KR101631670B1 - 고투명 광학용 폴리에스테르 필름 - Google Patents

고투명 광학용 폴리에스테르 필름 Download PDF

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Abstract

본 발명은 고투명 광학용 폴리에스테르 필름에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 중공 실리카 입자를 포함하는 프라이머층을 사용함으로써 폴리에스테르 기재가 프리즘, 마이크로 렌즈 또는 확산 렌즈와 같은 광학 기능층과 우수한 부착력을 갖고, 또한 굴절률 및 최저 반사율을 조절함으로써 향상된 광투과도를 갖는 고투명 광학용 폴리에스테르 필름에 관한 것이다.

Description

고투명 광학용 폴리에스테르 필름{HIGH TRANSPARENT POLYESTER FILM FOR OPTICAL USE}
본 발명은 고투명 광학용 폴리에스테르 필름에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 중공 실리카 입자를 가진 코팅층을 포함함으로써 코팅층과 코팅층에 형성되는 광학 기능층과의 부착력 및 내습부착력을 향상시키고, 코팅층의 굴절률을 낮춤과 동시에 가시광선 영역에서 최저의 반사율을 형성하여 광투과율을 향상시킨 고투명 광학용 폴리에스테르 필름에 관한 것이다.
일반적인 기능성 고분자 기재의 일례로 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN) 및 폴리카보네이트(PC)와 같은 폴리에스테르계 기재가 있으며, 이들는 치수 안정성, 두께 균일성 및 광학적 투명성이 우수하여 디스플레이 기기뿐만 아니라 여러 산업용 재료로 그 이용 범위가 매우 넓다.
특히, 광학용 폴리에스테르 필름은 폴리에스테르 기재 상에 프라이머층이 형성된 것으로, 프라이머층의 구성 요소로서 폴리에스테르계 기재와의 접착성이 우수한 공중합 폴리에스테르계 수지가 주로 사용되었으며 일반적인 경우 이러한 기재필름과 프라이머층의 접착성은 우수한 편이다.
이러한 기능층과의 밀착성을 향상시키기 위한 프라이머층으로 통상적으로 아크릴 수지나 우레탄, 폴리에스테르 수지 등이 사용되고 있으나, 이러한 수지를 사용하여 코팅층을 형성하는 경우, 굴절율이 1.5 전후이므로 반사율을 낮추는데 한계가 있으며, 이에 따라 코팅층의 반사율이 상승되어 광투과도가 저하되는 문제가 있었다.
이러한 광투과도의 저하는 프리즘, 마이크로 렌즈, 확산 렌즈 등의 광학 기능층 가공 후 휘도가 저하되는 결과를 초래하게 되므로 개선되어야 할 필요가 있는 실정이다.
이에, 본 발명자들은 프라이머층에 굴절율이 1.17 내지 1.4인 중공 실리카 입자를 첨가하여 코팅층의 굴절율을 낮춤과 동시에 가시광선 영역에서 반사율을 최소로 형성시킴으로써 광 투과율을 향상시킨 고투명 광학용 폴리에스테르 필름을 완성하였다.
일본 공개특허공보 특개2014-065887호 대한민국 공개특허공보 제10-2010-0067286호 대한민국 공개특허공보 제10-2005-0016381호
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로서, 본 발명의 목적은 폴리에스테르 필름과 광학 기능층과의 부착력이 우수하고, 우수한 광특성을 가지며, 코팅층에 중공 실리카 입자를 첨가함으로써 굴절률 및 최저 반사율 형성 영역을 조절하여 광투과도를 향상시킨 고투명 광학용 폴리에스테르 필름을 제공하고자 하는 것이다.
본 발명의 상기 및 다른 목적과 이점은 바람직한 실시예를 설명한 하기의 설명으로부터 보다 분명해 질 것이다.
상기 목적은, 폴리에스테르 기재필름과 상기 기재필름의 일면 또는 양면에 코팅액으로 도포된 코팅층을 포함하고 적어도 1축 연신된 고투명 광학용 폴리에스테르 필름으로서, 상기 코팅층은 우레탄, 아크릴 및 폴리에스테르 수지 중에서 선택되는 적어도 1종의 바인더 수지와 중공 실리카 입자를 포함하는 것을 특징으로 하는, 고투명 광학용 폴리에스테르 필름에 의해서 달성될 수 있다.
여기서, 상기 코팅층은 500nm 내지 600nm 파장영역에서 최저 반사율을 갖는 것을 특징으로 한다.
바람직하게는, 상기 기재필름은 입자를 함유하지 않는 것을 특징으로 한다.
바람직하게는, 상기 중공 실리카 입자는 상온에서 굴절률이 1.17~1.40인 것을 특징으로 한다.
바람직하게는, 상기 중공 실리카 입자의 공극률은 10~60%인 것을 특징으로 한다.
바람직하게는, 상기 중공 실리카 입자의 평균입경은 코팅층 두께의 30~150%인 것을 특징으로 한다.
바람직하게는, 상기 중공 실리카 입자는 실란커플링제로 표면 처리된 것을 특징으로 한다.
바람직하게는, 상기 코팅층은 계면활성제 및 무기 나노 입자를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
바람직하게는, 상기 코팅층은 코팅액 100중량부에 대해 고형분 함량 42중량%인 상기 바인더 수지 수분산액 10~30 중량부, 고형분 함량 10중량%의 상기 계면활성제 수분산액 0.01~0.1 중량부, 고형분 함량 40중량%의 상기 무기 나노 입자 수분산액 0.1~10중량부, 고형분 함량 40중량%의 상기 중공 실리카 입자 수분산액 10~40 중량부 및 잔량의 물을 포함하는 코팅액으로 도포된 것을 특징으로 한다.
더욱 바람직하게는, 상기 코팅층은 1.35 내지 1.45의 굴절률을 가지는 것을 특징으로 한다.
더욱 바람직하게는, 상기 고투명 광학용 폴리에스테르 필름은 탁도가 0.3% 내지 1.5%이고, 전광선 투과율이 95%이상인 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따르면, 코팅층(프라이머층)에 중공 실리카 입자를 첨가함으로써 폴리에스테르 기재와 프리즘, 마이크로 렌즈 또는 확산 렌즈와 같은 광학 기능층 사이에 우수한 부착력 및 내습부착력을 형성하고, 굴절률 및 최저 반사율의 조절에 따른 향상된 광투과도를 가지는 등의 효과를 가진다.
다만, 본 발명의 효과들은 이상에서 언급한 효과로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 효과들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
도 1은 본 발명의 일 양상에 따른 고투명 광학용 폴리에스테르 필름의 단면도이다.
이하, 본 발명의 실시예와 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명한다. 이들 실시예는 오로지 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위해 예시적으로 제시한 것일 뿐, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 의해 제한되지 않는다는 것은 당업계에서 통상의 지식을 가지는 자에 있어서 자명할 것이다.
달리 정의되지 않는 한, 본 명세서에서 사용되는 모든 기술적 및 과학적 용어는 본 발명이 속하는 기술 분야의 숙련자에 의해 통상적으로 이해되는 바와 동일한 의미를 갖는다. 상충되는 경우, 정의를 포함하는 본 명세서가 우선할 것이다. 또한 본 명세서에서 설명되는 것과 유사하거나 동등한 방법 및 재료가 본 발명의 실시 또는 시험에 사용될 수 있지만, 적합한 방법 및 재료가 본 명세서에 기재된다.
도 1은 본 발명의 일 양상에 따른 고투명 광학용 폴리에스테르 필름의 단면도를 나타낸 것으로 본 발명의 일 양상에 따른 고투명 광학용 폴리에스테르 필름은 폴리에스테르로 제조되고 적어도 일방향(1축)으로 연신된 폴리에스테르 기재필름과 기재필름의 일면 또는 양면에 코팅액으로 도포된 코팅층(프라이머층)을 포함하되, 코팅층(프라이머층)은 바인더 수지, 계면활성제, 무기 실리카 입자 및 중공 실리카 입자를 포함할 수 있다.
폴리에스테르 기재필름은 치수 안정성, 두께 균일성 및 광학적 투명성이 우수한 고기능성 고분자 기재로서, 그 사용이 특별히 제한되지 않으나, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN) 및 폴리카보네이트(PC)와 같은 폴리에스테르계 기재필름의 사용이 바람직하다. 또한 기재필름은 입자를 함유하지 않는 것이 바람직하다.
바인더 수지는 우레탄, 아크릴 및 폴리에스테르 수지 중에서 선택되는 적어도 1종의 바인더 수지를 사용하는 것이 바람직하다.
계면활성제는 코팅층을 형성하기 위한 코팅액의 수계 도포를 위하여 통상적으로 알려진 음이온 또는 비이온 계면활성제를 사용할 수 있는데, 광학용 폴리에스테르 필름의 습윤성을 증가시키는 역할을 한다.
무기 나노 입자는 산화티타늄, 티타늄-유기물 합성체, 실리카 입자, 실리카-유기물 합성체 등을 사용할 수 있고, 평균입경이 50 내지 300nm, 바람직하게는 100 내지 200nm인 것이 좋다. 무기 나노 입자의 평균입경이 50nm 미만이면 자동화 시스템을 적용할 경우 미세 입자가 코팅층(프라이머층) 두께보다 낮아서 주행성 및 내스크래치성에 도움을 주지 못하고, 평균입경이 300nm를 초과하면 투과율과 헤이즈 등의 광특성이 불량해지고, 광학기재 및 기능성 코팅층과의 부착력이 저하되어 바람직하지 않다.
중공 실리카 입자는 코팅층(프라이머층)의 굴절률을 낮추어 반사 방지 특성을 높이고, 특히 가시광선 영역에서 최소의 반사율을 형성하게 하여 광투과율을 향상시키기 위해 사용된다. 중공 실리카 입자는 공지의 제조방법에 의해 용이하게 제조될 수 있고, 결정질 입자 또는 비결정질 입자일 수 있는데, 단분산 입자인 것이 바람직하다. 형태를 고려할 경우 구형 입자가 바람직하나, 부정형의 입자도 사용될 수 있다.
중공 실리카 입자의 굴절률은 1.17~1.40, 바람직하게 1.25~1.40인 것이 좋다. 여기서 굴절률은 실리카의 굴절률, 즉 중공 입자를 형성하는 외곽의 굴절률을 의미하는 것이 아니라 입자 전체의 굴절률을 의미하는 것이다. 또한 중공 실리카 입자 내의 공극률은 10~60%, 바람직하게 20~60%, 더욱 바람직하게 30~60%의 범위를 갖는 것이 좋다. 중공 실리카 입자의 저굴절률 및 고공극률을 달성하려고 하는 경우, 외곽의 두께는 감소되고 입자의 강도는 약해진다. 따라서 내스크래치성 관점에서 중공 실리카 입자의 굴절률이 1.17 미만인 경우 내스크래치성이 떨어지고, 1.40을 초과하는 경우 굴절률이 높아 반사 방지특성이 떨어지게 된다. 중공 실리카 입자의 굴절률은 Abbe 굴절률계(ATAGO사 제품)를 사용하여 측정할 수 있다. 또한 공극률이 10% 미만인 경우 굴절율이 높아 코팅층의 굴절율을 낮출 수 없는 단점이 있고 60%를 초과하는 경우 입자의 강도가 약해져 입자의 형상이 깨져 본 발명의 목적을 달성할 수 없다.
중공 실리카 입자의 평균 입자 직경(평균입경)은 저굴절층(코팅층) 두께의 30~150%, 바람직하게 35~80%, 더 바람직하게 40~60%인 것이 좋다. 즉 저굴절층의 두께가 100nm인 경우, 중공 실리카 입자의 평균 입자 직경은 30~150nm, 바람직하게 35~80nm, 더 바람직하게 40~60nm인 것이 좋다. 중공 실리카 입자의 평균 입자 직경이 상술한 범위 내에 있는 경우, 공동부의 비율이 높아져 저굴절률을 달성할 수 있을 뿐만 아니라 저굴절층의 표면 상에 미세한 요철을 형성시켜 반사율을 낮추는 문제를 발생시키지 않으나, 기재된 범위를 벗어나는 경우 그러한 효과를 달성할 수 없다. 중공 실리카 입자의 평균 입자 직경은 전자 현미경 사진을 사용함으로써 측정할 수 있다.
또한 중공 실리카 입자는 실란커플링제로 표면 처리를 하여 사용할 수 있다. 실란커플링제로 표면 처리를 하면 용매와의 분산성이 향상되고 경화 공정시 경화에 참여하여 바인더와의 네트워크 형성을 통해 코팅층의 내구성을 향상시키게 된다.
실란커플링제는 메틸트리메톡시실란, 디메틸디메톡시실란, 페닐트리메톡시실란,디페닐디메톡시실란,메틸트리에톡시실란, 디메틸디에톡시실란, 페닐트리에톡시실란, 디페닐디에톡시실란, 이소부틸트리메톡시실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(β-메톡시에톡시)실란, 3,3,3-트리플루오로프로필트리메톡시실란, 메틸-3,3,3-트리플루오로프로필디메톡시실란, β-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, γ-글리시독시메틸트리메톡시실란, γ-글리시독시메틸트리에톡시실란, γ-글리시독시에틸트리메톡시실란, γ-글리시독시에틸트리에톡시실란, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, γ-글리시독시프로필트리에톡시실란, γ-(β-글리시독시메톡시)프로필트리메톡시실란, γ-(메타)아크릴로옥시메틸트리메톡시실란, γ-(메타)아크릴로옥시메틸트리에톡시실란, γ-(메타)아크릴로옥시에틸트리메톡시실란, γ-(메타)아크릴로옥시에틸트리에톡시실란, γ-(메타)아크릴로옥시프로필트리메톡시실란, γ-(메타)아크릴로옥시프로필트리메톡시실란, γ-(메타)아크릴로옥시프로필트리에톡시실란, 부틸트리메톡시실란, 이소부틸트리에톡시실란, 헥실트리에톡시실라옥틸트리에톡시실란, 데실트리에톡시실란, 부틸트리에톡시실란, 이소부틸트리에톡시실란, 헥실트리에톡시실란, 옥틸트리에톡시실란, 3-우레이도이소프로필프로필트리에톡시실란, 퍼플루오로옥틸에틸트리메톡시실란, 퍼플루오로옥틸에틸트리에톡시실란, 퍼플루오로옥틸에틸트리이소프로폭시실란, 트리플우로오프로필트리메톡시실란, N-β(아미노에틸)γ-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-β(아미노에틸)γ-아미노프로필트리메톡시실란, N-페닐-γ-아미노프로필트리메톡시실란, γ-머캅토프로필트리메톡시실란, 트리메틸실란올, 메틸트리클로로실란로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 1종을 사용 할 수 있다.
이러한 중공 실리카 입자는 공지의 제조방법에 의해 용이하게 제조할 수 있다. 예를 들어, JP-A-2001-233611 및 JP-A-2002-79616에 기재된 방법에 의해 제조된 것을 사용할 수 있다.
코팅층을 이루는 코팅액은 코팅액 100중량부에 대해 고형분 함량 42중량%인 바인더 수지 수분산액 10~30 중량부, 고형분 함량 10중량%의 계면활성제 수분산액 0.01~0.1 중량부, 고형분 함량 40중량%의 무기 나노 입자 수분산액 0.1~10중량부, 고형분 함량 40중량%의 중공 실리카 입자 수분산액 10~40 중량부 및 잔량의 물을 포함한다.
중공 실리카 입자는 저굴절층 형성 조성물 전체 100중량부에 대하여 고형분 함량 40중량%의 중공 실리카 입자 수분산액 10~40 중량부로 포함되는 것이 바람직한데, 중공 실리카 입자의 함량이 위 범위 내에 포함될 경우 저 굴절층 형성용 조성물의 굴절률 조절이 가능하고, 반사방지 특성이 양호하게 발휘될 수 있다.
코팅층(프라이머층)의 굴절률은 1.35 내지 1.45, 바람직하게는 1.38 내지 1.41을 가지는 것이 좋다. 코팅층(프라이머층)의 굴절률이 1.35보다 작으면 코팅층(프라이머층) 내의 중공 실리카 입자의 함유량이 많아지거나 공극률이 높아져서 기능층과의 부착력이 저하되거나 내스크래치성이 저하되는 일이 발생할 수 있고, 1.45보다 높으면 코팅층의 반사방지 특성이 낮아져 광투과율 향상 효과가 미비하다.
또한 고투명 광학용 폴리에스테르 필름은 탁도가 0.3% 내지 1.5%이고, 전광선 투과율이 95% 이상인 것이 바람직하다.
이하, 실시예와 비교예를 통하여 본 발명의 구성 및 그에 따른 효과를 보다 상세히 설명하고자 한다. 그러나, 본 실시예는 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위한 것이며, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다.
[실시예1]
코팅액 100 중량부 대비 고형분 함량 42중량%이고 굴절율 1.50의 아크릴 수지 수분산액 15중량부, 고형분 함량 10중량%의 비이온계 계면활성제 수분산액 0.05중량부, 고형분 함량 40중량%의 무기 실리카 입자 수분산액 0.2 중량부, 고형분 함량 40중량%이고 굴절율 1.33의 중공 실리카 입자 수분산액 15중량부 및 잔량의 물을 혼합하여 수분산 코팅액을 제조하였다.
상기 제조된 수분산 코팅액을 두께 125㎛인 폴리에스테르 필름에 도포하고 1축 연신하여 프라이머층을 가진 고투명 광학용 폴리에스테르 필름을 제조하였다.
[실시예2]
고형분 함량 40중량%이고 굴절율 1.33의 중공 실리카 입자 수분산액 22.5중량부를 포함한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 고투명 광학용 폴리에스테르 필름을 제조하였다.
[실시예3]
고형분 함량 40중량%이고 굴절율 1.33의 중공 실리카 입자 수분산액 35중량부를 포함한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 고투명 광학용 폴리에스테르 필름을 제조하였다.
[실시예4]
고형분 함량 40중량%이고 굴절율 1.38의 중공 실리카 입자 15중량부를 포함한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 고투명 광학용 폴리에스테르 필름을 제조하였다.
[실시예5]
고형분 함량 40중량%이고 굴절율 1.38의 중공 실리카 입자 22.5중량부를 포함한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 고투명 광학용 폴리에스테르 필름을 제조하였다.
[비교예1]
코팅액 100 중량부 대비 고형분 함량 42중량%이고 굴절율 1.46의 아크릴 수지 수분산액 15중량부, 고형분 함량 10중량%의 비이온계 계면활성제 수분산액 0.05중량부, 고형분 함량 40중량%의 무기 실리카 입자 수분산액 0.2 중량부 및 잔량의 물을 혼합하여 수분산 코팅액을 제조하였다.
상기 제조된 수분산 코팅액을 두께 125㎛인 폴리에스테르 필름에 도포하고 1축 연신하여 프라이머층을 가진 광학용 폴리에스테르 필름을 제조하였다.
[비교예2]
고형분 함량 40중량%이고 굴절율 1.45의 중공 실리카 입자 15중량부를 포함한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 광학용 폴리에스테르 필름을 제조하였다.
상기 실시예 1 내지 5 및 비교예 1 내지 2에 따른 광학용 폴리에스테르 필름을 사용하여 다음과 같은 실험예를 통해 물성을 측정하고 그 결과를 다음 표 1에 나타내었다.
[실험예1] 굴절률 측정
상기 실시예 및 비교예에서 제조된 코팅층의 굴절률은 폴리에스테르 기재 위에서 측정하는 것이 어렵기 때문에 도액을 Si 웨이퍼(Si wafer)에 코팅하여 Ellipsometry를 이용하여 굴절률을 측정하였다.
[실험예2] 부착력 측정
와이어바(#8)를 사용하여 프라이머층이 형성되어 있는 표면에 아크릴계 UV 경화수지를 도포시키고, Cross cutter로 프라이머층이 코팅된 기재에 절단선을 만들어서, 10ⅹ10개의 매트릭스에 2mmⅹ2mm 정사각형들을 배치한다. 절단선이 있는 필름에 셀로판 테잎(No. 405, NICHIBAN제; 넓이: 24mm2)을 붙이고, 벨벳을 이용하여 테잎을 문질러서 필름에 강력하게 부착시킨 후, 수직으로 테잎을 떼어내어 기재상에 접착층으로서 남아있는 프라이머층의 면적을 시각적으로 관찰하고, 다음 수학식 1에 의해 부착력을 계산하였다.
[수학식 1]
부착력(%) = (100 - 떼어낸 개수)(%)
[실험예3] 내습부착력 측정
와이어바(#8)를 사용하여 프라이머층이 형성되어 있는 표면에 아크릴계 UV 경화수지를 도포시키고, 끓는 물에서 10분동안 열처리한 후 절단기로 프라이머층이 코팅된 기재에 절단선을 만들어서 10ⅹ10개의 매트릭스에 2mmⅹ2mm 정사각형들을 배치한다. 절단선이 있는 필름에 셀로판 테잎(No. 405, NICHIBAN제; 넓이: 24mm2)을 붙이고, 벨벳을 이용하여 테잎을 문질러서 필름에 강력하게 부착시킨 후, 수직으로 테잎을 떼어내어 기재상에 접착층으로서 남아있는 프라이머층의 면적을 시각적으로 관찰하고, 실험예2와 마찬가지로 수학식1에 의해 부착력을 계산하였다.
[실험예4] 최저 반사율 측정(550nm)
모든 시료의 550nm에서의 최저반사율에 대한 평가는 UV Visible Spectrometer(Shimadzu, Japan)를 이용하여 최저반사파장이 나타나는 파장대와 이 때의 최저 반사율을 측정하였다.
[실험예5] 광투과율 측정
광투과율은 Nippon Denshoku사의 Haze meter(NDH 5000)를 사용하여 측정하였다.
[실험예6] 내스크래치성 측정(스틸울테스트)
스틸울테스트기(WT-LCM100, 한국 프로텍 사제)를 이용하여 1kg/(2cmⅹ2cm)하에서 10회 왕복운동시켜 내찰상성을 시험하고 다음 기준으로 평가하였다. 스틸울은 #0000을 사용하였다.
A: 스크래치가 0개
B: 스크래치가 1~10개
C: 스크래치가 11~20개
D: 스크래치가 21~30개
E: 스크래치가 31개 이상
[표 1]
Figure 112014080007015-pat00001
상기 표 1로부터 알 수 있는 바와 같이, 본원발명에 따른 실시예들은 코팅층의 굴절율을 낮출 수 있고, 가시광선영역(550nm)에서 최저 반사율을 가짐으로써 광 투과율을 향상시킬 수 있으나, 비교예들은 이러한 효과를 달성할 수 없음을 확인할 수 있다.
상술한 바와 같이 본 발명에 따르는 고투명 광학용 폴리에스테르 필름은 원하는 용도에 맞게 다양한 분야에 적용할 수 있을 것이고, 이에 제한되는 것은 아니다.
본 명세서에서는 본 발명자들이 수행한 다양한 실시예 가운데 몇 개의 예만을 들어 설명하는 것이나 본 발명의 기술적 사상은 이에 한정하거나 제한되지 않고, 당업자에 의해 변형되어 다양하게 실시될 수 있음은 물론이다.
1 : 폴리에스테르 기재필름
2 : 코팅층(프라이머층)

Claims (11)

  1. 고투명 광학용 폴리에스테르 필름에 있어서,
    폴리에스테르 기재필름과 상기 기재필름의 일면 또는 양면에 코팅액으로 도포된 코팅층을 포함하고 적어도 1축 연신된 고투명 광학용 폴리에스테르 필름으로서,
    상기 코팅층은 우레탄, 아크릴 및 폴리에스테르 수지 중에서 선택되는 적어도 1종의 바인더 수지와 중공 실리카 입자를 포함하되, 500nm 내지 600nm 파장영역에서 최저 반사율을 갖고,
    상기 중공 실리카 입자는 상온에서 굴절률이 1.33~1.38이고, 공극률은 10~60%인 것을 특징으로 하는, 고투명 광학용 폴리에스테르 필름.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서,
    상기 기재필름은 입자를 함유하지 않는 것을 특징으로 하는, 고투명 광학용 폴리에스테르 필름.
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 제1항에 있어서,
    상기 중공 실리카 입자의 평균입경은 코팅층 두께의 30~150%인 것을 특징으로 하는, 고투명 광학용 폴리에스테르 필름.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 중공 실리카 입자는 실란커플링제로 표면 처리된 것을 특징으로 하는, 고투명 광학용 폴리에스테르 필름.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 코팅층은 계면활성제 및 무기 나노 입자를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 고투명 광학용 폴리에스테르 필름.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 코팅층은 코팅액 100중량부에 대해 고형분 함량 42중량%인 상기 바인더 수지 수분산액 10~30 중량부, 고형분 함량 10중량%의 상기 계면활성제 수분산액 0.01~0.1 중량부, 고형분 함량 40중량%의 상기 무기 나노 입자 수분산액 0.1~10중량부, 고형분 함량 40중량%의 상기 중공 실리카 입자 수분산액 10~40 중량부 및 잔량의 물을 포함하는 코팅액으로 도포된 것을 특징으로 하는, 고투명 광학용 폴리에스테르 필름.
  10. 제1항, 제3항 및 제6항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 코팅층은 1.35 내지 1.45의 굴절률을 가지는 것을 특징으로 하는, 고투명 광학용 폴리에스테르 필름.
  11. 제1항, 제3항 및 제6항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 고투명 광학용 폴리에스테르 필름은 탁도가 0.3% 내지 1.5%이고, 전광선 투과율이 95%이상인 것을 특징으로 하는, 고투명 광학용 폴리에스테르 필름.
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