KR101575586B1 - 양면 연마장치 - Google Patents
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Abstract
본 발명은, 연마대상물의 하부에 위치하여 회전 구동하는 하부정반, 연마대상물을 사이에 두고 하부정반부의 상측에 배치되고 구동부에 의하여 회전 구동하는 상부정반, 하부정반과 상부정반을 지지하고, 구동부가 연결되는 지지프레임, 구동부와 상부정반 사이에 구비되어, 상부정반을 틸팅(Tilting)시키는 틸팅수단 및 지지프레임에 결합하여, 연마 시에는 상부정반이 틸팅되게 하고, 페이싱 시에는 상부정반을 접촉 지지하여 상부정반의 틸팅이 억제되도록 하는 틸팅방지수단을 포함하는 양면 연마장치를 제공한다.
따라서 페이싱을 하기 위하여 상부정반을 분리한 후 하부정반의 위치에 다시 조립하는 일련의 과정을 거칠 필요 없이, 연마 시 상부정반의 위치 그대로에서 페이싱을 실시할 수 있기 때문에 작업공정단순화로 인한 작업시간단축은 물론 페이싱 작업성을 향상시켜 생산성 및 경제성을 증가시킬 수 있다.
따라서 페이싱을 하기 위하여 상부정반을 분리한 후 하부정반의 위치에 다시 조립하는 일련의 과정을 거칠 필요 없이, 연마 시 상부정반의 위치 그대로에서 페이싱을 실시할 수 있기 때문에 작업공정단순화로 인한 작업시간단축은 물론 페이싱 작업성을 향상시켜 생산성 및 경제성을 증가시킬 수 있다.
Description
본 발명은 양면 연마장치에 관한 것으로서, 다이아몬드 슬러리를 공급하여 이루어지는 DMP(Diamond mechanical polishing)의 양면 연마장치에 관한 것이다.
일반적으로 웨이퍼는 제조공정 중 선행공정 등에서 표면에 생긴 손상 등을 제거하기 위하여 표면을 경면화하면서 연마하는 공정이 필요한데, 이러한 웨이퍼의 표면을 연마하기 위하여 양면 연마장치를 이용하여 실시한다. 이러한 양면 연마장치의 예로 대한민국 공개특허 제2011-0038685호에 개시된 웨이퍼의 연마 방법 및 양면 연마 장치는, 회전구동하고 평탄한 연마 표면을 갖는 하부정반과, 하부정반에 대향되게 배치되어 회전구동하고 평탄한 연마 표면을 갖는 상부정반과, 웨이퍼를 보관 유지하는 캐리어를 포함하는 구성으로 되어 있다.
한편, 상기한 양면 연마장치는 상기 하부정반과 상부정반의 각 연마면이 상기 웨이퍼와 마찰을 하는 구성이니 만큼, 주기적으로 상기 하부정반과 상부정반의 각 연마면을 평탄화시키기 위한 페이싱 작업을 실시해야 한다.
그런데, 종래의 양면 연마장치는, 평탄도를 위하여 상기 상부정반에 구비된 틸팅장치에 의하여 상기 상부정반의 페이싱 작업은 연마장치에 결합된 상태에서 그대로 하지 못하고, 하부정반을 연마장치에서 분리한 후 그 자리에 분리한 상부정반을 조립하여 실시하였기 때문에, 페이싱을 위한 일련의 분리와 조립과정 등 전체적인 작업이 복잡하고 번거로운 문제점이 있었다.
본 발명은, 웨이퍼 양면 연마장치의 정반 페이싱 장치에서 상부정반과 하부정반을 연마장치에서 각각 분리할 필요 없이 웨이퍼 양면 연마장치에 장착된 상태에서 상부정반과 하부정반을 동시에 페이싱 작업을 실시함으로써, 작업성을 향상시킬 수 있으며 페이싱 작업도 신속하게 할 수 있는 웨이퍼 양면 연마장치의 정반 페이싱 장치를 제공하는데 목적이 있다.
본 발명은, 연마대상물의 하부에 위치하여 회전 구동하는 하부정반; 상기 연마대상물을 사이에 두고 상기 하부정반부의 상측에 배치되고 구동부에 의하여 회전 구동하는 상부정반; 상기 하부정반과 상기 상부정반을 지지하고, 상기 구동부가 연결되는 지지프레임; 상기 구동부와 상기 상부정반 사이에 구비되어, 상기 상부정반을 틸팅(Tilting)시키는 틸팅수단; 및 상기 지지프레임에 결합하여, 연마 시에는 상기 상부정반이 틸팅되게 하고, 페이싱 시에는 상기 상부정반을 접촉 지지하여 상기 상부정반의 틸팅이 억제되도록 하는 틸팅방지수단을 포함하는 양면 연마장치를 제공한다.
여기서, 상기 틸팅방지수단은, 상기 지지프레임과 연결되어 틸팅하는 상기 상부정반을 접촉 지지하는 캠플라워(Cam follower)와, 상기 지지프레임과 상기 캠플라워 사이에 구비되고, 상기 캠플라워를 상하방향으로 이동시켜 상기 캠플라워가 상기 상부정반을 선택적으로 접촉 지지할 수 있도록 하는 발란스실린더부를 포함한다.
이때, 상기 캠플라워는, 상기 상부정반의 적어도 3점을 지지하는 것이 바람직하며, 상세하게는 원판형상의 상기 상부정반을 3점 지지하되, 상기 상부정반의 중심을 기준으로 동일한 반경 거리에 대하여 원주방향을 따라 동일한 이격 거리를 갖도록 배치되는 것이 바람직하다.
한편, 상기 지지프레임은, 제1지지프레임과, 상기 제1지지프레임에 대하여 상하방향으로 슬라이딩 이동가능하게 연결되며 상기 상부정반과 상기 구동부가 결합된 제2지지프레임과, 일측은 상기 제1지지프레임과 연결되고 타측은 상기 제2지지프레임과 연결되어 상기 제2지지프레임을 상하방향으로 이동시키는 이동프레임을 포함하고, 상기 제1지지프레임과 상기 제2지지프레임을 선택적으로 서로 고정 결합하여, 상기 상부정반의 페이싱 시 상기 상부정반의 상하방향 이동을 제한하는 스토퍼부를 더 구비하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 제1지지프레임에 상하방향을 따라 구비되는 LM가이드를 더 포함하고, 상기 제2지지프레임은 상기 LM가이드 상에 결합되어 상하방향을 따라 이동하는 것이 바람직하다.
나아가, 상기 상부정반과 상기 하부정반은, 상기 연마대상물과 대면 접촉하는 연삭면이 형성되어 있는 연마부와, 상기 연마부의 후방에 결합하여 상기 연마부를 지지하고 냉각유로가 형성된 지지부를 포함하며, 상기 연마부와 상기 지지부는 구리재질로 형성되는 것이 바람직하다.
여기서, 상기 냉각유로는, 원주방향을 따라 형성되고, 반경방향으로 지그재그로 형성되는 것이 바람직하다.
또한, 상기 연삭면은 일정간격으로 반경방향을 따라 이격된 복수개의 그루브들을 형성하고, 상기 그루브는 종단면형상이 삼각형상인 것이 바람직하다. 또한, 상기 그루브는, 0.1mm 내지 0.3mm의 깊이와 1mm 내지 2mm의 피치를 갖는 것이 바람직하다.
한편, 상기 상부정반과, 상기 하부정반은 난삭재 연마를 위한 양면 DMP(Diamond mechanical polishing)에 적용될 수 있다.
또한, 상기 상부정반과 상기 하부정반에 다이아몬드 파우더와 분산제와 윤활오일을 포함하는 다이아몬드 슬러리를 공급하는 슬러리 공급부를 더 포함하고, 상기 슬러리공급부는, 상기 다이아몬드 슬러리를 저장하는 저장탱크와, 상기 저장탱크에 구비되어 상기 다이아몬드 슬러리를 교반하는 교반기와, 상기 저장탱크의 다이아몬드 슬러리를 상기 상부정반과 상기 하부정반으로 공급하는 공급펌프를 포함한다.
또한, 상기 구동부는, 상기 상부정반과 축결합하여 상기 상부정반을 회전 구동시키는 구동샤프트와, 상기 지지프레임과 결합하고 상기 구동샤프트와 연결되어 상기 구동샤프트로 회전력을 전달하는 구동모터를 포함한다.
본 발명에 따른 양면 연마장치는 다음과 같은 효과를 제공한다.
첫째, 페이싱을 하기 위하여 상부정반을 분리한 후 하부정반의 위치에 다시 조립하는 일련의 과정을 거칠 필요 없이, 연마 시 상부정반의 위치 그대로에서 페이싱을 실시할 수 있기 때문에 작업공정단순화로 인한 작업시간단축은 물론 페이싱 작업성을 향상시켜 생산성 및 경제성을 증가시킬 수 있다.
둘째, 상부정반과 하부정반이 연마부와 지지부로 이루어져, 냉각유체의 냉각 에너지가 상기 연마부로의 전달율을 향상시켜 냉각성능 향상은 물론 연마량을 향상시킬 수 있다.
셋째, 상부정반과 하부정반이 각각 독립 냉각 제어 방식이기 때문에 냉각효율 향상은 물론 상부정반과 하부정반에 대응하여 최적의 작동을 수행할 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 양면 연마장치를 나타낸 단면도이다.
도 2는 도 1의 상부 및 하부정반의 구조를 나타낸 단면도이다.
도 3은 도 1의 상부 및 하부정반에 형성된 그루브를 나타낸 단면도이다.
도 4는 도 1의 상부 및 하부정반의 냉각유로를 나타낸 평단면도이다.
도 5는 도 1의 틸팅방지수단의 3점 지지위치를 나타내는 평면도이다.
도 2는 도 1의 상부 및 하부정반의 구조를 나타낸 단면도이다.
도 3은 도 1의 상부 및 하부정반에 형성된 그루브를 나타낸 단면도이다.
도 4는 도 1의 상부 및 하부정반의 냉각유로를 나타낸 평단면도이다.
도 5는 도 1의 틸팅방지수단의 3점 지지위치를 나타내는 평면도이다.
이하 첨부된 도면을 참조하면서 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.
먼저, 도 1을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 양면 연마장치(800)는, 난삭재(예: 사파이어, 실리콘카바이드(SiC))의 연마공정에 적용되고 다이아몬드 슬러리를 공급받아 연마가 이루어지는 DMP(Diamond mechanical polishing)장치로서, 하부정반(100)과, 상부정반(200)과, 지지프레임(400)과, 틸팅수단(500)과, 틸팅방지수단(600)과, 스토퍼부(700)를 포함한다.
여기서, 상기 하부정반(100)은, 연마대상물(미도시)의 하부에 위치하여 회전 구동하며, 이때 상기 하부정반(100)을 회전시키기 위한 구성은 공지의 연마장치의 정반을 구동 제어하는 구성과 대응되므로 상세한 설명은 생략하기로 한다.
상기 상부정반(200)은, 상기 연마대상물을 사이에 두고 상기 하부정반(100)부의 상측에 대칭되게 배치되고 회전 구동한다.
여기서, 상기 상부정반(200)은, 구동부(300)에 의하여 회전 구동하며, 상기 하부정반(100)과는 별개로 독립 구동하는 구조로 되어 있다. 이는 종래의 키 타입(Key type)에 비하여 발란스(Balance) 상의 문제를 없앨 수 있을 뿐만 아니라, 최대 0.1mm 이하 제어가 불가한 종래와는 달리 제어영역을 확장할 수 있다.
한편, 상기 구동부(300)는, 상기 상부정반(200)과 축 결합하여 상기 상부정반(200)을 회전 구동시키는 구동샤프트(310)와, 상기 지지프레임(400)과 결합하고 상기 구동샤프트(310)와 연결되어 상기 구동샤프트(310)로 회전력을 전달하는 구동모터(320)를 포함하고 있으나, 이는 일 실시예로 이에 한정하지는 않는다.
이하, 도 2를 참조하여, 상기 상부정반(200)과 상기 하부정반(100)에 대하여 상세하게 살펴보기로 한다.
상기 상부정반(200)과 상기 하부정반(100)은, 서로가 거의 동일한 구조로 되어 있으며, 각각 연마부(110,210)와 지지부(120,220)를 포함하고 있다.
먼저, 상기 연마부(110,210)는, 상기 연마대상물과 대면하는 부분으로, 상기 연마대상물과 대면 접촉하여 연마하는 연삭면이 형성되어 있다.
도 3을 참조하면, 상기 연삭면은 일정간격으로 반경방향을 따라 이격된 복수개의 그루브(111,211)들을 형성하고 있다. 상세하게, 상기 그루브(111,211)는 종단면형상이 삼각형상으로 되어 있어, 기존의 직각홈의 그루브와는 달리 다이아몬드 슬러리의 유실을 방지하여 연마량 감소량을 방지할 수 있다.
한편, 상기 그루브(111,211)는, 연마성능 대비 슬러리의 유실을 방지할 수 있는 최적의 조건으로 0.1mm 내지 0.3mm의 깊이(d)와 1mm 내지 2mm의 피치(P)를 갖는 것이 바람직하다.
상기 지지부(120,220)는, 상기 연마부(110,210)의 후방에 결합하여 상기 연마부(110,210)를 지지하고, 상기 연마부(110,210)와 대면하는 상면으로 상기 연마부(110,210)를 냉각시키기 위한 냉각유체가 유동하는 냉각유로(130)가 형성되어 있다.
여기서, 상기 연마부(110,210)와 상기 지지부(120,220)는, 냉각성능을 극대화할 수 있도록 열전달율이 높은 구리 재질로 형성되는 것이 바람직하지만, 이에 한정하지는 않는다.
도 4를 참조하면, 상기 냉각유로(130)는, 원주방향을 따라 형성되고, 반경방향으로 지그재그로 형성되어 상기 연마부(110,210)의 냉각성능을 향상시킬 수 있도록 되어 있다.
한편, 상기 양면 연마장치(800)는, 냉각수단에 의하여 상기 상부정반(200)과 상기 하부정반(100)을 각각 독립적으로 냉각시킬 수 있는 독립 냉각 제어 방식을 적용하고 있다.
여기서, 상기 냉각수단은 도시하지 않았지만 상기 냉각유체를 순환 공급시킬 수 있는 펌프 등을 포함한 공지의 냉각수단을 적용할 수 있으며, 이에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.
상기한 바와 같이, 상기 상부정반(200)과 하부정반(100)은, 연삭면이 형성된 연마부(110,210)와 상기 연마부(110,210)와 결합하는 지지부(120,220)로 이루어져, 냉각효율을 극대화 시킬 수 있는 구조로 되어 있다.
이는, 스틸 생크(Steel shank)에 래진 카파(Resin copper)나 스틸 카파(Metal copper)가 부착된 종래의 정반이 스틸 생크와 접착체층으로 인하여 냉각 에너지가 정반에 효율적으로 전달하지 못하여, 장시간 연마 시 발생하는 열로 인한 평탄도 변화를 억제하기 힘들었던 것과는 달리, 상기 상부정반(200)과 상기 하부정반(100)은 냉각유체의 냉각에너지가 직접 연마부(110,210)에 전달될 수 있기 때문에, 냉각성능향상 및 이로 인한 연마량을 향상시킬 수 있다.
상기 지지프레임(400)은, 상기 하부정반(100)과 상기 상부정반(200)을 지지하고, 상기 구동부(300)가 연결된다. 상세하게, 상기 지지프레임(400)은, 지면에 지지되는 제1지지프레임(410)과, 상기 제1지지프레임(410)에 대하여 상하방향으로 슬라이딩 이동가능하게 연결되며 상기 상부정반(200)과 상기 구동부(300)가 결합된 제2지지프레임(420)과, 일측은 상기 제1지지프레임(410)과 연결되고 타측은 상기 제2지지프레임(420)과 연결되어 상기 제2지지프레임(420)을 상하방향으로 이동시키는 이동프레임(430)을 포함한다. 여기서, 상기 이동프레임(430)은, 타측이 상기 제1지지프레임(410)에 힌지결합하여 선회하고, 선회운동에 따라 타측이 상하방향으로 이동하면서 상기 제2지지프레임(420)을 상하방향으로 이동시킨다.
한편, 상기 양면 연마장치(800)는, 상기 제1지지프레임(410)에 상하방향을 따라 구비되는 LM가이드(440)를 더 포함하고, 이에 상기 제2지지프레임(420)은 상기 LM가이드(440) 상에 결합되어 상하방향을 따라 이동하도록 되어 있다. 여기서, 상기 LM가이드(400)에 대한 상세한 설명은 공지의 LM가이드와 대응되므로 생략하기로 한다.
상기 틸팅수단(500)은, 상기 구동부(300)와 상기 상부정반(200) 사이에 구비되어, 상기 상부정반(200)을 틸팅(Tilting)시키는 역할을 한다. 상세하게, 상기 틸팅수단(500)은 상기 상부정반(200)과 연결되는 상기 구동샤프트(310)에 구비되는 구형상의 틸팅부(510)로 이루어져 있으며, 상기 틸팅부(510)는 공지의 볼조인트와 같은 작동을 하여 상기 상부정반(200)을 틸팅시키는 구조로 되어 있다.
상기 틸팅방지수단(600)은, 상기 지지프레임(400)에 결합하여, 연마 시에는 상기 상부정반(200)이 틸팅 되게 하고, 페이싱 시에는 상기 상부정반(200)을 가압하면서 접촉 지지하여 상기 상부정반(200)의 틸팅이 선택적으로 억제되도록 한다.
이를 살펴보면, 상기 틸팅방지수단(600)은, 캠플라워(Cam follower;610)와, 발란스 실린더부(620)를 포함한다. 상기 캠플라워(610)는, 상기 지지프레임(400)과 연결되어 틸팅하는 상기 상부정반(200)을 접촉 지지한다. 여기서, 상기 캠플라워(610) 구성에 대한 상세한 설명은 공지의 캠플라워와 대응되므로 생략하기로 한다.
도 5를 참조하면 상기 캠플라워(610)는, 상기 상부정반(200)의 적어도 3점을 지지하는 것이 바람직하다. 세부적으로, 상기 캠플라워(610)는 원판형상의 상기 상부정반(200)을 3점 지지하여 최소의 부품으로 최적의 발란스를 유지하면서 지지할 수 있도록 하되, 상기 상부정반(200)의 중심을 기준으로 동일한 반경 거리에 대하여 원주방향을 따라 동일한 이격 거리를 갖도록 배치되는 것이 바람직하다. 한편, 상기 캠플라워(610)는, 도면에서와 같이 상기 상부정반(200)을 3점 지지하는 경우를 실시예로 나타내었으나, 이는 바람직한 실시예로 상기 상부정반(200)을 4점 지지할 수 있음은 물론이다.
상기 발란스 실린더부(620)는, 상기 지지프레임(400)과 상기 캠플라워(610) 사이에 구비되고, 상기 캠플라워(610)를 상하방향으로 이동시켜 상기 캠플라워(610)가 상기 상부정반(200)을 선택적으로 접촉 지지할 수 있도록 한다. 여기서, 상기 발란스 실린더부(620)는 공지의 유압식 실린더를 적용하며, 작동제어는 온오프제어 등 다양한 작동제어방법이 적용될 수 있다.
상기 스토퍼부(700)는, 상기 제1지지프렘(410)과 상기 제2지지프레임(420)을 선택적으로 서로 고정 결합하여, 상기 상부정반(200)의 페이싱 시 상기 상부정반(200)의 상하방향 이동을 제한하는 역할을 한다. 상세하게, 상기 스토퍼부(700)는, 상기 상부정반(200)의 상승 후 낙하를 방지하기 위한 제1스토퍼(711)와, 페이싱 시 상기 상부정반(200)의 위치를 고정하기 위한 포지셔너로서의 제2스토퍼(712)와, 상기 상부정반(200)의 상승 후 낙하방지용 안전장치로서의 제3스토퍼(713)를 포함한다.
여기서, 상기 제1스토퍼(711)와, 제2스토퍼(712)와, 상기 제3스토퍼(713)는 각각의 모드에 따라 선택적으로 작동할 수 있다. 가령, 상기 상부정반(200)의 상승 후 낙하를 방지하기 위한 모드에서는 상기 제1스토퍼(711)를 작동시키고, 페이싱 시 상기 상부정반(200)의 위치를 고정하기 위한 모드에서는 상기 제2스토퍼(712)를 작동시키고, 상기 상부정반(200)의 100mm 상승 후 낙하방지용 모드에서는 안전장치로 상기 제3스토퍼를 작동시킬 수 있다. 하지만, 상기한 각 모드에서의 상기 제1스토퍼(711)와, 제2스토퍼(712)와, 상기 제3스토퍼(713)의 작동은 일 실시예로 다양한 모드에 따라 하나 또는 복수개를 선택하여 작동시키는 등 다양한 조합이 가능함은 물론이다.
한편, 상기 스토퍼부(700)는, 상기 제1스토퍼(711)와, 제2스토퍼(712)와, 상기 제3스토퍼(713)가 상기 제1지지프레임(410)에 상하방향을 따라 이격되게 형성된 스토퍼 끼움부(720; 도 1참조)에 끼움 결합하여 상기 제1프레임(410)에 상기 제2프레임(420)이 고정 결합되는 구성을 적용할 수 있다. 하지만, 이는 바람직한 실시예로서 상기한 목적을 달성할 수 있다면 다양한 구성이 적용 가능함은 물론이다.
상기 양면 연마장치(800)는, 도시하지 않았지만 상기 상부정반(200)과 상기 하부정반(100)에 다이아몬드 파우더와 분산제와 윤활오일을 포함하는 다이아몬드 슬러리를 공급하는 슬러리 공급부를 더 포함한다.
상기 슬러리공급부는, 상기 다이아몬드 슬러리를 저장하는 저장탱크와, 교반기와, 공급펌프를 포함한다.
상기 교반기는, 상기 저장탱크의 내부 또는 외부에 구비되어 비중이 높은 다이아몬드 입자가 침전되지 않도록 상기 다이아몬드 슬러리를 상시 교반하도록 되어 있으며, 베인을 포함하는 구조 또는 진동을 이용한 공지의 교반기 등 다양한 구성이 적용될 수 있다.
상기 공급펌프는, 슬러리 공급라인 상에 구비되어 상기 저장탱크의 다이아몬드 슬러리를 상기 상부정반(200)과 상기 하부정반(100)으로 공급하는 역할을 하며, 공지의 유체를 펌핑하여 순환시키는 공지의 펌프 등을 적용할 수 있다.
상기한 바와 같이 상기 양면 연마장치(800)는, 상기 상부정반(200)이 상기 하부정반(100)과는 별개로 독립구동하는 방식으로 되어 있고, 상기 틸팅방지수단(600)을 통하여, 페이싱을 하기 위하여 분리할 필요 없이 그 상태에서 바로 페이싱을 할 수 있기 때문에 페이싱을 위한 작업시간단축은 물론 작업성도 향상시켜 생산성 및 경제성을 증가시킬 수 있다. 또한, 상기 양면 연마장치(800)는, 스틸생크와 접착부로 이루어졌던 기존과는 달리, 냉각유체의 냉각에너지가 상기 연마부(110,210)로 바로 절달되는 구조로 되어 있어 냉강 성능을 향상시킴은 물론 이로 인한 연마량을 증대시킬 수 있다.
본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.
100.. 하부정반 110,210... 연마부
120,220... 지지부 200... 상부정반
300... 구동부 400... 지지프레임
410... 제1지지프레임 420... 제2지지프레임
430... 이동프레임 500... 틸팅수단
510... 틸틸부 600... 틸팅방지수단
610... 캠플라워 620... 발란스 실린더부
700... 스토퍼부 800... 양면 연마장치
120,220... 지지부 200... 상부정반
300... 구동부 400... 지지프레임
410... 제1지지프레임 420... 제2지지프레임
430... 이동프레임 500... 틸팅수단
510... 틸틸부 600... 틸팅방지수단
610... 캠플라워 620... 발란스 실린더부
700... 스토퍼부 800... 양면 연마장치
Claims (10)
- 연마대상물의 하부에 위치하여 회전 구동하는 하부정반;
상기 연마대상물을 사이에 두고 상기 하부정반부의 상측에 배치되고 구동부에 의하여 회전 구동하는 상부정반;
상기 하부정반과 상기 상부정반을 지지하고, 상기 구동부가 연결되는 지지프레임;
상기 구동부와 상기 상부정반 사이에 구비되어, 상기 상부정반을 틸팅(Tilting)시키는 틸팅수단; 및
상기 지지프레임에 결합하여, 연마 시에는 상기 상부정반이 틸팅되게 하고, 페이싱 시에는 상기 상부정반을 접촉 지지하여 상기 상부정반의 틸팅이 선택적으로 억제되도록 하는 틸팅방지수단을 포함하는 양면 연마장치.
- 청구항 1에 있어서,
상기 틸팅방지수단은,
상기 지지프레임과 연결되어 틸팅하는 상기 상부정반을 접촉 지지하는 캠플라워(Cam follower)와,
상기 지지프레임과 상기 캠플라워 사이에 구비되고, 상기 캠플라워를 상하방향으로 이동시켜 상기 캠플라워가 상기 상부정반을 선택적으로 접촉 지지할 수 있도록 하는 발란스 실린더부를 포함하는 양면 연마장치.
- 청구항 2에 있어서,
상기 캠플라워는,
상기 상부정반의 적어도 3점을 지지하는 양면 연마장치.
- 청구항 3에 있어서,
상기 캠플라워는,
원판형상의 상기 상부정반을 3점 지지하되, 상기 상부정반의 중심을 기준으로 동일한 반경 거리에 대하여 원주방향을 따라 동일한 이격 거리를 갖도록 배치되는 양면 연마장치.
- 청구항 1에 있어서,
상기 지지프레임은,
제1지지프레임과, 상기 제1지지프레임에 대하여 상하방향으로 슬라이딩 이동가능하게 연결되며 상기 상부정반과 상기 구동부가 결합된 제2지지프레임과, 일측은 상기 제1지지프레임과 연결되고 타측은 상기 제2지지프레임과 연결되어 상기 제2지지프레임을 상하방향으로 이동시키는 이동프레임을 포함하고,
상기 제1지지프레임과 상기 제2지지프레임을 선택적으로 서로 고정 결합하여, 상기 상부정반의 페이싱 시 상기 상부정반의 상하방향 이동을 제한하는 스토퍼부를 더 구비하는 양면 연마장치.
- 청구항 1에 있어서,
상기 상부정반과 상기 하부정반은,
상기 연마대상물과 대면 접촉하는 연삭면이 형성되어 있는 연마부와, 상기 연마부의 후방에 결합하여 상기 연마부를 지지하고 냉각유로가 형성된 지지부를 포함하며,
상기 연마부와 상기 지지부는 구리재질로 형성되는 양면 연마장치.
- 청구항 6에 있어서,
상기 연삭면은 일정간격으로 반경방향을 따라 이격된 복수개의 그루브들을 형성하고,
상기 그루브는 종단면형상이 삼각형상인 양면 연마장치.
- 청구항 7에 있어서,
상기 그루브는,
0.1mm 내지 0.3mm의 깊이와 1mm 내지 2mm의 피치를 갖는 양면 연마장치.
- 청구항 8에 있어서,
상기 상부정반과, 상기 하부정반은 난삭재 연마를 위한 양면 DMP(Diamond mechanical polishing)에 적용되는 양면 연마장치.
- 청구항 1에 있어서,
상기 구동부는,
상기 상부정반과 축결합하여 상기 상부정반을 회전 구동시키는 구동샤프트와, 상기 지지프레임과 결합하고 상기 구동샤프트와 연결되어 상기 구동샤프트로 회전력을 전달하는 구동모터를 포함하는 양면 연마장치.
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JP2008062321A (ja) | 2006-09-05 | 2008-03-21 | Taihei Seisakusho:Kk | スルーフィード研削方法および装置 |
JP2008114352A (ja) | 2006-11-08 | 2008-05-22 | Nachi Fujikoshi Corp | 研削装置 |
-
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- 2014-02-19 KR KR1020140019116A patent/KR101575586B1/ko active IP Right Grant
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