KR101690246B1 - Wire sawing apparatus - Google Patents

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Abstract

실시 예의 와이어 쏘잉 장치는 잉곳을 절단하는 와이어와, 잉곳을 와이어로 운송하는 잉곳 운송부와, 와이어에 슬러리를 공급하는 노즐 및 와이어에 의해 쏘잉되는 잉곳의 상측부에 배치되어, 와이어에 의해 절단되는 잉곳의 측면으로부터 비산하는 슬러리 중 적어도 일부를 흡수하는 비산 슬러리 차단부를 포함한다.The wire sawing apparatus of the embodiment is arranged at the upper side of the ingot which is cut by the wire cutting the ingot, the ingot transporting part for transporting the ingot by wire, the nozzle for supplying the slurry to the wire, and the wire, And a scattering slurry blocking portion for absorbing at least a part of the slurry scattering from the side surface of the ingot.

Description

와이어 쏘잉 장치{Wire sawing apparatus}[0001] The present invention relates to a wire sawing apparatus,

실시 예는 와이어 쏘잉 장치에 관한 것이다.An embodiment relates to a wire sawing apparatus.

단결정 실리콘 잉곳으로부터 웨이퍼를 획득하기 위해, 와이어(wire)를 이용하여 잉곳을 쏘잉(sawing)하는 와이어 쏘잉 장치가 있다. 기존의 와이어 쏘잉 장치는 슬러리(slurry)를 와이어에 공급하면서 와이어를 고속으로 주행시켜 잉곳을 쏘잉하여 원하는 형상의 웨이퍼를 획득한다.In order to obtain a wafer from a single crystal silicon ingot, there is a wire sawing apparatus that uses a wire to saw the ingot. Conventional wire sawing apparatuses feed a slurry to a wire while running the wire at a high speed to produce an ingot, thereby obtaining a wafer of a desired shape.

그러나, 잉곳이 쏘잉되기 시작하는 초기에 잉곳과 와이어가 접하는 부위로부터 비산되는 슬러리는 자유 낙하하지만, 초기 이후의 중반부터 잉곳과 와이어가 접하는 부위로부터 비산되는 슬러리는 자유 낙하하지 않고 잉곳의 쏘잉에 악영향을 끼쳐 높은 와프(warp)를 유발하는 문제점을 갖는다. 와프는 반도체 웨이퍼의 절단에 있어서, 중요한 품질 중 하나이며, 제품의 품질 요구가 높아짐에 따라 더 저감될 것이 요구되고 있다.However, the slurry scattered from the portion where the ingot and the wire are in contact initially falls at the initial stage of starting the ingot, but the slurry scattered from the portion where the ingot and the wire are in contact with each other from the mid- Thereby causing a high warp. Wafers are one of the important qualities in cutting semiconductor wafers and are required to be further reduced as the quality requirements of the products increase.

실시 예는 와프가 개선된 와이어 쏘잉 장치를 제공한다.The embodiment provides a wire-sawing apparatus with improved warps.

실시 예에 의한 와이어 쏘잉 장치는, 잉곳을 절단하는 와이어; 상기 잉곳을 상기 와이어로 운송하는 잉곳 운송부; 상기 와이어에 슬러리를 공급하는 노즐; 및 상기 와이어에 의해 쏘잉되는 상기 잉곳의 상측부에 배치되어, 상기 와이어에 의해 절단되는 상기 잉곳의 측면으로부터 비산하는 슬러리 중 적어도 일부를 흡수하는 비산 슬러리 차단부를 포함할 수 있다.The wire sawing apparatus according to the embodiment includes a wire cutting the ingot; An ingot conveying part for conveying the ingot by the wire; A nozzle for supplying slurry to the wire; And a scattering slurry blocking portion disposed at an upper side of the ingot to be cut by the wire and absorbing at least a part of the slurry scattering from the side of the ingot cut by the wire.

상기 비산 슬러리 차단부는 상기 비산된 슬러리를 흡수하는 매쉬(mesh) 구조를 가질 수 있다.The scattering slurry blocking portion may have a mesh structure for absorbing the scattered slurry.

상기 비산 슬러리 차단부는 상기 잉곳 운송부를 지지하는 지지면에 부착된 상부; 상기 비산된 슬러리를 흡수하는 적어도 하나의 메쉬 플레이트를 포함하는 하부; 및 상기 상부와 상기 하부 사이에 측부를 포함할 수 있다.The scattering slurry blocking portion includes: an upper portion attached to a supporting surface for supporting the ingot conveying portion; A lower portion comprising at least one mesh plate for absorbing the scattered slurry; And a side portion between the upper portion and the lower portion.

상기 상부와 상기 측부는 나사 결합하고, 상기 하부와 상기 측부는 일체형일 수 있다.The upper portion and the side portion may be screwed, and the lower portion and the side portion may be integral.

상기 비산 슬러리 차단부는 상기 상부, 상기 측부 및 상기 하부에 의해 정의되고 상기 비산된 슬러리를 저장하는 슬러리 수용 공간을 포함하고, 상기 슬러리 수용 공간으로 상기 비산된 슬러리의 유입을 허용하는 개구를 사이에 두고, 상기 비산 슬러리 차단부의 하부는 상기 잉곳과 이격될 수 있다.Wherein the scattering slurry blocking portion includes a slurry containing space defined by the upper portion, the side portion, and the lower portion and storing the scattered slurry, and an opening for allowing the flow of the scattered slurry into the slurry receiving space , And the lower part of the scattering slurry barrier may be spaced apart from the ingot.

상기 하부의 버텀과 상기 잉곳의 탑 간의 이격 거리는 1 ㎝ 내지 2 ㎝일 수 있다.The distance between the lower bottom and the ingot tower may be 1 cm to 2 cm.

상기 비산 슬러리 차단부는 상기 슬러리 수용 공간에 저장된 슬러리를 상기 와이어가 운동하는 방향과 직교하는 방향으로 배출하는 배출구를 더 포함할 수 있다.The scattering slurry barrier may further include an outlet for discharging the slurry stored in the slurry containing space in a direction perpendicular to a direction in which the wire moves.

상기 적어도 하나의 메쉬 플레이트는 서로 적층된 복수의 메쉬 플레이트를 포함하고, 상기 복수의 메쉬 플레이트의 오프닝의 크기는 상기 와이어로부터 멀어질수록 작아질 수 있다.The at least one mesh plate includes a plurality of mesh plates laminated to each other, and the size of the opening of the plurality of mesh plates may become smaller as they are away from the wire.

상기 비산 슬러리 차단부는 탈부착 가능할 수 있다. 상기 비산 슬러리 차단부의 상부는 상기 지지면에 고정되고, 상기 비산 슬러리 차단부의 측부 또는 하부 중 적어도 하나는 상기 상부로부터 탈부착 가능한 형상을 가질 수 있다.The scatterer slurry barrier may be detachable. The upper portion of the scattering slurry blocking portion is fixed to the support surface, and at least one of the side portion and the lower portion of the scattering slurry blocking portion may have a shape detachable from the upper portion.

상기 비산 슬러리 차단부의 상기 하부는 상기 잉곳을 향하여 내측으로 갈수록 경사질 수 있다. 상기 하부의 경사각은 7° 내지 10°일 수 있다.The lower portion of the scattering slurry blocking portion may be inclined toward the ingot toward the ingot. The inclination angle of the lower portion may be 7 [deg.] To 10 [deg.].

상기 비산 슬러리 차단부의 버텀은 상기 와이어보다 높이 위치할 수 있다.The bottom of the scatterer slurry barrier may be located higher than the wire.

상기 비산 슬러리 차단부는 상기 와이어가 진입하는 부분과 진출하는 부분의 양쪽에 각각 배치될 수 있다.The scattering slurry blocking portion may be disposed on both of a portion where the wire enters and a portion where the wire advances.

상기 비산 슬러리 차단부는 상기 잉곳의 길이 방향으로 상기 잉곳과 나란히 배치될 수 있다.The scattering slurry blocking portion may be disposed alongside the ingot in the longitudinal direction of the ingot.

상기 잉곳 운송부는 상기 잉곳을 상기 와이어를 향해 내리는 피드 테이블; 상기 잉곳을 상기 피드 테이블에 고정시키는 홀더; 및 상기 홀더와 상기 잉곳을 연결하는 빔부를 포함할 수 있다.The ingot conveying portion includes a feed table for lowering the ingot toward the wire; A holder for fixing the ingot to the feed table; And a beam portion connecting the holder and the ingot.

상기 와이어 쏘잉 장치는 상기 와이어를 감고 상기 와이어를 안내하는 홈을 갖는 와이어 롤러; 상기 노즐로 공급되는 슬러리를 수용하는 슬러리 탱크; 상기 노즐로부터 출사되어 상기 잉곳의 쏘잉에 사용된 슬러리를 수용하는 슬러리 배스; 상기 곳을 쏘잉할 와이어를 감는 제1 보빈; 상기 잉곳을 쏘잉한 와이어를 감는 제2 보빈; 및 상기 와이어의 진행 경로를 변경하는 적어도 하나의 풀리를 더 포함할 수 있다.Wherein the wire sawing device comprises: a wire roller having a groove winding the wire and guiding the wire; A slurry tank for containing a slurry supplied to the nozzle; A slurry bath which is discharged from the nozzle and accommodates a slurry used for shaping the ingot; A first bobbin for winding a wire to be formed thereon; A second bobbin wound around the ingot-forming wire; And at least one pulley for changing the traveling path of the wire.

실시 예에 의한 와이어 쏘잉 장치는 비산되는 슬러리의 재유입에 의한 잉곳 과냉각을 최소화하여 웨이퍼의 와프를 개선시킬 수 있다.The wire sawing apparatus according to the embodiment can improve the warp of the wafer by minimizing the supercooling degree of the ingot by re-entering the scattered slurry.

도 1은 일 실시 예에 의한 와이어 쏘잉 장치의 사시도를 나타낸다.
도 2는 도 1에 도시된 잉곳 운송부 및 비산 슬러리 차단부 각각의 일 실시 예를 설명하기 위한 단면도이다.
도 3은 도 2에 도시된 잉곳과 비산 슬러리 차단부의 하부만의 저면도를 나타낸다.
도 4는 도 2에 도시된 비산 슬러리 차단부의 하부의 예시적인 분해 사시도를 나타낸다.
도 5는 슬러리의 점도에 따른 복수의 메쉬 플레이트 각각에서 단위 인치당 포함된 오프닝의 개수를 설명하기 위한 그래프이다.
도 6은 도 1에 도시된 비산 슬러리 차단부의 다른 실시 예를 설명하기 위한 단면도를 나타낸다.
도 7은 도 6에 도시된 비산 슬러리 차단부의 분해 사시도를 나타낸다.
도 8은 도 1에 도시된 비산 슬러리 차단부의 또 다른 실시 예의 사진을 나타낸다.
도 9는 도 1에 도시된 비산 슬러리 차단부의 사시도를 나타낸다.
도 10은 와이어에 의해 쏘잉될 잉곳과 잉곳 운반부의 단면도를 나타낸다.
도 11a 내지 도 11c는 잉곳이 쏘잉되는 부분이 증가함에 따라 슬러리가 비산되는 모습을 나타낸다.
도 12는 경사각별 슬러리의 포집 능력을 나타내는 그래프이다.
도 13a는 비산 슬러리 차단부를 갖지 않은 제1 비교 례에 의한 와이어 쏘잉 장치의 단면도를 나타내고, 도 13b는 메쉬 구조를 갖지 않은 비산 슬러리 차단부를 갖는 제2 비교 례에 의한 와이어 쏘잉 장치의 단면도를 나타내고, 도 13c는 메쉬 구조를 갖는 비산 슬러리 차단부를 갖는 실시 예에 의한 와이어 쏘잉 장치의 단면도를 나타낸다.
도 14 내지 도 17은 제1 및 제2 비교 례 및 실시 예에 의한 와이어 쏘잉 장치에서 와프를 비교하여 나타내는 그래프이다.
도 14는 제1 비교 례에 의한 와이어 쏘잉 장치에서 와프를 나타내는 그래프이다.
도 15 및 도 16 각각은 제2 비교 례에 의한 와이어 쏘잉 장치에서 와프를 나타내는 그래프이다.
도 17은 실시 예에 의한 와이어 쏘잉 장치에서 와프를 나타내는 그래프이다.1 is a perspective view of a wire sawing apparatus according to an embodiment.
2 is a cross-sectional view illustrating one embodiment of each of the ingot conveying portion and the scattering slurry blocking portion shown in FIG.
Fig. 3 shows a bottom view of only the lower part of the ingot and scattering slurry blocking part shown in Fig. 2;
4 shows an exploded perspective view of the lower portion of the scatterer slurry barrier shown in FIG. 2. FIG.
5 is a graph for explaining the number of openings included per unit inch in each of a plurality of mesh plates depending on the viscosity of the slurry.
FIG. 6 is a cross-sectional view for explaining another embodiment of the scattering slurry blocking portion shown in FIG. 1. FIG.
7 is an exploded perspective view of the scattering slurry blocking portion shown in Fig.
8 shows a photograph of another embodiment of the scatterer slurry block shown in Fig.
FIG. 9 is a perspective view of the scattering slurry blocking portion shown in FIG. 1. FIG.
10 shows a cross-sectional view of an ingot and an ingot carrier to be squeezed by a wire.
11A to 11C show that the slurry is scattered as the portion where the ingot is formed is increased.
12 is a graph showing the trapping ability of the slurry by the inclination angle.
13A is a cross-sectional view of a wire sawing apparatus according to a first comparative example having no scattered slurry blocking portion, and FIG. 13B is a cross-sectional view of a wire sawing apparatus according to a second comparative example having a scattering slurry blocking portion having no mesh structure, 13C shows a cross-sectional view of a wire sawing device according to an embodiment having a scattered slurry blocking portion having a mesh structure.
Figs. 14 to 17 are graphs comparing wafers in the wire sawing apparatuses according to the first and second comparative examples and the embodiment. Fig.
14 is a graph showing a warp in a wire sawing apparatus according to the first comparative example.
15 and 16, respectively, are graphs showing warps in the wire sawing apparatus according to the second comparative example.
17 is a graph showing warps in the wire sawing apparatus according to the embodiment.

이하, 본 발명을 구체적으로 설명하기 위해 실시 예를 들어 설명하고, 발명에 대한 이해를 돕기 위해 첨부도면을 참조하여 상세하게 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명에 따른 실시 예들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시 예들에 한정되는 것으로 해석되지 않아야 한다. 본 발명의 실시 예들은 당 업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings in order to facilitate understanding of the present invention. However, the embodiments according to the present invention can be modified into various other forms, and the scope of the present invention should not be construed as being limited to the embodiments described below. Embodiments of the invention are provided to more fully describe the present invention to those skilled in the art.

본 발명에 따른 실시 예의 설명에 있어서, 각 element의 " 상(위)" 또는 "하(아래)(on or under)"에 형성되는 것으로 기재되는 경우에 있어, 상(위) 또는 하(아래)(on or under)는 두개의 element가 서로 직접(directly)접촉되거나 하나 이상의 다른 element가 상기 두 element사이에 배치되어(indirectly) 형성되는 것을 모두 포함한다. 또한 “상(위)" 또는 "하(아래)(on or under)”로 표현되는 경우 하나의 element를 기준으로 위쪽 방향뿐만 아니라 아래쪽 방향의 의미도 포함할 수 있다.In the description of the embodiment according to the present invention, in the case of being described as being formed on the "upper" or "on or under" of each element, on or under includes both elements being directly contacted with each other or one or more other elements being indirectly formed between the two elements. Also, when expressed as "on" or "on or under", it may include not only an upward direction but also a downward direction with respect to one element.

또한, 이하에서 이용되는 "제1" 및 "제2," "상부" 및 "하부" 등과 같은 관계적 용어들은, 그런 실체 또는 요소들 간의 어떠한 물리적 또는 논리적 관계 또는 순서를 반드시 요구하거나 내포하지는 않으면서, 어느 한 실체 또는 요소를 다른 실체 또는 요소와 구별하기 위해서만 이용될 수도 있다.It is also to be understood that the terms "first" and "second", "upper" and "lower", etc., as used below, do not necessarily imply or imply any physical or logical relationship or order between such entities or elements And may be used only to distinguish one entity or element from another entity or element.

도 1은 일 실시 예에 의한 와이어(wire) 쏘잉(sawing) 장치(100)의 사시도를 나타낸다.Figure 1 shows a perspective view of a wire sawing device 100 according to one embodiment.

도 1을 참조하면, 실시 예에 의한 와이어 쏘잉 장치(100)는 와이어(112, 114)(W)(도 1에서는 112와 114가 W에 해당함), 잉곳 운송부(120), 노즐(132, 134), 배관(136, 172), 비산 슬러리(S:slurry) 차단부(140), 와이어 롤러(roller)(152, 154), 슬러리 탱크(160), 교반기(agitator)(162), 슬러리 배스(bath)(170), 제1 및 제2 보빈(bobbin)(182, 184) 및 풀리(pulley)(191, 192, 193, 194, 195)를 포함할 수 있다.1, the wire sawing apparatus 100 according to the embodiment includes wires 112 and 114 (W) (112 and 114 correspond to W in FIG. 1), an ingot conveying part 120, nozzles 132, 134, piping 136, 172, a slurry blocking portion 140, wire rollers 152, 154, a slurry tank 160, an agitator 162, first and second bobbins 182 and 184 and pulleys 191, 192, 193, 194, and 195. In this embodiment,

잉곳(I)은 와이어(W)에 의해 웨이퍼 형태로 절단될 수 있다. 와이어(W, 112, 114)는 탄소강일 수 있다.The ingot (I) can be cut into a wafer form by the wire (W). The wires (W, 112, 114) may be carbon steel.

잉곳 운송부(120)는 잉곳(I)을 와이어(W)를 향해 운송하는 역할을 한다.The ingot transporting part 120 serves to transport the ingot I toward the wire W.

도 2는 도 1에 도시된 잉곳 운송부(120) 및 비산 슬러리 차단부(140) 각각의 일 실시 예를 설명하기 위한 단면도이다.2 is a cross-sectional view illustrating one embodiment of each of the ingot conveying unit 120 and the scatterer slurry shutoff unit 140 shown in FIG.

도 2를 참조하면, 잉곳 운송부(120)는 피드 테이블(feed table)(122), 홀더(holder)(124) 및 빔(beam)부(126)를 포함할 수 있다.2, the ingot conveying portion 120 may include a feed table 122, a holder 124, and a beam portion 126. [

피드 테이블(122)은 잉곳(I)을 와이어(W)를 향해 하강시킬 수 있다. 피드 테이블(122)은 홀더(124)를 가압하여 잉곳(I)을 와이어(W)를 향해 운반하는 역할을 한다. 즉, 피드 테이블(122)은 잉곳(I)의 전체 지름(R)이 모두 쏘잉될 수 있도록 잉곳(I)을 와이어(W)를 향해 내릴 수 있다.The feed table 122 can lower the ingot I toward the wire W. [ The feed table 122 serves to press the holder 124 and to carry the ingot I toward the wire W. [ That is, the feed table 122 can lower the ingot I toward the wire W so that the entire diameter R of the ingot I can be all sewn.

홀더(124)는 잉곳(I)을 피드 테이블(122)에 고정시키는 역할을 한다. 예를 들어 집게 방식에 의하면, 피드 테이블(122)은 집게의 역할을 하고, 홀더(124)는 집게에 의해 잡히는 부분일 수 있다. 예를 들어, 홀더(124)의 재질은 CaCO3일 수 있으나, 실시 예는 홀더(124)의 재질에 국한되지 않는다.The holder 124 serves to fix the ingot I to the feed table 122. For example, according to the gripping method, the feed table 122 serves as a gripper, and the holder 124 may be a portion gripped by the gripper. For example, the material of the holder 124 may be CaCO 3 , but the embodiment is not limited to the material of the holder 124.

빔부(126)는 홀더(124)와 잉곳(I)을 연결하는 역할을 한다.The beam portion 126 serves to connect the holder 124 and the ingot I.

다시, 도 1을 참조하면 노즐(132, 134)은 와이어(W)에 슬러리(S)를 공급하는 역할을 한다. 이를 위해, 노즐(132, 134)은 와이어 롤러(152, 154) 및 와이어(W) 근방에 설치될 수 있다.Referring again to FIG. 1, the nozzles 132 and 134 serve to supply the slurry S to the wires W. For this, the nozzles 132 and 134 may be installed near the wire rollers 152 and 154 and the wire W. [

예를 들어, 슬러리 탱크(160)에 저장되 슬러리(S)는 배관(136)을 통해 노즐(132, 134)로 각각 공급되고, 노즐(132, 134)은 공급된 슬러리(S)를 와이어(W)를 향해 분사하는 역할을 한다.For example, the slurry S stored in the slurry tank 160 is supplied to the nozzles 132 and 134 through the pipe 136, respectively, and the nozzles 132 and 134 supply the slurry S supplied thereto W).

와이어 롤러(152, 154)는 와이어(W)를 감고 와이어(W)를 안내하는 홈을 가지며, 와이어(W)를 회전시키는 역할을 한다. 와이어 롤러(152, 154)는 철강제 원통의 주위에 폴리우레탄 수지를 도포하고, 그 표면에 일정한 피치로 홈을 만들어 구현될 수 있다.The wire rollers 152 and 154 have grooves for winding the wire W and guiding the wire W and serve to rotate the wire W. [ The wire rollers 152 and 154 can be realized by applying a polyurethane resin around the steel cylinder and forming grooves with a constant pitch on the surface thereof.

슬러리 탱크(160)는 노즐(132, 134)로 공급될 슬러리(S)를 수용하는 역할을 한다. 교반기(162)는 슬러리 탱크(160)에 담긴 슬러리(S)가 고상화되지 않도록 휘젓는 역할을 한다.The slurry tank 160 serves to receive the slurry S to be supplied to the nozzles 132 and 134. The stirrer 162 stirs the slurry S contained in the slurry tank 160 so that the slurry S is not solidified.

슬러리 배스(170)는 노즐(132, 134)로부터 출사되어 잉곳(I)을 쏘잉할 때 사용된 슬러리(S)를 수용하는 역할을 한다. 슬러리 배스(170)에 수용된 슬러리(S)는 배관(172)을 통해 슬러리 탱크(160)에 수용됨으로써 재활용될 수 있으나, 실시 예는 이에 국한되지 않는다.The slurry bath 170 serves to receive the slurry S used for sawing the ingot I emitted from the nozzles 132 and 134. The slurry S contained in the slurry bath 170 may be recycled by being accommodated in the slurry tank 160 through the pipe 172, but the embodiment is not limited thereto.

제1 보빈(182)은 잉곳(I)을 쏘잉할 새로운 와이어(112)를 감는 역할을 하고, 제2 보빈(184)은 잉곳(I)을 쏘잉한 헌 와이어(114)를 감는 역할을 한다.The first bobbin 182 serves to wind a new wire 112 to be used for cutting the ingot I and the second bobbin 184 serves to wind the old wire 114 that is used to cut the ingot I.

풀리(191 내지 195)는 와이어(112, 114)의 진행 경로를 변경하는 역할을 한다.The pulleys 191 to 195 serve to change the traveling path of the wires 112 and 114.

한편, 비산 슬러리 차단부(140)는 와이어(W)에 의해 쏘잉되는 잉곳(I)의 측부에 배치되어, 와이어(W)에 의해 절단되는 잉곳(I)의 측면으로부터 비산하는 슬러리 중 적어도 일부를 흡수할 수 있다. 이를 위해, 비산 슬러리 차단부(140)는 비산된 슬러리(S)를 흡수하기 위해 매쉬(mesh) 구조를 가질 수 있다.On the other hand, the scattered slurry blocking portion 140 is disposed on the side of the ingot I by the wire W so that at least a part of the slurry scattering from the side of the ingot I cut by the wire W Can be absorbed. For this purpose, the non-acidic slurry blocking portion 140 may have a mesh structure to absorb the scattered slurry S.

이러한 비산 슬러리 차단부(140)는 도 1에 도시된 와이어 쏘잉 장치(100)와 다른 구조를 갖는 와이어 쏘잉 장치에도 적용될 수 있다. 즉, 슬러리(S)를 와이어(W)에 공급하고 와이어(W)에 의해 잉곳(I)이 쏘잉되는 구조를 갖는 어떠한 구성을 갖는 와이어 쏘잉 장치에도, 실시 예에 의한 비산 슬러리 차단부(140)는 적용될 수 있다.The scattering slurry blocking unit 140 may be applied to a wire sawing apparatus having a structure different from that of the wire sawing apparatus 100 shown in FIG. That is, even in the wire sawing apparatus having any structure having the structure in which the slurry S is supplied to the wire W and the ingot I is stapled by the wire W, the scattering slurry blocking unit 140 according to the embodiment, Can be applied.

도 3은 도 2에 도시된 잉곳(I)과 비산 슬러리 차단부(140A)의 하부(146A)만의 저면도를 나타낸다. 3 shows a bottom view of only the lower portion 146A of the ingot (I) and the slurry scattering portion 140A shown in Fig.

도 3을 참조하면, 도 1 및 도 2에 도시된 비산 슬러리 차단부(140, 140A)의 제1 및 제2 하부(146A-1, 146A-2)는 메쉬 형태를 가짐을 알 수 있다. 여기서, 제1 하부(146A-1)는 도 1 및 도 2에 도시된 잉곳(I)의 좌측에 배치된 비산 슬러리 차단부(140, 140A)의 하부에 해당하고, 제2 하부(146A-2)는 도 1 및 도 2에 도시된 잉곳(I)의 우측에 배치된 비산 슬러리 차단부(140, 140A)의 하부에 해당한다.Referring to FIG. 3, the first and second lower portions 146A-1 and 146A-2 of the scattering slurry blocking portions 140 and 140A shown in FIGS. 1 and 2 have a mesh shape. Here, the first lower portion 146A-1 corresponds to the lower portion of the scattered slurry blocking portion 140, 140A disposed on the left side of the ingot I shown in Figs. 1 and 2, and the lower portion 146A-2 Corresponds to a lower portion of the scattering slurry blocking portions 140 and 140A disposed on the right side of the ingot I shown in Figs.

또한, 도 1 및 도 2에 도시된 비산 슬러리 차단부(140, 140A)는 잉곳(I)의 길이 방향(예를 들어 y축 방향)으로 배치될 수 있다. 왜냐하면, 와이어(W)가 잉곳(I)을 쏘잉하는 동안, 슬러리(S)는 잉곳(I)의 길이 방향으로 비산되기 때문이다.The scattering slurry blocking portions 140 and 140A shown in FIGS. 1 and 2 may be disposed in the longitudinal direction (for example, the y-axis direction) of the ingot I. This is because the slurry S is scattered in the longitudinal direction of the ingot I while the wire W shoots the ingot I.

다시 도 2를 참조하면, 비산 슬러리 차단부(140A)는 상부(142A), 측부(144A) 및 하부(146A)를 포함할 수 있다.Referring again to FIG. 2, the scatterer slurry shutoff portion 140A may include an upper portion 142A, a side portion 144A, and a lower portion 146A.

비산 슬러리 차단부(140A)의 상부(142A)는 잉곳 운송부(120)를 지지하는 지지면(122A)에 부착될 수 있다. 도 2의 경우 상부(142A)가 부착된 지지면은 피드 테이블(122)의 저면(122A)인 것으로 예시되어 있으나, 실시 예는 이에 국한되지 않는다. 즉, 상부(142A)는 피드 테이블(122)이 아닌 다른 구조물에 부착될 수도 있다.The upper portion 142A of the scatterer slurry blocking portion 140A may be attached to the support surface 122A that supports the ingot conveying portion 120. [ 2, the supporting surface to which the upper portion 142A is attached is illustrated as the bottom surface 122A of the feed table 122, but the embodiment is not limited to this. That is, upper portion 142A may be attached to a structure other than feed table 122.

비산 슬러리 차단부(140A)의 측부(144A)는 상부(142A)와 하부(146A) 사이에 위치한다. 이때, 도 2에 예시된 바와 같이, 상부(142A)와 측부(144A)가 별개로 구분되어 있을 경우, 상부(142A)와 측부(144A)는 나사와 같은 결합 부재(148)에 의해 나사 결합할 수 있다. 또한, 상부(142A)와 측부(144A)와 같이 하부(146A)와 측부(144A)는 별개로 구현될 수도 있고 도 2에 예시된 바와 같이 일체형으로 구현될 수도 있다.The side 144A of the scatterer slurry blocking portion 140A is positioned between the upper portion 142A and the lower portion 146A. 2, when the upper portion 142A and the side portion 144A are separated from each other, the upper portion 142A and the side portion 144A are screwed together by a coupling member 148 such as a screw . In addition, the lower portion 146A and the side portion 144A, such as the upper portion 142A and the side portion 144A, may be implemented separately or integrally, as illustrated in FIG.

또한, 비산 슬러리 차단부(140A)는 비산된 슬러리(S)를 저장하는 슬러리 수용 공간(143)을 포함할 수 있다. 슬러리 수용 공간(143)은 상부(142A), 측부(144A) 및 하부(146A)에 의해 정의될 수 있다.In addition, the non-acid slurry blocking portion 140A may include a slurry containing space 143 for storing the slurry S scattered. The slurry receiving space 143 can be defined by an upper portion 142A, a side portion 144A, and a lower portion 146A.

또한, 비산된 슬러리(S)가 슬러리 수용 공간(143)으로 유입되도록 허용하는 개구(OP)가 존재하도록, 비산 슬러리 차단부(140A)의 하부(146A)는 잉곳(I)과 이격되어 배치될 수 있다. 즉, 비산된 슬러리가 슬러리 수용 공간(143)으로 유입되기 위해서는 개구(OP)가 확보되어야 한다.The lower portion 146A of the scatterer slurry blocking portion 140A is disposed apart from the ingot I such that there is an opening OP allowing the scattered slurry S to flow into the slurry containing space 143 . That is, in order for the scattered slurry to flow into the slurry containing space 143, an opening OP must be secured.

또한, 비산 슬러리 차단부(140A)의 하부(146A)는 비산된 슬러리(S)를 흡수하는 적어도 하나의 메쉬(mesh) 플레이트(plate)를 포함할 수 있다. 즉, 비산된 슬러리(S)를 흡수하는 메쉬 구조는 플레이트 형태로 구현될 수 있다.In addition, the lower portion 146A of the non-acid slurry blocking portion 140A may include at least one mesh plate that absorbs the scattered slurry S. [ That is, the mesh structure for absorbing the scattered slurry S may be realized in the form of a plate.

도 4는 도 2에 도시된 비산 슬러리 차단부(140A)의 하부의 예시적인 분해 사시도를 나타낸다.4 shows an exemplary exploded perspective view of the lower portion of the scattered slurry blocking portion 140A shown in Fig.

도 2에 도시되지는 않았지만, 비산 슬러리 차단부(140A)의 하부(146A)는 도 4에 예시된 바와 같이 제1 내지 제3 메쉬 플레이트(146AA, 146AB, 146AC)를 포함할 수 있다. 여기서, 도 4의 경우 제1 내지 제3 메쉬 플레이트(146AA, 146AB, 146AC)만이 도시되어 있지만, 실시 예는 이에 국한되지 않는다. 즉, 다른 실시 예에 의하면, 비산 슬러리 차단부(140A)의 하부(146A)는 2개 또는 4개 이상의 메쉬 플레이트를 포함할 수도 있다.2, the lower portion 146A of the non-acid slurry blocking portion 140A may include first to third mesh plates 146AA, 146AB, and 146AC as illustrated in FIG. 4, only the first to third mesh plates 146AA, 146AB, and 146AC are shown, but the embodiment is not limited thereto. That is, according to another embodiment, the lower portion 146A of the non-acid slurry blocking portion 140A may include two or four or more mesh plates.

제1 내지 제3 메쉬 플레이트(146AA, 146AB, 146AC)는 수직 방향 즉, 잉곳 운송부(120)가 잉곳(I)을 와이어(W)로 운반하는 “‡향인 z축 방향으로 서로 적층되어 배치될 수 있다.The first to third mesh plates 146AA, 146AB and 146AC are arranged in the vertical direction, that is, the ingot conveying portions 120 are stacked and stacked on each other in the direction of the " ovidirectional axis " .

도 4의 경우 제1 내지 제3 메쉬 플레이트(146AA, 146AB, 146AC) 각각은 메쉬 구조를 갖는 것으로 예시되어 있지만, 실시 예는 이에 국한되지 않는다. 즉, 다른 실시 예에 의하면 제1 내지 제3 메쉬 플레이트(146AA, 146AB, 146AC) 중 일부만이 메쉬 구조를 가질 수도 있다.In the case of Fig. 4, each of the first to third mesh plates 146AA, 146AB, 146AC is illustrated as having a mesh structure, but the embodiment is not limited thereto. That is, according to another embodiment, only a part of the first through third mesh plates 146AA, 146AB, 146AC may have a mesh structure.

또한, 제1 내지 제3 메쉬 플레이트(146AA, 146AB, 146AC) 각각에서 메쉬의 오프닝(opening)의 크기는 와이어(W)로부터 멀어질수록 작아질 수 있다. 예를 들어, 메쉬의 오프닝의 y축 길이가 'a'이고 메쉬의 오프닝의 x축 길이가 'b'일 경우, 메쉬의 오프닝의 크기 ab는 메쉬 플레이트(146AA, 146AB, 146AC)가 와이어(W)로부터 멀어질수록 작아질 수 있다.In addition, the size of the opening of the mesh in each of the first to third mesh plates 146AA, 146AB, and 146AC can be made smaller as the distance from the wire W is increased. For example, when the y-axis length of the opening of the mesh is 'a' and the x-axis length of the opening of the mesh is 'b', the size ab of the opening of the mesh is set so that the mesh plates 146AA, 146AB, As shown in FIG.

데카르트 좌표계를 기준으로 도 2와 도 4를 비교하면, 제1 메쉬 플레이트(146AA)가 제2 메쉬 플레이트(146AB)보다 와이어(W)에 더 가깝게 위치하고, 제2 메쉬 플레이트(146AB)는 제3 메쉬 플레이트(146AC)보다 와이어(W)에 더 가깝게 위치한다. 따라서, 와이어(W)로부터 가장 멀리 위치한 제3 메쉬 플레이트(146AC)의 오프닝의 크기가 제1 및 제2 메쉬 플레이트(146AA, 146AB) 각각의 오프닝의 크기보다 작을 수 있다. 또한, 제2 메쉬 플레이트(146AB)의 오프닝의 크기가 제1 메쉬 플레이트(146AA)의 오프닝의 크기보다 작을 수 있다.2 and FIG. 4, the first mesh plate 146AA is located closer to the wire W than the second mesh plate 146AB and the second mesh plate 146AB is located closer to the wire W than the third mesh 146AB, Is positioned closer to the wire W than the plate 146AC. Thus, the size of the opening of the third mesh plate 146AC located farthest from the wire W may be smaller than the size of the opening of each of the first and second mesh plates 146AA, 146AB. In addition, the size of the opening of the second mesh plate 146AB may be smaller than the size of the opening of the first mesh plate 146AA.

도 5는 슬러리의 점도에 따른 복수의 메쉬 플레이트 각각에서 단위 인치당 포함된 오프닝의 개수를 설명하기 위한 그래프로서, 횡축은 슬러리의 점도를 나타내고 종축은 오프닝 개수를 나타낸다.5 is a graph for explaining the number of openings included per inch in each of a plurality of mesh plates according to the viscosity of the slurry, wherein the abscissa represents the viscosity of the slurry and the ordinate represents the number of openings.

오프닝의 크기가 작을수록 일정한 면적에 포함된 오프닝의 개수는 증가한다. 즉, 도 5를 참조하면, 슬러리의 점도가 300 CP(Centi Poise)일 경우, 단위 제곱 인치당 포함되는 오프닝의 개수는 제1 메쉬 플레이트(146AA)에서 Y개이고, 제2 메쉬 플레이트(146AB)에서 2Y개이고, 제3 메쉬 플레이트(146AC)에서 4Y개일 수 있다. 여기서, Y는 35일 수 있다.As the size of the opening decreases, the number of openings included in a certain area increases. 5, when the viscosity of the slurry is 300 CP (centi-poise), the number of openings included per square inch is Y in the first mesh plate 146AA and 2Y in the second mesh plate 146AB And 4Y in the third mesh plate 146AC. Here, Y may be 35.

전술한 바와 같이, 와이어(W)로부터 멀어질수록 메쉬 플레이트의 오프닝의 크기가 작아지는 이유는, 와이어(W)에 가까울수록 슬러리가 비산되는 힘이 강하고 와이어(W)로부터 멀어질수록 슬러리가 비산되는 힘이 약하기 때문에, 제1 내지 제3 메쉬 플레이트(146AA, 146AB, 146AC)에서 좀더 효율적으로 슬러리를 흡수하도록 하기 위함이다.As described above, the reason why the size of the opening of the mesh plate becomes smaller as the distance from the wire W is smaller is as follows. The closer the wire W is to the force to scatter the slurry and the further away from the wire W, So that the first to third mesh plates 146AA, 146AB and 146AC absorb the slurry more efficiently.

또한, 다시 도 2를 참조하면, 비산 슬러리 차단부(140A)의 하부(146A)는 잉곳(I)을 향하여 내측으로 갈수록 경사진 형상을 가질 수 있다. 이와 같이, 비산 슬러리 차단부(140A)의 하부(146A)가 내측으로 경사져 있다. 즉, +x축으로 진행할수록 하부(146A)는 테이퍼를 갖는다. 이와 같이, 비산 슬러리 차단부(140A)의 하부(146A)가 경사진 형상을 가질 경우, 비산되는 슬러리가 비산 슬러리 차단부(140A)에 이해 효율적으로 차단될 수 있다.Referring again to FIG. 2, the lower portion 146A of the scatterer slurry blocking portion 140A may have an inclined shape toward the ingot toward the ingot I. Thus, the lower portion 146A of the scatterer slurry blocking portion 140A is inclined inward. That is, the lower portion 146A has a taper as it goes along the + x axis. In this manner, when the lower portion 146A of the non-acid slurry blocking portion 140A has an inclined shape, the slurry to be scattered can be effectively blocked by the non-acid slurry blocking portion 140A.

또한, 비산 슬러리 차단부(140A)의 버텀 즉, 최하위 부분은 와이어(W)의 위치보다 높이 위치할 수 있다. 왜냐하면, 와이어(W)가 잉곳(I)의 탑(IT)을 쏘잉할 때, 비산 슬러리 차단부(140A)가 와이어(W)에 접촉되어 절단되지 않도록 하기 위함이다.In addition, the bottom, that is, the lowermost portion of the scatter slurry blocking portion 140A may be positioned higher than the position of the wire W. This is because, when the wire W is stuck on the top IT of the ingot I, the scattering slurry blocking portion 140A is not contacted with the wire W to be cut.

또한, 도 1에 도시된 비산 슬러리 차단부(140)는 탈부착 가능한 형상을 가질 수 있다. 이로 인해, 비산 슬러리 차단부(140)의 메쉬 구조에 잔류하는 슬러리를 용이하게 제거할 수 있다.Also, the scattering slurry blocking portion 140 shown in FIG. 1 may have a detachable shape. This makes it possible to easily remove the slurry remaining in the mesh structure of the scattering slurry barrier 140.

도 6은 도 1에 도시된 비산 슬러리 차단부(140)의 다른 실시 예(140B)를 설명하기 위한 단면도를 나타낸다.6 is a cross-sectional view for explaining another embodiment 140B of the scatterer slurry blocking portion 140 shown in FIG.

도 6에 도시된 비산 슬러리 차단부(140B)의 상부(142B)는 지지면(122A)에 고정될 수 있다. 이때, 비산 슬러리 차단부(140B)의 측부와 하부는 일체(147)(이하, 일체부)로 형성되며, 상부(142B)로부터 탈부착 가능한 형상을 가질 수 있지만, 실시 예는 이에 국한되지 않는다.The upper portion 142B of the scattering slurry blocking portion 140B shown in FIG. 6 may be fixed to the support surface 122A. At this time, the side portion and the lower portion of the scatterer slurry blocking portion 140B may be formed as an integral body 147 (hereinafter referred to as an integral body) and may have a shape detachable from the upper portion 142B, but the embodiment is not limited thereto.

다른 실시 예에 의하면, 도 6에 예시된 바와 달리, 비산 슬러리 차단부(140B)의 측부와 하부는 서로 분리되고 도 2에 도시된 바와 같은 모습으로 연결 부재(148)에 의해 연결될 수도 있다.According to another embodiment, unlike the example illustrated in FIG. 6, the side and the bottom of the non-acid slurry blocking portion 140B may be separated from each other and connected by the connecting member 148 in the shape as shown in FIG.

도 7은 도 6에 도시된 비산 슬러리 차단부(140B)의 분해 사시도를 나타낸다.FIG. 7 is an exploded perspective view of the scattered slurry blocking portion 140B shown in FIG.

도 7을 참조하면, 상부(142B)의 탑면(142B-1)은 지지면(122A)에 부착되고, 일체부(147)는 상부(142B)에 탈부착될 수 있다. 이를 위해, 상부(142B)는 일체부(147)가 끼워져서 삽입되거나 빼내기에 적합한 형상의 홈부(H1)를 가질 수 있다. 일체부(147)가 홈부(H)에 삽입되어 상부(142B)에 부착될 수도 있고, 홈부(H)로부터 빠져나와 상부(142B)로부터 탈착될 수도 있다.7, the top surface 142B-1 of the upper portion 142B is attached to the support surface 122A, and the integral portion 147 is detachably attached to the upper portion 142B. To this end, the upper portion 142B may have a groove H1 of a shape suitable for insertion or removal by fitting the integral portion 147 thereinto. The integral portion 147 may be inserted into the groove portion H and attached to the upper portion 142B or may be detached from the upper portion 142B by coming out of the groove portion H. [

이와 같이, 비산 슬러리 차단부(140B)는 도 2에 도시된 비산 슬러리 차단부(140A)와 달리 탈부착 가능한 형상을 가짐을 제외하면, 비산 슬러리 차단부(140A)와 동일한 특성을 갖는다. 즉, 비산 슬러리 차단부(140B)의 하부는 메쉬 구조를 가질 수 있다. 또한, 비산 슬러리 차단부(140B)는 도 4에 예시된 바와 같이 복수의 메쉬 플레이트를 포함할 수도 있고, 내측으로 경사진 형상을 가질 수 있다. 따라서, 비산 슬러리 차단부(140B)에 대한 중복되는 설명을 생략한다.As described above, the non-acid slurry blocking unit 140B has the same characteristics as the non-acid slurry blocking unit 140A except that the non-acid slurry blocking unit 140B has a detachable shape unlike the non-acid slurry blocking unit 140A shown in FIG. That is, the lower portion of the scatterer slurry blocking portion 140B may have a mesh structure. In addition, the scatterer slurry blocking portion 140B may include a plurality of mesh plates as illustrated in FIG. 4, and may have an inclined shape inward. Therefore, redundant description of the scatterer slurry shutoff section 140B is omitted.

따라서, 도 6 및 도 7에 도시된 비산 슬러리 차단부(140B)의 특징은 도 2에 도시된 비산 슬러리 차단부(140A)의 특징과 동일하다.Therefore, the characteristics of the scattered slurry blocking portion 140B shown in FIGS. 6 and 7 are the same as those of the scattered slurry blocking portion 140A shown in FIG.

도 8은 도 1에 도시된 비산 슬러리 차단부(140)의 또 다른 실시 예(140C)의 사진을 나타낸다.FIG. 8 shows a photograph of another embodiment 140C of the scatterer slurry blocking portion 140 shown in FIG.

도 8을 참조하면, 비산 슬러리 차단부(140C)는 도 2에 도시된 바와 같은 상부(142A)(도 8에서는 보이지 않음), 상부(142A)와 도 2에 도시된 바와 같이 결합될 수 있는 측부(144B) 및 측부(144B)와 일체형으로 구현될 수 있는 하부(146B)를 포함할 수 있다. 이때, 도 4에 예시된 복수의 메쉬 플레이트(146AA, 146AB, 146AC)가 하부(146B)에 부착되어 있음을 알 수 있다. 도 7에 도시된 바와 같이 일체부(147)가 상부(142B)에 탈부착 가능한 형상을 가짐과 마찬가지로, 도 8에 도시된 복수의 플레이트(146AA, 146AB, 146AC)는 하부(146B)로부터 탈부착 가능한 형상을 가질 수 있다.8, the scatterer slurry shutoff section 140C includes an upper portion 142A (not visible in FIG. 8), a lower portion 142A that can be engaged with the upper portion 142A as shown in FIG. 2, And a lower portion 146B that can be implemented integrally with the side portions 144B and 144B. At this time, it can be seen that the plurality of mesh plates 146AA, 146AB, and 146AC illustrated in FIG. 4 are attached to the lower portion 146B. The plurality of plates 146AA, 146AB, and 146AC shown in Fig. 8 are formed in such a manner that the integrally formed portion 147 can be detachably attached to the upper portion 142B as shown in Fig. Lt; / RTI >

전술한 바와 같이, 탈부착 가능한 부분이 다름을 제외하면, 도 8에 도시된 비산 슬러리 차단부(140C)는 도 2에 도시된 비산 슬러리 차단부(140A)와 동일하다. 그러므로, 도 8에 도시된 비산 슬러리 차단부(140C)의 특징은 도 2에 도시된 비산 슬러리 차단부(140A)의 특징과 동일하다.8 is the same as the scattering slurry blocking portion 140A shown in FIG. 2 except that the detachable portion is different, as described above. Therefore, the characteristics of the scattering slurry blocking portion 140C shown in FIG. 8 are the same as those of the scattering slurry blocking portion 140A shown in FIG.

한편, 도 1 내지 도 3, 도 6 및 도 8을 참조하면, 비산 슬러리 차단부(140, 140A, 140B, 140C)는 와이어(W)가 진입하는 부분과 진출하는 부분의 양쪽에 각각 배치될 수 있다. 만일, 와이어(W)가 +x축 방향으로 진행할 경우 잉곳(I)이 오른쪽이 와이어(W)가 진입하는 부분에 해당하고 잉곳(I)의 왼쪽이 와이어(W)가 진출하는 부분에 해당한다.1 to 3, 6 and 8, the scattering slurry blocking portions 140, 140A, 140B, and 140C may be disposed at both the portion where the wire W enters and the portion where the wire W advances, respectively have. If the wire W advances in the + x axis direction, the ingot I corresponds to the portion where the wire W enters the right side and the left side of the ingot I corresponds to the portion where the wire W advances .

이와 반대로 와이어(W)가 -x축 방향으로 진행할 경우 잉곳(I)의 왼쪽이 와이어(W)가 진입하는 부분에 해당하고 잉곳(I)의 오른쪽이 와이어(W)가 진출하는 부분에 해당한다.Conversely, when the wire W advances in the -x axis direction, the left side of the ingot I corresponds to the portion where the wire W enters and the right side of the ingot I corresponds to the portion where the wire W advances .

와이어(W)는 잉곳(I)을 쏘잉하기 위해서 +x축 방향과 -x축 방향으로 모터(미도시)에 의해 왕복 주행 운동할 수 있다. 이와 같이, 비산 슬러리 차단부(140, 140A, 140B, 140C)는 잉곳(I)의 왼쪽과 오른쪽에 각각 배치될 수 있다. 그러나, 실시 예는 이에 국한되지 않는다. 즉, 다른 실시 예에 의하면, 비산 슬러리 차단부(140, 140A, 140B, 140C)는 도 1 내지 도 3, 도 6 및 도 8에 예시된 바와 달리 잉곳(I)의 왼쪽 또는 오른쪽에만 배치될 수도 있다.The wire W can be reciprocated by a motor (not shown) in the + x axis direction and the -x axis direction in order to cut the ingot I. Thus, the non-acid slurry cut-off portions 140, 140A, 140B, and 140C may be disposed on the left and right sides of the ingot I, respectively. However, the embodiment is not limited to this. That is, according to another embodiment, the non-acid slurry blocking portions 140, 140A, 140B, and 140C may be disposed only on the left or right side of the ingot I, unlike those illustrated in FIGS. 1 to 3, 6, have.

도 9는 도 1에 도시된 비산 슬러리 차단부(140)의 사시도를 나타낸다.FIG. 9 is a perspective view of the scattering slurry blocking portion 140 shown in FIG.

도 9를 참조하면, 비산 슬러리 차단부(140)는 배출구(OL1, OL2)를 포함할 수도 있다. 여기서, 배출구(OL1, OL2) 각각은 슬러리 수용 공간(143)에 저장된 슬러리(S)를 와이어(W)가 운동하는 방향(예를 들어 x축 방향)과 직교하는 방향(예를 들어, y축 방향)으로 배출할 수 있다. 즉, 비산되어 슬러리 수용 공간(143)으로 유입된 슬러리는 배출구(OL1, OL2)를 통해 슬러리 배스(170)로 낙하할 수 있다.Referring to FIG. 9, the non-acid slurry blocking unit 140 may include outlets OL1 and OL2. Each of the outlets OL1 and OL2 is disposed in the slurry containing space 143 in a direction orthogonal to the direction in which the wire W moves (for example, the x-axis direction) Direction). That is, the slurry that has been scattered and flows into the slurry containing space 143 can be dropped to the slurry bath 170 through the outlets OL1 and OL2.

이하, 전술한 구성을 갖는 실시 예에 의한 와이어 쏘잉 장치(100)의 특징을 첨부된 도면을 참조하여 다음과 같이 설명한다.Hereinafter, the features of the wire sawing apparatus 100 according to the embodiment having the above-described configuration will be described with reference to the accompanying drawings.

도 10은 와이어(W)에 의해 쏘잉될 잉곳(I)과 잉곳 운반부(120)의 단면도를 나타낸다. 여기서, R은 쏘잉에 의해 절단되는 잉곳(I)의 절단면의 지름을 나타낸다.10 shows a cross-sectional view of an ingot (I) and an ingot carrying part 120 to be formed by a wire (W). Here, R represents the diameter of the cut surface of the ingot I cut by sawing.

도 11a 내지 도 11c는 잉곳(I)이 쏘잉되는 부분이 증가함에 따라 슬러리(S)가 비산되는 모습을 나타낸다. 즉, 와이어(W)가 잉곳(I)을 +z축 방향으로 쏘잉해감에 따라 슬러리(S)가 분사되는 모습을 나타낸다.11A to 11C show that the slurry S is scattered as the portion where the ingot I is stuck increases. That is, it shows a state in which the slurry S is injected as the wire W strikes the ingot I in the + z-axis direction.

도 10 및 도 11a 내지 도 11c에 도시된 잉곳(I), 홀더(124), 빔부(126), 노즐(132, 134) 및 와이어 롤러(152, 154)는 도 1, 도 2, 도 6에 도시된 잉곳(I), 홀더(124), 빔부(126), 노즐(132, 134) 및 와이어 롤러(152, 154)에 각각 해당하므로 이들에 대한 중복되는 설명을 생략한다. 또한, 도 10 및 도 11a 내지 도 11c에 도시된 비산 슬러리 차단부(140)는 도 1 내지 도 3, 도 6 및 도 8에 도시된 비산 슬러리 차단부(140, 140A, 140B, 140C)에 해당하므로 이에 대한 중복되는 설명을 생략한다.The ingot I, the holder 124, the beam portion 126, the nozzles 132 and 134 and the wire rollers 152 and 154 shown in Figs. 10 and 11A to 11C are shown in Figs. 1, 2, and 6 The holder 124, the beam portion 126, the nozzles 132 and 134, and the wire rollers 152 and 154, respectively, so that overlapping descriptions thereof will be omitted. The scattering slurry blocking portion 140 shown in FIGS. 10 and 11A to 11C corresponds to the scattering slurry blocking portions 140, 140A, 140B and 140C shown in FIGS. 1 to 3, 6 and 8 Therefore, redundant description thereof will be omitted.

도 10을 참조하면, 와이어(W)에 의해 잉곳(I)이 +z축으로 3R/5보다 적게 쏘잉될 때까지, 도 11a에 예시된 바와 같이 와이어(W)와 잉곳(I) 사이의 슬러리(S)는 자유 낙하하여 비산 슬러리 차단부(140)로 향하지 않고 화살표로 표시한 바와 같이 슬러리 배스(170)로 향한다.10, the slurry between the wire W and the ingot I, as illustrated in Fig. 11A, until the ingot I is stitched to less than 3R / 5 in the + z axis by the wire W, The slurry S falls free and does not go to the slurry blocking portion 140 but is directed to the slurry bath 170 as indicated by the arrow.

계속해서, 와이어(W)에 의해 잉곳(I)이 +z축으로 3R/5되는 지점부터 4R/5까지 쏘잉될 때까지, 도 11b에 예시된 바와 같이 와이어(W)와 잉곳(I) 사이의 슬러리(S)는 잉곳(I)의 원형 형태로 인해 화살표 방향으로 비산되는 현상이 발생한다. 이때, 실시 예에 의한 비산 슬러리 차단부(140)는 위로 비산되는 슬러리(S)를 메쉬 구조에 의해 흡수할 수 있으며 나머지 슬러리는 자유 낙하하여 슬러리 배스(170)로 향한다.Subsequently, as shown in Fig. 11 (b), until the ingot I is struck from the point at which the ingot I is 3R / 5 on the + z axis to 4R / 5 by the wire W, A phenomenon that the slurry S of the ingot I is scattered in the direction of the arrow due to the circular shape of the ingot I occurs. At this time, the scattering slurry blocking part 140 according to the embodiment can absorb the slurry S scattered in the upper part by the mesh structure, and the remaining slurry falls freely and is directed to the slurry bath 170.

계속해서, 와이어(W)에 의해 잉곳(I)의 4R/5를 초과하여 잉곳(I)의 탑(IT)까지 쏘잉될 때까지, 도 11c에 예시된 바와 같이 와이어(W)와 잉곳(I) 사이의 슬러리(S)는 화살표 방향으로 비산된다. 이때, 상부로 비산되는 슬러리(S)는 잉곳 운반부(120)에 부딪힌 후 개구(OP)를 통해 슬러리 수용 공간(143)으로 유입되어 저장될 수 있다. 특히, 잉곳(I)의 4R/5를 초과하여 잉곳(I)의 후반부를 쏘잉할 때, 도 11c에 예시된 바와 같이 슬러리(S)의 와류 현상이 가장 심각해진다. 이때, 비산 슬러리 차단부(140, 140A, 140B, 140C)의 하부를 내측으로 경사지게 형성할 경우 개구(OP)를 통해 비산된 슬러리(S)가 유입되어 슬러리 수용 공간(143)에 저장될 수 있다. 이로 인해, 비산된 슬러리가 와이어(W)와 잉곳(I)으로 재유입됨을 방지할 수 있다. 이때, 개구(OP)가 확보되기 위해, 도 2를 참조하면, 하부(146A)의 버텀과 잉곳(I)의 탑(IT) 간의 이격 거리는 1 ㎝ 내지 2 ㎝일 수 있다. 즉, 피드 테이블(122A)의 저면(122A)으로부터 잉곳(I)의 탑(IT)까지의 제1 높이(h1)는 피드 테이블(122A)의 저면(122A)으로부터 비산 슬러리 차단부(140A)의 하부(146A)의 버텀까지의 제2 높이(h2)보다 1 ㎝ 내지 2 ㎝만큼 클 수 있다. 또한, 하부(146A)의 경사각(θ)은 7° 내지 10° 예를 들어, 7° 내지 8°일 수 있다. 이는 도 6 및 도 7에 도시된 비산 슬러리 차단부(140B, 140C)의 경우에도 적용됨은 물론이다.Subsequently, as shown in Fig. 11C, the wire W and the ingot I (I) are heated until they are stuck to the column IT of the ingot I in excess of 4R / 5 of the ingot I by the wire W. [ ) Is scattered in the direction of the arrow. At this time, the slurry S scattered upward may be introduced into the slurry receiving space 143 through the opening OP after being struck by the ingot conveying part 120 and stored. Particularly, when the rear portion of the ingot I is formed in excess of 4R / 5 of the ingot (I), the swirling phenomenon of the slurry S becomes most serious as illustrated in Fig. 11C. At this time, when the lower part of the scattering slurry blocking parts 140, 140A, 140B, and 140C is sloped inward, the slurry S scattered through the opening OP may be introduced and stored in the slurry containing space 143 . This prevents the scattered slurry from being re-introduced into the wire (W) and the ingot (I). 2, the distance between the bottom of the lower portion 146A and the IT of the ingot I may be 1 cm to 2 cm. That is, the first height h1 from the bottom surface 122A of the feed table 122A to the top IT of the ingot I is greater than the first height h1 of the slurry blocking portion 140A from the bottom surface 122A of the feed table 122A. May be greater than the second height h2 to the bottom of the lower portion 146A by 1 cm to 2 cm. In addition, the inclination angle [theta] of the lower portion 146A may be 7 [deg.] To 10 [deg.], E.g., 7 [deg.] To 8 [ It goes without saying that this is also applicable to the scattering slurry blocking portions 140B and 140C shown in FIGS. 6 and 7.

도 12는 경사각(θ)별 슬러리의 포집 능력을 나타내는 그래프로서, 횡축은 경사각(θ)을 나타내고, 종축은 슬러리 포집 능력을 나타낸다.FIG. 12 is a graph showing the trapping ability of the slurry by the inclination angle?, In which the horizontal axis represents the inclination angle? And the vertical axis represents the slurry collection ability.

도 2 및 도 12를 참조하면, 슬러리 수용 공간(143)에서 슬러리 저장 능력(210)은 경사각(θ)이 증가할 수록 감소하는 반면, 비산 슬러리 차단부(140A)의 하부(146A)의 메쉬에서 슬러리 흡수 능력(220)은 경사각(θ)이 증가할수록 증가함을 알 수 있다. 만일, 경사각(θ)이 7°보다 작다면, 비산 슬러리 차단부(140A)의 메쉬 구조에 흡수되는 슬러리의 량이 적을 수 있고, 경사각(θ)이 10°보다 크다면 슬러리 수용 공간(142)에 저장되는 슬러리의 량이 감소할 수 있다.2 and 12, in the slurry containing space 143, the slurry storing ability 210 decreases as the inclination angle θ increases, while the slurry holding capacity 210 decreases in the mesh of the lower portion 146A of the slurry blocking portion 140A It can be seen that the slurry absorption capacity 220 increases as the inclination angle? Increases. If the inclination angle? Is less than 7 degrees, the amount of slurry to be absorbed into the mesh structure of the scatterer slurry blocking portion 140A may be small. If the inclination angle? Is larger than 10 degrees, The amount of slurry to be stored can be reduced.

이를 고려할 때, 슬러리 저장 능력(210)과 슬러리 흡수 능력(220)이 동일해지는 7° 내지 10°이 경사각(θ)으로 결정될 수 있다.Considering this, the slope storage capacity 210 and the slurry absorption capacity 220 can be determined to be equal to an inclination angle? Of 7 ° to 10 °.

도 13a는 비산 슬러리 차단부(140)를 갖지 않은 제1 비교 례에 의한 와이어 쏘잉 장치의 단면도를 나타내고, 도 13b는 메쉬 구조를 갖지 않은 비산 슬러리 차단부(40)를 갖는 제2 비교 례에 의한 와이어 쏘잉 장치의 단면도를 나타내고, 도 13c는 메쉬 구조를 갖는 비산 슬러리 차단부(140)를 갖는 실시 예에 의한 와이어 쏘잉 장치(100)의 단면도를 나타낸다.13A shows a cross-sectional view of the wire sawing apparatus according to the first comparative example having no scatterer slurry shut-off section 140 and FIG. 13B shows a cross-sectional view of the wire scattering apparatus according to the second comparative example having the scattered slurry shut- 13C shows a cross-sectional view of a wire sawing apparatus 100 according to an embodiment having a scattering slurry blocking portion 140 having a mesh structure.

도 13a 내지 도 13c에서 홀더(124) 및 빔부(126), 피드 롤러(152, 154)는 도 2에 도시된 바와 같다. 특히, 도 13c에 도시된 비산 슬러리 차단부(140)는 도 2, 도 6 또는 도 8에 도시된 비산 슬러리 차단부(140A, 140B, 140C)일 수 있다.13A to 13C, the holder 124, the beam portion 126, and the feed rollers 152 and 154 are as shown in FIG. Particularly, the scattering slurry blocking portion 140 shown in FIG. 13C may be the scattering slurry blocking portions 140A, 140B, and 140C shown in FIG. 2, FIG. 6, or FIG.

도 13a에 도시된 h는 와이어(W)로부터 홀더(124)의 탑까지의 높이를 나타내며, 도 13b에 도시된 h'는 와이어(W)로부터 비산 슬러리 차단부(40)의 하부까지의 높이를 나타내고, 도 13c에 도시된 h"는 와이어(W)로부터 비산 슬러리 차단부(140)의 하부까지의 높이를 나타낸다.13A shows the height from the wire W to the tower of the holder 124. h 'shown in FIG. 13B shows the height from the wire W to the lower portion of the scatterer block 40 13C shows the height from the wire W to the lower portion of the scatterer intercepting portion 140. As shown in Fig.

도 13a에 도시된 제1 비교 례에 의한 와이어 쏘잉 장치의 경우, 비산된 슬러리가 와이어(W)와 잉곳(I)으로 낙하하여 와이어(W)에 진동이나 장력(tension)에 변형을 일으켜 웨이퍼의 와프(Warp), TTL(Total Thickness Variatio) 품질의 열위를 일으킬 수 있다.13A, the scattered slurry drops down to the wire W and the ingot I, causing deformation of the wire W due to vibration or tension, Warp, and TTL (Total Thickness Variation).

또한, 도 13b에 예시된 제2 비교 례에 의한 와이어 쏘잉 장치가 비산 슬러리 차단부(40)를 갖되, 비산 슬러리 차단부(40)가 메쉬 구조를 갖지 않을 경우, 높이(h')의 감소에 의한 비산 슬러리의 충격량 감소 효과를 기대할 수 있지만 그 개선 효과는 미미하다.The wire sawing device according to the second comparative example illustrated in FIG. 13B has the non-acidic slurry cut-off portion 40. When the non-acidic slurry cut-off portion 40 does not have a mesh structure, It is expected that the effect of reducing the impact amount of the scattered slurry can be expected, but the improvement effect is insignificant.

그러나, 도 13c에 예시된 실시 예에 의한 와이어 쏘잉 장치(100)에서와 같이, 비산 슬러리 차단부(140)가 메쉬 구조를 가질 경우, 메쉬 구조에 의해 비산된 슬러리(S)의 운동량이 상당 부분 감소된다.However, as in the wire sawing apparatus 100 according to the embodiment illustrated in FIG. 13C, when the non-acid slurry blocking portion 140 has a mesh structure, the momentum of the slurry S scattered by the mesh structure becomes large .

이는, 비산된 슬러리(S)가 비산 슬러리 차단부(140)에 접촉하는 면적의 증가에 비례하여 비산 슬러리(S)의 운동량이 감소하기 때문이다. 이는 방파제가 평면이 아닌 블럭 모양의 구조로 설계된 것과 동일한 원리에 기인한다. 또한, 슬러리(S)의 비중은 예를 들어, 1.3 내지 1.8로서 높고 슬러리(S)의 점성은 200 CP 내지 500 CP로서 높기 때문에, 비산 슬러리 차단부(140)의 메쉬 구조로 비산되는 슬러리와의 접촉 면적이 증가될 경우 그 효과는 더욱 우수해질 수 있다. 이와 같이, 비산 슬러리 차단부(140)의 하부가 메쉬 구조를 가짐으로써, 비산된 슬러리가 반사되지 않고 흡수될 수 있어, 비산 슬러리 차단부(140)에 부딪치는 슬러리의 충격량이 효과적으로 감소할 수 있다.This is because the momentum of the scattering slurry S decreases in proportion to an increase in the area of the scattered slurry S contacting the scattering slurry barrier 140. This is due to the same principle that the breakwater is designed as a block-like structure rather than a plane. Since the specific gravity of the slurry S is as high as, for example, 1.3 to 1.8 and the viscosity of the slurry S is as high as 200 CP to 500 CP, the slurry scattering in the mesh structure of the slurry blocking portion 140 The effect can be even better if the contact area is increased. Since the lower portion of the non-acid slurry blocking portion 140 has the mesh structure, the scattered slurry can be absorbed without being reflected, and the amount of the slurry hit against the non-acid slurry blocking portion 140 can be effectively reduced .

도 14 내지 도 17은 제1 및 제2 비교 례 및 실시 예에 의한 와이어 쏘잉 장치에서 와프를 비교하여 나타내는 그래프이다. 각 그래프에서, 횡축은 z축 방향으로 쏘잉되는 잉곳(I)의 위치를 나타내고 종축은 와프(Warp)를 각각 나타내고, R은 잉곳(I)의 전체 지름을 나타낸다.Figs. 14 to 17 are graphs comparing wafers in the wire sawing apparatuses according to the first and second comparative examples and the embodiment. Fig. In each graph, the axis of abscissa represents the position of the ingot I in the z-axis direction, and the axis of ordinates represents the warp, and R represents the total diameter of the ingot I.

도 14 내지 도 17을 참조하면, 잉곳(I)의 직경을 3R/5이상으로 쏘잉하는 후반부(232)에서 도 14에 도시된 제1 비교 례에 의한 와이어 쏘잉 장치의 경우 와프가 가장 큼을 알 수 있다. 또한, 경사각(θ)을 7°내지 10°로 갖지만, 메쉬 구조를 갖지 않는 도 15 또는 도 16에 도시된 제2 비교 례의 경우 후반부(234, 236)에서 와프는 도 14의 경우보다 개선되지만 여전히 변동이 발생함을 알 수 있다.14 to 17, it can be seen that the warp is the largest for the wire sawing device according to the first comparative example shown in FIG. 14 in the second half portion 232 where the diameter of the ingot I is 3R / 5 or more have. In the second comparative example shown in Fig. 15 or 16, which has the inclination angle [theta] of 7 [deg.] To 10 [deg.] But has no mesh structure, the warp is improved in the second half portion 234, It can be seen that the fluctuation still occurs.

반면에, 경사각(θ)을 7°내지 10°로 가지며, 메쉬 구조를 갖는 도 17에 도시된 실시 예에 의한 와이어 쏘잉 장치의 경우 후반부(238)에서 와프는 매우 안정화되어 있음을 알 수 있다. 결국, 실시 예에 의한 와이어 쏘잉 장치는 비산되는 슬러리의 재유입에 의한 잉곳 과냉각을 최소화하여 웨이퍼의 와프를 개선시킬 수 있다.On the other hand, in the case of the wire sawing apparatus according to the embodiment shown in FIG. 17 having the inclination angle? Of 7 ° to 10 ° and having the mesh structure, it can be seen that the warp is highly stabilized in the rear portion 238. As a result, the wire sawing apparatus according to the embodiment can improve the wafers of the wafer by minimizing the cooling rate of the ingot by the re-introduction of the scattered slurry.

이상에서 실시 예를 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시 예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시 예에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부된 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, but, on the contrary, It will be understood that various modifications and applications are possible. For example, each component specifically shown in the embodiments can be modified and implemented. It is to be understood that all changes and modifications that come within the meaning and range of equivalency of the claims are therefore intended to be embraced therein.

100: 와이어 쏘잉 장치 112, 114, W: 와이어
120: 잉곳 운송부 122: 피드 테이블
124: 홀더 126: 빔부
132, 134:노즐 136, 172: 배관
140, 140A, 140B, 140C: 비산 슬러리 차단부
142A, 142B: 슬러리 차단부의 상부 143: 슬러리 수용 공간
144A, 144B: 슬러리 차단부의 측부 146A, 146B: 슬러리 차단부의 하부
146AA, 146AB, 146AC: 메쉬 플레이트 147: 일체부
148: 결합 부재 152, 154: 와이어 롤러
160: 슬러리 탱크 162: 교반기
170: 슬러리 배스 182, 184: 제1 및 제2 보빈
191, 192, 193, 194, 195: 풀리 100: wire sawing device 112, 114, W: wire
120: ingot conveying section 122: feed table
124: holder 126: beam part
132, 134: nozzles 136, 172: piping
140, 140A, 140B, 140C:
142A, 142B: upper part of slurry blocking part 143: slurry containing space
144A, 144B: Side portions 146A of the slurry blocking portion 146B: Lower portions of the slurry blocking portion
146AA, 146AB, 146AC: mesh plate 147: integral part
148: coupling member 152, 154: wire roller
160: Slurry tank 162:
170: slurry bath 182, 184: first and second bobbins
191, 192, 193, 194, 195: pulley

Claims (17)

잉곳을 절단하는 와이어;
상기 잉곳을 상기 와이어로 운송하는 잉곳 운송부;
상기 와이어에 슬러리를 공급하는 노즐; 및
상기 와이어에 의해 쏘잉되는 상기 잉곳의 상측부에 배치되어, 상기 와이어에 의해 절단되는 상기 잉곳의 측면으로부터 비산하는 슬러리 중 적어도 일부를 흡수하는 비산 슬러리 차단부를 포함하고,
상기 비산 슬러리 차단부는
상기 비산된 슬러리를 흡수하는 매쉬(mesh) 구조를 갖는 와이어 쏘잉 장치.A wire cutting the ingot;
An ingot conveying part for conveying the ingot by the wire;
A nozzle for supplying slurry to the wire; And
And a scattering slurry blocking portion disposed at an upper side of the ingot to be cut by the wire and absorbing at least a part of the slurry scattering from the side of the ingot cut by the wire,
The scattering slurry blocking portion
And a mesh structure for absorbing the scattered slurry. 삭제delete 제1 항에 있어서, 상기 비산 슬러리 차단부는
상기 잉곳 운송부를 지지하는 지지면에 부착된 상부;
상기 비산된 슬러리를 흡수하는 적어도 하나의 메쉬 플레이트를 포함하는 하부; 및
상기 상부와 상기 하부 사이에 측부를 포함하는 와이어 쏘잉 장치.2. The fuel cell system according to claim 1,
An upper portion attached to a supporting surface for supporting the ingot conveying portion;
A lower portion comprising at least one mesh plate for absorbing the scattered slurry; And
And a side between the upper portion and the lower portion. 제3 항에 있어서, 상기 상부와 상기 측부는 나사 결합하고, 상기 하부와 상기 측부는 일체형인 와이어 쏘잉 장치.4. The wire sawing apparatus of claim 3, wherein the top and the side are threaded, and the bottom and the side are integral. 제3 항에 있어서, 상기 비산 슬러리 차단부는 상기 상부, 상기 측부 및 상기 하부에 의해 정의되고 상기 비산된 슬러리를 저장하는 슬러리 수용 공간을 포함하고,
상기 슬러리 수용 공간으로 상기 비산된 슬러리의 유입을 허용하는 개구를 사이에 두고, 상기 비산 슬러리 차단부의 하부는 상기 잉곳과 이격된 와이어 쏘잉 장치.4. The method of claim 3, wherein the scatterer slurry barrier comprises a slurry containing space defined by the upper, side and lower portions and storing the scattered slurry,
And a lower portion of the scattering slurry blocking portion is spaced apart from the ingot, with an opening for allowing the scattered slurry to flow into the slurry receiving space. 제3 항에 있어서, 상기 하부의 버텀과 상기 잉곳의 탑 간의 이격 거리는 1 ㎝ 내지 2 ㎝인 와이어 쏘잉 장치.The wire sawing apparatus according to claim 3, wherein a distance between the bottom bottom and the ingot tower is 1 cm to 2 cm. 제5 항에 있어서, 상기 비산 슬러리 차단부는
상기 슬러리 수용 공간에 저장된 슬러리를 상기 와이어가 운동하는 방향과 직교하는 방향으로 배출하는 배출구를 더 포함하는 와이어 쏘잉 장치.6. The apparatus according to claim 5, wherein the scattering slurry blocking portion
And a discharge port for discharging the slurry stored in the slurry containing space in a direction perpendicular to a direction in which the wire moves. 제3 항에 있어서, 상기 적어도 하나의 메쉬 플레이트는 서로 적층된 복수의 메쉬 플레이트를 포함하고,
상기 복수의 메쉬 플레이트의 오프닝의 크기는 상기 와이어로부터 멀어질수록 작아지는 와이어 쏘잉 장치.The method of claim 3, wherein the at least one mesh plate comprises a plurality of mesh plates stacked together,
Wherein a size of the opening of the plurality of mesh plates is smaller as the distance from the wire is reduced. 제3 항에 있어서, 상기 비산 슬러리 차단부는 탈부착 가능한 와이어 쏘잉 장치.4. The wire sawing apparatus of claim 3, wherein the scatterer slurry barrier is detachable. 제9 항에 있어서, 상기 비산 슬러리 차단부의 상부는 상기 지지면에 고정되고,
상기 비산 슬러리 차단부의 측부 또는 하부 중 적어도 하나는 상기 상부로부터 탈부착 가능한 형상을 갖는 와이어 쏘잉 장치.10. The method of claim 9, wherein an upper portion of the scatterer slurry barrier is fixed to the support surface,
And at least one of a side portion and a lower portion of the scattering slurry blocking portion has a shape detachable from the upper portion. 제3 항에 있어서, 상기 비산 슬러리 차단부의 상기 하부는 상기 잉곳을 향하여 내측으로 갈수록 경사진 와이어 쏘잉 장치.4. The wire sawing apparatus according to claim 3, wherein the lower portion of the scatterer slurry shutoff portion is inclined toward the ingot toward the ingot. 제11 항에 있어서, 상기 하부의 경사각은 7° 내지 10°인 와이어 쏘잉 장치.12. The wire sawing apparatus according to claim 11, wherein the lower inclination angle is 7 to 10 degrees. 제1 항에 있어서, 상기 비산 슬러리 차단부의 버텀은 상기 와이어보다 높이 위치한 와이어 쏘잉 장치.2. The wire sawing apparatus of claim 1, wherein a bottom of the scatterer slurry barrier is higher than the wire. 제1 항에 있어서, 상기 비산 슬러리 차단부는 상기 와이어가 진입하는 부분과 진출하는 부분의 양쪽에 각각 배치된 와이어 쏘잉 장치.2. The wire sawing apparatus according to claim 1, wherein the scattering slurry blocking portion is disposed on both of a portion where the wire enters and a portion where the wire advances. 제1 항에 있어서, 상기 비산 슬러리 차단부는 상기 잉곳의 길이 방향으로 상기 잉곳과 나란히 배치된 와이어 쏘잉 장치.2. The wire sawing apparatus according to claim 1, wherein the scattering slurry blocking portion is disposed alongside the ingot in the longitudinal direction of the ingot. 제1 항에 있어서, 상기 잉곳 운송부는
상기 잉곳을 상기 와이어를 향해 내리는 피드 테이블;
상기 잉곳을 상기 피드 테이블에 고정시키는 홀더; 및
상기 홀더와 상기 잉곳을 연결하는 빔부를 포함하는 와이어 쏘잉 장치.The method according to claim 1,
A feed table for lowering said ingot toward said wire;
A holder for fixing the ingot to the feed table; And
And a beam portion connecting the holder and the ingot. 제1 항에 있어서, 상기 와이어 쏘잉 장치는
상기 와이어를 감고 상기 와이어를 안내하는 홈을 갖는 와이어 롤러;
상기 노즐로 공급되는 슬러리를 수용하는 슬러리 탱크;
상기 노즐로부터 출사되어 상기 잉곳의 쏘잉에 사용된 슬러리를 수용하는 슬러리 배스;
상기 잉곳을 쏘잉할 와이어를 감는 제1 보빈;
상기 잉곳을 쏘잉한 와이어를 감는 제2 보빈; 및
상기 와이어의 진행 경로를 변경하는 적어도 하나의 풀리를 더 포함하는 와이어 쏘잉 장치.The apparatus of claim 1, wherein the wire-
A wire roller having a groove for winding the wire and guiding the wire;
A slurry tank for containing a slurry supplied to the nozzle;
A slurry bath which is discharged from the nozzle and accommodates a slurry used for shaping the ingot;
A first bobbin for winding a wire for forming the ingot;
A second bobbin wound around the ingot-forming wire; And
Further comprising at least one pulley for changing a travel path of the wire.
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