KR101699680B1 - 박막증착장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 박막증착장치 에 관한 것이다. 본 발명에 따른 박막증착장치는 내부에 증착공간이 마련된 챔버, 상기 챔버 내부에 구비되어 프로세스가스를 공급하는 가스공급부, 상기 증착공간에 구비되어 기판이 안착되며 상기 가스공급부의 하부에서 소정거리 왕복이동 가능하게 구비되는 기판지지부 및 상기 가스공급부에서 공급된 공정가스에 의해 상기 챔버의 하부에 파우더가 쌓이는 것을 방지하는 파우더 제거부를 구비하는 것을 특징으로 한다.

Description

박막증착장치 {Thin film deposition apparatus}

본 발명은 박막증착장치에 대한 것이다.

반도체 웨이퍼 등의 기판(이하, '기판'이라 함) 상에 박막을 형성하기 위한 증착법으로 화학기상증착법(CVD ; Chemical Vapor Deposition)이나, 최근 들어 원자층증착법(ALD ; Atomic Layer Deposition)의 기술이 각광받고 있다.

한편, 상기 기판에 대한 증착 공정을 수행하는 과정을 살펴보면 상기 기판이 고정되는 방식과, 상기 기판이 이동하는 방식으로 구분할 수 있다. 또한, 상기 기판이 이동하는 방식은 상기 기판이 회전을 하거나, 상기 기판이 일정 거리 왕복 이동하는 소위 '스캔방식'으로 증착이 수행될 수 있다.

전술한 증착 공정에서 상기 기판이 위치한 증착 공간의 내부로 원료가스 및 반응가스와 같은 공정가스가 공급되어 상기 기판에 대한 증착이 수행되는데, 이 때 상기 공급된 공정가스 중에 일부가 증착 공간의 하부로 유입되어 파우더를 형성하거나, 또는 상기 파우더가 상기 증착장치의 구동부 영역으로 유입되어 상기 증착장치의 성능저하 및 고장의 원인이 되기도 한다.

특히, 상기 증착 공간에서 상기 기판이 이동하는 '스캔' 타입의 경우에 상기 기판이 고정된 타입에 비해 상기 파우더에 의한 고장 및 성능저하가 발생할 가능성이 훨씬 크다고 할 수 있다.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 기판이 이동하는 타입, 예를 들어 상기 기판이 증착공간의 내부에서 소정거리 왕복 이동하는 스캔 방식의 경우에 상기 증착공간의 하부에 파우더가 쌓이는 것을 방지하며, 나아가 상기 파우더가 상기 증착장치의 구동부에 유입되는 것을 방지할 수 있는 박막증착장치를 제공하는데 목적이 있다.

상기와 같은 본 발명의 목적은 내부에 증착공간이 마련된 챔버, 상기 챔버 내부에 구비되어 프로세스가스를 공급하는 가스공급부, 상기 증착공간에 구비되어 기판이 안착되며 상기 가스공급부의 하부에서 소정거리 왕복이동 가능하게 구비되는 기판지지부 및 상기 가스공급부에서 공급된 공정가스에 의해 상기 챔버의 하부에 파우더가 쌓이는 것을 방지하는 파우더 제거부를 구비하는 것을 특징으로 하는 박막증착장치에 의해 달성된다.

여깃, 상기 파우더 제거부는 상기 기판지지부의 양측에 각각 연결되어 상기 가스공급부에서 공급된 공정가스가 상기 챔버 하부로 공급되는 것을 방지하며 상기 파우더를 수집하는 한 쌍의 스크린 부재, 상기 한 쌍의 스크린 부재가 각각 권취되는 한 쌍의 스크린 롤부재 및 상기 한 쌍의 스크린 부재에 수집된 파우더를 제거하는 한 쌍의 롤부러쉬 부재를 구비한다.

또한, 상기 파우더 제거부는 상기 스크린 롤부재와 롤부러쉬 부재를 상기 증착공간과 격리하는 한 쌍의 격벽을 더 구비할 수 있다. 여기서, 상기 한 쌍의 격벽에는 상기 스크린 부재가 관통하는 관통홀이 각각 구비될 수 있다.

이때, 상기 한 쌍의 롤부러쉬 부재에 의해 상기 한 쌍의 스크린 부재에서 각각 제거된 파우더를 배기하도록 상기 챔버의 하부에 파우더 배기부를 더 구비할 수 있다.

나아가, 상기 스크린 부재에서 제거된 파우더가 상기 파우더 배기부를 향하도록 퍼지가스를 공급하는 퍼지가스 공급부를 더 구비할 수 있다.

한편, 상기 기판지지부 및 파우더 제거부를 수용하며 상기 증착공간을 내부에 형성하는 하우징을 더 구비할 수 있다. 여기서, 상기 하우징은 상부가 개구되어 상기 가스공급부에서 공급되는 프로세스가스가 상기 개구된 상부를 통해 공급될 수 있다.

한편, 상기 챔버에 구비되어 상기 가스공급부에서 공급되는 프로세스가스를 배기하는 메인 배기부를 더 구비할 수 있다.

이 때, 상기 하우징은 상기 챔버의 내벽 및 바닥과 미리 결정된 거리만큼 이격되어 상기 가스공급부에서 공급된 프로세스가스 중에 적어도 일부가 상기 메인 배기부로 배기되는 배기유로를 형성할 수 있다.

한편, 상기 한 쌍의 스크린 롤부재는 상기 스크린 부재가 감기는 방향으로 소정의 탄성력을 가하는 탄성부 또는 상기 기판지지부의 이동에 따라 상기 스크린 부재를 감거나 풀어주는 모터부를 각각 구비할 수 있다. 이 때, 상기 모터부는 서로 동기화되어 상기 기판지지부의 이동에 대응하여 상기 스크린 부재를 감거나 풀어줄 수 있다.

전술한 구성을 가지는 본 발명의 박막증착장치에 따르면 상기 증착공간의 내부에서 상기 기판이 소정 거리 왕복 이동하는 경우에도 상기 가스공급부에서 공급된 공정가스에 의해 상기 챔버 내부의 증착 공간의 하부 등에 파우더가 쌓이는 것을 방지할 수 있다. 나아가, 상기 파우더가 상기 증착장치의 구동부로 유입되는 것을 방지할 수 있다.

또한, 본 발명의 박막증착장치에 따르면 상기 챔버의 내부에 상기 증착 공간을 형성하는 하우징을 더 구비하고 상기 하우징의 상부에 가스공급부를 배치하여, 상기 가스공급부에서 상대적으로 많은 양의 공정가스가 공급된 경우에 상기 하우징과 상기 챔버의 내벽 사이의 유로를 통해 상기 공정가스를 배기하도록 하여 상기 증착공간의 내부에서 파우더의 발생을 억제할 수 있다.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 박막증착장치의 사시도,
도 2는 도 1의 분해 사시도,
도 3은 도 1의 Ⅲ-Ⅲ 선에 따른 단면도,
도 4는 도 1의 Ⅳ-Ⅳ 선에 따른 단면도이다.

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 다양한 실시예들에 따른 박막증착장치에 대해서 상세하게 살펴보도록 한다.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 박막증착장치의 사시도이고, 도 2는 도 1의 분해 사시도이다.

도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 박막증착장치(1000)는 내부에 증착공간(110)이 마련된 챔버(200), 상기 챔버(200) 내부에 구비되어 공정가스 및 퍼지가스를 선택적으로 공급하는 가스공급부(800)(도 3 참조), 상기 증착공간(110)에 구비되어 기판(미도시)이 안착되며 상기 가스공급부(800)의 하부에서 소정거리 왕복이동 가능하게 구비되는 기판지지부(400) 및 상기 가스공급부(800)에서 공급된 공정가스에 의해 상기 챔버(200)의 하부에 파우더가 쌓이는 것을 방지하는 파우더 제거부(500)를 구비한다.

상기 파우더 제거부(500)는 상기 가스공급부(800)에서 공급된 공정가스 등에 의해 상기 챔버(200)의 내부에 발생하는 파우더를 제거하기 위한 구성요소로서, 상기 파우더에 의한 상기 박막증착장치(1000)의 내부의 각종 구성요소의 손상 또는 파손을 방지할 수 있다. 상기 파우더 제거부(500)에 대해서는 이후에 상세히 살펴본다.

상기 박막증착장치(1000)는 내부에 증착공간(110)이 마련되는 챔버(200)를 구비한다. 상기 챔버(200)는 상부가 개구된 챔버 몸체(210)와 상기 챔버 몸체(210)의 개구된 상부를 밀폐하는 커버(100)를 구비한다. 상기 챔버 몸체(210)는 기판에 대한 증착공정이 수행되는 증착공간(110)이 마련되며, 내부에 후술하는 각종 구성요소가 구비된다.

한편, 상기 가스공급부(800)는 상기 챔버(200) 내부에 구비되어 공정가스 및 퍼지가스와 같은 프로세스가스를 선택적으로 공급하게 된다. 상기 가스공급부(800)는 상기 챔버(200) 내부에서 상부에 구비될 수 있으며, 예를 들어 상기 커버(100)에 상기 가스공급부(800)가 구비되어 하부를 향해 상기 공정가스 또는 퍼지가스를 공급할 수 있다. 이 경우, 상기 가스공급부(800)는 기판에 대한 증착공정에 따라 다양한 가스를 공급할 수 있으며, 가스의 조합, 가스의 공급 순서 및 공급되는 가스의 양 등은 적절히 조절 될 수 있음은 물론이다.

상기 가스공급부(800)의 하부에 위치한 증착공간(110)에는 기판지지부(400)가 구비된다. 상기 기판지지부(400)에는 증착공정이 수행될 기판이 안착될 수 있다. 본 발명에서 상기 기판지지부(400)는 직선을 따라 소정 거리 왕복 이동 가능하게 구비된다. 즉, 본 발명에 따른 박막증착장치(1000)는 증착공정 중에 기판이 왕복이동하는 소위 '스캔 방식(scan type)'에 해당한다. 상기 기판지지부(400)의 하부에는 상기 기판을 가열하는 히터(600)가 상기 상기 기판지지부(400)의 이동경로를 따라 배열될 수 있다.

전술한 스캔 방식의 경우에 기판지지부(400)가 이동할 수 있도록 상기 기판지지부(400)의 이동방향을 따라 여유공간이 필요하게 된다. 이 경우, 상부의 상기 가스공급부(800)에서 공급된 공정가스 등이 상기 여유공간을 통해 상기 챔버(200)의 하부로 이동하여 상기 챔버(200)의 바닥 등에서 파우더를 발생시킬 수 있다. 이러한 파우더는 상기 챔버(200)의 내부에 포함된 각종 구성요소의 오작동 또는 파손을 유발할 수 있게 된다. 따라서, 본 발명에서는 상기 가스공급부(800)에서 공급된 공정가스에 의해 상기 챔버(200)의 하부에 파우더가 쌓이는 것을 방지하는 파우더 제거부(500)를 구비한다.

도 3은 도 1의 Ⅲ-Ⅲ 선에 따른 단면도이다.

도 2 및 도 3을 참조하면, 상기 파우더 제거부(500)는 상기 기판지지부(400)의 양측에 각각 연결되어 상기 가스공급부(800)에서 공급된 공정가스가 상기 챔버(200) 하부로 공급되는 것을 방지하며 상기 파우더를 수집하는 한 쌍의 스크린 부재(510A, 510B), 상기 한 쌍의 스크린 부재(510A, 510B)가 각각 권취되는 한 쌍의 스크린 롤부재(520A, 520B) 및 상기 한 쌍의 스크린 부재(510A, 510B)에 쌓이는 파우더를 제거하는 한 쌍의 롤부러쉬 부재(530A, 530B)를 구비할 수 있다.

상기 파우더 제거부(500)는 상기 가스공급부(800)에서 공급되는 공정가스가 상기 챔버(200) 하부로 유입되는 것을 방지하는 스크린 부재(510A, 510B)를 구비한다. 상기 스크린 부재(510A, 510B)는 상기 기판지지부(400)의 양측에 각각 연결되어 상기 기판지지부(400)가 이동하는 여유공간을 가리는 역할을 하게 된다. 따라서, 상기 가스공급부(800)에서 공급되어 기판에 대한 증착을 수행하지 않는 여분의 공정가스는 상기 챔버(200)의 하부로 유입되지 않고 상기 스크린 부재(510A, 510B)에 수집되어 상기 챔버(200) 하부에 파우더가 발생하는 것을 방지할 수 있다. 상기 스크린 부재(510A, 510B)는 예를 들어 스테인레스 또는 스프링강 등의 금속 등으로 제작될 수 있다.

상기 스크린 부재(510A, 510B)는 상기 기판지지부(400)의 양측에 각각 연결되는 제1 스크린 부재(510A)와 제2 스크린 부재(510B)를 구비한다. 상기 제1 스크린 부재(510A)는 그 일단부가 상기 기판지지부(400)의 일측에 연결되며 그 타단부는 제1 스크린 롤부재(520A)에 연결된다. 상기 제1 스크린 롤부재(520A)는 탄성부를 구비하여 상기 제1 스크린 부재(510A)가 감기는 방향으로 탄성력을 가하게 된다. 따라서, 상기 기판지지부(400)가 상기 제1 스크린 롤부재(520A)를 향해 이동하는 경우에 상기 제1 스크린 롤부재(520A)에 상기 제1 스크린 부재(510A)가 감기면서 권취된다. 이 경우, 제2 스크린 롤부재(520B)에 감겨있는 제2 스크린 부재(510B)가 상기 제2 스크린 롤부재(520B)의 탄성부의 탄성력을 이기고 풀리게 된다.

반면에 상기 기판지지부(400)가 상기 제1 스크린 롤부재(520A)의 반대방향, 즉 제2 스크린 롤부재(520B)를 향해 이동하는 경우에 상기 제1 스크린 롤부재(520A)에 감겨있는 제1 스크린 부재(510A)가 풀리게 된다. 이 때, 상기 제2 스크린 롤부재(520B)에 상기 제2 스크린 부재(510B)가 감기면서 권취된다.

한편, 상기 구성에서는 상기 한 쌍의 스크린 롤부재(520A, 520B)가 각각 축 스프링 등과 같은 탄성부를 구비하는 것으로 설명하였지만, 이에 한정되지 않으며 예를 들어, 상기 한 쌍의 스크린 롤부재(520A, 520B)는 상기 기판지지부(400)의 이동에 따라 상기 스크린 부재(510A, 510B)를 감거나 풀어주는 모터부(미도시)를 각각 구비할 수 있다. 이 경우, 상기 모터부는 상기 한 쌍의 스크린 롤부재(520A, 520B)에 각각 구비되어 연결될 수 있다. 나아가, 상기 모터부는 서로 동기화되어 상기 기판지지부(400)의 이동에 대응하여 상기 스크린 부재(510A, 510B)를 감거나 풀어주게 된다.

즉, 도 3에서 상기 기판지지부(400)가 왼쪽으로 이동하게 되면 상기 제1 스크린 롤부재(520A)의 모터부는 상기 제1 스크린 롤부재(520A)에 상기 제1 스크린 부재(510A)가 감기는 방향으로 회전하게 된다. 반면에, 상기 제2 스크린 롤부재(520B)의 모터부는 상기 제2 스크린 롤부재(520B)에서 상기 제2 스크린 부재(510B)가 풀리는 방향으로 회전하게 된다. 한편, 상기 기판지지부(400)가 오른쪽으로 이동하는 경우에는 반대로 동작하게 된다. 따라서, 상기 '동기화'의 의미는 상기 한 쌍의 모터부의 회전속도는 동일하게 유지하며, 다만 각 모터부의 회전 방향을 반대로 설정하는 것으로 이해될 수 있다. 또한, 상기 기판지지부(400)의 이동방향에 따라 각 모터부의 회전 방향을 조절할 수 있다.

한편, 상기 한 쌍의 스크린 부재(510A, 510B), 한 쌍의 스크린 롤부재(520A, 520B) 및 후술하는 한 쌍의 롤부러쉬 부재(530A, 530B)는 대칭적인 구조이므로 이하에서는 제1 스크린 부재(510A), 제1 스크린 롤부재(520A) 및 제1 롤부러쉬 부재(530A)에 대해서 설명하도록 한다.

상기 한 쌍의 스크린 부재(510A, 510B)가 상기 한 쌍의 스크린 롤부재(520A, 520B)에 각각 권취되는 경우에 상기 스크린 부재(510A, 510B)의 상면에 수집된 파우더가 상기 한 쌍의 스크린 롤부재(520A, 520B)에 이미 권취된 상기 스크린 부재(510A, 510B)의 하면에 붙을 수 있다. 이는 상기 스크린 부재(510A, 510B)의 하부 오염을 증가시키며 나아가 상기 스크린 부재(510A, 510B)가 상기 스크린 롤부재(520A, 520B)에 권취되는 것을 어렵게 할 수 있다. 따라서, 본 발명에서는 상기 스크린 부재(510A, 510B)의 상면에 수집된 파우더를 제거하는 한 쌍의 롤부러쉬 부재(530A, 530B)를 구비할 수 있다.

상기 한 쌍의 롤부러쉬 부재(530A, 530B)는 회전 가능한 부러쉬를 구비하여 상기 한 쌍의 스크린 롤부재(520A, 520B)에 각각 인접하여 구비된다. 예를 들어, 상기 제1 스크린 롤부재(520A)가 반시계방향으로 회전하여 제1 스크린 부재(510A)가 권취되는 경우에 제1 롤부러쉬 부재(530A)는 시계방향으로 회전하여 상기 제1 스크린 부재(510A)의 상면에 수집된 파우더를 하부를 향해 떨어뜨리게 된다. 이 때, 상기 제1 스크린 롤부재(520A)가 상기 제1 스크린 부재(510A)를 권취되도록 제1 방향(예를 들어 반시계 방향)으로 회전하는 경우에 상기 제1 롤부러쉬 부재(530A)가 동일한 제1 방향(예를 들어 반시계 방향)으로 회전한다면 상기 제1 스크린 부재(510A)의 상면에 수집된 파우더가 상부를 향해 이동하게 되어 상기 파우더가 비산할 수 있다. 따라서, 상기 롤부러쉬 부재(530A, 530B)는 상기 스크린 롤부재(520A, 520B)의 회전에 의해 상기 스크린 부재(510A, 510B)가 권취되는 경우에 상기 스크린 부재(510A, 510B)에 수집된 파우더를 하부를 향해 떨어뜨리는 방향으로 회전하게 된다.

한편, 상기 박막증착장치(1000)는 상기 한 쌍의 롤부러쉬 부재(530A, 530B)에 의해 상기 한 쌍의 스크린 부재(510A, 510B)에서 각각 제거된 파우더를 배기하도록 상기 챔버(200)의 하부에 파우더 배기부(700A, 700B)를 더 구비할 수 있다. 상기 파우더 배기부(700A, 700B)는 상기 챔버 몸체(210)와 후술하는 하우징(300)을 관통하여 연결된다. 따라서, 상기 제1 롤부러쉬 부재(530A)에 의해 상기 제1 스크린 부재(510A)에서 제거된 파우더는 상기 파우더 배기부(700A)에 의해 외부로 배출되며, 상기 파우더가 상기 증착공간(110)으로 다시 유입되는 것을 방지한다.

그런데, 상기와 같이 파우더 배기부(700A, 700B)를 구비하는 경우에도 상기 스크린 부재(510A, 510B)에서 제거된 파우더가 비산하여 다시 증착공간(110)으로 유입될 수 있다. 따라서, 이러한 파우더의 유입을 방지하기 위하여 상기 파우더 제거부(500)는 상기 스크린 롤부재(520A, 520B)와 롤부러쉬 부재(530A, 530B)를 상기 증착공간(110)과 격리하는 한 쌍의 격벽(580A, 580B)을 더 구비할 수 있다. 이때, 상기 한 쌍의 격벽(580A, 580B)에는 상기 스크린 부재(510A, 510B)가 관통하는 관통홀(582)이 각각 구비될 수 있다.

예를 들어, 제1 격벽(580A)은 상기 제1 스크린 롤부재(520A)와 제1 롤부러쉬 부재(530A)를 수용하도록 구성되어, 상기 제1 격벽(580A)의 내부에서 상기 제1 스크린 부재(510A)에 수집된 파우더가 제거되는 파우더 제거공간(585)을 제공할 수 있다. 따라서, 상기 파우더 제거공간(585)에서 상기 제1 롤부러쉬 부재(530A)에 의해 상기 제1 스크린 부재(510A)에서 제거된 파우더는 다시 증착공간(110)으로 유입되지 않고 하부의 파우더 배기부(700A)를 통해 외부로 배기 된다.

한편, 상기 파우더 제거공간(585)에는 상기 스크린 부재(510A, 510B)에서 제거된 파우더가 상기 파우더 배기부(700A, 700B)를 향하도록 퍼지가스를 공급하는 퍼지가스 공급부(550)를 더 구비할 수 있다. 상기 퍼지가스 공급부(550)에서 공급되는 퍼지가스는 상기 제1 스크린 롤부재(520A) 및 제1 롤부러쉬 부재(530A)를 거쳐 상기 파우더 배기부(700A)를 향하게 된다. 따라서, 상기 제1 롤부러쉬 부재(530A)에 의해 상기 제1 스크린 부재(510A)에서 제거된 파우더는 상부로 비산하지 않고 상기 퍼지가스에 의해 하부의 상기 파우더 배기부(700A)를 향하게 된다.

한편, 상기 박막증착장치(1000)는 상기 기판지지부(400) 및 파우더 제거부(500)를 수용하며 상기 증착공간(110)을 내부에 형성하는 하우징(300)을 더 구비할 수 있다.

도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 하우징(300)은 상부가 개구되어 상기 챔버 몸체(210)의 형상에 대략 대응하는 형상을 가질 수 있다. 상기 하우징(300)의 내부에는 전술한 기판지지부(400) 및 파우더 제거부(500)가 구비될 수 있으며, 상부의 상기 가스공급부(800)에서 공급되는 공정가스 등은 상기 하우징(300)의 개구된 상부를 통해 상기 증착공간(110)으로 공급된다.

이 경우, 상기 하우징(300)은 상기 챔버 몸체(210)의 내벽 및 바닥과 미리 결정된 거리만큼 이격되어 구비될 수 있다. 도 4는 도 1의 Ⅳ-Ⅳ 선에 따른 단면도이다.

도 4를 참조하면, 상기 하우징(300)은 상기 챔버 몸체(210)의 내벽 및 바닥과 소정 거리 이격되어 위치한다. 이 경우, 상기 하우징(300)과 상기 챔버 몸체(210)의 내벽 및 바닥 사이의 공간은 상기 가스공급부(800)에서 공급되어 상기 챔버(200) 내부에 잔존하는 잔존가스가 배기되는 배기유로(910)를 형성하게 된다.

즉, 상기 챔버(200)에 상기 가스공급부(800)에서 공급되는 공정가스 또는 퍼지가스를 배기하는 메인 배기부(900)를 구비하게 되며, 상기 배기유로(910)는 상기 메인 배기부(900)와 연통된다. 이를 위하여, 상기 메인 배기부(900)는 도면에 도시된 바와 같이 상기 챔버 몸체(210)의 바닥에 구비될 수 있다. 따라서, 상기 챔버(200) 내부의 잔존가스는 상기 배기유로(910) 및 상기 메인 배기부(900)를 통해 배기된다.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시 예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술분야의 당업자는 이하에서 서술하는 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경 실시할 수 있을 것이다. 그러므로 변형된 실시가 기본적으로 본 발명의 특허청구범위의 구성요소를 포함한다면 모두 본 발명의 기술적 범주에 포함된다고 보아야 한다.

110..커버
200..챔버
210..챔버 몸체
400..기판지지부
500..파우더 제거부
800..가스공급부

Claims (12)

1. 내부에 증착공간이 마련된 챔버;
   상기 챔버 내부에 구비되어 프로세스가스를 공급하는 가스공급부;
   상기 증착공간에 구비되어 기판이 안착되며 상기 가스공급부의 하부에서 소정거리 왕복이동 가능하게 구비되는 기판지지부;
   상기 기판지지부에 의해 상기 기판이 이동하는 중에 상기 기판지지부가 이동하는 여유공간을 가려 상기 가스공급부에서 공급된 공정가스에 의해 상기 증착공간의 하부에 파우더가 쌓이는 것을 방지하는 파우더 제거부; 및
   상기 기판지지부 및 파우더 제거부를 수용하며 상기 가스공급부에서 공급되는 프로세스가스가 상기 기판으로 공급되도록 상부가 개구되며, 상기 증착공간을 내부에 형성하는 하우징:을 구비하는 것을 특징으로 하는 박막증착장치.
2. 제1항에 있어서,
   상기 파우더 제거부는
   상기 기판지지부의 양측에 각각 연결되어 상기 가스공급부에서 공급된 공정가스가 상기 챔버 하부로 공급되는 것을 방지하며 상기 파우더를 수집하는 한 쌍의 스크린 부재;
   상기 한 쌍의 스크린 부재가 각각 권취되는 한 쌍의 스크린 롤부재; 및
   상기 한 쌍의 스크린 부재에 수집된 파우더를 제거하는 한 쌍의 롤부러쉬 부재;를 구비하는 것을 특징으로 하는 박막증착장치.
3. 제2항에 있어서,
   상기 파우더 제거부는
   상기 스크린 롤부재와 롤부러쉬 부재를 상기 증착공간과 격리하는 한 쌍의 격벽을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 박막증착장치.
4. 제3항에 있어서,
   상기 한 쌍의 격벽에는 상기 스크린 부재가 관통하는 관통홀이 각각 구비되는 것을 특징으로 하는 박막증착장치.
5. 제2항에 있어서,
   상기 한 쌍의 롤부러쉬 부재에 의해 상기 한 쌍의 스크린 부재에서 각각 제거된 파우더를 배기하도록 상기 챔버의 하부에 파우더 배기부를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 박막증착장치.
6. 제5항에 있어서,
   상기 스크린 부재에서 제거된 파우더가 상기 파우더 배기부를 향하도록 퍼지가스를 공급하는 퍼지가스 공급부를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 박막증착장치.
7. 삭제
8. 삭제
9. 제1항에 있어서,
   상기 챔버에 구비되어 상기 가스공급부에서 공급되는 프로세스가스를 배기하는 메인 배기부를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 박막증착장치.
10. 제9항에 있어서,
    상기 하우징은 상기 챔버의 내벽 및 바닥과 미리 결정된 거리만큼 이격되어 상기 가스공급부에서 공급된 프로세스가스 중에 적어도 일부가 상기 메인 배기부로 배기되는 배기유로를 형성하는 것을 특징으로 하는 박막증착장치.
11. 제2항에 있어서,
    상기 한 쌍의 스크린 롤부재는 상기 스크린 부재가 감기는 방향으로 소정의 탄성력을 가하는 탄성부 또는 상기 기판지지부의 이동에 따라 상기 스크린 부재를 감거나 풀어주는 모터부를 구비하는 것을 특징으로 하는 박막증착장치.
12. 제11항에 있어서,
    상기 모터부는 서로 동기화되어 상기 기판지지부의 이동에 대응하여 상기 스크린 부재를 감거나 풀어주는 것을 특징으로 하는 박막증착장치.
    
    
    

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