KR101639071B1 - 다층 박막, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 봉지구조체 - Google Patents

다층 박막, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 봉지구조체 Download PDF

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Abstract

본 발명의 구현예들은 배리어층 및 배리어층 하부에 위치하며 2종 이상의 상이한 도메인을 형성하는 블록 공중합체를 포함하는 접착층을 포함하는 다층 박막, 이의 제조방법, 및 이를 포함하는 봉지구조체에 관한 것으로 이러한 다층 박막은 가스 및 수분 차단성 및 유연성이 우수하여 소자 등의 봉지구조체 제조에 효과적으로 적용될 수 있을 뿐 아니라 소자의 기판으로도 적용가능하다.
블록, 고무, 친수, 봉지, 다층, 박막

Description

다층 박막, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 봉지구조체{MULTILAYERED FILM, METHOD OF MAKING THE SAME, AND ENCAPSULATED STRUCTURE INCLUDING THE SAME}
본 발명의 구현예들은 다층 박막, 이의 제조방법, 및 이를 포함하는 봉지구조체에 관한 것으로, 보다 상세하게는 가스 및 수분 차단성, 및 유연성이 우수한 다층 박막, 이의 제조방법, 및 이를 포함하는 봉지구조체에 관한 것이다.
전자 기술의 비약적인 진보에 의하여 액정 디스플레이, 플라즈마 디스플레이, 전기발광 디스플레이(electroluminescence(EL) display), 발광 다이오우드 등의 평면 디스플레이가 실용화되고 있다. 특히 EL 디스플레이는 높은 발광 효율, 넓은 광시야각, 빠른 응답속도 등의 장점이 있어 주목을 받고 있다.
EL 디스플레이중 유기 EL 소자는 발광층과 정공(hole) 주입층/전자주입층으로 이루어지는 다층 유기 박막을 기판상의 한 쌍의 전극 사이에 개재시켜 형성된다. 상기 유기 EL 소자는 발광층 안으로 주입된 전자들과 정공들이 재결합할 때 발생되는 발광현상을 이용한다.
상기 유기 EL 소자의 발광층의 재료로서 형광성 유기물은 수분 및 산소 등에 약하며, 발광층상에 직접 형성되거나 또는 정공주입층/전자주입층을 사이에 두고 형성되는 금속 전극이 산화될 수 있다. 그 결과, 종래의 유기 EL 소자가 대기 중에서 구동되면, 그 발광 특성들은 급격히 열화된다. 따라서 유기 EL 소자의 내부에 수분이나 산소 등이 들어가지 못하도록 소자를 봉지하여 수명을 연장시킬 필요가 있다.
이러한 유기 EL 소자의 박막형 봉지재는 고분자층과 무기배리어(barrier)층이 교대로 위치하는 봉지구조를 가지는 것이 일반적이다. 상기 무기배리어층은 수분 및 가스의 침투를 막기 위한 차단층으로 사용되고, 상기 고분자층은 무기배리어층의 내부 스트레스를 완화하거나, 무기배리어층의 미세 크랙이나 핀 홀을 채우기 위한 버퍼층으로 사용된다.
고분자층을 형성하는 경우, 주로 아크릴계 또는 에폭시계 모노머를 진공 중에 증착시킨 후, 자외선 혹은 전자빔 조사에 의해 경화시키는 방법이나 진공 중 플라즈마 상태에서의 중합 방법을 사용한다. 또한, 진공을 사용하지 않고, 액체 형태의 모노머를 스핀코팅이나 캐스팅 방법과 같이 대기압에서 코팅한 후 자외선을 조사하여 경화시키는 일반적인 방법도 사용된다. 또한 무기배리어층은 각종 금속, 산화 금속, 및 질화 금속 등의 가스 및 수분 차단성이 높은 물질을 이용하여 일반적으로 잘 알려진 스퍼터링이나 화학기상증착, 또는 전자 빔 증착 방식을 통해 형성된다.
이러한 종래의 박막형 봉지구조를 이루는 고분자층 형성 공정의 경우, 모노머를 진공 중에 직접 증착시키면 기판 위의 모노머는 경화 공정을 거치기 전까지는 우선 액체 상태로 존재하게 되며, 액체 상태 모노머의 유기 EL 소자 표면 에서의 흡착 또는 소자 내부로의 확산으로 인해 유기 EL 소자의 특성이 저하되는 결과가 야기될 수 있다.
또한, 모노머를 경화시키기 위한 자외선 조사 공정으로 인해 유기 EL 소자의 특성 및 이를 이루는 핵심 유기물질의 추가적인 특성 저하가 일어날 수 있다. 특히 유기 EL 소자와 직접 접촉하는 층을 형성하는 경우, 위와 같은 특성 저하 현상이 매우 치명적으로 발생할 소지가 있다.
또한, 플라즈마 중합을 통한 고분자층 형성의 경우에도 유기 EL 소자는 플라즈마에 직접 노출되어 유기 물질이 열화되거나 소자 구조가 불안정해질 수 있으며, 이는 유기 EL 소자의 특성 저하에 직접적으로 관계한다.
무기배리어층을 형성하는 경우에도 공정 상 각종 플라즈마가 주로 사용되며, 이러한 이유로 무기배리어층은 유기 EL 소자에 직접 접촉하는 층으로 적용하기 어렵다. 결국 유기 EL 소자와 직접 접촉하는 고분자 유기층 형성 공정이 소자 특성에 미치는 영향에 있어서 매우 중요하다고 할 수 있다.
본 발명의 일 구현예는 가스와 수분 차단성 및 유연성이 우수한 다층 박막을 제공하기 위한 것이다.
본 발명의 다른 구현예는 상기 다층 박막의 제조방법을 제공하기 위한 것이다.
본 발명의 또다른 구현예는 다층 박막을 이용하여 봉지된 봉지구조체를 제공하기 위한 것이다.
본 발명의 또다른 구현예는 다층 박막을 기판으로 포함하는 소자를 제공하기 위한 것이다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 평균적 기술자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 발명의 일 구현예는 배리어층; 및 배리어층 하부에 위치하는 2종 이상의 상이한 도메인을 형성하는 블록 공중합체를 포함하는 접착층을 포함하는 다층 박막을 제공한다. 상기 블록 공중합체는 50℃ 이하의 유리전이온도(Tg)를 가지는 제1 블록 반복단위, 50℃ 초과 150℃ 이하의 유리전이온도 및 30 내지 50 mN/m의 표면에너지를 가지는 제2 블록 반복단위, 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되 는 탄성 블록 반복단위; 및 친수성을 가지는 제3 블록 반복단위를 포함한다.
본 발명의 또다른 구현예에 따르면, 50℃ 이하의 유리전이온도(Tg)를 가지는 제1 블록 반복단위, 50℃ 초과 150℃ 이하의 유리전이온도 및 30 내지 50 mN/m의 표면에너지를 가지는 제2 블록 반복단위, 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 탄성 블록 반복단위와 친수성을 가지는 제3 블록 반복단위를 포함하는 블록 공중합체를 용제에 용해시켜 접착층 형성용 조성물을 제조하고; 상기 접착층 형성용 조성물을 피코팅부(subject)에 코팅하여 2종 이상의 상이한 도메인을 포함하는 접착층을 형성하고; 상기 접착층 위에 배리어층을 형성하는 공정을 포함하는 다층 박막의 제조방법을 제공한다.
본 발명의 또다른 구현예에 따르면, 발광부재가 형성된 기판과 이를 봉지하는 다층 박막을 포함하는 봉지구조체를 제공한다.
본 발명의 또다른 구현예에 따르면, 상기 다층 박막을 기판으로 포함하는 봉지구조체를 제공한다.
기타 본 발명의 구현예들의 구체적인 사항은 이하의 상세한 설명에 포함되어 있다.
본 발명의 구현예들에 의한 다층 박막은 우수한 가스 및 수분 차단성, 및 유연성이 우수하여 산소 또는 수증기로부터 보호가 필요한 다양한 제품에 효과적으로 사용될 수 있다. 특히 산소 또는 수증기에 취약한 유기 EL 소자등의 평면 디스플 레이 소자의 봉지 또는 소자 기판으로 효과적으로 사용될 수 있다.
이하, 본 발명의 구현예를 상세히 설명하기로 한다. 다만, 이는 예시로서 제시되는 것으로, 이에 의해 본 발명이 제한되지는 않으며 본 발명은 후술할 청구범위의 범주에 의해 정의될 뿐이다.
본 명세서에서 어떤 층이 다른 층 "위"에 있다라고 하는 것은 그 층이 다른 층의 직접 바로 위에 존재하는 것과 다른 층을 사이에 두고 위치하는 것도 포함한다.
본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, 알킬, 알킬렌, 또는 알콕시는, 탄소수 1 내지 20의 알킬, 알킬렌, 또는 알콕시를 의미한다.
본 발명의 일 구현예에 따르면, 배리어층; 및 상기 배리어층 하부에 위치하는 2종 이상의 상이한 도메인을 형성하는 블록 공중합체를 포함하는 접착층을 포함하는 다층 박막이 제공된다.
상기 다층 박막(10)의 구성을 도 1에 도시하였다. 도 1에 도시된 바와 같이, 다층 박막(10)은 접착층(12)과 이 위에 위치하는 배리어층(14)을 포함한다.
상기 다층 박막(10)은 통상 소자가 형성된 기판을 봉지하는 필름으로 사용될 수 있다. 이 경우 기판은 통상 유기물이고, 배리어층(14)은 무기물이므로 서로 친화성이 없어서 배리어층(14)이 기판 위에 직접 형성되는 경우 배리어층(14)이 박리되는 문제점이 발생할 수 있다. 따라서 본 발명의 구현예들은 유기물과 무기물에 대하여 모두 친화성이 있는 양쪽성(amphiphilic) 블록 공중합체를 포함하는 접착층(12)을 배리어층(14) 아래에 위치시켜 이러한 문제를 해결하였다.
상기 접착층(12)에 포함되는 블록 공중합체는 2종 이상의 상이한 도메인을 형성할 수 있는 2이상의 블록 반복단위를 포함한다. 본 발명의 일 구현예에서 상기 블록 공중합체는 50℃ 이하의 유리전이온도(Tg)를 가지는 제1 블록 반복단위, 50℃ 초과 150℃ 이하의 유리전이온도 및 30 내지 50 mN/m의 표면에너지를 가지는 제2 블록 반복단위, 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 탄성 블록 반복단위와 친수성을 가지는 제3 블록 반복단위를 포함한다. 이러한 블록 공중합체는 접착층(12)에서 2종 이상의 상이한 도메인을 형성한다. 상기 접착층(12)에 형성되는 도메인의 특성은 블록 공중합체의 블록 반복단위의 고유의 물성(intrinsic properties)에 기인하는 것이다.
상기 제1 블록 반복단위는 50℃ 이하, 바람직하게는 20℃ 이하, 더 바람직하게는 0℃ 이하의 유리전이온도를 가지는 탄성 고무에서 유도되는 것이 바람직하다. 상기 제1 블록 반복단위는 단독으로 또는 제2 블록 반복단위와 함께 탄성 블록 도메인(12b)에 위치한다.
상기 탄성 고무로는 디엔계 고무, 실록산계 고무, 아크릴계 고무, 알킬렌 고무, 열가소성 엘라스토머 등이 있다. 상기 디엔계(polydienes) 고무의 구체적인 예로는 폴리이소프렌; 폴리부타디엔; 이소프렌-부타디엔 폴리머; 폴리부테닐렌; 폴리(에틸부테닐렌), 폴리(부틸부테닐렌), 폴리(프로필부테닐렌), 폴리(이소프로필 부테닐렌), 폴리(헵틸부테닐렌), 폴리(디메틸 부테닐렌), 폴리(데실 부테닐렌) 등 의 폴리(알킬부테닐렌); 폴리(클로로부테닐렌), 폴리브로모부테닐렌 등의 폴리(할로부테닐렌); 폴리(이소부틸렌)(polyisobutylene; butyl rubber); 폴리(클로로부틸렌), 폴리(브로모부틸렌) 등의 폴리(할로부틸렌); 폴리클로로프렌; 폴리비닐에틸렌; 에틸렌 프로필렌 디엔 고무; 이소프렌 부틸렌 부틸 고무; 부타디엔 아크릴로니트릴 고무; 스티렌-부타디엔 고무; 폴리(에틸렌-코-부텐); 폴리(프로필렌-코-부텐) 등이 있다. 상기 디엔계 고무는 불포화 결합의 일부 또는 전부, 바람직하게는 50몰% 이상의 불포화 결합에 수소 첨가된 디엔계 고무도 가능함은 물론이다. 상기 실록산계 고무의 구체적인 예로는 폴리디메틸실록산과 같은 폴리실록산이 있다. 상기 아크릴계 고무의 예로는 부틸 아크릴레이트, 네오펜틸 아크릴레이트 고무 등의 알킬 아크릴레이트 고무; 디메틸아미노에틸 아크릴레이트와 같은 디알킬아미노알킬 아크릴레이트 고무 등이 있다. 상기 알킬렌 고무의 예로는 에틸렌-비닐 아세테이트 폴리머 등의 알킬렌-비닐 아세테이트 폴리머; 에틸렌-프로필렌 폴리머; 폴리이소부틸렌 등이 있으며, 상기 열가소성 엘라스토머의 예로는 폴리(ε-카프로락톤) 등이 있다.
상기 제1 블록 반복단위는 1,000 내지 200,000 g/mol 의 중량평균분자량을 가지는 것이 바람직하고, 5,000 내지 100,000 g/mol의 중량평균 분자량을 가지는 것이 더 바람직하며, 1 내지 1.3의 분산도((polydispersity; Mw/Mn)를 가지는 것이 바람직하다. 상기 제1 블록 반복단위가 상기 범위의 중량평균분자량과 분산도를 가지는 경우 자가 배열(self-arrangement)에 의하여 다른 도메인과 구분되는 탄성 블록 도메인을 잘 형성할 수 있다.
상기 제2 블록 반복단위는 상기 제1 블록 반복단위와 제3 블록 반복단위 외에 제1 블록 반복단위와 제3 블록 반복단위의 중간 특성을 가진다. 상기 제2 블록 반복단위는 50℃ 초과 150℃ 이하의 유리전이온도 및 30 내지 50 mN/m의 표면에너지를 가지는 폴리머로 구성된다. 상기 제2 블록 반복단위는 80℃ 내지 130℃ 이하의 유리전이온도를 가지는 것이 더 바람직하다.
상기 제2 블록 반복단위는 폴리스티렌; 폴리네오펜틸 메타크릴레이트, 폴리메틸 메타크릴레이트 등과 같은 폴리알킬 메타크릴레이트; 폴리비닐 피리딘; 폴리비닐 나프탈렌; 및 이들의 공중합체에서 선택되는 폴리머로 구성될 수 있다. 상기 제2 블록 반복단위는 제1 블록 반복단위와 제3 블록 반복단위간의 친화성을 향상시키며, 제1 블록 반복단위의 도메인과 제3 블록 반복단위의 도메인 사이에 위치할 수 있다.
상기 제2 블록 반복단위는 제1 블록 반복단위를 대체하여 존재할 수도 있고 제1 블록 반복단위와 함께 존재할 수도 있다. 상기 제2 블록 반복단위는 단독으로 또는 제1 블록 반복단위와 함께 탄성 블록 도메인(12b)에 위치한다.
상기 제2 블록 반복단위는 1,000 내지 200,000 g/mol 의 중량평균 분자량을 가지는 것이 바람직하고, 5,000 내지 100,000 g/mol의 중량평균 분자량을 가지는 것이 더 바람직하며, 1 내지 1.3의 분산도(Mw/Mn)를 가지는 것이 바람직하다. 상기 제2 블록 반복단위가 상기 범위의 중량평균분자량과 분산도를 가지는 경우 자가 배 열에 의하여 다른 도메인과 구분되는 탄성 블록 도메인(12b)을 잘 형성할 수 있다.
상기 제3 블록 반복단위는 친수성 폴리머로 이루어진 것이 바람직하다. 상기 제3 블록 반복단위는 물분자에 대한 접촉각이 60 도(degree) 이하의 범위에 있는 것이 바람직하고, 35 mN/m 이상의 표면에너지를 가지는 것으로서 더욱 바람직하게는 40 mN/m 이상의 표면에너지를 갖는 것이 적절하다. 상기 접촉각은 상온 상압 조건에서 막 표면에 탈이온수(deionized water) 및 디요오도메탄(diiodomethane)을 각각 주사기로 떨어뜨려 형성된 액적이 표면과 이루는 각도를 측정한 것이고 상기 표면에너지는 상기 측정된 접촉각으로부터 이 분야에서 알려진 Wu 모델 또는 Fowkes 모델과 같은 프로그램을 이용하여 얻어진 값이다. 이하에서 언급하는 접촉각과 표면에너지는 모두 상기와 동일한 조건에서 얻어진 값이다.
상기 친수성 폴리머로는 카르복실산기, 술폰산기, (메타)아크릴산기, 알킬 (메타)아크릴산기, 이들 산기들의 염, 및 알킬렌 옥사이드기로 이루어진 군에서 선택되는 친수성기를 포함하는 폴리머가 바람직하게 사용될 수 있다. 상기 산기들의 염은 상기 언급된 산기의 수소 대신 알칼리 금속이 치환된 염을 의미한다. 상기 친수성 폴리머의 구체적인 예로는 폴리에틸렌 옥사이드 등의 폴리알킬렌 옥사이드; 폴리 (메타)아크릴산; 폴리(메타)아크릴 아미드; 폴리프로필 (메타)아크릴산 등의 폴리알킬 (메타)아크릴산 등이 있다. 상기 알킬렌 및 알킬은 탄소수 1 내지 5의 알킬렌 및 알킬인 것이 바람직하다.
상기 제3 블록 반복단위는 1,000 내지 200,000 g/mol 의 중량평균 분자량을 가지는 것이 바람직하고, 5,000 내지 100,000 g/mol의 중량평균 분자량을 가지는 것이 더 바람직하며, 1 내지 1.3의 분산도(Mw/Mn)를 가지는 것이 바람직하다. 상기 제1 블록 반복단위가 상기 범위의 중량평균분자량과 분산도를 가지는 경우 자가 배열에 의하여 다른 도메인과 구분되는 친수성 도메인을 잘 형성할 수 있다.
상기 설명된 바와 같이 제1 블록 반복단위와 제3 블록 반복단위를 포함하거나 제2 블록 반복단위와 제3 블록 반복단위를 포함하는 다이블록 공중합체, 또는 제1 블록 반복단위, 제2 블록 반복단위, 및 제3 블록 반복단위를 포함하는 트리블록 공중합체 등이 사용할 수 있다. 또한 상기 제1 블록 반복단위 또는 제2 블록 반복단위의 양측면에 제3 블록 반복단위가 존재하여 트리블록 공중합체를 형성할 수도 있고 제3 블록 반복단위의 양측면에 제1 블록 반복단위 또는 제2 블록 반복단위가 위치하여 트리블록 공중합체를 형성할 수 있음은 물론이다.
상기 블록 공중합체의 구체적인 예로는 폴리(이소프렌-b-에틸렌 옥사이드)(PI-b-PEO), 폴리(부타디엔-b-에틸렌 옥사이드)(PBu-b-PEO), 폴리(메틸 (메타)아크릴레이트-b-(메타)아크릴산), 폴리(부타디엔-b-(메타)아크릴산), 폴리(부타디엔-b-소듐 아크릴레이트), 폴리(이소프렌-b-소듐 아크릴레이트), 폴리(에틸렌-코-부텐-b-에틸렌 옥사이드), 폴리(프로필렌-코-부텐-b-에틸렌 옥사이드), 폴리(ε-카프로락톤-b-에틸렌 옥사이드), 폴리(메틸 (메타)아크릴레이트-b-에틸렌 옥사이드), 폴리(디메틸아미노에틸 (메타)아크릴레이트-b-에틸렌 옥사이드), 폴리(부틸 (메타)아크릴레이트-b-에틸렌 옥사이드), 폴리(디메틸실록산-b-(메타)아크릴산), 폴리(디 메틸실록산-b-에틸렌 옥사이드), 폴리(비닐 나프탈렌-b-(메타)아크릴산), 폴리(스티렌-b-(메타)아크릴산), 폴리(스티렌-b-에틸렌 옥사이드), 폴리(스티렌-b-(메타)아크릴산), 폴리(이소부틸렌-b-에틸렌 옥사이드), 이들의 공중합체, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택될 수 있다.
상기 접착층(12)에 포함되는 블록 공중합체는 물분자에 대한 접촉각이 20 내지 80 도(degree)의 범위에 있는 것이 바람직하고, 40 내지 60 mN/m의 표면에너지를 가지는 것이 바람직하다. 상기 범위의 접촉각과 표면에너지를 가지는 경우 인접하는 소자 기판과 배리어층(14)에 대하여 친화성과 접착력이 우수한 접착층(12)을 제공할 수 있다.
이러한 블록 반복단위를 포함하는 블록 공중합체는 단독으로 사용할 수도 있고 2종 이상을 조합하여 사용할 수도 있다. 이들 블록 공중합체는 유사한 특성을 가지는 블록 반복단위가 서로 일정 배향성을 가지고 배향되어 접착층(12)에서 도메인(12a, 12b, 12c)을 형성할 수 있다. 즉 제1 블록 반복단위, 제2 블록 반복단위, 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 탄성 블록 반복단위는 탄성 블록 도메인(12b)을 형성하고 제3 블록 반복단위는 친수성 도메인(12a, 12c)을 형성한다.
상기 블록 공중합체의 일정한 배향성에 의하여 얻어진 탄성 블록 도메인(12b)의 두께는 3 내지 100nm의 범위에 있는 것이 바람직하고, 친수성 도메인(12a, 12c)의 두께는 3 내지 100nm의 범위에 있는 것이 바람직하다. 상기 탄성 블록 도메인(12b)과 친수성 도메인(12a, 12c)의 두께는 블록 공중합체를 구성하는 각 블록 반복단위의 중량평균분자량과 분산도에 의하여 상기 범위로 조절될 수 있다.
상기 설명된 바와 같이 상기 접착층(12)에 포함되는 블록 공중합체는 탄성을 나타내는 제1 블록 반복단위, 제2 블록 반복단위 및 이들의 조합에서 선택되는 탄성 블록 반복단위, 및 친수성을 가지는 제3 블록 반복단위의 서로 상이한 특성을 가지는 2 이상의 블록 반복단위를 포함한다. 이러한 제1 내지 제3 블록 반복단위는 주기적으로 상호 교대 배열됨으로써 접착층에서 서로 상이한 도메인을 형성한다.
상기 제1 내지 제3 블록 반복단위는 접착층(12)에서 자가 배열에 의하여 일정 방향성을 가지도록 배향된다. 이러한 일정 방향성으로 배향된 블록 공중합체는 일정 특성이 부여된 2 이상의 도메인을 포함하는 다층 박막(10)을 제공할 수 있다.
즉, 상기 제1 블록 반복단위, 제2 블록 반복단위, 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 탄성 블록 반복단위로 형성되는 탄성 블록 도메인(12b)이 접착층(12)의 내부에 위치하고, 소자 기판과 접하는 친수성 도메인(12a)과 배리어층(14)과 접하는 친수성 도메인(12c)은 탄성 블록 도메인(12b)의 양 측면에 위치한다. 예를 들어, 폴리이소프렌-폴리에틸렌 옥사이드 블록 공중합체(PI-b-PEO)의 폴리이소프렌 성분인 제1 블록 반복단위는 접착층(12)의 내부인 탄성 블록 도메인(12b)을 형성하여 막의 유연성(flexibility)을 향상시키고, 폴리에틸렌 옥사이드 성분인 제3 블록 반복단위는 탄성 블록 도메인(12b)의 양 측면에 친수성 도메 인(12a, 12c)을 형성하여 소자 기판과 접착층(12)의 친화성 및 배리어층(14)과 접착층(12)의 친화성을 향상시킬 수 있다.
상기 다층 박막(10)은 친수성 도메인(12a, 12c)과 탄성 블록 도메인(12b)이 복수개의 층으로 서로 교대 배열된 접착층(12)을 포함한다. 배리어층(14)은 친수성 도메인(12c)과 접하여 존재하는 것이 바람직하다.
또한 도 1에 도시된 친수성 도메인(12a, 12c)과 탄성 블록 도메인(12b)을 포함하는 접착층(12)은 복수개의 층으로 존재할 수도 있다. 또한 친수성 도메인(12a, 12c)과 탄성 블록 도메인(12b)도 필요에 따라 각각 반복 적층될 수 있다.
상기 접착층(12) 위에는 배리어층(14)이 위치한다. 상기 배리어층(14)은 무기물층, 유기/무기물 복합층, 또는 유기물층/무기물층의 적층체일 수도 있다.
상기 배리어층(14)를 구성하는 무기물로는 금속산화물, 금속질화물, 금속탄화물, 금속옥시질화물, 금속붕화물, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 물질로 이루어질 수 있다. 상기 금속의 예로는 원소 주기율표의 2A 족 원소, 3A 족 원소, 4A 족 원소, 5A 족 원소, 6A 족 원소, 7A 족 원소, 1B 족 원소, 2B 족 원소, 3B 족 원소, 4B 족 원소, 5B 족 원소, 및 희토류 원소로 이루어진 군에서 선택되는 원소를 들 수 있다. 상기 금속산화물의 구체적인 예로는 산화알루미늄, 산화규소, 산화지르코늄, 산화티타늄, 산화크롬, 산화마그네슘, 산화주석, 인듐 틴 옥사이드, 산화인듐, 산화탄탈, 산화구리, 산화아연, 산화세슘, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택될 수 있고, 상기 금속질화물의 바람직한 예로는 질화알루 미늄, 질화규소(Si3N4) 등이 있으며, 금속탄화물의 예로는 탄화규소 등이 있으며, 상기 옥시질화물의 바람직한 예로는 옥시질화규소(SiON) 등이 있고, 상기 금속붕화물의 예로는 붕화알루미늄, 붕화규소 등이 있다. 이중에서 산화규소는 수분 차단성이 우수하여 바람직하게 사용될 수 있다. 이러한 무기물은 2종 이상을 혼합하여 무기물층을 형성할 수도 있고 서로 다른 무기물을 적층하여 무기물층을 형성할 수도 있다.
상기 유기/무기물 복합층은 무기물 전구체와 저분자의 탄화수소를 플라즈마를 이용하여 증착하거나, 테트라에톡시 실란과 같은 유기전구체를 플라즈마를 이용한 증착시 형성될 수 있다. 상기 저분자의 탄화수소로는 탄소수 15 이하의 알켄, 알코올, 알데히드, 에테르, 방향족 화합물, 알킬렌 옥사이드 등을 들 수 있다.
상기 유기물층/무기물층의 적층체는 (메타)아크릴레이트 폴리머층과 무기물층의 적층체일 수 있으며, 상기 (메타)아크릴레이트 폴리머층과 무기물층의 적층 순서는 특별히 한정되지 않는다. 이들 (메타)아크릴레이트 폴리머층과 무기물층은 교대로 복수의 층으로 반복 적층될 수 있다.
상기 배리어층(14)의 두께는 5nm 내지 300nm의 범위에 있는 것이 바람직하다.
도 1에 도시된 다층 박막(10)은 접착층(12) 아래에 지지층(16)을 더 포함할 수 있다. 이러한 구성을 가지는 다층 박막(20)은 도 2에 도시되어 있다. 상기 지지층(16)은 상부층을 형성하기 위한 블록 공중합체 조성물의 도포, 건조, 소자의 봉지 공정 중에 열에 견디는 수지로 이루어진 필름이면 사용가능하며, 특별히 제한되지 않는다. 특히 소자 기판과 동일한 종류의 수지를 사용하는 경우 기판과 지지층의 접착이 용이하게 이루어질 수 있다.
상기 수지의 구체적인 예로는 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리부틸렌 테레프탈레이트 등의 폴리알킬렌 테레프탈레이트; 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리알킬렌 나프탈레이트; 폴리카보네이트; 폴리프로필렌, 폴리에틸렌 등의 폴리올레핀; 폴리부텐; 폴리부타디엔; 폴리메틸펜텐 등의 폴리알킬펜텐; 폴리비닐클로라이드; 트리아세틸셀룰로오스; 폴리에테르술폰; 폴리우레탄; 폴리에틸렌 비닐 아세테이트 등의 폴리알킬렌 비닐 아세테이트; 이오노머(ionomer) 수지; 에틸렌-(메타)아크릴산 공중합체 등의 알킬렌-(메타)아크릴산 공중합체; 에틸렌-(메타)아크릴산 에스테르 공중합체 등의 알킬렌-(메타)아크릴산 에스테르 공중합체; 폴리스티렌; 폴리이미드; 폴리아미드; 폴리아미드이미드; 플루오로 수지; 이들의 공중합체; 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 물질이 있다. 상기 지지층은 위에서 언급된 둘 이상의 수지의 적층 필름이어도 된다. 상기 지지층의 두께는 5um 내지 300 um의 범위에 있는 것이 바람직하다.
본 발명의 다른 구현예에서는 상기 접착층(12)의 친수성 도메인(12a, 12c)에 무기물을 추가로 포함함으로써 유기/무기 하이브리드 접착층을 형성하여 배리어층(14)과 접착층(12)의 친화성과 접착력을 더욱 향상시킬 수 있다. 상기 무기물로는 배리어층(14)에 사용되는 무기물이 사용될 수 있다. 상기 무기물은 배리어층(14)과 접하는 친수성 도메인(12c)에만 존재하도록 할 수도 있다.
상기 유기/무기 하이브리드 접착층은 친수성을 가지는 제3 블록 반복단위를 포함하는 블록 공중합체를 도포하여 접착층(12)을 형성할 때 함께 도포함으로써 간단히 형성될 수도 있다. 예를 들어 상기 무기물이 금속산화물일 경우에는 제3 블록 반복단위를 포함하는 블록 공중합체를 도포하여 접착층(12)을 형성할 때 무기 금속산화물 전구체를 함께 첨가하여 가수분해 반응에 의하여 산화물을 생성시킴으로써 유기/무기 하이브리드 접착층을 제조한다. 이러한 무기 금속산화물 전구체는 친수성을 가지는 제3 블록 반복단위와 친화성이 있으므로 친수성 도메인(12a, 12c)에 편중되어 배치된다.
상기 무기물은 친수성 도메인(12a, 12c)을 구성하는 블록 공중합체 100 중량부에 대하여 1 내지 10 중량부의 양으로 존재하는 것이 바람직하다. 상기 무기물이 상기 기재된 범위로 사용되는 경우 블록 공중합체의 자가 배열을 방해하지 않으면서 유기/무기 하이브리드 접착층을 효과적으로 형성할 수 있다. 무기 금속산화물 전구체에 대해서는 금속의 종류에 따라 이 분야에서 용이하게 선택될 수 있다.
상기 다층 박막(10)은 배리어층(14) 위에 소수성 보호층을 더 배치하여 외부 환경에 의한 배리어층(14)의 손상을 방지할 수 있다. 이러한 구조의 다층 박막(20)은 도 3에 도시되어 있다. 도 3에 도시된 소수성 보호층(18)은 소수성 작용기를 포함하는 고분자를 포함한다. 상기 소수성 작용기로는 탄소수 1 내지 20의 플루오로알킬기 또는 탄소수 1 내지 20의 알킬기를 들 수 있다.
또한 소수성 보호층(18)은 소수성 제1 블록 반복단위와 친수성 제2 블록 반복단위를 포함하는 블록 공중합체에 의하여 형성될 수도 있다. 이 경우 소수성 제 1 블록 반복단위는 소수성 보호층(18) 내에 소수성 도메인(18b)을 형성하고 친수성 제2 블록 반복단위는 친수성 도메인(18a)을 형성한다. 상기 소수성 도메인(18b)과 친수성 도메인(18a)은 복수개의 층으로 상호 번갈아 존재할 수 있다. 상기 친수성 도메인(18a)은 배리어층(14)과 접하여 존재하는 것이 바람직하다.
상기 소수성 제1 블록 반복단위는 소수성 작용기를 포함하는 반복단위인 것이 바람직하고, 구체적인 예로는 하기 화학식 1의 모노머로부터 유도되는 반복단위를 들 수 있다.
[화학식 1]
Figure 112008075489207-pat00001
(상기 화학식 1에서 R1은 수소 또는 탄소수 1 내지 10의 알킬이고, R2 내지 R4는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 수소, 불소, 탄소수 1 내지 10의 알킬, 및 탄소수 1 내지 10의 플루오로알킬로 이루어진 군에서 선택되고, x와 y는 0 내지 20의 정수이고 x와 y의 합은 5이상이다.)
상기 화학식 1의 구체적인 예로는 하기 화학식 1a를 들 수 있다.
[화학식 1a]
Figure 112008075489207-pat00002
상기 소수성 제1 블록 반복단위는 1,000 내지 200,000 g/mol의 중량평균 분 자량을 가지는 것이 바람직하고, 5,000 내지 100,000 g/mol의 중량평균 분자량을 가지는 것이 더 바람직하며, 1 내지 1.3의 분산도(Mw/Mn)를 가지는 것이 바람직하다.
상기 소수성 제1 블록 반복단위는 90 도(degree) 이상의 물분자에 대한 접촉각을 가지는 것이 바람직하고, 100 내지 120도의 접촉각을 가지는 것이 더 바람직하다. 또한 상기 소수성 제1 블록 반복단위는 30 mN/m 이하의 표면에너지를 가지는 것이 바람직하고, 10 내지 30 mN/m의 표면에너지를 가지는 것이 더 바람직하다. 상기 범위의 접촉각과 표면에너지를 가지는 경우 충분한 보호층 역할을 할 수 있으며, 하부에 존재하는 배리어층(14)에 대한 친화성도 부여할 수 있다.
상기 친수성 제2 블록 반복단위의 구체적인 예로는 하기 화학식 2의 모노머로부터 유도되는 반복단위를 들 수 있다.
[화학식 2]
Figure 112008075489207-pat00003
(상기 화학식 2에서 R5는 수소 또는 탄소수 1 내지 10의 알킬이고, R6 내지 R8은 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 수소, 탄소수 1 내지 10의 알킬, 및 알콕시로 이루어진 군에서 선택되고, R6 내지 R8중 적어도 하나는 알킬 또는 알콕시이고, x는 1 내지 10의 정수이다.)
상기 화학식 2의 구체적인 예로는 하기 화학식 2a를 들 수 있다.
[화학식 2a]
Figure 112008075489207-pat00004
상기 친수성 도메인(18a)을 구성하는 친수성 제2 블록 반복단위는 1,000 내지 200,000 g/mol의 중량평균 분자량을 가지는 것이 바람직하고, 5,000 내지 100,000 g/mol의 중량평균 분자량을 가지는 것이 더 바람직하며, 1 내지 1.3의 분산도(Mw/Mn)를 가지는 것이 바람직하다.
상기 친수성 제2 블록 반복단위는 물분자에 대한 접촉각이 60도 이상 90 도 미만의 범위에 있는 것이 바람직하고, 30 mN/m 초과 40 mN/m 이하의 표면에너지를 가지는 것이 바람직하다.
상기 소수성 보호층(18)에 포함되는 블록 공중합체는 물분자에 대한 접촉각이 90 도(degree) 이상이고 40 mN/m 이하의 표면에너지를 가지는 것이 바람직하다. 상기 범위의 접촉각과 표면에너지를 가지는 경우 인접하는 배리어층(14)에 대하여 친화성과 접착력이 우수하고 수분 차단성이 우수한 소수성 보호층(18)이 제공될 수 있다.
상기 소수성 보호층(18)의 두께는 50nm 내지 1um의 범위에 있는 것이 바람직하다. 상기 블록 공중합체에 의하여 형성된 소수성 보호층(18)의 소수성 도메인(18b)과 친수성 도메인(18a)의 두께는 각각 10 내지 200nm의 범위에 있는 것이 바람직하다. 상기 소수성 도메인(18b)과 친수성 도메인(18a)의 두께는 블록 반복단위의 중량평균분자량과 분산도에 의하여 조절될 수 있다.
본 발명의 다른 구현예에서는 상기 배리어층(14)에 인접하는 소수성 보호층(18)의 친수성 도메인(18b)에 무기물을 추가로 포함함으로써 유기/무기 하이브리드 접착층을 형성하여 배리어층(14)과 소수성 보호층(18)의 친화성과 접착력을 더욱 향상시킬 수 있다. 상기 무기물로는 배리어층(14)에 사용되는 무기물이 사용될 수 있다.
상기 무기물이 무기산화물일 경우에는 친수성 블록 반복단위를 포함하는 블록 공중합체를 도포하여 소수성 보호층(18)을 형성할 때 무기물 전구체를 함께 첨가하여 가수분해 반응에 의하여 무기물을 형성함으로써 간단히 도입할 수도 있다. 이러한 무기물 전구체는 친수성 블록 반복단위와 친화성이 있으므로 친수성 도메인(18a)에 편중되어 배치된다. 상기 무기물은 친수성 도메인(18a)을 형성하는 블록 공중합체 100 중량부에 대하여 1 내지 10 중량부의 양으로 존재하는 것이 바람직하다. 상기 무기물이 상기 기재된 범위로 사용되는 경우 블록 공중합체의 자가 배열을 방해하지 않으면서 유기/무기 하이브리드 접착층을 효과적으로 형성할 수 있다. 무기 금속산화물 전구체에 대해서는 금속의 종류에 따라 이 분야에서 용이하게 선택될 수 있다.
이하에서는 상기 다층 박막(10)의 제조방법에 대하여 설명한다.
먼저, 50℃ 이하의 유리전이온도(Tg)를 가지는 제1 블록 반복단위, 50℃ 초과 150℃ 이하의 유리전이온도 및 30 내지 50 mN/m의 표면에너지를 가지는 제2 블 록 반복단위, 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 탄성 블록 반복단위 와 친수성을 가지는 제3 블록 반복단위를 포함하는 블록 공중합체를 용제에 용해시켜 접착층 형성용 조성물을 제조하고, 피코팅부에 코팅한다. 상기 블록 공중합체는 위에서 설명된 바와 같다. 상기 용제로는 블록 공중합체를 용해시키고 후속 건조공정에서 제거될 수 있으면 제한되지 않고 사용될 수 있다. 상기 용제의 구체적인 예로는 테트라하이드로퓨란, 디메틸포름아미드, 톨루엔, N-메틸-2-피롤리돈, 디메틸아세트아미드, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 시클로헥사논, 메틸에틸케톤, 클로로포름 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 용제일 수 있다. 상기 피코팅부는 기판 또는 이형필름일 수도 있고, 도 2에 도시된 다층 박막(20)을 형성하는 경우에는 지지층(16)일 수도 있다.
상기 코팅 공정으로는 스핀코팅법, 스크린 프린팅법, 스프레이 코팅법, 닥터 블레이드를 이용한 코팅법, 그라비어 코팅법, 딥코팅법, 실크 스크린법, 페인팅법 등이 사용될 수 있으며, 이에 한정되는 것은 아니다.
코팅된 접착층 형성용 조성물을 어닐링하여 용매를 제거한다. 이 과정에서 블록 공중합체가 자가 배열되어 형성된 2이상의 도메인을 포함하는 접착층(12)을 형성한다. 상기 어닐링 공정은 60℃ 내지 130℃의 온도에서 진공분위기에서 실시하는 것이 바람직하다.
상기 형성된 접착층(12) 위에 배리어층(14)을 형성하여 도 1 및 도 2에 도시된 다층 박막(10, 20)을 제작할 수 있다. 배리어층(14)은 무기물을 증착하거나 습식코팅하여 형성되는 무기물층; 무기물 전구체와 저분자 탄화수소의 공증 착(codeposition) 또는 유기전구체의 증착에 의하여 형성되는 유기/무기물 복합층; 또는 (메타)아크릴레이트 단량체, 올리고머, 또는 수지를 코팅한 후 중합시켜 형성된 유기물층, 및 무기물의 증착 또는 습식 코팅에 의하여 형성된 무기물층이 적층된 유기물층/무기물층의 적층체일 수 있다. 상기 증착방법으로는 스퍼터링, 화학기상층착(CVD), 물리기상증착(PVD), 이온도금법 등이 있으며, 습식코팅법으로는 도금법, 또는 졸-겔 법이 있다. 이러한 방법은 이 분야에서 잘 알려진 방법이므로 자세한 설명은 생략한다.
소수성 보호층(18)도 상기 접착층(12)과 마찬가지 방법으로 소수성 제1 블록 반복단위와 친수성 제2 블록 반복단위를 포함하는 블록 공중합체를 용제에 함유시킨 보호층 형성용 조성물을 배리어층(14)에 도포, 및 어닐링 공정을 실시하여 형성함으로써 도 3에 도시된 다층 박막(30)을 제조할 수 있다. 도 3에 도시된 다층 박막(30)도 지지체(16)를 더 포함할 수도 있다.
상기 접착층(12) 또는 소수성 보호층(18)의 친수성 블록 반복단위를 포함하는 블록 공중합체와 무기물 전구체를 함께 코팅하여 성막함으로써 유기/무기 하이브리드 층을 제조할 수 있다. 예를 들어 무기 금속산화물 전구체로서 알콕사이드를 블록 공중합체와 함께 코팅한 후 가수분해 반응을 유도하는 졸-겔 법에 의하여 친수성 도메인(12a, 12c, 18a)에 산화물이 분산되도록 할 수 있다. 상기 무기 금속산화물 전구체로는 하기 화학식 3으로 표현되는 알콕사이드 화합물, 및 이들의 혼합물이 사용될 수 있으며, 이에 한정되는 것은 아니다.
[화학식 3]
M(R)x(R')y
(상기 식에서 M은 Si, Al, Ti, Zr, Cr, Mg, In, Sn, 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되고, 상기 R 및 R'은 각각 독립적으로 수소, 염소, 알콕시, 및 알킬로 이루어진 군에서 선택되며, R 및 R' 중 적어도 하나는 알콕시이다. 상기 x와 y의 합은 M의 원자가에 따라 결정된다. 상기 알콕시는 탄소수 1 내지 5의 알콕시인 것이 바람직하고, 상기 알킬은 탄소수 1 내지 10의 알킬인 것이 바람직하다.)
상기 구성을 가지는 다층 박막(10, 20, 30)은 소자의 봉지구조체를 제작하는 데 사용될 수 있으며, 봉지구조체(100, 200, 300)의 구성은 도 4 내지 도 6에 도시되어 있다.
도 4에 도시된 바와 같이 다층 박막(10, 20, 30)을 발광부재(103)를 포함하는 기판(101) 위에 위치시키고 다층 박막(10, 20, 30)과 기판(101)의 계면(105)을 열융착, 초음파 용접 등의 통상적인 방법으로 접착시킬 수 있다.
상기 발광부재(103)는 한쌍의 전극 사이에 위치하는 발광층을 포함하며 상기 발광층은 다층 박막일 수 있다.
상기 기판(101)은 유리 기판이나 플라스틱 기판 등이 사용될 수 있다. 상기 플라스틱 기판으로는 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리부틸렌 테레프탈레이트 등의 폴리알킬렌 테레프탈레이트; 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리알킬렌 나프탈레이트; 폴리카보네이트; 폴리프로필렌, 폴리에틸렌 등의 폴리올레핀; 폴리부텐; 폴리부타디엔; 폴리메틸펜텐 등의 폴리알킬펜텐; 폴리비닐클로라이드; 트리아세틸셀룰 로오스; 폴리에테르술폰; 폴리우레탄; 폴리에틸렌 비닐 아세테이트 등의 폴리알킬렌 비닐 아세테이트; 이오노머 수지; 에틸렌-(메타)아크릴산 공중합체 등의 알킬렌-(메타)아크릴산 공중합체; 에틸렌-(메타)아크릴산 에스테르 공중합체 등의 알킬렌-(메타)아크릴산 에스테르 공중합체; 폴리스티렌; 폴리이미드; 폴리아미드; 폴리아미드이미드; 플루오로 수지; 이들의 공중합체; 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 수지로 제조될 수 있다. 상기 기판(101)이 다층 박막(20)의 지지층(16)과 동일한 물질인 경우 더 용이하게 접착이 가능하다.
도 5에 도시된 바와 같이 상기 다층 박막(10, 20, 30)과 기판(101) 사이에 별도의 접착시트(107)를 위치하게 하여 봉지구조체(200)를 제작할 수도 있고, 도 6에 도시된 바와 같이 다층 박막(10, 20, 30)과 기판(101)의 계면(105)에 접착시트(109)가 위치하도록 하여 봉지구조체(300)를 제작할 수도 있다. 상기 접착시트(107, 109)로는 아크릴계 수지 또는 에폭시 수지를 사용할 수 있다. 이러한 접착시트(107, 109)에 흡습제를 더 포함시킴으로써 흡습층을 별도로 형성하지 않을 수도 있다. 상기 흡습제로는 칼슘, 실리카겔, 제올라이트 등을 사용할 수 있다.
또한 상기 다층 박막(10, 30)은 발광부재(103)가 형성된 기판에 직접 코팅하여 다층 박막을 제조할 수도 있다. 이와 같이 직접 접착층(12)을 발광부재(103) 위에 바로 습식공정으로 형성하더라도 모노머의 플라즈마 중합과 같은 공정을 실시하지 않으므로 소자의 특성에 영향을 미치지 않으면서 접착층(12)을 형성할 수 있다. 또한 상기 접착층(12) 위에 형성되는 배리어층(14)을 형성하는 경우에도 접착층(12)이 보호막 역할을 하므로 소자의 특성에는 영향을 미치지 않는다.
상기 설명된 다층 박막은 소자 기판으로 사용될 수도 있다. 즉 다층 박막 위에 제1전극과 제2 전극을 형성하고 상기 제1 전극과 제2 전극 사이에 유기 박막을 형성하여 표시 소자를 제작할 수도 있다. 상기 다층 박막과 전극 사이에는 플라스틱 필름이 위치하는 것이 바람직하다.
상기 봉지구조체(100, 200, 300)는 이 분야에 통상적으로 알려진 봉지된 표시 소자, 반도체 소자 등을 들 수 있다. 상기 표시 소자로는 유기 전기 발광 소자, 액정 디스플레이, 전자 방출 소자, 전계 발광 표시 소자 등을 들 수 있다. 본 발명의 다층 박막(10, 20, 30)은 상기 표시 소자 또는 반도체 소자 외에도 유기광전도체(OPC), 광굴절막 장치, 전하결합장치(CCD), 광변색장치(photochronic device), 포토다이오우드(photodiode), 태양전지 등의 봉지 공정에도 사용될 수 있다.
이하에서는 본 발명의 구체적인 실시예들을 제시한다. 다만, 하기에 기재된 실시예들은 본 발명을 구체적으로 예시하거나 설명하기 위한 것에 불과하며, 이로서 본 발명이 제한되어서는 아니된다.
실시예 1 : 다층 박막의 제조
폴리이소프렌-폴리에틸렌 옥사이드 블록 공중합체(PI-b-PEO; MW: 26,000/14,500, Mw/Mn: 1.05)를 테트라하이드로퓨란/클로로포름/톨루엔(2:1:1의 부피비)의 혼합용제에 2 중량%의 농도가 되도록 용해시켜 접착층 형성용 조성물을 제 조하였다.
상기 조성물을 1500rpm으로 40초 동안 스핀코팅하여 폴리에테르 설폰 기판(두께: 200um, i-component사 제품) 위에 형성하고 120℃의 진공오븐에서 1.5시간 어닐링하여 접착층을 150nm 두께로 형성하고 Al2O3를 150nm 증착하여 배리어층을 형성하여 도 2에 도시된 구성을 가지는 다층 박막을 제작하였다.
실시예 2 : 다층 박막의 제조
폴리이소프렌-폴리에틸렌 옥사이드 블록 공중합체(PI-b-PEO; MW: 26,000/14,500, Mw/Mn: 1.05)를 테트라하이드로퓨란/클로로포름/톨루엔(2:1:1의 부피비)의 혼합용제에 3 중량%의 농도가 되도록 용해시킨 다음, 하기 화학식 4의 알루미늄 tert-부톡사이드를 상기 블록 공중합체 100 중량부에 대하여 10 중량부의 양으로 첨가하였다. 가수분해 반응을 유도하기 위하여 물과 염산(Aldrich, No.318949)을 소량 첨가하여 1.5시간 동안 교반하여 접착층 형성용 조성물을 제조하였다. 상기 조성물을 1500rpm으로 40초 동안 스핀코팅하여 폴리에테르 설폰 기판(두께: 200um, i-component사 제품) 위에 형성하고 120℃의 진공오븐에서 1.5시간 어닐링하여 접착층을 150nm 두께로 형성하고 Al2O3를 150nm 증착하여 배리어층을 형성하여 도 2에 도시된 구성을 가지는 다층 박막을 제작하였다.
[화학식 4]
Figure 112008075489207-pat00005
실시예 3 : 다층 박막의 제조
하기 화학식 1a와 화학식 2a의 모노머를 이용하여 제조된 블록 공중합체를 테트라하이드로퓨란 용매에 1.5 중량%의 농도로 용해시켜 보호층 형성용 조성물을 제조하였다. 실시예 1에 따른 다층 박막에 상기 제조된 보호층 형성용 조성물을 1500rpm으로 40초 동안 스핀코팅하여 150 nm의 소수성 보호층을 형성하여 다층 박막을 제작하였다.
[화학식 1a]
Figure 112008075489207-pat00006
[화학식 2a]
Figure 112008075489207-pat00007
실시예 4 : 다층 박막의 제조
폴리부타디엔-폴리에틸렌 옥사이드 블록 공중합체를 사용한 것을 제외하고 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 다층 박막을 제작하였다.
실시예 5 : 다층 박막의 제조
폴리부타디엔-폴리에틸렌 옥사이드 블록 공중합체를 사용한 것을 제외하고 상기 실시예 2와 동일한 방법으로 다층 박막을 제작하였다.
다층 박막의 도메인 형성 확인
다층 박막의 접착층 내에 서로 상이한 도메인이 형성된 것을 확인하기 위하여 상기 실시예 1에 따른 다층 박막의 제조에서 접착층을 형성한 다음 XPS로 탄소원자와 산소원자의 분포를 측정하였다. 그 결과를 도 7에 도시하였다. 도 7에서 접착층에 대하여 Al2O3 배리어층을 형성하기 전에 원소 분포를 분석한 것으로 0nm는 배리어층에 접하는 면을 의미한다. 도 7에서 보는 바와 같이 탄소 원자에 비하여 산소 원자의 분포가 많아지는 것은 C-C 결합외에 C-O 결합이 있다는 것이므로 폴리에틸렌 옥사이드(PEO) 블록 도메인이 형성되었음을 보여주는 것이고, 탄소 원자에 비하여 산소원자의 분포가 적어지는 것은 C-C 결합만 있다는 것이므로 폴리이소프렌(PI) 블록 도메인이 형성되었음을 보여주는 것이다. 즉 접착층의 상단에서부터 PEO-PI-PEO-PI-PEO 블록 도메인이 반복하여 형성되었음을 보여주는 것이다.
다층 박막의 유/무기 하이브리드 접착층 형성 확인
다층 박막의 접착층 내에 유/무기 하이브리드 접착층이 형성되었음을 확인하기 위하여 상기 실시예 2에 따른 다층 박막의 제조에서 접착층을 형성한 다음 XPS로 Al 원소의 분포를 측정하였다. 그 결과를 도 8에 도시하였다. 도 8에서 Al 원소는 친수성 도메인을 형성하는 PEO 블록 반복반위에 편중되어 배치되는 것을 확인할 수 있다. 이로써 친수성 도메인 부분이 Al2O3/PEO의 유/무기 하이브리드 층이 형성되었음을 알 수 있다.
다층박막의 접촉각 및 표면에너지 측정
상기 실시예 3에서 제조된 다층 박막의 표면에서의 접촉각을 측정하였다. Kruess사의 접촉각 측정장치를 이용하여 3ul의 탈이온수를 다층 박막 시편 위에 떨어뜨린 다음 촬영한 사진을 도 9에 도시하였다. 탈이온수 액적과 다층 박막 표면과 이루는 접촉각을 측정하였다. 그 결과 115도의 물 분자에 대한 접촉각을 가짐을 확인하였다. 또한 탈이온수 대신 디요오도메탄을 사용하여 상기 디요오도메탄과 다층 박막 표면이 이루는 접촉각은 67도인 것으로 나타났다. 상기 측정된 접촉각으로부터 Fowkes 모델을 이용하여 계산한 표면에너지는 24.5 mN/m의 값을 확인하였다.
다층 박막의 투습도 측정
상기 실시예 5에서 제조된 다층 박막의 투습도를 측정하기 위해 MOCON사(USA)의 Aquatran model 1 장비를 이용하여 100% 상대습도, 38℃에서 측정하여 30시간 경과 후 약 8 X 10-2 g/m2.day의 결과를 확인하였다. 이로써 상기 다층 박 막이 매우 우수한 수분 차단성을 가짐을 확인할 수 있다.
본 발명의 단순한 변형 또는 변경은 모두 이 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의하여 용이하게 실시될 수 있으며, 이러한 변형이나 변경은 모두 본 발명의 영역에 포함되는 것으로 볼 수 있다.
도 1 내지 도 3은 본 발명의 일 구현예에 따른 다층 박막의 단면도이다.
도 4 내지 6는 도 1 내지 도 3에 도시된 다층 박막을 이용하여 봉지한 봉지구조체의 단면도이다.
도 7은 실시예 3에 따른 다층 박막의 접착층에서의 XPS 분석 결과를 보인 도면이다.
도 8은 실시예 4에 따른 다층 박막의 접착층에서의 Al 원소의 XPS 분석 결과를 보인 도면이다.
도 9는 실시예 5에 따른 다층 박막 표면의 접촉각 측정 결과이다.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
10, 20, 30: 다층 박막 16: 지지층
12: 접착층 14: 배리어층
12a, 12c: 친수성 도메인 12b: 탄성 블록 도메인
18: 소수성 보호층 18a: 친수성 도메인
18b: 소수성 도메인 100, 200, 300: 봉지구조체
101: 기판 103: 발광부재
105: 경계면 107, 109: 접착시트

Claims (21)

  1. 배리어층; 및 상기 배리어층 하부에 위치하는 2종 이상의 상이한 도메인을 형성하는 블록 공중합체를 포함하는 접착층을 포함하는 다층 박막으로서, 상기 블록 공중합체는 제 1 블록 반복 단위 및 제 2 블록 반복 단위를 포함하는 탄성 블록 반복단위와 친수성을 가지는 제 3블록 반복단위를 포함하고, 상기 제 2블록 반복 단위는 제1 블록 반복단위와 제3 블록 반복단위의 중간 특성을 가지며, 상기 제 2블록 반복 단위는 상기 1 블록 반복단위의 도메인과 제 3 블록 반복단위의 도메인 사이에 위치하여 제 1 블록 반복단위와 제 3 블록 반복단위의 친화성을 향상시키며, 상기 탄성 블록 반복단위는 탄성 블록 도메인을 형성하고 상기 제3 블록 반복단위는 친수성 도메인을 형성하며, 상기 탄성 블록 도메인은 상기 다층 박막의 횡단면에서 수직한 방향으로 상기 친수성 도메인 사이에 삽입되는 것을 특징으로 하는 다층 박막.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제1 블록 반복단위는 50℃ 이하의 유리전이온도(Tg)를 가지고, 상기 제2 블록 반복단위는 50℃ 초과 150℃ 이하의 유리전이온도 및 30 내지 50 mN/m의 표면에너지를 갖는 것을 특징으로 하는 다층 박막.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 배리어층은 무기물층, 유기/무기물 복합층, 및 유기물층/무기물층의 적층체로 이루어진 군에서 선택되는 것인 다층 박막.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 제1 내지 제3 블록 반복단위는 각각 1,000 내지 200,000 g/mol의 중량평균분자량을 가지고, 1 내지 1.3의 분산도(Mw/Mn)를 가지는 것인 다층 박막.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 제3 블록 반복단위는 물분자에 대한 접촉각이 60 도(degree) 이하이고, 표면에너지가 35 mN/m 이상인 것인 다층 박막.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 탄성 블록 도메인은 접착층의 내부에 위치하는 것인 다층 박막.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 탄성 블록 도메인과 친수성 도메인은 복수개의 층으로 상호 교대 배열되어 있는 것인 다층 박막.
  8. 제2항에 있어서,
    상기 배리어층은 친수성 도메인과 접하여 존재하는 것인 다층 박막.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 친수성 도메인은 무기물을 더 포함하여 형성된 유/무기 하이브리드 친수성 도메인인 것인 다층 박막.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 다층 박막은 배리어층 위에 소수성 보호층을 더 포함하고, 상기 소수성 보호층은 소수성 제1 블록 반복단위와 친수성 제2 블록 반복단위를 포함하는 블록 공중합체를 포함하는 것인 다층 박막.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 소수성 제1 블록 반복단위는 소수성 도메인을 형성하고 친수성 제2 블록 반복단위는 친수성 도메인을 형성하고, 상기 친수성 도메인은 배리어층과 접하여 존재하는 것인 다층 박막.
  12. 제10항에 있어서,
    상기 소수성 제1 블록 반복단위는 소수성 도메인을 형성하고 친수성 제2 블록 반복단위는 친수성 도메인을 형성하고, 상기 친수성 도메인은 무기물을 더 포함하여 형성된 유/무기 하이브리드 친수성 도메인인 것인 다층 박막.
  13. 제10항에 있어서,
    상기 소수성 제1 블록 반복단위와 친수성 제2 블록 반복단위는 각각 1,000 내지 200,000 g/mol의 중량평균 분자량 및 1 내지 1.3의 분산도(Mw/Mn)를 가지는 것인 다층 박막.
  14. 50℃ 이하의 유리전이온도(Tg)를 가지는 제1 블록 반복단위 및 50℃ 초과 150℃ 이하의 유리전이온도 및 30 내지 50 mN/m의 표면에너지를 가지는 제2 블록 반복단위를 포함하는 탄성 블록 반복단위와 친수성을 가지는 제3 블록 반복단위를 포함하는 블록 공중합체를 용제에 용해시켜 접착층 형성용 조성물을 제조하고,
    상기 접착층 형성용 조성물을 피코팅부에 코팅하여 2종 이상의 서로 상이한 도메인을 포함하는 접착층을 형성하고,
    상기 접착층 위에 배리어층을 형성하는 공정을 포함하는 다층 박막의 제조방법으로서, 상기 제 2블록 반복 단위는 제1 블록 반복단위와 제3 블록 반복단위의 중간 특성을 가지며, 상기 제 2블록 반복 단위는 상기 1 블록 반복단위의 도메인과 제 3 블록 반복단위의 도메인 사이에 위치하여 제 1 블록 반복단위와 제 3 블록 반복단위의 친화성을 향상시키며, 상기 탄성 블록 반복단위는 탄성 블록 도메인을 형성하고 상기 제3 블록 반복단위는 친수성 도메인을 형성하며, 상기 탄성 블록 도메인은 상기 다층 박막의 횡단면에서 수직한 방향으로 상기 친수성 도메인 사이에 삽입되는 것을 특징으로 하는 다층 박막의 제조방법.
  15. 제14항에 있어서,
    상기 제1 내지 제3 블록 반복단위는 각각 1,000 내지 200,000 g/mol 의 중량평균분자량을 가지고, 1 내지 1.3의 분산도(Mw/Mn)를 가지는 것인 다층 박막의 제조방법.
  16. 제14항에 있어서,
    상기 제3 블록 반복단위는 물분자에 대한 접촉각이 60 도(degree) 이하이고, 표면에너지가 35 mN/m 이상인 것인 다층 박막의 제조방법.
  17. 제14항에 있어서,
    상기 접착층을 형성하는 공정은 접착층 형성용 조성물에 무기물 전구체를 더 포함시켜 상기 제3 블록 반복단위에 의하여 형성되는 친수성 도메인에 무기물이 함께 존재하는 유/무기 하이브리드 친수성 도메인을 형성하는 공정을 포함하는 것인 다층 박막의 제조방법.
  18. 제14항에 있어서,
    상기 배리어층 위에 소수성 제1 블록 반복단위와 친수성 제2 블록 반복단위를 포함하는 블록 공중합체를 용제에 함유시킨 소수성 보호층 형성물 조성물을 도포하여 소수성 보호층을 형성하는 공정을 더 포함하는 것인 다층 박막의 제조방법.
  19. 제18항에 있어서,
    상기 소수성 보호층을 형성하는 공정은 상기 소수성 보호층 형성용 조성물에 무기물 전구체를 더 포함시켜 상기 친수성 제2 블록 반복단위에 의하여 형성되는 친수성 도메인에 무기물이 함께 존재하는 유/무기 하이브리드 친수성 도메인을 형성하는 공정을 포함하는 것인 다층 박막의 제조방법.
  20. 발광부재가 형성된 기판과 이를 봉지하는 제1항 내지 제13항중 어느 하나의 항에 따른 다층 박막을 포함하는 봉지구조체.
  21. 제1항 내지 제13항중 어느 하나의 항에 따른 다층 박막을 기판으로 포함하는 소자.
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Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5414426B2 (ja) * 2009-09-01 2014-02-12 富士フイルム株式会社 複合フィルム
CA2840120C (en) 2011-07-08 2019-01-22 Xtek Ltd. Process for the manufacture of multilayer articles
CN104024360B (zh) * 2012-01-06 2016-09-07 Lg化学株式会社 电子装置的制造方法
DE102012204934A1 (de) 2012-03-28 2013-10-02 Osram Opto Semiconductors Gmbh Organisches Licht emittierendes Bauelement und Verfahren zur Herstellung eines organischen Licht emittierenden Bauelements
KR102023948B1 (ko) * 2012-12-31 2019-09-24 엘지디스플레이 주식회사 유기 발광 표시 장치 및 그의 제조 방법
WO2014178674A1 (ko) * 2013-05-02 2014-11-06 주식회사 엘지화학 멀티 블록 공중합체
KR102098573B1 (ko) 2013-07-19 2020-05-27 삼성디스플레이 주식회사 표시패널 및 그 제조방법
KR101457613B1 (ko) * 2013-09-27 2014-11-07 한국세라믹기술원 배리어 필름
KR102100767B1 (ko) 2013-11-26 2020-04-21 엘지디스플레이 주식회사 유기발광 표시장치 및 그 제조방법
KR102101203B1 (ko) * 2013-12-30 2020-04-16 엘지디스플레이 주식회사 보호물질, 이를 구비한 유기전계발광 표시소자 및 그 제조방법
US9401491B2 (en) * 2014-05-30 2016-07-26 Samsung Sdi Co., Ltd. Direct/laminate hybrid encapsulation and method of hybrid encapsulation
JP6676277B2 (ja) * 2014-09-24 2020-04-08 積水化学工業株式会社 有機エレクトロルミネッセンス表示素子封止用樹脂組成物、有機エレクトロルミネッセンス表示素子封止用樹脂シート、及び、有機エレクトロルミネッセンス表示素子
CN104733641B (zh) * 2015-04-03 2017-01-18 京东方科技集团股份有限公司 Oled器件的封装方法、封装结构及显示装置
CN105870356B (zh) * 2016-06-27 2017-10-17 京东方科技集团股份有限公司 显示设备及其制备方法
KR102648401B1 (ko) 2016-09-30 2024-03-18 삼성디스플레이 주식회사 디스플레이 장치
JP6801433B2 (ja) * 2016-12-20 2020-12-16 凸版印刷株式会社 ガスバリア性フィルム
CN107658389B (zh) * 2017-09-28 2019-07-12 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 无机膜及封装薄膜
CN108023030B (zh) * 2017-11-30 2020-07-07 京东方科技集团股份有限公司 复合膜及其制备方法、电致发光显示器件
CN108389882B (zh) * 2018-02-28 2020-09-22 云谷（固安）科技有限公司 封装膜层及其制备方法及oled显示屏
KR102421041B1 (ko) * 2020-06-09 2022-07-14 에스케이씨 주식회사 플렉서블 전기변색소자
CN112310318A (zh) * 2020-10-30 2021-02-02 京东方科技集团股份有限公司 显示基板及其制备方法、显示装置
KR20220078794A (ko) * 2020-12-03 2022-06-13 삼성디스플레이 주식회사 표시장치

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003183614A (ja) * 2001-10-31 2003-07-03 Tesa Ag アクリル系ブロック共重合体が基になった可逆的ｐｓａ
JP2007076207A (ja) * 2005-09-15 2007-03-29 Fujifilm Corp ガスバリアフィルム、並びに、これを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子および画像表示素子

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4753845A (en) * 1986-01-30 1988-06-28 Kyoraku Co., Ltd. Multi-layer polymeric structure
US5139903A (en) * 1989-06-23 1992-08-18 Xerox Corporation Transparencies
US6509098B1 (en) * 1995-11-17 2003-01-21 Massachusetts Institute Of Technology Poly(ethylene oxide) coated surfaces
CA2292956A1 (en) 1999-01-25 2000-07-25 Cryovac Inc. Biodegradable ostomy barrier film
KR100834344B1 (ko) * 2001-12-29 2008-06-02 엘지디스플레이 주식회사 능동행렬 유기전기발광소자 및 그의 제조 방법
US7163727B2 (en) * 2003-10-23 2007-01-16 Toray Plastics (America), Inc. Multi-layer barrier film structure
US7342356B2 (en) * 2004-09-23 2008-03-11 3M Innovative Properties Company Organic electroluminescent device having protective structure with boron oxide layer and inorganic barrier layer
EP1760527B1 (en) 2005-09-05 2012-06-06 DWI an der RWTH Aachen e.V. Photochemical method for manufacturing nanometrically surface-decorated substrates

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003183614A (ja) * 2001-10-31 2003-07-03 Tesa Ag アクリル系ブロック共重合体が基になった可逆的ｐｓａ
JP2007076207A (ja) * 2005-09-15 2007-03-29 Fujifilm Corp ガスバリアフィルム、並びに、これを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子および画像表示素子

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