KR101449148B1

KR101449148B1 - Baffle Device for Gas Wiping Apparatus

Info

Publication number: KR101449148B1
Application number: KR1020120133663A
Authority: KR
Inventors: 김왕곤; 이동은; 이태현; 이옥산
Original assignee: 주식회사 포스코
Priority date: 2012-11-23
Filing date: 2012-11-23
Publication date: 2014-10-08
Also published as: KR20140066435A

Abstract

도금 강판의 도금 두께를 제어하는 가스 와이핑 설비와 연계되어 제공되는 배플장치에 관한 것으로, 이는 가스 와이핑 설비 사이에서 이동 가능하게 제공된 배플바디; 및 상기 배플바디에 충돌하는 와이핑가스를 유도하여 적어도 도금 입자의 비산을 억제토록, 상기 배플바디에 제공되는 와이핑가스 유도수단을 포함하여 구성될 수 있다.
이와 같은 본 발명에 의하면, 가스 와이핑 설비에서 토출된 와이핑가스가 장치에 충돌한 후 특정 방향으로 유도하는 것에 더하여, 추가로 강판 에지부를 향하여 가스 분사를 구현함으로써, 오염입자(아연입자)의 비산을 억제하고, 소음도 감소시키며, 조업 환경을 개선하고 설비오염도 줄이며, 상부 드로스 억제를 가능하게 하여 제품의 표면 품질을 향상시키는 한편, 기존 배플에의 적용도 용이한 개선된 효과를 얻을 수 있다.The present invention relates to a baffle apparatus provided in association with a gas wiping apparatus for controlling a thickness of a plated steel sheet, comprising: a baffle body movably provided between a gas wiping apparatus; And a wiping gas inducing unit provided in the baffle body to induce a wiping gas impinging on the baffle body to suppress scattering of at least plating particles.
According to the present invention, in addition to guiding the wiping gas discharged from the gas wiping device to a specific direction after colliding with the apparatus, the gas injection is further performed toward the steel plate edge portion, It is possible to improve the surface quality of the product by suppressing scattering, reducing the noise, improving the operating environment, reducing facility contamination, suppressing the upper dross, and improving the application to existing baffles .

Description

BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a baffle device for gas wiping equipment,

본 발명은 도금 강판의 도금 두께를 제어하는 가스 와이핑 설비와 연계되어 제공되는 배플장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 가스 와이핑 설비에서 토출된 와이핑가스가 장치에 충돌한 후 특정 방향으로 유도하는 것에 더하여, 추가로 강판 에지부를 향하여 가스 분사를 구현함으로써, 오염입자(아연입자)의 비산을 억제하고, 소음도 감소시키며, 조업 환경을 개선하고 설비오염도 줄이며, 상부 드로스의 생성 억제를 가능하게 하여 제품의 표면 품질을 향상시키는 한편, 기존 배플에의 적용도 용이한 가스 와이핑 설비용 배플장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a baffle apparatus provided in connection with a gas wiping facility for controlling a thickness of a coated steel sheet, and more particularly, to a baffle apparatus for guiding a wiping gas discharged from a gas- (Zinc particles) can be suppressed by suppressing scattering of polluted particles (zinc particles), noise can be reduced, operation environment can be improved, facility contamination can be reduced, and generation of upper dross can be suppressed To a baffle device for a gas wiping facility that is easy to apply to existing baffles while improving the surface quality of products.

도금 강판, 특히 아연 도금 강판은 우수한 내식성을 바탕으로 일반 건축자재용을 비롯하여 미려한 표면 관리가 요구되는 가전용 외 판재 및, 특히 자동차용 외판재로 그 사용범위가 급속하게 확대되고 있고, 고부가 제품이다.Plated steel sheet, especially galvanized steel sheet, is widely used for general building materials, home-use outer sheets and automobile outer sheets, which require beautiful surface management, and is a high value-added product .

특히, 근래 그 사용량이 증대되는 칼라 강판, 가전재 및 자동차 내, 외판 등의 용도에서는 내식성 못지 않게 표면 특성이 매우 중요한 인자이고, 따라서 강판의 표면 도금, 특히 아연 도금 강판의 표면 품질이 중요하다.Particularly, in the applications such as color steel sheets, household electric appliances, automobile interior panels, and exterior panels in which the amount of use is increased in recent years, the surface characteristics are as important as the corrosion resistance, and thus the surface quality of the surface plating of the steel sheet, in particular, the galvanized steel sheet is important.

예를 들어, 도 1에서 도시한 바와 같이, 코일의 강판이 잔류 응력을 제거하도록 연속하여 가열로에서 열처리되어 아연도금에 적당한 온도로 유지되는 상태에서, 도금조(110)의 용융아연(112)을 통과하여 도금된다.For example, as shown in FIG. 1, molten zinc 112 of the plating bath 110 is heated in a heating furnace so that the steel strip of the coil is continuously heat-treated in the heating furnace and maintained at a temperature suitable for zinc plating, And is plated.

즉, 융용아연(112)이 충진된 도금조(110)의 싱크롤(114)과 안정화 롤(스테빌라이징 롤)(116)을 통과한 강판(100)은 도금조 상부에 배치되는 가스 와이핑 설비(일명, '에어 나이프' 라고도 함)(130)에서 수요가가 원하는 도금량으로 조정된다. 이때, 도 1에서 미설명 도면부호 118, 120은 각각 도금량 측정기기 및 이송롤이다.That is, the steel plate 100 having passed through the sink roll 114 and the stabilizing roll (stabilizing roll) 116 of the plating bath 110 filled with the fused rinse 112 has a gas wiping facility (Also known as an 'air knife') 130, the demand is adjusted to the desired amount of plating. In FIG. 1, reference numerals 118 and 120 denote plating amount measuring instruments and transfer rolls, respectively.

예를 들어, 진행되는 강판(100)에 가스 와이핑을 구현하여 강판에 부착된 용융아연을 깎아서 도금두께를 제어하는 가스 와이핑 설비(130)는, 도금조(110)를 통과한 강판(100)의 양 표면에 기체(에어)를 분사하여 와이핑을 구현하는 것이다.For example, the gas wiping device 130, which implements gas wiping on the steel plate 100 and controls the thickness of the molten zinc adhered to the steel plate, controls the thickness of the steel plate 100 (Air) is sprayed on both surfaces of the wiper blade to implement wiping.

그런데, 융융아연(112)에 침지되어 도금되는 강판(100)의 폭은 대략 800~1800mm 정도이고, 가스 와이핑 설비(130)에 구비되어 고압으로 기체를 분사하는 분사노즐(슬릿)(132)의 길이는 강판의 최대 폭보다는 큰 대략 2000~2200mm 정도 이다.The width of the steel sheet 100 immersed and plated in the molten zinc 112 is about 800 to 1800 mm and is provided in the gas wiping facility 130 and is provided with a spray nozzle (slit) 132 for spraying the gas at a high pressure, Is about 2000 to 2200 mm, which is larger than the maximum width of the steel sheet.

따라서, 도 2에서 도시한 바와 같이, 예컨대 800mm의 폭을 갖는 강판(100)이 가스 와이핑 설비(130)를 통과하는 경우, 가스 와이핑 설비(130)의 분사노즐(132)로부터 분사되는 기체는 노즐의 폭에 해당하는 적어도 2,000mm의 폭으로 분사되고, 따라서 강판(100)의 양측에서는 불필요한 기체가 분사된다.2, when the steel plate 100 having a width of, for example, 800 mm passes through the gas-wiping facility 130, the gas orifice 132, which is injected from the injection nozzle 132 of the gas- Is sprayed at a width of at least 2,000 mm corresponding to the width of the nozzle, so that unnecessary gas is injected from both sides of the steel plate 100. [

이에, 강판의 폭보다 크게 분사되는 와이핑가스(G)는, 강판(100)의 에지부(102)에서 와류영역(V)이 발생하고, 이와 같은 가스의 와류는 강판(100)의 에지부에 용융아연(112)이 과도금되는 문제를 일으킨다.The vortex region V of the wiping gas G emitted from the edge portion 102 of the steel sheet 100 is larger than the width of the steel sheet, Thereby causing the molten zinc 112 to overflow.

또는, 강판(100)의 폭 이상으로 양측의 가스 와이핑 설비(130)에서 분사되는 와이핑가스(G)는 서로 충돌하여 와류를 형성하는 것은 물론, 특히 심한 소음을 발생시키는 것이다.Alternatively, the wiping gas G injected from the gas wiping apparatus 130 on both sides at a width greater than the width of the steel plate 100 collides with each other to form a vortex and, in particular, generate a severe noise.

따라서, 도 2와 같이, 통상 가스 와이핑 설비(130)에는 강판(100)의 폭에 대응하여 위치 제어되면서 분사되는 와이핑가스(G)들이 서로 충돌하는 것을 방지하는 배플(150)('배플 플레이트'라고도 함)이 가스 와이핑 설비의 사이에서 이동 가능하게 강판의 양측에 배치된다.2, the conventional gas wiping apparatus 130 is provided with a baffle 150 (a baffle 150) for preventing the wiping gases G injected while being controlled in position corresponding to the width of the steel plate 100 from colliding with each other, Plate ") is disposed on both sides of the steel plate so as to be movable between the gas wiping facilities.

그러나, 도 2에서 도시한 통상의 알려진 배플(150)의 경우 단순하게 평판이 와이핑 되는 가스의 충돌을 방지토록 가스 와이핑 설비(130) 사이에 배치되는 것이기 때문에, 어느 정도의 와이핑가스의 직접적인 충돌을 차단하기는 하지만, 배플에 충돌한 와이핑가스의 와류 현상이나 배플의 면을 따라 상,하 방향으로의 가스 제트로 인한 아연입자의 비산 문제를 억제하기에는 미흡한 것이었다.However, in the case of the conventional known baffle 150 shown in FIG. 2, since the plate is simply disposed between the gas-wiping facility 130 to prevent collision of the wiped gas, Although the direct collision was blocked, it was insufficient to suppress the swirling phenomenon of the wiping gas impinging on the baffle and the scattering of the zinc particles due to the gas jet in the upward and downward directions along the surface of the baffle.

따라서, 도금 품질에 상당한 영향을 미치는 아연입자의 비산에 따른 도금조 탕면에서의 상부 드로스(top dross)의 생성을 효과적이거나 실효적으로 억제하는 것은 미흡한 실정이었다.Therefore, it has been difficult to effectively or effectively suppress the formation of top dross on the plating bath surface due to scattering of zinc particles, which significantly affects plating quality.

이에 따라서, 본 발명의 출원인은 기존 배플에 적용이 용이하고, 실효적인 소음감소, 아연입자의 비산 감소(방지)를 가능하게 한 본 발명을 제안하게 되었다.Accordingly, the applicant of the present invention has proposed the present invention which is easy to apply to conventional baffles, and can realize effective noise reduction and reduction (prevention) of scattering of zinc particles.

즉, 당 기술분야에서는, 가스 와이핑 설비에서 토출된 와이핑가스가 장치에 충돌한 후 특정 방향으로 유도하는 것에 더하여, 추가로 강판 에지부를 향하여 가스 분사를 구현함으로써, 오염입자(아연입자)의 비산을 억제하고, 소음도 감소시키며, 조업 환경을 개선하고 설비오염도 줄이며, 상부 드로스 억제를 가능하게 하여 제품의 표면 품질을 향상시키는 한편, 기존 배플에의 적용도 용이한 가스 와이핑 설비용 배플장치가 요구되어 왔다.That is, in the art, in addition to guiding the wiping gas discharged from the gas wiping facility to a specific direction after colliding with the apparatus, by further performing gas injection toward the steel plate edge portion, It is possible to improve the surface quality of the product by suppressing the scattering, reducing the noise, improving the operating environment, reducing the facility pollution, enabling the upper dross suppression and improving the baffle device for gas wiping equipment Has been required.

상기와 같은 요구를 달성하기 위한 일 측면으로서 본 발명은, 가스 와이핑 설비 사이에서 이동 가능하게 제공된 배플바디; 및 상기 배플바디에 충돌하는 와이핑가스를 유도하여 적어도 도금입자의 비산을 억제토록, 상기 배플바디에 제공되는 와이핑가스 유도수단을 포함하고, 상기 와이핑가스 유도수단은, 상기 배플바디의 양 측면에서 강판 진행방향의 하류 측에 서로 마주하여 제공되는 한 쌍의 제1 가스 유도날개; 및 상기 배플바디의 양 측면에서 상기 제1 가스 유도날개보다 상류 측에 서로 마주하여 제공되는 한 쌍의 제2 가스 유도날개를 포함하며, 상기 제1 가스 유도날개와 상기 제2 가스 유도날개는 상기 배플바디에 충돌하는 상기 와이핑가스를 외곽으로 유도토록 상기 배플바디의 일측에서 타측으로 갈수록 상기 가스 유도날개들 사이의 간격이 넓어지도록 형성된 가스 와이핑 설비용 배플장치를 제공한다.In order to achieve the above-described needs, the present invention provides a baffle body comprising: a baffle body movably provided between a gas wiping facility; And a wiping gas inducing means provided in the baffle body for inducing a wiping gas impinging on the baffle body to suppress scattering of at least plating particles, A pair of first gas guide vanes provided on the downstream side of the side of the steel plate in the traveling direction, facing each other; And a pair of second gas guide vanes provided opposite to each other on both sides of the baffle body on the upstream side of the first gas guide vane, wherein the first gas guide vane and the second gas guide vane A baffle device for a gas wiping facility, comprising: a baffle body; a baffle body; a baffle body; a baffle body; a baffle body; a baffle body;

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이때. 상기 제1 가스 유도날개와 상기 제2 가스 유도날개는 만곡 구조로 제공되되, 상기 제1 가스 유도날개와 상기 제2 가스 유도날개는 서로 반대로 볼록하게 만곡되는 것이다.At this time. The first gas guiding vane and the second gas guiding vane are provided in a curved structure, and the first gas guiding vane and the second gas guiding vane are convexly curved opposite to each other.

삭제delete

더 바람직하게는, 상기 제1 가스 유도날개와 상기 제2 가스 유도날개는 단면상 원형으로, 상기 배플바디에 조립되거나, 적어도 하나는 배플바디와 일체로 만곡되어 제공되는 것이다.More preferably, the first gas guide vane and the second gas guide vane are circular in cross section and are assembled to the baffle body, or at least one is provided integrally bent with the baffle body.

이때, 상기 제1 가스 유도날개와 상기 제2 가스 유도날개 중 적어도 선택된 하나는, 서로 접합되는 단위 배플바디들이 일체로 만곡되어 단면상 원형으로 제공될 수 있다.At this time, at least one selected from among the first gas guiding vane and the second gas guiding vane may be integrally bent so that the unit baffle bodies are joined to each other, so that the unit baffle bodies can be provided in a circular shape in cross section.

또는, 상기 제1 가스 유도날개와 상기 제2 가스 유도날개는 서로 접합되는 단위 배플바디들에 타공을 통하여 단면상 원형으로 일체로 제공되는 것이다.Alternatively, the first gas guiding vane and the second gas guiding vane may be integrally provided in a unitary baffle body joined to each other through a perforation.

더하여, 본 발명은 상기 배플바디의 일측으로 강판의 에지부를 향하여 가스를 추가로 더 분사토록 제공된 가스 분사수단을 더 포함하여 구성될 수 있다.In addition, the present invention may further comprise gas jetting means provided to further inject gas toward one side of the baffle body toward the edge of the steel sheet.

바람직하게는, 상기 가스 분사수단은, 상기 배플바디의 하부 일측으로 제공된 가스 분사노즐; 및 상기 가스 분사노즐과 연계되는 가스 공급관을 포함하여 구성될 수 있다.Preferably, the gas injection means includes: a gas injection nozzle provided at a lower side of the baffle body; And a gas supply pipe connected to the gas injection nozzle.

바람직하게는, 상기 가스 분사노즐은, 상기 강판 진행방향의 역방향으로 경사지게 가스를 분사토록 제공되는 하나 이상의 슬릿 또는 구멍을 포함하는 것이다.Preferably, the gas injection nozzle includes at least one slit or hole provided so as to inject gas in a slanting direction in a direction opposite to the direction in which the steel sheet advances.

더 바람직하게는, 상기 슬릿은 상기 가스 분사노즐에 다층으로 제공되고, 상기 가스 분사노즐의 상부에서 하부로 갈수록 슬릿 면적이 확대되는 것이다.More preferably, the slit is provided in multiple layers on the gas injection nozzle, and the slit area is enlarged from the upper portion to the lower portion of the gas injection nozzle.

이와 같은 본 발명에 의하면, 먼저 가스 와이핑 설비에서 토출된 와이핑가스가 배플장치의 배플바디에 충돌한 후 특정 방향, 예컨대 외곽 방향으로 유도하여 배출시키는 것을 가능하게 하기 때문에, 오염입자(아연입자)의 비산을 효과적으로 억제하거나 방지할 수 있는 것이다.According to the present invention, since the wiping gas discharged from the gas wiping facility can be guided to the baffle body of the baffle device in a specific direction, for example, ) In the case of the present invention can be effectively suppressed or prevented.

특히, 기존 배플 사용시 발생되는 소음도 획기적으로 줄일 수 있는 것이다.In particular, the noise generated when using conventional baffles can be drastically reduced.

결국, 본 발명은 조업 환경을 개선하고 비산입자에 의한 설비 오염도 줄이도록 하는 한편, 상부 드로스의 생성을 억제하는 것을 가능하게 한다.As a result, the present invention makes it possible to improve the operating environment and reduce facility contamination by fly ash particles while suppressing the generation of upper dross.

따라서, 본 발명은 궁극적으로 도금 강판의 제품 품질을 향상시키는 것이다.Therefore, the present invention ultimately improves the quality of the product of the coated steel sheet.

더하여, 본 발명은 기존 배플에 저비용으로 쉽게 설치하여 운용할 수 있는 것이다.In addition, the present invention can be easily installed and operated on existing baffles at low cost.

또한, 본 발명은 배플을 구현하면서, 추가로 강판의 에지부에 가스 분사(와이핑)를 구현하기 때문에, 강판 에지부의 과도금을 더 억제하고, 아연입자의 비산도 더 억제하는 것이다.Further, the present invention implements gas injection (wiping) at the edge portion of the steel sheet while further implementing the baffle, thereby further suppressing the overriding of the steel plate edge portion and further suppressing scattering of the zinc particles.

도 1은 알려진 (아연) 도금공정을 도시한 개략도
도 2는 도 1의 도금 공정에서 도금량을 제어하는 가스 와이핑 상태 및 배플을 도시한 개략 평면도
도 3은 본 발명에 따른 배플장치를 가스 와이핑 설비에 설치한 상태를 도시한 사시도
도 4는 도 3의 배플장치의 설치상태를 도시한 정면 구성도
도 5는 도 3의 배플장치를 도시한 요부 사시도
도 6은 도 3의 배플장치를 도시한 측면도
도 7은 본 발명에 따른 배플장치의 작동상태를 도시한 구성도
도 8은 도 3의 배플장치를 도시한 후면 구성도
도 9는 도 3의 배플장치를 도시한 정면 구성도
도 10은 본 발명에 따른 배플장치의 다른 실시예를 도시한 분해 사시도
도 11의 (a) 및 (b)는 본 발명에 따른 배플장치의 또 다른 실시예를 도시한 분해 사시도 및 정면도
도 12는 본 발명의 배플장치에 구비되는 가스 분사수단을 도시한 요부 구조도이다.Figure 1 is a schematic diagram illustrating a known (zinc) plating process;
Fig. 2 is a schematic plan view showing a gas wiping state and a baffle for controlling the plating amount in the plating process of Fig.
3 is a perspective view showing a state in which the baffle device according to the present invention is installed in a gas wiping facility;
Fig. 4 is a front view showing the installation state of the baffle device of Fig. 3
Fig. 5 is a perspective view showing the baffle apparatus of Fig.
Fig. 6 is a side view showing the baffle device of Fig. 3
FIG. 7 is a view showing the operating state of the baffle device according to the present invention
8 is a rear plan view showing the baffle apparatus of Fig. 3
Fig. 9 is a front view showing the baffle device of Fig. 3
10 is an exploded perspective view showing another embodiment of the baffle device according to the present invention.
11 (a) and 11 (b) are an exploded perspective view and a front view showing still another embodiment of the baffle device according to the present invention
Fig. 12 is a structural diagram showing the gas injection means provided in the baffle apparatus of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시형태들을 설명한다. 그러나 본 발명의 실시형태는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 이하 설명하는 실시형태로 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 발명의 실시형태는 당해 기술분야에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. (도면에서 요소들의 형상 및 크기 등은 보다 명확한 설명을 위해 과장될 수 있다.)Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. However, the embodiments of the present invention can be modified into various other forms, and the scope of the present invention is not limited to the embodiments described below. Further, the embodiments of the present invention are provided to more fully explain the present invention to those skilled in the art. (The shape and size of elements in the drawings may be exaggerated for clarity.)

먼저, 이하의 설명에서는 배플장치(1)로 간략하여 설명하고, 종래 기술부분에서 설명한 가스 와이핑 설비(130)와 관련 구성요소의 도면부호는 동일한 100대의 도면부호로 설명하고, 그 상세한 구성이나 작용 설명은 이하의 본 실시예에서는 간략한다. First, in the following description, the baffle device 1 will be briefly described, and the reference numerals of the gas wiping equipment 130 and the related components described in the prior art will be described with the same 100 reference numerals. The operation will be described briefly in the following embodiment.

도 3 내지 도 6에서는 본 발명에 따른 가스 와이핑 설비용 배플장치(1)를 도시하고 있다. 3 to 6 show a baffle apparatus 1 for a gas wiping facility according to the present invention.

예를 들어, 이와 같은 본 발명의 배플장치(1)는, 도 3 및 도 4와 같이 강판(100)에 부착된 아연 부착량을 제어하여 강판의 도금두께를 조정하는 가스 와이핑 설비(130) 사이에 이동 가능하게 제공된, 예컨대 플레이트 구조의 배플바디(10)와, 상기 배플바디(10)에 충돌하는 와이핑가스(G)를 유도하여 비산을 억제토록 배플바디에 하나 이상 제공된 와이핑가스 유도수단(30)을 포함하여 제공될 수 있다.For example, the baffle apparatus 1 of the present invention may be used between the gas wiping apparatus 130 for controlling the zinc coating amount attached to the steel plate 100 and adjusting the plating thickness of the steel plate as shown in FIGS. 3 and 4 For example, a plate-shaped baffle body 10 provided movably to the baffle body 10 and at least one wiping gas guiding means (not shown) provided in the baffle body to guide the wiping gas (G) (30). &Lt; / RTI >

따라서, 본 발명의 배플장치(1)는, 도 2와 같이 종래 단순하게 평판으로 제공되어 가스 와이핑 설비(130) 사이에서 강판의 폭에 대응하여 이동 가능하게 제공되는 것에 비하여, 와이핑가스 유도수단(30)을 구비하기 때문에, 도 3 및 도 7과 같이 배플바디(10)의 양측에서 배플바디를 향하여 가스 와이핑 설비(130)의 분사노즐(132)에서 토출된 와이핑가스(G)는 배플바디에 충돌한 후 배플장치(1)의 외곽, 즉 가스 와이핑 설비(130)의 외곽측으로 와이핑가스(G)를 유도하는 것을 구현하는 것이다.2, the baffle apparatus 1 of the present invention is provided simply as a flat plate and is provided movably in correspondence with the width of the steel sheet between the gas wiping apparatus 130, The wiping gas G discharged from the injection nozzle 132 of the gas wiping device 130 toward the baffle body from both sides of the baffle body 10 as shown in FIGS. Is to implement the induction of the wiping gas (G) to the outer periphery of the baffle device (1), that is, to the outside of the gas wiping facility (130) after colliding with the baffle body.

따라서, 도 2와 같이 기존에 배플바디(10)에서 충돌하는 가스에 의한 과도한 소음이나 아연입자의 비산을 최소한 억제하는 것을 가능하게 하는데, 이는 본 발명의 와이핑가스 유도수단(30)을 통하여 와이핑가스를 가스 와이핑 설비(130)의 외곽으로 적어도 강판에서 멀어지는 방향으로 유도하기 때문이다.As shown in FIG. 2, it is possible to minimize excessive noise and scattering of zinc particles due to the gas bubbling in the baffle body 10, which is caused by the wiping gas guiding means 30 of the present invention. Thereby guiding the finging gas to the outside of the gas wiping facility 130 at least in a direction away from the steel plate.

결국, 본 발명은 결과적으로, 소음제거와 아연비산 억제 또는 유도를 통하여 도금 강판의 표면 품질을 향상시키고, 아연입자의 비산량이 적어도 감소하기 때문에, 도 1의 도금조(110) 탕면에서의 상부 드로스 등의 오염물질의 생성량도 감소시키는 것이다.As a result, the present invention improves the surface quality of the coated steel sheet through noise reduction and suppression or induction of zinc scattering, and at least reduces the scattering amount of the zinc particles. Therefore, in the plating bath 110 of FIG. 1, Thereby reducing the amount of pollutants such as loses.

이때, 도 3, 도 5 및 도 6에서 도시한 바와 같이, 본 발명의 배플장치(1)에서 상기 와이핑가스 유도수단(30)은, 상기 배플바디(10)의 양 측면에 서로 마주하는 위치에 제공되는 제1 가스 유도날개(40)를 포함하여 구성될 수 있다.3, 5 and 6, in the baffle apparatus 1 of the present invention, the wiping gas inducing means 30 is disposed at a position opposite to each other on both sides of the baffle body 10, And a first gas guide vane (40) provided on the first gas guide vane (40).

더하여, 본 발명의 배플장치(1)에서, 상기 제1 가스 유도날개(40)는 상기 배플바디(10)의 상측에 배치시키고, 상기 배플바디(10)의 하측으로 양 측면에 서로 마주하는 위치에 제공되는 제2 가스 유도날개(50)들을 더 포함하여 제공될 수 있다.In addition, in the baffle apparatus 1 of the present invention, the first gas guide vane 40 is disposed on the upper side of the baffle body 10, and the lower side of the baffle body 10 The second gas guide vanes 50 may be provided.

따라서, 도 5 및 도 7에 도시한 바와 같이, 본 발명의 와이핑가스 유도수단(30)의 상기 제1,2 가스 유도날개(40)(50)들은 배플바디(10)의 상측 및 하측으로 배플바디(10)의 양측면에서 서로 대칭되어 마주하여 제공되기 때문에, 가스 와이핑 설비(130)에서 와이핑가스(G)는 상기 제1,2 가스 유도날개(40)(50)들의 형상에 의하여 배플바디(10)의 양 측면에서 충돌한 후, 특정 방향으로 강제적으로 유도되는 것이다.5 and 7, the first and second gas guiding vanes 40 and 50 of the wiping gas guiding means 30 of the present invention are arranged on the upper and lower sides of the baffle body 10 The wiping gas G in the gas wiping facility 130 is supplied to the baffle body 10 by the shape of the first and second gas guide vanes 40 and 50 because the wiping gas G is symmetrically provided on both sides of the baffle body 10, After being collided at both sides of the baffle body 10, are forcedly induced in a specific direction.

결국, 배플바디(10)에 충돌한 와이핑가스(G)는 일정한 유동흐름을 갖고 유동되면서 특정 방향으로 유도되기 때문에, 도 2와 같이 기존의 배플(150)의 양측에서 고압으로 분사된 와이핑가스가 충돌하는 것으로 끝나는 것에 비하여, 본 발명에 따른 배플장치(1)의 경우에는 일단 배플바디에 충돌된 와이핑가스의 와류가 증폭되지 않고, 일정한 유동으로 흐르기 때문에, 결과적으로 아연입자의 비산이 방지되는 것이다.As a result, the wiping gas G impinging on the baffle body 10 is guided in a specific direction while flowing with a constant flow. Therefore, as shown in FIG. 2, In contrast, in the case of the baffle apparatus 1 according to the present invention, since the vortex of the wiping gas once collided with the baffle body is not amplified but flows in a constant flow, the scattering of the zinc particles .

즉, 아연입자의 비산이 적어지면 도금조 탕면상의 상부 드로스의 생성량도 방지되기 때문에, 본 발명의 배플장치(1)는 기존 도 2의 배플(150)의 간단한 구조변경을 통하여 쉽게 기존 장치에 적용 가능하고, 그럼에도 실효적인 효과를 제공하는 것이다.That is, if the scattering of the zinc particles is reduced, the amount of the upper dross on the plating bath surface is also prevented. Therefore, the baffle apparatus 1 of the present invention can easily Applicable and yet effective.

예를 들어, 도 7과 같이 가스 와이핑 설비(130)의 분사노즐(132)에서 설정된 압력으로 토출되는 와이핑가스(G)는 평판 구조인 배플바디(10)의 양측면에서 충돌하면, 그 면을 따라 상,하측으로 가스 제트(J)가 구현되고, 따라서 도 7과 같이 배플바디에 충돌한 와이핑가스(G)는 와이핑가스 유도수단(30)의 제1,2 가스 유도날개(40)(50)들을 통하여 가스 와이핑 설비의 외곽, 즉 강판에서 멀어지는 외곽방향으로 유도되되, 특히 가스 충돌에 의한 와류를 억제하여, 결과적으로 아연입자의 비산을 억제하는 것이다.For example, as shown in FIG. 7, when the wiping gas G discharged at the pressure set by the injection nozzle 132 of the gas wiping facility 130 collides at both sides of the baffle body 10, which is a flat plate structure, So that the wiping gas G impinging on the baffle body as shown in Fig. 7 is guided by the first and second gas guiding vanes 40 of the wiping gas guiding means 30 (50) to the outer periphery of the gas wiping facility, that is, away from the steel plate. In particular, it suppresses swirl caused by gas collision and consequently suppresses scattering of zinc particles.

다음, 도 5, 도 8 및 도 9에 도시한 바와 같이, 본 발명의 와이핑가스 유도수단(30)의 상기 제1 가스 유도날개(40)와 제2 가스 유도날개(50)는 가장 바람직하게는 와이핑가스의 배플바디 충돌 후 일정한 유동 흐름으로 유도하기 위하여 단면상 볼록한 만곡구조, 예컨대 단면상 반원 형태로 제공되는 것이다.Next, as shown in FIGS. 5, 8 and 9, the first gas guiding vane 40 and the second gas guiding vane 50 of the wiping gas guiding means 30 of the present invention are most preferably Is provided in a cross-sectionally convex curved structure, e.g., a semi-circular cross section, to induce a constant flow flow after baffle body collision of the wiping gas.

이때, 바람직하게는 상기 제1 가스 유도날개(40)와 제2 가스 유도날개(50)는, 서로 반대로 볼록하게 제공되는 것인데, 예를 들어 배플바디(10)의 양측면에서 상측에 제공되는 제1 가스 유도날개(40)와 배플바디의 양측면에서 하측에 제공되는 제2 가스 유도날개(50)는 각각 상향 및 하향으로 볼록하게 형성되어, 상기 제1,2 가스 유도날개 사이에는 가스의 유동을 유도하는 어느 정도의 원형(타원형) 공간을 형성하도록 하는 것이다.The first gas guide vane 40 and the second gas guide vane 50 are provided so as to be convex opposite to each other. For example, the first gas guide vane 40 and the second gas guide vane 50, The gas guide vane 40 and the second gas guide vanes 50 provided on both sides of the baffle body are formed to be convex upward and downward so as to induce a flow of gas between the first and second gas guide vanes (Elliptical) space of a certain size.

특히, 본 발명의 제1 가스 유도날개(40)와 제2 가스 유도날개(50)들은 배플바디(10)의 길이방향으로 일측에서 타측으로 비대칭 구조로 제공하는 것인데, 예를 들어, 도 8과 같이 상기 제1,2 가스 유도날개들은 배플바디(10)의 일측(강판 인접측)에서 타측(배플바디 외곽측)으로 갈수록 날개들 간 간격을 D1->D2로 넓어지게 형성하는 것이다.In particular, the first gas guiding vane 40 and the second gas guiding vane 50 of the present invention are provided asymmetrically from one side to the other in the longitudinal direction of the baffle body 10, for example, The first and second gas guiding blades are formed such that the distance between the blades is increased from D1 to D2 from one side (the side adjacent to the steel plate) of the baffle body 10 to the other side (the side outside the baffle body).

따라서, 배플바디(10)에 충돌하는 와이핑가스(G)는 외곽으로 갈수록 간격이 넓어지는 제1,2 가스 유도날개(40)(50)들의 배열에 따라, 배플바디의 외곽으로 강제 유도되고, 결과적으로 강판과 멀어지는 외곽으로 와이핑가스가 유도 배출되어 적어도 비산입자에 의한 강판 표면의 품질 저하는 방지하는 것이다.The wiping gas G impinging on the baffle body 10 is forcibly guided to the outer periphery of the baffle body in accordance with the arrangement of the first and second gas guiding vanes 40 and 50 that are spaced apart from each other And as a result, the wiping gas is induced and discharged to the outer periphery away from the steel sheet, so that at least the quality of the surface of the steel sheet due to the scattering particles is prevented.

한편, 도 4 및 도 5와 같이, 본 발명의 배플장치(1)의 배플바디(10)는, 가스 와이핑 설비(130)에 배플 이동수단(2)을 통하여 연결대(12)와 연결됨으로써, 가스 와이핑 설비의 양측에서 각각 강판의 폭에 대응하여 이동 가능하게 제공될 수 있다.4 and 5, the baffle body 10 of the baffle apparatus 1 of the present invention is connected to the connecting rod 12 via the baffle moving means 2 to the gas wiping apparatus 130, Can be provided on both sides of the gas wiping facility so as to be movable in correspondence with the width of the steel plate.

즉, 도 4에서 상기 배플 이동수단(2)은 개략적으로 도시하였지만, 모터 구동되는 볼 스크류와 연계되어 가스 와이핑 설비의 상측 사이의 공간에서 강판의 폭 방향으로 이동하는 이동블록(미부호)을 포함하고, 상기 이동블록에 배플바디(10)와 조립되는 도 5의 연결대(12)와 볼트 등의 체결수단으로 조립되어, 이동 가능하게 제공될 수 있다. 다만, 도 5에서는 배플 이동수단(2)과 연계되는 연결대(12)의 조립상태만을 도시한 것으로서 조립 볼트 등은 도시하지 않은 것이다.4, the baffle moving means 2 is schematically illustrated, but a moving block (not shown) moving in the width direction of the steel plate in a space between the upper side of the gas wiping facility and the motor driven ball screw And can be provided movably by being assembled with fastening means such as a bolt and the connecting rod 12 of FIG. 5 assembled with the baffle body 10 in the moving block. However, FIG. 5 shows only the assembled state of the link 12 linked to the baffle moving means 2, and the assembly bolts and the like are not shown.

다음, 도 5, 도 8 및 도 9에는 본 발명에 따른 배플장치(1)에서 배플바디(10)와 와이핑가스 유도수단(30)의 제1,2 가스 유도날개(40)(50)의 설치 구조를 다르게 도시한 것이고, 즉 본 발명의 제1,2 가스 유도날개들은 다양한 형태로 배플바디(10)에 제공될 수 있다.5, 8 and 9 show the baffle body 10 and the first and second gas guide vanes 40 and 50 of the wiping gas induction means 30 in the baffle apparatus 1 according to the present invention. The first and second gas guiding wings of the present invention can be provided to the baffle body 10 in various forms.

먼저, 도 5 및 도 8에 도시한 바와 같이, 하나의 판 구조인 배플바디(10)의 양 측면의 상측 및 하측에 각각 마주하여 대칭되는 형태로 제1 가스 유도날개(40)와 제2 가스 유도날개(50)들을 각각 용접하여 조립하는 것이다.5 and 8, the first gas guiding vane 40 and the second gas guiding vane 40 are symmetrically opposed to the upper side and the lower side of both sides of the baffle body 10, which is one plate structure, And the guide vanes 50 are welded and assembled, respectively.

즉, 도 5에서는 상세하게 도시하지 않았지만, 사전에 만곡되어 단면상 원형으로 제공되는 제1,2 가스 유도날개(40)(50)들을 각각 배플바디(10)에 스폿 용접하여 조립할 수 있다.
That is, although not shown in detail in FIG. 5, the first and second gas guide vanes 40 and 50, which are curved in advance and provided in a circular shape in a cross section, may be assembled by spot welding to the baffle body 10, respectively.

또는, 도 9에서 도시한 바와 같이, 배플바디(10)를 이중의 단위 배플바디 (10a)(10b)들을 접합시키어 제공하되, 이들 단위 배플바디(10a)(10b)의 상부와 하부를 도 3과 같은 형태로 각각 만곡시키어, 일체로 제1,2 가스 유도날개(40)(50)들을 제공하는 것도 가능하다.Alternatively, as shown in FIG. 9, the baffle body 10 may be provided by bonding the unitary baffle bodies 10a and 10b to each other, and the upper and lower portions of the unit baffle bodies 10a and 10b may be formed as shown in FIG. It is also possible to integrally provide the first and second gas guiding vanes 40 and 50 in a curved manner.

다만, 도 9와 같이, 배플바디의 상측에는 도 5와 같은 연결대(12)가 조립되므로, 바람직하게는 제1 가스 유도날개(40)는 단위 배플바디(10a)(10b)들에 용접(W)하여 제공하고, 하부의 제2 가스 유도날개(50)들은 단위 배플바디(10a)(10b)들을 만곡시키어 제공하는 것이다. 5, the first gas guide vane 40 is welded to the unit baffle bodies 10a and 10b by welding W (W) to the unit baffle bodies 10a and 10b, as shown in FIG. And the lower second gas guide vanes 50 provide the unit baffle bodies 10a and 10b in a curved shape.

다음, 도 10과 같이 본 발명의 배플장치(1)에서 상기 와이핑가스 유도수단(30)을 구성하는 상기 제1 가스 유도날개(40)와 제2 가스 유도날개(50)는, 단위 배플바디(10a)(10b)를 프레스 가공의 타공을 통하여 단면상 원형의 만곡 구조로 일체로 제공하는 것도 가능하다.10, the first gas guiding vane 40 and the second gas guiding vane 50 constituting the wiping gas guiding means 30 in the baffle apparatus 1 of the present invention are formed in a unit baffle body (10a) and (10b) can be integrally provided with a circular curved structure in cross section through a punching process.

다만, 이 경우에 단위 배플바디(10a)(10b)에는 도 10과 같이 가스 유도날개들로 제공되는 절개부(10c)가 형성되게 되지만, 실제 와이핑가스는 도 7에서 설명한 바와 같이 가스 유도날개들에 의하여 그 유동방향이 유도되기 때문에, 상기 절개부(10c)는 크게 문제가 되지 않을 것이다.In this case, however, the unit baffle bodies 10a and 10b are provided with the cutout portions 10c provided with the gas guide blades as shown in FIG. 10, but the actual wiping gas is formed by the gas guide blades The cutout portion 10c will not be a big problem because the flow direction is induced by the cutout portion 10c.

한편, 이와 같은 도 10과 같은 배플장치(1)의 타공을 통한 단위 배플바디(10a)(10b)들의 접합은, 용접 등으로 제작하는 것에 비하여, 다양한 형태의 제1,2 가스 유도날개들을 포함하여 다량의 배플장치(1)의 제공을 가능하게 하기 때문에, 미리 설정된 여러 제1,2 가스 유도날개들의 만곡의 곡율이나 간격 등을 다양하게 하고, 조업환경에 따라 와이핑설비에 투입하여 사용하는 다양한 조업 조건을 제공하므로, 바람직할 것이다.10, the unit baffle bodies 10a and 10b may be formed by welding or the like, and the first and second gas guide blades may include various types of gas guide blades It is possible to provide a large number of baffle devices 1, so that the curvature and interval of curvature of the first and second gas guide vanes set in advance can be varied, and the wafers can be used in a wiping facility depending on the operating environment It would be desirable to provide a variety of operating conditions.

다음, 도 11에 도시한 바와 같이, 본 발명의 제1,2 가스 유도날개(40)(50)들을 다른 신장된 형태의 가스 유도날개(40')(50')들로 제공하는 것도 가능할 것이다.11, it is also possible to provide the first and second gas guide vanes 40 and 50 of the present invention with gas guide vanes 40 'and 50' of different elongated shapes .

즉, 앞에서 설명한 단면상 반원형 제1,2 가스 유도날개(40)(50)들에 일체로 신장된 절곡 선단부(42)(52)를 더 제공하도록 하면, 와이핑가스(G)가 배플바디(10)에 충돌한 후, 더 안정적으로 특정 방향으로 유도되면서 가스 유도날개 사이의 공간을 통하여 배출되기 때문에, 와이핑가스에 의한 비산문제가 더 안정적으로 제거되도록 할 것이다.That is, by further providing the bending tip portions 42 and 52 integrally extended to the above-described semicircular first and second semispherical gas guide vanes 40 and 50 described above, the wiping gas G is guided to the baffle body 10 , It is more stably induced in a specific direction and discharged through the space between the gas guide wings, so that the scattering problem caused by the wiping gas will be more stably removed.

다음, 도 3 내지 도 9에 도시한 바와 같이, 본 발명의 배플장치(1)는 상기 배플바디(10)의 하부 일측, 예를 들어 강판에 인접한 위치에서 강판을 향하여 가스를 분사토록(추가 와이핑토록) 제공된 가스 분사수단(70)을 더 포함하는 것이다.3 to 9, the baffle apparatus 1 of the present invention is arranged to inject gas toward the steel plate at a position adjacent to the lower side of the baffle body 10, for example, The gas injection means 70 is provided.

즉, 이와 같은 본 발명의 가스 분사수단(70)은, 도 3 및 도 12에서와 같이 강판의 에지부(102)를 향하여, 가스 와이핑 설비와는 별개로 가스(G')를 추가로 분사시키기 때문에, 배플장치(1)가 강판의 폭에 대응하여 그 에지부(102)에 인접하여 배치되면서 강판 에지부를 향하여 가스를 분사하므로, 특히 강판 에지부에서의 과도금을 억제시키어 도금두께의 균일한 제어를 가능하게 할 뿐만 아니라, 분사되는 가스를 강판 에지부에서의 아연비산도 억제시키는 것을 가능하게 하는 것이다.In other words, the gas injection means 70 of the present invention as described above can further inject gas G 'separately from the gas wiping facility toward the edge portion 102 of the steel sheet as shown in FIGS. 3 and 12 The baffle device 1 is disposed adjacent to the edge portion 102 in correspondence with the width of the steel plate and injects the gas toward the steel plate edge portion so as to suppress over-plating particularly at the steel plate edge portion, Not only enables one control but also makes it possible to suppress the scattering of the zinc in the edge of the steel sheet by the gas to be injected.

한편, 이와 같은 본 발명의 가스 분사수단(70)은, 도 5와 도 6 및 도 8과 도 9와 같이, 배플바디(10)의 하부 일측에 제공되는 가스 분사노즐(72)과 상기 가스 분사노즐과 연계되고 배플바디를 따라 제공되는 가스 공급관(74)을 포함하여 제공될 수 있다.5, 6, 8 and 9, the gas injection means 70 of the present invention is provided with a gas injection nozzle 72 provided at one side of the lower side of the baffle body 10, And a gas supply tube 74 associated with the nozzle and provided along the baffle body.

이때 바람직하게는, 상기 도 9 및 도 12에 도시한 바와 같이, 상기 가스 분사노즐(72)은 강판(100)이 진행되는 방향의 역방향, 즉 하향으로 경사지게 가스(G')를 분사토록 하는, 도 9와 같이 복수의 슬릿(72a) 또는 구멍(72a')을 포함하여 제공되는 노즐 블록으로 제공될 수 있다.9 and 12, the gas injection nozzle 72 preferably has a structure in which the gas G 'is injected in a direction opposite to the direction in which the steel plate 100 advances, that is, May be provided as a nozzle block provided with a plurality of slits 72a or holes 72a 'as shown in FIG.

한편, 균일한 가스분사를 위하여, 도 9에서 구멍(72a')들이 제공되는 경우 가스 분사노즐(72)의 중앙을 따라 복수의 구멍들이 일정한 간격을 가지고 제공될 수 있다.On the other hand, for uniform gas injection, a plurality of holes may be provided at regular intervals along the center of the gas injection nozzle 72 when the holes 72a 'are provided in FIG.

또는, 더 바람직하게는, 가스 분사노즐(72)에 제공되는 길이를 갖는 다층 구조의 슬릿(72a)들은, 도 9와 같이, 노즐 상부에서 하부로 갈수록 슬릿 면적이 확대되도록 하는 것이다.Further, more preferably, the slits 72a having a length provided to the gas injection nozzle 72 have a slit area enlarged from the upper part of the nozzle to the lower part as shown in Fig.

따라서, 도 12와 같이 분사된 가스(G')는, 노즐의 상부에서 하부로 갈수록 가스 분사량(화살표의 길이로 표시함)이 증대되고, 이는 강판 에지부에서 노즐에서 수평선을 기준으로 하부가 도금부착량이 더 많기 때문에, 가스 분사노즐(72)에서 하부로 갈수록 슬릿의 개구면적을 증대시키어 분사되는 가스량을 증가시키면, 강판 에지부에서의 과도금을 더 효과적으로 방지할 수 있고, 분사되는 가스 유동 흐름도 하류로 갈수록 강하기 때문에, 아연입자를 일정한 공간으로 와이핑하는 것을 가능하게 할 것이다.12, the amount of gas injection (indicated by the length of the arrow) is increased from the upper part of the nozzle to the lower part thereof. This is because the lower part of the gas G ' It is possible to more effectively prevent over-plating at the edge of the steel plate and increase the amount of gas to be injected by increasing the amount of gas injected by increasing the opening area of the slit from the gas injection nozzle 72 to the lower part, Because it is stronger toward the downstream, it will make it possible to wipe the zinc particles into a certain space.

예를 들어, 배플바디(10)의 하부 가스 분사노즐(72)은 직경 10mm 가량의 가스 공급관(74)이 연결되고, 별도로 도시하지 않은 공급관에 구비된 밸브를 통하여, 예컨대 질소가스를 공급하고, 가스 분사수단의 가스 분사노즐(72)에 4~6kgf/㎡ 압력을 이용하면 슬릿 면적이 노즐 상부에서 하부로 갈수록 확대되는 슬릿(72a)들을 통하여 2~10kPa 범위에서 가스 분사(와이핑)를 가능하게 할 것이다.For example, the lower gas injection nozzle 72 of the baffle body 10 is connected to a gas supply pipe 74 having a diameter of about 10 mm and supplies nitrogen gas, for example, through a valve provided in a supply pipe (not shown) Using a pressure of 4 to 6 kgf / m 2 in the gas injection nozzle 72 of the gas injection means, gas injection (wiping) can be performed in the range of 2 to 10 kPa through the slits 72a whose slit area expands from the upper part to the lower part of the nozzle. .

한편, 도 12에 도시한 바와 같이, 상기 가스 분사수단(70)의 노즐에 형성되는 슬릿(72a) 또는 구멍(72a')은 두께를 갖고 경사지게 가스(G')를 분사토록 제공되고, 더 바람직하게는 그 가스 토출각도(θ)를 대략 60°정도 형성하도록 하여, 분사 가스가 서로 일정부분은 겹쳐지도록 하는 것이다.12, the slit 72a or the hole 72a 'formed in the nozzle of the gas injection means 70 is provided so as to inject gas G' in an inclined manner with a thickness, and more preferably, The gas discharge angle? Is formed to be approximately 60 degrees, so that a certain portion of the injected gas overlaps each other.

이 경우, 가스가 조밀하게 강판(100)의 에지부(102)를 향하여 강판의 진행방향의 역방향으로 분사되므로, 강판 에지부의 과도금을 방지하고 아연입자의 비산도 억제하는 것이다. In this case, since the gas is injected densely toward the edge portion 102 of the steel plate 100 in the direction opposite to the advancing direction of the steel sheet, it is possible to prevent over-plating of the steel sheet edge portion and suppress scattering of zinc particles.

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이에 따라서, 지금까지 설명한 본 발명의 가스 와이핑 설비 사이에 제공되는 배플장치(1)는, 제1,2 가스 유도날개(40)(50)들의 와이핑가스 유도수단(30)을 구비함과 더불어, 강판 에지부에 가스를 추가 분사하는 가스 분사수단(70)을 구비하기 때문에, 무엇보다도 기존 배플 사용시 발생되는 소음을 억제하고, 아연입자의 비산 문제도 실효적으로 제거할 수 있고, 특히 기존 배플에도 저비용으로 쉽게 적용시킬 수 있어, 현장 적용이나 비용 측면에서도 우수한 이점을 제공하는 것이다.Accordingly, the baffle apparatus 1 provided between the gas wiping apparatus of the present invention as described so far has the wiping gas guiding means 30 of the first and second gas guiding vanes 40 and 50, In addition, since the gas injection means 70 for additionally injecting gas to the edge of the steel plate is provided, it is possible to effectively suppress the noise generated when using the conventional baffle and to scatter the zinc particles effectively, It can be easily applied to the baffle at low cost, thus providing excellent advantages in terms of field application and cost.

이상에서 본 발명의 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고, 청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 수정 및 변형이 가능하다는 것은 당 기술분야의 통상의 지식을 가진 자에게는 자명할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, but, on the contrary, It will be obvious to those of ordinary skill in the art.

1.... 배플장치 10....배플바디
10a,10b.... 단위 배플바디 30.... 와이핑가스 유도수단
40,50.... 가스 유도날개 70.... 가스 분사수단
72.... 가스 분사노즐 74.... 가스 공급관
100.... 강판 130.... 가스 와이핑 설비
132.... 분사노즐1 .... Baffle device 10 .... Baffle body
10a, 10b .... unit baffle body 30 .... wiping gas induction means
40, 50 .... gas guide wing 70 .... gas injection means
72 .... gas injection nozzle 74 .... gas supply pipe
100 .... steel plate 130 .... gas wiping equipment
132 .... injection nozzle

Claims

A baffle body movably provided between the gas wiping apparatus; And
The wiping gas guiding means for guiding wiping gas impinging on the baffle body to suppress scattering of at least plating particles,
/ RTI >
The wiping gas guiding means comprises:
A pair of first gas guide vanes provided on opposite sides of the baffle body on the downstream side in the direction of travel of the steel plate, facing each other; And
And a pair of second gas guide vanes provided on opposite sides of the baffle body on the upstream side of the first gas guide vane,
/ RTI >
The first gas guiding vane and the second gas guiding vane are formed such that the gap between the gas guiding vanes is widened from one side of the baffle body to the other side so as to guide the wiping gas impinging on the baffle body to the outside, Baffle devices for gas wiping installations.

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The method according to claim 1,
Wherein the first gas guiding vane and the second gas guiding vane are provided in a curved configuration and wherein the first gas guiding vane and the second gas guiding vane are curved opposite to each other.

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The method according to claim 1,
Wherein the first gas guide vane and the second gas guide vane are circular in cross section,
Wherein the baffle body is assembled to the baffle body or at least one of the baffle body and the baffle body is integrally bent.

The method according to claim 6,
Wherein at least one selected from the first gas guiding vane and the second gas guiding vane is integrally bent to the unit baffle bodies bonded to each other and provided in a circular shape in cross section.

The method according to claim 1,
Wherein the first gas-guiding vane and the second gas-guiding vane are integrally provided in a unitary baffle body joined to each other through a pore.

The method according to claim 1,
Further comprising a gas injection means provided for spraying gas toward one side of the baffle body toward the edge of the steel plate.

10. The method of claim 9,
Wherein the gas injection means comprises: a gas injection nozzle provided at a lower side of the baffle body; And
A gas supply pipe connected to the gas injection nozzle
And a baffle member for gas wiping equipment.

11. The method of claim 10,
Wherein the gas injection nozzle comprises at least one slit or hole provided so as to inject gas in an inclined manner in a direction opposite to the direction of advance of the steel plate.

12. The method of claim 11,
Wherein the slit is provided in multiple layers in the gas injection nozzle and the slit area is enlarged from the top to the bottom of the gas injection nozzle.