KR101666865B1 - Nozzzle assembly including suction chamber and Slit coater using the same - Google Patents

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KR101666865B1 KR1020150120999A KR20150120999A KR101666865B1 KR 101666865 B1 KR101666865 B1 KR 101666865B1 KR 1020150120999 A KR1020150120999 A KR 1020150120999A KR 20150120999 A KR20150120999 A KR 20150120999A KR 101666865 B1 KR101666865 B1 KR 101666865B1
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김선용
이충한
양준석
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Abstract

With respect to a nozzle assembly coating a liquid medicine on a substrate, provided are the nozzle assembly comprising: a nozzle body having a first nozzle body and a second nozzle body which is disposed to face the first nozzle body so as to form a nozzle channel with the first nozzle body; a nozzle lip having a first nozzle lip, which is extended downward from the bottom of the first nozzle body, and a second nozzle lip, which is extended downward from a part of the bottom of the second nozzle body and disposed to face the first nozzle lip; and a suction chamber disposed in front of the second nozzle lip and connected to an external suction unit so as to provide a suction force for drawing the liquid medicine placed between the substrate and the nozzle lip, and a slit coater using the same.

Description

석션챔버를 갖는 노즐 어셈블리 및 이를 이용한 슬릿 코터{Nozzzle assembly including suction chamber and Slit coater using the same}[0001] The present invention relates to a nozzle assembly having a suction chamber and a slit coater using the nozzle assembly,

본 발명은 석션챔버를 갖는 노즐 어셈블리 및 이를 이용한 슬릿 코터에 관한 것으로, 보다 상세하게는 약액의 코팅 안전성을 높여 장비의 수율을 향상시킬 수 있는 석션챔버를 갖는 노즐 어셈블리 및 이를 이용한 슬릿코터에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a nozzle assembly having a suction chamber and a slit coater using the same, and more particularly, to a nozzle assembly having a suction chamber capable of enhancing coating safety of a chemical solution, .

평판표시소자용 기판 제조 공정은 각종 약액을 기판면에 도포하는 코팅공정을 포함하며, 이러한 코팅공정에 사용되는 코팅장치로는 슬릿 노즐(Slit nozzle)이 구비된 슬릿 코터(slit coater)가 주로 사용된다.The manufacturing process of the substrate for a flat panel display device includes a coating process for coating various chemical liquids on a substrate surface. As a coating device used in such a coating process, a slit coater equipped with a slit nozzle is mainly used do.

슬릿 코터는 슬릿 노즐을 통하여 약액을 토출하면서 기판의 일측에서 타측을 향하여 순차적으로 이동함에 따라 약액을 기판면에 도포하게 된다. 이때, 고가의 노즐립 부분이 손상되는 것을 방지하기 위하여 기판의 상면에서 노즐까지 특정 간격이상으로 유지시킨 상태에서 도포하게 된다.As the slit coater sequentially moves from one side of the substrate to the other side while discharging the chemical solution through the slit nozzle, the chemical solution is applied to the substrate surface. At this time, in order to prevent damage of the expensive nozzle lip portion, it is applied in a state in which the nozzle is maintained at a certain interval or more from the upper surface of the substrate.

여기서, 상기 슬릿 코터의 코팅속도가 증가시키거나 박막코팅을 하게 되면 약액의 점성 등에 의하여 기판에 도포되는 약액의 코팅비드(coating bead)가 도포방향의 반대방향으로 밀리게 되어 도포된 약액의 두께가 일정하지 않은 문제가 발생하게 된다. Here, when the coating speed of the slit coater is increased or a thin film is coated, the coating bead of the chemical solution applied to the substrate is pushed in the opposite direction to the coating direction by the viscosity of the chemical solution, An inconsistent problem arises.

결과적으로 종래의 슬릿코터에서는 슬릿코터의 코팅속도가 제한되고 이로 인하여 슬릿코터의 장비수율이 떨어지는 문제가 발생하게 된다.As a result, in the conventional slit coater, the coating speed of the slit coater is limited and the equipment yield of the slit coater is lowered.

대한민국 등록특허공보 10-0867893호(발명의 명칭: 슬릿노즐 및 이 노즐을 구비한 코팅장치, 공고일: 2008년 11월 10일)Korean Registered Patent No. 10-0867893 (Title: Slit nozzle and coating apparatus having the nozzle, Date of Notification: November 10, 2008)

본 발명의 해결하고자 하는 과제는 약액이 고속으로 코팅되거나 박막으로 코팅되는 경우에도 코팅 안전성을 높임으로써 장비의 수율을 향상시킬 수 있는 석션챔버를 갖는 노즐 어셈블리 및 이를 이용한 슬릿코터를 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide a nozzle assembly having a suction chamber capable of improving the yield of equipment by enhancing coating safety even when a chemical solution is coated at a high speed or coated with a thin film, and a slit coater using the same.

상술한 본 발명의 해결하고자 하는 과제를 달성하기 위하여, 본 발명은 기판에 약액을 코팅하는 노즐 어셈블리에 있어서, 제1 노즐본체와, 상기 제1 노즐본체와 맞대응되면서 배치되어 상기 제1 노즐본체와 함께 노즐유로를 형성하는 제2 노즐본체를 갖는 노즐본체; 상기 제1 노즐본체의 하단에서 하부방향으로 연장되는 제1 노즐립과, 상기 제2 노즐본체의 하단의 일부분에서 하부방향으로 연장되되, 상기 제1 노즐립과 맞대응되어 배치되는 제2 노즐립을 갖는 노즐립; 그리고, 상기 제2 노즐립의 전방에 배치되면서 외부의 흡입유닛과 연결되어, 상기 기판과 상기 노즐립의 사이에 배치되는 약액을 끌어당기기 위한 흡입력을 제공하기 위한 석션챔버를 포함하며, 상기 석션챔버의 외벽 중 적어도 일부분은 상기 제2 노즐립의 외측면을 포함하는 것을 특징으로 하는 노즐 어셈블리를 제공한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a nozzle assembly for coating a chemical liquid on a substrate, the nozzle assembly comprising: a first nozzle body; a second nozzle body disposed in alignment with the first nozzle body, A nozzle body having a second nozzle body for forming a nozzle flow path together; A first nozzle lip extending downward from a lower end of the first nozzle body and a second nozzle lip extending downward at a portion of a lower end of the second nozzle body and disposed in opposition to the first nozzle lip, ; And a suction chamber which is disposed in front of the second nozzle lip and which is connected to an external suction unit to provide a suction force for pulling out a chemical solution disposed between the substrate and the nozzle lip, Wherein at least a portion of the outer wall of the second nozzle lip includes an outer surface of the second nozzle lip.

상기 석션챔버는 상기 기판의 상면에 대향하는 개방부를 갖는 제1 석션챔버와, 상기 제2 노즐본체의 외측벽에 함몰형성되는 제2 석션챔버와, 상기 제2 노즐본체의 내부에 형성되어 상기 제1 석션챔버와 상기 제2 석션챔버를 연결하는 석션유로를 포함할 수 있다.Wherein the suction chamber includes a first suction chamber having an opening portion opposed to an upper surface of the substrate, a second suction chamber formed in an outer wall of the second nozzle body and formed in the second nozzle body, And a suction channel connecting the suction chamber and the second suction chamber.

상기 제1 석션챔버의 내벽에는 상기 석션유로의 일측과 연통되는 제1 흡입홀이 형성되고, 상기 제2 석션챔버의 내벽에는 상기 석션유로의 타측과 연통되는 제2 흡입홀이 형성되며, 상기 제1 흡입홀과 상기 제2 흡입홀은 상기 노즐본체의 길이방향을 따라 일정간격으로 복수 개 형성되고, 상기 제1 석션챔버의 높이는 상기 노즐립의 높이와 동일하게 형성될 수 있다.A suction hole is formed in the inner wall of the first suction chamber to communicate with one side of the suction channel, a second suction hole communicating with the other side of the suction channel is formed on the inner wall of the second suction chamber, A plurality of first suction holes and second suction holes may be formed at regular intervals along a longitudinal direction of the nozzle body and a height of the first suction chamber may be equal to a height of the nozzle lip.

상기 노즐 어셈블리는 상기 노즐본체의 양측에 배치되어 상기 석션챔버의 외벽 중 일부분을 형성하는 제1 측벽블럭 및 제2 측벽블럭을 더 포함하며, 상기 제1 측벽블럭은 제1 측벽블럭몸체와, 상기 제1 측벽블럭몸체의 하부방향으로 돌출된 제1 측벽블럭 하부테두리를 포함하고, 상기 제2 측벽블럭은 제2 측벽블럭몸체와, 상기 제2 측벽블럭몸체의 하부방향으로 돌출된 제2 측벽블럭 하부테두리를 포함할 수 있다.Wherein the nozzle assembly further includes first and second sidewall blocks disposed on opposite sides of the nozzle body to form a portion of an outer wall of the suction chamber, the first sidewall block includes a first sidewall block body, And a second sidewall block protruding downward from the first sidewall block body, the second sidewall block including a second sidewall block body and a second sidewall block protruding downward from the second sidewall block body, And may include a lower rim.

상기 제1 석션챔버의 외벽은 상기 제2 노즐본체의 하부방향으로 돌출된 제2 노즐본체 하부 테두리와, 상기 제1 측벽블럭 하부테두리와, 상기 제2 측벽블럭 하부테두리와, 상기 제2 노즐립의 외측면을 포함할 수 있다.The outer wall of the first suction chamber has a second nozzle body lower edge protruding downward from the second nozzle body, a lower edge of the first side wall block, a lower edge of the second side wall block, As shown in FIG.

상기 제1 측벽블럭 하부테두리는 상기 제2 노즐본체 하부테두리와 길이방향으로 이웃하며 배치되는 제1 하부테두리와, 상기 제2 노즐립과 길이방향으로 이웃하며 배치되는 제2 하부테두리와, 상기 제1 하부테두리와 상기 제2 하부테두리를 연결하면서 연장되는 제3 하부테두리를 포함할 수 있다.The lower edge of the first side wall block includes a first lower edge disposed in the longitudinal direction adjacent to the lower edge of the second nozzle body, a second lower edge disposed adjacent to the second nozzle lip in the longitudinal direction, And a third lower rim extending from the lower rim to the second lower rim.

본 발명의 다른 실시 형태에 의하면, 본 발명은 약액이 도포될 기판이 안착되는 작업대; 상기 기판에 약액을 코팅하기 위한 상기 노즐 어셈블리; 상기 노즐 어셈블리를 지지하는 노즐홀더; 상기 기판에 약액이 도포되도록 상기 노즐 어셈블리를 이동시키는 노즐이동유닛; 그리고, 상기 기판에 약액이 도포된 후 상기 제1 노즐립의 표면에 묻어 있는 이물질을 제거하기 위한 제1블레이드와, 상기 제2 노즐립의 표면에 묻어 있는 이물질을 제거하기 위한 제2 블레이드와, 상기 제1 블레이드와 상기 제2 블레이드를 지지하기 위한 클리너본체를 갖는 노즐립 클리너를 포함하는 것을 특징으로 하는 슬릿코터를 제공한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a medical instrument comprising: a work table on which a substrate to be applied with a chemical solution is placed; The nozzle assembly for coating a chemical solution on the substrate; A nozzle holder for supporting the nozzle assembly; A nozzle moving unit for moving the nozzle assembly so that the chemical liquid is applied to the substrate; A first blade for removing foreign substances on the surface of the first nozzle lip after the chemical liquid is applied to the substrate; a second blade for removing foreign substances on the surface of the second nozzle lip; And a nozzle lip cleaner having a cleaner body for supporting the first blade and the second blade.

상기 노즐립 클리너의 클리닝 작업시 상기 제2 블레이드의 적어도 일부분은 상기 석션챔버 중 제1 석션챔버의 내부공간상에 배치될 수 있다.At least a portion of the second blade may be disposed on the inner space of the first one of the suction chambers during the cleaning operation of the nozzle lip cleaner.

상기 제1 석션챔버의 외벽을 형성하기 위하여 노즐본체의 일측단에 배치되는 제1 측벽블럭에는 제1 측벽블럭 하부테두리가 하부로 돌출되어 있으며, 상기 제1 측벽블럭 하부테두리 중 제2 하부테두리는 상기 노즐립에 대한 클리닝 작업을 종료한 상기 제1 블레이드 및 상기 제2 블레이드와의 간섭을 피하기 위하여 상기 노즐립의 측면 중앙에서 길이방향으로 이웃하게 배치되되 상기 노즐립의 폭보다 좁은 폭을 가질 수 있다.A lower edge of the first sidewall block protrudes downward in a first sidewall block disposed at one end of the nozzle body to form an outer wall of the first suction chamber, and a second lower edge of the lower sidewall of the first sidewall block A second blade having a width narrower than a width of the nozzle lip, the first blade having a width narrower than the width of the nozzle lip and a second blade having a width smaller than the width of the nozzle lip so as to avoid interference with the first blade and the second blade, have.

또한, 상기 노즐립 클리너는 상기 노즐립의 끝단부에 해당하는 노즐팁에 묻어 있는 이물질을 제거하기 위한 제3 블레이드를 더 포함하고, 상기 제2 하부테두리는 상기 제3 블레이드와의 간섭을 피하기 위하여 상기 노즐립의 돌출길이보다 작게 돌출될 수 있다.In addition, the nozzle lip cleaner may further include a third blade for removing foreign matter on the nozzle tip corresponding to an end portion of the nozzle lip, and the second lower edge may be provided to prevent interference with the third blade The protruding length of the nozzle lip may be smaller than the protruding length of the nozzle lip.

본 발명에 따른 석션챔버를 갖는 노즐 어셈블리 및 이를 이용한 슬릿코터는 다음과 같은 효과가 있다.The nozzle assembly having the suction chamber according to the present invention and the slit coater using the nozzle assembly have the following effects.

첫째, 약액이 코팅되는 방향의 전방에 석션챔버를 설치함으로써 약액의 코팅비드를 전방으로 당기게 되어 약액이 고속으로 코팅되거나 박막으로 코팅되는 경우에도 코팅 안전성을 높일 수 있는 이점이 있다.First, by providing a suction chamber in front of the direction in which the chemical liquid is coated, the coating bead of the chemical liquid is pulled forward, which is advantageous in that coating safety can be improved even when the chemical liquid is coated at a high speed or is coated with a thin film.

이로 인하여, 코팅속도를 높이면서도 코팅두께를 균일하게 도포할 수 있게 되어 제품의 품질을 향상시킴과 동시에 장비의 수율이 증가하게 되어 생산성이 향상되는 이점이 있다. 특히, 코팅 시작점에서도 코팅비드가 전방으로 당겨지게 됨으로 인하여 코팅두께가 일정하게 되어 코팅 시작점의 불량율을 현저하게 줄일 수 있는 이점이 있다.Accordingly, it is possible to uniformly coat the coating thickness while increasing the coating speed, thereby improving the quality of the product and increasing the yield of the equipment, thereby improving the productivity. Particularly, since the coating bead is pulled forward at the coating start point, the coating thickness becomes uniform, and the defect rate of the coating starting point can be remarkably reduced.

둘째, 노즐본체에 제1 석션챔버를 형성하기 위한 외벽들이 구비되지만, 외벽 중의 일부는 노즐립의 외측면으로 구성되고, 상기 제1 석션챔버는 노즐립 클리너의 클리닝 작동시 노즐립 클리너의 일부분이 수용되는 공간역할을 하게 됨으로써 공간활용도를 높임과 동시에 노즐 어셈블리 자체의 중량을 최소화할 수 있는 이점이 있다.Second, the outer surface of the outer lip is partially formed with the outer surface of the nozzle lip. In the cleaning operation of the nozzle lip cleaner, a part of the nozzle lip cleaner The space utilization can be enhanced and the weight of the nozzle assembly itself can be minimized.

셋째, 석션챔버 중 제1 석션챔버의 외벽을 형성하기 위하여 노즐본체의 일측단에 배치되는 제1 측벽블럭에는 제1 측벽블럭 하부테두리가 하부로 돌출형성하되, 상기 제1 측벽블럭 하부테두리 중 노즐립의 측면에서 길이방향으로 이웃하게 배치되는 제2 하부테두리의 폭을 상기 노즐립의 폭보다 작게 형성함으로써 상기 노즐립에 대한 클리닝 작업을 종료한 상기 제1 블레이드 및 상기 제2 블레이드와의 간섭을 간단하게 피할 수 있는 이점이 있다.Third, a first sidewall block disposed at one end of the nozzle body for forming an outer wall of the first suction chamber of the suction chamber protrudes downward from the lower sidewall of the first sidewall block, The width of the second lower edge adjacent to the longitudinal direction of the rib is smaller than the width of the nozzle lip so that interference between the first blade and the second blade, which has completed the cleaning operation on the nozzle lip, There is an advantage that can be avoided simply.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 슬릿 코터를 도시한 사시도이다.
도 2는 도 1의 슬릿 코터에 노즐 어셈블리를 나타낸 사시도이다.
도 3은 도 2의 노즐 어셈블리에 의하여 약액이 코팅되는 상태를 나타내는 단면도이다.
도 4는 도 2의 노즐 어셈블리의 하부영역에 노즐립 클리너가 배치된 상태를 나타낸 사시도이다.
도 5는 도 4의 노즐립 클리너가 노즐을 클리닝하기 전의 상태에서 노즐립 클리너와 노즐 어셈블리의 배치관계를 나타낸 도면이다.
도 6은 도 4의 노즐립 클리너가 노즐을 클리닝 한 후의 상태에서 노즐립 클리너와 노즐 어셈블리의 배치관계를 나타낸 도면이다.
도 7은 도 2의 노즐 어셈블리의 저면 사시도이다.1 is a perspective view showing a slit coater according to an embodiment of the present invention.
2 is a perspective view showing the nozzle assembly in the slit coater of FIG.
FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a state in which the chemical solution is coated by the nozzle assembly of FIG. 2;
FIG. 4 is a perspective view illustrating a state in which a nozzle lip cleaner is disposed in a lower region of the nozzle assembly of FIG. 2. FIG.
FIG. 5 is a view showing the arrangement relationship between the nozzle lip cleaner and the nozzle assembly in a state before the nozzle lip cleaner of FIG. 4 cleans the nozzle.
FIG. 6 is a view showing the arrangement relationship between the nozzle lip cleaner and the nozzle assembly in a state after the nozzle lip cleaner of FIG. 4 cleans the nozzle.
Figure 7 is a bottom perspective view of the nozzle assembly of Figure 2;

이하, 상술한 해결하고자 하는 과제가 구체적으로 실현될 수 있는 본 발명의 바람직한 실시 예들이 첨부된 도면을 참조하여 설명된다. 본 실시 예들을 설명함에 있어서, 동일 구성에 대해서는 동일 명칭 및 동일 부호가 사용되며 이에 따른 부가적인 설명은 하기에서 생략된다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention in which the above-mentioned problems to be solved can be specifically realized will be described with reference to the accompanying drawings. In describing the embodiments, the same names and the same symbols are used for the same configurations, and additional description therefor will be omitted below.

도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 슬릿 코터는 작업대(100), 노즐 어셈블리(200), 노즐이동유닛(300), 대기챔버(800), 노즐립 클리너(400), 클리너 이동유닛(500), 클리너 세정유닛(600), 버킷유닛(700) 및 노즐홀더(900)을 포함한다.1, a slit coater according to an embodiment of the present invention includes a work table 100, a nozzle assembly 200, a nozzle movement unit 300, a standby chamber 800, a nozzle lip cleaner 400, Unit 500, a cleaner cleaning unit 600, a bucket unit 700 and a nozzle holder 900. [

상기 작업대(100)에는 약액이 도포될 기판이 놓여지게 되고, 상기 노즐 어셈블리(200)는 상기 기판의 상면을 이동하면서 상기 약액을 상기 기판에 도포하게 된다.A substrate to be coated with a chemical solution is placed on the work table 100, and the nozzle assembly 200 applies the chemical solution to the substrate while moving on the upper surface of the substrate.

상기 노즐이동유닛(300)은 상기 노즐홀더(900)의 양측에 설치되어 상기 노즐홀더(900)를 이동시킴으로써 상기 노즐 어셈블리(200)를 이동시키게 된다.The nozzle moving unit 300 is installed on both sides of the nozzle holder 900 to move the nozzle holder 900 to move the nozzle assembly 200.

상기 노즐립 클리너(400)는 상기 노즐립에 묻어있는 약액을 제거하기 위한 것으로서, 상기 노즐립 클리너(400)의 블레이드들은 상기 노즐립의 표면에 접촉된 상태에서 상기 약액을 긁어 내게 된다. The nozzle lip cleaner 400 removes the chemical liquid from the nozzle lip, and the blades of the nozzle lip cleaner 400 scrape the chemical liquid in contact with the surface of the nozzle lip.

구체적으로, 도 5 및 도 6을 참조하면, 상기 노즐립 클리너(400)는 상기 기판(10)에 약액이 도포된 후 제1 노즐립(230)의 표면에 묻어 있는 이물질을 제거하기 위한 제1 블레이드(420)와, 제2 노즐립(240)의 표면에 묻어 있는 이물질을 제거하기 위한 제2 블레이드(430)와, 상기 제1 노즐립(230) 및 상기 제2 노즐립(240)의 끝단부에 해당하는 노즐팁에 묻어 있는 이물질을 제거하기 위한 제3 블레이드(440)와, 상기 제1 블레이드(420)와 상기 제2 블레이드(430) 및 상기 제3 블레이드(440)를 지지하기 위한 클리너본체(410)를 포함한다.5 and 6, the nozzle lip cleaner 400 includes a first nozzle lip cleaner 400 for removing impurities on the surface of the first nozzle lip 230 after the chemical liquid is applied to the substrate 10, A second blade 430 for removing foreign matter from the surface of the second nozzle lip 240 and a second blade 430 for removing foreign substances from the surface of the second nozzle lip 240. [ A third blade 440 for removing foreign matters on the nozzle tip corresponding to the first blade 420 and a cleaner 440 for supporting the first blade 420 and the second blade 430 and the third blade 440, And a body 410.

상기 클리너 이동유닛(500)은 상기 노즐립 클리너(400)를 상기 노즐 어셈블리(200)의 길이방향을 따라 이동시키게 된다. 즉, 상기 노즐 어셈블리(200)는 정지된 상태로 유지되고 있는 상황에서 상기 클리너 이동유닛(500)이 상기 노즐립 클리너(400)를 이동시킴으로써 상기 노즐립 클리너(400)가 상기 노즐립에 묻어 있는 약액을 제거하게 된다.The cleaner moving unit 500 moves the nozzle lip cleaner 400 along the longitudinal direction of the nozzle assembly 200. That is, in a state where the nozzle assembly 200 is kept stationary, the cleaner moving unit 500 moves the nozzle lip cleaner 400 so that the nozzle lip cleaner 400 is placed on the nozzle lip The chemical solution is removed.

상기 클리너 세정유닛(600)은 상기 클리너 이동유닛(500)의 일단부에 구비되어 상기 노즐립에 묻어있는 약액을 제거하는 과정에 사용되었던 상기 노즐립 클리너(400)를 세정하게 된다. The cleaner cleaning unit 600 is provided at one end of the cleaner moving unit 500 to clean the nozzle lip cleaner 400 used in the process of removing the chemical liquid on the nozzle lip.

또한, 상기 버킷유닛(700)은 적어도 일부분이 상기 노즐립 클리너(400) 및 상기 클리너 세정유닛(600)의 하부에 배치된다. At least a portion of the bucket unit 700 is disposed below the nozzle lip cleaner 400 and the cleaner cleaning unit 600.

상기 대기챔버(800)는 상기 노즐 어셈블리의 노즐이 사용되기 전에 수용되는 장소이며, 상기 노즐이 사용되지 않을 때 상기 노즐의 약액분출구가 건조되는 것을 방지하기 위하여 상기 대기챔버(800)에는 항상 세정액이 담겨져 있다.The waiting chamber 800 is a place where the nozzle of the nozzle assembly is accommodated before the nozzle is used. In order to prevent the nozzle of the nozzle from being dried when the nozzle is not in use, It is contained.

한편, 도 2 및 도 3을 참조하면, 상기 노즐 어셈블리(200)는 노즐본체와, 상기 노즐본체의 하부영역에서 연장형성되는 노즐립과, 상기 기판(10)과 상기 노즐립의 사이에 배치되는 약액을 끌어당기기 위한 흡입력을 제공하기 위한 석션챔버(270)를 포함한다.Referring to FIGS. 2 and 3, the nozzle assembly 200 includes a nozzle body, a nozzle lip extending from a lower region of the nozzle body, and a plurality of nozzles disposed between the substrate 10 and the nozzle lip And a suction chamber 270 for providing a suction force for pulling the drug solution.

구체적으로, 상기 노즐본체는 제1 노즐본체(210)와, 상기 제1 노즐본체(210)와 맞대응되면서 배치되어 상기 제1 노즐본체(210)와 함께 노즐유로(280)를 형성하는 제2 노즐본체(220)를 포함한다.The nozzle body 210 includes a first nozzle body 210 and a second nozzle body 210 disposed opposite to the first nozzle body 210 and forming a nozzle flow path 280 together with the first nozzle body 210. [ And a body 220.

상기 노즐립은 상기 제1 노즐본체(210)의 하단에서 하부방향으로 연장되는 제1 노즐립(230)과, 상기 제2 노즐본체(220)의 하단의 일부분에서 하부방향으로 연장되되, 상기 제1 노즐립(230)과 맞대응되어 배치되면서 약액이 토출되는 약액토출구(미도시)를 형성하는 제2 노즐립(240)을 포함한다. 여기서, 상기 약액토출구는 홀 또는 슬릿형상으로 구비될 수 있다.The nozzle lip includes a first nozzle lip 230 extending downward from a lower end of the first nozzle body 210 and a second nozzle lip 230 extending downward from a portion of a lower end of the second nozzle body 220, And a second nozzle lip 240 disposed opposite to the first nozzle lip 230 to form a chemical liquid ejection opening (not shown) through which the chemical liquid is ejected. Here, the chemical liquid discharge port may be formed in a hole or a slit shape.

상기 석션챔버(270)는 상기 제2 노즐립(240)의 전방에 배치되면서 외부의 흡입유닛(미도시)과 연결되어, 상기 기판(10)과 상기 노즐립의 사이에 배치되는 약액을 끌어당기기 위한 흡입력을 제공하게 된다.The suction chamber 270 is disposed in front of the second nozzle lip 240 and is connected to an external suction unit (not shown) to draw the chemical liquid, which is disposed between the substrate 10 and the nozzle lip, Lt; / RTI >

상기 석션챔버(270)의 외벽 중 적어도 일부분은 상기 제2 노즐립(240)의 외측면을 포함하여 형성된다.At least a portion of the outer wall of the suction chamber 270 is formed to include the outer surface of the second nozzle lip 240.

구체적으로, 상기 석션챔버(270)는 상기 기판(10)의 상면에 대향하는 개방부를 갖는 제1 석션챔버(271)와, 상기 제2 노즐본체(220)의 외측벽에 함몰형성되는 제2 석션챔버(273)와, 상기 제2 노즐본체(220)의 내부에 형성되어 상기 제1 석션챔버(271)와 상기 제2 석션챔버(273)를 연결하는 석션유로(272)를 포함한다.Specifically, the suction chamber 270 includes a first suction chamber 271 having an opening facing the upper surface of the substrate 10, a second suction chamber 271 formed on the outer wall of the second nozzle body 220, And a suction channel 272 formed in the second nozzle body 220 and connecting the first suction chamber 271 and the second suction chamber 273.

상기 제1 석션챔버(271)의 상부내벽에는 상기 석션유로(272)의 일측과 연통되는 제1 흡입홀(271a)이 형성되고, 상기 제2 석션챔버(273)의 내벽에는 상기 석션유로(272)의 타측과 연통되는 제2 흡입홀(273a)이 형성된다.A first suction hole 271a communicating with one side of the suction passage 272 is formed in an upper inner wall of the first suction chamber 271. A suction hole 271a is formed in the inner wall of the second suction chamber 273, A second suction hole 273a communicating with the other side is formed.

상기 제1 흡입홀(271a)과 상기 제2 흡입홀(273a)은 상기 노즐본체의 길이방향을 따라 일정간격으로 복수 개 형성됨으로써 상기 약액을 끌어당기기 위한 흡입력이 상기 노즐본체의 길이방향을 따라 일정하게 작용하게 된다.A plurality of the first suction holes 271a and the second suction holes 273a are formed at regular intervals along the longitudinal direction of the nozzle body so that suction force for pulling the chemical liquid flows along the longitudinal direction of the nozzle body .

여기서, 상기 제1 석션챔버(271)의 높이는 상기 노즐립의 높이와 동일하게 형성하여 상기 노즐립, 즉 상기 제2 노즐립(240)이 제1 석션챔버(271)의 외벽의 일부분이 된다.Here, the height of the first suction chamber 271 is equal to the height of the nozzle lip so that the nozzle lip, that is, the second nozzle lip 240 becomes a part of the outer wall of the first suction chamber 271.

상기 제1 석션챔버(271)의 외벽은 상기 제2 노즐본체(220)의 하부방향으로 돌출된 제2 노즐본체 하부 테두리(221)를 포함한다. 여기서, 상기 제2 노즐본체 하부테두리(221)의 돌출길이는 상기 노즐립의 높이와 동일하다. The outer wall of the first suction chamber 271 includes a second nozzle body lower edge 221 protruding downward from the second nozzle body 220. Here, the projection length of the second nozzle body lower edge 221 is equal to the height of the nozzle lip.

물론, 본 발명은 이에 한정되지 않고, 상기 제2 노즐본체 하부테두리(221)의 돌출길이는 상기 노즐립의 높이보다 크거나 작게 형성될 수도 있다.Of course, the present invention is not limited to this, and the protruding length of the second nozzle body lower edge 221 may be larger or smaller than the height of the nozzle lip.

결과적으로, 약액(1)이 코팅되는 방향의 전방에 상기 석션챔버(270)를 설치함으로써 약액의 코팅비드(1a)를 전방으로 당기게 되어 약액(1)이 고속으로 코팅되거나 박막으로 코팅되는 경우에도 코팅 안전성을 높일 수 있게 된다.As a result, by installing the suction chamber 270 in front of the direction in which the chemical solution 1 is coated, the coating bead 1a of the chemical solution is pulled forward and even when the chemical solution 1 is coated at a high speed or coated with a thin film Coating stability can be improved.

이로 인하여, 코팅속도를 높이면서도 코팅두께를 균일하게 도포할 수 있게 되어 제품의 품질을 향상시킴과 동시에 장비의 수율이 증가하게 되어 생산성이 향상될 수 있다. 특히, 코팅 시작점에서도 약액의 코팅비드(1a)가 전방으로 당겨지게 됨으로 인하여 코팅두께가 일정하게 되어 코팅 시작점의 불량율을 현저하게 줄일 수 있게 된다.As a result, the coating thickness can be uniformly applied while increasing the coating speed, thereby improving the quality of the product, and increasing the yield of the equipment and improving the productivity. In particular, since the coating bead 1a of the chemical liquid is pulled forward even at the coating start point, the thickness of the coating becomes uniform and the defect rate of the coating starting point can be remarkably reduced.

한편, 도 2 내지 도 7을 참조하여 상기 노즐 어셈블리를 보다 구체적으로 설명하면 다음과 같다. 여기서, 도 4는 도 2의 노즐 어셈블리의 하부영역에 노즐립 클리너가 배치된 상태를 나타낸 도면이고, 도 5는 도 4의 노즐립 클리너가 노즐을 클리닝하기 전의 상태에서 노즐립 클리너와 노즐 어셈블리의 배치관계를 나타낸 도면이고, 도 6은 도 4의 노즐립 클리너가 노즐을 클리닝 한 후의 상태에서 노즐립 클리너와 노즐 어셈블리의 배치관계를 나타낸 도면이며, 도 7은 도 2의 노즐 어셈블리의 저면 사시도이다.The nozzle assembly will be described in more detail with reference to FIGS. 2 to 7. FIG. 4 is a view illustrating a state in which a nozzle lip cleaner is disposed in a lower region of the nozzle assembly of FIG. 2. FIG. 5 is a cross-sectional view of the nozzle lip cleaner of FIG. FIG. 6 is a view showing the arrangement relationship between the nozzle lip cleaner and the nozzle assembly in a state after the nozzle lip cleaner of FIG. 4 cleans the nozzle, and FIG. 7 is a bottom perspective view of the nozzle assembly of FIG. 2 .

상기 노즐 어셈블리(200)는 상기 노즐본체의 양측에 배치되어 상기 석션챔버(270)의 외벽 중 일부분을 형성하는 제1 측벽블럭(250) 및 제2 측벽블럭(260)을 더 포함한다.The nozzle assembly 200 further includes a first sidewall block 250 and a second sidewall block 260 disposed on both sides of the nozzle body to form a portion of the outer wall of the suction chamber 270.

상기 제1 측벽블럭(250)은 제1 측벽블럭몸체(250a)와, 상기 제1 측벽블럭몸체(250a)의 하부방향으로 돌출된 제1 측벽블럭 하부테두리(250b)를 포함한다.The first sidewall block 250 includes a first sidewall block body 250a and a first sidewall block lower sidewall 250b protruding downward from the first sidewall block body 250a.

상기 제1 측벽블럭 하부테두리(250b)는 상기 제2 노즐본체 하부테두리(221)와 길이방향으로 이웃하며 배치되는 제1 하부테두리(251)와, 상기 노즐립과 길이방향으로 이웃하며 배치되는 제2 하부테두리(252)와, 상기 제1 하부테두리(251)와 상기 제2 하부테두리(252)를 연결하면서 연장되는 제3 하부테두리(253)를 포함한다.The first sidewall block lower frame 250b includes a first lower frame 251 disposed adjacent to the second nozzle body lower frame 221 in the longitudinal direction thereof and a second lower frame 252 disposed adjacent to the nozzle lip in the longitudinal direction. 2 lower rim 252 and a third lower rim 253 extending from the first lower rim 251 to the second lower rim 252 while connecting the first lower rim 251 and the second lower rim 252.

따라서, 상기 제1 측벽블럭 하부테두리(250b)는 상기 제1 측벽블럭몸체(250a)의 하부방향으로 돌출되어 상기 제1 석션챔버(271)의 공간 중 일부를 형성하게 된다.Therefore, the first sidewall block lower frame 250b protrudes downward from the first sidewall block body 250a to form a part of the space of the first suction chamber 271. [

마찬가지로, 상기 제2 측벽블럭(260)은 제2 측벽블럭몸체(261)와, 상기 제2 측벽블럭몸체(261)의 하부방향으로 돌출된 제2 측벽블럭 하부테두리(263)를 포함한다. Likewise, the second sidewall block 260 includes a second sidewall block body 261 and a second sidewall block lower sidewall 263 protruding downward from the second sidewall block body 261.

상기 제2 측벽블럭 하부테두리(263)는 상술한 제1 측벽블럭 하부테두리(250b)와 실질적으로 동일하므로 이에 대한 상세한 설명은 생략한다.The second sidewall block lower edge 263 is substantially the same as the first sidewall block lower edge 250b, and a detailed description thereof will be omitted.

상기 제1 측벽블럭(250)과 상기 제2 측벽블럭(260)은 상기 노즐본체에 별도의 체결수단에 의하여 결합된다. 물론, 본 발명은 이에 한정되지 않고, 상기 제1 측벽블럭(250)과 상기 제2 측벽블럭(260)은 상기 노즐본체와 일체로 성형될 수도 있을 것이다.The first sidewall block 250 and the second sidewall block 260 are coupled to the nozzle body by separate fastening means. Of course, the present invention is not limited to this, and the first sidewall block 250 and the second sidewall block 260 may be integrally formed with the nozzle body.

결과적으로, 상기 제1 석션챔버(271)의 외벽은 상기 제2 노즐본체 하부테두리(221)와, 상기 제1 측벽블럭 하부테두리(250b)와, 상기 제2 측벽블럭 하부테두리(263)와, 상기 제2 노즐립(240)의 외측면에 의하여 형성된다.As a result, the outer wall of the first suction chamber 271 is in contact with the second nozzle body lower edge 221, the first sidewall block lower edge 250b, the second sidewall block lower edge 263, And the outer surface of the second nozzle lip 240.

한편, 도 5(b)에서와 같이, 도 5(a)의 I-I 단면에 대하여 노즐립 클리너(400)와 노즐 어셈블리(200)를 함께 도면상 좌측에서 바라본 측면도를 보면, 상기 제1 석션챔버(271)는 하부가 개방된 형태를 가지며, 상기 노즐립 클리너(400)의 클리닝 작업시 상기 제2 블레이드(430)의 적어도 일부분은 상기 제1 석션챔버(271)의 내부공간상에 배치되게 된다.5 (b), the nozzle lip cleaner 400 and the nozzle assembly 200 are viewed from the left side in the drawing together with the cross section II in FIG. 5 (a). In the first suction chamber And at least a portion of the second blade 430 is disposed on the inner space of the first suction chamber 271 during a cleaning operation of the nozzle lip cleaner 400. [

따라서, 본 발명에 따른 노즐본체에 제1 석션챔버(271)를 형성하기 위한 외벽들이 구비되지만, 외벽 중의 일부는 노즐립의 외측면으로 구성되도록 하고, 상기 제1 석션챔버(271)는 상기 노즐립 클리너(400)의 클리닝 작동시 상기 노즐립 클리너(400)의 일부분이 수용되는 공간역할을 하게 됨으로써 공간활용도를 높임과 동시에 노즐 어셈블리 자체의 중량을 최소화할 수 있게 된다.Accordingly, the nozzle body according to the present invention is provided with outer walls for forming the first suction chamber 271, but a part of the outer wall is formed by the outer surface of the nozzle lip, and the first suction chamber 271 is formed by the nozzle The space of the nozzle lip cleaner 400 can be utilized while the space of the nozzle lip cleaner 400 is accommodated in the cleaning operation of the lip cleaner 400 and the weight of the nozzle assembly itself can be minimized.

또한, 상기 노즐립 클리너(400)가 상기 노즐립에 대한 클리닝 작업을 종료한 상태, 즉 도 6(b)에서와 같이, 도 6(a)의 Ⅱ-Ⅱ 단면에 대하여 노즐립 클리너(400)와 노즐 어셈블리(200)를 함께 도면상 우측에서 바라본 측면도를 보면, 상기 제2 하부테두리(252)는 상기 노즐립에 대한 클리닝 작업을 종료한 상기 제1 블레이드(420) 및 상기 제2 블레이드(430)와의 간섭을 피하기 위하여 상기 노즐립의 측면 중앙에서 길이방향으로 이웃하게 배치되되 상기 노즐립의 폭보다 좁은 폭을 가진다.6 (b), the nozzle lip cleaner 400 is rotated in the state where the nozzle lip cleaner 400 has completed the cleaning operation for the nozzle lip, that is, as shown in Fig. 6 (b) And the nozzle assembly 200 are viewed from the right side of the drawing, the second lower rim 252 includes the first blade 420 and the second blade 430 In order to avoid interference with the nozzle lip, the nozzle lip has a width narrower than the width of the nozzle lip.

상기 제1 석션챔버(271)의 외벽을 형성하기 위한 제2 하부테두리의 폭을 상기 노즐립의 폭보다 작게 형성함으로써 간단한 구조를 통하여 상기 노즐립에 대한 클리닝 작업을 종료한 상기 제1 블레이드(420) 및 상기 제2 블레이드(430)와의 간섭을 피할 수 있게 된다. The width of the second lower rim for forming the outer wall of the first suction chamber 271 is smaller than the width of the nozzle lip so that the first blade 420 And interference with the second blade 430 can be avoided.

또한, 상기 제2 하부테두리(252)는 상기 노즐립에 대한 클리닝 작업을 종료한 상태의 상기 제3 블레이드(440)와의 간섭을 피하기 위하여 상기 노즐립의 돌출길이보다 작게 돌출된다. In addition, the second lower rim 252 protrudes less than the protruding length of the nozzle lip to avoid interference with the third blade 440 in a state in which the cleaning operation for the nozzle lip is finished.

결과적으로, 상기 제2 하부테두리(252)가 노즐립보다 좁을 폭을 가짐과 동시에 노즐립의 돌출길이보다 작게 돌출됨으로써 상기 노즐립 클리너(400)와 노즐립에 이웃하게 형성되는 제1 석션챔버(271)를 갖는 노즐 어셈블리 사이에 간섭이 발생하지 않게 된다.As a result, the second lower rim 252 is narrower than the nozzle lip and protrudes smaller than the protrusion length of the nozzle lip, so that the nozzle lip cleaner 400 and the first suction chamber The nozzle assembly having the nozzles < RTI ID = 0.0 > 271 < / RTI >

상술한 바와 같이 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하였지만, 해당 기술분야의 숙련된 당업자라면, 하기의 청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 또는 변경시킬 수 있다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, Modify or modify the Software.

100: 작업대 200: 노즐 어셈블리
210: 제1 노즐본체 220: 제2 노즐본체
230: 제1 노즐립 240: 제2 노즐립
250: 제1 측벽블럭 251: 제1 하부테두리
252: 제2 하부테두리 253: 제3 하부테두리
260: 제2 측벽블럭 261: 제2 측벽블럭몸체
263: 제2 측벽블럭 하부테두리 270: 석션챔버
271: 제1 석션챔버 272: 석션유로
273: 제2 석션챔버 280: 노즐유로
300: 노즐이동유닛 400: 노즐립 클리너
410: 노즐립 클리너 본체 420: 제1 블레이드
430: 제2 블레이드 500: 클리너 이동유닛100: work bench 200: nozzle assembly
210: first nozzle body 220: second nozzle body
230: first nozzle lip 240: second nozzle lip
250: first side wall block 251: first lower edge
252: second lower rim 253: third lower rim
260: second side wall block 261: second side wall block body
263: second side wall block lower edge 270: suction chamber
271: first suction chamber 272: suction channel
273: second suction chamber 280: nozzle flow path
300: nozzle moving unit 400: nozzle lip cleaner
410: nozzle lip cleaner body 420: first blade
430: second blade 500: cleaner moving unit

Claims (10)

기판에 약액을 코팅하는 노즐 어셈블리에 있어서,
제1 노즐본체와, 상기 제1 노즐본체와 맞대응되면서 배치되어 상기 제1 노즐본체와 함께 노즐유로를 형성하는 제2 노즐본체를 갖는 노즐본체;
상기 제1 노즐본체의 하단에서 하부방향으로 연장되는 제1 노즐립과, 상기 제2 노즐본체의 하단의 일부분에서 하부방향으로 연장되되, 상기 제1 노즐립과 맞대응되어 배치되는 제2 노즐립을 갖는 노즐립;
상기 제2 노즐립의 전방에 배치되면서 외부의 흡입유닛과 연결되어, 상기 기판과 상기 노즐립의 사이에 배치되는 약액을 끌어당기기 위한 흡입력을 제공하기 위한 석션챔버; 그리고,
상기 노즐본체의 양측에 배치되어 상기 석션챔버의 외벽 중 일부분을 형성하는 제1 측벽블럭 및 제2 측벽블럭을 포함하고,
상기 석션챔버는 상기 기판의 상면에 대향하는 개방부를 갖는 제1 석션챔버와, 상기 제2 노즐본체의 외측벽에 함몰형성되는 제2 석션챔버와, 상기 제2 노즐본체의 내부에 형성되어 상기 제1 석션챔버와 상기 제2 석션챔버를 연결하는 석션유로를 포함하며,
상기 석션챔버의 외벽 중 적어도 일부분은 상기 제2 노즐립의 외측면을 포함하고,
상기 제1 측벽블럭은 제1 측벽블럭몸체와, 상기 제1 측벽블럭몸체의 하부방향으로 돌출된 제1 측벽블럭 하부테두리를 포함하고, 상기 제2 측벽블럭은 제2 측벽블럭몸체와, 상기 제2 측벽블럭몸체의 하부방향으로 돌출된 제2 측벽블럭 하부테두리를 포함하는 것을 특징으로 하는 노즐 어셈블리.A nozzle assembly for coating a chemical on a substrate,
A nozzle body having a first nozzle body and a second nozzle body disposed in alignment with the first nozzle body and forming a nozzle flow path together with the first nozzle body;
A first nozzle lip extending downward from a lower end of the first nozzle body and a second nozzle lip extending downward at a portion of a lower end of the second nozzle body and disposed in opposition to the first nozzle lip, ;
A suction chamber which is disposed in front of the second nozzle lip and is connected to an external suction unit to provide a suction force for drawing a chemical solution disposed between the substrate and the nozzle lip; And,
And a first sidewall block and a second sidewall block disposed on both sides of the nozzle body to form a part of an outer wall of the suction chamber,
Wherein the suction chamber includes a first suction chamber having an opening portion opposed to an upper surface of the substrate, a second suction chamber formed in an outer wall of the second nozzle body and formed in the second nozzle body, And a suction channel connecting the suction chamber and the second suction chamber,
At least a portion of an outer wall of the suction chamber includes an outer surface of the second nozzle lip,
Wherein the first sidewall block includes a first sidewall block body and a lower sidewall of a first sidewall block protruding downward from the first sidewall block body, the second sidewall block includes a second sidewall block body, And a second sidewall block lower edge protruding in a downward direction of the two side wall block bodies. 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 제1 석션챔버의 내벽에는 상기 석션유로의 일측과 연통되는 제1 흡입홀이 형성되고, 상기 제2 석션챔버의 내벽에는 상기 석션유로의 타측과 연통되는 제2 흡입홀이 형성되며, 상기 제1 흡입홀과 상기 제2 흡입홀은 상기 노즐본체의 길이방향을 따라 일정간격으로 복수 개 형성되는 것을 특징으로 하는 노즐 어셈블리.The method according to claim 1,
A suction hole is formed in the inner wall of the first suction chamber to communicate with one side of the suction channel, a second suction hole communicating with the other side of the suction channel is formed on the inner wall of the second suction chamber, Wherein a plurality of the first suction holes and the second suction holes are formed at regular intervals along the longitudinal direction of the nozzle body. 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 제1 석션챔버의 외벽은 상기 제2 노즐본체의 하부방향으로 돌출된 제2 노즐본체 하부 테두리와, 상기 제1 측벽블럭 하부테두리와, 상기 제2 측벽블럭 하부테두리와, 상기 제2 노즐립의 외측면을 포함하는 것을 특징으로 하는 노즐 어셈블리.The method according to claim 1,
The outer wall of the first suction chamber has a second nozzle body lower edge protruding downward from the second nozzle body, a lower edge of the first side wall block, a lower edge of the second side wall block, And an outer surface of the nozzle assembly. 제5항에 있어서,
상기 제1 측벽블럭 하부테두리는 상기 제2 노즐본체 하부테두리와 길이방향으로 이웃하며 배치되는 제1 하부테두리와, 상기 제2 노즐립과 길이방향으로 이웃하며 배치되는 제2 하부테두리와, 상기 제1 하부테두리와 상기 제2 하부테두리를 연결하면서 연장되는 제3 하부테두리를 포함하는 것을 특징으로 하는 노즐 어셈블리.6. The method of claim 5,
The lower edge of the first side wall block includes a first lower edge disposed in the longitudinal direction adjacent to the lower edge of the second nozzle body, a second lower edge disposed adjacent to the second nozzle lip in the longitudinal direction, And a third lower rim extending from the lower rim and connecting the second lower rim. 약액이 도포될 기판이 안착되는 작업대;
상기 기판에 약액을 코팅하기 위해 제1항, 제3항, 제5항, 제6항 중 어느 한 항에 기재된 노즐 어셈블리;
상기 노즐 어셈블리를 지지하는 노즐홀더;
상기 기판에 약액이 도포되도록 상기 노즐 어셈블리를 이동시키는 노즐이동유닛; 그리고,
상기 기판에 약액이 도포된 후 상기 제1 노즐립의 표면에 묻어 있는 이물질을 제거하기 위한 제1블레이드와, 상기 제2 노즐립의 표면에 묻어 있는 이물질을 제거하기 위한 제2 블레이드와, 상기 제1 블레이드와 상기 제2 블레이드를 지지하기 위한 클리너본체를 갖는 노즐립 클리너를 포함하는 것을 특징으로 하는 슬릿코터.A work table on which the substrate to which the chemical solution is to be applied is seated;
A nozzle assembly according to any one of claims 1 to 3 for coating a chemical liquid on the substrate;
A nozzle holder for supporting the nozzle assembly;
A nozzle moving unit for moving the nozzle assembly so that the chemical liquid is applied to the substrate; And,
A first blade for removing foreign substances on the surface of the first nozzle lip after the chemical liquid is applied to the substrate, a second blade for removing foreign substances on the surface of the second nozzle lip, And a nozzle lip cleaner having a first blade and a cleaner body for supporting the second blade. 제7항에 있어서,
상기 노즐립 클리너의 클리닝 작업시 상기 제2 블레이드의 적어도 일부분은 상기 석션챔버 중 제1 석션챔버의 내부공간상에 배치되는 것을 특징으로 하는 슬릿코터.8. The method of claim 7,
Wherein at least a portion of the second blade during the cleaning operation of the nozzle lip cleaner is disposed on the inner space of the first suction chamber of the suction chamber. 제7항에 있어서,
상기 제1 석션챔버의 외벽을 형성하기 위하여 노즐본체의 일측단에 배치되는 제1 측벽블럭에는 제1 측벽블럭 하부테두리가 하부로 돌출되어 있으며, 상기 제1 측벽블럭 하부테두리 중 제2 하부테두리는 상기 노즐립에 대한 클리닝 작업을 종료한 상기 제1 블레이드 및 상기 제2 블레이드와의 간섭을 피하기 위하여 상기 노즐립의 측면 중앙에서 길이방향으로 이웃하게 배치되되 상기 노즐립의 폭보다 좁은 폭을 가지는 것을 특징으로 하는 슬릿코터.8. The method of claim 7,
A lower edge of the first sidewall block protrudes downward in a first sidewall block disposed at one end of the nozzle body to form an outer wall of the first suction chamber, and a second lower edge of the lower sidewall of the first sidewall block And a nozzle having a width narrower than a width of the nozzle lip, the nozzle blade having a width smaller than a width of the nozzle lip so as to avoid interference with the first blade and the second blade, Features a slit coater. 제9항에 있어서,
상기 노즐립 클리너는 상기 노즐립의 끝단부에 해당하는 노즐팁에 묻어 있는 이물질을 제거하기 위한 제3 블레이드를 더 포함하고,
상기 제2 하부테두리는 상기 제3 블레이드와의 간섭을 피하기 위하여 상기 노즐립의 돌출길이보다 작게 돌출되어 있는 것을 특징으로 하는 슬릿코터.
10. The method of claim 9,
Wherein the nozzle lip cleaner further comprises a third blade for removing foreign matter on the nozzle tip corresponding to an end of the nozzle lip,
And the second lower rim is protruded to be smaller than a projecting length of the nozzle lip to avoid interference with the third blade.
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