KR101674850B1 - Organic electroluminescent panel production method and production apparatus - Google Patents
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Abstract
본 발명은, 긴 기재를 사용한 연속 생산이 가능하고, 긴 기재의 접합 후의 위치 어긋남이나 박리를 방지하며, 제조 장치의 대형화를 억제할 수 있는 유기 일렉트로루미네센스 패널의 제조 방법과 그의 제조 장치를 제공한다. 유기 일렉트로루미네센스 소자가 표면에 형성된 긴 소자 기판과, 경화성 수지로 구성되는 접착층이 표면에 형성된 긴 밀봉 기판을 접합하여, 다층 기판을 형성하는 접합 공정과, 상기 다층 기판을 직선 반송하는 직선 반송 공정과, 상기 다층 기판을 직선 반송하면서 상기 접착층을 경화시키는 제1 경화 공정과, 상기 다층 기판을 굴곡 반송하면서 상기 접착층을 경화시키는 제2 경화 공정을 갖고, 이들 공정을 이 순서대로 행하는 것을 특징으로 한다.An object of the present invention is to provide a method of manufacturing an organic electroluminescent panel capable of continuous production using a long substrate and preventing positional deviation and peeling of a long substrate after bonding and suppressing the size of a manufacturing apparatus, to provide. A bonding step of bonding a long element substrate having an organic electroluminescence element formed on its surface and an elongated sealing substrate having an adhesive layer made of a curable resin on its surface to form a multilayer substrate; A first curing step of curing the adhesive layer while linearly transporting the multilayer substrate, and a second curing step of curing the adhesive layer while bending and transporting the multilayer substrate, and these steps are performed in this order do.
Description
본 발명은 유기 일렉트로루미네센스 패널(이하, 「유기 EL 패널」이라고도 기재함)의 제조 방법 및 제조 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a method and an apparatus for manufacturing an organic electroluminescent panel (hereinafter also referred to as " organic EL panel ").
유기 EL 패널의 발광층을 구성하는 재료 및 발광 유닛은, 흡습하면 그 발광 휘도가 현저하게 손상된다. 그로 인해, 유기 EL 패널의 내부를 저습도 환경으로 유지하는 것이 필요하여, 외기로부터 차단·보호하기 위한 수단을 설치해서 밀봉 구조로 하고 있다.The light-emitting unit of the organic EL panel and the light-emitting unit are remarkably damaged in light emission luminance when they absorb moisture. Therefore, it is necessary to maintain the interior of the organic EL panel in a low humidity environment, and a means for blocking and protecting from the outside air is provided to provide a sealing structure.
유기 EL 패널의 제조 방법으로서는, 예를 들어, 유리 캡이나 금속제 관과 접착재를 사용하여 기밀성 공간을 만들고, 그 안에 유기 일렉트로루미네센스 소자(이하, 「유기 EL 소자」라고도 기재함) 및 건조제를 넣어서 밀봉하는 케이싱 타입의 방법이 개시되어 있다.As a manufacturing method of the organic EL panel, for example, an airtight space is made by using a glass cap or a metal tube and an adhesive, and an organic electroluminescence element (hereinafter also referred to as "organic EL element") and a drying agent A method of a casing type in which a sealing member is inserted and sealed is disclosed.
최근에는 플라스틱 기판 위나 유리 기판 위에 얇은 유기 발광층을 형성하고, 가요성이 있는 하이 배리어 필름이나 금속박 등을 사용하여, 접착재로 면 접착하여 밀봉하는 고체 밀봉 타입의 유기 EL 패널의 제조 방법이 개발되어 있다. 이 제조 방법은, 내습성이 우수한 박형·경량의 유기 EL 패널의 제조 방법으로서 실용화가 진행되고 있다.Recently, a method of manufacturing a solid sealing type organic EL panel in which a thin organic light emitting layer is formed on a plastic substrate or a glass substrate, and a flexible high-barrier film or metal foil is used to seal the surface with an adhesive . This manufacturing method has been put into practical use as a manufacturing method of a thin and lightweight organic EL panel excellent in moisture resistance.
한편, 수지 필름 등의 가요성이 있는 기판을 사용하여, 롤 투 롤 방식에 의해 유기 EL 패널을 제조하는 방법도 활발히 검토되게 되었다. 롤 투 롤 방식에 의한 제조 방법은 연속 생산이 가능하므로, 생산 효율을 향상시킨다는 장점을 갖고 있다.On the other hand, a method of manufacturing an organic EL panel by a roll-to-roll method using a flexible substrate such as a resin film has been actively studied. The roll-to-roll production method has an advantage of improving the production efficiency because it can be continuously produced.
또한, 전극 취출부를 밀봉 기판 위의 임의의 위치에 고정밀도이고, 또한 용이하게 형성하는 것이 가능한, 위치 정보에 의한 조정 기구를 구비한 접합 방법이 개시되어 있다. 또한, 면접착 구조의 밀봉 방법에 있어서는, 밀봉 성능, 즉 접합 품질을 향상시키기 위해서, 진공 하에서 접합하는 등의 방법이 제안되고 있다.Further, there is disclosed a joining method provided with an adjusting mechanism by positional information, which can precisely and easily form an electrode lead-out portion at an arbitrary position on a sealing substrate. Further, in the sealing method of the face bonding structure, a method of bonding under vacuum is proposed to improve the sealing performance, that is, the bonding quality.
특허문헌 1에는, 롤 투 롤 방식에 의해 긴 소자 기판과 긴 밀봉 기판을 접합하여 밀봉 구조체를 형성하는 방법이 개시되어 있다. 여기에서는, 소자 기판의 전극 위치 정보로서 얼라인먼트 마크가 사용되고 있다. 특허문헌 2에는, 연속 기재끼리의 진공 라미네이션에 있어서, 챔버 내에 스토리지 수단을 설치함으로써 효율적으로 라미네이트하는 것이 개시되어 있다.
그런데, 접합 후 밀봉 완료된 긴 기판은, 제조 공정에 있어서의 반송에 의해 위치 어긋남이 발생할 우려가 있다. 고정밀도로 위치 정렬을 행하여 접합을 행했음에도 불구하고, 접합 공정 이후의 각 공정을 반송하는 사이에 위치 어긋남이나 박리가 발생한다는 등의 문제점이 존재한다. 특히, 롤 투 롤 방식의 경우, 기재가 연속적으로 연결되어 있고, 전후의 처리 공정의 관계로부터, 중단하지 않고 연속적으로 반송할 필요가 있다. 그로 인해, 위치 어긋남이 조금이라도 발생하면, 그 위치를 기점으로 위치 어긋남이 연속적으로, 수정되지 않고 확대되어 갈 우려가 있다.However, there is a possibility that the long substrate which has been sealed after bonding is displaced due to transportation in the manufacturing process. There is a problem such that positional deviation and peeling occur during transportation of each step after the bonding step although the bonding is performed by performing position alignment with high accuracy. Particularly, in the case of the roll-to-roll method, the substrates are continuously connected, and it is necessary to carry them continuously without interruption from the relationship of the front and rear processing steps. As a result, if a slight positional deviation occurs, the positional deviation may be continuously and unfixedly enlarged from the position.
특허문헌 1에서는, 접합 공정부터 경화 공정까지의 반송 방법에 대하여 특별한 기재가 없다. 접합 공정부터 경화 공정까지 직선적으로 반송했을 경우에는, 공정은 장대한 것이 되어, 장치가 대형화되어 버린다. 또한, 직선적인 반송뿐이었던 경우에는, 열경화 후의 온도 변화(냉각)나 경화 수축에 의해 컬이 발생하기 쉬워진다.In
또한, 특허문헌 2에서는, 챔버 용적을 작게 하기 위해서, 패스 롤을 개재한 굴곡 반송이 다용되고 있다. 이 경우에는, 접합 후의 굴곡 반송에 의해 위치 어긋남이나 박리가 발생하기 쉬워진다는 등의 문제점이 존재한다.Further, in
본 발명은 이러한 상황을 감안하여 이루어진 것이다. 본 발명의 과제는, 긴 기재를 사용한 연속 생산이 가능하고, 긴 기재의 접합 후의 위치 어긋남이나 박리를 방지하며, 제조 장치의 대형화를 억제할 수 있는 유기 일렉트로루미네센스 패널의 제조 방법과 그의 제조 장치를 제공하는 것이다.The present invention has been made in view of this situation. An object of the present invention is to provide a method of manufacturing an organic electroluminescent panel capable of continuous production using a long substrate and preventing displacement and peeling of a long substrate after bonding and suppressing the size of a manufacturing apparatus, Device.
본 발명자들은, 접합 후의 다층 기판에, 반송에 의해 위치 어긋남이 발생하는 원인을 검토한 결과, 접합 후의 공정 중에서, 층간에 박리가 발생하거나, 전단력이 작용함으로써 층간에 어긋남이나 변형이 발생하거나 하는 것에 따른 것이라고 판단하였다.The inventors of the present invention have studied the cause of positional deviation in a multilayered substrate after bonding and found that there occurs peeling between layers in a process after bonding or a shift or deformation occurs between layers due to the action of a shearing force .
따라서, 본 발명자들은, 이러한 문제점의 해결책에 대하여 검토를 거듭하였다. 그 결과, 긴 소자 기판과 긴 밀봉 기판을 접합한 후에, 직선적인 반송 공정을 유지하면서, 양쪽 기판을 접착하는 경화성 수지를 반경화시키고, 그 후, 굴곡하는 공정을 반송시키면서, 경화성 수지를 완전히 경화시킨다는 제조 방법을 채용함으로써, 상기 과제를 해소할 수 있는 것을 알아내었다. 즉, 본 발명은 다음의 구성을 갖는 것이다.Therefore, the inventors of the present invention have repeatedly studied the solution of such a problem. As a result, after the long element substrate and the long sealing substrate are bonded, the curable resin to be bonded to both the substrates is semi-cured while maintaining the linear transporting process, and then the curing resin is completely cured The above problems can be solved. That is, the present invention has the following configuration.
1. 제1 전극과 발광층을 포함하는 유기 기능층과 제2 전극을 갖는 유기 일렉트로루미네센스 소자가 표면에 형성된 긴 소자 기판과, 경화성 수지로 구성되는 접착층이 표면에 형성된 긴 밀봉 기판을, 당해 소자 기판의 유기 일렉트로루미네센스 소자가 형성된 면과 당해 밀봉 기판의 접착층이 형성된 면에 있어서 접합하여, 다층 기판을 형성하는 접합 공정과, 상기 다층 기판을 직선 반송하는 직선 반송 공정과, 상기 다층 기판을 직선 반송하면서 상기 접착층을 경화시키는 제1 경화 공정과, 상기 다층 기판을 굴곡 반송하면서 상기 접착층을 경화시키는 제2 경화 공정을 갖고, 이들 공정을 이 순서대로 행하는 것을 특징으로 하는 유기 일렉트로루미네센스 패널의 제조 방법.1. An organic electroluminescent device comprising an elongated element substrate having an organic electroluminescent element having an organic functional layer and a second electrode, the organic electroluminescent element including a first electrode and a light emitting layer formed on a surface thereof, and a long sealing substrate having an adhesive layer composed of a curable resin formed on the surface thereof A bonding step of bonding a surface of the element substrate on which the organic electroluminescence element is formed and a surface of the sealing substrate on which the adhesive layer is formed to form a multilayer substrate; a linear transporting step of linearly transporting the multilayer substrate; And a second curing step of curing the adhesive layer while flexing and transporting the multilayer substrate, wherein the steps are carried out in this order, characterized in that the organic electroluminescence A method of manufacturing a panel.
2. 상기 접착층을 구성하는 경화성 수지는 열경화성 수지이고, 상기 접착층의 경화 수단이 가열인 것을 특징으로 하는, 상기 1에 기재된 유기 일렉트로루미네센스 패널의 제조 방법.2. The method for manufacturing an organic electroluminescence panel according to 1 above, wherein the curable resin constituting the adhesive layer is a thermosetting resin and the curing means of the adhesive layer is a heating.
3. 상기 접착층을 구성하는 경화성 수지는 광경화성 수지이고, 상기 접착층의 경화 수단이 광조사인 것을 특징으로 하는, 상기 1에 기재된 유기 일렉트로루미네센스 패널의 제조 방법.3. The method of manufacturing an organic electroluminescence panel according to 1 above, wherein the curable resin constituting the adhesive layer is a photo-curable resin, and the curing means of the adhesive layer is light irradiation.
4. 상기 제1 경화 공정 후에, 상기 제2 경화 공정 전에 있어서의 상기 접착층을 구성하는 경화성 수지의 경화율은 30% 이상인 것을 특징으로 하는, 상기 1 내지 3 중 어느 하나에 기재된 유기 일렉트로루미네센스 패널의 제조 방법.4. The organic electroluminescent device according to any one of 1 to 3 above, wherein the curing rate of the curable resin constituting the adhesive layer before the second curing step after the first curing step is 30% A method of manufacturing a panel.
5. 상기 제1 경화 공정 후에, 상기 제2 경화 공정 전에 있어서의 상기 접착층을 구성하는 경화성 수지의 점도는 3000㎩·s 이상인 것을 특징으로 하는, 상기 1 내지 3 중 어느 하나에 기재된 유기 일렉트로루미네센스 패널의 제조 방법.5. The organic electroluminescent device according to any one of 1 to 3 above, wherein the viscosity of the curable resin constituting the adhesive layer before the second curing step after the first curing step is 3000 Pas · s or more. A method of manufacturing a sense panel.
6. 상기 접합 공정에 있어서, 상기 소자 기판과 상기 밀봉 기판의 접합 위치를 위치 정보에 의한 조정 기구에 의해 조정하는 것을 특징으로 하는, 상기 1 내지 3 중 어느 하나에 기재된 유기 일렉트로루미네센스 패널의 제조 방법.6. The organic electroluminescent panel according to any one of 1 to 3 above, wherein the bonding position between the element substrate and the sealing substrate is adjusted by an adjusting mechanism based on positional information in the bonding step Gt;
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7. 제1 전극과 발광층을 포함하는 유기 기능층과 제2 전극을 갖는 유기 일렉트로루미네센스 소자가 표면에 형성된 긴 소자 기판과, 경화성 수지로 구성되는 접착층이 표면에 형성된 긴 밀봉 기판을 접합하여, 다층 기판을 형성하는 접합부와, 상기 다층 기판을 직선 반송하는 직선 반송부와, 상기 다층 기판을 직선 반송하면서 상기 접착층을 경화시키는 제1 경화부와, 상기 다층 기판을 굴곡 반송하면서 상기 접착층을 경화시키는 제2 경화부를 구비하는 것을 특징으로 하는 유기 일렉트로루미네센스 패널의 제조 장치.7. An organic electroluminescent device comprising an elongated element substrate having an organic electroluminescent element having an organic functional layer and a second electrode, the organic electroluminescent element including a first electrode and a light emitting layer formed on a surface thereof, and a long sealing substrate having an adhesive layer formed of a curable resin on the surface thereof A first curing unit for curing the adhesive layer while linearly transporting the multilayer substrate; and a second curing unit for curing the adhesive layer while flexing and transporting the multilayer substrate, And a second curing unit for applying a voltage to the organic electroluminescence panel.
8. 상기 접착층을 구성하는 경화성 수지는 열경화성 수지이고, 상기 제1 경화부 및 상기 제2 경화부에 있어서의 상기 접착층의 경화 수단이 가열인 것을 특징으로 하는, 상기 7에 기재된 유기 일렉트로루미네센스 패널의 제조 장치.8. The organic electroluminescent device according to the above 7, wherein the curable resin constituting the adhesive layer is a thermosetting resin, and the curing means of the adhesive layer in the first cured portion and the second cured portion is heating. Apparatus for manufacturing panels.
9. 상기 접착층을 구성하는 경화성 수지는 광경화성 수지이고, 상기 제1 경화부 및 상기 제2 경화부에 있어서의 상기 접착층의 경화 수단이 광조사인 것을 특징으로 하는, 상기 7에 기재된 유기 일렉트로루미네센스 패널의 제조 장치.9. The organic electroluminescent device according to 7 above, wherein the curable resin constituting the adhesive layer is a photo-curable resin and the curing means of the adhesive layer in the first cured portion and the second cured portion is light irradiation. Apparatus for manufacturing nessence panels.
10. 상기 접합부는, 상기 소자 기판과 상기 밀봉 기판의 접합 위치의 위치 정보에 의한 조정 기구를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는, 상기 7 내지 9 중 어느 하나에 기재된 유기 일렉트로루미네센스 패널의 제조 장치.10. The apparatus for manufacturing an organic electro luminescence panel according to any one of 7 to 9 above, characterized in that the bonding portion includes an adjustment mechanism based on positional information of a bonding position of the element substrate and the sealing substrate .
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본 발명의 유기 EL 패널의 제조 방법에 의하면, 긴 기재를 사용한 연속 생산이 가능하고, 긴 기재의 접합 후의 위치 어긋남이나 박리를 방지하며, 제조 장치의 대형화를 억제할 수 있다. 본 발명의 유기 EL 패널의 제조 장치에 의하면, 긴 기재를 사용한 연속 생산이 가능하고, 긴 기재의 접합 후의 위치 어긋남이나 박리를 방지하며, 제조 장치의 대형화를 억제할 수 있다.According to the method of manufacturing an organic EL panel of the present invention, continuous production using a long substrate can be performed, positional deviation and peeling after bonding of a long substrate can be prevented, and the size of the manufacturing apparatus can be suppressed. According to the apparatus for manufacturing an organic EL panel of the present invention, continuous production using a long substrate is possible, positional deviation and peeling after bonding of a long substrate can be prevented, and the size of the manufacturing apparatus can be suppressed.
도 1은 본 실시 형태의 유기 EL 패널의 제조 공정 및 제조 장치를 도시하는 모식도이다.1 is a schematic diagram showing a manufacturing process and an apparatus for manufacturing an organic EL panel according to the present embodiment.
이하, 본 발명을 실시하기 위한 형태를 설명하지만, 본 발명은 이하에 설명하는 실시 형태에 전혀 한정되지 않고, 본 발명의 요지를 일탈하지 않는 범위 내에서 실시 형태를 임의로 변경하여 실시하는 것이 가능하다.Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described, but the present invention is not limited to the embodiments described below, and it is possible to arbitrarily change the embodiments without departing from the gist of the present invention .
(유기 EL 패널의 제조 방법)(Manufacturing Method of Organic EL Panel)
본 실시 형태의 유기 EL 패널의 제조는, 제1 전극과 발광층을 포함하는 유기 기능층과 제2 전극을 갖는 유기 EL 소자가 표면에 형성된 긴 소자 기판과, 경화성 수지로 구성되는 접착층이 표면에 형성된 긴 밀봉 기판을, 당해 소자 기판의 유기 EL 소자가 형성된 면과 당해 밀봉 기판의 접착층이 형성된 면에 있어서 접합하여, 밀봉 구조를 형성하는 방법에 의해 행하여진다.The production of the organic EL panel of the present embodiment includes: a long element substrate on which an organic EL element having an organic functional layer including a first electrode and a light emitting layer and a second electrode is formed on the surface; and an adhesive layer composed of a curable resin A long sealing substrate is bonded to a surface of the element substrate on which the organic EL element is formed and a surface of the sealing substrate on which the adhesive layer is formed to form a sealing structure.
(유기 EL 패널)(Organic EL panel)
본 실시 형태에 있어서, 유기 EL 패널은, 유기 EL 소자가 표면에 형성된 소자 기판과, 접착층이 표면에 형성된 밀봉 기판을, 각각 당해 소자 기판의 유기 EL 소자가 형성된 면과 당해 밀봉 기판의 접착층이 형성된 면에 있어서, 접합함으로써 형성되는 다층 구조를 갖고 있다.In the present embodiment, the organic EL panel comprises an element substrate on which an organic EL element is formed on the surface, and a sealing substrate on which an adhesive layer is formed on the surface, Layer structure that is formed by joining, in the surface of the substrate.
여기서, 유기 EL 소자는, 적어도 소자 기판 위에 형성된 제1 전극, 당해 제1 전극 위에 형성되고, 또한 발광층을 포함하는 유기 기능층 및 당해 유기 기능층 위에 형성된 제2 전극을 갖고 있으며, 박막 형상이다. 이 유기 EL 소자의 양쪽 전극 사이에 전압이 인가됨으로써 발광층이 발광한다.Here, the organic EL element has a first electrode formed on at least an element substrate, an organic functional layer formed on the first electrode, a light emitting layer, and a second electrode formed on the organic functional layer, and is in the form of a thin film. A voltage is applied between both electrodes of the organic EL element, so that the light emitting layer emits light.
본 실시 형태의 유기 EL 패널에 있어서는, 유기 EL 패널 내의 유기 EL 소자를 저습도 환경으로 유지하고, 외부 환경으로부터 차단·보호하기 위해서, 유기 EL 소자는, 소자 기판과 밀봉 기판 위의 접착층 사이에 끼워져 밀폐·밀봉되어 있다.In the organic EL panel of the present embodiment, in order to keep the organic EL element in the organic EL panel in a low humidity environment and to shield and protect it from the external environment, the organic EL element is sandwiched between the element substrate and the adhesive layer on the sealing substrate It is hermetically sealed.
본 실시 형태의 소자 기판 및 밀봉 기판은, 모두 가요성이 있는 긴 시트이다. 그리고, 소자 기판 위에는, 통상적으로는 유기 EL 소자가 간격을 두고 간헐적으로 존재한다. 당해 소자 기판 및 당해 밀봉 기판은, 접착층을 개재하여 연속적으로 접합되어, 다층 구조를 갖는 긴 다층 기판이 된다. 그로 인해, 제조된 긴 다층 기판을 유기 EL 소자의 전후에서 절단함으로써, 다수의 유기 EL 패널을 얻을 수 있다.The element substrate and the sealing substrate of the present embodiment are all flexible long sheets. Normally, organic EL elements are present intermittently on the element substrate with intervals therebetween. The device substrate and the sealing substrate are continuously bonded via an adhesive layer to form a long multilayer substrate having a multilayer structure. As a result, a large number of organic EL panels can be obtained by cutting the produced long multilayer substrate before and after the organic EL device.
(소자 기판)(Element substrate)
여기서, 본 실시 형태의 소자 기판에 대하여 설명한다.Here, the element substrate of the present embodiment will be described.
소자 기판은, 유기 EL 소자를 형성할 때의 베이스가 되는 기판이다. 소자 기판은 가요성이 있고, 기계적 강도, 소자 기판 위에 유기 EL 소자를 제조할 때의 내열성, 수증기나 산소에 대한 가스 배리어성 등을 갖고 있는 것이 바람직하다. 또한, 소자 기판은, 발광한 광을 투과시키기 위해서, 투명 수지에 의해 구성되는 것이 바람직하다.The element substrate is a substrate serving as a base when the organic EL element is formed. The element substrate is preferably flexible and has mechanical strength, heat resistance when the organic EL device is manufactured on the element substrate, gas barrier property against water vapor or oxygen, and the like. Further, it is preferable that the element substrate is made of a transparent resin in order to transmit the emitted light.
소자 기판을 구성하는 재료로서는, 예를 들어 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN) 등의 폴리에스테르, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 셀로판(등록 상표), 셀룰로오스 디아세테이트, 셀룰로오스 트리아세테이트(TAC), 셀룰로오스 아세테이트 부틸레이트, 셀룰로오스 아세테이트 프로피오네이트(CAP), 셀룰로오스 아세테이트 프탈레이트, 셀룰로오스 나이트레이트 등의 셀룰로오스 에스테르류 또는 그들의 유도체, 폴리 염화 비닐리덴, 폴리비닐알코올, 폴리에틸렌 비닐알코올, 신디오택틱 폴리스티렌, 폴리카르보네이트, 노르보르넨 수지, 폴리메틸펜텐, 폴리에테르케톤, 폴리이미드, 폴리에테르술폰(PES), 폴리페닐렌술피드, 폴리술폰, 폴리에테르이미드, 폴리에테르케톤이미드, 폴리아미드, 불소 수지, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리아크릴산 에스테르, 폴리아릴레이트, 아톤(등록 상표, JSR사 제조) 또는 아펠(등록 상표, 미쯔이카가쿠사 제조) 등의 시클로올레핀계 수지 등을 들 수 있다. 또한, 발광한 광을 밀봉 기판으로부터 투과시키는 경우에는, 소자 기판을 구성하는 재료로서는, 투명 수지 이외의 재료도 선택 가능하고, 예를 들어 구리, 구리 합금, 알루미늄, 알루미늄 합금, 금, 니켈, 티타늄, 스테인리스, 주석 등의 금속을 들 수 있다. 이것들은 1종류를 단독으로 사용해도 되고, 2종류 이상을 혼합하거나, 다층화하거나 해서 사용해도 된다.Examples of the material constituting the element substrate include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN), polyethylene, polypropylene, cellophane (registered trademark), cellulose diacetate, cellulose triacetate (TAC) , Cellulose esters or derivatives thereof such as cellulose acetate butyrate, cellulose acetate propionate (CAP), cellulose acetate phthalate and cellulose nitrate, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polyethylene vinyl alcohol, syndiotactic polystyrene, poly Polyether sulfone (PES), polyphenylene sulfide, polysulfone, polyether imide, polyether ketone imide, polyamide, fluorine resin, polyether sulfone resin, , Polymethyl methacrylate, poly There may be mentioned methacrylic acid esters, polyarylates, Aton (registered trademark, manufactured by JSR) or Appel (registered trademark, manufactured by Mitsui car flexors, Ltd.) and so on of the cycloolefin-based resin and the like. When light emitted from the sealing substrate is transmitted through the sealing substrate, a material other than a transparent resin may be selected as the material constituting the element substrate. For example, copper, a copper alloy, aluminum, an aluminum alloy, gold, , Stainless steel, and tin. These may be used alone, or two or more kinds may be mixed or multilayered.
소자 기판의 두께는 특별히 제한되지 않지만, 성형 가공성, 취급성 등을 고려하면, 50㎛ 내지 500㎛가 바람직하다. 또한, 소자 기판의 두께는, 마이크로미터를 사용하여 측정하는 것이 가능하다.Thickness of the element substrate is not particularly limited, but from the viewpoints of molding processability, handling property, and the like, it is preferably 50 占 퐉 to 500 占 퐉. Further, the thickness of the element substrate can be measured by using a micrometer.
유기 EL 소자는 소자 기판의 표면에 형성되어 있다. 유기 EL 소자는 소자 기판의 적어도 편측의 표면에 형성되어 있으면 된다. 그리고, 소자 기판의 유기 EL 소자가 형성된 면과 밀봉 기판의 접착층이 형성된 면에 있어서 접합함으로써, 유기 EL 소자를 밀봉·밀폐할 수 있다. 또한, 유기 EL 소자를 소자 기판의 양측 표면에 형성하고, 2매의 밀봉 기판을 당해 소자 기판의 양측으로부터 접합하여, 양측 면의 유기 EL 소자를 밀봉·밀폐할 수도 있다.The organic EL element is formed on the surface of the element substrate. The organic EL element may be formed on at least one surface of the element substrate. The organic EL element can be sealed and sealed by bonding the surface of the element substrate on which the organic EL element is formed and the surface of the sealing substrate on which the adhesive layer is formed. It is also possible to form the organic EL elements on both side surfaces of the element substrate and to bond the two sealing substrates from both sides of the element substrate to seal and seal the organic EL elements on both sides.
소자 기판 위에 형성되는 유기 EL 소자의 구성의 상세 사항에 대해서는, 후술한다.The details of the configuration of the organic EL element formed on the element substrate will be described later.
(밀봉 기판)(Sealing substrate)
이어서, 본 실시 형태의 밀봉 기판에 대하여 설명한다.Next, the sealing substrate of this embodiment will be described.
밀봉 기판은, 외부 환경으로부터 유기 EL 소자 등을 차단·보호하기 위한 것이다. 밀봉 기판은 가요성이 있고, 기계적 강도, 수증기나 산소에 대한 가스 배리어성 등을 갖고 있는 것이 바람직하다.The sealing substrate is for blocking and protecting the organic EL elements and the like from the external environment. The sealing substrate is preferably flexible, and preferably has mechanical strength, gas barrier properties against water vapor or oxygen, and the like.
밀봉 기판을 구성하는 재료로서는, 예를 들어 에틸렌 테트라플루오로에틸렌 공중합체, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리스티렌, 폴리메틸메타크릴레이트, 나일론, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리카르보네이트, 폴리이미드, 폴리에테르술폰 등의 열가소성 수지, 우레아 수지, 멜라민 수지, 페놀 수지, 레조르시놀 수지, 에폭시 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 폴리우레탄 수지, 아크릴 수지 등의 경화성 수지, 구리, 구리 합금, 알루미늄, 알루미늄 합금, 금, 니켈, 티타늄, 스테인리스, 주석 등의 금속을 들 수 있다.Examples of the material constituting the sealing substrate include ethylene tetrafluoroethylene copolymer, polyethylene, polypropylene, polystyrene, polymethyl methacrylate, nylon, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate, polyimide, Thermosetting resins such as urethane resin, melamine resin, phenol resin, resorcinol resin, epoxy resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin and acrylic resin, copper, copper alloy, aluminum, aluminum alloy , Gold, nickel, titanium, stainless steel, and tin.
이들 재료는, 1종을 단독으로 사용해도 되고, 필요에 따라, 복수 종류의 재료를 혼합하거나, 접합, 압출 라미네이트, 공압출 등에 의해 조합한 다층 시트로 하여 사용하는 것도 가능하다. 또한, 원하는 물성을 얻기 위해서, 사용하는 시트의 두께, 밀도, 분자량 등을 다양하게 조합하여 제작하는 것도 가능하다.These materials may be used singly, or may be used as a multilayer sheet obtained by mixing a plurality of kinds of materials or combining them by bonding, extrusion lamination, coextrusion or the like, if necessary. It is also possible to produce various combinations of thickness, density, molecular weight and the like of the sheet to be used in order to obtain desired physical properties.
밀봉 기판의 두께는 특별히 제한되지 않지만, 성형 가공성, 취급성 등이나 가스 배리어층의 내(耐)스트레스 크래킹성 등을 고려하면, 10㎛ 이상 300㎛ 이하가 바람직하다. 또한, 밀봉 기판의 두께는 마이크로미터를 사용하여 측정하는 것이 가능하다.The thickness of the sealing substrate is not particularly limited, but is preferably 10 占 퐉 or more and 300 占 퐉 or less in consideration of molding processability, handling property, and gas barrier layer stress cracking resistance. Further, the thickness of the sealing substrate can be measured by using a micrometer.
밀봉 기판으로서 상기 열가소성 수지나 경화성 수지를 사용하는 경우에는, 밀봉 기판 위에 증착법이나 코팅법으로 가스 배리어층을 형성하는 것이 바람직하다. 가스 배리어층으로서는, 예를 들어 금속 증착막, 무기 증착막, 금속박을 들 수 있다. 금속 증착막, 무기 증착막으로서는, 박막 핸드북 p879 내지 p901(니혼가쿠쥬쯔신코카이), 진공 기술 핸드북 p502 내지 p509, p612, p810(닛칸코교신분샤), 진공 핸드북 증정판 p132 내지 p134(ULVAC 니혼신쿠기쥬츠 K.K)에 기재되어 있는 바와 같은 증착막을 들 수 있다. 예를 들어, In, Sn, Pb, Au, Cu, Ag, Al, Ti, Ni, W 등의 금속, MgO, SiO, SiO2, Al2O3, GeO, NiO, CaO, BaO, Fe2O3, Y2O3, TiO2, Cr2O3, SixOy(x=1, y=1.5 내지 2.0), Ta2O3 등의 금속 산화물, ZrN, SiC, TiC, PSG, Si3N4, SiN, 단결정 Si, 아몰퍼스 Si 등을 들 수 있다. 또한, 금속박의 재료로서는, 예를 들어 알루미늄, 구리, 니켈 등의 금속 재료나, 스테인리스, 알루미늄 합금 등의 합금 재료 등을 들 수 있지만, 가공성이나 비용면에서 알루미늄이 바람직하다. 이것들은 1종류를 단독으로 사용해도 되고, 2종류 이상을 임의의 조합과 비율로 사용해도 된다.When the thermoplastic resin or the curable resin is used as the sealing substrate, it is preferable to form the gas barrier layer on the sealing substrate by a vapor deposition method or a coating method. Examples of the gas barrier layer include a metal vapor deposition film, an inorganic vapor deposition film, and a metal foil. Examples of the metal vapor deposition film and the inorganic vapor deposition film include thin film handbooks p879 to p901 (Nihon Gakujutsu Shinkokai), vacuum technology handbooks p502 to p509, p612, p810 (Nikkan Kogyo Shinbunsha), vacuum handbook presentation p132 to p134 KK) can be mentioned. For example, In, Sn, Pb, Au , Cu, Ag, Al, Ti, Ni, metal such as W, MgO, SiO, SiO 2 , Al 2
금속 증착막, 무기 증착막의 막 두께는, 증착막 형성의 용이함의 관점에서, 통상 5㎚ 이상, 바람직하게는 10㎚ 이상, 또한, 통상 1000㎚ 이하, 바람직하게는 300㎚ 이하이다. 금속박의 막 두께는, 제조 시의 취급성 및 패널의 박판화 관점에서, 1 내지 100㎛, 바람직하게는 10㎛ 내지 50㎛이다. 또한, 제조 시의 취급을 용이하게 하기 위해서, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 나일론 등의 수지 필름을 미리 라미네이트해 두어도 된다. 또한, 가스 배리어층 위에 열가소성 수지를 포함하는 보호층을 형성해도 된다.The film thickness of the metal vapor deposition film and the inorganic vapor deposition film is usually 5 nm or more, preferably 10 nm or more, and usually 1000 nm or less, preferably 300 nm or less, from the viewpoint of easiness of vapor deposition film formation. The film thickness of the metal foil is 1 to 100 占 퐉, preferably 10 占 퐉 to 50 占 퐉, from the viewpoint of handling at the time of production and thinning of the panel. Further, a resin film such as polyethylene terephthalate or nylon may be laminated in advance in order to facilitate handling during manufacture. Further, a protective layer containing a thermoplastic resin may be formed on the gas barrier layer.
본 실시 형태의 밀봉 기판의 수증기 투과도는, 유기 EL 패널로서 제품화할 때 필요해지는 가스 배리어성 등을 고려하여, 0.01g/㎡·day 이하인 것이 바람직하고, 또한 산소 투과도는 0.1ml/㎡·day·㎫ 이하인 것이 바람직하다. 수분 투과도는 JIS K7129B법(1992년)에 준거한 방법으로 주로 MOCON법에 의해 측정한 값이며, 산소 투과도는 JIS K7126B법(1987년)에 준거한 방법으로 주로 MOCON법에 의해 측정한 값이다.The water vapor transmission rate of the sealing substrate of the present embodiment is preferably 0.01 g / m < 2 > day or less in consideration of gas barrier property required for commercialization as an organic EL panel, and the oxygen permeability is 0.1 ml / MPa or less. The water permeability is a value measured by the MOCON method in accordance with the method of JIS K7129B (1992), and the oxygen permeability is a value measured by the MOCON method mainly in accordance with the method of JIS K7126B (1987).
(접착층)(Adhesive layer)
본 실시 형태에 있어서, 접착층은 소자 기판과 밀봉 기판을 접착하여 고정하고, 유기 EL 소자를 외부 환경으로부터 격리해서 밀폐하여 보호하는 층이다.In the present embodiment, the adhesive layer is a layer for sealing and protecting the organic EL element from the external environment by bonding and fixing the element substrate and the sealing substrate.
접착층은 밀봉 기판의 표면에 형성되어 있다. 접착층은 밀봉 기판의 적어도 편측의 표면에 형성되어 있으면 된다. 그리고, 밀봉 기판의 접착층이 형성된 면과 소자 기판의 유기 EL 소자가 형성된 면에 있어서 접합함으로써, 유기 EL 소자를 밀봉·밀폐할 수 있다. 또한, 접착층을 밀봉 기판의 양측 표면에 형성하고, 2매의 소자 기판을 당해 밀봉 기판의 양측으로부터 접합하고, 양측 면의 유기 EL 소자를 밀봉·밀폐할 수도 있다.The adhesive layer is formed on the surface of the sealing substrate. The adhesive layer may be formed on at least one surface of the sealing substrate. The organic EL element can be sealed and sealed by bonding the surface of the sealing substrate on which the adhesive layer is formed and the surface of the element substrate on which the organic EL element is formed. It is also possible to form an adhesive layer on both side surfaces of the sealing substrate, to bond the two element substrates from both sides of the sealing substrate, and to seal and seal the organic EL elements on both sides.
본 실시 형태에 있어서, 접착층을 구성하는 수지는 경화성 수지이다. 경화성 수지로서는, 열경화성 수지와 광경화성 수지 중 어느 하나, 또는 양자를 사용할 수 있다. 내습성, 내수성이 우수하고, 휘발 성분이 적으며, 경화 시의 수축이 적은 수지를 사용하는 것이 바람직하다.In the present embodiment, the resin constituting the adhesive layer is a curable resin. As the curable resin, any one or both of a thermosetting resin and a photo-curable resin can be used. It is preferable to use a resin which is excellent in moisture resistance and water resistance, less in volatile components and less in shrinkage upon curing.
열경화성 수지로서는, 예를 들어 에폭시 수지계, 아크릴 수지계, 실리콘 수지계, 우레아 수지계, 멜라민 수지계, 페놀 수지계, 레조르시놀 수지계, 불포화 폴리에스테르 수지계, 폴리우레탄 수지계 등의 열경화성 수지를 들 수 있다.Examples of the thermosetting resin include thermosetting resins such as epoxy resin, acrylic resin, silicone resin, urea resin, melamine resin, phenol resin, resorcinol resin, unsaturated polyester resin and polyurethane resin.
광경화성 수지로서는, 예를 들어 에스테르 아크릴레이트, 우레탄 아크릴레이트, 에폭시 아크릴레이트, 멜라민 아크릴레이트, 아크릴 수지 아크릴레이트 등의 각종 아크릴레이트, 또는 우레탄 폴리에스테르 등의 수지를 사용한 라디칼계 광경화성 수지, 에폭시, 비닐에테르 등의 수지를 사용한 양이온계 광경화성 수지 등을 들 수 있다.Examples of the photo-curing resin include radical-type photo-curing resins using various acrylates such as ester acrylate, urethane acrylate, epoxy acrylate, melamine acrylate and acryl resin acrylate, or urethane polyester, , Cationic photo-curing resins using resins such as vinyl ether, and the like.
경화성 수지에 의한 접착층의 형성 방법으로서는, 경화성 수지의 종류나 점도에 따라, 그라비아 코팅, 롤 코팅, 바 코팅, 다이 코팅, 나이프 코팅, 핫 멜트 코팅, 디핑, 스핀 코팅, 스프레이 코팅 등의 코팅법, 스크린 인쇄 등의 인쇄법을 사용할 수 있다. 접착층의 형성 시의 경화성 수지는, 저점도의 액체 상태여도 되고, 고점도의 페이스트 상태여도 된다.Examples of the method of forming the adhesive layer by the curable resin include a coating method such as gravure coating, roll coating, bar coating, die coating, knife coating, hot melt coating, dipping, spin coating and spray coating, A printing method such as screen printing can be used. The curable resin at the time of forming the adhesive layer may be in a liquid state of low viscosity or in a paste state of high viscosity.
접착층의 두께는, 밀봉 성능 및 패널의 박판화의 관점에서, 1㎛ 내지 100㎛가 바람직하다. 또한, 접착층 내부의 함유 수분을 제거하기 위해서, 접착층 중에는 산화 바륨이나 산화 칼슘 등의 건조제를 혼입해도 된다.The thickness of the adhesive layer is preferably 1 占 퐉 to 100 占 퐉 in terms of sealing performance and thinning of the panel. In order to remove moisture contained in the adhesive layer, a drying agent such as barium oxide or calcium oxide may be mixed into the adhesive layer.
접착층을 구성하는 경화성 수지에는 필요에 따라서 필러를 첨가하는 것이 바람직하다. 필러의 첨가량으로서는, 접착력을 고려하여 5 내지 70체적%가 바람직하다. 또한, 첨가하는 필러의 크기는 접착력, 접합 후의 접착층의 두께 등을 고려하여, 1㎛ 내지 100㎛가 바람직하다. 첨가하는 필러의 종류로서는 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 소다 유리, 무알칼리 유리 또는 실리카, 산화 안티몬, 티타니아, 알루미나, 지르코니아나 산화 텅스텐 등의 금속 산화물 등을 들 수 있다.It is preferable to add a filler to the curable resin constituting the adhesive layer, if necessary. The amount of the filler to be added is preferably 5 to 70% by volume in consideration of the adhesive force. The size of the filler to be added is preferably 1 占 퐉 to 100 占 퐉 in consideration of the adhesive strength, the thickness of the adhesive layer after bonding, and the like. The kind of the filler to be added is not particularly limited, and examples thereof include soda glass, alkali-free glass or metal oxide such as silica, antimony oxide, titania, alumina, zirconia or tungsten oxide.
(유기 EL 패널의 제조 방법)(Manufacturing Method of Organic EL Panel)
본 실시 형태의 유기 EL 패널의 제조 방법은, 유기 EL 소자가 표면에 형성된 긴 소자 기판과, 경화성 수지로 구성되는 접착층이 표면에 형성된 긴 밀봉 기판을, 당해 소자 기판의 유기 EL 소자가 형성된 면과 당해 밀봉 기판의 접착층이 형성된 면에 있어서 접합하여, 다층 기판을 형성하는 접합 공정과, 상기 다층 기판을 직선 반송하는 직선 반송 공정과, 상기 다층 기판을 직선 반송하면서 상기 접착층을 경화시키는 제1 경화 공정과, 상기 다층 기판을 굴곡 반송하면서 상기 접착층을 경화시키는 제2 경화 공정을 갖고, 이들 공정을 이 순서대로 행하는 것을 특징으로 하고 있다.A manufacturing method of an organic EL panel according to the present embodiment is a manufacturing method of an organic EL panel in which an elongated element substrate having an organic EL element formed on its surface and a long sealing substrate having an adhesive layer composed of a curable resin formed on its surface are bonded to the surface Layer substrate, a linear transporting step of linearly transporting the multilayer substrate, a first curing step of curing the adhesive layer while linearly transporting the multilayer substrate, And a second curing step of curing the adhesive layer while flexing and transporting the multilayer substrate, and these steps are performed in this order.
(유기 EL 패널의 제조 장치)(Organic EL panel manufacturing apparatus)
본 실시 형태의 유기 EL 패널의 제조 장치는, 제1 전극과 발광층을 포함하는 유기 기능층과 제2 전극을 갖는 유기 일렉트로루미네센스 소자가 표면에 형성된 긴 소자 기판과, 경화성 수지로 구성되는 접착층이 표면에 형성된 긴 밀봉 기판을 접합하여, 다층 기판을 형성하는 접합부와, 다층 기판을 직선 반송하는 직선 반송부와, 다층 기판을 직선 반송하면서 접착층을 경화시키는 제1 경화부와, 다층 기판을 굴곡 반송하면서 접착층을 경화시키는 제2 경화부를 구비하는 것을 특징으로 하고 있다.An apparatus for manufacturing an organic EL panel according to the present embodiment includes a long element substrate having an organic electroluminescence element having an organic functional layer including a first electrode and a light emitting layer and a second electrode formed on a surface thereof, A linear conveying section for linearly conveying the multilayer substrate; a first hardening section for hardening the adhesive layer while linearly conveying the multilayer substrate; And a second hardened portion for hardening the adhesive layer while being conveyed.
이하, 본 실시 형태의 유기 EL 패널의 제조 공정 및 제조 장치에 대하여 설명한다. 제조 공정에 따라, 청구항에 기재한 공정뿐만 아니라, 그 전후의 공정·설비도 포함하여, 도면을 참조하면서 설명한다.Hereinafter, the manufacturing process and the manufacturing apparatus of the organic EL panel according to the present embodiment will be described. The manufacturing process will be described with reference to the drawings, including not only the process described in the claims, but also the process and equipment before and after the process.
도 1은 본 실시 형태의 유기 EL 패널의 제조 공정 및 제조 장치를 도시하는 모식도이고, 본 실시 형태의 유기 EL 패널의 제조 장치(1)의 단면도로서 도시되어 있다.Fig. 1 is a schematic diagram showing a manufacturing process and an apparatus for manufacturing the organic EL panel according to the present embodiment, and is shown as a sectional view of the
(풀어내기 공정)(Unwinding process)
풀어내기 공정은, 긴 소자 기판이 감긴 롤로부터 소자 기판을 풀어내고, 긴 밀봉 기판이 감긴 롤로부터 밀봉 기판을 풀어내는 공정이다.The unwinding step is a step of loosening the element substrate from the roll on which the long element substrate is wound, and loosening the sealing substrate from the roll on which the long sealing substrate is wound.
도 1의 유기 EL 패널의 제조 장치(1)에는, 유기 EL 소자가 편면에 형성된 긴 소자 기판이 감긴 롤(4)과 롤(4)로부터 풀어내지는 소자 기판(2)을 가이드하기 위한 가이드 롤을 구비하는 소자 기판의 풀어내기부가 설치되어 있다. 소자 기판(2)은 롤(4)로부터 가이드 롤을 거쳐서 풀어내진다. 이때, 유기 EL 소자는 소자 기판(2)의 하측 표면에 형성되어 있다.1 includes a
도 1의 유기 EL 패널의 제조 장치(1)에는, 마찬가지로 긴 밀봉 기판이 감긴 롤(5)을 구비하는 밀봉 기판(3)의 풀어내기부가 설치되어 있다. 밀봉 기판(3)은 롤(5)로부터 풀어내진다.The
(접착층 도포 공정)(Adhesive layer application step)
이어서, 접착층 도포 공정에 있어서, 롤(5)로부터 풀어내진 밀봉 기판(3)의 표면 위에는, 페이스트 형상의 경화성 수지가 충전된 도포 장치(6)로부터 경화성 수지가 도포되어, 밀봉 기판(3)의 상측 표면에 접착층(7)이 형성된다. 경화성 수지를 도포한 후, 필요에 따라 건조기(도시하지 않음)를 설치하여, 접착층이 표면에 형성된 밀봉 기판(8)을 적절히 건조시킬 수 있다.Next, in the adhesive layer application step, a curable resin is applied onto the surface of the sealing
(접합 공정)(Bonding step)
접합 공정은, 소자 기판과 밀봉 기판을, 상기 소자 기판의 유기 EL 소자가 형성된 면과 상기 밀봉 기판의 접착층이 형성된 면에 있어서 접합하여, 다층 기판을 형성하는 공정이다. 접합하는 방식은 접합 롤에 의한 압착 방식이지만, 접합하는 수단이 특별히 한정되는 것은 아니다. 롤 라미네이트, 평판 접합, 다이어프램 접합 등 여러 가지 수단을 사용할 수 있다. 본 실시 형태에 있어서는, 대표적인 접합 수단으로서 접합 롤을 사용하고 있다.The bonding step is a step of bonding the element substrate and the sealing substrate on the surface of the element substrate on which the organic EL element is formed and the surface of the sealing substrate on which the adhesive layer is formed to form a multilayer substrate. The bonding method is a pressing method using a bonding roll, but the bonding means is not particularly limited. Roll laminate, flat plate bonding, diaphragm bonding, and the like. In this embodiment, a joining roll is used as a typical joining means.
도 1에 있어서, 접합부(10)는 소자 기판(2)과 밀봉 기판(3)을 접합하는 접합 롤(9)과, 필요에 따라서 접합하기 전에 접착층이 표면에 형성된 밀봉 기판(8)을 가열하기 위한 히터(도시하지 않음)를 구비하고 있다. 롤(4)로부터 풀어내진 소자 기판(2)과 접착층이 표면에 형성된 밀봉 기판(8)은, 접합 롤(9)에 의해 압착되어 접합된다.1, the
접합 롤(9)에 의한 접합에 의해, 소자 기판(2)과 밀봉 기판(3)은 접착층(7)을 개재하여 간극 없이 밀착되어, 유기 EL 소자를 내부에 밀봉하는 것이 가능하게 된다. 우수한 밀봉 성능을 얻기 위해서, 밀봉 기판(3)의 표면에 형성된 접착층(7)이 유동화된 상태에서, 접합 롤(9)에 의해 접합되는 것이 바람직하다. 여기서, 접착층(7)의 유동화란, 접착층(7)을 구성하는 수지의 점도를 10㎩·s 이상 5000㎩·s 미만으로 하는 것이다. 접착층(7)을 구성하는 수지의 유동화 시의 점도는, 바람직하게는 50 내지 200㎩·s이다.By bonding by the
접합 롤(9)은 롤 표면을 가열하는 기능을 가진 것이어도 되고, 갖고 있지 않은 것이어도 된다. 접착층(7)을 구성하는 경화성 수지가, 접합 전에 있어서 유동화 상태에 있으면, 접합 롤(9) 또는 접합 롤(9) 앞에 설치된 히터(도시하지 않음)에 의해 가열하는 것은 불필요하다. 또한, 열경화성 수지를 가열할 때에는, 가열 온도가 열경화성 수지의 경화 개시 온도를 초과하지 않도록 유의한다.The
여기서, 열경화성 수지의 경화 개시 온도란, DSC를 사용하여, 질소 분위기 하에서, 승온 속도 5℃/분으로 열경화성 수지를 가열해 갔을 때의, 경화에 의한 발열 피크의 상승 온도로서 정의된다.Here, the curing initiation temperature of the thermosetting resin is defined as the rising temperature of the exothermic peak due to curing when the thermosetting resin is heated under a nitrogen atmosphere at a heating rate of 5 deg. C / min using DSC.
또한, 풀어내기 공정, 접착층 도포 공정, 접합 공정에 있어서는, 소자 기판과 밀봉 기판의 접합 위치를 위치 정보에 의한 조정 기구에 의해 조정하는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 유기 EL 소자의 취출 전극 위치를 나타내는 정보로서, 소자 기판 위에 얼라인먼트 마크를 형성하고, 상기 얼라인먼트 마크를 센서를 사용하여 검출함으로써, 소자 기판 위의 취출 전극 위치를 특정한다. 한편, 그 취출 전극 위치 정보에 따라 밀봉 기판 위에 전극 취출용 개구부를 형성한다. 그 후, 양쪽 기판의 각 위치 정보에 기초하여, 양쪽 기판의 상호의 위치를 제어하면서 접합함으로써, 소자 기판 위의 취출 전극과 밀봉 기판 위의 전극 취출용 개구부가 고정밀도로 접합된 다층 기판을 얻을 수 있다. 소자 기판과 밀봉 기판의 접합 위치의 위치 정보에 의한 조정 기구의 상세 내용은, 특허문헌 1에 기재되어 있다.In the unwinding step, the adhesive layer coating step, and the bonding step, it is preferable to adjust the bonding position of the element substrate and the sealing substrate by an adjusting mechanism based on position information. Specifically, an alignment mark is formed on an element substrate as information indicating a position of a lead-out electrode of the organic EL element, and the position of the lead-out electrode on the element substrate is specified by detecting the alignment mark using a sensor. On the other hand, an opening for electrode extraction is formed on the sealing substrate in accordance with the extraction electrode position information. Thereafter, based on the positional information of both the substrates, a multi-layer substrate in which the extraction electrodes on the element substrate and the electrode extraction openings on the sealing substrate are bonded with high precision can be obtained have. Details of the adjustment mechanism by the positional information of the bonding position of the element substrate and the sealing substrate are described in
도 1에 있어서, 접합 롤(9)은 상하 쌍의 롤로 구성되는, 소위 닙롤이다. 소자 기판(2)과 밀봉 기판(3)이 접합되고, 접착층(7)에 의해 유기 EL 소자가 밀폐·밀봉된 다층 기판(11)이 형성된다. 롤의 수는 1쌍인 2개여도 되고, 필요에 따라서 또한 2쌍인 4개 등으로 증가시켜도 상관없다. 또한 닙 압력이나 롤의 회전 속도는, 소자 기판(2)과 밀봉 기판(3)을 접합할 수 있고, 유기 EL 소자를 손상시키지 않는 조건으로 적절히 설정한다. 또한, 접합부(10)는 상기 소자 기판(2)과 밀봉 기판(3)의 접합 위치의 위치 정보에 의한 조정 기구(도시하지 않음)를 구비하고 있는 것이 바람직하다.In Fig. 1, the
(직선 반송 공정)(Linear conveying step)
직선 반송 공정은, 다층 기판 접합 공정 후, 제1 경화 공정에 이르기까지의 사이, 직선 반송하는 공정이다. 접합 공정을 거친 직후의 소자 기판과 밀봉 기판이 접착층에 의해 접합된 다층 기판은, 접착층이 경화되어 있지 않기 때문에, 굴곡 공정 등을 통과시키면, 층간에 박리가 발생하거나, 접착층에 전단력이 작용하게 되어, 층간에 위치 어긋남이나 변형이 발생하거나 할 가능성이 있다. 그로 인해, 접착층이 경화되기 전의 다층 기판은 직선 반송할 필요가 있다.The linear transporting step is a step of linearly transporting the multilayer substrate bonding process to the first curing process. Since the adhesive layer is not cured in the multilayer substrate in which the element substrate immediately after the bonding step is bonded to the sealing substrate by the adhesive layer, peeling occurs in the interlayer between the multilayer substrate and the adhesive layer, , There is a possibility that positional deviation or deformation may occur between layers. Therefore, the multilayer substrate before the adhesive layer is hardened needs to be linearly transported.
여기서, 직선 반송이란, 반송 롤 상에서, 기판의 경사각이 기본적으로 0°가 되는 반송 경로를 의미한다. 단, 기판의 자중이나 장력의 관계로 휘는 경우에는, 기판의 경사각이 20° 미만이어도 된다. 기판의 경사각이란, 롤 축 방향에 대한 수직 단면에 있어서, 기판이 권회된 롤에 대하여 기판이 접선으로 되어 있는 부분으로부터 롤의 회전 중심점에 내린 2개의 수선끼리의 사이에 있어서 이루는 각을 말한다. 또한, 롤 사이의 프리 스팬에 있어서는, 기판의 휨 곡률이 R1000㎜ 이상인 것을 의미한다.Here, the straight conveyance means a conveyance path on which the inclination angle of the substrate is basically 0 degrees on the conveying roll. However, when the substrate is warped in relation to its own weight or tension, the inclination angle of the substrate may be less than 20 degrees. The inclination angle of the substrate refers to an angle formed between two water lines falling from the portion where the substrate is tangent to the roll on which the substrate is wound to the rotation center point of the roll in a vertical cross section with respect to the roll axis direction. In the free span between the rolls, it means that the flexural curvature of the substrate is R1000 mm or more.
도 1에 있어서, 직선 반송부(12)는 접합부(10)를 통과한 다층 기판(11)이 제1 경화부(14)에 반송될 때까지의 부분이다.In Fig. 1, the
(제1 경화 공정)(First curing step)
제1 경화 공정은, 다층 기판을 직선 반송하면서, 다층 기판 중의 접착층을 경화시키는 공정이다. 이 제1 경화 공정에 있어서는, 다층 기판을 직선 반송시키면서, 접착층에 위치 어긋남이나 변형이 발생하지 않은 상태에서 경화시킨다. 단, 접착층을 완전 경화시키지는 않고, 일부 경화에 그치도록 한다. 다층 기판의 접착층을 부분적으로 경화시킴으로써, 그 후, 후술하는 굴곡 반송 시, 층간에 위치 어긋남이나 박리가 발생하거나 하는 것을 억제할 수 있다.The first curing step is a step of curing the adhesive layer in the multilayer substrate while linearly transporting the multilayer substrate. In the first curing step, the multilayer substrate is transported in a straight line, and the adhesive layer is cured in a state in which no displacement or deformation occurs. However, the adhesive layer is not completely cured, but is kept partially cured. By partially curing the adhesive layer of the multi-layer substrate, it is possible to suppress the occurrence of positional shifts and delamination between the layers during bending and transportation, which will be described later.
또한, 제1 경화 공정 후이며, 다음 제2 경화 공정 전에 있어서의 접착층을 구성하는 경화성 수지의 경화율은, 30% 이상이도록 제어하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 40% 이상이고, 더욱 바람직하게는 50% 이상이다. 또한, 70% 이하이도록 제어하는 것이 바람직하다.It is also preferable that the curing rate of the curable resin constituting the adhesive layer after the first curing step and before the second curing step is controlled to be 30% or more. , More preferably not less than 40%, and even more preferably not less than 50%. Further, it is preferable to control it to be 70% or less.
여기서, 경화성 수지의 경화율은, 경화성 수지 중에 존재하고 있는 가교성 단량체 등에서 유래하는 특징적인 IR 피크의 강도를 측정함으로써, 경화 반응의 진행 정도로서 측정할 수 있다. 경화 반응 전의 초기 상태의 단량체 유래의 특징적인 IR 피크 강도를 0%로 하고, 경화 반응이 진행되어 단량체가 거의 완전히 소비되어 단량체 유래의 특징적인 IR 피크 강도가 0이 된 상태를 100%로 하여, 상대적인 경화도를 평가할 수 있다. 단량체 유래의 피크 강도는, 통상적인 FT-IR(푸리에 변환 적외선 분광 광도계)을 사용하여, 리얼타임 FT-IR의 측정에 의해, 비파괴 상태에서 측정할 수 있다. 예를 들어, 서모피셔사 제조 FT-IR(제품 번호: Nicolet FT-IR)을 사용하여, 스펙트럼 분해능 2㎝-1, 15초(적산 8회) 간격으로 측정을 행한다. 검출기에는 DTGS를 사용하고, 리얼타임 데이터의 측정 및 시분할 데이터 세트의 해석에는, 서모피셔사 제조 리얼타임 해석 소프트웨어(제품 번호: OMNIC Series)를 사용할 수 있다. 측정 대상인 접착층을 구성하는 경화성 수지와 동일한 수지 샘플을 사용하여, 제1 경화 공정에 상당하는 조건에 두었을 때의 FT-IR 스펙트럼을 측정함으로써, 제1 경화 공정 후의 경화도를 측정할 수 있다.Here, the curing rate of the curable resin can be measured as the progress of the curing reaction by measuring the intensity of a characteristic IR peak derived from a crosslinkable monomer or the like existing in the curable resin. The state where the characteristic IR peak intensity derived from the monomer in the initial state before the curing reaction was set to 0% and the characteristic IR peak intensity derived from the monomer was almost zero due to the progress of the curing reaction and the monomer was completely consumed was taken as 100% The relative degree of curing can be evaluated. The peak intensity derived from a monomer can be measured in a non-destructive state by measurement of real-time FT-IR using a conventional FT-IR (Fourier transform infrared spectrophotometer). For example, FT-IR (product number: Nicolet FT-IR) manufactured by Thermo Fisher Co., Ltd. is used for measurement at spectral resolving power of 2 cm -1 and 15 seconds (8 integrations). DTGS is used for the detector, and real time analysis software (product number: OMNIC Series) manufactured by Thermo Fisher can be used for measurement of real time data and analysis of time division data set. The degree of curing after the first curing step can be measured by measuring the FT-IR spectrum when the same resin sample as that of the curable resin constituting the adhesive layer to be measured is placed under the condition corresponding to the first curing step.
제1 경화 공정 후이며, 다음 제2 경화 공정 전에 있어서의 접착층을 구성하는 경화성 수지의 경화율은 30% 이상이도록 제어함으로써, 후술하는 제2 경화 공정 이후에 굴곡 반송할 때, 층간에 위치 어긋남이나 변형이 발생하거나 하는 것을 억제할 수 있다. 또한, 부분적으로 경화된 상태에서 다층 기판이 굴곡됨으로써, 다층 기판 중에 내재되어 있는 변형을 해방하여, 잔류 응력을 완화하는 것이 가능하게 된다.After the first curing step and before the next second curing step, the curing rate of the curable resin constituting the adhesive layer is controlled to be 30% or more so that, when bent and conveyed after the second curing step described later, It is possible to suppress the occurrence of deformation or the like. In addition, since the multilayered substrate is bent in a partially cured state, the deformation inherent in the multilayered substrate can be released and the residual stress can be relaxed.
또한, 제1 경화 공정 후이며, 다음 제2 경화 공정 전에 있어서의 접착층을 구성하는 경화성 수지의 점도는 3000㎩·s 이상이도록 제어하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 4000㎩·s 이상이고, 더욱 바람직하게는 5000㎩·s 이상이다. 또한, 500000㎩·s 이하이도록 제어하는 것이 바람직하다.It is also preferable that the viscosity of the curable resin constituting the adhesive layer after the first curing step and before the second curing step is controlled to be 3000 Pas s or more. More preferably not less than 4000 Pa · s, and still more preferably not less than 5,000 Pa · s. Further, it is preferable to control to be 500000 Pa 占 퐏 or less.
여기서, 접착층을 구성하는 경화성 수지의 점도는, 통상적인 고분자용 점도계라면 측정 가능하다. 예를 들어, REOLOGICA사 제조 레오미터 DAR-100을 사용하여 측정할 수 있다. 측정 대상인 접착층을 구성하는 경화성 수지와 동일한 수지 샘플을 사용하여, 제1 경화 공정에 상당하는 조건에 두었을 때의 점도를 측정함으로써, 제1 경화 공정 후의 점도를 측정할 수 있다.Here, the viscosity of the curable resin constituting the adhesive layer can be measured by a conventional viscometer for a polymer. For example, it can be measured using a rheometer DAR-100 manufactured by REOLOGICA. The viscosity after the first curing step can be measured by using the same resin sample as that of the curable resin constituting the adhesive layer to be measured and measuring the viscosity of the resin sample under the conditions corresponding to the first curing step.
제1 경화 공정 후이며, 다음 제2 경화 공정 전에 있어서의 접착층을 구성하는 경화성 수지의 점도는 3000㎩·s 이상이도록 제어함으로써, 후술하는 제2 경화 공정 이후에 굴곡 반송할 때, 층간에 위치 어긋남이나 변형이 발생하거나 하는 것을 억제할 수 있다. 또한, 부분적으로 경화된 상태에서 다층 기판이 굴곡됨으로써, 다층 기판 중에 내재되어 있는 변형을 해방하여, 잔류 응력을 완화하는 것이 가능하게 된다. 이 경우, 그 후의 제2 경화 공정에서 가열 등 되었을 때 점도가 저하되지 않는 레벨까지 점도를 높여 두는 것이 바람직하다.After the first curing step and before the next second curing step, the viscosity of the curable resin constituting the adhesive layer is controlled to be not less than 3,000 Pa · s so that when the resin is bent and conveyed after the second curing step described later, It is possible to suppress the occurrence or the occurrence of deformation. In addition, since the multilayered substrate is bent in a partially cured state, the deformation inherent in the multilayered substrate can be released and the residual stress can be relaxed. In this case, it is preferable to increase the viscosity to a level at which the viscosity does not decrease when heated or the like in the subsequent second curing step.
접착층을 구성하는 경화성 수지가 열경화성 수지일 때에는, 제1 경화 공정 및 제2 경화 공정에서의 접착층의 경화 수단은 가열인 것이 바람직하다. 접착층을 구성하는 경화성 수지가 광경화성 수지일 때에는, 제1 경화 공정 및 제2 경화 공정에서의 접착층의 경화 수단은 광조사인 것이 바람직하다.When the curable resin constituting the adhesive layer is a thermosetting resin, it is preferable that the curing means of the adhesive layer in the first curing step and the second curing step is heating. When the curable resin constituting the adhesive layer is a photo-curable resin, it is preferable that the curing means of the adhesive layer in the first curing step and the second curing step is light irradiation.
도 1에 있어서, 제1 경화부(14)는 다층 기판(11) 중의 접착층을 경화시키기 위한 경화 장치(13)를 구비하고 있다. 다층 기판(11) 중의 접착층이 열경화성 수지일 때에는, 경화 장치(13)는 히터이고, 다층 기판(11) 중의 접착층이 광경화성 수지일 때에는, 경화 장치(13)는 광조사 장치이다. 히터 또는 광조사 장치는, 공지된 여러가지 방식의 장치로부터 적절한 것을 선택하여 사용할 수 있다.1, the
(제2 경화 공정)(Second curing step)
제2 경화 공정은, 제1 경화부에 있어서 접착층이 부분적으로 경화된 다층 기판이 반입되고, 상기 다층 기판을 굴곡 반송하면서, 상기 다층 기판 중의 접착층을 경화시키는 공정이다. 이 제2 경화 공정에 있어서는, 다층 기판을 굴곡 반송시키면서, 접착층을 완전히 경화시킨다. 다층 기판의 접착층을 완전히 경화시킴으로써, 유기 EL 소자는, 소자 기판과 밀봉 기판 위의 접착층의 사이에 끼워져 밀폐·밀봉되게 된다.In the second curing step, a multi-layer substrate on which the adhesive layer is partially cured is carried in the first curing section, and the adhesive layer in the multi-layer substrate is cured while flexing and transporting the multi-layer substrate. In the second curing step, the adhesive layer is completely cured while flexing and transporting the multi-layer substrate. By completely curing the adhesive layer of the multilayer substrate, the organic EL element is sandwiched and sealed between the element substrate and the adhesive layer on the sealing substrate.
여기서, 굴곡 반송이란, 반송 롤 위에서 기판의 자중이나 장력의 관계로 휠 경우에, 기판의 경사각이 20° 이상이 되는 것이다. 또한, 롤 사이의 프리 스팬에 있어서는, 기판의 휨 곡률이 R1000㎜ 미만이 되는 것도 포함된다.Here, the bending conveyance means that the inclination angle of the substrate is 20 DEG or more when the substrate is wound on the conveying roll in relation to the self weight or tension of the substrate. In the free span between the rolls, the bending curvature of the substrate is less than R1000 mm.
이렇게 굴곡 반송시키면서 접착층을 경화시킴으로써, 접합 시에 생성된 변형이나 접착층의 경화 시에 발생하는 수축 응력이 분산·해방되어, 경화 후의 응력의 잔류가 저감된다. 그로 인해, 긴 기재의 접합 후의 위치 어긋남이나 박리가 방지된다. 유기 EL 패널이 된 시점에 있어서도, 박리나 컬 등이 경시적으로 발생하는 것을 억제하는 것이 가능하게 되고, 밀봉 성능의 향상을 도모할 수 있다.By curing the adhesive layer while flexing and conveying the adhesive layer, the shrinkage stress generated at the time of bonding and at the time of curing the adhesive layer is dispersed and released, and the residual stress after curing is reduced. As a result, positional deviation and peeling of the long base material after bonding can be prevented. It is possible to suppress the occurrence of peeling, curling and the like over time even when the organic EL panel is formed, and the sealing performance can be improved.
다층 기판을 굴곡 반송시키는 방법은 특별히 한정되는 것은 아니다. 롤의 조합, 벨트의 조합, 롤과 벨트의 조합, 롤과 권취 롤의 조합, 벨트와 권취 롤의 조합 등, 다양한 방법을 사용할 수 있다. 또한, 롤이나 벨트의 수, 크기, 상호 거리, 반송 속도, 반송 장력, 경과 시간도 적절히 선택하여 사용할 수 있다.The method of bending and transporting the multilayer substrate is not particularly limited. A combination of rolls, a combination of rolls, a combination of rolls and belts, a combination of rolls and winding rolls, and a combination of belt and winding rolls. Also, the number, size, mutual distance, transport speed, transport tension, and elapsed time of the rolls or belts can be appropriately selected and used.
또한, 다층 기판을 굴곡 반송시키면서 접착층을 경화시키기 위해서, 접착층을 구성하는 경화성 수지가 열경화성 수지일 때에는 가열 수단을, 접착층을 구성하는 경화성 수지가 광경화성 수지일 때는 광조사 수단을 구비하고 있다.When the curable resin constituting the adhesive layer is a thermosetting resin, a heating means and a light irradiation means when the curable resin constituting the adhesive layer is a photo-curable resin are provided for curing the adhesive layer while flexing and transporting the multilayer substrate.
도 1에 있어서, 제2 경화부(17)는 다층 기판(11)을 굴곡 반송할 수 있도록, 굴곡 반송하는 것이 가능한 5개의 롤(15)의 조합을 구비하고 있다. 다층 기판(11)은 이들 복수의 롤(15) 사이를 교대로 20° 이상의 경사각으로 굴곡 반송된다.In Fig. 1, the second
또한, 도 1에 있어서, 다층 기판(11) 중의 접착층을 경화시키기 위해서, 제2 경화부(17)는 다층 기판(11) 중의 접착층을 경화시키기 위한 경화 장치(16)를 구비하고 있다. 다층 기판(11) 중의 접착층이 열경화성 수지일 때에는, 경화 장치(16)는 히터이고, 다층 기판(11) 중의 접착층이 광경화성 수지일 때에는, 경화 장치(16)는 광조사 장치이다. 히터 또는 광조사 장치는, 공지된 여러 가지 방식의 장치로부터 적절한 것을 선택하여 사용할 수 있다.1, the second
이와 같이, 본 실시 형태의 제2 경화 공정은, 다층 기판을 롤 등의 사이에서 굴곡 반송시키기 때문에, 제2 경화 공정의 설비 치수를 단축할 수 있는 점에서, 유기 EL 패널의 제조 장치의 대형화를 억제할 수 있다.As described above, since the second curing step according to the present embodiment flexibly transports the multilayer substrate between rolls or the like, it is possible to reduce the size of the apparatus for the second curing step, .
(권취 공정, 절단 공정)(Winding process, cutting process)
도 1에 있어서, 상술한 제2 경화 공정을 거친 다층 기판(11)은, 그 후, 긴 유기 EL 패널로서 롤(18)로서 권취되거나, 소정의 치수로 절단되어, 다수의 유기 EL 패널로 할 수 있다.In Fig. 1, the
(챔버)(chamber)
본 실시 형태의 유기 EL 패널의 제조 장치(1)에서, 풀어내기 공정, 접착층 도포 공정, 접합 공정, 직선 반송 공정, 제1 경화 공정, 제2 경화 공정, 권취 공정, 절단 공정 등의 각 공정은, 외부 환경으로부터 보호하기 위해서, 챔버 내에 설치되어 있어도 된다. 개개의 공정마다 챔버를 설치해도 되고, 복수의 공정을 포함한 챔버로서 설치해도 된다. 예를 들어, 접합 공정을 대기압 미만의 감압 분위기 하에서 행할 때에는, 접합부(10)를 대기압 미만의 감압 분위기 하에서 관리할 수 있는 기능을 가진 챔버 내에 설치하는 것이 가능하다. 다른 공정에 대해서도 마찬가지이다.In the
이상, 설명해 온 바와 같이, 본 발명의 유기 EL 패널의 제조 방법에 의하면, 롤 투 롤 방식에 의해 긴 기재를 사용한 연속 생산이 가능하고, 긴 기재의 접합 후의 위치 어긋남이나 박리를 방지할 수 있다. 그 결과, 유기 EL 패널의 밀봉 성능의 향상과 생산성의 향상을 도모할 수 있다. 또한, 유기 EL 패널이 경시적으로 컬링되는 것을 억제할 수 있다.As described above, according to the method for producing an organic EL panel of the present invention, continuous production using a long substrate can be performed by a roll-to-roll system, and displacement and peeling of a long substrate after bonding can be prevented. As a result, the sealing performance of the organic EL panel can be improved and the productivity can be improved. Also, curling of the organic EL panel over time can be suppressed.
또한, 본 발명의 유기 EL 패널의 제조 장치에 의하면, 긴 기재를 사용한 유기 일렉트로루미네센스 패널의 연속 생산이 가능하고, 긴 기재의 접합 후의 위치 어긋남이나 박리를 방지하며, 제조 장치의 대형화를 억제하여 콤팩트한 제조 장치로 할 수 있다.Further, according to the apparatus for manufacturing an organic EL panel of the present invention, it is possible to continuously produce an organic electroluminescent panel using a long substrate, prevent displacement and peeling of a long substrate after bonding, So that a compact manufacturing apparatus can be obtained.
[유기 EL 소자의 구조][Structure of Organic EL Device]
이하에, 본 실시 형태의 유기 EL 소자의 구성에 대해서, 보다 상세하게 설명한다(도시하지 않음).Hereinafter, the structure of the organic EL device of the present embodiment will be described in more detail (not shown).
유기 EL 소자의 유기 기능층으로서는, 발광층이라는 발광에 직접 관여하는 기본적인 유기 기능층 이외에, 예를 들어 캐리어(정공 및 전자)의 주입층, 저지층 및 수송층 등의 각종 기능을 갖는 유기 기능층을 구비하고 있어도 된다. 그리고, 유기 EL 소자는, 통상적으로는 소자 기판, 전극이나 발광층에 더하여, 이들 각종 유기 기능층 등을 적층하여 구성된다.As the organic functional layer of the organic EL device, an organic functional layer having various functions such as a carrier (hole and electron) injection layer, a blocking layer, and a transport layer may be provided in addition to a basic organic functional layer directly involved in light emission, . The organic EL device is usually formed by laminating these various organic functional layers in addition to an element substrate, an electrode, and a light emitting layer.
유기 EL 소자에 있어서, 유기 기능층의 바람직한 적층 예는 이하와 같다. 또한, 이하의 (1) 내지 (6)에 있어서, 통상적으로는 먼저 기재된 층이 제1 전극(양극)측에 형성되고, 이하, 기재된 순서대로 제2 전극(음극)측에 도달하도록 적층된다.In the organic EL device, a preferable example of the lamination of the organic functional layer is as follows. In the following (1) to (6), the layers described previously are formed on the first electrode (anode) side and are stacked so as to reach the second electrode (cathode) side in the order described below.
(1) 발광층/전자 수송층(1) Emissive layer / electron transport layer
(2) 정공 수송층/발광층/전자 수송층(2) hole transporting layer / light emitting layer / electron transporting layer
(3) 정공 수송층/발광층/정공 저지층/전자 수송층(3) hole transporting layer / light emitting layer / hole blocking layer / electron transporting layer
(4) 정공 수송층/발광층/정공 저지층/전자 수송층/전자 주입층(음극 버퍼층)(4) hole transporting layer / light emitting layer / hole blocking layer / electron transporting layer / electron injecting layer (cathode buffer layer)
(5) 정공 주입층(양극 버퍼층)/정공 수송층/발광층/정공 저지층/전자 수송층/전자 주입층(5) Hole injection layer (anode buffer layer) / hole transport layer / light emitting layer / hole blocking layer / electron transport layer / electron injection layer
(6) 정공 주입층/정공 수송층/발광층/전자 수송층/전자 주입층(6) Hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer / electron injection layer
이하, 유기 EL 소자를 구성하는 각 부를 설명한다. 단, 유기 EL 소자의 구성은, 이하의 내용에 전혀 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, each part constituting the organic EL element will be described. However, the constitution of the organic EL element is not limited to the following contents at all.
소자 기판은, 상기한 바와 같이, 수지 등의 가요성이 있는 기재로 구성되는 것이 바람직하다. 또한, 소자 기판으로서 수지를 사용하는 경우, 수지 시트의 표면에는, 다음에 기재하는 가스 배리어층이 형성되는 것이 바람직하다.As described above, the element substrate is preferably composed of a flexible substrate such as a resin. When a resin is used as the element substrate, it is preferable that the gas barrier layer described below is formed on the surface of the resin sheet.
(가스 배리어층)(Gas barrier layer)
소자 기판과 유기 기능층의 사이에는, 방습의 관점에서, 1층 또는 2층 이상의 가스 배리어층이 형성되는 것이 바람직하다.It is preferable that one or more gas barrier layers are formed between the element substrate and the organic functional layer from the viewpoint of moisture resistance.
가스 배리어층을 형성하는 재료로서는 특별히 제한되지는 않지만, 예를 들어 무기물, 유기물의 피막 또는 그 양자의 하이브리드 피막을 들 수 있다. 수분이나 산소 등 소자의 열화를 초래하는 것의 침입을 억제하는 기능을 갖는 재료가 바람직하고, 예를 들어 산화 규소, 이산화 규소 등의 금속 산화물, 질화 규소 등의 금속 질화물 등을 사용할 수 있다. 또한, 가스 배리어층의 강도를 보다 향상시키기 위해서, 무기층과 유기층을 포함하는 층의 적층 구조로 하는 것이 바람직하다. 무기층과 유기층과의 적층 순서는 특별히 제한되지 않지만, 양자를 교대로 복수회 적층시키는 것이 바람직하다.The material for forming the gas barrier layer is not particularly limited, and examples thereof include an inorganic material, an organic material film, or a hybrid film of both. It is preferable to use a material having a function of suppressing intrusion of elements such as moisture and oxygen which causes deterioration of the element. For example, a metal oxide such as silicon oxide, silicon dioxide, or a metal nitride such as silicon nitride can be used. Further, in order to further improve the strength of the gas barrier layer, it is preferable to adopt a laminated structure of a layer containing an inorganic layer and an organic layer. The order of lamination of the inorganic layer and the organic layer is not particularly limited, but it is preferable to laminate the two layers alternately a plurality of times.
(제1 전극)(First electrode)
제1 전극(양극)은 유기 기능층(구체적으로는 발광층)에 정공을 공급(주입)하는 전극막이다. 제1 전극의 재료의 종류나 물성은 특별히 제한되지 않고, 임의로 설정할 수 있다. 예를 들어, 제1 전극은 일함수가 큰(4eV 이상) 재료, 예를 들어 금속, 합금, 전기 전도성 화합물 및 이들의 혼합물 등의 전극 재료로 형성 가능하다. 또한, 제1 전극은, 산화 인듐 주석(ITO)이나 산화 인듐 아연 등의 광투과성을 갖는 재료(투명 전극)에 의해 구성되어 있어도 된다.The first electrode (anode) is an electrode film that supplies (injects) holes to the organic functional layer (specifically, the light emitting layer). The kind and physical properties of the material of the first electrode are not particularly limited and can be arbitrarily set. For example, the first electrode can be formed of an electrode material such as a material having a large work function (4 eV or more), for example, a metal, an alloy, an electrically conductive compound, or a mixture thereof. In addition, the first electrode may be made of a transparent material (transparent electrode) such as indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide.
제1 전극(양극)으로서의 시트 저항은 몇백 Ω/□ 이하가 바람직하다. 또한 막 두께는 재료에 따라 다르지만, 통상 10 내지 1000㎚, 바람직하게는 10 내지 200㎚의 범위에서 선택된다.The sheet resistance as the first electrode (anode) is preferably several hundreds? /? Or less. Though the film thickness varies depending on the material, it is usually selected in the range of 10 to 1000 nm, preferably 10 to 200 nm.
(유기 기능층)(Organic functional layer)
유기 기능층을 구성하는 각종 유기 기능층에 대하여 이하에 설명하지만, 이들 유기 기능층의 각 유기 기능층의 구체적인 재료 등은 공지된 재료 등을 적용하는 것이 가능하기 때문에, 그 설명을 생략한다. 또한, 유기 기능층을 형성하는 방법에 대해서도, 증착법, 도포법 등, 공지된 방법을 적용하는 것이 가능하기 때문에, 그 설명을 생략한다.Various organic functional layers constituting the organic functional layer will be described below, but a known material such as a specific material for each organic functional layer of these organic functional layers can be applied, and thus the description thereof will be omitted. Further, with respect to the method of forming the organic functional layer, known methods such as a vapor deposition method and a coating method can be applied, and therefore, the description thereof will be omitted.
《발광층》The term "
발광층은, 제1 전극으로부터 직접, 또는 제1 전극으로부터 정공 수송층 등을 통하여 주입되는 정공과, 제2 전극(음극)으로부터 직접, 또는 제2 전극으로부터 전자 수송층 등을 통하여 주입되는 전자가 재결합함으로써 발광하는 층이다. 또한, 발광하는 부분은 발광층의 내부여도 되고, 발광층과 그것에 인접하는 층 사이의 계면이어도 된다.The light emitting layer is formed by recombining holes injected from the first electrode directly or from the first electrode through the hole transporting layer or the like and electrons injected from the second electrode (cathode) through the electron transporting layer or the like, . The light emitting portion may be the inside of the light emitting layer, or may be the interface between the light emitting layer and the adjacent layer.
발광층은, 호스트 화합물(호스트 재료)과, 발광 재료(발광 도펀트 화합물)를 포함하는 유기 발광성 재료로 형성하는 것이 바람직하다. 발광층을 이렇게 구성하면, 발광 재료의 발광 파장이나 함유시키는 발광 재료의 종류 등을 적절히 조정함으로써, 임의의 발광색을 얻을 수 있다. 또한, 발광층을 이렇게 구성함으로써, 발광층 중의 발광 재료에 있어서 발광시킬 수 있다.The light emitting layer is preferably formed of an organic luminescent material containing a host compound (host material) and a luminescent material (luminescent dopant compound). By constituting the light-emitting layer in this way, any light-emitting color can be obtained by suitably adjusting the light-emitting wavelength of the light-emitting material and the kind of the light-emitting material to be contained. Further, by constituting the light-emitting layer in this way, the light-emitting material in the light-emitting layer can emit light.
발광층의 막 두께의 총합은, 원하는 발광 특성 등에 따라서 적절히 설정할 수 있다. 예를 들어, 발광층의 균질성, 발광시에 있어서의 불필요한 고전압 인가의 방지 및, 구동 전류에 대한 발광색의 안정성 향상 등의 관점에서, 발광층의 막 두께의 총합은 1㎚ 이상 200㎚ 이하로 하는 것이 바람직하다. 특히, 저구동 전압의 관점에서는, 발광층의 막 두께의 총합은 30㎚ 이하로 하는 것이 바람직하다.The total sum of the film thicknesses of the light-emitting layers can be appropriately set in accordance with desired light-emitting characteristics and the like. From the viewpoints of, for example, homogeneity of the light-emitting layer, prevention of unnecessary high-voltage application at the time of light emission, and improvement of the stability of the luminescent color with respect to the drive current, the total thickness of the luminescent layers is preferably 1 nm or more and 200 nm or less Do. In particular, from the viewpoint of the low driving voltage, it is preferable that the sum of the film thicknesses of the light emitting layers is 30 nm or less.
발광층에 포함되는 호스트 화합물로서는, 실온(25℃)에 있어서의 인광 발광의 인광 양자 수율로서, 0.1 이하인 화합물이 바람직하고, 0.01 이하의 화합물이 보다 바람직하다. 또한, 발광층 중의 호스트 화합물의 체적비는, 발광층에 포함되는 각종 화합물 중, 50% 이상으로 하는 것이 바람직하다.The host compound contained in the light emitting layer is preferably a compound having a phosphorescence emission yield of phosphorescence at room temperature (25 캜) of 0.1 or less, more preferably 0.01 or less. The volume ratio of the host compound in the light emitting layer is preferably 50% or more of the various compounds contained in the light emitting layer.
발광층에 포함되는 발광 재료로서는, 예를 들어 인광 발광 재료(인광성 화합물, 인광 발광성 화합물), 형광 발광 재료 등을 사용할 수 있다. 또한, 하나의 발광층에는, 1종류의 발광 재료를 함유시켜도 되고, 발광 극대 파장이 서로 상이한 복수종의 발광 재료를 함유시켜도 된다. 복수종의 발광 재료를 사용함으로써, 발광 파장이 상이한 복수의 광을 혼합시켜서 발광시킬 수 있고, 이에 의해, 임의의 발광색의 광을 얻을 수 있다. 구체적으로는 예를 들어, 청색 발광 재료, 녹색 발광 재료 및 적색 발광 재료(3종류의 발광 재료)를 발광층에 함유시킴으로써, 백색광을 얻을 수 있다.As the light emitting material contained in the light emitting layer, for example, a phosphorescence emitting material (phosphorescent compound, phosphorescent emitting compound), a fluorescent light emitting material, or the like can be used. One light-emitting layer may contain one kind of light-emitting material, or plural kinds of light-emitting materials having different maximum light-emitting wavelengths may be contained. By using a plurality of kinds of light emitting materials, it is possible to emit light by mixing a plurality of lights having different emission wavelengths, whereby light of any desired color can be obtained. Specifically, for example, white light can be obtained by including a blue light emitting material, a green light emitting material, and a red light emitting material (three kinds of light emitting materials) in a light emitting layer.
《주입층(정공 주입층, 전자 주입층)》&Quot; Injection layer (hole injection layer, electron injection layer) "
주입층은, 구동 전압의 저하나 발광 휘도의 향상을 도모하기 위한 층이다. 주입층은, 통상적으로는 전극 및 발광층의 사이에 형성된다. 주입층은, 통상적으로는 2개로 크게 구별된다. 즉, 주입층은, 정공(캐리어)을 주입하는 정공 주입층 및 전자(캐리어)를 주입하는 전자 주입층으로 크게 구별된다. 정공 주입층(양극 버퍼층)은 제1 전극과, 발광층 또는 정공 수송층 사이에 형성된다. 또한, 전자 주입층(음극 버퍼층)은 제2 전극과, 발광층 또는 전자 수송층 사이에 형성된다.The injection layer is a layer for reducing the drive voltage or improving the light emission luminance. The injection layer is usually formed between the electrode and the light-emitting layer. The injection layer is generally roughly divided into two. That is, the injection layer is roughly divided into a hole injection layer for injecting holes (carriers) and an electron injection layer for injecting electrons (carriers). A hole injection layer (anode buffer layer) is formed between the first electrode and the light emitting layer or the hole transporting layer. The electron injection layer (cathode buffer layer) is formed between the second electrode and the light emitting layer or the electron transporting layer.
《저지층(정공 저지층, 전자 저지층)》&Quot; Jersey layer (hole blocking layer, electronic blocking layer) "
저지층은 캐리어(정공, 전자)의 수송을 저지하기 위한 층이다. 저지층은, 통상적으로는 2개로 크게 구별된다. 즉, 저지층은, 정공(캐리어)의 수송을 저지하는 정공 저지층과, 전자(캐리어)의 수송을 저지하는 전자 저지층으로 크게 구별된다.The blocking layer is a layer for preventing transport of carriers (holes, electrons). The blocking layer is generally divided into two. That is, the blocking layer is largely divided into a hole blocking layer for blocking the transport of holes (carriers) and an electron blocking layer for blocking the transportation of electrons (carriers).
정공 저지층은 넓은 의미에서, 후기하는 전자 수송층의 기능(전자 수송 기능)을 갖는 층이다. 정공 저지층은, 전자 수송 기능을 가지면서, 정공의 수송 능력이 작은 재료로 형성된다. 이러한 정공 저지층이 형성됨으로써, 발광층에 대한 정공 및 전자 사이의 주입 밸런스를 적합하게 할 수 있다. 또한, 이에 의해, 전자와 정공의 재결합 확률을 향상시킬 수 있다.The hole blocking layer is a layer having a function (electron transporting function) of the electron transporting layer as described later in a broad sense. The hole blocking layer is formed of a material having an electron transporting function and a small hole transporting ability. By forming such a hole blocking layer, the injection balance between holes and electrons in the light emitting layer can be made suitable. Further, by this, the probability of recombination of electrons and holes can be improved.
또한, 정공 저지층으로서는, 필요에 따라 후기하는 전자 수송층의 구성을 마찬가지로 적용 가능하다. 또한, 정공 저지층이 형성되는 경우, 정공 저지층은, 발광층에 인접하여 형성되는 것이 바람직하다.As the hole blocking layer, the structure of the later-described electron transporting layer can be similarly applied as required. When the hole blocking layer is formed, it is preferable that the hole blocking layer is formed adjacent to the light emitting layer.
한편, 전자 저지층은 넓은 의미에서, 후기하는 정공 수송층의 기능(정공 수송 기능)을 갖는 층이다. 전자 저지층은 정공 수송 기능을 가지면서, 전자의 수송 능력이 작은 재료로 형성된다. 이러한 전자 저지층이 형성됨으로써, 발광층에 대한 정공 및 전자 사이의 주입 밸런스를 적합하게 할 수 있다. 또한, 이에 의해, 전자와 정공의 재결합 확률을 향상시킬 수 있다. 또한, 전자 저지층으로서는 필요에 따라, 후술하는 정공 수송층의 구성을 마찬가지로 적용 가능하다.On the other hand, the electron blocking layer is a layer having a hole transporting layer function (hole transporting function) described later in a broad sense. The electron blocking layer is formed of a material having a hole transporting function and a small electron transporting ability. By forming such an electron blocking layer, the injection balance between holes and electrons in the light emitting layer can be made suitable. Further, by this, the probability of recombination of electrons and holes can be improved. As the electron blocking layer, if necessary, the structure of the hole transporting layer described later can be similarly applied.
저지층의 막 두께는 특별히 제한되지 않지만, 바람직하게는 3㎚ 이상, 보다 바람직하게는 5㎚ 이상이며, 더 바람직하게는 100㎚ 이하, 보다 바람직하게는 30㎚ 이하이다.The film thickness of the blocking layer is not particularly limited, but is preferably 3 nm or more, more preferably 5 nm or more, still more preferably 100 nm or less, and further preferably 30 nm or less.
《수송층(정공 수송층, 전자 수송층)》&Quot; Transport layer (hole transport layer, electron transport layer) "
수송층은 캐리어(정공 및 전자)를 수송하는 층이다. 수송층은, 통상적으로는 2개로 크게 구별된다. 즉, 수송층은 정공(캐리어)을 수송하는 정공 수송층과, 전자(캐리어)를 수송하는 전자 수송층으로 크게 구별된다.The transport layer is a layer that transports carriers (holes and electrons). The transport layer is generally divided into two. That is, the transport layer is largely classified into a hole transporting layer for transporting holes (carriers) and an electron transporting layer for transporting electrons (carriers).
정공 수송층은 제1 전극으로부터 공급된 정공을 발광층에 수송(주입)하는 층이다. 정공 수송층은 제1 전극 또는 정공 주입층과 발광층 사이에 형성된다. 또한, 정공 수송층은 제2 전극 측으로부터의 전자의 유입을 저지하는 장벽으로서도 작용한다. 그로 인해, 정공 수송층이라는 용어는, 넓은 의미에서 정공 주입층 및/또는 전자 저지층을 포함하는 의미에서 사용되는 경우도 있다. 또한, 정공 수송층은 1층만 형성해도 되고, 복수층 형성해도 된다.The hole transporting layer is a layer for transporting (injecting) the holes supplied from the first electrode into the light emitting layer. A hole transporting layer is formed between the first electrode or the hole injecting layer and the light emitting layer. Further, the hole transporting layer also acts as a barrier for preventing the inflow of electrons from the second electrode side. Therefore, the term hole transport layer may be used in a broad sense to mean a hole injection layer and / or an electron blocking layer. The hole transporting layer may be formed in only one layer, or may be formed in plural layers.
전자 수송층은 제2 전극으로부터 공급된 전자를 발광층에 수송(주입)하는 층이다. 전자 수송층은 제2 전극 또는 전자 주입층과 발광층 사이에 형성된다. 또한, 전자 수송층은 제1 전극 측으로부터의 정공의 유입을 저지하는 장벽으로서도 작용한다. 그로 인해, 전자 수송층이라는 용어는, 넓은 의미에서 전자 주입층 및/또는 정공 저지층을 포함하는 의미에서 사용되는 경우도 있다. 또한, 전자 수송층은 1층만 형성해도 되고, 복수층 형성해도 된다.The electron transporting layer is a layer for transporting (injecting) electrons supplied from the second electrode to the light emitting layer. The electron transporting layer is formed between the second electrode or the electron injecting layer and the light emitting layer. Further, the electron transporting layer also acts as a barrier for preventing the inflow of holes from the first electrode side. Therefore, the term electron-transporting layer may be used in a broad sense to mean an electron injection layer and / or a hole blocking layer. Further, the electron transporting layer may be formed in only one layer, or may be formed in plural layers.
전자 수송층(전자 수송층을 일층 구조로 하는 경우에는 당해 전자 수송층, 전자 수송층을 복수 설치하는 경우에는 가장 발광층측에 위치하는 전자 수송층)에 사용되는 전자 수송 재료(정공 저지 재료를 겸하는 경우가 있음)는 특별히 제한되지 않는다. 단, 전자 수송층에 사용되는 전자 재료는, 통상적으로는 제2 전극으로부터 주입된 전자를 발광층에 전달(수송)하는 기능을 갖는 재료를 적용 가능하다.An electron transporting material (sometimes used as a hole blocking material) used in an electron transporting layer (an electron transporting layer that has a single-layer structure and an electron transporting layer located on the light emitting layer side when a plurality of electron transporting layers and electron transporting layers are provided) And is not particularly limited. However, as the electronic material used in the electron transporting layer, a material having a function of transferring (transporting) electrons injected from the second electrode to the light-emitting layer is usually applicable.
(제2 전극)(Second electrode)
제2 전극(음극)은 발광층에 전자를 공급(주입)하는 전극막이다. 제2 전극을 구성하는 재료는 특별히 제한되지 않지만, 통상적으로는 일함수가 작은(4eV 이하) 재료, 예를 들어 금속(전자 주입성 금속), 합금, 전기 전도성 화합물 및, 이들의 혼합물 등의 전극 재료로 형성된다.The second electrode (cathode) is an electrode film that supplies (injects) electrons to the light emitting layer. The material constituting the second electrode is not particularly limited, but typically, a material having a small work function (4 eV or less) such as a metal (electron injectable metal), an alloy, an electroconductive compound, .
유기 EL 소자에 있어서, 제2 전극측으로부터 광을 취출할 경우, 제2 전극은 제1 전극과 마찬가지로, 광투과성을 갖는 전극 재료로 형성 가능하다. 이 경우, 예를 들어 1㎚ 이상 20㎚ 이하의 막 두께가 되도록 음극 형성용 전극 재료를 포함하는 금속막을 형성한 후, 이 금속막 위에 제1 전극에서 설명한 도전성 투명 재료를 포함하는 막을 형성함으로써, 투명 또는 반투명의 제2 전극을 형성할 수 있다.In the organic EL device, when light is extracted from the second electrode side, the second electrode can be formed of an electrode material having light transmittance like the first electrode. In this case, for example, a metal film containing an electrode material for forming a cathode is formed so as to have a film thickness of 1 nm or more and 20 nm or less, and then a film containing a conductive transparent material described in the first electrode is formed on the metal film, Transparent or semitransparent second electrode can be formed.
1: 유기 EL 패널의 제조 장치
2: 소자 기판
3: 밀봉 기판
4, 5, 15, 18: 롤
6: 도포 장치
7: 접착층
8: 접착층이 표면에 형성된 밀봉 기판
9: 접합 롤
10: 접합부
11: 다층 기판
12: 직선 반송부
13, 16: 경화 장치
14: 제1 경화부
17: 제2 경화부1: Manufacturing apparatus of organic EL panel
2: element substrate
3: sealing substrate
4, 5, 15, 18: Roll
6:
7: Adhesive layer
8: A sealing substrate having an adhesive layer formed on its surface
9:
10:
11: multilayer substrate
12:
13, 16: Curing device
14: First hardening part
17: Second hardening part
Claims (12)
상기 다층 기판을 직선 반송하는 직선 반송 공정과,
상기 다층 기판을 직선 반송하면서 상기 접착층을 경화시키는 제1 경화 공정과,
상기 다층 기판을 굴곡 반송하면서 상기 접착층을 경화시키는 제2 경화 공정을 갖고, 이들 공정을 이 순서대로 행하는 것을 특징으로 하는 유기 일렉트로루미네센스 패널의 제조 방법.A long element substrate on which an organic electroluminescence element having an organic functional layer including a first electrode and a light emitting layer and a second electrode is formed on a surface and a long sealing substrate on which an adhesive layer composed of a curable resin is formed on the surface, A bonding step of bonding a surface on which the organic electroluminescence element is formed and a surface of the sealing substrate on which the adhesive layer is formed to form a multilayer substrate,
A linear transporting step of linearly transporting the multilayer substrate;
A first curing step of curing the adhesive layer while linearly transporting the multilayer substrate,
And a second curing step of curing the adhesive layer while flexing and transporting the multilayer substrate, wherein the steps are carried out in this order.
상기 다층 기판을 직선 반송하는 직선 반송부와,
상기 다층 기판을 직선 반송하면서 상기 접착층을 경화시키는 제1 경화부와,
상기 다층 기판을 굴곡 반송하면서 상기 접착층을 경화시키는 제2 경화부를 구비하는 것을 특징으로 하는 유기 일렉트로루미네센스 패널의 제조 장치.A long element substrate on which an organic electroluminescence element having an organic functional layer including a first electrode and a light emitting layer and a second electrode is formed on a surface thereof and an elongated sealing substrate on which an adhesive layer composed of a curable resin is formed, A joining portion for forming a substrate,
A linear conveying section for linearly conveying the multilayer substrate;
A first hardening unit for hardening the adhesive layer while linearly transporting the multilayer substrate,
And a second hardening unit for hardening the adhesive layer while flexing and transporting the multilayer substrate.
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