KR101722632B1 - Light-emitting device - Google Patents

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Abstract

실시예에 따른 발광소자패키지는 캐비티가 형성된 패키지몸체, 캐비티에 실장되는 광원부 및 캐비티에 충진된 수지물을 포함하고, 수지물은 수지물의 상면으로부터 소정깊이까지 이르는 오목부를 포함할 수 있다. 이에 의해 패키지 내부의 응력 발생을 감소시켜 외부 이물이 패키지 내부로 침투하는 것을 방지함으로써, 휘도를 증가시킬 수 있으며, 또한 방열효과, 와이어 스트레스 감소 및 기타 신뢰성 요인을 개선시킬 수 있다.The light emitting device package may include a package body having a cavity formed therein, a light source unit mounted on the cavity, and a resin filled in the cavity. The resin material may include a concave portion extending from the upper surface of the resin body to a predetermined depth. As a result, the generation of stress inside the package is reduced to prevent the foreign matter from penetrating into the package, thereby increasing the luminance and also improving the heat radiation effect, the wire stress reduction, and other reliability factors.

Description

발광소자패키지{Light-emitting device}[0001] Light-emitting device [0002]

실시예는 발광소자패키지에 관한 것이다.An embodiment relates to a light emitting device package.

발광 다이오드(Light Emitting Diode, LED)는 화합물 반도체의 특성을 이용해 전기 신호를 광의 형태로 변환시키는 소자로, 가정용 가전제품, 리모컨, 전광판, 표시기, 각종 자동화 기기 등에 사용되고 있으며, 점차 사용 영역이 넓어지고 있는 추세이다.Light Emitting Diode (LED) is a device that converts electrical signals into light by using the characteristics of compound semiconductors. It is widely used in household appliances, remote control, electric signboard, display, and various automation devices. There is a trend.

보통, 소형화된 LED는 PCB(Printed Circuit Board) 기판에 직접 장착하기 위해서 표면실장소자(Surface Mount Device)형으로 만들어지고 있고, 이에 따라 표시소자로 사용되고 있는 LED 램프도 표면실장소자 형으로 개발되고 있다. 이러한 표면실장소자는 기존의 단순한 점등 램프를 대체할 수 있으며, 이것은 다양한 칼라를 내는 점등표시기용, 문자표시기 및 영상표시기 등으로 사용된다.In general, miniaturized LEDs are made of a surface mounting device for mounting directly on a PCB (Printed Circuit Board) substrate, and an LED lamp used as a display device is also being developed as a surface mounting device type . Such a surface mount device can replace a conventional simple lighting lamp, which is used for a lighting indicator for various colors, a character indicator, an image indicator, and the like.

이와 같이 LED의 사용 영역이 넓어지면서, 생활에 사용되는 전등, 구조 신호용 전등 등에 요구되는 휘도 및 신뢰성이 높아지는 바, LED의 발광휘도 및 신뢰성을 증가시키는 것이 중요하다.As the use area of the LED is widened as described above, it is important to increase the luminance and reliability of the LED, as the luminance and reliability required for a lamp used in daily life, a lamp for a structural signal, etc. are enhanced.

실시예는 패키지 내부의 응력 발생을 최소화하여 외부이물이 침투하는 것을 방지하여 휘도를 증가시킬 수 있으며, 또한 방열효과, 와이어 스트레스 감소 및 기타 신뢰성 요인을 개선할 수 있는 발광소자패키지를 제공함에 있다.Embodiments provide a light emitting device package capable of minimizing the occurrence of stress in a package to prevent penetration of foreign objects to thereby increase brightness, and also to improve heat radiation effect, wire stress reduction, and other reliability factors.

실시예에 따른 발광소자 패키지는 캐비티가 형성된 패키지몸체, 상기 캐비티에 실장되는 광원부 및 상기캐비티에 충진된 수지물을 포함하고, 상기 수지물은 상기 수지물의 상면으로부터 소정깊이까지 이르는 오목부를 포함할 수 있다.The light emitting device package may include a package body having a cavity formed therein, a light source unit mounted on the cavity, and a resin material filled in the cavity. The resin material may include a concave portion extending from the upper surface of the resin material to a predetermined depth have.

실시예에 따른 발광소자는 수지물에 오목부를 형성하여 패키지 내부의 응력 발생을 해소시킴으로써 외부 이물이 패키지 내부로 침투하는 것을 방지하여 휘도를 증가시킬 수 있으며, 또한 방열효과, 와이어 스트레스 감소 및 기타 신뢰성 요인을 개선시키는 효과를 가진다.The light emitting device according to the embodiment can prevent the external foreign matter from penetrating into the package by eliminating the stress in the package by forming the concave portion in the resin material so that the luminance can be increased and also the heat radiation effect, It has an effect of improving the factor.

도 1은 실시예에 따른 발광소자패키지의 단면을 나타내는 단면도이다.
도 2(a), (b)는 도 1의 A부분을 확대한 확대도이다.
도 3은 실시예에 따른 발광소자패키지의 단면을 나타내는 단면도이다.
도 4은 실시예에 따른 발광소자패키지의 단면을 나타내는 단면도이다.
도 5(a), (b), (c)는 실시예에 따른 발광소자패키지의 단면과 평면을 나타내는 도이다.
도 6a는 실시예에 따른 발광소자패키지를 포함하는 조명장치를 도시한 사시도이며, 도 6b는 도 6a의 조명장치의 D-D' 단면을 도시한 단면도이다.
도 7은 실시예에 따른 발광소자패키지를 포함하는 백라이트 유닛을 도시한 분해 사시도이다.
도 8은 실시예에 따른 발광소자패키지를 포함하는 백라이트 유닛을 도시한 분해 사시도이다.
1 is a cross-sectional view illustrating a light emitting device package according to an embodiment.
Figs. 2 (a) and 2 (b) are enlarged views of the portion A in Fig.
3 is a cross-sectional view illustrating a light emitting device package according to an embodiment.
4 is a cross-sectional view illustrating a light emitting device package according to an embodiment.
5 (a), 5 (b) and 5 (c) are cross-sectional views and plan views of the light emitting device package according to the embodiment.
FIG. 6A is a perspective view illustrating a lighting device including a light emitting device package according to an embodiment, and FIG. 6B is a cross-sectional view illustrating a DD 'sectional view of the lighting device of FIG. 6A.
7 is an exploded perspective view illustrating a backlight unit including the light emitting device package according to the embodiment.
8 is an exploded perspective view illustrating a backlight unit including a light emitting device package according to an embodiment.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The advantages and features of the present invention and the manner of achieving them will become apparent with reference to the embodiments described in detail below with reference to the accompanying drawings. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein. Rather, these embodiments are provided so that this disclosure will be thorough and complete, and will fully convey the scope of the invention to those skilled in the art. To fully disclose the scope of the invention to those skilled in the art, and the invention is only defined by the scope of the claims. Like reference numerals refer to like elements throughout the specification.

공간적으로 상대적인 용어인 "아래(below)", "아래(beneath)", "하부(lower)", "위(above)", "상부(upper)" 등은 도면에 도시되어 있는 바와 같이 하나의 소자 또는 구성 요소들과 다른 소자 또는 구성 요소들과의 상관관계를 용이하게 기술하기 위해 사용될 수 있다. 공간적으로 상대적인 용어는 도면에 도시되어 있는 방향에 더하여 사용시 또는 동작 시 소자의 서로 다른 방향을 포함하는 용어로 이해되어야 한다. 예를 들면, 도면에 도시되어 있는 소자를 뒤집을 경우, 다른 소자의 "아래(below)"또는 "아래(beneath)"로 기술된 소자는 다른 소자의 "위(above)"에 놓여질 수 있다. 따라서, 예시적인 용어인 "아래"는 아래와 위의 방향을 모두 포함할 수 있다. 소자는 다른 방향으로도 배향될 수 있고, 이에 따라 공간적으로 상대적인 용어들은 배향에 따라 해석될 수 있다.The terms spatially relative, "below", "beneath", "lower", "above", "upper" May be used to readily describe a device or a relationship of components to other devices or components. Spatially relative terms should be understood to include, in addition to the orientation shown in the drawings, terms that include different orientations of the device during use or operation. For example, when inverting an element shown in the figures, an element described as "below" or "beneath" of another element may be placed "above" another element. Thus, the exemplary term "below" can include both downward and upward directions. The elements can also be oriented in different directions, so that spatially relative terms can be interpreted according to orientation.

본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 "포함한다(comprises)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급된 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자는 하나 이상의 다른 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.The terminology used herein is for the purpose of illustrating embodiments and is not intended to be limiting of the present invention. In the present specification, the singular form includes plural forms unless otherwise specified in the specification. It is noted that the terms "comprises" and / or "comprising" used in the specification are intended to be inclusive in a manner similar to the components, steps, operations, and / Or additions.

다른 정의가 없다면, 본 명세서에서 사용되는 모든 용어(기술 및 과학적 용어를 포함)는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 공통적으로 이해될 수 있는 의미로 사용될 수 있을 것이다. 또 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 용어들은 명백하게 특별히 정의되어 있지 않은 한 이상적으로 또는 과도하게 해석되지 않는다.Unless defined otherwise, all terms (including technical and scientific terms) used herein may be used in a sense commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. Also, commonly used predefined terms are not ideally or excessively interpreted unless explicitly defined otherwise.

도면에서 각층의 두께나 크기는 설명의 편의 및 명확성을 위하여 과장되거나 생략되거나 또는 개략적으로 도시되었다. 또한 각 구성요소의 크기와 면적은 실제크기나 면적을 전적으로 반영하는 것은 아니다. The thickness and size of each layer in the drawings are exaggerated, omitted, or schematically shown for convenience and clarity of explanation. Also, the size and area of each component do not entirely reflect actual size or area.

또한, 실시예에서 발광소자의 구조를 설명하는 과정에서 언급하는 각도와 방향은 도면에 기재된 것을 기준으로 한다. 명세서에서 발광소자를 이루는 구조에 대한 설명에서, 각도에 대한 기준점과 위치관계를 명확히 언급하지 않은 경우, 관련 도면을 참조하도록 한다.Further, the angle and direction mentioned in the description of the structure of the light emitting device in the embodiment are based on those shown in the drawings. In the description of the structure of the light emitting device in the specification, reference points and positional relationship with respect to angles are not explicitly referred to, refer to the related drawings.

도 1은 실시예에 따른 발광소자 패키지의 단면을 나타내는 단면도이다.1 is a cross-sectional view illustrating a light emitting device package according to an embodiment.

도 1을 참조하면, 발광소자 패키지(100)는 캐비티(C)가 형성된 패키지몸체(110), 캐비티에 실장되는 광원부(130), 리드프레임(120), 캐비티(C)에 충진되는 수지물(140)을 포함할 수 있다.1, a light emitting device package 100 includes a package body 110 having a cavity C formed therein, a light source 130 mounted on the cavity, a lead frame 120, 140).

패키지몸체(110)는 하우징 역할을 수행하는데, 중앙부에 캐비티(C)가 형성되어 상기 캐비티(C)내부에 광원부(130)가 실장될 수 있다.The package body 110 serves as a housing, and a cavity C is formed at the center of the package body 110 so that the light source unit 130 can be mounted in the cavity C.

또한, 패키지몸체(110)는 리드프레임(120)을 감싸 지지하며, 폴리프탈아미드(PPA:Polyphthalamide)와 같은 수지 재질, 실리콘(Si), 알루미늄(Al), 알루미늄 나이트라이드(AlN), 액정폴리머(PSG, photo sensitive glass), 폴리아미드9T(PA9T), 신지오택틱폴리스티렌(SPS), 금속 재질, 사파이어(Al2O3), 베릴륨 옥사이드(BeO), 인쇄회로기판(PCB, Printed Circuit Board) 중 적어도 하나로 형성될 수 있다. 패키지몸체(110)는 사출 성형, 에칭 공정 등에 의해 형성될 수 있으나 이에 대해 한정하지는 않는다.The package body 110 surrounds the lead frame 120 and is made of a resin material such as polyphthalamide (PPA), silicon (Si), aluminum (Al), aluminum nitride (AlN) (PSG), photo sensitive glass, polyamide 9T (PA9T), syndiotactic polystyrene (SPS), metal materials, sapphire (Al 2 O 3 ), beryllium oxide (BeO), printed circuit board As shown in FIG. The package body 110 may be formed by injection molding, etching, or the like, but is not limited thereto.

패키지몸체(110)에는 광원부(130)가 외부로 노출되도록 상부쪽이 개방된 캐비티(C)가 형성될 수 있으며, 캐비티(C)는 패키지몸체(110) 내부를 경사지게 형성할 수 있다. 이러한 경사면의 각도에 따라 광원부(130)에서 방출되는 광의 반사각이 달라질 수 있으며, 이에 따라 외부로 방출되는 광의 지향각을 조절할 수 있다. The cavity C may be formed at an upper portion of the package body 110 so that the light source unit 130 is exposed to the outside. The cavity C may be inclined inside the package body 110. The reflection angle of the light emitted from the light source 130 can be changed according to the angle of the inclined surface, and thus the directivity angle of the light emitted to the outside can be controlled.

광의 지향각이 줄어들수록 광원부(130)에서 외부로 방출되는 광의 집중성은 증가하고, 반대로 광의 지향각이 클수록 광원부(130)에서 외부로 방출되는 광의 집중성은 감소한다.Concentration of the light emitted to the outside from the light source unit 130 increases as the directivity angle of light decreases. Conversely, as the directivity angle of the light increases, the concentration of light emitted from the light source unit 130 decreases.

한편, 패키지몸체(110)에 형성되는 캐비티(C)를 위에서 바라본 형상은 원형, 사각형, 다각형, 타원형 등의 형상일 수 있으며, 특히 모서리가 곡선인 형상일 수도 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.The shape of the cavity C formed in the package body 110 may be circular, square, polygonal, elliptical, or the like, and may be curved, but is not limited thereto.

이 때, 캐비티(C)의 내벽을 이루는 캐비티(C)의 측면 및 바닥면에 반사코팅막(미도시)이 형성될 수 있다. 여기서, 반사코팅막(미도시)이 형성되는 패키지몸체(110)의 표면은 매끄럽거나 소정의 거칠기(roughness)를 가지도록 형성될 수 있으며, 은(Ag) 또는 알루미늄(Al) 등으로 이루어질 수 있다. At this time, a reflection coating film (not shown) may be formed on the side surface and the bottom surface of the cavity C forming the inner wall of the cavity C. Here, the surface of the package body 110 on which the reflective coating film (not shown) is formed may be smooth or have a predetermined roughness, and may be formed of silver (Ag), aluminum (Al), or the like .

리드프레임(120)은 금속 재질, 예를 들어, 티타늄(Ti), 구리(Cu), 니켈(Ni), 금(Au), 크롬(Cr), 탄탈늄(Ta), 백금(Pt), 주석(Sn), 은(Ag), 인(P), 알루미늄(Al), 인듐(In), 팔라듐(Pd), 코발트(Co), 실리콘(Si), 게르마늄(Ge), 하프늄(Hf), 루테늄(Ru), 철(Fe) 중에서 하나 이상의 물질 또는 합금을 포함할 수 있다. 또한, 리드프레임(120)은 단층 또는 다층 구조를 가지도록 형성될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.The lead frame 120 may be formed of a metal material such as titanium, copper, nickel, gold, chromium, tantalum, platinum, tin, (Al), indium (In), palladium (Pd), cobalt (Co), silicon (Si), germanium (Ge), hafnium (Hf), ruthenium (Ru), and iron (Fe). Further, the lead frame 120 may be formed to have a single layer or a multi-layer structure, but the present invention is not limited thereto.

또한, 리드프레임(120)은 서로 다른 전원을 인가하도록 제1 리드프레임(121) 및 제2 리드프레임(122)으로 구성될 수 있다. 여기서, 제1 리드프레임(121) 및 제2 리드프레임(122)은 소정 간격으로 서로 이격되어 형성되며 패키지몸체(110)에 의해 일부가 감싸질 수 있다.In addition, the lead frame 120 may be composed of a first lead frame 121 and a second lead frame 122 to apply different power sources. Here, the first lead frame 121 and the second lead frame 122 are spaced apart from each other at a predetermined interval, and a part of the first lead frame 121 and the second lead frame 122 may be surrounded by the package body 110.

광원부(130)는 제1 리드프레임(121) 및 제2 리드프레임(122) 중 어느 하나의 상부면에 실장되어 외부에서 인가되는 전원에 의해 소정파장의 빛을 출사하는 반도체소자의 일종이며, GaN(질화 갈륨), AlN(질화 알루미늄), InN(질화 인듐), GaAs(갈륨 비소) 등의 3족 및 5족 화합물을 기반으로 하여 구현될 수 있다. 일 예로 광원부(130)는 발광 다이오드일 수 있다. The light source unit 130 is a type of semiconductor device mounted on the upper surface of any one of the first lead frame 121 and the second lead frame 122 and emitting light of a predetermined wavelength by an external power source, (Gallium nitride), AlN (aluminum nitride), InN (indium nitride), GaAs (gallium arsenide), and the like. For example, the light source unit 130 may be a light emitting diode.

발광 다이오드는 예를 들어, 적색, 녹색, 청색, 백색 등의 빛을 방출하는 유색 발광 다이오드 또는 자외선을 방출하는 UV(Ultra Violet) 발광 다이오드일 수 있으나, 이에 대해 한정하지는 않는다. 실시예에서는 단일의 발광다이오드가 중심부에 구비되는 것으로 도시하여 설명하고 있으나, 이에 한정하지 않고 복수개의 발광다이오드를 구비하는 것 또한 가능하다.The light emitting diode may be, for example, a colored light emitting diode that emits light such as red, green, blue, or white, or a UV (Ultra Violet) light emitting diode that emits ultraviolet light. In the embodiment, a single light emitting diode is illustrated as being provided at the central portion, but the present invention is not limited thereto, and it is also possible to include a plurality of light emitting diodes.

또한, 발광 다이오드는 그 전기 단자들이 모두 상부 면에 형성된 수평형타입(Horizontal type)이거나, 또는 상, 하부 면에 형성된 수직형 타입(Vertical type) 모두에 적용 가능하다.In addition, the light emitting diode is applicable to both a horizontal type in which all the electric terminals are formed on the upper surface or a vertical type formed in the upper and lower surfaces.

수지물(140)은 캐비티(C)에 충진되어 광원부(130) 및 와이어를 밀봉시켜 줄 수 있다. 이 때, 수지물(140)은 실리콘 또는 에폭시와 같은 투광성 수지 재료로 형성될 수 있으며, 상기 재료를 캐비티(C) 내에 충진한 후, 이를 자외선 또는 열 경화하는 방식으로 형성될 수 있다.The resin material 140 may be filled in the cavity C to seal the light source unit 130 and the wire. At this time, the resin material 140 may be formed of a light transmitting resin material such as silicon or epoxy, and the material may be filled in the cavity C and then formed by ultraviolet ray or thermal curing.

수지물(140)의 표면은 오목 렌즈 형상, 볼록 렌즈 형상, 플랫한 형상 등으로 형성될 수 있으며, 수지물(140)의 형태에 따라 광원부(130)에서 방출된 광의 지향각이 변화될 수 있다. The surface of the resin material 140 may be formed in a concave lens shape, a convex lens shape, a flat shape, or the like, and the orientation angle of the light emitted from the light source unit 130 may be changed according to the shape of the resin material 140 .

또한, 수지물(140)은 수지물(140)의 상면으로부터 소정깊이(d2)까지 이르는오목부(h1)를 포함할 수 있다.The resin material 140 may include a concave portion h1 extending from the upper surface of the resin material 140 to a predetermined depth d2.

발광소자패키지(100)는 열충격이나 외부 환경 변화에 의해 수지물(140) 등의 재료들이 팽창 및 수축을 반복함으로써 패키지몸체(110) 내부에 응력이 발생되는데, 수지물(140)에 오목부를 형성하면 패키지몸체(110) 내부의 응력 발생 영향을 해소할 수 있다. In the light emitting device package 100, stress is generated in the package body 110 by repeating the expansion and contraction of materials such as the resin material 140 due to thermal shock or changes in the external environment. In the resin material 140, The influence of stress generation inside the package body 110 can be solved.

오목부(h1)는 수지물(140)이 경도가 작아 소프트한 경우에는 수지물에 바늘을 사용하여 형성할 수 있다. 예를 들어, 속이 빈 원통형 바늘을 오목부를 형성할 위치에 소정깊이(d2)까지 삽입시킨 후 공기압을 이용하여 바늘 구멍에 끼인 수지물을 제거하여 형성할 수 있다. The concave portion h1 can be formed by using a needle in the resin material when the resin material 140 is soft because the hardness is small. For example, the hollow cylindrical needle may be inserted to a position at which the concave portion is to be formed to a predetermined depth d2, and then the resin material adhered to the needle hole may be removed using air pressure.

또한, 수지물(140)이 경도가 큰 경우에는 드릴을 이용하여 형성할 수 있으며, 이외에도 레이저를 이용하거나 수지물(140)이 완전히 경화되기 전에 강한 공기압을 이용하여 수지물 상면에 오목부(h1)를 형성할 수 있다. In addition, when the resin material 140 has a large hardness, it can be formed by using a drill. In addition, by using a laser or using a strong air pressure before the resin material 140 is completely cured, concave portions h1 ) Can be formed.

오목부(h1)는 캐비티 깊이(d1)의 1/3 내지 2/3로 소정깊이(d2)를 가질 수 있다. 오목부(h1)의 깊이가 캐비티 깊이의 2/3보다 크면, 광원부(130)가 외부로 노출될 수 있고, 캐비티 깊이의 1/3보다 작으면, 패키지 몸체(110) 내부의 응력 발생을 효과적으로 감소시킬 수 없다. The concave portion h1 may have a predetermined depth d2 from 1/3 to 2/3 of the cavity depth d1. If the depth of the recessed portion h1 is larger than 2/3 of the cavity depth, the light source unit 130 can be exposed to the outside, and if it is smaller than 1/3 of the cavity depth, the stress generation inside the package body 110 can be effectively Can not be reduced.

또한, 오목부(h1)의 상부폭(w2)은 0.1mm 내지 0.5mm일 수 있다.The upper width w2 of the concave portion h1 may be 0.1 mm to 0.5 mm.

오목부(h1)의 상부폭(w2)이 0.5mm보다 크면, 오목부(h1)에 불순물이 침투하기 쉽고 오목부(h1)를 형성하면서 제거되는 수지물(140)의 상면의 면적이 과도하게 감소되어 밀봉력이 약해질 수 있다. 반면에, 오목부의 상부폭이 0.1mm보다 작으면 오목부(h1)를 형성하는 공정이 용이하지 않으며 응력 발생을 효과적으로 감소시킬 수 없다.If the upper width w2 of the concave portion h1 is larger than 0.5 mm, impurities may easily penetrate the concave portion h1 and the area of the upper surface of the resin material 140 to be removed while forming the concave portion h1 may be excessively large And the sealing force can be weakened. On the other hand, if the top width of the concave portion is smaller than 0.1 mm, the process of forming the concave portion h1 is not easy and stress generation can not be effectively reduced.

또한, 광원부(130) 중심과 오목부(h1)의 중심축의 수평거리(L)가 캐비티(C) 상부폭(w1)의 1/6보다 작을 수 있다. The horizontal distance L between the center of the light source 130 and the central axis of the recess h1 may be smaller than 1/6 of the top width w1 of the cavity C. [

광원부(130)로부터 수평거리가 캐비티 상부폭(w1)의 1/6이내인 위치에서 응력발생이 집중되기 때문에 오목부(h1)가 광원부(130)로부터 수평거리가 캐비티 상부폭(w1)의 1/6이내인 위치에 형성되면 응력발생을 효과적으로 감소시킬 수 있다.The horizontal distance from the light source unit 130 is concentrated at the position where the horizontal distance is within 1/6 of the cavity top width w1 so that the horizontal distance from the light source unit 130 to the cavity top width w1 is 1 / 6, stress generation can be effectively reduced.

상술한 바와 같이 오목부를 형성함으로써, 패키지몸체(110) 내부의 응력 발생에 의해 황(sulfur)과 같은 외부이물 플럭스(flux)가 패키지몸체(110) 내부로 침투하는 것을 방지할 수 있어 휘도증가, 와이어 스트레스 감소 및 기타 신뢰성 요인을 개선시킬 수 있다. 또한, 오목부(h1)를 통해 외기와 직접적 열교환이 가능하므로 방열효과를 가질 수 있다.By forming the concave portion as described above, it is possible to prevent external flux of water such as sulfur from penetrating into the inside of the package body 110 due to the occurrence of stress in the package body 110, Wire stress reduction and other reliability factors. Moreover, since heat can be directly exchanged with the outside air through the concave portion h1, the heat radiation effect can be obtained.

또한, 수지물(140) 위에는 다른 렌즈 형상의 수지물이 형성되거나 부착될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.Further, other resin-shaped resin materials may be formed or adhered on the resin material 140, but the present invention is not limited thereto.

수지물(140)에는 형광체를 포함할 수 있다. 여기서, 형광체는 광원부(130)에서 방출되는 광의 파장에 따라 종류가 선택되어 발광소자패키지(100)가 백색광을 구현하도록 할 수 있다. The resin material 140 may include a phosphor. Here, the phosphor may be selected according to the wavelength of the light emitted from the light source unit 130, so that the light emitting device package 100 may realize white light.

즉, 형광체는 광원부(130)에서 방출되는 제1 빛을 가지는 광에 의해 여기 되어 제2 빛을 생성할 수 있는바, 예를 들어, 광원부(130)가 청색 발광 다이오드이고 형광체가 황색 형광체인 경우, 황색 형광체는 청색 빛에 의해 여기 되어 황색 빛을 방출할 수 있으며, 청색 발광 다이오드에서 발생한 청색 빛 및 청색 빛에 의해 여기 되어 발생한 황색 빛이 혼색됨에 따라 발광소자패키지(100)는 백색 빛을 제공할 수 있다. That is, the phosphor may be excited by the light having the first light emitted from the light source unit 130 to generate the second light. For example, when the light source unit 130 is a blue light emitting diode and the phosphor is a yellow phosphor , The yellow phosphor may be excited by blue light to emit yellow light, and the blue light generated from the blue light emitting diode and the yellow light generated by excitation by the blue light may be mixed, so that the light emitting device package 100 emits white light can do.

이와 유사하게, 광원부(130)가 녹색 발광 다이오드인 경우는 magenta 형광체 또는 청색과 적색의 형광체를 혼용하는 경우, 광원부(130)가 적색 발광 다이오드인 경우는 Cyan형광체 또는 청색과 녹색 형광체를 혼용하는 경우를 예로 들 수 있다.Similarly, when the light source unit 130 is a green light emitting diode, a magenta phosphor or a blue phosphor and a red phosphor are mixed, and when the light source unit 130 is a red light emitting diode, a cyan phosphor or a mixture of blue and green phosphors For example.

이러한 형광체는 YAG계, TAG계, 황화물계, 실리케이트계, 알루미네이트계, 질화물계, 카바이드계, 니트리도실리케이트계, 붕산염계, 불화물계, 인산염계 등의 공지된 형광체일 수 있다.Such a fluorescent material may be a known fluorescent material such as a YAG, TAG, sulfide, silicate, aluminate, nitride, carbide, nitridosilicate, borate, fluoride or phosphate.

도 2(a)는 광원부가 수평형 발광소자일 때의 도 1의 A부분을 확대한 도이고, 도 2(b)는 광원부가 수직형 발광소자일 때의 도 1의 A부분을 확대한 도이다.Fig. 2 (a) is an enlarged view of a portion A in Fig. 1 when the light source portion is a horizontal light emitting element, Fig. 2 (b) is an enlarged view of a portion A in Fig. 1 when the light source portion is a vertical light emitting element to be.

도 2(a)를 참조하면, 실시예에 따른 수평형 발광소자는 지지기판(1), 제1 도전형 반도체층(2), 활성층(3), 제2 도전형 반도체층(4)을 포함하는 발광구조물(5), 투광성전극층(6), 제1 전극패드(8) 및 제2 전극패드(7)를 포함할 수 있다. 2 (a), the horizontal light emitting device according to the embodiment includes a support substrate 1, a first conductivity type semiconductor layer 2, an active layer 3, and a second conductivity type semiconductor layer 4 The light emitting structure 5, the light transmitting electrode layer 6, the first electrode pad 8, and the second electrode pad 7,

지지기판(1)은 전도성 기판 또는 절연성 기판으로 이루어질 수 있으며, 예를 들어, 사파이어(Al2O3), SiC, Si, GaAs, GaN, ZnO, Si, GaP, InP, Ge, 및 Ga203 중 적어도 어느 하나로 형성될 수 있다. 이러한 지지기판(1)은 습식세척을 하여 표면의 불순물을 제거할 수 있고, 지지기판(1)은 광 추출 효과를 향상시키기 위해 표면이 패터닝(Patterned SubStrate, PSS)될 수 있으나, 이에 한정하지는 않는다.The support substrate 1 may be made of a conductive substrate or an insulating substrate, e.g., sapphire (Al 2 O 3), SiC, Si, GaAs, GaN, ZnO, Si, GaP, InP, Ge, and Ga 2 0 3 < / RTI > The support substrate 1 may be wet-cleaned to remove impurities on the surface, and the support substrate 1 may be patterned (PSS) to enhance the light extraction effect, but is not limited thereto .

또한, 도시하지는 않았으나, 지지기판(1) 상에는 지지기판(1)과 제1 도전형 반도체층(2)간의 격자 부정합을 완화하고 도전형 반도체층들이 용이하게 성장될 수 있도록 버퍼층(미도시)을 형성할 수 있다.Although not shown, a buffer layer (not shown) is formed on the supporting substrate 1 so as to mitigate lattice mismatch between the supporting substrate 1 and the first conductivity type semiconductor layer 2 and to facilitate growth of the conductive type semiconductor layers. .

버퍼층(미도시)은 지지기판(1)상에 단결정으로 성장할 수 있으며, 단결정으로 성정한 버퍼층(미도시)은 버퍼층(미도시)상에 성장하는 제1 도전형 반도체층(2)의 결정성을 향상시킬 수 있다.A buffer layer (not shown) may be grown on the support substrate 1 as a single crystal, and a buffer layer (not shown) formed of a single crystal may be grown on the buffer layer (not shown) Can be improved.

버퍼층(미도시)은 AlN, GaN를 포함하여 AlInN/GaN 적층 구조, InGaN/GaN 적층 구조, AlInGaN/InGaN/GaN의 적층 구조 등의 구조로 형성될 수 있다.The buffer layer (not shown) may be formed of a structure including AlInN / GaN laminated structure including AlN and GaN, InGaN / GaN laminated structure, and AlInGaN / InGaN / GaN laminated structure.

발광구조물(130)은 지지기판(1) 상에 위치하며, 제1 도전형 반도체층(2), 활성층(3) 및 제2 도전형 반도체층(4)을 포함할 수 있고, 제1 도전형 반도체층(2)과 제2 도전형 반도체층(4) 사이에 활성층(3)이 개재된 구성으로 이루어질 수 있다.The light emitting structure 130 may be disposed on the support substrate 1 and may include a first conductivity type semiconductor layer 2, an active layer 3 and a second conductivity type semiconductor layer 4, The active layer 3 may be interposed between the semiconductor layer 2 and the second conductivity type semiconductor layer 4.

제1 도전형 반도체층(2)은 AlxInyGa(1-x-y)N (0=x=1, 0=y=1, 0=x+y=1)의 조성식을 갖는 반도체 물질, 예를 들어, GaN, InN, AlN, InGaN, AlGaN, InAlGaN, AlInN 중 어느 하나 이상으로 형성될 수 있다. 또한 N를 대신하여 다른 5족 원소를 이용하여 형성될 수 있다. 예를 들어, AlGaAs, InGaAs, AlInGaAs, GaP, AlGaP, InGaP, AlInGaP 및 InP 중 어느 하나 이상으로 형성될 수 있다. 또한, 제1 도전형 반도체층(2)이 일 예로, N형 도전형 반도체층인 경우는, N형 도펀트로서, Si, Ge, Sn, Se, Te 등을 포함할 수 있다.The first conductivity type semiconductor layer 2 is a semiconductor material having a composition formula of Al x In y Ga (1-xy) N (0 = x = 1, 0 = y = 1, 0 = x + y = 1) For example, one or more of GaN, InN, AlN, InGaN, AlGaN, InAlGaN, and AlInN. And may be formed using another Group 5 element instead of N. For example, at least one of AlGaAs, InGaAs, AlInGaAs, GaP, AlGaP, InGaP, AlInGaP, and InP. When the first conductivity type semiconductor layer 2 is, for example, an N-type conductivity-type semiconductor layer, it may include Si, Ge, Sn, Se, Te or the like as an N-type dopant.

제1 도전형 반도체층(2)상에는 활성층(3)이 형성될 수 있다. 활성층(3)은 전자와 정공이 재결합되는 영역으로, 전자와 정공이 재결합함에 따라 낮은 에너지 준위로 천이하며, 그에 상응하는 파장을 가지는 빛을 생성할 수 있다.The active layer 3 may be formed on the first conductivity type semiconductor layer 2. The active layer 3 is a region where electrons and holes are recombined. As the electrons and the holes are recombined, the active layer 3 transits to a low energy level, and light having a wavelength corresponding thereto can be generated.

활성층(3)은 예를 들어, InxAlyGa1 -x- yN (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 가지는 반도체 재료를 포함하여 형성할 수 있으며, 단일 양자 우물 구조 또는 다중 양자 우물 구조(MQW: Multi Quantum Well)로 형성될 수 있다. The active layer 3 includes a semiconductor material having a composition formula of In x Al y Ga 1 -x- y N (0? X? 1, 0? Y? 1, 0? X + y? 1) And may be formed of a single quantum well structure or a multi quantum well (MQW) structure.

따라서, 더 많은 전자가 양자우물층의 낮은 에너지 준위로 모이게 되며, 그 결과 전자와 정공의 재결합 확률이 증가 되어 발광효과가 향상될 수 있다. 또한, 양자선(Quantum wire)구조 또는 양자점(Quantum dot)구조를 포함할 수도 있다. Therefore, more electrons are collected at the lower energy level of the quantum well layer, and as a result, the recombination probability of electrons and holes is increased, and the luminous efficiency can be improved. It may also include a quantum wire structure or a quantum dot structure.

활성층(3)상에는 제2 도전형 반도체층(4)이 형성될 수 있다. 제2 도전형 반도체층(4)은 p형 도전형 반도체층으로 구현되어, 활성층(3)에 정공을 주입할 수 있다. 예를 들어 p형 도전형 반도체층은 InxAlyGa1 -x- yN (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 갖는 반도체 재료, 예를 들어 GaN, AlN, AlGaN, InGaN, InN, InAlGaN, AlInN 등에서 선택될 수 있으며, Mg, Zn, Ca, Sr, Ba 등의 p형 도펀트가 도핑될 수 있다.The second conductive semiconductor layer 4 may be formed on the active layer 3. The second conductivity type semiconductor layer 4 is formed of a p-type conductivity type semiconductor layer, and holes can be injected into the active layer 3. For example, the p-type conductivity type semiconductor layer is a semiconductor material having a composition formula of In x Al y Ga 1 -x- y N (0? X? 1, 0? Y? 1, 0? X + y? For example, GaN, AlN, AlGaN, InGaN, InN, InAlGaN and AlInN, and a p-type dopant such as Mg, Zn, Ca, Sr and Ba may be doped.

또한 제2 도전형 반도체층(4)상에는 제3 도전형 반도체층(미도시)을 형성할 수도 있다. 여기서 제3 도전형 반도체층은 제2 도전형 반도체층(4)과 극성이 반대인 도전형 반도체층으로 구현될 수 있다. A third conductivity type semiconductor layer (not shown) may be formed on the second conductivity type semiconductor layer 4. Here, the third conductive type semiconductor layer may be implemented as a conductive type semiconductor layer whose polarity is opposite to that of the second conductive type semiconductor layer 4.

한편, 상술한 제1 도전형 반도체층(2), 활성층(3) 및 제2 도전형 반도체층(4)은 유기금속 화학 증착법(MOCVD; Metal Organic Chemical Vapor Deposition), 화학 증착법(CVD; Chemical Vapor Deposition), 플라즈마 화학 증착법(PECVD; Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition), 분자선 성장법(MBE; Molecular Beam Epitaxy), 수소화물 기상 성장법(HVPE; Hydride Vapor Phase Epitaxy), 스퍼터링(Sputtering) 등의 방법을 이용하여 형성될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.The first conductivity type semiconductor layer 2, the active layer 3 and the second conductivity type semiconductor layer 4 may be formed by metal organic chemical vapor deposition (MOCVD), chemical vapor deposition (CVD) Deposition, plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD), molecular beam epitaxy (MBE), hydride vapor phase epitaxy (HVPE), and sputtering And the present invention is not limited thereto.

또한, 상술한 바와는 달리 실시예에서 제 1도전형 반도체층(2)이 p형 도전형 반도체층으로 구현되고, 제2 도전형 반도체층(4)이 n형 도전형 반도체층으로 구현될 수 있으며, 이에 한정하지 않는다.In addition, unlike the above-described embodiments, the first conductivity type semiconductor layer 2 may be a p-type conductivity type semiconductor layer, and the second conductivity type semiconductor layer 4 may be an n-type conductivity type semiconductor layer But is not limited thereto.

투광성전극층(6)은 발광구조물(5)상에 위치하며, 산화인듐주석(ITO, Indium Tin Oxide), 알루미늄산화아연(AZO, aluminum zinc oxide), 인듐 아연 산화물(IZO, Indium Zinc Oxide), IZTO(indium zinc tin oxide), IAZO(indium aluminum zinc oxide), IGZO(indium gallium zinc oxide), IGTO(indium gallium tin oxide), ATO(antimony tin oxide), GZO(gallium zinc oxide), IrOx, RuOx, RuOx/ITO, Ni/IrOx/Au, 또는 Ni/IrOx/Au/ITO 중 적어도 하나로 형성될 수 있다. 다만 이에 한정되는 것은 아니다.The transparent electrode layer 6 is disposed on the light emitting structure 5 and is formed of indium tin oxide (ITO), aluminum zinc oxide (AZO), indium zinc oxide (IZO) (indium zinc tin oxide), IAZO (indium aluminum zinc oxide), IGZO (indium gallium zinc oxide), IGTO (indium gallium tin oxide), ATO (antimony tin oxide), GZO (gallium zinc oxide), IrO x, RuO x , RuO x / ITO, Ni / IrO x / Au, or Ni / IrO x / Au / ITO. However, the present invention is not limited thereto.

제1 전극패드(8)는 투광성전극층(6)의 상부에 형성될 수 있으며, 제2 전극패드(7)는 제1 도전형 반도체층(2)의 상부에 형성될 수 있다. 이때, 제2 도전형 반도체층(4)부터 제1 도전형 반도체층(2)의 일부분까지 메사식각함으로써, 제2 전극패드(7)를 형성할 수 있는 공간을 확보할 수 있다. 제1 도전형 반도체층(2) 표면의 식각되어 노출된 영역에 제2 전극패드(7)를 형성할 수 있다. The first electrode pad 8 may be formed on the transparent electrode layer 6 and the second electrode pad 7 may be formed on the first conductive semiconductor layer 2. At this time, mesa etching is performed from the second conductivity type semiconductor layer 4 to a portion of the first conductivity type semiconductor layer 2, thereby securing a space for forming the second electrode pad 7. The second electrode pad 7 can be formed in the exposed region of the surface of the first conductivity type semiconductor layer 2.

또한, 제1 전극패드(8) 및 제2 전극패드(7)는 전도성 물질로 형성될 수 있으며, 예를 들어 인듐(In), 코발트(Co), 실리콘(Si), 게르마늄(Ge), 금(Au), 팔라듐(Pd), 백금(Pt), 루테늄(Ru), 레늄(Re), 마그네슘(Mg), 아연(Zn), 하프늄(Hf), 탄탈(Ta), 로듐(Rh), 이리듐(Ir), 텅스텐(W), 티타늄(Ti), 은(Ag), 크롬(Cr), 몰리브덴(Mo), 니오브(Nb), 알루미늄(Al), 니켈(Ni) 및 구리(Cu) 중에서 선택된 어느 하나로 형성하거나 둘 이상의 합금으로 형성할 수 있으며, 서로 다른 둘 이상의 물질을 적층하여 형성할 수 있다.The first electrode pad 8 and the second electrode pad 7 may be formed of a conductive material such as indium (In), cobalt (Co), silicon (Si), germanium (Ge) (Au), Pd, Pt, Ru, Re, Mg, Zn, Hf, Ta, Rh, (Al), nickel (Ni), and copper (Cu) selected from the group consisting of Ir, tungsten, titanium, silver, chromium, molybdenum, niobium, Or may be formed of two or more alloys, or may be formed by laminating two or more different materials.

다시 도 2(a)를 참조하면, 수평형 발광소자는 2개의 와이어(9)를 통한 와이어본딩 방식으로 제1 리드프레임(121) 및 제2 리드프레임(122)과 전기적으로 연결되어 외부 전원을 인가 받는다.2 (a), the horizontal light emitting device is electrically connected to the first lead frame 121 and the second lead frame 122 by a wire bonding method through two wires 9, .

도 2(b)를 참조하면, 도 2를 참조하면, 실시예에 따른 수직형 발광소자는 지지기판(10), 제1 도전형 반도체층(21), 활성층(22), 제2 도전형 반도체층(23)을 포함하는 발광구조물(20), 투광성전극층(30), 반사층(40), 전도층(50) 및 제1 전극패드(60)를 포함할 수 있다. 도 2(a)의 실시예와 비교하면, 지지기판(10)상에 전도층(50) 및 반사층(40)을 더 포함하고, 제1 전극패드(60)는 제1 도전형 반도체층(21)상에 형성된다는 차이가 있다. 이하 동일한 구성요소에 대한 설명은 생략한다.2, a vertical light emitting device according to an embodiment includes a support substrate 10, a first conductive semiconductor layer 21, an active layer 22, a second conductive semiconductor The light emitting structure 20 including the layer 23, the light transmitting electrode layer 30, the reflective layer 40, the conductive layer 50, and the first electrode pad 60. Compared with the embodiment of FIG. 2 (a), the light emitting device further includes a conductive layer 50 and a reflective layer 40 on the supporting substrate 10, and the first electrode pad 60 is formed on the first conductive semiconductor layer 21 ). ≪ / RTI > Description of the same components will be omitted below.

지지기판(10)은 전도성 물질로 형성 될 수 있으며, 예를 들어, 금(Au), 니켈(Ni), 텅스텐(W), 몰리브덴(Mo), 구리(Cu), 알루미늄(Al), 탄탈(Ta), 은(Ag), 백금(Pt), 크롬(Cr), Si, Ge, GaAs, ZnO, GaN, Ga2O3 또는 SiC, SiGe, CuW 중에서 선택된 어느 하나로 형성하거나 둘 이상의 합금으로 형성할 수 있으며, 서로 다른 둘 이상의 물질을 적층하여 형성할 수 있다.The support substrate 10 may be formed of a conductive material and may be formed of a metal such as gold (Au), nickel (Ni), tungsten (W), molybdenum (Mo), copper (Cu) Ta, Ag, Pt, Cr, Si, Ge, GaAs, ZnO, GaN, Ga 2 O 3 or SiC, SiGe or CuW, or formed of two or more alloys And may be formed by laminating two or more different materials.

이와 같은 지지기판(10)은 발광소자에서 발생하는 열의 방출을 용이하게 하여 발광소자의 열적 안정성을 향상시킬 수 있다.The support substrate 10 facilitates the emission of heat generated in the light emitting device, thereby improving the thermal stability of the light emitting device.

지지기판(10) 상으로는 지지기판(10)과 전도층(50)의 결합을 위하여 결합층(미도시)을 형성할 수 있다. 결합층(미도시)은 예를 들어, 금(Au), 주석(Sn), 인듐(In), 은(Ag), 니켈(Ni), 나이오븀(Nb) 및 구리(Cu)로 구성되는 군으로부터 선택되는 물질 또는 이들의 합금으로 형성될 수 있다.A coupling layer (not shown) may be formed on the supporting substrate 10 for coupling the supporting substrate 10 and the conductive layer 50. The bonding layer (not shown) may be formed of, for example, a layer composed of gold (Au), tin (Sn), indium (In), silver (Ag), nickel (Ni), niobium (Nb) and copper , Or an alloy thereof.

전도층(50)은 니켈(Ni-nickel), 백금(Pt), 티탄(Ti), 텅스텐(W), 바나듐(V), 철(Fe), 몰리브덴(Mo)로 구성되는 군으로부터 선택되는 물질 또는 이들이 선택적으로 포함된 합금으로 이루어질 수 있다. The conductive layer 50 is formed of a material selected from the group consisting of Ni-nickel, platinum Pt, titanium Ti, tungsten W, vanadium V, iron Fe, and molybdenum Mo Or an alloy optionally containing them.

전도층(50)은 스퍼터링 증착 방법을 사용하여 형성할 수 있다. 스퍼터링 증착 방법을 사용할 경우, 이온화된 원자를 전기장에 의해 가속시켜, 전도층(50)의 소스 재료(source material)에 충돌시키면, 소스 재료의 원자들이 튀어나와 증착된다. 또한, 실시예에 따라 전기 화학적인 금속 증착 방법이나, 유테틱 메탈을 이용한 본딩 방법 등을 사용할 수도 있다. 실시예에 따라 전도층(50)은 복수의 레이어로 형성될 수도 있다. The conductive layer 50 may be formed using a sputtering deposition method. When a sputter deposition method is used, ions of the source material are sputtered and deposited when the ionized atoms are accelerated by an electric field to impinge on the source material of the conductive layer 50. In addition, an electrochemical metal deposition method, a bonding method using a eutectic metal, or the like may be used according to the embodiment. The conductive layer 50 may be formed of a plurality of layers according to an embodiment.

전도층(50)은 발광 소자의 제조 공정상 발생할 수 있는 기계적 손상(깨짐 또는 박리 등)을 최소화할 수 있는 효과가 있다. The conductive layer 50 has an effect of minimizing mechanical damage (cracking or peeling) that may occur in the manufacturing process of the light emitting device.

또한, 전도층(50)은 지지기판(10) 또는 결합층(미도시)을 구성하는 금속 물질이 발광 구조물(20)으로 확산되는 것을 방지하는 효과가 있다.In addition, the conductive layer 50 has an effect of preventing diffusion of the metal material constituting the support substrate 10 or the bonding layer (not shown) into the light emitting structure 20. [

한편, 제 1도전형 반도체층(21)의 표면 일부 영역 또는 전체 영역에 대해 소정의 식각 방법으로 광 추출효율을 향상시키기 위한 요철을 형성해 줄 수 있다.On the other hand, irregularities for improving light extraction efficiency can be formed on a part of the surface or the entire surface of the first conductivity type semiconductor layer 21 by a predetermined etching method.

투광성전극층(30)은 본딩층(미도시) 및 반사층(40)을 포함할 수 있으며, 이때 본딩층(미도시)은 배리어 금속(barrier metal), 또는 본딩 금속, 예를 들어, 티탄(Ti), 금(Au), 주석(Sn), 니켈(Ni), 크롬(Cr), 갈륨(Ga), 인듐(In), 비스무트(Bi), 구리(Cu), 은(Ag) 또는 탄탈(Ta) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.The light transmitting electrode layer 30 may include a bonding layer (not shown) and a reflective layer 40 wherein the bonding layer (not shown) may be a barrier metal or a bonding metal, (Au), tin (Sn), nickel (Ni), chrome (Cr), gallium (Ga), indium (In), bismuth (Bi), copper (Cu), silver (Ag) Or the like.

투광성전극층(30)은 오믹층/반사층/본딩층의 구조이거나, 오믹층/반사층의 적층 구조이거나, 반사층(오믹 포함)/본딩층의 구조일 수 있으나, 이에 대해 한정하지는 않는다. 또한, 위 층들은 매우 얇은 두께로 형성되어 실제 제조시에는 층간 물질 중 일부가 섞여있는 형태(alloy)로 나타날 수도 있다. The light transmitting electrode layer 30 may be a structure of an ohmic layer / a reflection layer / a bonding layer, a laminate structure of an ohmic layer / a reflection layer, or a structure of a reflection layer (including an ohmic layer) / a bonding layer. In addition, the upper layers may be formed to have a very thin thickness and may appear as an alloy in which some of the interlayer materials are mixed during actual manufacture.

반사층(40)은 발광구조물(20)의 활성층(22)에서 발생된 광 중 일부가 지지기판(10) 방향으로 향하는 경우, 발광소자의 상부 방향으로 향하도록 광을 반사시켜 발광소자의 광 추출 효율을 향상시킬 수 있다.The reflective layer 40 reflects light toward the upper side of the light emitting device when a part of the light generated in the active layer 22 of the light emitting structure 20 is directed toward the support substrate 10, Can be improved.

반사층(40)은 알루미늄(Al), 은(Ag), 니켈(Ni), 백금(Pt), 로듐(Rh), 혹은 Al이나 Ag이나 Pt나 Rh를 포함하는 합금을 포함하는 금속층으로 이루어지거나, 상기 금속 물질과 IZO, IZTO, IAZO, IGZO, IGTO, AZO, ATO 등의 투광성 전도성 물질을 이용하여 다층으로 형성할 수 있다. 또한 반사층(270)은 IZO/Ni, AZO/Ag, IZO/Ag/Ni, AZO/Ag/Ni 등으로 적층할 수 있다. 또한 반사층(40)을 발광 구조물(예컨대, 제 2도전형 반도체층(23))과 오믹 접촉하는 물질로 형성할 경우, 오믹층(미도시)은 별도로 형성하지 않을 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다. The reflective layer 40 is made of a metal layer containing aluminum (Al), silver (Ag), nickel (Ni), platinum (Pt), rhodium (Rh), or an alloy containing Al, Ag, Pt, The metal material and the light transmitting conductive material such as IZO, IZTO, IAZO, IGZO, IGTO, AZO, and ATO can be used to form a multilayer. Also, the reflective layer 270 can be laminated with IZO / Ni, AZO / Ag, IZO / Ag / Ni, AZO / Ag / In the case where the reflective layer 40 is formed of a material that makes an ohmic contact with the light emitting structure (for example, the second conductivity type semiconductor layer 23), the ohmic layer (not shown) may not be formed separately, .

오믹층(미도시)은 발광 구조물(예컨대, 제2 도전형 반도체층(23))의 하면에 오믹 접촉되며, 층 또는 복수의 패턴으로 형성될 수 있다. 오믹층(미도시)은 투광성 전도층과 금속이 선택적으로 사용될 수 있다. 상기 오믹층(미도시)은 투광성 전도층과 금속을 선택적으로 사용할 수 있으며, 예를 들어, ITO(indium tin oxide), IZO(indium zinc oxide), IZTO(indium zinc tin oxide), IAZO(indium aluminum zinc oxide), IGZO(indium gallium zinc oxide), IGTO(indium gallium tin oxide), AZO(aluminum zinc oxide), ATO(antimony tin oxide), GZO(gallium zinc oxide), IZON(IZO Nitride), AGZO(Al-Ga ZnO), IGZO(In-Ga ZnO), ZnO, IrOx, RuOx, NiO, RuOx/ITO, Ni/IrOx/Au, 및 Ni/IrOx/Au/ITO, Ag, Ni, Cr, Ti, Al, Rh, Pd, Ir, Sn, In, Ru, Mg, Zn, Pt, Au, Hf 중 적어도 하나를 포함하여 형성될 수 있으며, 이러한 재료에 한정되는 않는다. 그리고, 상기 오믹층(미도시)은 스퍼터링법이나 전자빔 증착법에 의하여 형성될 수 있다.The ohmic layer (not shown) is in ohmic contact with the lower surface of the light emitting structure (for example, the second conductivity type semiconductor layer 23), and may be formed as a layer or a plurality of patterns. As the ohmic layer (not shown), a light-transmitting conductive layer and a metal may be selectively used. The ohmic layer (not shown) may selectively use a light-transmitting conductive layer and a metal. For example, the ohmic layer may be formed of indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), indium zinc tin oxide (IZTO) zinc oxide (IGZO), indium gallium tin oxide (IGTO), aluminum zinc oxide (AZO), antimony tin oxide (ATO), gallium zinc oxide (GZO), IZON TiO 2, Ag, Ni, Cr, Ti, Al, and ZnO), IGZO (In-Ga ZnO), ZnO, IrOx, RuOx, NiO, RuOx / ITO, Ni / IrOx / Au, And may include at least one of Rh, Pd, Ir, Sn, In, Ru, Mg, Zn, Pt, Au and Hf. The ohmic layer (not shown) may be formed by a sputtering method or an electron beam evaporation method.

반사층(40)과 투광성전극층(30)은 폭 및 길이가 동일한 것으로 설명하지만, 폭 및 길이 중 적어도 하나가 상이할 수 있으며 이에 한정을 두지 않는다.Although the reflective layer 40 and the transparent electrode layer 30 are described as having the same width and length, at least one of the width and the length may be different and is not limited thereto.

다시 도 2(b)를 참조하면, 수직형 발광소자는 1개의 와이어(70)를 통한 와이어본딩 방식으로 제1 리드프레임(121) 및 제2 리드프레임(122)과 전기적으로 연결되어 외부 전원을 인가 받는다.2 (b), the vertical light emitting device is electrically connected to the first lead frame 121 and the second lead frame 122 by a wire bonding method through one wire 70, .

도 3은 실시예에 따른 발광소자패키지의 단면을 나타내는 단면도이다.3 is a cross-sectional view illustrating a light emitting device package according to an embodiment.

도 3을 참조하면, 오목부(h2)는 광원부(230)와 수직적으로 중첩되게 형성할 수 있다. Referring to FIG. 3, the concave portion h2 may be vertically overlapped with the light source portion 230. Referring to FIG.

광원부(230)와 수직적으로 중첩되는 위치에 열충격이 집중되므로 그 위치에 오목부(h2)를 형성하면 응력발생 감소 효과를 크게 할 수 있다.Since the thermal shock is concentrated at a position vertically overlapping with the light source 230, if the concave portion h2 is formed at that position, the effect of reducing stress generation can be increased.

이 때, 광원부(230)나 와이어(250)가 외부로 노출되지 않도록 오목부(h2)를 형성하는 것이 중요하다. 따라서, 광원부(230)나 와이어(250)의 위치를 고려하여 광원부(230)와 오목부(h2) 및 와이어(250)와 오목부(h2)가 소정거리로 이격되도록 오목부(h2)를 형성할 수 있다.At this time, it is important to form the concave portion h2 so that the light source unit 230 and the wire 250 are not exposed to the outside. Therefore, the concave portion h2 is formed so that the light source portion 230, the concave portion h2, the wire 250 and the concave portion h2 are spaced apart from each other by a predetermined distance in consideration of the positions of the light source portion 230 and the wire 250 can do.

도 4은 실시예에 따른 발광소자패키지의 단면을 나타내는 단면도이다.4 is a cross-sectional view illustrating a light emitting device package according to an embodiment.

도 4를 참조하면, 오목부(h3)의 일부는 봉지재(360)로 충진될 수 있다. Referring to FIG. 4, a part of the concave portion h3 may be filled with an encapsulating material 360. FIG.

오목부(h3)에 먼지등의 외부 불순물이 침투하게 되면 응력발생을 효과적으로 해소할 수 없기 때문에 오목부(h3)를 봉지재(360)로 충진하여 외부 불순물이 침투하는 것을 방지 할 수 있다.If external impurities such as dust penetrate into the concave portion h3, the generation of stress can not be effectively prevented. Therefore, the concave portion h3 can be filled with the sealing material 360 to prevent external impurities from penetrating.

이 때, 오목부(h3)를 충진하는 봉지재(360)는 상기 수지물(340)보다 경도가 크거나 같으면 오히려 응력발생이 증가할 수 있기 때문에 상기 수지물(340)보다 경도가 작은 물질인 것이 바람직하다. 예를 들어, 소프트한 실리콘 등일 수 있다.At this time, since the encapsulant 360 filling the concave portion h3 has a hardness greater than or equal to the hardness of the resin 340, the occurrence of stress may be rather increased. Therefore, a material having hardness lower than that of the resin 340 . For example, it may be soft silicon or the like.

또한, 오목부(h3)의 전체가 아닌 일부에 봉지재(360)를 충진하여 불순물 침투를 방지하면서도 효과적으로 응력발생 영향을 해소할 수 있다.Further, the sealing material 360 may be filled in a part of the concave portion h3, but not all of the concave portion h3, thereby effectively preventing the influence of stress generation while preventing impurities from penetrating.

도 5(a), (b), (c)는 실시예에 따른 발광소자패키지의 단면과 평면을 나타내는 도이다.5 (a), 5 (b) and 5 (c) are cross-sectional views and plan views of the light emitting device package according to the embodiment.

도 5(a), (b), (c)를 참조하면, 오목부(h)의 수직단면은 사각형상, V자형상, U자형상일 수 있으며, 오목부(h)의 평면형상은 원형이나 사각형 등이 될 수 있다. 5 (a), 5 (b) and 5 (c), the vertical cross section of the concave portion h may be a rectangular shape, a V shape or a U shape, and the planar shape of the concave portion h is circular Square, and the like.

여기서, 오목부(h)의 형상은 원통형(원기둥형상)일 수 있다. . 오목부(h)의 형상을 원통형으로 하면 상술한 바와 같이 원통형 바늘을 이용하여 쉽게 오목부(h)를 형성할 수 있고, 체적대비 표면적이 넓어 응력발생을 감소시키는데 효과적일 수 있다. Here, the shape of the concave portion h may be a cylindrical shape (cylindrical shape). . If the shape of the concave portion h is a cylindrical shape, the concave portion h can be easily formed using the cylindrical needle as described above, and it is effective to reduce the generation of stress by enlarging the surface area relative to the volume.

다만, 오목부(h)의 형상을 상술한 형상들에 한정하는 것은 아니고 다양한 형태로 형성할 수 있다. However, the shape of the concave portion h is not limited to the above-described shapes, but may be formed in various shapes.

또한, 오목부(h)는 복수개로 형성될 수 있으며, 상기 복수개의 오목부(h)는 규칙적 또는 불규칙적으로 배열될 수 있다. 이 때, 오목부(h)가 복수개로 형성되면 하나의 오목부(h)가 형성될 때보다 응력발생을 효과적으로 감소시킬수 있다.Further, the recesses h may be formed in a plurality of, and the plurality of recesses h may be regularly or irregularly arranged. At this time, if the concave portions h are formed in plural, the generation of stress can be effectively reduced as compared with when one concave portion h is formed.

그 밖에, 오목부(h)는 연속적으로 형성되어 홈(오목하고 길게 패인 줄)의 형상도 가질 수 있는데, 이 때 하나의 홈을 형성함으로써 복수의 오목부(h)가 형성되는 효과가 있다. In addition, the concave portion h may be formed continuously to have a shape of a groove (concave and long dashed line). In this case, a plurality of concave portions h are formed by forming one groove.

도 6a는 실시예에 따른 발광소자패키지를 포함하는 조명장치를 도시한 사시도이며, 도 6b는 도 6a의 조명장치의 D-D' 단면을 도시한 단면도이다.FIG. 6A is a perspective view illustrating a lighting device including a light emitting device package according to an embodiment, and FIG. 6B is a cross-sectional view taken along line D-D 'of the lighting device of FIG. 6A.

이하에서는, 실시 예에 따른 조명장치(400)의 형상을 보다 상세히 설명하기 위해, 조명장치(400)의 길이방향(Z)과, 길이방향(Z)과 수직인 수평방향(Y), 그리고 길이방향(Z) 및 수평방향(Y)과 수직인 높이방향(X)으로 설명하기로 한다.In order to describe the shape of the illumination device 400 according to the embodiment in detail, the longitudinal direction Z of the illumination device 400, the horizontal direction Y perpendicular to the longitudinal direction Z, The direction Z and the horizontal direction Y and the vertical direction X perpendicular to the horizontal direction Y will be described.

즉, 도 6b는 도 6a의 조명장치(400)를 길이방향(Z)과 높이방향(X)의 면으로 자르고, 수평방향(Y)으로 바라본 단면도이다.6B is a cross-sectional view of the lighting apparatus 400 of FIG. 6A cut in the longitudinal direction Z and the height direction X and viewed in the horizontal direction Y. FIG.

도 6a 및 도 6b를 참조하면, 조명장치(400)는 몸체(410), 몸체(410)와 체결되는 커버(430) 및 몸체(410)의 양단에 위치하는 마감캡(450)을 포함할 수 있다.6A and 6B, the lighting device 400 may include a body 410, a cover 430 coupled to the body 410, and a finishing cap 450 positioned at opposite ends of the body 410 have.

몸체(410)의 하부면에는 발광소자모듈(440)이 체결되며, 몸체(410)는 발광소자패키지(444)에서 발생된 열이 몸체(410)의 상부면을 통해 외부로 방출할 수 있도록 전도성 및 열발산 효과가 우수한 금속재질로 형성될 수 있다.The light emitting device module 440 is coupled to a lower surface of the body 410. The body 410 is electrically conductive so that heat generated from the light emitting device package 444 can be emitted to the outside through the upper surface of the body 410. [ And a metal material having an excellent heat dissipation effect.

발광소자패키지는(444)는 PCB(442) 상에 다색, 다열로 실장되어 어레이를 이룰 수 있으며, 동일한 간격으로 실장되거나 또는 필요에 따라 다양한 이격 거리를 가지고 실장될 수 있어 밝기 등을 조절할 수 있다. 이러한 PCB (442)로는 MCPCB(Metal Core PCB) 또는 FR4 재질의 PCB 등을 사용할 수 있다. The light emitting device package 444 may be mounted in a multi-color, multi-row manner on a PCB 442 to form an array. The light emitting device package 444 may be mounted at equal intervals or may be mounted with various distances as required, . As the PCB 442, MCPCB (Metal Core PCB) or FR4 PCB can be used.

한편, 발광소자패키지(444)는 다수의 홀이 형성되고, 전도성 물질로 이루어진 필름을 포함할 수 있다.Meanwhile, the light emitting device package 444 may include a film formed of a plurality of holes and made of a conductive material.

금속 등의 전도성 물질로 형성된 필름은 광의 간섭현상을 많이 일으키기 때문에, 광파의 상호 작용에 의해 광파의 강도가 강해질 수 있어 광을 효과적으로 추출 및 확산시킬 수 있으며, 필름에 형성된 다수의 홀은 광원부에서 발생한 광의 간섭과 회절을 통해 효과적으로 광을 추출할 수 있도록 할 수 있다. 따라서, 조명장치(400)의 효율이 향상될 수 있다. 이때, 필름에 형성되는 다수의 홀의 크기는 광원부에서 발생하는 광의 파장보다 작은 것이 바람직하다. Since a film formed of a conductive material such as a metal generates a large amount of optical interference, the intensity of a light wave can be enhanced by the interaction of light waves, so that light can be extracted and diffused effectively. It is possible to effectively extract light through interference and diffraction of light. Thus, the efficiency of the illumination device 400 can be improved. At this time, it is preferable that the size of the plurality of holes formed in the film is smaller than the wavelength of light generated in the light source portion.

커버(430)는 몸체(410)의 하부면을 감싸도록 원형의 형태로 형성될 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.The cover 430 may be formed in a circular shape so as to surround the lower surface of the body 410, but is not limited thereto.

커버(430)는 내부의 발광소자모듈(440)을 외부의 이물질 등으로부터 보호한다. 또한, 커버(430)는 발광소자패키지(444)에서 발생한 광의 눈부심을 방지하고, 외부로 광을 균일하게 방출할 수 있도록 확산입자를 포함할 수 있으며, 또한 커버(430)의 내면 및 외면 중 적어도 어느 한 면에는 프리즘 패턴 등이 형성될 수 있다. 또한 커버(430)의 내면 및 외면 중 적어도 어느 한 면에는 형광체가 도포될 수도 있다. The cover 430 protects the internal light emitting device module 440 from foreign substances or the like. The cover 430 may include diffusion particles to prevent glare of the light generated in the light emitting device package 444 and uniformly emit light to the outside and may include at least one of an inner surface and an outer surface of the cover 430 A prism pattern or the like may be formed on one side. Further, the phosphor may be coated on at least one of the inner surface and the outer surface of the cover 430.

한편, 발광소자패키지(444)에서 발생한 광은 커버(430)를 통해 외부로 방출되므로 커버(430)는 광투과율이 우수하여야하며, 발광소자패키지(444)에서 발생한 열에 견딜 수 있도록 충분한 내열성을 구비하고 있어야 하는바, 커버(430)는 폴리에틸렌 테레프탈레이트(Polyethylen Terephthalate; PET), 폴리카보네이트(Polycarbonate; PC) 또는 폴리메틸 메타크릴레이트(Polymethyl Methacrylate; PMMA) 등을 포함하는 재질로 형성되는 것이 바람직하다.Since the light generated in the light emitting device package 444 is emitted to the outside through the cover 430, the cover 430 should have a high light transmittance and sufficient heat resistance to withstand the heat generated in the light emitting device package 444 The cover 430 is preferably made of a material including polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), or polymethyl methacrylate (PMMA) .

마감캡(450)은 몸체(410)의 양단에 위치하며 전원장치(미도시)를 밀폐하는 용도로 사용될 수 있다. 또한 마감캡(450)에는 전원핀(452)이 형성되어 있어, 실시예에 따른 조명장치(400)는 기존의 형광등을 제거한 단자에 별도의 장치 없이 곧바로 사용할 수 있게 된다.The finishing cap 450 is located at both ends of the body 410 and can be used for sealing the power supply unit (not shown). In addition, the fin 450 is formed on the finishing cap 450, so that the lighting device 400 according to the embodiment can be used immediately without a separate device on the terminal from which the conventional fluorescent lamp is removed.

도 7은 실시예에 따른 발광소자패키지를 포함하는 백라이트 유닛을 도시한 분해 사시도이다.7 is an exploded perspective view illustrating a backlight unit including the light emitting device package according to the embodiment.

도 7은 에지-라이트 방식으로, 액정 표시 장치(500)는 액정표시패널(510)과 액정표시패널(510)로 빛을 제공하기 위한 백라이트 유닛(570)을 포함할 수 있다.7, the liquid crystal display 500 may include a liquid crystal display panel 510 and a backlight unit 570 for providing light to the liquid crystal display panel 510 in an edge-light manner.

액정표시패널(510)은 백라이트 유닛(570)으로부터 제공되는 광을 이용하여 화상을 표시할 수 있다. 액정표시패널(510)은 액정을 사이에 두고 서로 대향하는 컬러 필터 기판(512) 및 박막 트랜지스터 기판(514)을 포함할 수 있다.The liquid crystal display panel 510 can display an image using the light provided from the backlight unit 570. The liquid crystal display panel 510 may include a color filter substrate 512 and a thin film transistor substrate 514 facing each other with a liquid crystal therebetween.

컬러 필터 기판(512)은 액정표시패널(510)을 통해 디스플레이되는 화상의 색을 구현할 수 있다.The color filter substrate 512 can realize the color of an image to be displayed through the liquid crystal display panel 510.

박막 트랜지스터 기판(514)은 구동 필름(517)을 통해 다수의 회로부품이 실장되는 인쇄회로기판(518)과 전기적으로 접속되어 있다. 박막 트랜지스터 기판(514)은 인쇄회로기판(518)으로부터 제공되는 구동 신호에 응답하여 인쇄회로기판(518)으로부터 제공되는 구동 전압을 액정에 인가할 수 있다.The thin film transistor substrate 514 is electrically connected to a printed circuit board 518 on which a plurality of circuit components are mounted via a driving film 517. The thin film transistor substrate 514 may apply a driving voltage provided from the printed circuit board 518 to the liquid crystal in response to a driving signal provided from the printed circuit board 518. [

박막 트랜지스터 기판(514)은 유리나 플라스틱 등과 같은 투명한 재질의 다른 기판상에 박막으로 형성된 박막 트랜지스터 및 화소 전극을 포함할 수 있다. The thin film transistor substrate 514 may include a thin film transistor and a pixel electrode formed as a thin film on another substrate of a transparent material such as glass or plastic.

백라이트 유닛(570)은 빛을 출력하는 발광소자모듈(520), 발광소자모듈(520)로부터 제공되는 빛을 면광원 형태로 변경시켜 액정표시패널(510)로 제공하는 도광판(530), 도광판(530)으로부터 제공된 빛의 휘도 분포를 균일하게 하고 수직 입사성을 향상시키는 다수의 필름(550, 560, 564) 및 도광판(530)의 후방으로 방출되는 빛을 도광판(530)으로 반사시키는 반사 시트(540)로 구성된다.The backlight unit 570 includes a light emitting device module 520 for outputting light, a light guide plate 530 for changing the light provided from the light emitting module 520 into a surface light source to provide the light to the liquid crystal display panel 510, A plurality of films 550, 560, and 564 that uniformly distribute the luminance of light provided from the light guide plate 530 and improve vertical incidence, and a reflective sheet (not shown) that reflects light emitted to the rear of the light guide plate 530 to the light guide plate 530 540).

발광소자모듈(520)은 복수의 발광소자패키지(524)와 복수의 발광소자패키지(524)가 실장되어 어레이를 이룰 수 있도록 PCB기판(522)을 포함할 수 있다.The light emitting device module 520 may include a PCB substrate 522 for mounting a plurality of light emitting device packages 524 and a plurality of light emitting device packages 524 to form an array.

특히, 발광소자패키지(524)는 다수의 홀이 형성된 필름을 발광면에 포함함으로써, 렌즈를 생략할 수 있어 슬림한 발광소자패키지를 구현할 수 있고, 동시에 광추출 효율을 향상시킬 수 있다. 따라서, 보다 박형화한 백라이트유닛(570)의 구현이 가능해진다.In particular, since the light emitting device package 524 includes a film having a plurality of holes on the light emitting surface, the lens can be omitted to realize a slim light emitting device package, and at the same time, the light extraction efficiency can be improved. Therefore, it becomes possible to realize the backlight unit 570 which is thinner.

한편, 백라이트유닛(570)은 도광판(530)으로부터 입사되는 빛을 액정 표시 패널(510) 방향으로 확산시키는 확산필름(560)과, 확산된 빛을 집광하여 수직 입사성을 향상시키는 프리즘필름(550)으로 구성될 수 있으며, 프리즘필름(550)를 보호하기 위한 보호필름(564)을 포함할 수 있다.The backlight unit 570 includes a diffusion film 560 for diffusing light incident from the light guide plate 530 toward the liquid crystal display panel 510 and a prism film 550 for enhancing vertical incidence by condensing the diffused light And may include a protective film 564 for protecting the prism film 550. [

도 8은 실시예에 따른 발광소자패키지를 포함하는 백라이트 유닛을 도시한 분해 사시도이다.8 is an exploded perspective view illustrating a backlight unit including a light emitting device package according to an embodiment.

다만, 도 7에서 도시하고 설명한 부분에 대해서는 반복하여 상세히 설명하지 않는다.However, the parts shown and described in Fig. 7 are not repeatedly described in detail.

도 8은 직하 방식으로, 액정 표시 장치(600)는 액정표시패널(610)과 액정표시패널(610)로 빛을 제공하기 위한 백라이트 유닛(670)을 포함할 수 있다.8, the liquid crystal display 600 may include a liquid crystal display panel 610 and a backlight unit 670 for providing light to the liquid crystal display panel 610 in a direct-down manner.

액정표시패널(610)은 도 7에서 설명한 바와 동일하므로, 상세한 설명은 생략한다.Since the liquid crystal display panel 610 is the same as that described with reference to FIG. 7, a detailed description thereof will be omitted.

백라이트 유닛(670)은 복수의 발광소자모듈(623), 반사시트(624), 발광소자모듈(623)과 반사시트(624)가 수납되는 하부 섀시(630), 발광소자모듈(623)의 상부에 배치되는 확산판(640) 및 다수의 광학필름(660)을 포함할 수 있다.The backlight unit 670 includes a plurality of light emitting element modules 623, a reflective sheet 624, a lower chassis 630 in which the light emitting element module 623 and the reflective sheet 624 are accommodated, And a plurality of optical films 660 disposed on the diffuser plate 640.

발광소자모듈(623) 복수의 발광소자패키지(622)와 복수의 발광소자패키지(622)가 실장되어 어레이를 이룰 수 있도록 PCB기판(621)을 포함할 수 있다.The light emitting device module 623 may include a PCB substrate 621 for mounting a plurality of light emitting device packages 622 and a plurality of light emitting device packages 622 to form an array.

특히, 발광소자패키지(622)는 전도성 물질로 형성되고, 다수의 홀을 포함하는 필름을 발광면에 구비함으로써, 렌즈를 생략할 수 있게되어 슬림한 발광소자패키지를 구현할 수 있고, 동시에 광추출 효율을 향상시킬 수 있다. 따라서, 보다 박형화한 백라이트유닛(670)의 구현이 가능해진다. In particular, since the light emitting device package 622 is formed of a conductive material and a film including a plurality of holes is provided on the light emitting surface, the lens can be omitted, thereby realizing a slim light emitting device package, Can be improved. Therefore, it becomes possible to realize the backlight unit 670 which is thinner.

반사 시트(624)는 발광소자패키지(622)에서 발생한 빛을 액정표시패널(610)이 위치한 방향으로 반사시켜 빛의 이용 효율을 향상시킨다.The reflective sheet 624 reflects light generated from the light emitting device package 622 in a direction in which the liquid crystal display panel 610 is positioned, thereby improving light utilization efficiency.

한편, 발광소자모듈(623)에서 발생한 빛은 확산판(640)에 입사하며, 확산판(640)의 상부에는 광학 필름(660)이 배치된다. 광학 필름(660)은 확산 필름(666), 프리즘필름(650) 및 보호필름(664)를 포함하여 구성된다.The light emitted from the light emitting element module 623 is incident on the diffusion plate 640 and the optical film 660 is disposed on the diffusion plate 640. The optical film 660 is composed of a diffusion film 666, a prism film 650, and a protective film 664.

이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 도시하고 설명하였지만, 본 발명은 상술한 특정의 실시예에 한정되지 아니하며, 특허청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변형실시가 가능한 것은 물론이고, 이러한 변형실시들은 본 발명의 기술적 사상이나 전망으로부터 개별적으로 이해되어서는 안될 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, but, on the contrary, It should be understood that various modifications may be made by those skilled in the art without departing from the spirit and scope of the present invention.

100, 200, 300 : 발광소자패키지 110 : 패키지몸체
120 : 리드프레임 130, 230 : 광원부
140, 340 : 수지물 150, 250 : 와이어
360 : 봉지재
100, 200, 300: light emitting device package 110: package body
120: lead frame 130, 230: light source part
140, 340: Resin water 150, 250: Wire
360: Encapsulation material

Claims (13)

캐비티가 형성된 패키지몸체;
상기 캐비티에 실장되는 광원부; 및
상기 캐비티에 충진된 수지물을 포함하고,
상기 수지물은 상기 수지물의 상면으로부터 소정깊이까지 이르는 오목부를 포함하며,
상기 오목부는 상기 수지물보다 경도가 작은 봉지재로 충진되는 발광소자패키지.
A package body having a cavity formed therein;
A light source unit mounted on the cavity; And
And a resin filled in the cavity,
Wherein the resin material includes a concave portion extending from an upper surface of the resin material to a predetermined depth,
Wherein the recess is filled with a sealing material having a hardness lower than that of the resin.
제1항에 있어서,
상기 오목부의 소정깊이는 상기 캐비티 깊이의 1/3내지 2/3이며,
상기 오목부는 복수개로 형성되며, 상기 복수 개의 오목부는 규칙적 또는 불규칙적으로 배열되며,
상기 수지물은 형광체를 포함하는 발광소자패키지.
The method according to claim 1,
The predetermined depth of the concave portion is 1/3 to 2/3 of the depth of the cavity,
Wherein the concave portions are formed in a plurality of, the plurality of concave portions are regularly or irregularly arranged,
Wherein the resin material comprises a phosphor.
제1항에 있어서,
상기 오목부는 상기 광원부와 수직적으로 중첩되도록 위치하며,
상기 오목부의 중심축과 상기 광원부 중심의 수평거리는 상기 캐비티 상부폭의 1/6보다 작은 발광소자패키지.
The method according to claim 1,
Wherein the concave portion is vertically overlapped with the light source portion,
Wherein a horizontal distance between a center axis of the concave portion and a center of the light source portion is smaller than 1/6 of a width of the cavity top portion.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 패키지몸체는 제1 리드 프레임 및 제2 리드 프레임을 구비하고,
상기 광원부는 상기 제1 리드 프레임 및 상기 제2 리드 프레임 중 어느 하나의 상부에 배치되며,
상기 광원부와 상기 제1 리드프레임 및 상기 광원부와 상기 제2 리드프레임을 전기적으로 연결시키는 와이어를 더 포함하고,
상기 오목부와 상기 와이어 및 상기 오목부와 상기 광원부는 소정거리로 이격되어 위치하는 발광소자패키지.
The method according to claim 1,
Wherein the package body has a first lead frame and a second lead frame,
Wherein the light source unit is disposed on one of the first lead frame and the second lead frame,
And a wire electrically connecting the light source unit, the first lead frame, the light source unit, and the second lead frame,
Wherein the concave portion, the wire, the concave portion, and the light source portion are spaced apart from each other by a predetermined distance.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 오목부의 수직 단면은 V자 형상, U자 형상 및 사각형상 중 어느 하나이며,
상기 오목부의 상부폭은 0.1mm내지 0.5mm인 발광소자 패키지.
The method according to claim 1,
The vertical cross section of the concave portion is any one of a V shape, a U shape, and a rectangular shape,
And an upper width of the concave portion is 0.1 mm to 0.5 mm.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1항 내지 제3항, 제5항 및 제7항 중 어느 한 항의 발광소자패키지를 포함하는 조명장치.A lighting device comprising the light emitting device package according to any one of claims 1 to 3, 5 and 7. 제1항 내지 제3항, 제5항 및 제7항 중 어느 한 항의 발광소자패키지를 포함하는 디스플레이 장치.A display device comprising the light emitting device package according to any one of claims 1 to 3, 5 and 7.
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