300 disposed on one side, and an electrode spacing member 400 disposed on one side of the cathode frame 300 to separate the cathode frame 300 from the bottom surface of the electrolytic polishing object 200 can do.

전해조(100)는 내부에 수용 공간이 마련된 박스 형상으로 형성될 수 있다. 전해조(100)는 원통형, 다각 박스 또는 링 형상을 포함할 수 있으나 그 형상은 한정되지 않는다. 전해조(100)의 내부에는 전해액(110)이 채워질 수 있다. 전해액(110)으로는 증류수(H2O), 황산(H₂SO₄)계, 인산(H₃PO₄)계, 크롬산계, 질산나트륨(NaNO₃), 염화나트륨(NaCl), 글리세린계로 구성된 그룹으로부터 선택된 적어도 하나의 물질을 혼합하여 이루어질 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. The electrolytic cell 100 may be formed in a box shape in which an accommodation space is provided therein. The electrolytic cell 100 may include a cylindrical shape, a polygonal box, or a ring shape, but the shape is not limited. An electrolyte solution 110 may be filled inside the electrolytic cell 100. The electrolyte 110 is selected from the group consisting of distilled water (H2O), sulfuric acid (H ₂ SO ₄ ), phosphoric acid (H ₃ PO ₄ ), chromic acid, sodium nitrate (NaNO ₃ ), sodium chloride (NaCl), and glycerin. It may be formed by mixing at least one material, but is not limited thereto.

전해조(100)의 내부에는 전해연마 대상물(200)이 수용될 수 있다. 전해연마 대상물(200)은 전해액(110) 내에 침지된다. 전해연마 대상물(200)의 연마면은 전해연마 대상물의 외측, 내측, 바닥면 등을 포함할 수 있다. 전해조(200)의 외측에는 정류기가 더 배치될 수 있다. 정류기는 전해연마 대상에 양극(+)의 전압을 인가시킬 수 있으며, 음극 프레임(300)에 음극(-)의 전압을 인가시킬 수 있다. 정류기는 전선 등에 의해 전해연마 대상물(200)과 전기적으로 연결될 수 있다.An electrolytic polishing object 200 may be accommodated in the electrolytic cell 100. The electrolytic polishing object 200 is immersed in the electrolyte solution 110. The polishing surface of the electrolytic polishing object 200 may include an outer surface, an inner surface, and a bottom surface of the electrolytic polishing object. A rectifier may be further disposed outside the electrolytic cell 200. The rectifier may apply the voltage of the anode (+) to the electrolytic polishing target, and may apply the voltage of the cathode (-) to the cathode frame 300. The rectifier may be electrically connected to the electrolytic polishing object 200 by an electric wire or the like.

음극 프레임(300)은 전해연마 대상물(200)의 내부 및 외부에 배치될 수 있다. 음극 프레임(300)은 전해연마 대상물(200)의 연마면과 일정 간격 이격 배치될 수 있다. 음극 프레임(300)은 전해연마 대상물(200)의 연마면인 내측, 외측 또는 바닥면을 선택적으로 또는 모든 면을 연마할 수 있다. 본 실시예에서는 설명의 편의를 위해 음극 프레임(300)이 전해연마 대상물(200)의 내측에 배치된 구조에 대해 설명하기로 한다. The cathode frame 300 may be disposed inside and outside the electrolytic polishing object 200. The cathode frame 300 may be disposed to be spaced apart from the polishing surface of the electrolytic polishing object 200 at a predetermined interval. The cathode frame 300 may selectively polish the inner, outer, or bottom surfaces of the electrolytic polishing object 200, or all surfaces thereof. In this embodiment, for convenience of explanation, a structure in which the cathode frame 300 is disposed inside the electrolytic polishing object 200 will be described.

음극 프레임(300)은 격자 구조의 판 형상을 포함할 수 있다. 음극 프레임(300)은 전기 전도도가 뛰어난 스테인리스 강 소재일 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. 음극 프레임(300)은 바(bar) 형상, L자 형상, 각 형상, 봉 형상, 와이어 메쉬, 익스펜디드 메탈, 라운드 형상의 플레이트일 수 있다. The cathode frame 300 may have a plate shape having a lattice structure. The cathode frame 300 may be a stainless steel material having excellent electrical conductivity, but is not limited thereto. The cathode frame 300 may be a bar shape, an L shape, each shape, a rod shape, a wire mesh, an expanded metal, or a round plate.

음극 프레임(300)은 제1 음극 플레이트(310)와 제2 음극 플레이트(320)를 포함할 수 있다. 제1 음극 플레이트(310)와 제2 음극 플레이트(320)가 격자 구조로 이루어져 형성될 수 있다. 제1 음극 플레이트(310)는 긴 막대 형상으로 형성될 수 있다. 제1 음극 플레이트(310)는 다수의 플레이트로 구성되어 상하 이격 배치되도록 구성될 수 있다. The cathode frame 300 may include a first cathode plate 310 and a second cathode plate 320. The first negative electrode plate 310 and the second negative electrode plate 320 may be formed in a lattice structure. The first cathode plate 310 may be formed in a long rod shape. The first cathode plate 310 may be configured to be formed of a plurality of plates and arranged to be spaced apart from each other up and down.

제2 음극 플레이트(320)는 긴 막대 형상으로 형성될 수 있다. 제2 음극 플레이트(320)는 다수의 플레이트로 구성되어 좌우로 이격 배치되도록 구성될 수 있다. 제1 음극 플레이트(310)와 제2 음극 플레이트(320)는 90도를 이루도록 배치될 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.The second cathode plate 320 may be formed in a long rod shape. The second cathode plate 320 may be configured to be formed of a plurality of plates and disposed to be spaced apart from each other to the left and right. The first cathode plate 310 and the second cathode plate 320 may be disposed to achieve 90 degrees, but are not limited thereto.

제1 음극 플레이트(310)와 제2 음극 플레이트(320)가 교차되는 영역은 나사 등에 의해 리벳 결합될 수 있다. 제1 음극 플레이트(310)와 제2 음극 플레이트(320)가 교차되는 영역은 C형 클램프에 의해 고정될 수도 있다.A region where the first negative plate 310 and the second negative plate 320 intersect may be riveted by screws or the like. The area where the first cathode plate 310 and the second cathode plate 320 cross may be fixed by a C-type clamp.

음극 프레임(300)은 전해연마 대상물(200)과 접촉되면 쇼트가 발생된다. 이를 방지하기 위해 음극 프레임(300)은 전해연마 대상물(200)의 측면 및 바닥면과 이격되도록 구성해야 한다. 전해연마 대상물(200)의 측면은 음극 프레임(300)의 제1 음극 플레이트(310)의 길이를 조절하여 전해연마 대상물(200)로부터 이격 배치시킬 수 있다.When the cathode frame 300 comes into contact with the electrolytic polishing object 200, a short circuit occurs. In order to prevent this, the cathode frame 300 must be configured to be spaced apart from the side surface and the bottom surface of the electrolytic polishing object 200. The side surface of the electropolishing object 200 may be spaced apart from the electropolishing object 200 by adjusting the length of the first cathode plate 310 of the cathode frame 300.

본 실시예에서는 음극 프레임(300)을 전해연마 대상물(200)의 바닥면으로부터 이격시키도록 전극 이격부재(400)가 마련될 수 있다.In this embodiment, the electrode spacer member 400 may be provided to separate the cathode frame 300 from the bottom surface of the electrolytic polishing object 200.

전극 이격부재(400)는 절연 재질로 형성될 수 있다. 전극 이격부재(400)는 음극 프레임(300)의 무게를 견딜 수 있으며 내산성이 강한 재질로 형성될 수 있다. 전극 이격부재(400)는 PVC, 고무, 우레탄 고무, 백그라이트 중 어느 하나를 포함할 수 있다. 전극 이격부재(400)는 절연 재질로 형성됨으로써, 음극 프레임(300)과 양극인 전해대상 대상물(200)과 쇼트되는 것을 방지할 수 있다. 전극 이격부재(400)의 형상은 하부로 갈수록 폭이 좁아지는 형상을 가질 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.The electrode spacing member 400 may be formed of an insulating material. The electrode spacing member 400 may withstand the weight of the cathode frame 300 and may be formed of a material having strong acid resistance. The electrode spacing member 400 may include any one of PVC, rubber, urethane rubber, and backlight. Since the electrode spacing member 400 is formed of an insulating material, it is possible to prevent a short circuit between the cathode frame 300 and the object 200 to be electrolyzed, which is an anode. The shape of the electrode spacing member 400 may have a shape in which the width becomes narrower toward the bottom, but is not limited thereto.

전극 이격부재(400)는 음극 프레임(300)의 일측에 결합될 수 있다. 전극 이격부재(400)는 최상위에 배치된 제1 음극 플레이트(310)의 일측에 결합될 수 있다. 전극 이격부재(400)는 최상위에 배치된 제1 음극 플레이트(310)와 중첩되어 배치될 수 있다. 전극 이격부재(400)는 C형 클램프(600)에 의해 최상위에 배치된 제1 음극 플레이트(310)에 고정될 수 있다.The electrode spacing member 400 may be coupled to one side of the cathode frame 300. The electrode spacing member 400 may be coupled to one side of the first cathode plate 310 disposed at the top. The electrode spacing member 400 may be disposed to overlap with the first cathode plate 310 disposed at the top. The electrode spacing member 400 may be fixed to the first cathode plate 310 disposed at the top by the C-shaped clamp 600.

여기서, 최상위에 배치된 제1 음극 플레이트(310)의 길이는 다른 제1 음극 플레이트(310)의 길이보다 길게 형성될 수 있다. 최상위에 배치된 제1 음극 플레이트(310)는 전해연마 대상물(200)의 측벽부의 상부에 배치될 수 있다. 전극 이격부재(400)는 전해연마 대상물(200)의 측벽부의 상부와 접촉될 수 있다. 전극 이격부재(400)는 전해연마 대상물(200)의 측벽부의 상부면을 따라 다수개가 배치될 수 있다.Here, the length of the first cathode plate 310 disposed at the top may be longer than that of the other first cathode plates 310. The first cathode plate 310 disposed at the top may be disposed above the sidewall portion of the electrolytic polishing object 200. The electrode spacing member 400 may be in contact with an upper portion of the sidewall portion of the electrolytic polishing object 200. A plurality of electrode spacing members 400 may be disposed along the upper surface of the sidewall portion of the electrolytic polishing object 200.

제2 실시예에 따른 전극 이격부재(400)는 음극 프레임(300)을 전해연마 대상물(200)의 바닥부로부터 이격시키면서 안정적으로 음극 프레임(300)을 지지할 수 있는 효과가 있다.The electrode spacing member 400 according to the second embodiment has an effect of stably supporting the cathode frame 300 while separating the cathode frame 300 from the bottom of the electrolytic polishing object 200.

또한, 제2 실시예에 따른 전극 이격부재(400)는 전해연마 대상물(200)의 바닥부와 접촉되지 않으므로, 전극 이격부재(400)와 전해연마 대상물(200)과의 접촉에 의한 손상을 방지할 수 있는 효과가 있다.In addition, since the electrode spacing member 400 according to the second embodiment does not contact the bottom of the electrolytic polishing target 200, damage caused by contact between the electrode spacing member 400 and the electrolytic polishing target 200 is prevented. There is an effect that can be done.

도 10은 제3 실시예에 따른 전해연마 장치를 나타낸 단면도이고, 도 11은 도 10의 음극 프레임이 지지대에 결합되는 모습을 나타낸 사시도이다.10 is a cross-sectional view showing an electrolytic polishing apparatus according to a third embodiment, and FIG. 11 is a perspective view showing a state in which the cathode frame of FIG. 10 is coupled to a support.

도 10을 참조하면, 제3 실시예에 따른 전해연마 장치는 전해연마 대상물(200)과 전해액(110)이 수용되는 수용공간이 내부에 마련된 전해조(100)와, 상기 전해연마 대상물(200)의 연마면의 일측에 배치된 음극 프레임(300)과, 상기 음극 프레임(300)의 일측에 결합된 지지대(700)와, 상기 지지대(700)의 일측에 결합되어 상기 음극 프레임(300)을 상기 전해연마 대상물의 바닥면으로부터 이격시키는 전극 이격부재(400)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 10, in the electrolytic polishing apparatus according to the third embodiment, an electrolytic cell 100 having a receiving space in which an electrolytic polishing object 200 and an electrolyte solution 110 are accommodated, and the electrolytic polishing object 200 A cathode frame 300 disposed on one side of the polishing surface, a support 700 coupled to one side of the cathode frame 300, and a support 700 coupled to one side of the support 700 to transmit the cathode frame 300 to the electrolysis. It may include an electrode spacer member 400 to be spaced apart from the bottom surface of the object to be polished.

전해조(100)의 내부에는 전해연마 대상물(200)이 수용될 수 있다. 전해연마 대상물(200)은 전해액(110) 내에 침지된다. 전해연마 대상물(200)의 연마면은 전해연마 대상물(200)의 외측, 내측, 바닥면 등을 포함할 수 있다. 전해조(100)의 외측에는 정류기가 더 배치될 수 있다. 정류기는 전해연마 대상에 양극(+)의 전압을 인가시킬 수 있으며, 음극 프레임(300)에 음극(-)의 전압을 인가시킬 수 있다. 정류기는 전선 등에 의해 전해연마 대상물(200)과 전기적으로 연결될 수 있다.An electrolytic polishing object 200 may be accommodated in the electrolytic cell 100. The electrolytic polishing object 200 is immersed in the electrolyte solution 110. The polishing surface of the electrolytic polishing object 200 may include an outer side, an inner side, and a bottom surface of the electrolytic polishing object 200. A rectifier may be further disposed outside the electrolyzer 100. The rectifier may apply the voltage of the positive electrode (+) to the electrolytic polishing target, and may apply the voltage of the negative electrode (-) to the negative electrode frame 300. The rectifier may be electrically connected to the electrolytic polishing object 200 by an electric wire or the like.

음극 프레임(300)은 전해연마 대상물(200)과 접촉되면 쇼트가 발생된다. 이를 방지하기 위해 음극 프레임(300)은 전해연마 대상물(200)의 측면 및 바닥면과 이격되도록 구성해야 한다. 전해연마 대상물(200)의 측면은 음극 프레임(300)의 제1 음극 플레이트(310)의 길이를 조절하여 전해연마 대상물로부터 이격 배치시킬 수 있다.When the cathode frame 300 comes into contact with the electrolytic polishing object 200, a short circuit occurs. In order to prevent this, the cathode frame 300 must be configured to be spaced apart from the side surface and the bottom surface of the electrolytic polishing object 200. The side surface of the electrolytic polishing object 200 may be spaced apart from the electrolytic polishing object by adjusting the length of the first negative electrode plate 310 of the negative electrode frame 300.

음극 프레임(300)은 전해연마 대상물(200)의 바닥면으로부터 이격시키도록 본 실시예에 따른 전극 이격부재(400)가 마련될 수 있다.The cathode frame 300 may be provided with an electrode spacing member 400 according to the present embodiment so as to be spaced apart from the bottom surface of the electrolytic polishing object 200.

전극 이격부재(400)는 절연 재질로 형성될 수 있다. 전극 이격부재(400)는 음극 프레임(300)의 무게를 견딜 수 있으며 내산성이 강한 재질로 형성될 수 있다. 전극 이격부재(400)는 PVC, 고무, 우레탄 고무, 백그라이트 중 어느 하나를 포함할 수 있다. 전극 이격부재(400)는 절연 재질로 형성됨으로써, 음극 프레임이 양극인 전해대상 대상물과 쇼트되는 것을 방지할 수 있다. 전극 이격부재(400)의 형상은 하부로 갈수록 폭이 좁아지는 형상을 가질 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.The electrode spacing member 400 may be formed of an insulating material. The electrode spacing member 400 may withstand the weight of the cathode frame 300 and may be formed of a material having strong acid resistance. The electrode spacing member 400 may include any one of PVC, rubber, urethane rubber, and backlight. Since the electrode spacer member 400 is formed of an insulating material, it is possible to prevent the cathode frame from being short-circuited with an object to be electrolyzed as an anode. The shape of the electrode spacing member 400 may have a shape in which the width becomes narrower toward the bottom, but is not limited thereto.

전극 이격부재(400)는 전해연마 대상물(200)의 측벽 상부에 배치될 수 있다. 음극 프레임(300)의 일측에는 음극 프레임(300)을 지지하기 위해 지지대(700)가 결합될 수 있다. 지지대(700)는 바(bar) 형상, L자 형상, 각 형상, 봉 형상, 와이어 메쉬, 익스펜디드 메탈, 라운드 형상으로 형성될 수 있다. 지지대(700)는 제1 음극 플레이트(310)와 평행하도록 배치될 수 있다. 지지대(700)는 제2 음극 플레이트(330)의 상부 일측과 결합될 수 있다. 지지대(700)는 제2 음극 플레이트(320)의 일부 또는 전체와 결합될 수 있다. 지지대(700)는 전해연마 대상물(200)의 측벽 상부에 배치되도록 길게 형성될 수 있다. 지지대(700)는 전해연마 대상물(200)의 일측과 연결될 수 있다. 지지대(700)는 금속 재질로 형성될 수 있다. 지지대(700)는 전해연마 대상물(200)과 연결되어 양극을 전달시키기 위한 양극 지지대일 수 있다.The electrode spacing member 400 may be disposed on the sidewall of the electrolytic polishing object 200. A support 700 may be coupled to one side of the cathode frame 300 to support the cathode frame 300. The support 700 may be formed in a bar shape, an L shape, each shape, a rod shape, a wire mesh, an expanded metal, or a round shape. The support 700 may be disposed parallel to the first cathode plate 310. The support 700 may be coupled to an upper side of the second cathode plate 330. The support 700 may be combined with a part or all of the second negative plate 320. The support 700 may be formed to be elongated to be disposed on the sidewall of the electrolytic polishing object 200. The support 700 may be connected to one side of the electrolytic polishing object 200. The support 700 may be formed of a metal material. The support 700 may be a positive electrode support for transmitting the positive electrode by being connected to the electrolytic polishing object 200.

지지대(700)와 음극 프레임(300) 사이에는 절연 플레이트(500)가 더 배치될 수 있다. 음극 프레임(300), 절연 플레이트(500) 및 지지대(700)는 중첩된 상태에서 C형 클램프(600)에 의해 견고하게 고정될 수 있다. 지지대(700)가 전해연마 대상물(200)과 연결되지 않게 되어 일반 지지대로의 역할을 하게 되면 음극 프레임(300)과 지지대(700) 사이의 절연 플레이트(500)는 제거될 수 있다. 또한, 지지대(700)가 일반 지지대로의 역할을 하게 되면 절연 재질의 소재로 형성될 수 있다.An insulating plate 500 may be further disposed between the support 700 and the cathode frame 300. The cathode frame 300, the insulating plate 500, and the support 700 may be firmly fixed by the C-shaped clamp 600 in an overlapped state. When the support 700 is not connected to the electrolytic polishing object 200 and thus serves as a general support, the insulating plate 500 between the cathode frame 300 and the support 700 may be removed. In addition, when the support 700 serves as a general support, it may be formed of an insulating material.

제3 실시예에 따른 전해연마 장치는 지지대를 이용하여 음극 프레임을 전해연마 대상물의 내측 및 외측에 효과적으로 설치할 수 있는 효과가 있다.The electrolytic polishing apparatus according to the third embodiment has an effect of effectively installing a cathode frame inside and outside an electrolytic polishing object using a support.

도 12는 제4 실시예에 따른 전해연마 장치를 나타낸 단면도이다. 제4 실시예에 따른 전해연마 장치는 음극 프레임이 전해연마 장치의 외측에 배치된 구조를 중심으로 설명한다.12 is a cross-sectional view showing an electrolytic polishing apparatus according to a fourth embodiment. The electrolytic polishing apparatus according to the fourth embodiment will be described centering on a structure in which a cathode frame is disposed outside the electrolytic polishing apparatus.

도 12를 참조하면, 제4 실시예에 따른 전해연마 장치는 전해연마 대상물(200)과 전해액(110)이 수용되는 수용공간이 내부에 마련된 전해조(100)와, 상기 전해연마 대상물(200)의 연마면의 외측에 배치된 음극 프레임(300)과, 상기 음극 프레임(300)의 일측에 결합된 지지대(700)와, 상기 지지대(700)의 일측에 결합되어 상기 음극 프레임(300)을 상기 전해연마 대상물의 바닥면으로부터 이격시키는 전극 이격부재(400)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 12, in the electrolytic polishing apparatus according to the fourth embodiment, an electrolytic cell 100 having a receiving space in which an electrolytic polishing object 200 and an electrolyte solution 110 are accommodated, and the electrolytic polishing object 200 The cathode frame 300 disposed on the outside of the polishing surface, a support 700 coupled to one side of the cathode frame 300, and a support 700 coupled to one side of the support 700 to transmit the cathode frame 300 to the electrolysis. It may include an electrode spacer member 400 to be spaced apart from the bottom surface of the object to be polished.

전해조(100)의 내부에는 전해연마 대상물(200)이 수용될 수 있다. 전해연마 대상물(200)은 전해액(110) 내에 침지된다. 전해연마 대상물(200)의 연마면은 전해연마 대상물(200)의 외측, 내측, 바닥면 등을 포함할 수 있다. 전해조(100)의 외측에는 정류기가 더 배치될 수 있다. 정류기는 전해연마 대상에 양극(+)의 전압을 인가시킬 수 있으며, 음극 프레임(300)에 음극(-)의 전압을 인가시킬 수 있다. 정류기는 전선 등에 의해 전해연마 대상물(200)과 전기적으로 연결될 수 있다.An electrolytic polishing object 200 may be accommodated in the electrolytic cell 100. The electrolytic polishing object 200 is immersed in the electrolyte solution 110. The polishing surface of the electrolytic polishing object 200 may include an outer side, an inner side, and a bottom surface of the electrolytic polishing object 200. A rectifier may be further disposed outside the electrolyzer 100. The rectifier may apply the voltage of the anode (+) to the electrolytic polishing target, and may apply the voltage of the cathode (-) to the cathode frame 300. The rectifier may be electrically connected to the electrolytic polishing object 200 by an electric wire or the like.

음극 프레임(300)은 전해연마 대상물(200)의 외부에 배치될 수 있다. 음극 프레임(300)은 전해연마 대상물(200)의 외측의 연마면과 일정 간격 이격 배치될 수 있다. The cathode frame 300 may be disposed outside the electrolytic polishing object 200. The cathode frame 300 may be disposed to be spaced apart from the polishing surface outside the electrolytic polishing object 200 at a predetermined interval.

전극 이격부재(400)는 절연 재질로 형성될 수 있다. 전극 이격부재(400)는 음극 프레임(300)의 무게를 견딜 수 있으며 내산성이 강한 재질로 형성될 수 있다. 전극 이격부재(400)는 PVC, 고무, 우레탄 고무, 백그라이트 중 어느 하나를 포함할 수 있다. 전극 이격부재(400)는 절연 재질로 형성됨으로써, 음극 프레임(300)이 양극인 전해대상 대상물(200)과 쇼트되는 것을 방지할 수 있다. 전극 이격부재(400)의 형상은 하부로 갈수록 폭이 좁아지는 형상을 가질 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.The electrode spacing member 400 may be formed of an insulating material. The electrode spacing member 400 may withstand the weight of the cathode frame 300 and may be formed of a material having strong acid resistance. The electrode spacing member 400 may include any one of PVC, rubber, urethane rubber, and backlight. Since the electrode spacing member 400 is formed of an insulating material, it is possible to prevent the cathode frame 300 from being short-circuited with the object 200 to be electrolyzed as an anode. The shape of the electrode spacing member 400 may have a shape in which the width becomes narrower toward the bottom, but is not limited thereto.

전극 이격부재(400)는 전해연마 대상물(200)의 측벽 상부에 배치될 수 있다. 음극 프레임(300)의 일측에는 음극 프레임(300)을 지지하기 위해 지지대(700)가 결합될 수 있다. The electrode spacing member 400 may be disposed on the sidewall of the electrolytic polishing object 200. A support 700 may be coupled to one side of the cathode frame 300 to support the cathode frame 300.

지지대(700)는 제1 지지대(710)와 제2 지지대(720)를 포함할 수 있다. 제1 지지대(710)는 전해연마 대상물(200)의 내측에 배치되는 음극 프레임(300)을 지지할 수 있다. 제2 지지대(720)는 제1 지지대(710)와 수직을 이루도록 배치될 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. 제2 지지대(720)는 바(bar) 형상, L자 형상, 각 형상, 봉 형상, 와이어 메쉬, 익스펜디드 메탈, 라운드 형상으로 형성될 수 있다. The support 700 may include a first support 710 and a second support 720. The first support 710 may support the cathode frame 300 disposed inside the electrolytic polishing object 200. The second support 720 may be disposed to be perpendicular to the first support 710, but is not limited thereto. The second support 720 may be formed in a bar shape, an L shape, each shape, a rod shape, a wire mesh, an expanded metal, or a round shape.

제2 지지대(720)에는 최외곽에 배치된 제2 음극 플레이트(330)의 상부 일측과 결합될 수 있다. 제2 지지대(720)는 제2 음극 플레이트(320)의 일부 또는 전체와 결합될 수 있다. The second support 720 may be coupled to an upper side of the second cathode plate 330 disposed at the outermost side. The second support 720 may be coupled to a part or all of the second cathode plate 320.

지지대(700)는 전해연마 대상물(200)과 연결되어 양극을 전달시키기 위한 양극 지지대일 수 있다. 이 경우, 제2 지지대(720)와 제2 음극 플레이트(330) 사이에는 절연 플레이트가 더 배치될 수 있다. 제2 음극 플레이트(330), 절연 플레이트 및 제2 지지대(720)는 중첩된 상태에서 C형 클램프(600)에 의해 견고하게 고정될 수 있다. 지지대(700)가 전해연마 대상물(200)과 연결되지 않게 되어 일반 지지대로의 역할을 하게 되면 제2 음극 플레이트(330)과 제2 지지대(720) 사이의 절연 플레이트는 제거될 수 있다. 또한, 지지대(700)가 일반 지지대로의 역할을 하게 되면 절연 재질의 소재로 형성될 수 있다.The support 700 may be a positive electrode support for transmitting the positive electrode by being connected to the electrolytic polishing object 200. In this case, an insulating plate may be further disposed between the second support 720 and the second cathode plate 330. The second cathode plate 330, the insulating plate, and the second support 720 may be firmly fixed by the C-shaped clamp 600 in an overlapped state. When the support 700 is not connected to the electrolytic polishing object 200 and thus serves as a general support, the insulating plate between the second negative electrode plate 330 and the second support 720 may be removed. In addition, when the support 700 serves as a general support, it may be formed of an insulating material.

제4 실시예에 따른 전해연마 장치는 지지대를 이용하여 음극 프레임을 전해연마 대상물의 내측 및 외측에 효과적으로 설치할 수 있는 효과가 있다.The electrolytic polishing apparatus according to the fourth embodiment has an effect of effectively installing the cathode frame inside and outside the electrolytic polishing object using a support.

상기에서는 도면 및 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허청구범위에 기재된 실시예의 기술적 사상으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 실시예는 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음은 이해할 수 있을 것이다.Although described above with reference to the drawings and embodiments, those skilled in the art will understand that the embodiments can be variously modified and changed without departing from the spirit of the embodiments described in the following claims I will be able to.

100: 전해조
200: 전해연마 대상물
300: 음극 프레임
310: 제1 음극 플레이트
320: 제2 음극 플레이트
400: 전극 이격부재
500: 절연 플레이트
600: C형 클램프
700: 지지대100: electrolyzer
200: electrolytic polishing object
300: cathode frame
310: first cathode plate
320: second cathode plate
400: electrode spacing member
500: insulation plate
600: C-type clamp
700: support

Claims

delete

In an electrode frame used in an electrolytic cell in which an electrolytic polishing object and an accommodation space for accommodating an electrolyte are provided,
A cathode frame disposed on one side of the polishing surface of the electrolytic polishing object; And
Includes; an electrode spacer member coupled to the cathode frame to separate the cathode frame from the electrolytic polishing object, wherein the electrolytic polishing object includes a sidewall portion,
The electrode spacer member includes a first electrode spacer member for supporting the cathode frame while contacting the bottom surface of the electrolytic polishing object,
The first electrode spacing member includes a plate-shaped first support portion, and a second support portion extending from the first support portion so as to decrease in width toward a lower portion, and a width greater than the first support portion from the first support portion. An electrode frame for electrolytic polishing comprising a second support portion extending small and supporting the cathode frame while the second support portion of the first electrode spacer member contacts a bottom surface of the electrolytic polishing object.

The method of claim 4,
An electrode frame for electrolytic polishing, wherein a portion of a side surface of the second support portion of the first electrode spacer member contacts the bottom surface of the electrolytic polishing object to support the cathode frame.

The method of claim 4,
An electrode frame for electrolytic polishing in which a tab hole is not disposed on a contact surface of a bottom surface of the electrolytic polishing object in contact with the first electrode spacer member.

An electrolytic polishing apparatus comprising an electrode frame for electrolytic polishing according to any one of claims 4 to 6.