KR101758304B1 - 다양한 기판에 활용 가능한 광소결 장치 - Google Patents

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Abstract

광소결 장치는 광원유닛 및 스테이지 유닛을 포함한다. 상기 광원유닛은 베이스 기판 상에 형성된 패턴으로 광을 인가하여 상기 패턴을 소결한다. 상기 스테이지 유닛은 상기 베이스 기판이 상면에 위치하여 상기 베이스 기판을 고정한다. 상기 광의 인가에 따라 상기 패턴을 통해 상기 베이스 기판으로 전달되는 열은 상기 스테이지 유닛에 의해 열전달이 차단되어 상기 패턴 및 상기 베이스 기판이 열을 보유한다.

Description

다양한 기판에 활용 가능한 광소결 장치{LIGHT SINTERING APPARATUS APPLICABLE TO VARIOUS SUBSTRATE}
본 발명은 광소결 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 다양한 종류의 기판에 형성된 패턴을 IPL(intense pulse light)를 이용하여 소결하는 광소결 장치에 관한 것이다.
잉크젯, 스크린, 그라비아, 옵셋 등의 인쇄 공법을 이용한 인쇄 전자 기술은 롤투롤 인쇄 공정을 통해 특히 대면적의 고속 인쇄를 용이하게 수행할 수 있는 장점으로 널리 활용되고 있다.
다만, 대면적의 고속 인쇄의 경우, 인쇄 공정 보다는 인쇄된 패턴에 대한 후처리 공정에 의해 공정의 효율성이 큰 영향을 받고, 이러한 측면에서 최근에는 IPL(intense pulse light)을 이용하여 매우 짧은 시간 동안 나노 입자 잉크의 소결을 수행하는 기술이 대두되고 있다.
특히, 상기 IPL 광소결 기술의 경우, 인쇄된 잉크의 소결 공정의 수행시 패턴이 형성된 유기 기판에 대한 손상이 적으며 소결 공정의 시간을 단축할 수 있는 장점을 가진다.
그러나, 상기 IPL 광소결의 경우, 유기 유연 기판 상에 나노 잉크 패턴이 형성된 경우라면 상기 나노 잉크 패턴의 소결이 상대적으로 용이하게 수행되지만, 실리콘 웨이퍼 기판이나 유리 기판 등에 패턴이 형성된 경우에는 소결이 전혀 수행되지 않는 한계가 있다.
한편, 관련 선행기술로, 대한민국 공개특허 제10-2012-0134035호는 극단파 백색광을 인가하는 광소결장치에 관한 기술을 개시하고 있으나, 이러한 기술을 통하여도 실리콘 웨이퍼 기판이나 유리 기판 등에 패턴이 형성된 경우 패턴의 소결이 어려운 문제는 존재한다.
대한민국 공개특허 제10-2012-0134035호
이에, 본 발명의 기술적 과제는 이러한 점에서 착안된 것으로 본 발명의 목적은 열전도성이 높은 기판을 포함한 다양한 기판에 적용이 가능하여 기판의 종류와 무관하게 패턴을 효과적으로 수행할 수 있는 광소결 장치에 관한 것이다.
상기한 본 발명의 목적을 실현하기 위한 일 실시예에 따른 광소결 장치는 광원유닛 및 스테이지 유닛을 포함한다. 상기 광원유닛은 베이스 기판 상에 형성된 패턴으로 광을 인가하여 상기 패턴을 소결한다. 상기 스테이지 유닛은 상기 베이스 기판이 상면에 위치하여 상기 베이스 기판을 고정한다. 상기 광의 인가에 따라 상기 패턴을 통해 상기 베이스 기판으로 전달되는 열은 상기 스테이지 유닛에 의해 열전달이 차단되어 상기 패턴 및 상기 베이스 기판이 열을 보유한다.
일 실시예에서, 상기 스테이지 유닛은, 상기 베이스 기판이 상부에 고정되는 스테이지, 및 상기 베이스 기판의 하면이 접촉하는 상기 스테이지의 상면에 형성되어, 열전달을 차단하는 단열부를 포함할 수 있다.
일 실시예에서, 상기 단열부는, 단열층으로 상기 스테이지의 상면에 별도로 형성될 수 있다.
일 실시예에서, 상기 단열부 또는 상기 단열층은, 테프론(teflon) 또는 알루미나를 포함할 수 있다.
일 실시예에서, 상기 스테이지 유닛은, 상기 베이스 기판이 상면에 고정되는 스테이지, 및 상기 스테이지에 열을 인가하여 상기 스테이지를 가열하는 열인가부를 포함할 수 있다.
일 실시예에서, 상기 베이스 기판은, 열전도성이 높은 실리콘 웨이퍼 기판 또는 유리기판일 수 있다.
일 실시예에서, 상기 광원유닛은, IPL(intense pulse light)을 상기 패턴으로 인가할 수 있다.
일 실시예에서, 상기 패턴은 롤투롤(roll to roll) 인쇄 공정에 의해 형성되고, 상기 베이스 기판은 연속적으로 이송되는 유연 기판이며, 상기 베이스 기판은 연속 이송 중, 상기 스테이지 유닛 상에 고정되어 광을 인가받을 수 있다.
본 발명의 실시예들에 의하면, 베이스 기판으로 전달되는 열이 스테이지 유닛으로 전달되는 것이 차단되어, 상기 베이스 기판에 보다 오랫동안 열을 보유할 수 있어 상기 베이스 기판 상에 형성된 패턴에 대한 광소결을 보다 효과적으로 수해할 수 있다.
특히, IPL 광소결의 경우, 실리콘 웨이퍼 기판이나 유리 기판과 같이 열전도성이 우수한 베이스 기판에 형성된 패턴의 소결시 소결 공정의 효율성이 매우 좋지 못한 문제가 있었으나, 상기 스테이지 유닛이 열전달을 차단함으로써, 우수한 소결 효과를 얻을 수 있다.
그리하여, 대면적 고속 인쇄로서 롤투롤 인쇄 공정에서 기판의 종류와 무관하게 IPL 광소결을 적용하여 보다 빠르고 효과적으로 전자 소자를 형성할 수 있다.
이 경우, 상기 스테이지 유닛의 상면을 단열처리하거나, 상기 스테이지 유닛의 상면에 단열층을 별도로 형성함으로써, 상기 스테이지 유닛으로의 열전달을 효과적으로 차단할 수 있다.
이와 달리, 상기 스테이지 유닛이 열을 인가받아 가열되는 스테이지를 포함하여, 상기 스테이지에 열을 인가함으로써 상기 베이스 기판과 비슷한 온도를 유지하여, 상기 베이스 기판으로 전달되는 열이 상기 스테이지를 통해 외부로 손실되는 것을 차단할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 의한 광소결 장치를 도시한 사시도이다.
도 2는 도 1의 스테이지 유닛 및 기판부를 도시한 단면도이다.
도 3a는 도 1의 광소결 장치를 이용하여 소결을 수행한 시편의 예를 도시한 이미지이며, 도 3b는 종래 기술에 의한 광소결 장치를 이용하여 소결을 수행한 시편의 예를 도시한 이미지이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 의한 광소결 장치의 스테이지 유닛을 도시한 단면도이다.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 실시예들을 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다.
상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다.
본 출원에서, "포함하다" 또는 "이루어진다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여, 본 발명의 바람직한 실시예를 보다 상세하게 설명하고자 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 의한 광소결 장치를 도시한 사시도이다. 도 2는 도 1의 스테이지 유닛 및 기판부를 도시한 단면도이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 본 실시예에 의한 광소결 장치(10)는 광원유닛(100) 및 스테이지 유닛(200)을 포함한다.
상기 광소결 장치(10)는 상기 스테이지 유닛(200) 상에 위치하는 기판부(400)에 대하여 광을 인가하여 상기 기판부(400) 상의 패턴을 소결하는 것으로, 본 실시예에서 상기 광소결 장치(10)에 의한 상기 패턴의 소결은 IPL(intense pulse light)를 이용한 광소결일 수 있다.
상기 IPL 광소결은 상기 나노 입자 크기의 패턴으로 μs 내지 ms 단위의 시간 동안 광을 제공하여 소결을 수행하는 것으로, 특히 IPL 광소결의 경우 상기 패턴이 형성된 기판의 손상을 최소화하면서도 단시간 동안 효과적으로 소결을 수행할 수 있는 장점을 가진다.
한편, 상기 기판부(400)는 베이스 기판(410) 및 상기 베이스 기판(410) 상에 형성되는 패턴(420)을 포함하며, 상기 패턴(420)은 예를 들어, 잉크젯, 스크린, 그라비아, 옵셋 등의 인쇄 공정을 통해 상기 베이스 기판(410) 상에 형성될 수 있다.
이 경우, 상기 베이스 기판(410)은, 상기 인쇄 공정이 롤투롤 연속 인쇄 공정에 의해 수행되는 경우 연속적으로 공급되는 유연 기판일 수 있다.
따라서, 상기 베이스 기판(410)은 본 실시예에 의한 광소결 장치(10)를 통해 소결되기 전에 연속 이송하며 패턴이 인쇄되며, 본 실시예에 의한 광소결 장치(10)를 통해 소결되는 경우 상기 스테이지유닛(200) 상에 고정된 상태로 위치할 수 있다.
한편, 상기 베이스 기판(410)은 열전도성이 우수한 재질을 포함하며, 예를 들어 실리콘 웨이퍼 기판 또는 유리 기판일 수 있다.
즉, 본 실시예에 의한 상기 광소결 장치(10)는 실리콘 웨이퍼 기판 또는 유리 기판인 베이스 기판(410) 상에 인쇄 공정을 통해 형성된 패턴(420)에 대한 IPL 광소결에 적용될 수 있다.
상기 광원유닛(100)은 광원부(110) 및 필터부(120)를 포함한다. 상기 광원부(110)는 상기 기판부(400)를 향해 광을 발생시키며, 상기 필터부(120)는 상기 광원부(110)로부터 발생된 광을 필터링한다.
즉, 상기 필터부(120)는 특정 파장의 광만 상기 기판부(400)로 제공되도록 상기 광원부(110)에서 발생된 광을 필터링할 수 있으며, 예를 들어, UV 광만 상기 기판부(400)로 인가하도록 필터링할 수 있다.
즉, 상기 필터부(120)는 상기 기판부(400)로 인가되는 광을 선택적으로 필터링하여, 소결이 필요한 패턴에 따라 최적의 광을 제공할 수 있다.
상기 스테이지 유닛(200)은 상기 기판부(400)의 하부에서, 상기 기판부(400)가 고정되도록 위치하는 것으로, 스테이지(210) 및 단열부(220)를 포함한다.
구체적으로, 상기 스테이지(210)는 광소결 공정이 수행되는 경우 상기 기판부(400)가 상부에 위치한다.
이 경우, 상기 기판부(400)는 베이스 기판(410) 및 상기 베이스 기판(410) 상에 형성된 패턴(420)을 포함하는 바, 상기 스테이지(210) 상에는 상기 베이스 기판(410)이 위치하게 되며, 상기 베이스 기판(410)의 하면은 상기 스테이지(210)의 상면과 접촉하게 된다.
다만, 본 실시예에서는 상기 단열부(220)가 상기 베이스 기판(410)의 하면과 상기 스테이지(210)의 상면 사이에 개재되어, 상기 베이스 기판(410)과 상기 스테이지(210) 사이의 열전달을 차단한다.
이 경우, 상기 단열부(220)는 상기 스테이지(210)의 상면부가 단열 처리되거나 상기 스테이지(210)의 상면부가 단열 재료로 형성되는 등, 상기 스테이지(210)와 일체로 형성될 수 있다.
이와 달리, 상기 단열부(220)는 단열층으로서, 상기 스테이지(210)의 상면 상에 별도의 층으로 형성될 수 있다.
나아가, 도시하지는 않았으나, 상기 스테이지(210)가 열전도성이 낮은 단열 재료를 포함하도록 제작되어, 별도의 단열부(220)가 생략될 수도 있다.
한편, 상기 단열부(220)는 열전도성이 낮으며 단열성이 우수한 재료를 포함하며, 예를 들어, 알루미나 또는 테프론(Teflon) 등을 포함할 수 있다.
이와 같이, 본 실시예에서 상기 스테이지(210)와 상기 베이스 기판(410)의 사이에 단열부(220)가 형성되므로, 상기 베이스 기판(410)으로 전달되는 열이 상기 단열부(220)에 의해 차단되어 상기 스테이지(210)로 전달되지 않는다.
즉, 본 실시예에 의한 광소결 장치(10)를 이용한 광소결에서, 상기 패턴(420)으로 인가되는 광은 상기 패턴(420) 및 상기 베이스 기판(410)에서 열로 변환되며, 상기 베이스 기판(410)의 열은 상기 단열부(220)에 의해 차단되어 상기 스테이지(210)로 전달되지 않고 상기 베이스 기판(410) 또는 상기 패턴(420) 내에 잔류하게 된다.
따라서, 상기 베이스 기판(410) 또는 상기 패턴(420) 상에 열이 잔류하게 되므로, 상기 패턴(420)의 소결 효과를 더욱 향상시킬 수 있게 된다. 그리하여, 상기 베이스 기판(410)이 열전도도가 높은 재료로 형성되더라도 상기 베이스 기판(410)의 열이 추가로 상기 스테이지(210)를 통해 전달되어 외부로 빠져나가는 것이 차단되므로, 상기 베이스 기판(410)의 열전도도와 무관하게 상기 패턴(420)에 대한 IPL 광소결이 효과적으로 수행될 수 있다.
도 3a는 도 1의 광소결 장치를 이용하여 소결을 수행한 시편의 예를 도시한 이미지이며, 도 3b는 종래 기술에 의한 광소결 장치를 이용하여 소결을 수행한 시편의 예를 도시한 이미지이다.
도 3a는, 본 실시예에 의한 광소결 장치(10)를 이용하여 1회의 펄스광을 3.6 J/cm2의 에너지로 45초간 기판부(400)로 인가한 경우, 상기 기판부(400)가 테프론(Teflon) 재질의 단열부(220) 상에 접촉하여 위치한 상태에서 소결을 수행한 결과이다. 도 3b는, 종래 기술에 의한 광소결 장치를 이용하여 1회의 펄스광을 3.6 J/cm2의 에너지로 45초간 기판부(400)로 동일하게 인가한 경우, 상기 기판부(400)가 스테인레스(stainless) 재질의 비단열부(230) 상에 접촉하여 위치한 상태에서 소결을 수행한 결과이다.
도 3a 및 도 3b를 참조하면, 상기 기판부(400) 상에 은(Ag) 잉크로 패턴이 형성된 상태로서 소결이 수행됨에 따라 상기 기판부(400)의 표면이 은색(silver)으로 변화되는 것을 고려하면, 도 3a에서와 같이 단열부(220) 상에 위치한 기판부(400)에 대한 소결 공정이 도 3b에서와 같이 비단열부(230) 상에 위치한 기판부(400)에 대한 소결 공정보다 효과적으로 소결이 수행됨을 확인할 수 있다.
이와 같이, 비록 베이스 기판이 열전도도가 높은 재질을 포함하더라도, 스테이지와의 사이에서 단열이 유지된다면 상기 베이스 기판 상에 형성된 패턴에 대하여 IPL 광소결을 통해 효과적인 소결을 수행할 수 있다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 의한 광소결 장치의 스테이지 유닛을 도시한 단면도이다.
본 실시예에 의한 광소결 장치(11)는 스테이지 유닛(300)을 제외하고는 도 1을 참조하여 설명한 광소결 장치(10)와 실질적으로 동일하므로 중복되는 설명은 생략한다.
도 4를 참조하면, 본 실시예에 의한 광소결 장치(11)의 스테이지 유닛(300)은 스테이지(310) 및 열인가부(320)를 포함한다.
상기 스테이지(310)는 상면에 상기 베이스 기판(410)의 하면과 접촉하도록, 상기 베이스 기판(410)이 상부에 위치한다.
본 실시예에서는 상기 스테이지(310)와 상기 베이스 기판(410)의 사이에 별도의 단열부가 개재되지 않고 직접 접촉하게 된다.
그러나, 상기 열인가부(320)가 상기 스테이지(310)와 연결되어, 상기 스테이지(310)로 열을 인가하여 상기 스테이지(310)를 가열한다.
이를 위해, 상기 스테이지(310)는 상기 열인가부(320)에 의해 가열되어도 변형되지 않는 재료를 포함하는 것이 바람직하다.
즉, 본 실시예에서는 상기 열인가부(320)에 의해 상기 스테이지(310)가 가열되어 핫 스테이지(또는 핫 플레이트)가 되며, 상기 베이스 기판(410)은 상기 핫 스테이지의 상면 상에 위치하게 된다.
이 경우, 상기 스테이지(310)는 상대적으로 저온인 섭씨 100도 안팎의 온도로 가열될 수 있다.
앞서 설명한 바와 같이, 상기 패턴(420)으로 인가되는 광은 상기 패턴(420) 및 상기 베이스 기판(410)에서 열로 변환되며, 상기 베이스 기판(410)은 상기 열에 의해 가열되어 온도가 상승하게 된다. 따라서, 상대적으로 차가운 스테이지(310)가 상기 베이스 기판(410)에 접촉한다면, 상기 베이스 기판(410)의 열은 상기 스테이지(310)로 전달되어 외부로 방열되게 된다.
그러나, 본 실시예에서와 같이, 상기 스테이지(310)가 가열되는 경우, 상기 베이스 기판(410)에 인가된 열은 상기 스테이지(310)로 전달되지 않고 그대로 상기 베이스 기판(410) 또는 상기 패턴(420) 상에 잔류하게 되며, 이에 따라 상기 베이스 기판(410) 또는 상기 패턴(420) 상에 잔류한 열에 의해 상기 패턴(420)의 소결 효과가 더욱 향상될 수 있다.
즉, 본 실시예에서와 같이, 별도의 단열부가 형성되지 않더라도 소정 온도 이상의 온도로 상기 스테이지를 가열한다면, 상기 스테이지로의 열전달이 차단되어, 열전도도가 높은 베이스 기판 상에 형성된 패턴에 대하여도 IPL 광소결을 통해 보다 효과적으로 소결을 수행할 수 있게 된다.
본 발명의 실시예들에 의하면, 베이스 기판으로 전달되는 열이 스테이지 유닛으로 전달되는 것이 차단되어, 상기 베이스 기판에 보다 오랫동안 열을 보유할 수 있어 상기 베이스 기판 상에 형성된 패턴에 대한 광소결을 보다 효과적으로 수해할 수 있다.
특히, IPL 광소결의 경우, 실리콘 웨이퍼 기판이나 유리 기판과 같이 열전도성이 우수한 베이스 기판에 형성된 패턴의 소결시 소결 공정의 효율성이 매우 좋지 못한 문제가 있었으나, 상기 스테이지 유닛이 열전달을 차단함으로써, 우수한 소결 효과를 얻을 수 있다.
그리하여, 대면적 고속 인쇄로서 롤투롤 인쇄 공정에서 기판의 종류와 무관하게 IPL 광소결을 적용하여 보다 빠르고 효과적으로 전자 소자를 형성할 수 있다.
이 경우, 상기 스테이지 유닛의 상면을 단열처리하거나, 상기 스테이지 유닛의 상면에 단열층을 별도로 형성함으로써, 상기 스테이지 유닛으로의 열전달을 효과적으로 차단할 수 있다.
이와 달리, 상기 스테이지 유닛이 열을 인가받아 가열되는 스테이지를 포함하여, 상기 스테이지에 열을 인가함으로써 상기 베이스 기판과 비슷한 온도를 유지하여, 상기 베이스 기판으로 전달되는 열이 상기 스테이지를 통해 외부로 손실되는 것을 차단할 수 있다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
본 발명에 따른 광소결 장치는 광소결 공정을 통해 패턴을 형성하는 패턴 형성 공정에 사용될 수 있는 산업상 이용 가능성을 갖는다.
10, 11 : 광소결 장치 100 : 광원유닛
110 : 광원부 120 : 필터부
200, 300 : 스테이지 유닛 210, 310 : 스테이지
220 : 단열부 230 : 비단열부
320 : 열인가부 400 : 기판부
410 : 베이스 기판 420 : 패턴

Claims (8)

  1. 베이스 기판 상에 형성된 패턴으로 광을 인가하여 상기 패턴을 소결하는 광원유닛; 및
    상기 베이스 기판이 상면에 위치하여 상기 베이스 기판을 고정하는 스테이지 유닛을 포함하며,
    상기 광의 인가에 따라 상기 패턴을 통해 상기 베이스 기판으로 전달되는 열은 상기 스테이지 유닛에 의해 열전달이 차단되어 상기 패턴 및 상기 베이스 기판이 열을 보유하는 것을 특징으로 하는 광소결 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 스테이지 유닛은,
    상기 베이스 기판이 상부에 고정되는 스테이지; 및
    상기 베이스 기판의 하면이 접촉하는 상기 스테이지의 상면에 형성되어, 열전달을 차단하는 단열부를 포함하는 것을 특징으로 하는 광소결 장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 단열부는,
    단열층으로 상기 스테이지의 상면에 별도로 형성되는 것을 특징으로 하는 광소결 장치.
  4. 제3항에 있어서, 상기 단열부 또는 상기 단열층은,
    테프론(teflon) 또는 알루미나를 포함하는 것을 특징으로 하는 광소결 장치.
  5. 제1항에 있어서, 상기 스테이지 유닛은,
    상기 베이스 기판이 상면에 고정되는 스테이지; 및
    상기 스테이지에 열을 인가하여 상기 스테이지를 가열하는 열인가부를 포함하는 것을 특징으로 하는 광소결 장치.
  6. 제1항에 있어서, 상기 베이스 기판은,
    열전도성을 갖는 실리콘 웨이퍼 기판 또는 유리기판인 것을 특징으로 하는 광소결 장치.
  7. 제1항에 있어서, 상기 광원유닛은,
    IPL(intense pulse light)을 상기 패턴으로 인가하는 것을 특징으로 하는 광소결 장치.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 패턴은 롤투롤(roll to roll) 인쇄 공정에 의해 형성되고, 상기 베이스 기판은 연속적으로 이송되는 유연 기판이며,
    상기 베이스 기판은 연속 이송 중, 상기 스테이지 유닛 상에 고정되어 광을 인가받는 것을 특징으로 하는 광소결 장치.
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