KR101766371B1 - 손톱 미용기 - Google Patents

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KR101766371B1
KR101766371B1 KR1020150008239A KR20150008239A KR101766371B1 KR 101766371 B1 KR101766371 B1 KR 101766371B1 KR 1020150008239 A KR1020150008239 A KR 1020150008239A KR 20150008239 A KR20150008239 A KR 20150008239A KR 101766371 B1 KR101766371 B1 KR 101766371B1
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허윤성
황윤석
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    • A45D29/11—Polishing devices for nails
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Abstract

손톱 미용기는 다수의 돌출부 또는 함몰부를 갖는 플레이트 층과 돌출부의 상면 또는 함몰부를 제외한 플레이트 층 표면에 결합되는 금속 또는 금속화합물 층을 구비한다.

Description

손톱 미용기{Nail Polisher}
본 발명은 손톱 미용기에 관한 것으로, 상세하게는 유리, 세라믹, 금속 등의 일면 또는 양면을 에칭하여 돌기부나 함몰부를 형성시킨 손톱 미용기에 관한 것이다.
손톱 미용기는 길게 자란 손톱 끝이나 표면을 연마하여 손질하거나 광택을 내는 기구를 말한다.
손톱 미용기의 제조는 주로 금속판 또는 플라스틱을 샌딩 또는 화학적 부식을 이용하여 왔다. 그런데, 샌딩 가공으로 요철을 형성하는 방법은 일정하고 규칙적인 가공 면을 얻는데 한계가 있고, 화학적 부식을 이용하는 방법은 원하는 강도를 갖기가 어렵다.
이러한 문제를 해결하기 위하여, 특허공개 2014-0128932호는 유리 소재의 플레이트에 포토리소그라피 방법으로 절삭 돌기를 정밀하게 형성하는 방법을 제시하고 있다.
그런데, 특허공개 2014-0128932호는 유리에 깊고 정밀한 절삭 돌기를 양각 형성함으로써 손톱 연마 기능을 개선하기는 하였으나, 유리 소재의 특성상 절삭 돌기의 상단 모서리가 부서질 수 있어 장시간 사용하는데 어려움이 따를 수 있다. 또한, 부서진 유리 파티클은 피부에 미세 상처를 입힐 수도 있다.
본 발명은 이러한 종래기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로,
첫째, 손톱 미용기의 표면 강도를 높이고,
둘째, 손톱 미용기에서 파티클이 생기는 것을 최소화하며,
셋째, 손톱 절삭 성능이 높은, 손톱 미용기 및 그 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
이러한 목적을 달성하기 위한 손톱 미용기는 플레이트 층, 제1 금속 또는 금속화합물 층을 포함하여 구성할 수 있다.
플레이트 층은 다수의 돌출부 또는 다수의 함몰부를 가질 수 있다.
제1 금속 또는 금속화합물 층은 돌출부의 상면 또는 함몰부를 제외한 플레이트 층의 표면에 결합할 수 있다.
본 발명에 따른 손톱 미용기는 제2 금속 또는 금속화합물 층을 더 포함할 수 있다. 제2 금속 또는 금속화합물 층은 돌출부의 상면에 연결되는 돌출부의 적어도 측벽 상측에, 또는 플레이트 층 표면에 연결되는 함몰부의 적어도 측벽 상측에 결합할 수 있다.
본 발명에 따른 손톱 미용기에서, 제1,2 금속은 스테인레스스틸 또는 티타늄일 수 있고, 제1,2 금속화합물은 산화물, 질화물 또는 탄화물일 수 있다.
본 발명에 따른 손톱 미용기에서, 다수의 돌출부 또는 함몰부는 플레이트 층의 폭 방향으로 일체로 구성되고 플레이트 층의 길이 방향으로 이격될 수 있다. 다수의 돌출부 또는 함몰부는 플레이트 층의 폭 방향을 기준으로 플레이트 층의 길이 방향으로 경사질 수 있다.
본 발명에 따른 손톱 미용기의 제조 방법은, 플레이트 층에 결합하는 금속 또는 금속화합물의 부착력을 높이기 위해 플레이트 층을 표면 처리하는 단계, 플레이트 층에 제1 금속 또는 금속화합물 층을 형성하는 단계, 제1 금속 또는 금속화합물 층에 포토레지스트 층을 형성하는 단계, 포토레지스트 층을 패터닝하는 단계, 제1 금속 또는 금속화합물 층을 패터닝하는 단계, 플레이트 층을 식각하여 돌출부 또는 함몰부를 형성하는 단계 등을 포함하여 구성할 수 있다.
본 발명에 따른 손톱 미용기의 제조 방법에서, 표면 처리 단계는 플레이트 층을 유리 또는 강화 유리로 구성하고, 유기 세정, 불산 세정, 이온빔 처리, 플라즈마 처리, 가열 전처리 중에서 적어도 하나를 수행할 수 있다.
본 발명에 따른 손톱 미용기의 제조 방법에서, 제1 금속 또는 금속화합물 층의 형성 단계는 제1 금속으로 스테인레스스틸 또는 티타늄을 이용할 수 있고, 제1 금속화합물로 산화물, 질화물, 또는 탄화물을 이용할 수 있다.
본 발명에 따른 손톱 미용기의 제조 방법은, 포토레지스트 층을 제거한 후, 제2 금속 또는 금속화합물 층을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다. 제2 금속 또는 금속화합물 층은 돌출부의 상면에 연결되는 돌출부의 적어도 측벽 상측에, 또는 플레이트 층 표면에 연결되는 함몰부의 적어도 측벽 상측에 형성할 수 있다.
손톱 미용기의 다른 실시예는, 다수의 돌출부 또는 함몰부를 갖는 플레이트 층과, 돌출부 또는 함몰부를 포함하여 플레이트 층 표면에 결합되는 금속 또는 금속화합물 층을 포함하여 구성할 수 있다.
손톱 미용기의 다른 실시예에서, 다수의 돌출부 또는 함몰부는 플레이트 층의 폭 방향으로 일체로 구성되고 플레이트 층의 길이 방향으로 이격될 수 있으며, 플레이트 층의 폭 방향을 기준선으로 할 때 플레이트 층의 길이 방향으로 경사질 수 있다.
이러한 구성 및 방법을 갖는 손톱 미용기 및 그 제조 방법에 의하면, 유리 플레이트의 돌출되는 부분에 금속 또는 금속화합물 층을 형성함으로써, 유리 플레이트의 표면 강도를 높이고, 나아가 유리 플레이트의 상단 모서리가 부서져 생기는 파티클을 최소화할 수 있다.
또한, 본 발명의 손톱 미용기 및 그 제조 방법에 의하면, 금속 또는 금속화합물로 손톱을 절삭하므로 손톱을 매끄럽게 절삭할 수 있고, 그 결과 손톱의 광택을 높일 수 있다.
도 1a,1b는 본 발명에 따른 손톱 미용기의 제1 실시예를 도시하는 사시도 및 단면도이다.
도 2a,2b는 본 발명에 따른 손톱 미용기의 제2 실시예를 도시하는 사시도 및 단면도이다.
도 3a,3b는 본 발명에 따른 손톱 미용기의 제3 실시예를 도시하는 사시도 및 단면도이다.
도 4a,4b는 본 발명에 따른 손톱 미용기의 제4 실시예를 도시하는 사시도 및 단면도이다.
도 5a,5b는 본 발명에 따른 손톱 미용기의 제5 실시예를 도시하는 사시도 및 단면도이다.
도 6a,6b는 본 발명에 따른 손톱 미용기의 제6 실시예를 도시하는 사시도 및 단면도이다.
도 7a,7b는 본 발명에 따른 손톱 미용기의 제7,8 실시예를 도시하는 사시도이다.
도 8a~8g는 본 발명에 따른 손톱 미용기의 제1 실시예를 제조하는 방법을 도시하는 공정도이다.
도 9a~9h는 본 발명에 따른 손톱 미용기의 제2 실시예를 제조하는 방법을 도시하는 공정도이다.
이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명한다.
도 1a,1b는 본 발명에 따른 손톱 미용기의 제1 실시예를 도시하는 사시도 및 단면도이다.
도 1a,1b에 도시한 바와 같이, 제1 실시예의 손톱 미용기(10)는 플레이트층(11), 제1 금속층(13) 등을 포함하여 구성할 수 있다.
플레이트층(11)은 소정 두께를 갖는 휘어지지 않거나 또는 휘어질 수 있는 플레이트 형상으로 구성하며, 유리, 강화 유리, 금속, 폴리카보네이트 등을 재질로 할 수 있다.
플레이트층(11)은 표면에 함몰부(R)를 구비할 수 있다. 함몰부(R)는 원형, 타원형, 삼각형, 사각형, 오각형 등으로 구성할 수 있다. 함몰부(R)는 어느 방향으로 문지르더라도 원활하게 표면을 절삭하려면 원형으로 구성하는 것이 바람직할 수 있으나, 다른 형상을 배제하는 것은 아니다. 함몰부(R)는 플레이트층(11)에 규칙적으로 배열하는 것이 좋으나, 불규칙적 배열을 배제하는 것은 아니다. 함몰부(R)는 직경을 50~150㎛로, 간격을 100~300㎛로 할 수 있다. 함몰부(R)는 측벽을 수직되게 구성할 수 있으나, 적어도 측벽 상측을 칼날 형상(knife edge), 즉 상단에서 하방으로 내려가면서 폭이 좁아지는 형태로 구성하는 것이 바람직할 수 있다.
플레이트층(11)은 배면에 함몰부(R)를 구성하지 않으면 그 배면에 플라스틱 등의 보강판을 결합할 수 있다.
제1 금속층(13)은 함몰부(R)를 제외한 플레이트층(11)의 표면에 결합할 수 있다. 제1 금속층(13)은 손톱에 직접 마찰되는 부분이어서, 인체에 무해한 스테인레스스틸, 티타늄을 사용하는 것이 바람직할 수 있으나, 크롬, 몰리브덴, 금 등의 사용을 배제하는 것은 아니다.
제1 금속층(13)은 금속산화물, 예를들어 SiO2, TiO2, TiN와 같은 산화물, 질화물, 탄화물 등으로 대체할 수 있다. 금속산화물은 금속에 비해 경도와 강도가 높아, 손톱 미용기(10)의 내구성을 높일 수 있다.
도 2a,2b는 본 발명에 따른 손톱 미용기의 제2 실시예를 도시하는 사시도 및 단면도이다.
도 2a,2b에 도시한 바와 같이, 제2 실시예의 손톱 미용기(20)는 플레이트층(11), 제1 금속층(13), 제2 금속층(22) 등을 포함하여 구성할 수 있다.
제2 실시예는, 제1 실시예의 구성에 제2 금속층(22)을 추가하고 있다.
제2 금속층(22)은 플레이트층(11)의 강도를 보강할 수 있다. 예를들어, 플레이트층(11)으로 유리나 강화 유리를 사용하는 경우, 이들은 재질 특성상 사용하는 과정에서 함몰부(R)의 측벽 상측에서 깨짐이 발생할 수 있는데, 이 경우 제품의 내구성은 물론이고 부서진 유리 파티클이 2차적 문제를 야기할 수 있으므로, 이를 차단하려면 적어도 함몰부(R)의 측벽 상측을 강도가 높은 물질로 도포하는 것이 바람직할 수 있다. 다만, 함몰부(R)의 측벽 상측에만 제2 금속층(22)을 도포하는 것이 제조상 불가능한 것은 아니지만, 공정의 어려움이나 비용을 고려할 때, 도 2a,2b에 도시한 바와 같이 함몰부(R) 내벽과 제1 금속층(13) 상면에 전체적으로 제2 금속층(22)를 도포하는 것이 바람직할 수 있다.
도 2a,2b에 도시한 바와 같이, 제2 금속층(22)은 상부로 노출된 표면 전체에 결합할 수 있다. 제2 금속층(22)은 사용 시에 손톱에 직접 닿는 부분이므로 인체에 무해한 스테인레스스틸, 티타늄을 사용하는 것이 바람직할 수 있으나, 크롬, 몰리브덴, 금 등의 사용을 배제하는 것은 아니다.
제2 금속층(22)은 SiO2, TiO2, TiN, SiC와 같은 산화물, 질화물, 탄화물 등으로 대체할 수 있다.
도 3a,3b는 본 발명에 따른 손톱 미용기의 제3 실시예를 도시하는 사시도 및 단면도이다.
도 3a,3b에 도시한 바와 같이, 제3 실시예의 손톱 미용기(30)는 플레이트층(31), 제1 금속층(33) 등을 포함하여 구성할 수 있다.
플레이트층(31)은 소정 두께를 갖는 휘어지지 않거나 또는 휘어질 수 있는 플레이트 형상으로 구성하며, 유리, 강화 유리, 금속, 폴리카보네이트 등을 재질로 할 수 있다.
플레이트층(31)은 표면에 돌출부(T)를 구비할 수 있다. 돌출부(T)는 원형, 타원형, 삼각형, 사각형, 오각형 등으로 구성할 수 있으며, 어느 방향으로 문지르더라도 원활하게 표면을 절삭하려면 원형이나 타원형으로 구성하는 것이 바람직할 수 있다. 돌출부(T)는 플레이트층(31)에 규칙적으로 배열하는 것이 좋으나, 불규칙 배열을 배제하는 것은 아니다. 돌출부(T)는 직경을 50~150㎛로, 간격을 100~300㎛로 할 수 있다. 돌출부(T)는 측벽을 수직되게 구성할 수 있으나, 적어도 측벽 상측을 칼날 형상(knife edge), 즉 상단에서 하방으로 내려가면서 폭이 좁아지는 형태로 구성하는 것이 바람직할 수 있다. 그러나, 돌출부(T)를 상단에서 하방으로 내려가면서 폭이 넓어지는 형태로 구성하는 것을 배제하는 것은 아니다.
제3 실시예에서, 플레이트층(31)의 재질은 제1 실시예의 플레이트층(11)과 동일하고, 제1 금속층(33)의 재질은 제1 실시예의 제1 금속층(11)의 재질과 동일하므로, 돌출부(T) 구조를 제외한 플레이트층(31)과 제1 금속층(33)에 대한 상세한 설명은 제1 실시예의 관련 설명으로 갈음한다.
도 4a,4b는 본 발명에 따른 손톱 미용기의 제4 실시예를 도시하는 사시도 및 단면도이다.
도 4a,4b에 도시한 바와 같이, 제4 실시예의 손톱 미용기(40)는 플레이트층(31), 제1 금속층(33), 제2 금속층(42) 등을 포함하여 구성할 수 있다.
제4 실시예는, 제3 실시예의 구성에 제2 금속층(42)을 추가하고 있다.
제2 금속층(42)은 적어도 돌출부(T)의 측벽 상측을 도포할 수 있다. 돌출부(T)의 측벽 상측에만 제2 금속층(42)을 도포할 수 있으나, 돌출부(T) 측벽, 제1 금속층(33), 그리고 플레이트층(31) 상면에 전체적으로 제2 금속층(42)을 도포하는 것이 공정이나 비용에서 바람직할 수 있다. 따라서, 제4 실시예는, 도 4a,4b에 도시한 바와 같이, 제2 금속층(42)을 상부로 노출된 표면 전체에 결합하고 있다.
제2 금속층(42)은 스테인레스스틸, 티타늄 등을 사용하는 것이 바람직하지만, 크롬, 몰리브덴, 금 등을 배제하는 것은 아니다.
제2 금속층(42)은 SiO2, TiO2, TiN, SiC와 같은 산화물, 질화물, 탄화물 등의 금속화합물로 대체할 수 있다.
도 5a,5b는 본 발명에 따른 손톱 미용기의 제5 실시예를 도시하는 사시도 및 단면도이다.
도 5a,5b에 도시한 바와 같이, 제5 실시예의 손톱 미용기(50)는 플레이트층(51), 금속층(53) 등을 포함하여 구성할 수 있다.
제5 실시예는, 제2 실시예에서 제1 금속층(13)을 제거한 형태로 구성하고 있다. 종래의 일부 손톱 미용기는 플레이트층만으로 구성하는 경우가 있는데, 이 경우 플레이트층을 유리, 강화 유리, 폴리카보네이트 등으로 구성하면 사용 시에 함몰부(R)의 측벽 상측에서 깨짐이 발생할 수 있다. 금속층(53)은 이러한 유리의 깨짐을 방지할 수 있는 것으로, 함몰부(R)의 측벽 상측에만 도포해도 되지만, 공정이나 비용을 고려하여, 도 5a,5b와 같이, 함몰부(R) 내벽과 플레이트층(51) 상면에 전체적으로 도포하는 것이 바람직할 수 있다.
제5 실시예에서, 플레이트층(51)의 구조와 재질, 금속층(53)의 재질 등은 제2 실시예의 플레이트층(11), 제2 금속층(22)과 각각 동일하므로, 플레이트층(51)과 금속층(53)에 대한 상세 설명은 제2 실시예의 관련 설명으로 갈음한다.
도 6a,6b는 본 발명에 따른 손톱 미용기의 제6 실시예를 도시하는 사시도 및 단면도이다.
도 6a,6b에 도시한 바와 같이, 제6 실시예의 손톱 미용기(60)는 플레이트층(61), 금속층(63) 등을 포함하여 구성할 수 있다.
제6 실시예는, 제4 실시예에서 제1 금속층(33)을 제거한 형태로 구성하고 있다. 금속층(63)은 유리의 깨짐을 방지하는 것으로, 돌출부(T)의 측벽 상측에만 도포해도 되지만, 공정이나 비용을 고려하여, 도 6a,6b와 같이, 돌출부(T)의 측벽과 상면, 그리고 플레이트층(61)의 상면에 전체적으로 도포할 수 있다.
제6 실시예에서, 플레이트층(61)의 구조와 재질, 금속층(63)의 재질 등은 제4 실시예의 플레이트층(31), 제2 금속층(42)과 동일하므로, 플레이트층(61)과 금속층(63)에 대한 상세 설명은 제4 실시예의 관련 설명으로 갈음한다.
도 7a,7b는 본 발명에 따른 손톱 미용기의 제7,8 실시예를 도시하는 사시도들이다.
제7 실시예의 손톱 미용기(70)는, 도 7a에 도시한 바와 같이, 플레이트층(71)에 형성되는 함몰부(LR)를 선형 바(bar)의 형태로 구성할 수 있다. 선형 함몰부(LR)는 플레이트층(71)의 폭 방향을 따라 일체로, 즉 플레이트층(71)의 폭 이내에서의 길이를 갖도록 구성하고, 선형 함몰부(LR)의 폭은 50~150㎛로, 간격은 100~300㎛로 구성할 수 있다.
선형 함몰부(LR)는 플레이트층(71)의 폭 방향을 기준선으로 할 때, 플레이트층(71)의 길이 방향으로 60°이내의 소정 각도, 예를들어, 20°, 30° 등으로 경사지게 구성할 수 있다.
제8 실시예의 손톱 미용기(80)는, 도 7b에 도시한 바와 같이, 플레이트층(81)에 형성되는 돌출부(LT)를 선형 바의 형태로 구성할 수 있다. 선형 돌출부(LT)는 플레이트층(81)의 폭 방향을 따라 일체로, 즉 플레이트층(81)의 폭 이내에서의 길이를 갖도록 구성하고, 선형 돌출부(LT)의 폭은 50~150㎛로, 간격은 100~300㎛로 구성할 수 있다.
선형 돌출부(LT)는 플레이트층(81)의 폭 방향을 기준선으로 할 때, 플레이트층(81)의 길이 방향으로 60°이내의 소정 각도, 예를들어 20°, 30° 등으로 경사지게 구성할 수 있다.
도 8a~8g는 본 발명에 따른 손톱 미용기의 제1 실시예를 제조하는 방법을 도시하는 공정도이다.
도 8a에 도시한 바와 같이, 먼저 유리, 강화 유리, 금속 등의 플레이트층(11)을 준비한다. 플레이트층(11)은 손톱 미용기의 모체가 된다. 도 8a의 단계에서는, 플레이트층(11)을 표면 처리할 수 있다. 플레이트층(11)의 표면 처리는 금속 또는 금속화합물을 플레이트층(11)에 결합하는 다음 단계에서 금속 또는 금속화합물의 부착력을 높일 수 있다. 표면 처리는 플레이트층(11)의 표면에서 유기 물질을 제거하는 유기 세정, 나트륨 등에 관련되는 분순물을 제거하는 불산 세정 등을 포함할 수 있고, 이 외에 이온빔 처리와 플라즈마 처리, 그리고 표면 원자의 활성도를 높이는 가열 전처리 등을 포함할 수 있다. 표면 처리의 구체적 방법은 플레이트층(11)의 재질에 부합되게 선택할 수 있으며, 2개 이상을 수행할 수도 있다.
도 8b와 같이, 표면 처리된 플레이트층(11) 표면에 내식성이 강한 제1 금속 또는 금속화합물층(13)을 형성한다. 제1 금속 또는 금속화합물층(13)은 포토레지스트층(15)을 고르게 분포시키고, 플레이트층(11)을 에칭할 때 개방되는 플레이트층(11)을 정밀하고 깊게 가공할 수 있게 한다. 제1 금속 또는 금속화합물층(13)은 보통 크롬, 몰리브덴, 금 등을 사용하는데, 본 발명에서는 인체 무해성을 띠는 스테인레스스틸, 티타늄 등의 금속이나, 강도가 높은 SiO2, TiO2, TiN, SiC와 같은 산화물, 질화물, 탄화물 등을 사용할 수 있다. 제1 금속 또는 금속화합물 층(13)은 전기도금, 화학기상증착(CVD), 물리증착(PVD) 등을 이용하여, 1000 ~ 5000Å의 두께로 형성할 수 있다.
도 8c와 같이, 제1 금속 또는 금속화합물 층(13) 위에 포토레지스트 층(15)을 형성하고 건조시킨다. 포토레지스트 층(15)는 스핀 코팅(Spin Coating), 슬릿 코팅(Slit Coating) 등의 방법으로 형성할 수 있다.
도 8d와 같이, 포토레지스트 층(15) 위에 마스크(미도시)를 배치하고, 광(자외선 등)을 조사한다. 네거티브 타입의 포토레지스트를 사용하면, 마스크의 개구를 통해 노출된 포토레지스트는 광반응을 일으켜 불용화된다. 현상액으로 포토레지스트를 현상 및 가열하여, 포토레지스트 패턴을 형성한다.
도 8e와 같이, 습식 또는 건식 에칭 방식을 이용하여 포토레지스트 층(15)의 패턴으로 노출되는 제1 금속 또는 금속화합물 층(13)을 에칭하여, 개방된 부분을 제거한다.
도 8f와 같이, 제1 금속 또는 금속화합물 층(13)에서 노출되는 플레이트 층(11)을 에칭하여 5~100㎛ 깊이를 갖는 함몰부를 형성한다.
이후, 도 8g와 같이, 마스크로 기능한 포토레지스트 층(15)을 아세톤과 같은 용액을 적용하여 제거하면, 플레이트 층(11) 표면에 제1 금속 또는 금속화합물 층(13)이 단단히 결합되고, 표면에는 다수의 함몰부가 형성된 제1 실시예의 손톱 미용기가 만들어질 수 있다.
공정에 따라서는, 도 8e에서 제1 금속 또는 금속화합물 층(13)을 에칭하여 플레이트 층(11)을 개방한 후, 도 8g의 포토레지스트 층(15)을 먼저 제거하고, 도 8f의 플레이트 층(11)의 에칭을 수행할 수도 있다.
도 9a~9h는 본 발명에 따른 손톱 미용기의 제2 실시예를 제조하는 방법을 도시하는 공정도이다.
제2 실시예의 제조 방법은 포토레지스트 층(15)을 제거한 후, 제2 금속 또는 금속화합물 층(22)을 형성하는 단계를 더 포함하고 있다. 제2 실시예의 제조 공정 중 도 9a~9g의 단계는 제1 실시예의 제조 공정인 도 8a~8g의 단계와 동일하다.
도 9h와 같이, 제2 금속 또는 금속화합물 층(22)는 함몰부의 내벽과 제1 금속 또는 금속화합물 층(13)의 상면에 전체적으로 형성하고 있다. 도 8b에서 설명한 바와 같이, 제2 금속 또는 금속화합물층(22)으로 크롬, 몰리브덴, 금 등을 사용할 수 있으나, 인체 무해성을 갖는 스테인레스스틸, 티타늄 등의 금속이나 산화물, 질화물, 탄화물 등을 이용하는 것이 바람직할 수 있다. 제2 금속 또는 금속화합물 층(22)은 전기도금, 화학기상증착(CVD), 물리증착(PVD) 등을 이용하여, 100 ~ 2000nm의 두께로 형성할 수 있다.
이상 본 발명을 여러 실시예에 기초하여 설명하였으나, 이는 본 발명을 예증하기 위한 것이다. 통상의 기술자라면, 위 실시예에 기초하여 본 발명의 기술사상을 다양하게 변형하거나 수정할 수 있을 것이다. 그러나, 그러한 변형이나 수정은 아래의 특허청구범위에 포함되는 것으로 해석될 수 있다.
11,21,31,41,51,61,71,81 : 플레이트 층
13,33 : 제1 금속 또는 금속화합물 층
22,42 : 제2 금속 또는 금속화합물 층
53,63 : 금속 또는 금속화합물 층
R : 함몰부 T : 돌출부
LR : 선형 함몰부 LT : 선형 돌출부

Claims (10)

  1. 손톱 미용기에 있어서,
    유리 또는 강화 유리로 구성되고, 다수의 돌출부 또는 함몰부를 갖는 플레이트 층;
    상기 돌출부의 상면 또는 상기 함몰부를 제외한 플레이트 층 표면에 결합되는 제1 금속 또는 금속화합물 층; 및
    상기 돌출부의 적어도 측벽 상측 또는 상기 함몰부의 적어도 측벽 상측에 결합하여 상기 제1 금속 또는 금속화합물 층에 접하는 상기 플레이트 층의 상기 돌출부 또는 상기 함몰부의 상단 모서리가 부서지는 것을 차단하는 제2 금속 또는 금속화합물 층을 포함하는 것을 특징으로 하는, 손톱 미용기.
  2. 삭제
  3. 제1 항에 있어서,
    상기 제1,2 금속 층은 스테인레스스틸 또는 티타늄이고,
    상기 제1,2 금속화합물 층은 산화물, 질화물 또는 탄화물인 것을 특징으로 하는, 손톱 미용기.
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 삭제
  8. 삭제
  9. 삭제
  10. 삭제
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