KR101695903B1 - 두발처리방법, 미용방법, 두발처리장치 및 미용장치 - Google Patents

Abstract

피시술자의 두발을 소정의 길들이기 상태로 유지하기 위한 로드(9), 상기 두발에 대하여 가온 미스트를 분무하여 습열가온하는 미스트 가온부(5), 상기 분무되는 미스트를 초음파 가진하는 초음파 가진부(7), 및 상기 습열가온된 상기 두발을 건열가온하는 발열체(79)를 구비하여, 피시술자의 두발을 소정의 길들이기 상태로 유지하고, 이렇게 유지된 두발에 대하여 가온 미스트를 분무하는 것에 의해 습열가온을 행하고, 상기 습열가온 후의 상기 두발을 건열가온한다. 따라서, 길들이기 시에 있어서의 두발에의 데미지를 억제할 수가 있다.

본체부, 미스트 가온부, 초음파 가진부, 로드, 미스트 호스, 발진판, 발열체, 미스트 캡, 습열가온, 건열가온, 알칼리성, 산성, 피부, 미용, 분무, 두발, 파마, 웨이브, 길들이기

Description

두발처리방법, 미용방법, 두발처리장치 및 미용장치{HAIRDRESSING METHOD, SKIN CARING METHOD, HAIRDRESSING APPARATUS AND SKIN CARING APPARATUS}

본 발명은 두발(頭髮)에 소정의 길들이기를 행하기 위한 두발처리방법 및 두발처리장치에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 피시술자의 체표면에 대하여 가온 미스트를 분무하는 것에 의해 습열가온을 행하는 미용방법 및 미용장치에 관한 것이다.

종래의 두발처리장치로는, 예를 들면, 일본 특허 공개 제 2001-37528 호 공보에 개시된 것이 있다. 상기 공보에 기재된 두발처리장치는 발열체를 가진 로드를 구비하여, 발열체에 의해 로드가 전체로서 발열하도록 되어 있다.

웨이브의 길들이기의 때에는 피시술자의 두발에 알칼리 환원제 등의 약액을 도포함과 함께 로드에 감는다. 이 상태에서 로드를 발열시켜서 두발을 건열가온(乾熱加溫)한다. 이것에 의해, 두발에 대하여 웨이브의 길들이기를 행할 수가 있다.

그러나, 상기 종래의 두발처리장치에서는, 건열가온에 의해 두발의 수분을 빼앗기기 때문에, 수분부족에 따른 두발의 데미지가 큰 것으로 되어 있다.

본 발명은 길들이기 시에 있어서의 두발의 데미지를 억제하는 것을 목적으로하여, 소정의 길들이기 상태로 유지된 피시술자의 두발에 대하여 가온 미스트를 분무하는 것에 의해 습열가온(濕熱加溫)을 행하는 습열가온공정과, 상기 습열가온 후의 상기 두발을 건열가온하는 건열가온공정을 구비한 것을 가장 주요한 특징으로 한다.

본 발명에 따른 두발처리방법에 따르면, 소정의 길들이기 상태로 유지된 피시술자의 두발에 대하여 가온 미스트를 분무하는 것에 의해 습열가온을 행하고, 상기 습열가온 후의 상기 두발을 건열가온한다. 따라서, 길들이기 시에 있어서의 두발에의 데미지를 억제할 수 있고, 윤기가 있고 데미지가 적은 웨이브의 길들이기를 행할 수가 있다.

이하, 본 발명에 따른 두발처리방법, 미용방법, 두발처리장치 및 미용장치에 대하여, 도면을 참조하여 설명한다.

[본 발명에 따른 두발처리방법]

먼저, 본 발명에 따른 두발처리방법의 개요에 대하여, 도 1을 참조하여 설명한다. 도 1은 본 발명에 따른 두발처리방법의 설명을 위한 설명도이다.

도 1의 스탭 S11에 도시하는 바와 같이, 트리트먼트제를 배합한 퍼머넌트 웨이브(이하 "파마"라고 함)용 제 1 제를 피시술자의 두발에 도포한 상태로 소정시간(약 10 분간 정도) 방치한다. 이것에 의해, 두발의 이황화 결합(Disulfide Bond)을 절단한다.

스탭 S12에 있어서, 상기 파마용 제 1 제를 씻어낸 후, 피시술자의 두발에 대하여 타올 드라이 처리를 행한다. 또한, 상기 파마용 제 1 제를 씻어내지 않고, 피시술자의 두발에 대하여 타올 드라이 처리를 행해도 된다.

스탭 S13에서, 로드(9 : 도 5 참조)의 외주면에 피시술자의 두발을 감아 유지시킨다.

스탭 S14에서, 로드(9)에 감겨 유지된 피시술자의 두발에 대하여, 파마용 제 1 제의 환원기능을 보조하는 알칼리성 기액으로부터 생성되는 알칼리성 가온 미스트를 분무하는 것에 의해 습열가온을 행한다(본 발명의 "습열가온공정"에 상당함).

상기 알칼리성 기액으로는, 예를 들면, 시판의 알칼리이온 정수기 등으로 생성된 통상의 알칼리이온수, 동 알칼리이온수에 염기성 아미노산을 용해시킨 수용액, 또는, 정제수(精製水)에 티오글리콜산이나 시스테인 등의 메르캅토화합물(환원제)을 용해시킨 수용액에 암모니아, 모노에탄올아민, 트리에타놀아민, 탄산수소암모니아, 알기닌 등의 염기성 물질을 추가하여 그 액성을 알칼리성(예를 들면 pH 8 ~ 11 정도)으로 조정한 수용액 등을 이용할 수가 있다.

단, 상기 알칼리성 기액 대신에, 예를 들면, 보통의 물, 알칼리트리트먼트, 중성수 또는 순수 등을 이용해도 된다.

스탭 S14의 습열가온 시에 있어서, 가온 미스트가 두발에 침투한다. 이렇게 하여 침투하는 가온 미스트로서, 파마용 제 1 제의 환원기능을 보조하는 알칼리성 기액을 채용하면, 두발의 이황화 결합을 절단함과 함께 두발의 팽윤, 환원을 촉진할 수가 있다. 동시에 두발에 대하여 수분을 보급할 수도 있다.

상기 가온 미스트의 침투 시에는, 스탭 S11에서 도포된 트리트먼트제가 가온 미스트와 함께 두발에 침투한다. 따라서, 트리트먼트제의 침투성을 향상시킬 수 있고, 트리먼트제에 따른 손상모의 수복을 확실하게 행할 수가 있다.

알칼리성 기액으로부터 생성되는 상기 알칼리성 가온 미스트는, 상기 침투에 의해 두발을 가열한다. 이 때문에, 알칼리성 가온 미스트에 따른 두발의 환원을 현저하게 촉진하면서, 두발을 열산화시켜서 웨이브의 길들이기를 정착시킬 수가 있다.

스탭 S15에 있어서, 스탭 S14에서 습열가온된 두발에 대하여 건열가온을 행한다(본 발명의 "건열가온공정"에 상당함).

스탭 S15의 건열가온공정에 의해, 로드(9)에 감겨진 두발은 수분을 빼앗기면서 열산화하여 웨이브의 길들이기의 정착이 행해진다. 그러나, 두발에는 스탭 S14의 습열가온시의 가온 미스트에 따른 수분이 충분히 공급되고 있다. 이 때문에, 건열가온 시의 과잉의 건조에 따른 데미지로부터 두발을 효과적으로 보호할 수가 있다.

두발의 웨이브는 일반적으로 건조가 진행됨에 따라서 서서히 크게 된다. 이 점, 스탭 S15에서는 건열가온을 행하면서 웨이브의 길들이기를 행한다. 이 때문에 건조의 정도에 따른 웨이브량의 변화와 시술에 따른 웨이브량의 변화를 확실하게 파악할 수가 있다. 따라서, 생각한 대로의 웨이브의 길들이기를 행할 수가 있다.

스탭 S16에 있어서, 스탭 S15에 있어서의 건열가온 후의 두발에 대하여, 파마용 제 2 제의 산화기능을 보조하는 산성 기액으로부터 생성되는 산성 가온 미스트를 분무하면서 송풍을 가한다(본 발명의 "습열가온송풍공정"에 상당함).

스탭 S16의 습열가온시에 있어서, 가온 미스트가 두발에 침투한다. 이렇게 하여 침투하는 가온 미스트로서, 파마용 제 2 제의 산화기능을 보조하는 산성 기액을 채용하면, 절단된 상태의 두발의 이황화 결합을 연결시키는(산화) 움직임을 현저하게 촉진할 수가 있다. 동시에 두발에 대하여 수분을 보급하는 것도 가능하다.

산성 기액으로부터 생성되는 상기 산성 가온 미스트는 상기 침투에 의해 두발을 가열한다. 이 때문에, 산성 가온 미스트에 따른 두발의 산화를 현저하게 촉진하면서, 두발을 산성화시켜서 웨이브의 길들이기를 정착시킬 수가 있다.

그 외에도, 스탭 S16에서는 산성 가온 미스트에 의해 습열가온한 상태에서, 두발에 송풍을 가하는 처리를 한다. 이 송풍처리에 의해 방열이 촉진된 두발은 산성 가온 미스트와 방열촉진에 의해 긴축되어 안정한다. 이것에 의해, 윤기가 있으며 데미지가 극히 적은 두발의 웨이브의 길들이기를 행할 수가 있다.

이어서, 도 1의 스탭 S17 ~ S18에 있어서, 피시술자의 두발에 감겨 유지되고 있는 로드(9)를 벗겨낸(스탭 S17) 후, 주지의 파마용 제 2 제에 두발을 침적하는 처리를 행하는 것에 의해, 두발의 이황화 결합을 연결하는(산화) 움직임을 더욱 촉진시킨다(스탭 S18).

스탭 S19에 있어서, 상술한 두발처리수순을 거치는 것에 의해, 두발의 데미지를 억제하면서 소망하는 웨이브를 실현할 수가 있다.

[본 발명에 따른 두발처리방법의 작용효과]

본 발명에 따른 두발처리방법에서는, 웨이브의 길들이기 상태로 유지된 피시술자의 두발에 대하여, 파마용 제 1 제의 환원기능을 보조하는 알칼리성 기액으로부터 생성되는 알칼리성 가온 미스트를 분무하는 것에 의해 습열가온을 행하고, 습열가온 후의 두발을 건열가온하는 구성을 채용하는 것으로 했다.

이 때문에, 알칼리성 가온 미스트의 환원기능에 의해 두발의 이황화 결합을 확실하게 절단함과 함께, 두발의 팽윤, 환원을 촉진할 수가 있다.

또한, 상기 습열가온시는 가온 미스트의 침투에 의해 두발을 가온하기 때문에, 알칼리성 가온 미스트에 따른 두발의 환원을 현저하게 촉진하면서, 두발을 열산화시켜서 웨이브의 길들이기를 정착시킬 수가 있다.

나아가, 두발은 상기 건열가온에 의해 수분을 빼앗기면서 열산화하여 웨이브의 길들이기의 정착이 행해진다. 그러나, 두발에는 상기 습열가온시의 알칼리성 가온 미스트에 따른 수분이 충분히 보급되고 있다. 이 때문에, 건열가온시의 과잉의 건조에 따른 데미지로부터 두발을 효과적으로 보호할 수가 있다.

따라서, 알칼리성 가온 미스트에 따른 두발의 팽윤·환원촉진, 습열가온에 따른 열산화의 촉진, 수분보급 등을 두발 전체에 대하여 확실하게 행할 수가 있고, 두발의 데미지를 적절히 억제할 수가 있다.

또한, 건조의 정도에 따른 웨이브의 변화와 시술에 따른 웨이브의 변화를 확실하게 파악할 수가 있어서, 생각한 대로의 웨이브의 길들이기를 행할 수가 있다.

한편, 본 발명에 따른 두발처리방법에서는, 소정의 길들이기 상태가 유지된 피시술자의 두발에 대하여 파마용 제 1 제의 환원기능을 보조하는 알칼리성 기액으로부터 생성되는 알칼리성 가온 미스트를 분무하는 것에 의해 알칼리성 분위기 하에서 습열가온을 행하는 알칼리성 습열가온공정과, 상기 알칼리성 습열가온공정 후의 상기 두발에 대하여 파마용 제 2 제의 산화기능을 보조하는 산성 기액으로부터 생성되는 산성 가온 미스트를 분무하는 것에 의해 산성분위기 하에서 습열가온을 행하는 산성습열가온공정을 구비하는 구성을 채용하는 것으로 했다.

상기 알칼리성 습열가온공정에서는, 알칼리성 가온 미스트의 환원기능에 의해 두발의 이황화 결합을 확실하게 절단함과 함께, 두발의 팽윤, 환원을 촉진할 수가 있다.

또한, 알칼리성 가온 미스트의 침투에 의해 두발을 가온하기 때문에, 두발의 환원을 현저하게 촉진하면서, 두발을 열산화시켜서 웨이브의 길들이기를 정착시킬 수가 있다.

따라서, 알칼리성 가온 미스트에 따른 두발의 팽윤·환원촉진, 습열가온에 따른 열산화의 촉진, 수분보급 등을 두발 전체에 대하여 확실하게 행할 수 있고, 두발의 데미지를 적절하게 억제할 수가 있다.

한편, 상기 산성 습열가온공정에서는, 산성 가온 미스트의 산화기능에 의해, 절단된 상태의 두발의 이황화 결합을 연결하는(산화) 움직임을 촉진하는 결과로서, 두발의 데미지를 수복할 수가 있다.

또한, 산성 가온 미스트의 침투에 의해 두발을 가온하기 때문에, 두발의 산화를 현저하게 촉진하면서, 두발을 열산화시켜서 웨이브의 길들이기를 정착시킬 수가 있다.

따라서, 산성 가온 미스트에 따른 산화촉진, 습열가온에 따른 열산화의 촉진, 수분보급 등을 두발 전체에 대하여 확실하게 행할 수 있고, 두발의 데미지를 적절하게 수복할 수가 있다.

이어서, 본 발명에 따른 미용방법의 개요에 대하여 도면을 참조하면서 설명한다.

[본 발명에 따른 미용방법]

도 2는 본 발명에 따른 미용방법의 설명을 위한 설명도이다.

도 2의 스탭 S21에 도시하는 알칼리성 습열가온공정에서는, 피시술자의 체표면(예를 들면 안면 등)에 대하여 알칼리성 기액으로부터 생성되는 알칼리성 가온 미스트를 분무하는 것에 의해 알칼리성 분위기 하에서 습열가온을 행한다.

이 때문에, 알카리성 미스트의 침투·팽윤작용에 의해, 안면 등 체표면의 피부의 모공을 열고, 그와 동시에 모공의 안쪽까지 침투하여, 모공 안쪽의 피지나 불순물을 떠오르게 하여 배출할 수가 있다.

또한, 가온 미스트의 침투에 의해 안면 등을 가온하기 때문에, 알칼리성 미스트와 가온 미스트에 따른 피부의 팽윤작용이 함께 작용하여, 안면 등의 모공 안 쪽의 피지나 불순물의 떠오르게 하여 배출하는 것을 현저하게 촉진할 수가 있다.

도 2의 스탭 S22에 있어서, 스탭 S21에서 떠오르게 하여 배출된 피지나 불순물을 따뜻한 물에 의한 세안 또는 타올에 의한 딱아냄 등에 의해 안면 등으로부터 제거한다.

이어서, 도 2의 스탭 S23에 도시하는 산성 습열가온공정에서는, 상기 알칼리성 습열가온공정 후의 상기 체표면에 대하여 산성 기액으로부터 생성되는 산성 가온 미스트를 분무하는 것에 의해 산성분위기 하에서 습열가온을 행한다.

이 때문에, 산성 미스트의 긴축작용에 의해, 안면 등의 체표면의 피부를 긴축할 수가 있다.

[본 발명에 따른 미용방법의 작용효과]

본 발명에 따른 미용방법에서는, 피시술자의 체표면(예를 들면 안면 등)에 대하여 알칼리성 기액으로부터 생성되는 알칼리성 가온 미스트를 분무하는 것에 의해 알칼리성 분위기 하에서 습열가온을 행하는 알칼리성 습열가온공정(스탭 S21)과, 상기 알칼리성 습열가온공정 후의 상기 체표면에 대하여 산성 기액으로부터 생성되는 산성 가온 미스트를 분무하는 것에 의해 산성분위기 하에서 습열가온을 행하는 산성 습열가온공정(스탭 S22)을 구비하는 구성을 채용하는 것으로 했다.

알칼리성 습열가온공정에서는, 알카리성 미스트와 가온 미스트에 따른 피부의 팽윤작용이 함께 작용하여, 안면 등의 모공 안쪽의 피지나 불순물의 떠오르게 하여 배출하는 것을 현저하게 촉진시킬 수가 있다.

한편, 산성 습열가온공정에서는, 산성 미스트의 긴축작용에 의해, 안면 등 체표면의 피부를 긴축할 수가 있다.

따라서, 본 발명에 따른 미용방법에 따르면, 알칼리성 습열가온공정에서의 안면 등의 모공 안쪽의 피지나 불순물을 떠오르게 하는 효과와, 산성 습열가온공정에서의 안면 등의 피부긴축효과를 교호로 작용시키는 것에 의해, 안면 등으로부터 피지나 불순물을 제거하여 깨끗하게 정리함과 함께, 신진대사를 활발하게 하여 윤기 있는 피부를 유지할 수가 있다.

[실시예 1에 따른 두발처리장치]

이어서, 본 발명의 두발처리방법을 실시할 때에 이용되는 실시예 1에 따른 두발처리장치에 대하여 도 3 ~ 도 11을 참조하여 설명한다.

도 3은 웨이브의 길들이기 시술 중의 실시예 1에 따른 두발처리장치를 도시하는 개략도, 도 4는 도 3의 두발처리장치의 본체부의 사시도, 도 5는 도 4의 본체부의 평면도, 도 6은 도 4의 본체부의 정면도, 도 7은 도 5의 VII-VII 선 화살표 방향에서 본 단면도, 도 8은 도 6의 VIII-VIII선 화살표 방향에서 본 단면도, 도 9는 도 6의 IX-IX선 화살표 방향에서 본 단면도, 도 10은 도 3의 두발처리장치의 로드를 도시하는 개략도, 도 11은 도 10의 로드의 횡단면도이다.

도 3에 도시하는 바와 같이, 실시예 1에 따른 두발처리장치(1)는 피시술자의 두발에 대하여 두발처리로서의 웨이브의 길들이기를 행하는 것이다. 이 두발처리장치(1)는 본체부(3)와 미스트 가온부(5)와, 초음파 가진부(加振部)(7)와, 로드(9)를 구비하고 있다. 또한, 초음파 가진부(7)는 본 발명의 두발처리방법을 실시할 때에 생략할 수가 있다.

상기 본체부(3)는 상하로 분할 형성된 상자 형상의 하우징(11)을 구비하고 있다. 하우징(11)의 상면에는 제어용의 스위치 패널(13)이 설치되어 있다. 스위치 패널(13)은 콘트롤러(14)에 접속되어, 미스트 가온부(5) 및 로드(9)를 제어할 수 있도록 되어 있다.

상기 스위치 패널(13)에는, 도 3 ~ 도 6에 도시하는 바와 같이, 로드(9) 접속용의 단자부(19)가 복수 설치되어 있다. 각 단자부(19)는 로드(9)에 대한 제어용 및 전력공급용의 코드(21)의 일단이 착탈이 자유롭게 접속된다.

상기 하우징(11)의 상면에는 미스트용의 기액을 보충가능하게 하는 보충구(23)를 구비하고 있다. 보충구(23)는 커버체(24)에 의해 개폐되도록 되어 있다. 상기 보충구(23)에 인접하여, 미스트 송출용의 미스트 호스(25)가 하우징(11)의 상면으로 인출되어 있다. 또한, 하우징(11)의 상면에는 후술하는 초음파 가진부(7)의 아암부(68)를 결합하기 위한 결합공(15)이 설치되어 있다.

상기 미스트 가온부(5)는, 도 3 ~ 도 9에 도시하는 바와 같이, 두발에 대하여 가온 미스트를 분무하여 습열가온하는 습열가온수단에 상당한다. 미스트 가온부(5)는 미스트 탱크(37)와, 미스트 송출부(38: 본 발명의 "송풍수단"에 상당함)와, 미스트 캡(39)을 구비하고 있다.

미스트 탱크(37)는, 도 7에 도시하는 바와 같이, 상기 본체부(3)의 하우징(11)에 형성된 탱크 유지부(40)에 수용 유지되어 있다. 탱크 유지부(40)는 하우징(11)의 하면에 오목한 형상으로 형성되고, 원주벽부(41) 및 상벽부(42)를 구비하고 있다. 원주벽부(41)는 하우징(11)의 하면으로부터 내부 측으로 연설된다. 상벽부(42)는 원주벽부(41)의 내단부에 설치되어 있다.

상기 미스트 탱크(37)는 탱크 유지부(40)의 상벽부(42) 하면에 결합되고, 상면 개구가 폐색되어 있다. 미스트 탱크(37)의 개구 테두리에는 실(seal) 유지부(43)가 설치되어 있다. 실 유지부(43)에는 탱크 유지부(40)의 상벽부(42)의 사이를 밀폐하는 실 부재(44)가 유지되어 있다.

상기 미스트 탱크(37) 내에는 미스트용의 기액으로서, 상술한 알칼리성 기액이 수용되어 있다.

상기 미스트 탱크(37)의 하면 측에는, 도 7 및 도 9에 도시하는 바와 같이, 미스트 탱크(37) 내로 연통하는 통부(45)가 복수 연설되어 있다. 각 통부(45)의 선단에는 초음파 진동자(46)가 결합되어 있다. 이 진동자(46)는 통부(45)를 거쳐서 미스트용의 기액에 직접 접하고 있다. 진동자(46)는 콘트롤러(14)의 제어에 의해 초음파 진동하고, 미스트 탱크(37) 내의 액체를 미스트화하도록 되어 있다.

상기 미스트용의 액량은 액량센서(도시하지 않음)에 의해 검출된다. 이러한 검출결과에 따라서, 콘트롤러(14)는 스위치 패널(13) 상에서 "만수", "보충"의 어느 하나를 점등표시한다.

또한, 액체의 보충은, 도 7 및 도 8에 도시하는 바와 같이, 보충구(23)로부터 행할 수 있도록 되어 있다. 즉, 보충구(23)는 테이퍼 형상으로 형성되고, 저부 개구에 통형상의 파이프 접속구(47)가 설치되어 있다. 파이프 접속구(47) 내에는 파이프(49)의 일단 측이 삽입 접속되어 있다.

상기 파이프(49)의 타단 측은 탱크 유지부(40)의 상벽부(42)에 설치된 파이 프 접속구(51)에 접속되어 있다. 파이프 접속구(51)는 미스트 탱크(37) 내로 연통된 통형상이고, 내주 측에 파이프(49)의 타단 측이 삽입되어 있다.

상기 보충구(23)는 폐쇄플러그(53)에 의해 개방가능하게 폐쇄되어 있다. 상기 폐쇄플러그(53)는 수나사부(55)를 구비한다. 이 수나사부(55)가 파이프(49)의 타단 측 내주의 암나사부(57)에 나사체결되어 있다. 이에 의해, 폐쇄플러그(53)는 보충구(23)로부터 미스트가 분출되는 것을 방지하고 있다.

상기 미스트 송출부(38)는, 도 3 ~ 도 9에 도시하는 바와 같이, 송출팬(59) 및 미스트 호스(25)를 구비하고 있다. 상기 송출팬(59)은 압입식의 전동팬으로 이루어진다. 송출팬(59)은 탱크 유지부(40)의 상벽부(42)에 설치된 팬결합구(61)에 결합되어 있다. 팬결합구(61)는 미스트 탱크(37) 내로 연통되어, 송출팬(59)으로부터 미스트 탱크(37) 내로 공기를 압입가능하게 한다.

상기 송출팬(59)의 제어는 스위치 패널(13)의 조작에 의해 행해진다. 이러한 제어에서는, 송출팬(59)의 구동제어에 따른 미스트의 분무시간 및 분무량 등의 조정이 가능하게 되어 있다. 예를 들면, 분무시간을 3 ~ 9 분의 사이에서, 분무량을 약, 중, 강의 사이에서 절환 조정할 수가 있다.

상기 미스트 호스(25)는, 도 8에 도시하는 바와 같이, 가소성을 가진 합성수지 등으로 이루어져 있다. 미스트 호스(25)의 일단은 탱크 유지부(40)의 상벽부(42)에 설치된 호스 접속구(63)에 접속되어 있다.

호스 접속구(63)는 통형상으로 형성되고, 외주에 미스트 호스(25)의 일단 측이 삽입되어 있다. 호스 접속구(63)는 미스트 탱크(37) 내로 연통되고, 미스트 탱 크(37) 내로부터 미스트 호스(25) 측으로 미스트를 송출가능하게 하고 있다. 상기 호스 접속구(63)의 기단 측 외주에는 미스트 호스(25)의 일단 측 테두리부가 삽입되는 오목부(62)가 주회(周回) 형상으로 설치되어 있다.

상기 미스트 호스(25) 내에는, 도 3에 도시하는 바와 같이, 미스트 히터(64)가 설치되어 있다. 미스트 히터(64)는 스위치 패널(13)의 조작에 의해 제어된다. 미스트 히터(64)는 미스트 호스(25) 내를 통과하는 미스트를, 예를 들면 섭씨 130도 정도로 가열한다. 이에 의해 가온 미스트가 생성된다. 따라서, 미스트 호스(25)는 미스트 탱크(37)와 함께 가온 미스트를 생성하는 미스트 생성부를 구성하고 있다.

상기 미스트 호스(25)의 타단 측은 하우징(11) 상면으로부터 외부로 인출되어, 미스트 캡(39)에 접속되어 있다.

따라서, 상기 미스트 송출부(38)는, 송출팬(59)에 의해서, 미스트 탱크(37) 내로부터 미스트 호스(25)를 거쳐서 가온 미스트를 미스트 캡(39) 측으로 송출한다.

상기 미스트 캡(39)은, 도 3에 도시하는 바와 같이, 가소성을 가진 합성수지 등으로 이루어지고, 돔 형상으로 형성되어 있다. 이 미스트 캡(39)은 개구로부터 피시술자의 두부에 씌워져서, 두부를 전체적으로 덮도록 되어 있다. 미스트 캡(39)의 개구 테두리가 피시술자의 두부에 고정되어, 미스트 캡(39)의 내부가 폐쇄된다.

상기 미스트 캡(39)에는, 내외주를 연통하는 호스 접속구(65)가 설치되어 있다. 이 호스 접속구(65)에는 미스트 호스(25)의 타단 측이 삽입 접속되어 있다. 따 라서, 미스트 캡(39)은 미스트 호스(25)를 거쳐서 송출된 가온 미스트를 외부로 누출시키지 않고 내부로 분무할 수가 있다.

상기 초음파 가진부(7)는 분무되는 미스트를 초음파 가진하는 초음파 가진수단을 구성하며, 발진판(67)을 구비하고 있다.

발진판(67)은 본체부(3)에 결합된 아암부(68)의 선단에 지지되어 있다. 발진판(67)은 돔 형상으로 형성되고, 피시술자의 두부(頭部)를 미스트 캡(39)의 외측으로부터 덮도록 되어 있다. 이에 의해, 발진판(67)은 피시술자의 두부 주위에 배치된다. 발진판(67)은 내외주를 관통하는 관통공(69)을 구비하고, 관통공(69)에 의해 미스트 호스(25)를 삽입관통한다.

상기 발진판(67)은 코드(71)를 거쳐서 초음파 제어부(73)에 접속되어, 초음파 제어부(73)의 제어에 의해 진동하도록 되어 있다. 이러한 진동에 의해, 발진판(67)은 초음파를 피시술자의 두부 측으로 발진한다. 따라서, 초음파 가진부(7)는 발진판(67)으로부터의 초음파에 의해 두부에 분무된 가온 미스트를 가진할 수가 있다.

상기 로드(9)는, 도 3, 도 10 및 도 11에 도시하는 바와 같이, 시술 중의 두발의 웨이브 길들이기 상태를 유지하는 유지수단을 구성한다. 이 로드(9)는 열전도가 좋은 재료, 예를 들면, 세라믹으로 형성되어 있다. 로드(9)는 중공의 통형상으로 형성되고, 외주면(75)에 두발이 감겨져 유지가능하게 되어 있다.

상기 로드(9)에는 코일형상으로 감겨진 건열가열수단으로서의 발열체(79)가 내장되어 있다. 발열체(79)는 니크롬선 등에 의해 형성되어, 로드(9)의 외주부 측 에 매설되어 있다. 로드(9)에는 복수의 토르마린석(tourmaline, 32)이 매설되어 있다. 로드(9)의 축심부에는 연통로(34)가 관통형성되어 있다. 연통로(34)의 내단부는 로드(9)의 내주 측에 가온 미스트를 도입가능하게 하는 도입구(33)를 구성하고 있다.

상기 연통로(34)로부터 방사방향으로 복수의 분기로(35)가 관통 형성되어 있다. 이 분기로(35)는 로드(9)의 내외주 사이에 설치된 분출구를 구성하고 있다. 따라서, 각 분기로(35)는 로드(9)의 내주 측인 연통로(34) 내로 도입된 가온 미스트를 외주 측으로 분출시키도록 되어 있다.

상기 로드(9)의 연통로(34) 내에는 발열체(79)에 전기적으로 접속된 로드단자(31)가 배치되어 있다. 로드단자(31)는 로드(9)의 일단 측으로 인출되어 있다. 이 로드단자(31)에는 본체부(3)로부터의 코드(21)의 타단이 접속된다. 코드(21)를 거쳐서, 발열체(79)는 콘트롤러에 통전제어되어 발열한다. 그리고, 발열체(79)는 이러한 발열에 의해 로드(9)를 전체로서 가열하여 발열시킨다.

상기 로드(9)의 제어는 상기 스위치 패널(13)(도 9 참조)의 조작에 의해 행해진다. 이러한 제어에는, 예를 들어 로드(9)의 발열시간을 "3분, 6분, 9분"의 사이에서, 발열온도를 "섭씨 110도, 섭씨 120도, 섭씨 130도"의 사이에서 절환 조정할 수가 있다.

[실시예 1에 따른 두발처리장치의 작용효과]

실시예 1에 따른의 두발처리장치에서는, 먼저, 피시술자의 두발을 소정의 길들이기 상태로 유지한다. 즉, 로드(9)의 외주면(75)에 두발을 감아 유지한다( 도 1 의 스탭 S13에 상당함). 이 감기 처리전에 피시술자의 두발에는 트리트먼트제를 배합한 파마용 제 1 제를 미리 도포하여 둔다(도 1의 스탭 S11에 상당함).

상기 감기처리를 1 또는 복수의 개소에 대해서 행한 후, 로드(19)에 감겨져 유지된 두발에 대하여, 알칼리성 가온 미스트를 초음파 가진하면서 분무하는 것에 의해 습열가온을 행한다(도 1의 스탭 S14에 상당함).

즉, 미스트 호스(25)의 선단의 미스트 캡(39)을 피시술자의 두부에 씌우고, 그 위로부터 초음파 가진부(7)의 발진판(67)을 두부에 씌운다.

이 상태에서, 본체부(3)의 스위치패널(13)을 조작하여 미스트 가온부(5)의 가온 미스트의 분무량, 분무시간을 설정한다. 또한, 초음파 제어부(73)를 조작하여 발진판(67)의 진동시간 등을 설정한다.

본 실시예 1에서는 상기와 같이 섭씨 130도 정도로 가열한 가온 미스트의 분무시간을 약 6분간으로 하고, 진동시간도 약 6분간으로 설정한다. 이러한 두발처리조건의 설정에 기하여, 미스트 가온부(5)의 미스트 캡(39) 내에 가온 미스트를 공급함과 함께 초음파 가진부(7)의 발진판(67)으로부터 초음파를 발진한다.

미스트 캡(39) 내에 공급된 가온 미스트는 발진판(67)으로부터의 초음파에 의해 가진되면서 미스트 캡(39)과 두부 사이의 전체에 퍼진다. 그 결과, 초음파 가진된 가온 미스트를 로드(9)에 감겨진 두발에 대하여 분무하여, 두발의 습열가온을 행할 수가 있다.

이 때, 각 로드(9)는 도입구(33)를 거쳐서 내주 측인 연통로(34) 내로 가온 미스트가 도입된다. 도입된 가온 미스트는 분기로(35)를 거쳐서 외주 측으로 분출 된다. 이 때문에, 본 실시예 1에서는 로드(9)에 감겨진 두발의 내외주 전체에, 가온 미스트를 확실하게 분무하여 습열가온할 수가 있다.

이러한 습열가온시에 가온 미스트가 두발에 침투한다. 침투한 가온 미스트는 파마용 제 1 제의 환원기능을 보조하는 알칼리성 기액으로 이루어진다. 이 때문에, 두발의 이황화(disulfide) 결합 등을 절단함과 함께 두발의 팽윤, 환원을 촉진할 수가 있고, 동시에 두발에 대하여 수분을 보급할 수도 있다.

본 실시예 1의 알칼리성 가온 미스트로는 통상의 알칼리 환원수의 입자 직경이 100 ~ 500 ㎛ 정도인 것에 대하여, 초음파 가진 작용에 의해 그 입자 직경이 3 ~ 5 ㎛ 정도까지 작게 되어 있다. 따라서, 본 실시예 1에서는 알칼리성 가온 미스트의 두발에 대한 침투성을 현저하게 향상시킬 수가 있다.

상기 침투 시에는 두발에 도포되어 있는 트리트먼트제가 가온 미스트와 함께 두발에 침투한다. 따라서, 본 실시예 1에서는 트리트먼트제의 침투성도 향상시킬 수 있고, 트리트먼트제에 따른 손상모의 수복을 확실하게 행할 수가 있다.

그리고, 가온 미스트는 상기 침투에 의해 두발을 내외로부터 가열한다. 이 때문에, 본 실시예 1에서는 두발의 이황화 결합의 절단(환원)을 행하면서, 두발을 열산화시켜서 웨이브의 길들이기를 정착시킬 수가 있다.

이어서, 상기와 같이 습열가온된 두발에 대하여 건열가온을 행한다.

즉, 복수의 로드(9)에 본체부(3)로부터의 코드(21)를 접속하고, 본체부(3)의 스위치 패널(13)을 조작하여, 로드(9)의 발열시간, 온도 등의 두발처리조건을 설정한다. 본 실시예 1에서는, 발열온도를 섭씨 130도, 발열시간을 약 3분으로 한다. 이러한 설정에 기하여, 두발처리장치(1)는 로드(9)를 발열시켜서 두발을 건열가온한다(도 1의 스탭 S15에 상당함).

이러한 건열가온에 의해, 로드(9)에 감겨진 두발은 수분을 빼앗기면서 열산화하여 웨이브의 길들이기의 정착이 행해진다. 이 때, 두발은 습열가온 시에 가온 미스트에 의한 수분이 보급되고 있기 때문에, 건열가온 시의 과잉의 건조에 따른 데미지로부터 보호된다.

또한, 두발의 웨이브는 일반적으로 건조에 따라서 서서히 커지게 된다. 본 실시예 1에서는 건조시키면서 최종적으로 웨이브의 길들이기를 행한다. 이 때문에, 건조의 정도에 따른 웨이브의 변화와 시술에 따른 웨이브의 변화를 확실하게 파악할 수가 있다. 따라서, 본 실시예 1에서는 생각대로의 웨이브의 길들이기를 행할 수가 있다.

상기 건열가온 후에는 미스트 가온부(5)의 미스트 히터(64) 및 미스트 탱크(37)의 진동자(46)를 정지시켜서, 두발에 약 5분간의 송풍을 행한다. 이러한 송풍에 의해, 두발은 방열이 촉진되어 안정된다. 이렇게 하여, 본 실시예 1에서는 윤기 있고 데미지가 적은 두발에의 웨이브의 길들이기를 행할 수가 있다.

[실시예 2에 따른 두발처리장치]

이어서, 실시예 2에 따른 두발처리장치에 대해서, 도 12를 참조하여 설명한다. 도 12는 길들이기 시술 중의 실시예 2에 따른 두발처리장치를 도시하는 개략구성도이다.

실시예 1에 따른 두발처리장치(1)와 실시예 2에 따른 두발처리장치(81)는 실 시예 1의 본체부(3)로부터 도출된 미스트 호스(25) 이후의 피시술자 측에 있어서의 구성요소가 공통이다. 이 때문에, 이들 공통의 구성요소에는 공통의 부호를 붙이고, 그 중복한 설명을 생략하고, 양 실시예 1, 2 사이의 상위점에 주목하여 설명을 진행하는 것으로 한다.

실시예 1과 실시예 2의 상위점은 다음과 같다. 즉, 실시예 1에 따른 두발처리장치(1)의 본체부(3)에는 하나의 미스트 탱크(37)가 내장되어 있다. 이 미스트 탱크(37)에는 알칼리성 기액이 수용된다. 이 알칼리성 기액으로부터 생성되는 알칼리성 미스트가 피시술자의 두발에 대하여 적용된다.

이것에 대해, 실시예 2에 따른 두발처리장치(81)의 본체부(83)에서는 한 쌍의 미스트 탱크(37, 85)가 내장되어 있다. 일방의 미스트 탱크(37)에는 실시예 1과 같은 알칼리성 기액이 수용됨과 함께, 타방의 미스트 탱크(85)에는 산성 기액이 수용된다. 이들 알칼리성 기액 또는 산성 기액으로부터 각각 생성되는 미스트가 피시술자의 두발에 대하여 적용된다.

즉, 실시예 1에 따른 두발처리장치(1)의 본체부(3)에는 한 종류의 알칼리성 기액으로부터 생성되는 알칼리성 물의 미스트가 피시술자의 두발에 대하여 적용가능한 것에 대해, 실시예 2에 따른 두발처리장치(81)의 본체부(83)에는 2 종류의 알칼리성 기액 및 산성 기액으로부터 각각 생성되는 알칼라성 또는 산성 미스트를 선택적으로 피시술자의 두발에 대하여 적용가능하다. 따라서, 피시술자의 두발에 대하여 적용가능한 미스트의 액성 베리에이션이 상이한 점에서 실시예 1과 실시예 2는 크게 서로 다르다.

상기 미스트 탱크(85) 내에는 미스트용의 기액으로서 산성 기액이 수용되어 있다. 본 실시예 2의 산성 기액으로서는, 예를 들면, 시판의 알칼리이온 정수기에서 생성된 소위 산성수, 동 산성수에 글루타민산이나 아스코르빈산 등을 용해시킨 수용액, 또는, 정제수에 글루타민산이나 아스코르빈산 등을 용해시킨 수용액에, 린산, 린산염, 크엔산, 주석산 등의 인체에 접촉하여도 무해한 산성물질을 가하여 그 액성을 산성(예를 들면, pH 3 ~ 6 정도)으로 조정한 수용액 등을 이용할 수가 있다.

또한, 도 12 중의 부호 87은 지지점(89)에서 지지되어 실선으로 표시하는 위치와 점선으로 표시하는 위치의 2 가지로 절환가능한 절환밸브이다. 이 절환밸브(87)는 도시하지 않은 밸브 액츄에이터의 부세동작에 의해 절환된다. 절환밸브(87)가 실선으로 표시하는 위치로 부세된 때는 탱크(37)의 알칼리성 미스트가 송출되고, 또한, 점선으로 표시하는 위치로 부세된 때는 탱크(85)의 산성 미스트가 송출되도록 두 종류의 액성의 미스트가 선택적으로 송출되도록 구성되어 있다.

또한, 도 12 중의 부호 91은 미스트 송출부(38)로서의 역활을 수행하는 송출팬(91), 도 12 중의 부호 93은 산성 기액을 미스트화하는 역활을 수행하는 초음파 진동자이다.

상기 송출팬(91)의 제어는, 실시예 1과 마찬가지로, 스위치 패널(13)의 조작에 의해 행해진다. 이러한 제어에서는 실시예 1과 마찬가지로 송출팬(91)의 구동제어에 따른 미스트의 분무시간 및 분무량 등의 조정이 가능하다. 예를 들면, 분무시간을 3 ~ 9분의 사이에서, 분무량을 약, 중, 강의 사이에서 절환조정하는 것이 가 능하도록 구성되어 있다.

[실시예 2에 따른 두발처리장치의 작용효과]

실시예 2에 따른 두발처리장치에서는, 도 1의 스탭 S11에 도시하는 바와 같이, 피시술자의 두발을 트리트먼트제를 배합한 파마용 제 1 제로 처리하고, 소정시간(예를 들면 10 분간 정도) 방치한다.

도 1의 스탭 S12에 있어서, 상기 파마용 제 1 제를 씻어낸 후, 타올 드라이 처리를 행한다. 또한, 상기 파마용 제 1 제를 씻어내지 않고, 피시술자의 두발에 대하여 타올 드라이 처리를 행해도 된다.

도 1의 스탭 S13에 있어서, 두발처리장치(81)에 있어서의 로드(9)의 외주면(75)에 피시술자의 두발을 감아 유지한다.

도 1의 스탭 S14에 있어서, 로드(9)에 감겨 유지된 피시술자의 두발에 대하여, 알칼리성 가온 미스트를 초음파 가진하면서 분무하는 것에 의해 습열가온을 행한다(본 발명의 "습열가온공정" 또는 "알칼리성 습열가온공정"에 상당함).

구체적으로는, 도 1의 스탭 S14에 있어서, 미스트 호스(25) 선단의 미스트 캡(39)를 피시술자의 두부에 씌우고, 그 위로부터 초음파 가진부(7)의 발진판(67)을 두부에 씌운다. 이 상태에서, 본체부(3)의 스위치패널(13)을 조작하여 미스트 가온부(5)의 가온 미스트의 분무량, 분무시간을 설정한다. 또한, 초음파 제어부(73)를 조작하여 발진판(67)의 진동시간 등을 설정한다.

본 실시예 2에서는, 실시예 1과 마찬가지로, 섭씨 130도 정도로 가열한 가온 미스트의 분무시간을 약 6분간으로 하고, 진동시간도 약 6분간으로 설정한다. 이러 한 두발처리조건의 설정에 기하여, 미스트 가온부(5)의 미스트 캡(39) 내에 알칼리성 가온 미스트를 공급함과 함께 초음파 가진부(7)의 발진판(67)으로부터 초음파를 발진한다.

미스트 캡(39) 내에 공급된 알칼리성 가온 미스트는 발진판(67)으로부터의 초음파에 의해 가진되면서 미스트 캡(39)과 두부 사이의 전체로 퍼진다. 그 결과, 초음파 가진된 가온 미스트를 로드(9)에 감겨진 두발에 대하여 분무하여, 두발의 습열가온을 행할 수가 있다.

이 때, 각 로드(9)는 도입구(33)를 거쳐서 내주 측인 연통로(34) 내로 가온 미스트가 도입된다. 도입된 가온 미스트는 분기로(35)를 거쳐서 외주 측으로 분출된다. 이 때문에, 본 실시예 2에서는, 실시예 1과 마찬가지로, 로드(9)에 감겨진 두발의 내외주 전체에, 가온 미스트를 확실하게 분무하여 습열가온할 수가 있다.

이러한 습열가온 시에 있어서, 가온 미스트가 두발에 침투한다. 이렇게 하여, 침투한 가온 미스트는 파마용 제 1 제의 환원기능을 보조하는 알칼리성 기액으로 이루어진다. 이 때문에, 두발의 이황화 결합 등을 절단함과 함께 두발의 팽윤, 환원을 촉진할 수가 있다. 동시에 두발에 대하여 수분을 보급할 수도 있다.

본 실시예 2의 가온 미스트에서는, 실시예 1과 마찬가지로, 초음파 가진 작용에 의해 그 입자 직경이 3 ~ 5 ㎛ 정도까지 작게 되어 있다. 따라서, 가온 미스트의 두발에 대한 침투성을 현저하게 향상시킬 수가 있다.

상기 침투 시에는, 실시예 1과 마찬가지로, 두발에 도포되어 있는 트리트먼트제가 가온 미스트와 함께 두발에 침투한다. 따라서, 트리트먼트제의 침투성도 향 상시킬 수 있고, 트리트먼트제에 따른 손상모의 수복을 확실하게 행할 수가 있다.

그리고, 가온 미스트는 상기 침투에 의해 두발을 내외로부터 가열한다. 이 때문에, 실시예 1과 마찬가지로, 두발의 환원을 행하면서, 두발을 열산화시켜서 웨이브의 길들이기를 정착시킬 수가 있다.

도 1의 스탭 S15에 있어서, 스탭 S14에서 습열가온된 두발에 대하여 건열가온을 행한다(본 발명의 "건열가온공정"에 상당함). 즉, 복수의 로드(9)에 본체부(3)로부터의 코드(21)를 접속하고, 본체부(3)의 스위치 패널(13)을 조작하여, 로드(9)의 발열시간, 온도 등의 두발처리조건을 설정한다. 본 실시예 2에서는, 실시예 1과 마찬가지로, 발열온도를 섭씨 130도 정도, 발열시간을 약 3분으로 한다. 이러한 설정에 기하여, 두발처리장치(81)는 로드(9)를 발열시켜서 두발을 건열가온한다.

이러한 건열가온공정에 의해, 로드(9)에 감겨진 두발은 수분을 빼앗기면서 열산화하여 웨이브의 길들이기의 정착이 행해진다. 이 때, 두발은 습열가온 시에 가온 미스트에 따른 수분이 보급되고 있기 때문에, 건열가온 시의 과잉의 건조에 따른 데미지로부터 보호된다.

또한, 두발의 웨이브는 일반적으로 건조가 진행됨에 따라서 서서히 커지게 된다. 본 실시예 2에서는 건조시키면서 웨이브의 길들이기를 행하기 때문에, 건조의 정도에 따른 웨이브량의 변화와 시술에 따른 웨이브량의 변화를 확실하게 파악할 수가 있다. 따라서, 본 실시예 2에서는, 실시예 1과 마찬가지로, 생각대로의 웨이브의 길들이기를 행할 수가 있다.

도 1의 스탭 S16에 있어서, 스탭 S15에 있어서의 건열가온 후의 상기 두발에 대하여, 산성 가온 미스트를 초음파 가진하면서 분무한 상태에서 송풍을 가한다(본 발명의 "습열가온송풍공정"에 상당함). 이 스탭 S16의 처리공정이 실시예 1과 비교하여 크게 다르다.

구체적으로는, 스탭 S16에 있어서, 섭씨 130도 정도로 가열한 가온 미스트의 분무시간을 약 5분간으로 하고, 진동시간도 약 5분간으로 설정한다. 이러한 두발처리조건의 설정에 기하여, 미스트 가온부(5)의 미스트 캡(39) 내에 산성 가온 미스트를 공급함과 함께 초음파 가진부(7)의 발진판(67)으로부터 초음파를 발진한다.

미스트 캡(39) 내에 공급된 산성 가온 미스트는 발진판(67)으로부터의 초음파에 의해 가진되면서 미스트 캡(39)과 두부의 사이의 전체에 퍼진다. 그 결과, 초음파 가진된 산성 가온 미스트를 로드(9)에 감겨진 두발에 대하여 분무하여, 두발의 습열가온을 행할 수가 있다.

이 때, 각 로드(9)는 도입구(33)를 거쳐서 내주 측인 연통로(34) 내로 가온 미스트가 도입된다. 도입된 가온 미스트는 분기로(35)를 거쳐서 외주 측으로 분출된다. 이 때문에, 본 실시예 2에서는, 실시예 1과 마찬가지로, 로드(9)에 감겨진 두발의 내외주 전체에, 산성 가온 미스트를 확실하게 분무하여 습열가온할 수가 있다.

이러한 습열가온 시에 있어서, 가온 미스트가 두발에 침투한다. 이렇게 하여, 침투한 가온 미스트는 파마용 제 2 제의 산화기능을 보조하는 산성 기액으로 이루어진다. 이 때문에, 실시예 1과 비교하여, 절단된 상태의 두발의 이황화 결합 을 연결하는(산화) 움직임을 현저하게 촉진할 수가 있다. 동시에 두발에 대하여 수분을 보급할 수도 있다.

여기서, 본 실시예 2의 산성 가온 미스트에서는, 통상의 산성수의 입자 직경이 100 ~ 500 ㎛ 정도인 것에 대하여, 초음파 가진 작용에 의해 그 입자 직경이 3 ~ 5 ㎛ 정도까지 작게 되어 있다. 따라서, 본 실시예 2에서는, 산성 가온 미스트의 두발에 대한 침투성을 현저하게 향상시킬 수가 있다.

본 실시예 2에 있어서의 산성 가온 미스트는, 상기 침투에 의해 두발을 내외로부터 가열한다. 이 때문에, 실시예 2에서는, 산성수에 기인하는 두발의 산화를 현저하게 촉진시키면서, 두발을 열산화시켜서 웨이브의 길들이기를 정착시킬 수가 있다.

그 외에도, 스탭 S16에서는, 산성 가온 미스트에 의해 습열가온한 상태에서 두발에 송풍을 가하는 처리를 행한다. 이 송풍처리에 의해 방열이 촉진된 두발은 산성 가온 미스트와 방열촉진에 의해 긴축되어 안정된다. 이것에 의해, 본 실시예 2에서는, 윤기가 있고 데미지가 극히 작은 두발의 웨이브의 길들이기를 행할 수가 있다.

이어서, 도 1의 스탭 S17 ~ S18에 있어서, 피시술자의 두발에 감겨져 유지되고 있는 로드(9)를 벗겨낸 (스탭 S17) 후, 주지의 파마용 제 2 제를 두발에 도포하는 처리를 행하는 것에 의해, 두발의 이황화 결합을 연결시키는(산화) 움직임을 더욱 촉진시킨다(스탭 S18).

도 1의 스탭 S19에 있어서, 상술한 두발처리수순을 거치는 것에 의해, 두발 의 데미지를 억제하면서 소망하는 웨이브를 실현할 수가 있다.

[실시예 3에 따른 미용장치]

이어서, 실시예 3에 따른 미용장치에 대해서, 도 13을 참조하여 설명한다. 도 13은 미용시술 중의 실시예 3에 따른 미용장치를 도시하는 개략구성도이다.

실시예 2에 따른 두발처리장치(81)와 실시예 3에 따른 미용장치(101)는 기본적인 구성요소가 공통이다. 이 때문에 이들 공통인 구성요소에는 공통의 부호를 붙이고, 그 중복한 설명을 생략하고, 양 실시예 2와 3 사이의 상위점에 주목하여 설명을 진행하는 것으로 한다.

실시예 2와 실시예 3의 상위점은 다음과 같다. 즉, 실시예 2에 따른 두발처리장치(81)에서는 두발을 처리하기 위한 구성 부재로서, 초음파 가진부(7), 로드(9), 로드(9) 접속용의 단자부(19)나 코드(21), 미스트 캡(39), 발진판(67) 및 초음파 제어부(73) 등이 설치되어 있는 것에 대해, 실시예 3에 따른 미용장치(101) 및 본체부(103)에서는, 이들의 구성 부재가 생략되어 있다.

미용장치(101)에 있어서, 미스트 가온부(5), 미스트 호스(25), 알칼리성 기액용 미스트 탱크(37), 미스트 송출부(38), 초음파 진동자(46), 송출팬(59), 미스트 히터(64) 및 절환밸브(87)가 알칼리성 습열가온수단을 구성한다.

한편, 미스트 가온부(5), 미스트 호스(25), 미스트 송출부(38), 미스트 히터(64), 산성 기액용 미스트 탱크(85), 절환밸브(87), 송출팬(91) 및 초음파 진동자(93)가 산성 습열가온수단을 구성한다.

[실시예 3에 따른 미용장치의 작용효과]

실시예 3에 따른 미용장치에서는, 도 2의 스탭 S21에 도시하는 바와 같이, 알칼리성 습열가온수단은 피시술자의 체표면(예를 들면 안면 등)에 대하여 알칼리성 기액으로부터 생성되는 알칼리성 가온 미스트를 분무하는 것에 의해 알칼리성 분위기 하에서 습열가온을 행한다.

이것에 의해, 알카리성 미스트와 가온 미스트에 따른 피부의 팽윤작용이 함께 작용하여, 안면 등의 피부의 모공 안쪽의 피지나 불순물을 떠오르게 하여 배출하는 것을 현저하게 촉진시킬 수가 있다.

한편, 도 2의 스탭 S23에 도시하는 바와 같이, 산성 습열가온수단은 상기 알칼리성 습열가온 후의 상기 체표면에 대하여 산성 기액으로부터 생성되는 산성 가온 미스트를 분무하는 것에 의해 산성분위기 하에서 습열가온을 행한다.

이것에 의해, 산성 미스트의 긴축작용에 의해, 안면 등의 체표면의 피부를 긴축할 수가 있다.

따라서, 본 발명에 따른 미용장치(101)에 따르면, 알칼리성 습열가온수단에 따른 안면 등의 모공 안쪽의 피지나 불순물을 떠오르게 하는 효과와, 산성 습열가온수단에서의 안면 등의 피부긴축효과를 교호로 작용시키는 것에 의해, 안면 등으로부터 피지나 불순물을 제거하여 깨끗하게 정리함과 함께, 신진대사를 활발하게 하여 윤기 있는 피부를 유지할 수가 있다.

본 발명은 상술한 실시예에 한정되는 것은 아니며, 청구의 범위 및 명세서 전체로부터 읽혀지는 발명의 요지, 혹은 기술사상에 반하지 않는 범위에서 적절히 변경가능하고, 그러한 변경을 수반하는 두발처리방법, 미용방법, 두발처리장치, 및 미용장치도 또한 본 발명에 있어서의 기술적 범위에 포함되는 것이다.

즉, 실시예 1, 2에 있어서, 두발에 대하여 웨이브의 길들이기를 행하는 예를 들어 설명했지만, 본 발명은 그 예에 한정되는 것은 아니며, 예를 들어, 스트레이트 파마 등의 길들이기를 행해도 좋다. 이 경우, 유지수단으로서는 스트레이트 파마용의 것을 이용하면 된다.

또한, 실시예 1, 2에서의 건열가온수단으로서는 두발의 주위로부터의 적외선조사에 따른 히터나 두발에 열풍을 가하는 드라이어를 이용해도 된다.

나아가, 실시예 1, 2에서, 미스트를 발생시키기 위한 기구(본체부(3, 83))와 피시술자의 두발을 가온하기 위한 기구(미스트 히터(64) 등)를 하나의 두발처리장치(1, 18) 내에 공존시켜서 시스템을 구축하는 예를 들어서 설명했지만, 본 발명은 이것에 한정되는 것은 아니고, 상기의 기구를 각각 독립시켜서 구축한 시스템도 본 발명의 기술적 범위의 포함된다.

그 외에도, 실시예 1 ~ 3에 있어서, 알칼리성 가온 미스트 또는 산성 가온 미스트의 일부를 두발처리시술 중 또는 미용시술 중의 실내에 분무하는 구성을 채용하면, 동 시술실 내에 가온 미스트가 확산되어, 건조하기 쉬운 시술실 내의 분위기를 촉촉하게 할 수가 있다.

마지막으로, 실시예 1 ~ 3에 있어서, 알칼리성 기액 또는 산성 기액에, 예를 들면 허브 엑기스 등의 향기 성분을 함유시키는 구성을 채용하면, 두발처리시술 중 또는 미용시술 중에 있어서, 가온 미스트 중의 향기 성분이 시술실 내로 확산되어 릴렉스 효과를 발휘할 수도 있다는 부차적인 효과를 기대할 수도 있다.

도 1은 본 발명에 따른 두발처리방법의 설명을 위한 설명도이다.

도 2는 본 발명에 따른 미용방법의 설명을 위한 설명도이다.

도 3은 길들이기 시술 중의 두발처리장치의 개략구성도이다(실시예1).

도 4는 도 3의 두발처리장치의 본체부의 사시도이다(실시예1).

도 5는 도 4의 본체부의 편면도이다(실시예 1).

도 6은 도 4의 본체부의 정면도이다(실시예 1).

도 7은 도 5의 VII-VII선 화살표 방향에서 본 단면도이다(실시예 1).

도 8은 도 6의 VIII-VIII선 화살표 방향에서 본 단면도이다(실시예 1).

도 9는 도 6의 IX-IX선 화살표 방향에서 본 단면도이다(실시예 1).

도 10은 도 3의 두발처리장치의 로드를 도시하는 개략도이다(실시예 1).

도 11은 도 10의 로드의 횡단면도이다(실시예1).

도 12는 길들이기 시술 중의 두발처리장치의 개략 구성도이다(실시예 2).

도 13은 미용시술 중의 미용장치의 개략 구성도이다(실시예 3).

* 도면의 주요 부호 *

1, 81 : 두발처리장치 3, 83, 103 : 본체부

5 : 미스트 가온부 7 : 초음파 가진부

9 : 로드 25 : 미스트 호스

29 : 미스트 캡 33 : 도입부

35 : 분기로 37, 85 : 미스트 탱크

38 : 송출부 39 : 미스트 캡 46 : 초음파 진동자 59 : 송출팬

67 : 발진판 73 : 초음파 제어부

79 : 발열체 101 : 미용장치

Claims (17)

1. 삭제
2. 삭제
3. 삭제
4. 삭제
5. 소정의 길들이기 상태로 유지된 피시술자의 두발에 대하여 알칼리성 기액으로부터 생성되는 알칼리성 가온 미스트를 분무하는 것에 의해 알칼리성 분위기 하에서 습열가온을 행하는 알칼리성 습열가온공정과,

   상기 알칼리성 습열가온공정 후의 상기 두발을 건열가온하는 건열가온공정과,

   상기 건열가온공정 후의 상기 두발에 대하여 산성 기액으로부터 생성되는 산성 가온 미스트를 분무하는 것에 의해 산성 분위기 하에서 습열가온을 행하는 산성 습열가온공정을 구비한 것을 특징으로 하는 두발처리방법.
6. 삭제
7. 청구항 5에 있어서,

   상기 산성 습열가온공정에서는, 상기 두발에 대하여 상기 산성 가온 미스트를 분무한 상태에서 송풍을 가하는 것을 특징으로 하는 두발처리방법.
8. 삭제
9. 삭제
10. 피시술자의 두발을 소정의 길들이기 상태로 유지하기 위한 유지수단과,

    상기 두발에 대하여 알칼리성 기액으로 부터 생성되는 알칼리성 가온 미스트를 분무하여 알칼리성 분위기 하에서 습열가온하는 알칼리성 습열가온수단과,

    상기 두발을 건열가온하는 건열가온수단과,

    상기 두발에 대하여 산성 기액으로부터 생성되는 산성 가온 미스트를 분무하여 산성 분위기 하에서 습열가온하는 산성 습열가온수단과,

    상기 알칼리성 가온 미스트 및 산성 가온 미스트를 초음파 가진하는 초음파 가진수단을 구비하고,

    상기 초음파 가진수단은 상기 피시술자의 두부 주위에 배치되어 상기 두부 측으로 향하여 초음파를 발진가능하게 하는 발진판을 구비한 것을 특징으로 하는 두발처리장치.
11. 청구항 10에 있어서,

    상기 알칼리성 가온 미스트는 알칼리성 물, 중성수, 순수, 또는 알칼리 트리트먼트액을 포함하는 알칼리성 기액으로부터 생성되며, 상기 산성 가온 미스트는 산성수를 포함하는 산성 기액으로부터 생성되는 것을 특징으로 하는 두발처리장치.
12. 청구항 10에 있어서,

    상기 알칼리성 습열가온수단 및 산성 습열가온수단은 하나의 습열가온수단이며, 상기 알칼리성 가온 미스트 및 산성 가온 미스트를 생성하는 미스트 생성부와, 상기 피시술자의 두부를 덮고 내부에 상기 미스트 생성부로부터의 상기 알칼리성 가온 미스트 및 산성 가온 미스트가 충만되는 미스트 캡을 구비하는 것을 특징으로 하는 두발처리장치.
13. 삭제
14. 청구항 10에 있어서,

    상기 유지수단은 외주 측에 상기 두발이 감겨지는 로드이고,

    상기 건열가온수단은 상기 로드 내에 수용유지되어 이 로드를 가열하는 발열체인 것을 특징으로 하는 두발처리장치.
15. 청구항 14에 있어서,

    상기 로드는 중공 형상으로 형성되어, 내외를 연통하여 내주 측으로 상기 알칼리성 가온 미스트 및 산성 가온 미스트를 도입가능하게 하는 도입구와, 상기 내외주 사이로 관통 형성되어 상기 내주 측으로부터 상기 외주 측으로 상기 알칼리성 가온 미스트 및 산성 가온 미스트를 분출가능하게 하는 분출구를 구비한 것을 특징으로 하는 두발처리장치.
16. 청구항 10에 있어서,

    상기 두발에 송풍을 가하는 송풍수단을 구비한 것을 특징으로 하는 두발처리장치.
17. 삭제

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