KR101696734B1 - Baffle device for gas wiping apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 가스 와이핑 설비용 배플장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 강판과 배플 사이에 발생하는 난류 생성을 방지하는 가스 와이핑 설비용 배플장치에 관한 것이다.The present invention relates to a baffle apparatus for a gas wiping facility, and more particularly, to a baffle apparatus for a gas wiping facility that prevents turbulent generation between a steel plate and a baffle.
도금 강판, 특히 아연 도금 강판은 우수한 내식성을 바탕으로 일반 건축자재용을 비롯하여 미려한 표면 관리가 요구되는 가전용 외 판재 및 특히 자동차용 외판재로 그 사용범위가 급속하게 확대되고 있고, 고부가 제품이다.Plated steel sheets, especially zinc-plated steel sheets, are being used for general construction materials as well as for exterior building materials, especially for automobiles, which require beautiful surface management, due to their excellent corrosion resistance.
특히, 근래 그 사용량이 증대되는 칼라 강판, 가전재 및 자동차 내, 외판 등의 용도에서는 내식성 못지 않게 표면 특성이 매우 중요한 인자이고, 따라서 강판의 표면 도금, 특히 아연 도금 강판의 표면 품질이 중요하다.Particularly, in the applications such as color steel sheets, household electric appliances, automobile interior panels, and exterior panels in which the amount of use is increased in recent years, the surface characteristics are as important as the corrosion resistance, and thus the surface quality of the surface plating of the steel sheet, in particular, the galvanized steel sheet is important.
예를 들어, 도 1에서 도시한 바와 같이, 코일의 강판이 잔류 응력을 제거하도록 연속하여 가열로에서 열처리되어 아연도금에 적당한 온도로 유지되는 상태에서, 도금포트(10)의 용융아연을 통과하여 도금된다.For example, as shown in FIG. 1, the steel sheet of the coil is heat-treated in the heating furnace continuously to remove the residual stress and is passed through the molten zinc of the
용융아연이 충진된 도금포트(10)의 싱크롤(11)과 교정롤(12)을 통과한 강판(5)은 도금포트(10) 상부에 배치되는 가스 와이핑 설비(20)에서 수요자가 원하는 도금두께로 조정된다.The
예를 들어, 진행되는 강판(5)에 가스 와이핑을 구현하여 강판에 부착된 용융아연을 깎아서 도금두께를 제어하는 가스 와이핑 설비(20)는 도금포트(10)를 통과한 강판(5)의 양 표면에 기체(에어)를 분사하여 와이핑을 구현하는 것이다.For example, the
그런데, 용융아연에 침지되어 도금되는 강판(5)의 폭은 대략 800~1800mm 정도이고, 가스 와이핑 설비(20)에 구비되어 고압으로 기체를 분사하는 분사노즐(슬릿)의 길이는 강판의 최대 폭보다는 큰 대략 2000~2200mm정도이다.The width of the
따라서, 도 2에서 도시한 바와 같이, 예컨대 800mm의 폭을 갖는 강판(5)이 가스 와이핑 설비(20)를 통과하는 경우, 가스 와이핑 설비(20)의 분사노즐로부터 분사되는 기체는 노즐의 폭에 해당하는 적어도 2,000mm의 폭으로 분사되고, 따라서 강판(5)의 양측에서는 불필요한 기체가 분사된다.2, when the
이에, 강판(5)의 폭보다 크게 분사되는 와이핑 가스는 강판(5)의 단부 근방에서 와류영역이 발생하고, 이와 같은 와이핑 가스의 와류는 강판(5)의 단부에 용융아연이 과도금되는 문제를 일으킨다.As a result, a vortex region is generated in the vicinity of the end portion of the
또는 강판(5)의 폭 이상으로 가스 와이핑 설비(20)에서 분사되는 와이핑 가스는 서로 충돌하여 와류를 형성하는 것은 물론, 특히 심한 소음을 발생시키는 것이다.Or the wiping gas injected from the
따라서, 도 2와 같이, 통상 가스 와이핑 설비(20)에는 강판(5)의 폭에 대응하여 위치 제어되면서 분사되는 와이핑 가스들이 서로 충돌하는 것을 방지하는 배플(25)이 가스 와이핑 설비(20)의 사이에서 이동 가능하게 강판의 양측에 배치된다.2, the
그러나, 도 2에서 도시한 통상의 알려진 배플(25)의 경우 단순하게 평판이 와이핑 되는 가스의 충돌을 방지토록 가스 와이핑 설비(20) 사이에 배치되는 것이기 때문에, 어느 정도의 와이핑가스의 직접적인 충돌을 차단하기는 하지만, 배플(25)에 충돌한 와이핑가스 또는 배플(25)과 강판(5) 단부(5a) 사이의 이격된 공간에서 발생하는 와류 현상에 의한 미세 아연입자의 비산 및 도금포트 탕면에서의 드로스 생성을 억제하기는 미흡한 실정이었다.However, in the case of the conventional known
본 발명의 실시 예들은 강판과 배플 사이의 이격된 공간에서 발생하는 와류 현상을 줄일 수 있는 가스 와이핑 설비용 배플장치를 제공하고자 한다.Embodiments of the present invention are intended to provide a baffle apparatus for a gas wiping facility capable of reducing eddy currents occurring in a spaced space between a steel plate and a baffle.
본 발명의 일 측면에 따르면, 도금포트를 빠져 나오는 강판의 양측으로 마주하게 배치되는 한 쌍의 가스 와이핑 노즐 사이에서 이동 가능하게 제공되며, 상기 강판의 양측 단부 영역에서 상기 한 쌍의 가스 와이핑 노즐에서 분출된 와이핑 가스의 흐름을 가스 와이핑 설비의 측방 외곽 쪽으로 유도하도록 서로 마주하게 배치된 한 쌍의 경사안내판을 포함하고, 상기 한 쌍의 경사안내판 사이의 간격은 상기 강판의 단부에서 멀어질수록 점진적으로 좁아지는 가스 와이핑 설비용 배플장치가 제공될 수 있다.According to an aspect of the present invention, there is provided a gas-liquid separator comprising: a pair of gas-wiping nozzles provided movably between a pair of gas-wiping nozzles disposed opposite each other on both sides of a steel plate exiting a plating port, And a pair of inclined guide plates disposed to face each other so as to guide the flow of the wiping gas ejected from the nozzle toward the lateral outline of the gas wiping facility, wherein the gap between the pair of inclined guide plates is distant from the end of the steel plate A baffle device for gas wiping equipment that gradually becomes narrower can be provided.
또한 상기 한 쌍의 경사안내판은 평판인 것을 특징으로 한다.And the pair of inclined guide plates are flat plates.
또한 상기 한 쌍의 경사안내판은 각각 상기 강판의 단부와 인접하는 일단과 상기 일단 반대쪽 타단을 가지고, 상기 한 쌍의 경사안내판의 각 일단 사이에는 가스흡입부가 형성되고, 상기 한 쌍의 경사안내판의 각 타단 사이에는 상기 가스흡입부보다 폭이 좁은 가스배출부가 형성될 수 있다.The pair of inclined guide plates each have one end adjacent to the end portion of the steel plate and the other end opposite to the one end, a gas suction portion is formed between one end of each of the pair of inclined guide plates, And a gas discharge portion having a width narrower than the gas suction portion may be formed between the other ends.
또한 상기 한 쌍의 경사안내판은 각각 마주하는 상기 한 쌍의 가스 와이핑 노즐에 대해 경사지게 배치될 수 있다.Further, the pair of inclined guide plates may be inclined with respect to the pair of gas wiping nozzles facing each other.
또한 상기 한 쌍의 경사안내판은 각각 상기 한 쌍의 가스 와이핑 노즐에서 분출되는 와이핑 가스와 바로 접촉하는 경사안내면을 구비하고, 상기 경사안내면은 상기 한 쌍의 가스 와이핑 노즐에서 토출된 가스를 상기 강판의 단부와 멀어지는 외측방향으로 유도할 수 있다.And the pair of inclined guide plates each have an inclined guide surface in direct contact with the wiping gas ejected from the pair of gas wiping nozzles, and the inclined guide surface is formed by the gas discharged from the pair of gas wiping nozzles And can be led outwardly away from the end of the steel plate.
또한 상기 한 쌍의 경사안내판의 상단과 하단을 각각 연결하는 상부프레임과 하부프레임을 더 포함한다.And further includes an upper frame and a lower frame which connect upper and lower ends of the pair of inclined guide plates, respectively.
또한 상기 한 쌍의 경사안내판은 일렬로 복수개 배치될 수 있다.The pair of inclined guide plates may be arranged in a plurality of rows.
본 발명의 실시 예들은 강판의 단부와 배플 사이에서 발생되는 와류 현상에 따른 과도금 및 아연비산 발생을 현저히 줄일 수 있게 된다.The embodiments of the present invention can remarkably reduce occurrence of over-plating and zinc scattering due to a vortex phenomenon occurring between the end portion of the steel sheet and the baffle.
도 1은 도금장치를 개략적으로 도시한 것이다.
도 2는 기존의 가스 와이핑 설비용 배플을 도시한 것이다.
도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 가스 와이핑 설비를 도시한 사시도이다.
도 4는 본 발명의 실시 예에 따른 배플장치를 도시한 사시도이다.
도 5는 본 발명의 실시 예에 따른 배플장치의 평면도이다.
도 6은 본 발명의 실시 예에 따른 배플장치에 의한 와이핑 가스의 흐름을 도시한 것이다.
도 7은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 배플장치를 도시한 사시도이다.
도 8은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 배플장치에 의한 와이핑 가스의 흐름을 도시한 것이다.Fig. 1 schematically shows a plating apparatus.
Figure 2 shows a baffle for a conventional gas wiping system.
3 is a perspective view showing a gas wiping facility according to an embodiment of the present invention.
4 is a perspective view illustrating a baffle apparatus according to an embodiment of the present invention.
5 is a top view of a baffle apparatus according to an embodiment of the present invention.
6 shows a flow of wiping gas by a baffle apparatus according to an embodiment of the present invention.
7 is a perspective view illustrating a baffle apparatus according to another embodiment of the present invention.
8 illustrates the flow of wiping gas by a baffle apparatus according to another embodiment of the present invention.
이하에서는 본 발명의 실시 예들을 첨부 도면을 참조하여 상세히 설명한다. 이하에 소개되는 실시 예들은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 예로서 제공되는 것이다. 본 발명은 이하 설명되는 실시 예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 본 발명을 명확하게 설명하기 위하여 설명과 관계없는 부분은 도면에서 생략하였으며 도면들에 있어서, 구성요소의 폭, 길이, 두께 등은 편의를 위하여 과장되어 표현될 수 있다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 동일한 구성요소들을 나타낸다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The embodiments described below are provided by way of example so that those skilled in the art will be able to fully understand the spirit of the present invention. The present invention is not limited to the embodiments described below, but may be embodied in other forms. In order to clearly explain the present invention, parts not related to the description are omitted from the drawings, and the width, length, thickness, etc. of the components may be exaggerated for convenience. Like reference numerals designate like elements throughout the specification.
도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 가스 와이핑 설비를 도시한 사시도이고, 도 4는 본 발명의 실시 예에 따른 배플장치를 도시한 사시도이고, 도 5는 본 발명의 실시 예에 따른 배플장치의 평면도이고, 도 6은 본 발명의 실시 예에 따른 배플장치에 의한 와이핑 가스의 흐름을 도시한 것이다.4 is a perspective view illustrating a baffle apparatus according to an embodiment of the present invention. FIG. 5 is a cross-sectional view of a baffle apparatus according to an embodiment of the present invention. And FIG. 6 shows a flow of the wiping gas by the baffle device according to the embodiment of the present invention.
도 3 내지 도 6을 참조하면, 본 발명의 실시 예에 의한 가스 와이핑 설비용 배플장치(30)는 도금포트를 빠져 나오는 강판(5)의 도금두께를 조절하기 위하여 가스 와이핑 설비(20)가 작동하는 경우, 마주하는 한 쌍의 가스 와이핑 노즐(21)에서 강판(5)의 폭방향 양단(5a) 근방으로 분사되는 와이핑 가스의 충돌을 방지하면서 와이핑 가스의 흐름을 가스 와이핑 설비(20)의 측방 외곽 쪽으로 유도하는 한 쌍의 경사안내판(40)을 포함한다.3 to 6, a
한 쌍의 경사안내판(40)은 평판 형태로 이루어져 서로 마주하게 배치될 수 있고, 강판(5)의 진행방향 상하로 길이가 길게 형성될 수 있다.The pair of
한 쌍의 경사안내판(40)의 상단과 하단은 각각 상부프레임(31)과 하부프레임(33)에 연결될 수 있다.The upper and lower ends of the pair of
상부프레임(31)은 배플장치(30)를 마주하는 한 쌍의 가스 와이핑 노즐(21) 사이에서 이동시키는 구동장치(미도시)와 연결된 지지암(35)에 연결된다.The
한 쌍의 경사안내판(40)은 각각 마주하는 한 쌍의 가스 와이핑 노즐(21)에 대해 경사지게 배치될 수 있다.The pair of
따라서, 한 쌍의 경사안내판(40) 사이의 간격은 강판(5)의 단부(5a)에서 멀어질수록 점진적으로 좁아지는 형태를 이룬다.Therefore, the distance between the pair of
한 쌍의 경사안내판(40)은 각각 강판(5)의 단부(5a)와 인접하는 일단(41)과 일단(41)의 반대편 타단(42)을 가지고, 한 쌍의 경사안내판(40)의 각 일단(41) 사이에는 와이핑 가스가 흡입되는 가스흡입부(43)가 형성되고, 한 쌍의 경사안내판(40)의 각 타단(42) 사이에는 가스흡입부(43)로 흡입된 와이핑 가스가 배출되는 가스배출부(44)가 형성된다. 여기서, 가스배출부(44)의 폭은 가스흡입부(43)의 폭보다 상대적으로 좁게 형성된다.Each of the pair of
한 쌍의 경사안내판(40)은 각각 한 쌍의 가스 와이핑 노즐(21)에서 분출되는 와이핑 가스가 바로 접촉하도록 대응하는 가스 와이핑 노즐(21)과 마주하는 경사안내면(45)을 구비하고, 한 쌍의 가스 와이핑 노즐(21)에서 토출된 와이핑 가스는 경사안내면(45)을 따라 흐르면서 강판(5)의 단부(5a)와 멀어지는 측방 외측으로 빠르게 이동한다.The pair of
따라서 한 쌍의 경사안내판(40) 사이에 형성된 가스배출부(44) 근방에는 경사안내면(45)을 따라 흐르는 와이핑 가스에 의해 압력이 급격히 낮아지게 되므로, 가스흡입부(43) 쪽에 분사된 와이핑 가스는 가스배출부(44) 쪽으로 이동하게 된다.Therefore, since the pressure is rapidly lowered by the wiping gas flowing along the
이러한 구성을 통하여, 도 6과 같이, 한 쌍의 가스 와이핑 노즐(21)에서 강판(5)의 단부(5a) 근방에 분출되는 고압의 와이핑 가스는 한 쌍의 경사안내판(40)의 경사안내면(45)을 따라 빠르게 흐르면서 가스배출부(44) 근방을 진공상태로 만들어 압력을 급격히 낮추게 된다. 이에 따라 가스흡입부(43) 근방의 와이핑 가스와 강판(5)의 단부(5a) 쪽에 부딪히는 와이핑 가스는 가스배출부(44) 쪽으로 빠르게 흡입되어 분출되게 된다.6, the high-pressure wiping gas ejected from the pair of
가스배출부(44)를 통해 분출되는 와이핑 가스의 속도는 한 쌍의 가스 와이핑 노즐(21)에서 분사되는 와이핑 가스 속도를 2배 이상으로 증가시키고, 벤츄리 효과(venturi effect)에 의해 가스흡입부(43) 근방의 와이핑 가스가 가스배출부(44) 쪽으로 흐르는 유동에 의해 강판(5)의 단부(5a)와 기존 배플 사이의 간격에서 발생되는 와류 현상을 제거하여 강판(5)의 단부(5a)에서의 아연 비산 발생량을 저감하고, 미세 아연입자를 와이핑 영역 외곽으로 배출시킴으로써 드로스의 생성 및 강판(5)의 단부(5a) 과도금 현상을 방지할 수 있게 된다.The velocity of the wiping gas ejected through the
여기서, 가스흡입부(43), 가스배출부(44) 및 한 쌍의 경사안내면(45)의 폭과, 강판(5)의 단부(5a)와 한 쌍의 경사안내판(40)의 일단(41) 사이의 간격은 경사안내면(45)을 따라 흐르는 와이핑 가스의 속도와 압력, 강판(5)의 단부(5a)에서 비산되는 아연의 양과 과도금 현상이 제어되는 양을 고려하여 적절히 선택될 수 있다.The width of the
한편 도 7과 같이, 강판(5)의 단부(5a)와 인접한 가스흡입부(43) 근방의 와이핑 가스가 강판(5)의 측방 외측으로 배출되는 효과를 배가시키기 위하여 한 쌍의 경사안내판(40)은 상,하부프레임(31,33)을 따라 소정간격을 형성하며 일렬로 복수개 배치될 수 있다.On the other hand, as shown in Fig. 7, in order to double the effect that the wiping gas in the vicinity of the
이러한 구성을 통해, 도 8과 같이 강판(5)의 단부(5a)와 인접한 가스흡입부(43) 근방에 위치하는 와이핑 가스의 흡입력은 한 쌍의 경사안내판(40)이 배치된 구성에 비하여 월등히 향상되게 된다.8, the suction force of the wiping gas located in the vicinity of the
또한 본 발명의 실시 예에서는 경사안내면(45)이 편평한 예를 도시하였으나, 경사안내면(45)은 코안다 효과(coanda effect)에 의한 와이핑 가스의 배출 효과를 향상시키기 위해 만곡 형상으로 이루어질 수도 있다.Although the
5: 강판, 5a: 단부,
10: 도금포트, 20: 가스 와이핑 설비,
30: 배플장치, 31: 상부프레임,
33: 하부프레임, 35: 지지암,
40: 경사안내판, 43: 가스흡입부,
44: 가스배출부, 45: 경사안내면.5: steel plate, 5a: end portion,
10: Plating port, 20: Gas wiping facility,
30: baffle device, 31: upper frame,
33: lower frame, 35: support arm,
40: a slope guide plate, 43: a gas suction part,
44: gas discharge portion, 45: inclined guide surface.
Claims (7)
상기 한 쌍의 경사안내판은 각각 상기 강판의 단부와 인접하는 일단과 상기 일단 반대쪽 타단을 가지고,
상기 한 쌍의 경사안내판의 각 일단 사이에는 가스흡입부가 형성되고, 상기 한 쌍의 경사안내판의 각 타단 사이에는 상기 가스흡입부보다 폭이 좁은 가스배출부가 형성되는 가스 와이핑 설비용 배플장치.And a pair of gas-wiping nozzles disposed opposite each other on both sides of the steel sheet exiting the plating port, wherein a flow of the wiping gas ejected from the pair of gas-wiping nozzles in the both- And a pair of inclined guide plates disposed to face each other so as to guide the gas-
The pair of inclined guide plates each have one end adjacent to the end of the steel plate and the other end opposite to the one end,
Wherein a gas suction part is formed between one end of each of the pair of inclined guide plates and a gas discharge part having a narrower width than the gas suction part is formed between the other ends of the pair of inclined guide plates.
상기 한 쌍의 경사안내판은 평판인 것을 특징으로 하는 가스 와이핑 설비용 배플장치.The method according to claim 1,
Wherein the pair of inclined guide plates is a flat plate.
상기 한 쌍의 경사안내판 사이의 간격은 상기 강판의 단부에서 멀어질수록 점진적으로 좁아지는 가스 와이핑 설비용 배플장치.The method according to claim 1,
Wherein the gap between the pair of inclined guide plates gradually becomes narrower as the distance from the end of the steel plate becomes narrower.
상기 한 쌍의 경사안내판은 각각 마주하는 상기 한 쌍의 가스 와이핑 노즐에 대해 경사지게 배치되는 가스 와이핑 설비용 배플장치.The method according to claim 1,
Wherein the pair of inclined guide plates are disposed obliquely with respect to the pair of gas wiping nozzles facing each other.
상기 한 쌍의 경사안내판은 각각 상기 한 쌍의 가스 와이핑 노즐에서 분출되는 와이핑 가스와 바로 접촉하는 경사안내면을 구비하고,
상기 경사안내면은 상기 한 쌍의 가스 와이핑 노즐에서 토출된 가스를 상기 강판의 단부와 멀어지는 외측방향으로 유도하는 가스 와이핑 설비용 배플장치.The method according to claim 1,
Wherein the pair of inclined guide plates each have an inclined guide surface in direct contact with the wiping gas ejected from the pair of gas wiping nozzles,
Wherein the inclined guide surface guides the gas discharged from the pair of gas wiping nozzles in an outward direction away from an end of the steel plate.
상기 한 쌍의 경사안내판의 상단과 하단을 각각 연결하는 상부프레임과 하부프레임을 더 포함하는 가스 와이핑 설비용 배플장치.The method according to claim 1,
Further comprising an upper frame and a lower frame connecting upper and lower ends of the pair of inclined guide plates, respectively.
상기 한 쌍의 경사안내판은 일렬로 복수개 배치되는 가스 와이핑 설비용 배플장치.7. The method according to any one of claims 1 to 6,
Wherein a plurality of the inclined guide plates are arranged in a line.
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