KR101769264B1 - 무할로겐 수지 조성물 및 이를 사용하는 프리프레그와 인쇄 회로용 적층판 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 무할로겐 수지 조성물 및 이를 사용하는 프리프레그와 인쇄 회로용 적층판에 관한 것이다. 상기 무할로겐 수지 조성물은 알킬 페놀 에폭시수지; 벤즈옥사진 수지; 알킬 페놀 노볼락 경화제; 인 함유 난연제를 포함한다. 본 발명이 사용하는 알킬 페놀 에폭시수지의 분자 구조에는 비교적 많은 알킬기 분기쇄가 있어 그로 하여금 비교적 높은 유리 전이온도, 낮은 흡수성, 양호한 내열성을 가지하게 하는 동시에 우수한 유전성능을 가지게 하며; 벤즈옥사진 수지를 혼입함으로써 경화물의 유전상수, 유전 손실값과 흡수율을 더욱 낮출 수 있으며; 또한 알킬 페놀 노볼락을 경화제로 사용함으로써, 그 구조중에 비교적 많은 알킬기가 있으므로 유전성능이 우수하고 흡수성이 낮은 우세를 충분히 발휘한다. 이런 무할로겐 저 유전 수지 조성물을 사용하여 제조한 프리프레그, 인쇄 회로용 적층판은 낮은 유전상수, 낮은 유전 손실율, 낮은 흡수율, 높은 치수 안정성, 높은 내열성 및 양호한 난연성, 가공성능과 내화학성을 구비한다.

Description

무할로겐 수지 조성물 및 이를 사용하는 프리프레그와 인쇄 회로용 적층판 {HALOGEN-FREE RESIN COMPOSITION, AND PREPREG AND LAMINATED BOARD FOR PRINTED CIRCUIT USING SAME}
본 발명은 무할로겐 수지 조성물 및 이를 사용하는 프리프레그와 적층판에 관한 것이며, 구체적으로 낮은 유전상수(dielectric constant), 낮은 유전 손실율(dielectric loss factor), 낮은 흡수율, 높은 치수 안정성(dimensional stability), 높은 내열성 및 양호한 난연성, 가공성능, 내화학성 등 장점을 구비한다.
전통적인 인쇄 회로용 적층판은 일반적으로 브롬계 난연제를 사용하여 난연성을 실현하며, 특히 테트라브로모비스페놀 A형 에폭시수지(Tetrabromobisphenol-A Epoxy Resin)를 사용하는데 이와 같은 브롬화 에폭시 수지는 양호한 난연성을 구비하지만 그가 연소할 때 브롬화수소 가스를 생성한다. 또한 최근에는 브롬, 염소 등 할로겐을 함유하는 전자전기설비 페기물의 연소생성물에서 다이옥신(Dioxin), 디벤조퓨란(Dibenzofuran)등의 암유발 물질이 검출되어 브롬화 에폭시 수지의 응용은 제한을 받고 있다. 유럽연맹의 두가지 환경보호 지침인 "전기전자장비 폐기물처리 지침"과 "전기전자제품 유해물질 사용제한 지침"이 2006년 7월 1일부터 정식으로 시행되어, 업계에서 무할로겐 난연 동박적층판(Halogen free flame retardant copper clad laminate)에 대한 개발이 업계의 중점으로 되었고 각 동박적층판 제조업체에서는 적극적으로 각자의 무할로겐 난연 동박적층판을 출시하고 있다.
전자제품 정보처리의 고속화와 다기능화 및 응용 주파수의 지속적인 향상에 따라, 적층판 재료는 보다 높은 내열성이 요구되고, 이외에 보다 낮은 유전상수 및 유전손실값이 요구되므로, DK/Df를 낮추는 것은 이미 기판업자가 추구하는 초점으로 되었다. 전통적인 FR-4 재료는 보통 디시안디아미드(dicyandiamide)를 경화제로 사용하며, 이러한 경화제는 3급 반응 아민을 구비하며 양호한 공정 조작성을 가지지만, C-N 결합이 약하여 높은 온도에서 쉽게 분해되어 경화물의 열분해 온도가 낮게되므로 무연(Lead free) 제조공정에서의 내열성 요구를 만족할 수 없다. 이와 같은 배경하에서, 2006년 무연 공정의 광범위한 실시에 따라 업계 내에서는 페놀수지를 에폭시의 경화제로 사용하기 시작하였으며, 페놀수지는 높은 밀도의 벤젠고리 구조를 가지고 있으므로 에폭시와 경화한 후의 체계의 내열성은 우수하지만, 경화물의 유전성능은 악화되는 추세를 보였다.
CN101914265A에서는 무할로겐 인 함유 난연 고주파 에폭시수지류 조성물에 대하여 개시하였다. 상기 발명의 수지류 조성물은 다관능 에폭시수지를 사용하여 전통적인 브롬화 2관능 에폭시수지를 대체하였다. 또한 선형 페놀 수지를 경화제로 사용하여 전통적인 디시안디아미드를 대체하였다. 상기 에폭시수지류 조성물은 벤즈옥사진(Benzoxazine)형 에폭시수지, 테트라페놀 에탄 에폭시수지(Tetraphenol ethane epoxy resin), DOPO변성 페놀수지, 알킬변성 페놀수지, 이미다졸(Imidazole) 촉진제, 무기 충진제 및 무기 보조 난연 충진제(filler) 등으로 조성된다. 상기 에폭시수지류 조성물을 사용하여 제조한 인쇄 회로기판용 본딩시트와 동박적층판은 친환경적 난연성을 실현할 수 있을 뿐만아니라 우수한 유전성능을 구비하고 있으나, 본딩시트와 동박적층판의 흡수율은 0.3%~0.4%에 달하여 후속의 PCB제조공정에서 습기를 흡수하여 판이 파열되기 쉬우며, 또한 유전성능은 아주 일반적이여서 인쇄 회로 동박적층판 업계에서의 전자신호 전송의 고주파화 및 정보처리의 고속화 발전의 요구를 만족하기 어렵다.
종래기술의 단점에 대해, 본 발명은 신규의 무할로겐 저 유전 수지 조성물 및 이를 사용하는 프리프레그와 적층판을 제공하는 것을 목적으로 한다. 상기 수지 조성물을 사용하여 제조한 인쇄 회로용 적층판은 낮은 유전상수, 낮은 유전 손실율, 낮은 흡수율, 높은 치수 안정성, 높은 내열성 및 양호한 난연성, 가공성능, 내화학성 등 장점을 구비한다.
상기 목적을 실현하기 위하여 반복적인 연구를 진행한 결과, 본 발명 발명자는 알킬 페놀 에폭시수지를 벤즈옥사진 수지, 알킬 페놀 노볼락 경화제, 인 함유 난연제 및 기타 선택가능한 성분과 적당히 혼합한 조성물은 상기 목적을 달성할 수 있음을 발견하였다.
무할로겐 수지 조성물에 있어서, 아래와 같은 성분을 포함한다:
(A) 알킬 페놀 에폭시수지;
(B) 벤즈옥사진 수지;
(C) 알킬 페놀 노볼락 경화제;
(D) 인 함유 난연제.
본 발명에서 사용하는 알킬 페놀 에폭시수지의 분자 구조에는 비교적 많은 알킬기 분기쇄가 있어 그로 하여금 비교적 높은 유리 전이온도, 낮은 흡수성, 양호한 내열성을 가지하게 하는 동시에 우수한 유전성능을 가지게 하며; 벤즈옥사진 수지를 혼입함으로써 경화물의 유전상수, 유전 손실값과 흡수율을 더욱 낮출 수 있으며; 알킬 페놀 노볼락을 경화제로 함으로써, 그 구조중에 비교적 많은 알킬기가 있으므로 유전성능이 우수하고 흡수성이 낮은 우세를 충분히 발휘할 수 있었다.
본 발명은 상기 세가지 필수적 성분간의 상호 배합 및 상호 시너지 작용을 이용하는 동시에 인 함유 난연제를 첨가하여 상기와 같은 무할로겐 저 유전 수지 조성물을 얻었다. 무할로겐 저 유전 수지 조성물을 사용하여 제조한 프리프레그와 인쇄회로용 적층판은 낮은 유전상수, 낮은 유전 손실율, 낮은 흡수율, 높은 치수 안정성, 높은 내열성 및 양호한 난연성, 가공성능과 내화학성을 구비한다.
본 발명의 성분(A), 즉 알킬 페놀 에폭시수지는 경화 후의 수지 및 그를 사용하여 제조한 적층판이 필요되는 전기성능, 내습성, 내열성 및 역학성능을 향상시킬 수 있다. 성분(A), 성분(B), 성분(C) 및 성분(D)의 첨가량의 합을 100중량부 기준으로 할때, 상기 알킬 페놀 에폭시수지의 첨가량은 10~50중량부이며, 예를 들면 13 중량부, 16 중량부, 19 중량부, 22 중량부, 25 중량부, 28 중량부, 31 중량부, 34 중량부, 37 중량부, 40중량부, 43 중량부, 46 중량부 혹은 49 중량부이고, 20~50중량부인 것이 바람직하다.
본 발명에서는 알킬 페놀 에폭시수지에 대하여 상기 첨가량을 사용함으로써 경화물의 유전성능을 현저히 개선할 수 있을 뿐만 아니라 비교적 높은 접착력을 유지할 수 있다.
상기 알킬 페놀 에폭시수지는 아래와 같은 구조를 가지는 것이 바람직하며,
Figure 112016076022918-pct00001
상기 식에서, R1과 R2는 독립적으로 치환 또는 비치환된 탄소 원자수가 4~8인 직쇄 알킬기 혹은 분기쇄 알킬기이고, 바람직하게는 n-부틸기 혹은 n-옥틸기이며, n는 2~20사이의 정수이며 예를 들면 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18 혹은 19이다.
본 발명에서 n-부틸기 혹은 n-옥틸기는 구조가 정연하고, 유전성능과 내열성이 비교적 좋다.
성분(A), 성분(B), 성분(C) 및 성분(D)의 첨가량의 합을 100중량부 기준으로 할때, 상기 벤즈옥사진 수지의 첨가량은 10~70중량부인 것이 바람직하며, 예를 들면 13 중량부, 16 중량부, 19 중량부, 22 중량부, 25 중량부, 28 중량부, 31 중량부, 34 중량부, 37 중량부, 40중량부, 43 중량부, 46 중량부, 49 중량부, 52 중량부, 55 중량부, 58 중량부, 61 중량부, 64 중량부, 67 중량부 혹은 69 중량부이다.
본 발명에서는 벤즈옥사진 수지가 상기 첨가량을 선택함으로써 경화물의 내열성과 강성을 향상할 수 있으며 흡수율을 낮출 수 있다.
상기 벤즈옥사진 수지는 비스페놀 A형 벤즈옥사진 수지, 비스페놀 F형 벤즈옥사진 수지, MDA(4,4-디아미노디페닐메탄, 4,4-diaminodiphenylmethane)형 벤즈옥사진 수지, 페놀프탈레인(phenolphthalein)형 벤즈옥사진 수지 또는 다이사이클로펜타다이엔(dicyclopentadiene)형 벤즈옥사진 수지 중 임의의 1종 또는 적어도 2종의 혼합물인 것이 바람직하다. 상기 혼합물은 예를 들면 비스페놀 A형 벤즈옥사진 수지와 비스페놀 F형 벤즈옥사진 수지의 혼합물; MDA형 벤즈옥사진 수지와 페놀프탈레인형 벤즈옥사진 수지의 혼합물; 다이사이클로펜타다이엔형 벤즈옥사진 수지와 비스페놀 A형 벤즈옥사진 수지의 혼합물; 비스페놀 F형 벤즈옥사진 수지, MDA형 벤즈옥사진 수지, 페놀프탈레인형 벤즈옥사진 수지와 다이사이클로펜타다이엔형 벤즈옥사진의 혼합물이다.
성분(A), 성분(B), 성분(C) 및 성분(D)의 첨가량의 합을 100중량부 기준으로 할때, 상기 알킬 페놀 노볼락 경화제의 첨가량은 5~25 중량부인 것이 바람직하며, 예를 들면 6 중량부, 8 중량부, 10중량부, 12 중량부, 14 중량부, 16 중량부, 18 중량부, 20중량부, 22 중량부 혹은 24 중량부이다.
본 발명에서는 알킬 페놀 노볼락 경화제에 대하여 상기 첨가량을 선택함으로써 경화물의 유전성능을 개선할 수 있을 뿐만 아니라 비교적 높은 접착력을 유지할 수 있다.
상기 알킬 페놀 노볼락 경화제는 아래와 같은 구조를 가지는 것이 바람직하며,
Figure 112016076022918-pct00002
상기 식에서, R3, R4와 R5는 독립적으로 치환 또는 비치환된 탄소 원자수가 4~8인 직쇄 알킬기 혹은 분기쇄 알킬기이고, 바람직하게는 n-부틸기 혹은 n-옥틸기이며, n1는 2~20사이의 정수 예를 들면 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18 혹은 19이다.
인 함유 난연제의 첨가는 수지 조성물로 하여금 난연특성을 가지게 하며 UL 94 V-0의 요구에 부합되게 하는 동시에, 벤즈옥사진 수지와 인 함유 난연제는 시너지 난연 효과가 있어 경화물 난연성이 UL94 V-0에 도달하는데 필요되는 인 함량을 감소하였고 흡수율을 더욱 낮추었다. 성분(A), 성분(B)와 성분(C)의 첨가량의 합을 100중량부 기준으로 할때, 상기 인 함유 난연제의 첨가량은 5~50중량부인 것이 바람직하며, 예를 들면 9 중량부, 11 중량부, 13 중량부, 16 중량부, 19 중량부, 22 중량부, 25 중량부, 28 중량부, 31 중량부, 34 중량부, 37 중량부, 40중량부, 43 중량부, 46 중량부 혹은 49 중량부이다.
상기 인 함유 난연제는 트리스(2,6-디메틸페닐)포스핀(tris(2,6-dimethylphenyl)phosphine), 10-(2,5-디하이드록시페닐)-9,10-디하이드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드(10-(2,5-dihydroxyphenyl)-9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide), 2,6-비스(2,6-디메틸페닐)포스피노벤젠(2,6-bis(2,6-dimethylphenyl)phosphinobenzene) 혹은 10-페닐-9,10-디하이드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드(10-phenyl-9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide), 페녹시 포스파젠 화합물(phenoxy phosphazene compound), 포스페이트(phosphate ester) 혹은 폴리포스페이트(polyphosphate ester) 중에서 선택되는 임의의 1종 또는 적어도 2종의 혼합물인 것이 바람직하다.
상기 무할로겐 수지 조성물은 경화 촉진제를 더 포함하여 수지를 경화시키고 또한 수지 경화 속도를 가속화시키는 것이 바람직하다. 성분(A), 성분(B), 성분(C)와 성분(D)의 첨가량의 합을 100중량부 기준으로 할때 상기 경화 촉진제의 첨가량은 0.05~1중량부이며, 예를 들면 0.08 중량부, 0.1 중량부, 0.15 중량부, 0.2 중량부, 0.25 중량부, 0.3 중량부, 0.35 중량부, 0.4 중량부, 0.45 중량부, 0.5 중량부, 0.55 중량부, 0.6 중량부, 0.65 중량부, 0.7 중량부, 0.75 중량부, 0.8 중량부, 0.85 중량부, 0.9 중량부 또는 0.95 중량부이다.
상기 경화 촉진제는 이미다졸류 및/또는 피리딘(pyridine)류 경화 촉진제 중에서 선택되는 임의의 1종 또는 적어도 2종의 혼합물인것이 바람직하며, 또한 2-메틸이미다졸(2-methylimidazole), 2-에틸-4-메틸이미다졸(2-ethyl-4-methylimidazole), 2-페닐이미다졸(2-Phenylimidazole), 2-운데실이미다졸(2-undecylimidazole), 트리에틸아민(triethylamine), 벤질디메틸아민(benzyldimethylamine), 디메틸아미노피리딘(dimethylaminopyridine) 중에서 선택되는 임의의 1종 또는 적어도 2종의 혼합물인 것이 더욱 바람직하다.
상기 무할로겐 수지 조성물은 충진제를 더 포함하며, 상기 충진제는 유기 충진제 및/또는 무기 충진제인 것이 바람직하고, 주로 조성물의 일부 물성 효과의 조절에 사용되는데, 예를 들면 열팽창 계수(CTE)를 낮추고, 흡수율을 낮추며, 열전도율을 높이는 등에 사용된다.
바람직하게, 성분(A), 성분(B), 성분(C)와 성분(D)의 첨가량의 합을 100중량부 기준으로 할때 상기 충진제의 첨가량은 0~100중량부이나 0은 포함하지 않으며, 더욱 바람직하게는 0~50중량부이나 0은 포함하지 않는다. 상기 충진제의 첨가량은 예를 들면 0.5 중량부, 1 중량부, 5 중량부, 10중량부, 15 중량부, 20중량부, 25 중량부, 30중량부, 35 중량부, 40중량부, 45 중량부, 50중량부, 55 중량부, 60중량부, 65 중량부, 70중량부, 75중량부, 80중량부, 85 중량부, 90중량부 혹은 95 중량부이다.
상기 무기 충진제는 용융 실리카, 결정형 실리카, 구형 실리카, 중공 실리카(hollow silica), 수산화알루미늄, 산화알루미늄, 활석 분말, 질화알루미늄, 질화붕소, 탄화규소, 황산바륨, 티탄산바륨, 티탄산스트론튬, 탄산칼슘, 규산칼슘, 운모 혹은 유리섬유 분말 중에서 선택하는 임의의 1종 또는 적어도 2종의 혼합물인 것이 바람직하다. 상기 혼합물은 예를 들면 용융 실리카와 결정형 실리카의 혼합물; 구형 실리카와 중공 실리카의 혼합물; 수산화알루미늄과 산화알루미늄의 혼합물; 활석 분말과 질화알루미늄의 혼합물; 질화붕소와 탄화규소의 혼합물; 황산바륨과 티탄산바륨의 혼합물; 티탄산스트론튬과 탄산칼슘의 혼합물; 규산칼슘, 운모와 유리섬유 분말의 혼합물; 용융 실리카, 결정형 실리카와 구형 실리카의 혼합물; 중공 실리카, 수산화알루미늄과 산화알루미늄의 혼합물; 활석 분말, 질화알루미늄과 질화붕소의 혼합물; 탄화규소, 황산바륨과 티탄산바륨의 혼합물; 티탄산스트론튬, 탄산칼슘, 규산칼슘, 운모와 유리섬유 분말의 혼합물이다.
상기 유기 충진제는 폴리테트라플루오로에틸렌 분말(Polytetrafluoroethylene powder), 폴리페닐렌 설파이드(polyphenylene sulfide) 혹은 폴리에테르술폰 분말(polyether sulfone powder) 중에서 선택되는 임의의 1종 혹은 적어도 2종의 혼합물인 것이 바람직하다. 상기 혼합물은 폴리테트라플루오로에틸렌 분말과 폴리페닐렌 설파이드의 혼합물; 폴리에테르술폰 분말과 폴리테트라플루오로에틸렌 분말의 혼합물; 폴리페닐렌 설파이드와 폴리에테르술폰 분말의 혼합물; 폴리테트라플루오로에틸렌 분말, 폴리페닐렌 설파이드와 폴리에테르술폰 분말의 혼합물이다.
상기 충진제는 실리카(silicon dioxide)이며, 충진제의 중위입경(the median of the particle diameter)은 1~15㎛인 것이 바람직하고, 충진제의 중위입경이 1~10㎛인 것이 더욱 바람직하며, 상기 입경 구간의 충진제는 양호한 분산성을 구비한다.
본 발명에 따른 "포함"은, 상기 성분 외에도 상기 할로겐 비함유 수지 조성물에 서로 다른 특성을 부여하는 기타 성분을 더 포함할 수 있음을 의미한다. 또한, 본 발명에 따른 "포함"은, 밀폐식인 "은" 또는 "……으로 구성"으로 대체할 수도 있다.
예를 들면 상기 무할로겐 수지 조성물은 각종 첨가제를 함유할 수 있으며, 구체적인 예로는 항산화제, 열안정제, 정전기 방지제, 자외선 흡수제, 안료, 착색제 또는 윤활제 등을 들 수 있다. 이러한 각종 첨가제는 단독으로 사용할 수 있고 또한 2종 혹은 2종 이상을 혼합하여 사용할 수도 있다.
본 발명 수지 조성물의 일반적인 제조방법은 아래와 같다: 먼저 고형물을 넣고, 그 다음 액상 용매를 추가하며 고형물이 완전히 용해할 때까지 교반한 후, 액상 수지와 경화 촉진제를 추가하고 계속 교반하여 균일화시키면 되고 마지막으로 용매를 사용하여 용액의 고체 함량이 65%~75%로 되게 조절하여 접착액(varnish)를 얻는다.
본 발명의 다른 한 목적은 프리프레그를 제공하는 것이며, 이는 보강재 및 함침 건조를 거친 후 그 위에 부착되는 상기와 같은 무할로겐 수지 조성물을 포함한다.
예시적인 보강재로는 부직포 및/또는 기타 직물일 수 있으며, 예를 들면 천연섬유, 유기합성섬유 및 무기섬유일 수 있다.
상기 접착액을 사용하여 유리직물 등 직물 혹은 유기직물과 같은 보강재를 함침하고, 함침된 보강재를 155℃의 오븐에서 5-10분간 가열 건조하면 프리프레그를 얻을 수 있다.
본 발명의 또 다른 목적은 적층판을 제공하는 것이며, 이는 상기와 같은 프리프레그를 적어도 1장 포함한다.
본 발명의 또 다른 목적은 금속박적층판을 제공하는 것이며, 이는 적어도 1장의 상기와 같은 프리프레그 및 겹친 프리프레그의 일측 혹은 양측에 커버되는 금속박을 포함하며, 가열 가압 성형을 통해 제조된다.
상기 금속박적층판은 상기와 같은 프리프레그 10장과 2장의 1온스(35㎛ 두께)의 금속박을 겹쳐 핫 프레스(hot press)로 적층하여 금속박적층판으로 만든다. 상기의 적층은 아래와 같은 요구를 만족하여야 한다: ① 적층의 승온 속도는 재료온도가 80-120℃일 때 보통 1.5-2.5℃/min으로 제어하여야 하며; ② 적층의 압력설정은 외층 재료온도가 120-150℃일 때 풀 압력을 가하며 풀 압력의 압력은 350psi좌우이며; ③ 경화할 때 재료온도를 190℃로 제어하며 90min 보온한다. 또한 상기 금속박은 동박, 니켈박, 알루미늄박 및 SUS박 등이며, 그 재질은 이에 한정되지 않는다.
본 발명은 종래 기술에 비해 아래와 같은 장점을 가진다.
① 본 발명에 따른 무할로겐 저 유전 수지 조성물은 알킬 페놀 에폭시수지를 조성성분의 일종으로 사용하며, 상기 에폭시수지는 유리 전이온도가 높고 흡수율이 낮으며 내열성이 좋은 등 장점을 가지는 외에 우수한 유전성능도 가지며; ② 벤즈옥사진 수지를 혼입함으로써 경화물의 유전상수, 유전손실값, 흡수율을 더 낮출 수 있으며; 또한 벤즈옥사진 수지와 인 함유 난연제는 시너지 난연 효과가 있으므로 경화물 난연성이 UL 94 V-0에 도달하는데 필요되는 인 함량을 감소할 수 있고 흡수율을 더욱 낮출 수 있으며; ③ 본 발명의 무할로겐 저 유전 수지 조성물은 알킬 페놀 노볼락을 경화제로 함으로써, 그 구조중에 비교적 많은 알킬기가 있어 유전성능이 우수하고 흡수성이 낮은 우세를 충분히 발휘하였으며; ④ 상기 수지 조성물을 사용하여 제조한 프리프레그, 인쇄 회로용 적층판은 낮은 유전상수, 낮은 유전 손실율, 낮은 흡수율, 높은 내열성, 높은 치수 안정성 및 양호한 난연성, 가공성능과 내화학성 등 장점을 구비한다.
이어서 본 발명의 기술방안에 대하여 구체적인 실시형태를 통하여 진일보로 설명한다.
상기 제조한 인쇄회로용 적층판(프리프레그 10장)에 대하여 유리 전이온도, 유전상수, 유전 손실율, 굽힘강도(bending strength), 흡수성, 내열성, 난연성 등 성능을 테스트하며, 아래와 같은 실시예로 더욱 상세하게 설명을 진행한다.
본 발명의 실시예를 아래와 같이 상세히 설명하지만, 본 발명은 실시예의 범위에만 한정되는 것은 아니다. 특별한 설명이 없을 경우 "부"는 "중량부"를 나타내고, "%"는 "중량%"를 나타낸다.
(A) 에폭시수지
(A-1) 알킬 페놀 에폭시수지
KES-7595 (한국 KOLON 상품명)
(A-2)비스페놀 A 노볼락 에폭시수지
EPR627MEK80 (미국 Hexion 상품명)
(B) 벤즈옥사진 수지
LZ 8290H62 (HUNTSMAN 상품명)
(C) 경화제
(C-1) 알킬 페놀 노볼락 경화제
KPT-F1350E (한국 KOLON 상품명)
(C-2) 선형 노볼락 경화제
2812 (한국 MOMENTIVE 상품명)
(D) 인 함유 난연제
DOW XZ92741(미국 DOW 상품명)
(E) 2-페닐이미다졸(일본 시코쿠화성)
(F) 충진제
구형 실리카 미분말(평균입경이 1 내지 10㎛, 순도가 99%이상)
표 1. 각 실시예의 배합 조성 및 그 물성 데이터
Figure 112016076022918-pct00003
표 2. 각 비교예의 배합 조성 및 그 물성 데이터
Figure 112016076022918-pct00004
상기 특성의 테스트 방법은 아래와 같다:
(a) 유리 전이온도(Tg): 시차주사 열량측정법(DSC)에 근거하여, IPC-TM-650 2.4.25에서 규정한 DSC방법에 따라 측정을 진행한다.
(b) 유전상수, 유선 손실율
스트립 라인을 사용하는 공진법에 근거하여, IPC-TM-650 2.5.5.5에 따라 1GHz에서의 유전상수, 유전 손실율을 측정한다.
(c) 굽힘강도
IPC-TM-650 2.4.4의 방법에 따라 진행하며, 실온에서 부하를 소정의 치수와 형상의 샘플에 가하여 측정을 진행한다.
(d) 흡수성
IPC-TM-650 2.6.2.1의 방법에 따라 측정을 진행한다.
(e) 내 침적 납땜성(solder dipping resistance)
IPC-TM-650 2.4.13.1에 따라 층간박리 및 블리스터링(delamination and blistering) 시간을 관찰한다.
(f) 난연소성(flame retardancy)
UL 94 수직 연소법에 의하여 측정한다.
표1과 표2의 물성 데이터로부터 알다시피, 비교예1에서는 알킬 페놀 에폭시수지를 사용하므로 알킬 페놀 노볼락 경화제와 경화될 때 유전성능은 좋으나, 흡수성이 높고 굽힘강도가 낮으며 내열성이 떨어지며; 비교예2에서는 비스페놀 A 노볼락 에폭시수지를 사용하여 벤즈옥사진 수지, 알킬 페놀 노볼락 경화제와 동시 경화시키며, 비교예3에서는 알킬 페놀 에폭시수지를 사용하여 벤즈옥사진 수지, 선형 노볼락 경화제와 동시 경화시킨다. 알킬 페놀 에폭시수지와 알킬 페놀 노볼락 경화제 중 하나만 존재할 때 경화물의 유전성능은 나쁘며 유전상수과 유전 손실은 모두 높은 편이다. 실시예 1~5는 알킬 페놀 에폭시수지를 사용하여 벤즈옥사진 수지와 알킬 페놀 노볼락 경화제와 동시 경화시킨 후 얻은 적층판은 우수한 유전성능, 낮은 흡수율, 높은 굽힘강도와 높은 내열성을 가진다.
이로부터 알다시피, 알킬 페놀 에폭시수지, 벤즈옥사진 수지와 알킬 페놀 노볼락 경화제 이 삼자가 동시에 존재할 때만 세가지 성분간의 상호 시너지 작용에 의하여 종합성능이 우수한 적층판을 얻을 수 있다. 비교예 1~3에서는 각각 벤즈옥사진 수지, 알킬 페놀 에폭시수지 및 알킬 페놀 노볼락 경화제를 사용하지 않았기에 비교예1~3에서의 적층판의 종합성능은 실시예 1~5에서의 적층판보다 현저히 떨어진다.
따라서, 일반적인 무할로겐 적층판과 비교할 경우, 본 발명의 인쇄 회로용 적층판은 보다 우수한 유전성능, 내습성과 치수 안정성을 구비하므로 고밀도 인터커넥터(HDI, high density interconnector) 분야에 적용된다. 또한 본 발명은 벤즈옥사진 수지와 인 함유 난연제의 시너지 특성을 충분히 이용하였으며 할로겐 함량은 JPCA 무할로겐 표준의 요구범위내에서 난연성시험 UL94 중의 V-0표준에 도달할 수 있어 친환경 효과가 있다.
상기 진술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예는 본 분야의 통상의 기술자들에게 있어서 본 발명의 기술방안과 기술구상에 따라 기타 다양한 해당 변화 및 변형을 가질수 있으며, 또한 이런 변화 및 변형은 모두 본 발명의 청구범위의 보호범위에 속하여야 한다.
출원인은, 본 발명은 상기 실시예를 통해 본 발명의 상세한 구성을 설명하였으나, 본 발명은 상기 상세한 구성에 한정되지 않으며, 즉 본 발명은 상기 상세한 구성에 따라야만 실시할 수 있는 것이 아님을 선언한다. 본 분야의 당업자는 본 발명에 대한 그 어떤 개량과, 본 발명 제품의 각 원료의 등가 교체 및 보조 성분의 첨가, 구체적 방식의 선택 등은 모두 본 발명의 보호 범위와 공개 범위에 속함을 명백히 알 것이다.

Claims (18)

  1. 성분(A), 성분(B), 성분(C) 및 성분(D)의 첨가량의 합을 100중량부 기준으로 할 때,
    (A) 알킬 페놀 에폭시수지 10~50중량부;
    (B) 벤즈옥사진 수지 10~70중량부;
    (C) 알킬 페놀 노볼락 경화제 5~25 중량부;
    (D) 인 함유 난연제 5~50 중량부;
    를 포함하고,
    상기 알킬 페놀 에폭시수지는 아래와 같은 구조를 가지며,
    Figure 112017027265914-pct00007

    식에서, R1과 R2는 독립적으로 치환 또는 비치환된 탄소 원자수가 4~8인 직쇄 알킬기 혹은 분기쇄 알킬기이고, n는 2~20사이의 정수인 것을 특징으로 하는 무할로겐 수지 조성물.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 제1항에 있어서,
    상기 벤즈옥사진 수지는 비스페놀 A형 벤즈옥사진 수지, 비스페놀 F형 벤즈옥사진 수지, MDA형 벤즈옥사진 수지, 페놀프탈레인형 벤즈옥사진 수지 또는 다이사이클로펜타다이엔형 벤즈옥사진 수지 중에서 선택되는 임의의 1종 또는 적어도 2종의 혼합물인 것을 특징으로 하는 무할로겐 수지 조성물.
  6. 삭제
  7. 제1항에 있어서,
    상기 알킬 페놀 노볼락 경화제는 아래와 같은 구조를 가지며,
    Figure 112017027265914-pct00008

    식에서, R3, R4와 R5는 독립적으로 치환 또는 비치환된 탄소 원자수가 4~8인 직쇄 알킬기 혹은 분기쇄 알킬기이고, n1는 2~20사이의 정수인 것을 특징으로 하는 무할로겐 수지 조성물.
  8. 삭제
  9. 제1항에 있어서,
    상기 인 함유 난연제는 트리스(2,6-디메틸페닐)포스핀, 10-(2,5-디하이드록시페닐)-9,10-디하이드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드, 2,6-비스(2,6-디메틸페닐)포스피노벤젠 혹은 10-페닐-9,10-디하이드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드, 페녹시 포스파젠 화합물, 포스페이트 혹은 폴리포스페이트 중에서 선택되는 임의의 1종 또는 적어도 2종의 혼합물인 것을 특징으로 하는 무할로겐 수지 조성물.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 무할로겐 수지 조성물은 경화 촉진제를 더 포함하며, 성분(A), 성분(B), 성분(C)와 성분(D)의 첨가량의 합을 100중량부 기준으로 할때, 상기 경화 촉진제의 첨가량은 0.05~1중량부인 것을 특징으로 하는 무할로겐 수지 조성물.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 경화 촉진제는 이미다졸류 및/또는 피리딘류 경화 촉진제 중에서 선택되는 임의의 1종 또는 적어도 2종의 혼합물인 것을 특징으로 하는 무할로겐 수지 조성물.
  12. 제1항에 있어서,
    상기 무할로겐 수지 조성물은 충진제를 더 포함하며, 상기 충진제는 유기 충진제 및/또는 무기 충진제인 것을 특징으로 하는 무할로겐 수지 조성물.
  13. 제12항에 있어서,
    성분(A), 성분(B), 성분(C)와 성분(D)의 첨가량의 합을 100중량부 기준으로 할 때, 상기 충진제의 첨가량은 0~100중량부이나 0은 포함하지 않는 것을 특징으로 하는 무할로겐 수지 조성물.
  14. 제12항에 있어서,
    상기 무기 충진제는 용융 실리카, 결정형 실리카, 구형 실리카, 중공 실리카, 수산화알루미늄, 산화알루미늄, 활석 분말, 질화알루미늄, 질화붕소, 탄화규소, 황산바륨, 티탄산바륨, 티탄산스트론튬, 탄산칼슘, 규산칼슘, 운모 혹은 유리섬유 분말 중에서 선택하는 임의의 1종 또는 적어도 2종의 혼합물인 것을 특징으로 하는 무할로겐 수지 조성물.
  15. 제12항에 있어서,
    상기 유기 충진제는 폴리테트라플루오로에틸렌 분말, 폴리페닐렌 설파이드 혹은 폴리에테르술폰 분말 중에서 선택되는 임의의 1종 혹은 적어도 2종의 혼합물인 것을 특징으로 하는 무할로겐 수지 조성물.
  16. 제12항에 있어서,
    상기 충진제는 실리카이며, 충진제의 중위입경은 1~15㎛인 것을 특징으로 하는 무할로겐 수지 조성물.
  17. 보강재, 및 함침 건조후 상기 보강재 위에 부착되는 청구항 제1항, 제5항, 제7항 및 제9항 내지 제16항 중에서 선택되는 어느 한 항에 따른 무할로겐 수지 조성물을 포함하는 것을 특징으로 하는 프리프레그.
  18. 청구항 제17항에 기재된 프리프레그를 적어도 1장 포함하는 것을 특징으로 하는 적층판.
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