KR101694185B1 - 실리콘패턴층이 형성된 이형필름 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 실리콘패턴층이 형성된 이형필름 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 간단한 공정 및 장비로서 양질의 이형필름을 제조하기 위한 실리콘패턴층이 형성된 이형필름 제조방법에 관한 것이다.
본 발명은 다음과 같은 효과를 발휘한다.
실리콘 고형분과 희석제를 포함하는 실리콘 용액으로 코팅함과 동시에 표면에 패턴을 형성하는 구성으로 인해, 패턴 형성 단계와 실리콘 코팅 단계를 하나의 단계로 결합하여 필름 제작 속도를 향상시킬 수 있고, 별도의 패턴 성형 장치나 패턴 잉크가 필요없게 되어 제작 비용 또한 절감되며, 미세한 패턴과 질감을 가지면서 박리성 및 내열강도도 우수한 양질의 이형필름을 제조할 수 있는 장점이 있다.

Description

실리콘패턴층이 형성된 이형필름 제조방법 {omitted}
본 발명은 실리콘패턴층이 형성된 이형필름 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 간단한 공정 및 장비로서 양질의 이형필름을 제조하기 위한 실리콘패턴층이 형성된 이형필름 제조방법에 관한 것이다.
이형필름은 폴리에스테르필름(PET)의 단면 또는 양면에 실리콘 이형제 등 이형물질을 도포하여 균일한 박리력과 잔류 접착력, 대전 방지 성능을 향상시킨 기능성 필름으로서, 전자부품 및 디스플레이 소재의 점착층을 보호하거나, MLCC 세라믹 성형시 기재 필름으로 사용되어 진다.
이러한 이형필름을 제조하는 방법은 PET 필름에 양각 또는 음각의 패턴을 형성하는 과정과 실리콘 잉크를 코팅하는 과정을 거치게 된다.
특히 패턴 형성 과정은 PET 필름에 UV 수지층(Ultra Violet Rein Layer)을 형성하여 필름 표면의 내마모성과 광택성을 향상시키기 위한 것인데, 이 과정에서 UV 성형장치 등의 추가적인 기계적 장치를 필요로 하게 된다.
따라서 상기 두 단계로 진행되는 과정을 하나의 과정으로 통합하여 하나의 장치 내 처리할 수 있다면, 생산 속도를 향상히킬 수 있고, 제조 비용 측면에서도 절감할 수 있을 것이다.
대한민국등록특허공보 제10-1134982호 (2012.04.03)
본 발명에서 해결하려는 과제는 다음과 같다.
실리콘 고형분과 희석제를 포함하는 실리콘 용액으로 코팅함과 동시에 표면에 패턴을 형성하는 구성으로 인해, 패턴 형성 단계와 실리콘 코팅 단계를 하나의 단계로 결합하여 필름 제작 속도를 향상시킬 수 있고, 별도의 패턴 성형 장치나 패턴 잉크가 필요없게 되어 제작 비용 또한 절감되며, 미세한 패턴과 질감을 가지면서 박리성 및 내열강도도 우수한 양질의 이형필름을 제조할 수 있게 하는 실리콘패턴층이 형성된 이형필름 제조방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
본 발명은 상기와 같은 과제를 해결하기 위하여,
베이스필름 일면을 코로나 방전처리하는 단계(a); 상기 코로나 방전처리된 면에 실리콘패턴층을 형성하는 단계(b); 상기 실리콘패턴층이 형성된 이형필름을 건조하는 단계(c)를 포함하되, 상기 (a) 단계의 상기 베이스필름은 두께 50~75μm의 PET 또는 PETG 수지이며, 상기 (b) 단계는 상측 일부에 베이스필름의 방전처리된 면이 접촉된 상태로 회전하는 실리콘패턴형성롤러 하측 일부를 실리콘용액에 침지하여 회전하는 실리콘패턴형성롤러의 표면에 실리콘 용액이 도포되도록 하는 단계(b-1), 용액에 침지되는 부분에서 베이스필름과 닿는 부분까지 회전하는 실리콘패턴형성롤러의 일측에 롤러 표면과 소정 간격을 두고 형성된 용액두께조절부에 의해 실리콘패턴형성롤러의 표면에 도포된 실리콘 용액의 두께를 일정하게 조절하는 단계(b-2), 방전처리된 면과 두께 조절된 실리콘 용액이 접촉하여 베이스필름에 실리콘패턴층을 형성하는 단계(b-3)를 포함하여 구성되되, 실리콘패턴형성롤러의 표면에 패턴을 형성하기 위한 격자모양의 셀(101)이 형성됨을 특징으로 하며, 상기 (b-1) 단계의 실리콘 용액은 실리콘 고형분, 희석제 및 경화제를 포함하되, 실리콘 고형분 100 질량부에 대하여, 희석제로서 톨루엔 130~143 질량부, 희석제로서 메틸에틸케톤 35~50 질량부, 및 경화제 9~20 질량부로 구성되고, 상기 (b-3) 단계에서 서리콘패턴형성롤러의 회전속도(W1)는, 실리콘패턴층이 줄무늬(stripe) 패턴을 갖도록 베이스필름의 주행속도(W2) 100 대비 105~115의 속도로 회전함을 특징으로 하며, 상기 (c) 단계는, 상기 실리콘패턴층이 형성된 이형필름이 다수의 롤을 주행하는 동안 160~180℃의 온도에서 1~20분의 시간으로 건조함을 특징으로 하는 실리콘패턴층이 형성된 이형필름 제조방법을 제시한다.
본 발명은 다음과 같은 효과를 발휘한다.
실리콘 고형분과 희석제를 포함하는 실리콘 용액으로 코팅함과 동시에 표면에 패턴을 형성하는 구성으로 인해, 패턴 형성 단계와 실리콘 코팅 단계를 하나의 단계로 결합하여 필름 제작 속도를 향상시킬 수 있고, 별도의 패턴 성형 장치나 패턴 잉크가 필요없게 되어 제작 비용 또한 절감되며, 미세한 패턴과 질감을 가지면서 박리성 및 내열강도도 우수한 양질의 이형필름을 제조할 수 있는 장점이 있다.
도 1은 본 발명에 따른 실리콘패턴층이 형성된 이형필름의 실시예를 나타낸 단면개략도.
도 2는 본 발명의 이형필름 제조방법을 나타낸 순서도.
도 3은 본 발명의 실시예에 따라 제조된 이형필름 확대 사진.
도 4는 본 발명의 제조방법에 사용되는 제조장치 일부를 나타낸 사진.
도 5는 본 발명의 실리콘패턴형성롤러의 표면을 나타낸 도면.
도 6은 주행하는 베이스필름과 회전하는 실리콘패턴형성롤러의 관계를 나타낸 도면.
도 7은 본 발명의 실시예에 따라 제조된 이형필름 사진.
이하 첨부된 도면을 바탕으로 본 발명의 바람직한 실시예에 대해 설명한다. 다만 본 발명의 권리범위는 특허청구범위 기재에 의하여 파악되어야 한다. 또한 본 발명의 요지를 모호하게 하는 공지기술의 설명은 생략한다.
이형필름을 제조하는 방법은 PET 필름에 양각 또는 음각의 패턴을 형성하는 과정과 실리콘 잉크를 코팅하는 과정을 거치게 된다.
특히 패턴 형성 과정은 PET 필름에 UV 수지층(Ultra Violet Rein Layer)을 형성하여 필름 표면의 내마모성과 광택성을 향상시키기 위한 것인데, 이 과정에서 UV 성형장치 등의 추가적인 기계적 장치를 필요로 하게 된다.
본 발명에서는 상기 두 단계로 진행되는 과정을 하나의 과정으로 통합하여 하나의 장치 내 처리할 수 있는 방법을 제시하는데, 이는 실리콘용액에 실리콘고형분의 함량을 높이는 기술적 특징에서 기인한다.
기존의 코팅과정에서 사용되는 실리콘용액(실리콘잉크)은 실리콘 고형분의 함량이 3~7% 정도에 불과하여, 코팅 전 단계에서 이미 패턴이 형성된 필름에 얇은 막을 도포하는 역할에 그쳤다.
그러나 본 발명에서는 상기 실리콘 고형분의 함량을 35% 정도까지 향상시킨 실리콘용액을 이용하여 코팅함과 동시에 패턴까지 형성할 수 있는 방법을 제안하는 것이다.
본 발명을 먼저 요약하면 다음과 같다.
즉, 베이스필름 일면을 코로나 방전처리하는 단계(a); 상기 코로나 방전처리된 면에 실리콘패턴층을 형성하는 단계(b); 상기 실리콘패턴층이 형성된 이형필름을 건조하는 단계(c)를 포함하되, 상기 (b) 단계는 베이스필름의 방전처리된 면이 접촉하도록 감겨 주행하는 실리콘패턴형성롤러 하측 일부를 실리콘용액에 침지하여 회전하는 실리콘패턴형성롤러의 표면에 실리콘 용액이 도포되도록 하는 단계(b-1), 용액에 침지되는 부분에서 베이스필름과 닿는 부분까지 회전하는 실리콘패턴형성롤러의 일측에 롤러 표면과 소정 간격을 두고 형성된 용액두께조절부에 의해 실리콘패턴형성롤러의 표면에 도포된 실리콘 용액의 두께를 일정하게 조절하는 단계(b-2), 방전처리된 면과 두께 조절된 실리콘 용액이 접촉하여 베이스필름에 실리콘패턴층을 형성하는 단계(b-3)를 포함하여 구성되되, 실리콘패턴형성롤러의 표면에 패턴을 형성하기 위한 셀이 형성됨을 특징으로 하며, 상기 실리콘 용액은 실리콘 고형분, 희석제 및 경화제를 포함하여 구성되되, 상기 희석제는 실리콘 고형분 100 질량부에 대하여, 희석제 톨루엔 120~150 질량부, 희석제 메틸에틸케톤 30~85 질량부, 및 경화제 5~25 질량부로 구성되며, 실리콘패턴형성롤러의 회전속도(W1)는 실리콘패턴층이 줄무늬(stripe) 패턴을 갖도록 베이스필름의 주행속도(W2) 100 대비 105~115의 속도로 회전함을 특징으로 하며, 상기 (c) 단계는 상기 실리콘패턴층이 형성된 이형필름이 다수의 롤을 주행하는 동안 160~180℃의 온도에서 1~20분의 시간으로 건조함을 특징으로 하는 실리콘패턴층이 형성된 이형필름 제조방법에 관한 것이다.
도 1은 본 발명에 따른 실리콘패턴층이 형성된 이형필름의 실시예를 나타낸 단면개략도이며, 도 3은 본 발명의 실시예에 따라 제조된 이형필름을 확대하여 찍은 사진이다.
도 1과 같이 이형필름은 베이스필름(10)의 일면에 실리콘패턴층(20)이 형성된다. 실리콘패턴층(20)이 형성된 실제 표면은 도 3과 같은 형태를 가질 수 있다.
도 7에서도 실제 필름표면에 실리콘패턴이 형성된 것을 확인할 수 있다.
도 2는 본 발명의 이형필름 제조방법을 나타낸 순서도이다.
본 발명에 의해 이형필름을 제조하는 방법은 크게 베이스필름 일면을 코로나 방전처리하는 단계(a), 상기 코로나 방전처리된 면에 실리콘패턴층을 형성하는 단계(b) 및 상기 실리콘패턴층이 형성된 이형필름을 건조하는 단계(c)를 포함하여 구성된다.
(a) 베이스필름 일면을 코로나 방전처리하는 단계
베이스필름은 PET(Poly Ethylene Terephthalate) 또는 PETG(Poly Ethylene Terephtrhalate Glycol) 수지를 이용하는 것이 바람직하다.
베이스필름의 두께는 50~100μm이고, 바람직하게는 50~75μm의 범위에서, 사용하는 몰드 금형의 형상에 따라서 적절하게 선택할 수 있다. 베이스필름의 두께를 50μm 미만이면 몰드 수지의 압력에서 찢어지는 문제점이 있고, 100μm를 초과하면, 열전도 저하로 성형품의 표면에 패임 등이 발생하여 수율이 떨어지게 된다.
일정속도로 주행하는 베이스필름의 일면에 고전압의 전기에너지를 인가하게 되면 해당 면에 코로나 방전이 발생된다. 이러한 코로나 방전은 베이스필름의 표면으로 물리적, 화학적인 자극을 전달하여 접착성이 향상되므로 다음 단계에서 실리콘 용액이 베이스필름의 표면에 강하게 밀착될 수 있게 된다.
(b) 코로나 방전처리된 면에 실리콘패턴층을 형성하는 단계
상기 베이스필름의 코로나 방전처리된 면에 실리콘패턴층을 형성하는 단계는, 베이스필름의 코로나방전처리된 면이 접촉하도록 감겨 주행하는 실리콘패턴형성롤러 하측 일부를 실리콘용액에 침지하여 회전하는 실리콘패턴형성롤러의 표면에 실리콘 용액이 도포되도록 하는 단계(b-1), 용액에 침지되는 부분에서 베이스필름과 닿는 부분까지 회전하는 실리콘패턴형성롤러의 일측에 롤러 표면과 소정 간격을 두고 형성된 용액두께조절부에 의해 실리콘패턴형성롤러의 표면에 도포된 실리콘 용액의 두께를 일정하게 조절하는 단계(b-2), 방전처리된 면과 두께 조절된 실리콘 용액이 접촉하여 베이스필름에 실리콘패턴층을 형성하는 단계(b-3)를 포함하여 구성된다.
이 때 사용되는 실리콘패턴형성롤러(100)는 도 5와 같이 표면에 패턴을 형성하기 위한 셀(101)이 형성되며, 각 셀에 충전되는 실리콘용액이 이후 베이스필름에 부착되어 실리콘패턴형성롤러의 셀(101)의 모양 및 실리콘패턴형성롤러의 회전속도(W1)에 의해 달라지는 다양한 패턴을 갖게 된다.
(b-1) 단계에서는 실리콘패턴형성롤러의 표면에 실리콘 용액이 도포되도록 한다.
실리콘패턴형성롤러에 베이스필름이 감겨 주행하되, 코로나방전처리된 면이 실리콘패턴형성롤러의 표면에 접촉한 채로 주행하게 된다.
이 때 실리콘패턴형성롤러의 하측 일부를 실리콘용액에 침지하여 회전하는 실리콘패턴형성롤러의 표면에 실리콘 용액을 도포한다.
도포되는 실리콘 용액은 실리콘패턴형성롤러의 표면에 두껍게 발리면서 실리콘패턴형성롤러 표면의 셀 내부에도 충전된다.
(b-2) 단계에서는 실리콘패턴형성롤러의 표면에 도포된 실리콘 용액의 두께를 일정하게 조절하게 된다.
실리콘패턴형성롤러의 일측에 롤러 표면과 고정 간걱을 두고 용액두께조절부가 형성된다. 이 용액두께조절부의 형상은 한정되지 않으나, 실리콘패턴형성롤러의 축방향으로 표면과 일정간격을 유지하는 판의 형상으로 됨이 바람직하다.
상기 용액두께조절부가 형성되는 위치(B)는 실리콘패턴형성롤러가 회전함에 따라 표면에 두껍게 발린 실리콘용액을 긁어낼 수 있도록, 용액에 침지되는 부분(A)에서 베이스필름과 닿는 부분(C)까지 회전하는 구간이어야 할 것이다.
예를 들어 실리콘패턴형성롤러 표면의 한 점을 P라 할 때, 베이스필름의 하부에 위치하는 A점에서부터 베이스필름의 상부에 위치하는 C점까지 P점이 실리콘패턴형성롤러 외주면을 따라 이동할 때, P점의 실리콘용액 두께를 5라 하면 2만큼의 간격을 갖는 B점을 지나면서 P점의 실리콘용액 두께도 2만큼 조절된다.
상기 조절되는 두께는 용액두께조절부와 실리콘패턴형성롤러의 표면사이 간격을 조절함으로써 자유롭게 변경 가능하다. 이로써 최종적으로 제작되는 이형필름의 실리콘패턴층의 두께도 필요사양에 따라 조절 가능하게 된다.
(b-3) 단계에서는 베이스필름에 실리콘패턴층을 형성하게 된다.
상기 예로 설명하면, B점을 지나면서 실리콘용액의 두께가 2만큼 조절된 P점이 A점과 닿을 때 베이스필름의 방전처리된 면과 접촉하여 P점의 실리콘용액이 방전처리된 면에 접착됨으로써 실리콘패턴형성롤러의 표면에서 떨어지게 된다.
즉, 실리콘패턴형성롤러의 표면에 도포되어 두께 조절된 실리콘용액이 베이스필름의 방전처리된 면과 접촉할 때 베이스필름에 접착되는 것이다.
다만, 이 때 실리콘용액의 고형분이 많으면 베이스필름과 접촉 후에도 실리콘패턴형성롤러 표면의 셀에 실리콘용액이 남아있게 되어 실리콘패턴층의 높이가 일정치 않게 된다. 이를 방지하기 위해서는 실리콘용액의 고형분 점도를 조정해야 하므로 본 발명에서는 실리콘용액의 바람직한 희석비율을 아래와 같이 제시한다.
실리콘 고형분 100 질량부에 대하여, 희석제 톨루엔(Toluene) 120~150 질량부, 희석제 메틸에틸케톤(MEK, Methyl Ethyl Ketone) 30~85 질량부, 및 경화제(촉매) 5~25 질량부로 구성된다.
실리콘 고형분 대비 희석제의 비율이 너무 높을 경우 안정된 패턴을 얻을 수 없고, 희석제의 비율이 너무 낮을 경우 실리콘 용액의 점도가 지나치게 높아지므로 바람직하지 않다.
더욱 바람직하게는 실리콘 고형분 100 질량부에 대하여, 희석제 톨루엔(Toluene) 130~143 질량부, 희석제 메틸에틸케톤(MEK, Methyl Ethyl Ketone) 35~50 질량부, 및 경화제(촉매) 9~20 질량부로 구성된 실리콘 용액을 사용한다.
상기 경화제는 실리콘고형분을 경화시켜 실리콘패턴층을 형성하기 위한 것으로 아민계 화합물, 이미다졸계 화합물, 페놀계 화합물, 인계 화합물, 산무수물계 화합물, 이소시아네이트 화합물, 에폭시 화합물, 아지리딘 화합물 및 금속 킬레이트 화합물로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상일 수 있으나, 이에 한정하지 않는다.
실리콘고형분 100 질량부 대비, 경화제의 질량부가 9 이하인 경우 건조단계에서 실리콘패턴층이 제대로 굳지 않아 패턴이 형성되지 않게 되고, 20 이상인 경우 제조과정에서 실리콘용액 자체가 굳어버릴 수 있기 때문에 바람직하지 않다.
도 6은 주행하는 베이스필름과 회전하는 실리콘패턴형성롤러의 관계를 나타낸 도면이다.
베이스필름(10)의 주행속도(W2)를 100이라 할 때, 실리콘패턴형성롤러(100)의 회전속도(W1)는 105~115의 속도를 갖도록 설정하게 되면 실리콘패턴층은 도 3과 같은 일정한 줄무늬(stripe) 패턴을 갖게 된다.
바람직하게는, 베이스필름의 주행속도를 40mpm(meter per minute)으로 설정하고, 실리콘패턴형성롤러의 회전속도를 44mpm 정도로 설정하면 도 3과 같은 일정한 줄무늬 패턴을 얻을 수 있다.
다만, 이는 줄무늬 패턴이 이형필름 부착시 기포발생을 방지하기 위해 가장 많이 사용되는 패턴이며 박리성 측면에서도 우수한 성능을 보이기 때문에 줄무늬 패턴을 가장 안정하게 형성할 수 있는 속도를 제시하는 것이며, 그 패턴 형태를 달리하고자 하는 경우에는 실리콘패턴형성롤러의 회전속도를 달리함으로써 변형가능하다.
즉, 베이스필름의 주행속도(W2)와 실리콘패턴형성롤러(W1)의 회전속도를 1:1로 할 경우 도 5에 도시된 격자모양의 셀(101)의 모양이 실리콘패턴층에 그대로 전이될 것이다.
따라서 베이스필름의 주행속도(W2) 100 대비, 실리콘패턴형성롤러의 회전속도(W1)는 90~130까지 필요사양에 따라 변경 가능할 것이다.
다만, 실리콘패턴형성롤러의 회전속도가 너무 느릴 경우 도포되는 실리콘 용액이 누적되어 뭉침현상이 발생할 수 있고, 회전속도가 너무 빠를 경우 적절한 패턴(엠보싱)이 형성되지 않게 되므로 바람직하지 않다.
(c) 실리콘패턴층이 형성된 이형필름을 건조하는 단계
상기 실리콘패턴층이 형성된 이형필름을 제조장치 내 다수의 롤을 주행하는 동안 160~180℃의 온도에서 1~20분의 시간으로 건조함으로써 (b) 단계에서 형성된 실리콘패턴층의 희석제는 휘발성으로 인해 제거되고 경화제에 의해 굳어진 실리콘고형분만 남게 되어 실리콘패턴층을 형성하게 된다.
건조 온도가 160℃ 이하인 경우 희석제가 제대로 휘발하지 않게 되며, 180℃ 이상인 경우 필름의 변형을 가져올 수 있다.
건조 시간은 주행 속도 및 실리콘 용액 조성비에 따라 달라질 수 있으나, 1분 이하로 너무 짧을 경우 희석제가 남아있게 되어 실리콘패턴층이 제대로 굳지 않게 되고, 20분 이상으로 너무 길 경우 고온으로 인해 필름이 변형될 수 있다.
본 발명은 다음과 같은 효과를 발휘한다.
실리콘 고형분과 희석제를 포함하는 실리콘 용액으로 코팅함과 동시에 표면에 패턴을 형성하는 구성으로 인해, 패턴 형성 단계와 실리콘 코팅 단계를 하나의 단계로 결합하여 필름 제작 속도를 향상시킬 수 있고, 별도의 패턴 성형 장치나 패턴 잉크가 필요없게 되어 제작 비용 또한 절감되며, 미세한 패턴과 질감을 가지면서 박리성 및 내열강도도 우수한 양질의 이형필름을 제조할 수 있는 장점이 있다.
이상에서 설명한 본 발명은 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것은 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경 가능함은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어서 명백할 것이다.
10 : 베이스필름
20 : 실리콘패턴층
100 : 실리콘패턴형성롤러

Claims (3)

  1. 베이스필름 일면을 코로나 방전처리하는 단계(a);
    상기 코로나 방전처리된 면에 실리콘패턴층을 형성하는 단계(b);
    상기 실리콘패턴층이 형성된 이형필름을 건조하는 단계(c)를 포함하되,

    상기 (a) 단계의 상기 베이스필름은
    두께 50~75μm의 PET 또는 PETG 수지이며,

    상기 (b) 단계는
    상측 일부에 베이스필름의 방전처리된 면이 접촉된 상태로 회전하는 실리콘패턴형성롤러 하측 일부를 실리콘용액에 침지하여 회전하는 실리콘패턴형성롤러의 표면에 실리콘 용액이 도포되도록 하는 단계(b-1),
    용액에 침지되는 부분에서 베이스필름과 닿는 부분까지 회전하는 실리콘패턴형성롤러의 일측에 롤러 표면과 소정 간격을 두고 형성된 용액두께조절부에 의해 실리콘패턴형성롤러의 표면에 도포된 실리콘 용액의 두께를 일정하게 조절하는 단계(b-2),
    방전처리된 면과 두께 조절된 실리콘 용액이 접촉하여 베이스필름에 실리콘패턴층을 형성하는 단계(b-3)를 포함하여 구성되되,
    실리콘패턴형성롤러의 표면에 패턴을 형성하기 위한 격자모양의 셀(101)이 형성됨을 특징으로 하며,

    상기 (b-1) 단계의 실리콘 용액은
    실리콘 고형분, 희석제 및 경화제를 포함하되,
    실리콘 고형분 100 질량부에 대하여, 희석제로서 톨루엔 130~143 질량부, 희석제로서 메틸에틸케톤 35~50 질량부, 및 경화제 9~20 질량부로 구성되고,

    상기 (b-3) 단계에서 서리콘패턴형성롤러의 회전속도(W1)는,
    실리콘패턴층이 줄무늬(stripe) 패턴을 갖도록 베이스필름의 주행속도(W2) 100 대비 105~115의 속도로 회전함을 특징으로 하며,

    상기 (c) 단계는,
    상기 실리콘패턴층이 형성된 이형필름이 다수의 롤을 주행하는 동안 160~180℃의 온도에서 1~20분의 시간으로 건조함을 특징으로 하는
    실리콘패턴층이 형성된 이형필름 제조방법.
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