KR101620529B1 - 액정 표시 장치 및 그 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명의 실시예에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법은 기판 위에 게이트 전극을 포함하는 게이트선을 형성하는 단계, 게이트선 위에 게이트 절연막을 형성하는 단계, 게이트 절연막 위에 소스 전극을 포함하는 데이터선 및 소스 전극과 마주하는 드레인 전극을 형성하는 단계, 게이트 절연막 위에 색필터를 형성하는 단계, 색필터 위에 덮개층을 형성하는 단계, 덮개층 위의 게이트선, 데이터선 및 드레인 전극에 대응하는 부분에 평탄화막을 형성하는 단계, 색필터와 대응하는 영역에서 덮개층과 접촉하는 화소 전극을 형성하는 단계를 포함한다.
유기막, 투과율, 액정 표시 장치, 수직 배향

Description

액정 표시 장치 및 그 제조 방법{LIQUID CRYSTAL DISPLAY AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME}
본 발명은 액정 표시 장치에 관한 것이다.
액정 표시 장치는 현재 가장 널리 사용되고 있는 평판 표시 장치 중 하나로서, 전극이 형성되어 있는 두 장의 표시판과 그 사이에 삽입되어 있는 액정층으로 이루어져 전극에 전압을 인가하여 액정층의 액정 분자들을 재배열시킴으로써 투과되는 빛의 양을 조절하는 표시 장치이다.
액정 표시 장치 중에서도 전기장이 인가되지 않은 상태에서 액정 분자를 그 장축이 표시판에 대하여 수직을 이루도록 배열한 수직 배향 방식(vertically aligned mode) 액정 표시 장치가 개발되고 있다.
수직 배향 방식 액정 표시 장치에서는 광시야각 확보가 중요한 문제이고, 이를 위하여 전기장 생성 전극에 미세 슬릿 등의 절개부를 형성하거나 전기장 생성 전극 위에 돌기를 형성하는 등의 방법을 사용한다. 절개부 및 돌기는 액정 분자가 기울어지는 방향(tilt direction)을 결정해 주므로, 이들을 적절하게 배치하여 액정 분자의 경사 방향을 여러 방향으로 분산시킴으로써 시야각을 넓힐 수 있다.
액정 표시 장치의 두 표시판에 전기장 생성 전극이 각각 구비되어 있는 구조가 일반적인데, 하나의 표시판에는 복수의 박막 트랜지스터와 화소 전극이 행렬의 형태로 배열되어 있고, 다른 표시판에는 적색, 녹색 및 청색의 색 필터가 형성되어 있고 그 전면을 공통 전극이 덮고 있는 구조가 주류이다. 이 때, 화소 전극과 색 필터 사이에 정확한 정렬(align)이 곤란하여 정렬 오차가 발생할 수 있는데, 이를 해결하기 위하여, 화소 전극과 색 필터를 동일한 표시판에 형성하는 색 필터 온 어레이(color filter on array, COA) 구조가 제안되고 있다.
이러한, 색 필터 온 어레이 구조에서 개구율의 극대화를 위하여 유기막을 사용하여 접촉구의 크기를 줄이는 구조가 개발되고 있는데, 유기막을 평탄화막으로 사용하여 접촉구의 크기를 대폭 감소시켜 개구율이 증가하였지만, 유기막 자체의 흡수율에 의해서 증가한 개구율 대비 투과율의 증가 효과는 그에 미치지 못하는 문제점이 있다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 화소 영역의 유기막을 제거하여 투과율을 극대화 하는 액정 표시 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 실시예에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법은 기판 위에 게이트 전극을 포함하는 게이트선을 형성하는 단계, 게이트선 위에 게이트 절연막을 형성하는 단계, 게이트 절연막 위에 소스 전극을 포함하는 데이터선 및 소스 전극과 마 주하는 드레인 전극을 형성하는 단계, 게이트 절연막 위에 색필터를 형성하는 단계, 색필터 위에 덮개층을 형성하는 단계, 덮개층 위의 게이트선, 데이터선 및 드레인 전극에 대응하는 부분에 평탄화막을 형성하는 단계, 색필터와 대응하는 영역에서 덮개층과 접촉하는 화소 전극을 형성하는 단계를 포함한다.
평탄화막을 형성하는 단계는 덮개층 위에 유기막을 도포하는 단계, 하프톤 마스크를 이용하여 유기막과 덮개층을 패터닝하여 드레인 전극을 노출하는 접촉구를 형성하고, 색필터와 대응하는 영역에서 유기막의 두께를 감소시키는 단계, 패터닝된 유기막을 애싱하는 단계를 포함할 수 있다.
색필터와 대응하는 영역에 위치한 패터닝된 유기막의 두께는 0.1um 내지 0.7um 일 수 있다.
애싱은 2 내지 30초 동안 실시할 수 있다.
평탄화막을 형성하는 단계는 덮개층을 사진 식각하여 드레인 전극을 노출하는 접촉구를 형성하는 단계, 덮개층 위에 유기막을 도포하는 단계, 색필터와 대응하는 부분 및 접촉구에 형성된 유기막을 제거하는 단계를 포함할 수 있다.
데이터선 및 드레인 전극을 형성하는 단계와 색필터를 형성하는 단계 사이에 보호막을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.
평탄화막 위에 차광 부재를 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.
차광 부재를 형성한 후, 평탄화막 위에 간격재를 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.
평탄화막 위에 차광 부재 및 간격재를 동시에 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따른 액정 표시 장치는 기판, 기판 위에 배치되어 있으며 게이트 전극을 포함하는 게이트선, 게이트선 위에 배치되어 있는 게이트 절연막, 게이트 절연막 위에 배치되어 있으며, 소스 전극을 포함하는 데이터선 및 소스 전극과 마주하는 드레인 전극, 게이트 절연막, 데이터선 및 드레인 전극 위에 배치되어 있는 보호막, 보호막 위의 화소 영역에 배치되어 있는 색필터, 보호막 및 색필터 위에 배치되어 있는 덮개층, 덮개층 위의 게이트선, 데이터선 및 드레인 전극에 대응하는 부분에 배치되어 있는 평탄화막, 덮개층 위에 배치되어 있고 덮개층과 접촉하는 화소 전극을 포함한다.
화소 전극은 색필터와 대응하는 위치에 배치될 수 있다.
평탄화막은 유기 물질로 이루어질 수 있다.
보호막, 덮개층 및 평탄화막은 화소 전극과 드레인 전극이 연결되는 접촉구를 포함할 수 있다.
화소 전극은 서로 분리되어 있는 제1 부화소 전극 및 제2 부화소 전극을 포함할 수 있다.
제1 부화소 전극 및 제2 부화소 전극은 각각 복수의 미세 가지부를 포함할 수 있다.
제2 부화소 전극은 제1 부화소 전극의 미세 가지부를 둘러싸는 연결부 포함할 수 있다.
평탄화막 위에 배치되어 있는 차광 부재를 더 포함할 수 있다.
평탄화막 위에 배치되어 있는 간격재를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 다른 실시예에 따른 액정 표시 장치는 기판, 기판 위에 배치되어 있으며 게이트 전극을 포함하는 게이트선, 게이트선 위에 배치되어 있는 게이트 절연막, 게이트 절연막 위에 배치되어 있으며, 소스 전극을 포함하는 데이터선 및 소스 전극과 마주하는 드레인 전극, 게이트 절연막, 데이터선 및 드레인 전극 위에 배치되어 있는 색필터, 게이트선, 데이터선 및 드레인 전극에 대응하는 부분에 배치되어 있는 평탄화막, 색필터 위에 배치되어 있는 화소 전극을 포함하고, 색필터와 화소 전극 사이에는 평탄화막이 존재하지 않는다.
본 발명의 실시예에 의하면, 액정 표시 장치에서 광 투과 영역의 유기막을 제거하여 투과율을 극대화 할 수 있다.
그러면 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.
도면에서 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타내었다. 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 동일한 도면 부호를 붙였다. 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "위에" 있다고 할 때, 이는 다른 부분 "바로 위에" 있는 경우뿐 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함 한다. 반대로 어떤 부분이 다른 부분 "바로 위에" 있다고 할 때에는 중간에 다른 부분이 없는 것을 뜻한다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 액정 표시 장치의 배치도이고, 도 2는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ을 따라 절단한 단면도이다.
도 1 및 도 2에 도시한 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 액정 표시 장치는 서로 마주하는 하부 표시판(100)과 상부 표시판(200) 및 이들 두 표시판(100, 200) 사이에 들어 있는 액정층(3)을 포함한다.
먼저, 하부 표시판(100)에 대하여 설명한다.
절연 기판(110) 위에 복수의 게이트선(121) 및 복수의 유지 전극선(131)이 형성되어 있다. 게이트선(121)은 게이트 신호를 전달하며 주로 가로 방향으로 뻗어 있다. 각 게이트선(121)은 위로 돌출한 복수의 제1 및 제2 게이트 전극 (124a, 124b)을 포함한다. 또한, 게이트 전극(124a, 124b) 사이에 위로 돌출한 돌출부(125)를 포함한다. 유지 전극선(131)은 게이트선(121)과 실질적으로 나란하게 뻗어 있으며, 이로부터 뻗어 나온 복수의 유지 전극(135)을 포함한다. 유지 전극선(131) 및 유지 전극(135)의 모양 및 배치는 여러 형태로 변형될 수 있다.
게이트선(121) 및 유지 전극선(131) 위에는 게이트 절연막(140)이 형성되어 있으며, 게이트 절연막(140) 위에는 비정질 또는 결정질 규소 등으로 만들어진 복수의 반도체(154a, 154b)가 형성되어 있다.
반도체(154a, 154b) 위에는 각각 복수 쌍의 저항성 접촉 부재(163a, 163b, 165a, 165b)가 형성되어 있으며, 저항성 접촉 부재(163a, 163b, 165a, 165b)는 실 리사이드(silicide) 또는 n형 불순물이 고농도로 도핑되어 있는 n+ 수소화 비정질 규소 따위의 물질로 만들어질 수 있다.
저항성 접촉 부재(163a, 163b, 165a, 165b) 및 게이트 절연막(140) 위에는 복수 쌍의 데이터선(171a, 171b)과 복수 쌍의 제1 및 제2 드레인 전극(175a, 175b)이 형성되어 있다.
데이터선(171a, 171b)은 데이터 신호를 전달하며 주로 세로 방향으로 뻗어 게이트선(121) 및 유지 전극선(131)과 교차한다. 데이터선(171a, 171b)은 제1, 제2 게이트 전극(124a, 124b)을 향하여 뻗어 U자형으로 굽은 제1 및 제2 소스 전극(173a, 173b)을 포함하며, 제1 및 제2 소스 전극(173a, 173b)은 각각 제1, 제2 게이트 전극(124a, 124b)을 중심으로 제1 및 제2 드레인 전극(175a, 175b)과 마주한다.
제1 및 제2 드레인 전극(175a, 175b)은 각각 제1 및 제2 소스 전극(173a, 173b)으로 일부 둘러싸인 한 쪽 끝에서부터 위로 뻗어 있으며 반대쪽 끝은 다른 층과의 접속을 위해 면적이 넓을 수 있다. 그러나 제1 및 제2 드레인 전극(175a, 175b)을 비롯한 데이터선(171a, 171b)의 모양 및 배치는 여러 형태로 변형될 수 있다.
제1 및 제2 게이트 전극(124a, 124b), 제1 및 제2 소스 전극(173a, 173b) 및 제1 및 제2 드레인 전극(175a, 175b)은 제1 및 제2 반도체(154a, 154b)와 함께 제1 및 제2 박막 트랜지스터(thin film transistor, TFT)를 이루며, 제1 및 제2 박막 트랜지스터의 채널(channel)은 제1 및 제2 소스 전극(173a, 173b)과 제1 및 제2 드 레인 전극(175a, 175b) 사이의 제1 및 제2 반도체(154a, 154b)에 형성된다.
반도체(154a, 154b)에는 소스 전극(173a, 173b)과 드레인 전극(175a, 175b) 사이를 비롯하여 데이터선(171a, 171b) 및 드레인 전극(175a, 175b)으로 가리지 않고 노출된 부분이 있다.
데이터선(171a, 171b), 드레인 전극(175a, 175b) 및 노출된 반도체(154a, 154b) 부분 위에는 질화규소 또는 산화규소 따위로 만들어진 보호막(180)이 형성되어 있다.
보호막(180) 위의 화소 영역에 색필터(230)가 형성되어 있다. 색필터(230)는 제1 및 제2 박막 트랜지스터에 대응하는 부분 및 게이트선(121)에 대응하는 부분에는 형성하지 않고, 빛이 투과되는 화소 영역에만 형성되어 있다.
보호막(180) 및 색필터(230) 위에는 덮개층(185)이 형성되어 있다. 덮개층(185)은 색필터(230)를 보호하며, 보호막(180)은 색필터(230)의 안료가 반도체(154a, 154b) 부분으로 유입되는 것을 방지할 수 있다.
덮개층(185)층 위에는 하부 표시판(100)을 평탄화하는 평탄화막(188)이 형성되어 있다. 평탄화막(188)은 유기 물질로 이루어져 있으며, 색필터(230)와 대응하는 부분을 제외한 부분에 형성되어 있다.
평탄화막(188), 덮개층(185) 및 보호막(180)에는 제1 및 제2 드레인 전극(175a, 175b)을 드러내는 복수의 접촉구(185a, 185b)가 형성되어 있다.
평탄화막(188) 및 덮개층(185) 위에는 복수의 화소 전극(191)이 형성되어 있고, 각 화소 전극(191)은 서로 분리되어 있는 제1 및 제2 부화소 전극(191a, 191b) 을 포함한다.
화소 전극(191) 전체에서 제2 부화소 전극(191b)이 차지하는 면적이 제1 부화소 전극(191a)이 차지하는 면적보다 클 수 있으며, 이때, 제2 부화소 전극(191b)는 제1 부화소 전극(191a)의 면적보다 1.0배에서 2.2배 정도 크도록 형성한다. 그러나, 제1 및 제2 부화소 전극(191a, 191b)의 형태나 면적 비는 다양하게 변형 가능하다.
제1 및 제2 부화소 전극(191a, 191b)의 전체적인 모양은 사각형이며 가로 줄기부 및 이와 직교하는 세로 줄기부로 이루어진 십자형 줄기부를 포함한다. 또한 가로 줄기부와 세로 줄기부에 의해 네 개의 부영역으로 나뉘어지며 각 부영역은 복수의 미세 가지부를 포함한다.
제2 부화소 전극(191b)은 데이터선(171a, 171b)을 따라 뻗은 한 쌍의 가지(195)를 포함한다. 한 쌍의 가지(195)는 제1 부화소 전극(191a)과 데이터선(171a, 171b) 사이에 위치하며 제1 부화소 전극(191a)의 하단에서 서로 연결되고, 게이트선(121)과 중첩한다. 둘 중 하나의 가지는 확장되어 있으며 접촉구(185b)을 통하여 제2 드레인 전극(175b)과 물리적, 전기적으로 연결되어 있다. 그리고 제1 부화소 전극(191a)은 접촉구(185a)을 통해서 제1 드레인 전극(175a)과 연결되어 있다.
제1 및 제2 부화소 전극(191a, 191b)은 제1 및 제2 드레인 전극(175a, 175b)으로부터 데이터 전압을 인가 받는다.
평탄화막(188) 위에 게이트선(121), 데이터선(171a, 171b), 제1 및 제2 박막 트랜지스터에 대응하는 부분에는 차광 부재(220)가 형성되어 있고, 게이트선(121)의 돌출부(125)에 대응하는 부분에는 하부 표시판(100)과 상부 표시판(200) 사이의 간격을 유지하기 위한 간격재(320)가 형성되어 있다.
다음, 상부 표시판(200)에 대해서 설명한다.
상부 표시판(200)은 투명한 절연 기판(210) 위에 공통 전극(270)이 전면에 형성되어 있다. 그러나 공통 전극(270)은 하부 표시판(100)에 형성될 수도 있다.
상부 표시판(200)과 하부 표시판(100) 사이에는 액정층(3)이 위치한다.
이와 같이, 화소 전극(191) 아래에는 평탄화막(188)이 없으므로, 평탄화막(188)이 빛을 흡수하여 투과율이 저하되는 것을 방지한다.
그러면 도 1 및 도 2에 도시한 액정 표시 장치의 제조 방법에 대하여 도 3 내지 도 9를 참고하여 설명한다. 도 3 내지 도 9는 본 발명의 실시예에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법을 순서대로 도시한 도면이다.
먼저 도 3에 도시한 바와 같이, 절연 기판(110) 위에 게이트 전극(124a, 124b)을 포함하는 게이트선(121), 유지 전극(135)을 포함하는 유지 전극선(131), 게이트 절연막(140), 소스 전극(173a, 173b)을 포함하는 데이터선(171a, 171b) 및 드레인 전극(175a, 175b)을 차례로 형성한 후, 그 전면에 보호막(180)을 형성한다.
이어서, 도 4에 도시한 바와 같이, 보호막(180) 위에 색필터(230)를 형성한다. 이 때, 색필터(230)는 제1 및 제2 박막 트랜지스터에 대응하는 부분 및 게이트선(121)에 대응하는 부분에는 형성하지 않고, 빛이 투과되는 화소 영역에만 형성한다. 그리고, 보호막(180) 및 색필터(230) 위에 덮개층(185)을 형성한다. 덮개 층(185)은 색필터(230)를 보호하기 위한 것으로 산화 규소막 또는 질화 규소막 등의 무기막으로 형성할 수 있다.
이어서, 도 5에 도시한 바와 같이, 덮개층(185) 위에 유기 물질로 이루어진 평탄화 유기막(188a)을 도포하고, 하프톤(halfton) 마스크(300)를 사용하여 평탄화 유기막(188a)을 노광한다. 하프톤 마스크(300)는 투명 기판(310)과 차광막(311)으로 이루어질 수 있고, 차광막(311)은 접촉구(185a, 185b)와 대응하는 영역(A)에서는 빛을 완전히 차단할 수 있도록 형성하고, 색필터(230)와 대응하는 영역(B)에서는 빛을 일부만 투과시킬 수 있도록 슬릿이나 반투명막 형태로 형성하며, 나머지 부분(C)에서는 제거한다. 본 실시예에서는 음성 감광성을 가지는 물질로 평탄화 유기막(188a)을 형성한 경우를 예시하고 있고, 양성 감광성을 가지는 물질로 평탄화 유기막(188a)을 형성하는 경우에는 접촉구(185a, 185b)와 대응하는 영역(A)에서는 빛이 투과할 수 있도록 차광막(311)을 제거하고, 색필터(230)와 대응하는 영역(B)에서는 빛을 일부만 투과시킬 수 있도록 슬릿이나 반투명막 형태로 형성하며, 나머지 부분(C)에서는 빛을 완전히 차단할 수 있도록 차광막(311)을 연속적으로 형성한다.
이어서, 도 6에 도시한 바와 같이, 노광된 평탄화 유기막(188a)을 현상하여 평탄화 유기막(188a)의 두께를 다르게 한다. 즉, 색필터(230)에 대응하는 부분의 평탄화 유기막(188a)의 두께가 그 외의 부분에 대응하는 평탄화 유기막(188a)의 두께보다 얇게 한다. 이후 애싱(ashing)을 통하여 색필터(230)에 대응하는 부분의 평탄화 유기막(188a)을 제거하고 그 외 부분의 평탄화 유기막(188a)은 남겨야 하므로 애싱 공정을 안정적으로 수행하기 위하여 색필터(230)에 대응하는 부분의 평탄화 유기막(188a)의 두께는 0.1um 내지 0.7um로 할 수 있다. 이 때, 드레인 전극(175a, 175b)을 노출하는 접촉구(185a, 185b)를 형성한다.
이어서, 도 7에 도시한 바와 같이, 평탄화 유기막(188a)을 애싱(ashing)하여 색필터(230)에 대응하는 부분의 평탄화 유기막(188a)를 제거함과 동시에, 그 외의 부분에 대응하는 평탄화 유기막(188a)의 일부를 제거하여 평탄화막(188)을 형성한다. 이 때, 애싱은 2초 ~ 30초 동안 실시할 수 있다.
이어서, 도 8에 도시한 바와 같이, 평탄화막(188) 및 색필터(230) 위의 덮개층(185) 위에 접촉구(185a, 185b)를 통해 드레인 전극(175a, 175b)와 연결되는 화소 전극(191)을 형성한다.
이어서, 도 9에 도시한 바와 같이, 제1 및 제2 박막 트랜지스터와 데이터선(171a, 171b) 위에 차광 부재(220)을 형성한다. 이 때, 제1 및 제2 박막 트랜지스터, 데이터선(171a, 171b) 및 게이트선(121) 위에 차광층을 형성한 후, 슬릿 마스크를 사용하여 노광하고 현상함으로써, 차광 부재(220)와 간격재(320)를 함께 형성할 수 있다.
그리고 나서, 도 2에 도시한 바와 같이, 상부 표시판(200)은 절연 기판(210) 위에 공통 전극(270)을 형성한 후, 하부 표시판(100)과 상부 표시판(200) 중 하나 위에 액정을 적하한 후, 두 표시판(100, 200)을 합착(assembly)한다.
평탄화막(188)은 다른 방법으로 형성할 수도 있으며, 그 중 한가지 방법을 도 10 및 도 11을 참고로 하여 설명한다. 도 10 및 도 11은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법을 나타낸 도면이다.
우선, 도 10에 도시한 바와 같이, 보호막(180) 및 색필터(230)를 위에 덮개층(185)를 형성한 후, 덮개층(185) 및 보호막(180)을 사진 식각하여 드레인 전극(175a, 175b)을 노출하는 접촉구(185a, 185b)를 형성한다.
이어서, 도 11에 도시한 바와 같이, 덮개층(185) 위에 평탄화 유기막(188a)를 도포하고 차광부와 투과부를 가지는 광마스크(400)를 사용하여 평탄화 유기막(188a)을 노광한다. 광마스크(400)는 투명 기판(410)과 차광막(411)으로 이루어질 수 있고, 차광막(411)은 색필터(230)와 대응하는 영역 및 접촉구(185a, 185b)가 형성될 영역에서 빛을 차단하도록 연속적으로 형성하고, 나머지 부분에서는 제거한다. 본 실시예에서는 음성 감광성을 가지는 물질로 평탄화 유기막(188a)을 형성한 경우를 예시하고 있고, 양성 감광성을 가지는 물질로 평탄화 유기막(188a)을 형성하는 경우에는 차광막(411)이 배치가 반대로 된다.
그리고 나서, 도 7에 도시한 바와 같이, 노광된 평탄화 유기막(188a)을 현상하여 평탄화막(188)을 형성한다.
이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 액정 표시 장치의 배치도이다.
도 2는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ을 따라 절단한 단면도이다.
도 3 내지 도 9는 도 1의 액정 표시 장치를 제조하는 방법을 순서대로 나타낸 도면이다.
도 10 및 도 11은 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법을 나타낸 도면이다.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
121: 게이트선 171: 데이터선
185: 덮개층 188: 평탄화막
191: 화소 전극 230: 색필터
300: 하프톤 마스크

Claims (19)

  1. 기판 위에 게이트 전극을 포함하는 게이트선을 형성하는 단계,
    상기 게이트선 위에 게이트 절연막을 형성하는 단계,
    상기 게이트 절연막 위에 소스 전극을 포함하는 데이터선 및 상기 소스 전극과 마주하는 드레인 전극을 형성하는 단계,
    상기 게이트 절연막, 상기 데이터선, 상기 드레인 전극 위에 보호막을 형성하는 단계,
    상기 보호막 위의 화소 영역에 색필터를 형성하는 단계,
    상기 보호막 및 상기 색필터 위에 무기 물질로 이루어진 덮개층을 형성하는 단계,
    상기 덮개층 위의 상기 게이트선, 상기 데이터선 및 상기 드레인 전극에 대응하는 부분에 유기 물질로 이루어진 평탄화막을 형성하는 단계,
    상기 색필터에 대응하는 영역에서 상기 덮개층과 접촉하는 화소 전극을 형성하는 단계
    를 포함하는 액정 표시 장치의 제조 방법.
  2. 제1항에서,
    상기 평탄화막을 형성하는 단계는
    상기 덮개층 위에 상기 유기 물질로 이루어진 유기막을 도포하는 단계,
    하프톤 마스크를 이용하여 상기 유기막과 상기 덮개층을 패터닝하여 상기 드레인 전극을 노출하는 접촉구를 형성하고, 상기 색필터에 대응하는 영역에서 상기 유기막의 두께를 감소시키는 단계,
    상기 패터닝된 유기막을 애싱하는 단계를 포함하는 액정 표시 장치의 제조 방법.
  3. 제2항에서,
    상기 색필터에 대응하는 영역에 위치한 상기 패터닝된 유기막의 두께는 0.1um 내지 0.7um인 액정 표시 장치의 제조 방법.
  4. 제3항에서,
    상기 애싱은 2 내지 30초 동안 실시하는 액정 표시 장치의 제조 방법.
  5. 제1항에서,
    상기 평탄화막을 형성하는 단계는
    상기 덮개층을 사진 식각하여 상기 드레인 전극을 노출하는 접촉구를 형성하는 단계,
    상기 덮개층 위에 상기 유기 물질로 이루어진 유기막을 도포하는 단계,
    상기 색필터에 대응하는 부분 및 상기 접촉구에 형성된 상기 유기막을 제거하는 단계를 포함하는 액정 표시 장치의 제조 방법.
  6. 제1항에서,
    상기 데이터선 및 상기 드레인 전극을 형성하는 단계와 상기 색필터를 형성 하는 단계 사이에 보호막을 형성하는 단계를 더 포함하는 액정 표시 장치의 제조 방법.
  7. 제1항에서,
    상기 평탄화막 위에 차광 부재를 형성하는 단계를 더 포함하는 액정 표시 장치의 제조 방법.
  8. 제7항에서,
    상기 차광 부재를 형성한 후, 상기 평탄화막 위에 간격재를 형성하는 단계를 더 포함하는 액정 표시 장치의 제조 방법.
  9. 제1항에서,
    상기 평탄화막 위에 차광 부재 및 간격재를 동시에 형성하는 단계를 더 포함하는 액정 표시 장치의 제조 방법.
  10. 기판,
    상기 기판 위에 배치되어 있으며 게이트 전극을 포함하는 게이트선,
    상기 게이트선 위에 배치되어 있는 게이트 절연막,
    상기 게이트 절연막 위에 배치되어 있으며, 소스 전극을 포함하는 데이터선 및 상기 소스 전극과 마주하는 드레인 전극,
    상기 게이트 절연막, 상기 데이터선 및 상기 드레인 전극 위에 배치되어 있는 보호막,
    상기 보호막 위의 화소 영역에 배치되어 있는 색필터,
    상기 보호막 및 상기 색필터 위에 배치되어 있고, 무기 물질로 이루어지는 덮개층,
    상기 덮개층 위의 상기 게이트선, 상기 데이터선 및 상기 드레인 전극에 대응하는 부분에 배치되어 있고, 유기 물질로 이루어진 평탄화막,
    상기 덮개층 위에 배치되어 있고 상기 색필터에 대응하는 영역에서 상기 덮개층과 접촉하는 화소 전극
    을 포함하는 액정 표시 장치.
  11. 삭제
  12. 삭제
  13. 제10항에서,
    상기 보호막, 상기 덮개층 및 상기 평탄화막은 상기 화소 전극과 상기 드레인 전극이 연결되는 접촉구를 포함하는 액정 표시 장치.
  14. 제13항에서,
    상기 화소 전극은 서로 분리되어 있는 제1 부화소 전극 및 제2 부화소 전극을 포함하는 액정 표시 장치.
  15. 제14항에서,
    상기 제1 부화소 전극 및 상기 제2 부화소 전극은 각각 복수의 미세 가지부를 포함하는 액정 표시 장치.
  16. 제15항에서,
    상기 제2 부화소 전극은 상기 제1 부화소 전극의 미세 가지부를 둘러싸는 연결부 포함하는 액정 표시 장치.
  17. 제10항에서,
    상기 평탄화막 위에 배치되어 있는 차광 부재를 더 포함하는 액정 표시 장치.
  18. 제17항에서,
    상기 평탄화막 위에 배치되어 있는 간격재를 더 포함하는 액정 표시 장치.
  19. 삭제
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