KR101550113B1

KR101550113B1 - 일종의 카스포펀진의 제조방법

Info

Publication number: KR101550113B1
Application number: KR1020137014782A
Authority: KR
Inventors: 빙밍 헤; 밍 리; 지준 탕; 샤오밍 지
Original assignee: 샹하이 테크웰 바이오파마슈티컬 컴퍼니, 리미티드
Priority date: 2010-11-10
Filing date: 2011-11-10
Publication date: 2015-09-03
Also published as: CN102367267A; CN102367267B; DE112011103715B4; GB2503348A; US8912309B2; KR20130118901A; US20130231457A1; WO2012062212A1; GB201309925D0; DE112011103715T5

Abstract

본 발명에는 카스포펀진의 제조방법이 기재 되었으며, 상기 방법은, (a)화학식 2로 표시된 화합물과 강한 탈리기 화합물 5를 혼합하여 화학식 3으로 표시된 화합물을 얻는 단계, (b)화학식 3으로 표시된 화합물과 에틸렌디아민을 혼합하여 화학식 4로 표시된 화합물을 얻는 단계, (c)화학식 4로 표시된 화합물과 히드록시 보호제를 혼합한 후, 보란(borane) 복합체와 혼합하여 화학식 1로 표시된 화합물을 얻는 단계를 포함한다.

Description

일종의 카스포펀진의 제조방법{PREPARATION METHOD FOR CASPOFUNGIN ANALOG}

본 발명은 유기화합물 분야에 관한 것이며, 특히는 일종의 카스포펀진(Caspofungin)의 제조방법에 관한 것이다.

1974년, 사람들은 뉴모칸딘(Pneumocandins)계 화합물이 양호한 항균활성을 가지고 있음을 발견하였다. 이로부터, 사람들은 여러가지 반합성의 뉴모칸딘계 화합물의 약리활성을 연구하였다. 2001년에 이르러, 카스포펀진은 정식으로 미국 FDA의 허가를 받아 판매되기 시작하였으며, 인류가 항진균 약물의 연구에 있어서 혁신을 가져왔다. 카스포펀진은 작용부위가 독특하고 스펙트럼이 넓은 저독성 약물이며 그의 화학구조는 화학식 1에 표시된 바와 같다.

WO94/21677, EP620232, WO96/24613, US5552521, WO97/47645, US5936062, WO02/083713, J.Org.Chem.,2007,72,2335-2343, CN101792486A, CN101648994A, WO2010008493A2, US2010168415A1, EP1785432, WO2010064219A1에는 카스포펀진의 유사물 및 카스포펀진의 제조방법이 기재되어 있다.

WO94/21677와 EP620232에서, 뉴모칸딘(Pneumocandin) B₀을 반응원료로, 알킬메르캅탄 또는 아릴메르캅탄과 반응시킨 후, 산화를 통해 술폰 중간체를 얻었으며, 다시 무수 비양자성 용매에서 아민 화합물과 반응시켜 얻은 반응 생성물을 크로마토 그래피를 통해 분리하여 얻었다.

WO96/24613과 US5552521에서는, 뉴모칸딘(Pneumocandin) B0의 1차 아미드를 아민기로 환원시키며 수율은 47%이다. 다시 티오페놀 (thiophenol)과 반응시킨 후, 에틸렌디아민과 반응시켜 카스포펀진을 얻었다.

WO97/47645, US5936062 및 J.Org.Chem.,2007,72,2335-2343에는, Pneumocandin B₀을 반응원료 카스포펀진을 제조하는 두가지 입체 선택성 방법이 기재되어 있다. 첫번째 방법은, 페닐보레이트(Phenylborate)을 보호기로 하여, Pneumocandin B₀ 아미드기를 상응한 아민기로 환원시킨 후, 차례로 티오페놀과 에틸렌디아민과 반응시켜 카스포펀진을 얻는 방법이다. 두번째 방법은, Pneumocandin B₀을 반응원료로 티오페놀과 반응시킨 후, 페닐보레이트 보호를 통해, 다시 Pneumocandin B₀ 아미드기를 상응한 아민기로 환원시킨 후, 에틸렌디아민과 반응시켜 카스포펀진을 얻는 방법이다.

CN101792486A와 CN101648994A에는, Pneumocandin B₀을 반응원료로, 페닐보레이트의 보호하에 에틸렌디아민과 반응시킨 후, 다시 얻은 중간체의 아미드기를 상응한 아민기로 환원시켜 카스포펀진을 얻는 방법이 기재되어 있다.

WO02/083713, US2010168415A1, EP1785432, WO2010064219A1, WO2010064219A1에는, Pneumocandin B₀시안기 화합물의 중간체를 제조한 후, 다시 수소로 환원시켜 카스포펀진을 얻는 방법이 기재되었다.

WO2010008493A2에는, Pneumocandin B₀를 반응원료로 4-메톡시티오페놀과 반응시킨 후, 다시 페닐보레이트의 보호하에, 3A 분자체(molecular sieve)로 탈수를 진행한 조건 하에, Pneumocandin B₀ 아미드기를 상응한 아민기로 환원시켰으며, 다시 에틸렌디아민과 반응시켜 카스포펀진을 얻는 방법이 기재되어 있다.

그러나, 생성율, 순도, 안정성 및 세가지 폐기물을 고려할 경우, 이미 공개된 방법은 산업화 생산에 유리한 최적의 방법이 아니다. 제조컬럼 크로마토그래피의 단계의 여러차례 이용은 산업화의 원가를 대폭 증가시키며, 대량의 세가지 폐기물이 생성된다. 일부 방법은 반드시 엄격한 무수 조건하(3A 분자체 탈수)에서 조작해야 하며, 대다수의 방법은 악취가 나는 극심한 독성을 가진 티오페놀을 사용하며 조작 난이도가 높고 조작인의 건강을 해치며 환경오염이 심하다. 그외, 일부분 기존의 합성방법중에서, Pneumocandin B₀계 시안기 화합물을 제조할 경우, 불가피하게 이성질체의 생성을 초래할 수 있으며, 입체 선택성과 수율이 낮은 동시에 비싼 금속을 촉매로 사용하기에 산업화 원가가 높아진다. 그리하여, 산업화 생산의 제조에 적합한 카스포펀진의 제조방법을 연구할 것을 절박히 필요로 한다.

본 발명의 목적은 새로운 카스포펀진의 제조방법을 제공하는 것이다.

본 발명에서, 화학식 1로 표시된 화합물의 제조방법을 제공하며 상기 방법에는 하기 단계가 포함된다.

(a) 화학식 2로 표시된 화합물과 강한 탈리기(leaving-group) 화합물 5를 혼합하여 화학식 3으로 표시된 화합물을 얻는 단계,

(b) 화학식 3으로 표시된 화합물과 에틸렌디아민을 혼합하여 화학식 4로 표시된 화합물을 얻는 단계,

(c) 화학식 4로 표시된 화합물과 히드록시 보호제를 혼합한 후, 보란(borane) 복합체와 혼합하여 화학식 1로 표시된 화합물을 얻는 단계.

상기 방법의 단계(a)에서, 상기 강한 탈리기는 메르캅토기(mercapto group) 치환된 방향족환 화합물 5이며, 그중, R₁는 히드록시, 벤질옥시, 페녹시, 또는 치환된 페녹시, 치환된 벤질옥시에서 선택되며, R₂, R₃, R₄, R₅는 각각 수소, C1-C6알킬기, C1-C6알콕시, 히드록시, 또는 벤질옥시페닐기, 치환된 벤질옥시페닐기, 니트로기, 불소, 염소, 브롬, 요오드에서 선택된다.

상기 메르캅토기 치환된 방향족환 화합물 5에서, R₁은 히드록시, 벤질옥시, 또는 페녹시, 또는 치환된 페녹시에서 선택되며, R₂, R₃, R₄, R₅는 수소, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 히드록시, 브롬, 니트로기에서 선택된다.

바람직하게는, 상기 메르캅토기 치환된 방향족환 화합물 5에서, R₁는 히드록실기에서 선택되며, R₂, R₃, R₄, R₅는 수소, 메틸기, 히드록실기에서 선택된다.

더 바람직하게는, 상기 화합물 5는 4-머캡토페놀(4-mercaptophenol), 3-머캡토페놀, 또는 4-히드록시-3-메틸티오페놀에서 선택된다.

제일 바람직하게는, 상기 메르캅토기 치환된 방향족환 화합물 5는 4-머캡토페놀에서 선택된다.

상기 방법의 단계(a)에서, 화학식 2로 표시된 화합물과 산에 용해시킨 강한 탈리기 화합물을 혼합한다. 상기 산은 트리플루오로아세트산, 트리플루오로메탄술폰산, 캄포설폰산(Camphorsulfonic acid), 메틸술폰산(Methylsulphonic acid) 또는 p-톨루엔설폰산(p-Toluenesulfonic acid)에서 선택된다.

상기 방법의 단계(a)에서, 혼합온도는 -50℃ 내지 40℃이며, 바람직한 온도는 -20 내지 -15℃이다.

상기 방법의 단계(b)에서, 상기 화학식 3으로 표시된 화합물과 메탄올, 에탄올, 테트라히드로푸란, 2-메틸 테트라히드로푸란, 이소프로판올, 트리프루오로에탄올, 아세토니트릴 또는 디클로로메탄에서 선택되는 용매에 용해시킨 에틸렌디아민을 혼합한다.

상기 방법의 단계(b)에서, 혼합온도는 0℃ 내지 40℃이며, 바람직하게는 25 내지 35℃이다.

상기 방법의 단계(c)에서, 상기 히드록시 보호제는 붕산계 보호제, 또는 실란(silane)시약이다.

상기 방법의 단계(c)에서, 상기 보란 복합체는 보란과 테트라히드로푸란, 보란과 디메틸 설파이드, 보란과 디페닐 설파이드, 보란과 디벤질 설파이드, 보란과 디옥산(dioxane), 보란과 1,4-옥사티앤(oxathiane), 또는 BH₂Cl와 디메틸 설파이드의 복합체에서 선택되며, 바람직하게는 보란과 테트라히드로푸란, 또는 보란과 디메틸 설파이드의 복합체이다.

상기 방법의 단계(c)에서, 혼합온도는 -20℃ 내지 20℃이며, 바람직하게는 0℃ 내지 10℃이다.

즉, 본 발명에서는 산업화 생산에 적합한 카스포펀진의 제조방법을 제공한다.

본 발명의 발명자는 화학식 1의 화합물을 간단하게 제조하는 방법을 발견하였다. 발명자는 깊은 연구를 통해, 화학식 2의 화합물로부터 한 단계를 거쳐 화학식 3의 화합물을 얻을 수 있으며, 화학식 3의 화합물은 에틸렌디아민의 가암모니아 분해와 환원반응을 통해 간단하게 화학식 1로 표시된 화합물, 즉 카스포펀진을 얻을 수 있음을 발견하였다.

본 발명에서 사용하는 화학식 또는 명칭은 모든 광학 및 입체 이성질체, 및 이러한 이성질체와 혼합물의 라세미 혼합물을 포함한다.

본 발명에서 제공하는 화학식 1로 표시되는 화합물의 제조방법은 하기 단계를 포함한다.

단계1, 화학식 2로 표시되는 화합물과 강한 탈리기 화합물을 혼합하여 화학식 3으로 표시된 화합물을 얻는다.

그 후에, 화학식 3으로 표시된 화합물과 에틸렌디아민을 혼합하여 화학식 4의 화합물을 얻은 후, 화학식 4로 표시되는 화합물과 히드록시 보호제를 혼합하며, 다시 보란(borane) 복합체와 혼합하여 화학식 1로 표시된 화합물을 얻는다.

본 발명에서 제공하는 제조방법에 있어서, 출발물질인 화학식 2로 표시되는 화합물을 본 분야에서 숙지하고 있는 방법으로 제조할 수 있다. 1991년 6월 4일에 출판한 미국특허5,021,341에 기재된 주요 탄소원인 마니톨을 충분히 포함한 영양 배지에서 Zalerion arboricola ATCC 20868를 배양하는 방법을 통해 얻을 수 있으나 이제 한정되지는 않는다.

본 발명중의 강한 탈리기는 메르캅토기(mercapto group) 치환된 방향족환 화합물 5이며, 그중, R₁는 히드록시, 또는 벤질옥시, 또는 페녹시, 또는 치환된 페녹시, 또는 치환된 벤질옥시에서 선택되며, R₂, R₃, R₄, R₅는 각각 수소, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, 히드록시, 또는 벤질옥시페닐기, 치환된 벤질옥시페닐기, 니트로기, 불소, 염소, 브롬, 요오드에서 선택된다. 바람직하게는, R₁은 히드록시, 또는 벤질옥시, 또는 페녹시, 또는 치환된 페녹시에서 선택되며, R₂, R₃, R₄, R₅는 수소, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 히드록시, 브롬, 니트로기에서 선택된다. 더 바람직하게는, R₁은 히드록시이며, R₂, R₃, R₄, R₅는 수소, 메틸, 히드록시에서 선택된다. 제일 바람직하게는, 방향족환 화합물 5는 4-머캡토페놀에서 선택된다.

단계1에서, 촉매는 임의의 중등 강도의 산이며, 트리플루오로아세트산, 트리플루오로메탄술폰산, 캄포설폰산(Camphorsulfonic acid), 메틸술폰산(Methylsulphonic acid) 또는 p-톨루엔설폰산(p-Toluenesulfonic acid)에서 선택되며, 바람직하게는 트리플루오로메탄술폰산이나 이제 한정되지는 않는다.

본 발명의 한 실시예에서, 첫번째 단계에서 화학식 2의 화합물을 아세토니트릴과 트리플루오로아세트산에 용해시킨 4-머캡토페놀과 반응시켜 히드록시 치환을 포함한 페닐설파이드 중간체, 즉 화학식 3의 화합물을 얻는다. 반응액을 초산나트륨 수용액으로 중화시켜 안정적인 고체 중간체를 얻을 수 있다.

본 발명의 한 실시예에서, 첫번째 단계에서, 페닐보론산을 가하여 호모티로신 히드로브로마이드(homotyrosine hydrobromide) 조각 중의 인접된 한쌍의 수산기를 보호하여 페닐보론산에스테르 중간체 6을 얻으며, 불순물 디페닐설파이드 화합물 7의 형성을 현저히 감소시킨다. 반응온도도 낮출 수 있다. 또한, 페닐보론산으로 인접한 히드록시를 보호하는 경우, 트리플루오로메탄술폰산과 같은 더 강한 산을 촉매로 사용할 수 있다.

상기 단계에서, 화학식 5의 화합물의 양이 최종산물의 양을 결정한다. 3 내지 5당량일 경우 생산량의 제일 높다.

본 발명의 한 바람직한 실시예에서, 첫단계 반응에서 사용한4-머캡토페놀의 양은 3 내지 5당량이며, 더 쉽게 황화물을 생성할 수 있는 바람직한 조건은 -15→인 경우, 3당량의 4-머캡토페놀, 2당량의 페닐보론산, 3당량의 트리플루오로메탄술폰산을 아세토니트릴에 용해시키는 것이며, 얻은 고체 생성물은 80 내지 95%이다.

본 발명의 한 실시예에서, 두번째 단계는, 화학식 3의 화합물을 극성용매에서 에틸렌디아민과 반응시켜 화학식 4의 화합물을 얻는 것이다.

바람직하게, 반응은 0℃ 내지 40℃의 온도에서 약 0.5 내지 96시간을 진행한다. 더 바람직하게, 반응은 실온에서 24 내지 72시간을 진행한다.

바람직하게, 상기 극성 용매는 메탄올, 에탄올, 테트라히드로푸란, 2-메틸 테트라히드로푸란, 이소프로판올, 트리프루오로에탄올, 아세토니트릴 또는 디클로로메탄에서 선택되며, 바람직하게는 메탄올과 에탄올이다.

본 발명에 기재된 실시예에서, 두번째 단계의 반응이 끝난 후, 초산으로 pH를 4 내지 6으로 조절하고, 물로 희석한 후 컬럼 크로마토그래피로 정제하며, 농축건조 또는 결정을 통해 건조한 고체 중간체(즉, 화학식 4의 화합물)를 얻는다.

반응이 결속(completed)된 후, 초산으로 pH를 4 내지 6로 조절하고, 물로 희석한 후 컬럼 크로마토그래피로 정제하고, 농축건조 또는 결정을 통해 건조한 고체 중간체(즉, 화학식 4의 화합물)를 얻는다. 본 발명의 바람직한 실시예에서, 상기 컬럼 크로마토그래피 정제는 역상 컬러메 유기용매 수용액으로 용리하는 것이며, 상기 유기용매는 메탄올, 아세토니트릴, 에탄올, 이소프로판올 등에서 선택되며, 바람직하게는 아세토니트릴이다.

아미드(화학식 4의 화합물)을 아민으로 환원시키는 단계에서, 상기 환원용제는 보란 복합체, 혹은 THF 또는 기타 적당한 용제에 용해시킨 금속붕화물, 티타늄 또는 지르코눔의 붕화물, 또는 보란과 암모니아, 디메틸아민, 피리딘 또는 피페라진 배위화합물에서 선택하여 진행한다. 바람직하게, 환원제인 보란 복합체는 보란과 테트라히드로푸란, 디메틸 설파이드, 디페닐 설파이드, 디벤질 설파이드, 디옥산(dioxane), 1,4-옥사티앤(oxathiane)의 복합체, 또는 BH2Cl와 디메틸 설파이드의 복합체에서 선택되며, 바람직하게는 보란과 테트라히드로푸란, 또는 보란과 디메틸 설파이드의 복합체이다. 상기 데트라히드로푸란 또는 기타 적당한 용제에 용해된 금속 붕화물은 ZrCl4/NaBH4 또는 TiCl4/NaBH4의 복합체에서 선택된다. 이러한 환원제에 의해 아민으로 환원되지 않은 원료는 역상 크로마코그래피로 분리할 수 있다.

본 발명의 바람직한 실시예에서, 우선, 호모티로신 히드로브로마이드(homotyrosine hydrobromide) 조각 중의 인접된 한쌍의 수산기를 보호하는 동시에, N,0-비스(트리메틸실릴)트리플루오르아세트아미드(BSTFA)로 기타 히드록실기와 아미노기를 보호하여 균상의 반응액을 얻는다. 이로써 반응 수율을 현저히 제고할 수 있다. 바람직한 조건은 화합물 4를 테트라히드로푸란 용액중에, 10 내지 68℃에서 화합물 4와 1.1 내지 3.0당량의 페닐보론산과 반응시키며, 다시 3 내지 9 당량의 BSTFA을 가하고, 0 내지 68℃에서 반응시켜 균상의 반응액을 얻으며, 다시 보란을 가하고 -30 내지 30℃에서 반응시켜 화학식 1의 화합물을 얻는다. 이어서, 염산을 이용하여 반응을 결속(quenched)시킨 후, 컬럼 크로마토그래피 및 결정을 통해 화합물 1의 정제품을 얻는다.

본 발명에 기재된 상기 특징 또는 실시예에 기재된 특징은 임의로 조합할 수 있다. 본 명세서에 기재된 모든 특징은 임의의 조합 형식으로 사용할 수 있으며, 명세서에 기재된 각 특징은 상동하거나 균등하거나 또는 유사한 목적을 제공할 수 있는 교체성 특징으로 교체될 수 있다. 특별한 설명이 없는 경우, 기재된 특징은 균등하거나 유사한 특징의 일반적인 예이다.

본 발명의 장점은 하기와 같다.

1.본 발명에서는 새로운 카스퍼폰진의 제조방법을 제공한다.

2.경로가 짧고, 반응조건이 온화하며, 후속 처리가 간단하고, 수율이 기존기술에 비해 현저히 높으며, 악취가 나는 극심한 독성을 가진 시제인 티오페놀을 사용하지 않으며, 환경오염과 조작인원에 대한 손상을 양호하게 면한 등 특점을 가지고 있으며, 제조작업의 난이도 및 설비에 대한 요구를 대폭 감소시켰으며, 생산원가를 현저히 감소시켰다.

3.본 발명에서 제공하는 상기 새로운 카스퍼폰진 유사물의 제조방법은 발효를 거쳐 얻은 화학식 2의 화합물을 기초원료로 사용하여, 제조과정의 합성단계를 통해 안정한 중간체를 얻으며, 중간체와 최종제품의 품질 제어에 유리하여 산업화 생산에 유리하다.

아래에 구체적인 실시예를 통해 본 발명을 더 상세히 설명한다. 이러한 실시예는 본 발명을 설명하기 위한 것일 뿐 본 발명을 한정하지는 않는다. 실시예에 표기되지 않은 구체적인 실험조건은 통상의 실험조건 또는 제조상에서 제공한 조건에 따라 실시한다. 특별한 설명이 없는 경우, 백분비, 비율, 비례, 또는 분수는 중량으로 계산한다.

본 발명에서, 중량체적 백분비의 단위는 본 분야의 당업자가 숙지하고 있는 것이며, 예하면, 100ml의 용액중의 용질의 중량이다.

특별한 정의가 없는 경우, 본 명세서에 기재된 전문용어 및 과학용어는 본 분야의 당업자가 숙지하고 있는 의미와 동일하다. 그외, 기재된 내용과 비슷하거나 균등한 방법 및 재료는 모두 본 발명에서 사용할 수 있다. 본 명세서에 기재된 비교적 바람직한 실시방법과 재료는 예시에 불과하다.

실시예1

화학식 2의 화합물로 화학식 3a의 화합물 제조

질소 기체 보호하에서, 아세토니트릴(150ml), 화학식 2의 화합물(5.0g), 페닐보론산(0.60g)과 4-머캡토페놀(1.81g)을 균일하게 교반하고, 온도를 -20 내지 -15℃까지 낮추어, 트리플루오로메탄술폰산(1.25ml)을 적가한 후, -20 내지 -15℃에서 2.5시간 정도 반응시켰다. TLC로 반응이 완전히 끝났음을 확인하고 반응을 결속(quenched)시켰다. NaOAc수용액(1.15g NaOAc을 25ml물에 용해)을 천천히 가한 후, 온도를 20℃까지 올려 2시간 반응시켰다. 대량의 고체가 석출되면, 온도를 다시 0℃이하로 낮추고, 여과시키며, 여과 케이크를 아세토니트릴/물=9：1(V/V)60ml로 세척하며 3차 세척 후, 5시간 진공건시켜 시료 화학식 3a의 화합물(4.76 g, 수율95.2％)을 얻었다.(주：수율은 모두 질량 수율이다).

실시예2

화학식 3a의 화합물로 화학식 4의 화합물 제조

질소기체 보호하에, 화학식 3a의 화합물(2.0g)을 메탄올(8.5ml)에 용해시킨 후, -20 내지 -15℃도 냉각시키고, 에틸렌디아민(8.5ml)을 적가하였다. 적가가 끝난 후 온도를 30 내지 35℃로 올려 48시간 반응시켰으며, HPLC 모니터링 결과 반응 전화율이 99％였다. 여기에 아세트산무수물(16.6ml)의 수(36.3ml)용액을 적가한 후, 물로 1배 희석시켜 제조컬럼에 주입하였다. 22％의 아세토니트릴/물(0.15％의 아세트산)으로 용리한 후, 생성물을 포함한 수집액을 합병시켜 물로 1배 희석하였으며, 다시 제조컬럼에 주입시키고, 90％의 아세토니트릴/물(0.15％의 아세트산)로 용리시키고, 생성물의 증류분을 수집하여 감압하에 건조 할때까지 농축시켜 화학식 4의 화합물(1.90g)을 얻었으며, HPLC 순도는 95.0％이며, 백색고체이다. 메탄올(8ml)을 넣고 용액을 교반하며 실온에서 초산에테르(24ml)를 적가한 후, 실온에서2시간 교반하고 온도를 낮추고 여과시켜 화학식 4의 화합물(1.84g, 수율92％)을 얻었다.

실시예3

화학식 4의 화합물로 화학식 1의 화합물 제조

질소기체 보호하에, 화학식 4의 화합물(1.0g), 페닐보론산(0.14g), 테트라히드로푸란(40ml)을 30분간 가열환류시킨 후, 실온까지 냉각시켜 BSTFA(1.06ml)를 가하였다. 실온에서 1시간 교반하고 -10 내지 -5℃까지 냉각시키고 , 보란-메틸설파이드 복합체(Borane-methyl sulfide complex)(0.4ml, 0.94%)를 적가하였으며, 적가가 끝난 후, 10 내지 15℃까지 온도를 올려 3.5시간 반응시켰다. HPLC 모니터링 결과 전화율이 82%였다. 이어서, 2N 염산(2.4ml)을 적가하고, 물(80ml)을 넣은 후, 실온에서 24시간 교반하였으며, 물로 희석한 후 제조컬럼에 주입하였다. 22％의 아세토니트릴/물(0.15％의 아세트산)로 용리시켰으며 생성물을 포함한 수집액을 합병하고 물로 1배 희석시킨 후, 다시 제조컬럼에 주입시키고 90％의 아세토니트릴/물(0.15％의 아세트산)로 용리한 후 생성물의 증류분을 수집하고 동결건조시켜 조제품 카스포펀진의 디아세트산염(0.80g, 80％)을 얻었으며, HPLC순도는 98.0％이고, 백색의 고체이다. 다시 에탄올(6ml), 6％의 초산 수용액(0.6ml)에 용해시킨 후, 초산에테르(10.5ml)를 적가하고, 10℃에서 1시간 동안 교반하고 여과, 및 건조를 통해 카스퍼폰진 디아세트산염(화학식 1의 화합물)(0.75g, 수율 75％)을 얻었다.

MS(ESI) :1093.6(M+H⁺);

¹H-NMR (500.13 MHz, CD₃OD) δ 7.12 (m, 2H), 6.75 (m, 2H), 4.97 (d, 1H), 4.91 (d, 1H), 4.66 (d, 1H), 4.60(dd, 3.2, 1H), 4.56-4.51 (m, 2H), 4.48 (dd, 1H), 4.32-4.28 (m, 3H) 4.22 (dd, 1H), 4.18 (d, 1H), 4.08-3.96 (m, 3H), 3.83 (m, 1H), 3.76 (d, 1H), 3.05 (t, 2H), 3.02-2.76 (m, 4H), 2.41 (dd, 1H), 2.29-2.17 (m, 3H) 2.11-1.78 (m, 5H), 1.90(s, 6H), 1.58 (m, 2H), 1.53-1.19 (m, 15H), 1.16 (d,3H), 1.13-1.00 (m, 2H), 0.91 (m, 1H), 0.87 (t, 3H),0.85 (degenerate d, 6H);

¹³C-NMR (125 MHz, CD₃OD) 180.7, 176.7, 174.6, 171.1, 174.0, 173.3, 173.2, 169.4, 159.1, 116.7, 77.8, 76.1, 75.5, 72.5, 71.8, 70.6, 69.8, 64.8, 63.3, 58.9, 58.8, 57.6, 56.7, 56.5, 51.6, 47.5, 46.4, 44.5, 40.9, 39.5, 38.8, 38.5, 37.4, 36.2, 35.1, 33.4, 31.7, 31.6, 31.4, 31.3, 31.1, 30.84, 30.81, 28.5, 27.5, 24.8.

실시예4

화학식 2의 화합물로 화학식 3b의 화합물 제조

질소기체 보호하에, 아세토니트릴(100ml), 화학식 2의 화합물(5.0g), 페닐보론산(0.90g)과 3-머캡토페놀(1.80g)을 균일하게 교반하고 온도를 -50℃이하로 낮추어 트리플루오로아세트산(1.05ml)을 적가하였으며 적가가 끝난 후, -50 내지 -45℃에서 2.5시간 정도 반응시켰다. TLC모니터링으로 반응이 끝남을 확인한 후 반응을 정지시키고 NaOAc 수용액(1.15g NaOAc를 25ml의 물에 용해)을 천천히 가한 후, 온도를 20℃까지 올려 2시간 동안 교반하였다. 대량의 고체가 석출하였으며 다시 온도를 0℃이하로 낮추고 여과시키고, 여과 케이크를 아세토니트릴/물=9：1(V/V)60ml로 3차 세척한 후, 5시간 동안 진공건조시켜 시료인 화학식 3b의 화합물(4.65g, 수율 93％)을 얻었다.

실시예5

화학식 3b의 화합물로 화학식 4의 화합물 제조

질소기체 보호하에서, 화학식 3b의 화합물(2.0g)을 테트라히드로푸란(12ml)에 용해시킨 후, 0 내지 5℃로 낮추어, 에틸렌디아민(8.5ml)을 적가하였으며, 적가 후 실온까지 올려 24시간 반응시켰다. HPLC 모니터링으로 반응 전화율이 99％임을 확인하였다. 이를 아세트산무수물(16.6ml)의 물(36.3ml)에 적가한 후, 다시 물로 1배 희석하여 제조컬럼에 주입하였으며, 22％의 아세토니트릴/물(0.15％의 아세트산)으로 용리하고 생성물을 함유한 수집액을 합병하여 다시 물로 1배 희석한 후, 다시 제조컬럼에 주입하였다. 90％의 아세토니트릴/물(0.15％의 아세트산)으로 용리하여 제품의 증류분을 수집하였으며, 이를 마를때까지 건조농축시켜 시료 화학식 4의 화합물(1.86g)을 얻었으며, HPLC 순도가 95.0％이며 백색고체였다. 메탄올(8ml)을 넣고 용액을 교반하고 실온에서 초산에테르(24ml)을 적가하고 실온에서 2시간 교반한 후, 온도를 낮추고 여과시켜 화학식 4의 화합물(1.80g, 수율 90％)을 얻었다.

실시예6

화학식 4의 화합물로 화학식 1의 화합물 제조

질소기체 보호하에, 화학식 4의 화합물(1.0g), 페닐 보론산(0.36g), 테트라히드로푸란(40ml)을 30분간 가열환류시킨 후, 실온까지 냉각시켰으며, BSTFA(2.0ml)을 가하고 실온에서 1시간 교반하였다. 온도를 -20 내지 -15℃로 조절하고, 보란-테트라히드로푸란 복합체의 테트라히드로푸란 용액 (6.8ml, 1M)을 적가하고 적가가 끝난 후, -20 내지 -15℃에서 3.5시간을 반응시켰다. HPLC 모니터링 결과 전화율이 81%였다. 다음, 2N 염산(2.4ml)을 적가하고, 또 물(80ml)을 가하여, 실온에서 24시간 교반하였다. 물로 희석한 후 이를 제조컬럼에 주입하고, 22％의 아세토니트릴/물(0.15％의 아세트산)로 용리하여 생성물을 포함한 수집액을 수집하였으며, 이를 물로 1배 희석한 후 다시 제조컬럼에 주입시키고 90％의 아세토니트릴/물(0.15％의 아세트산)로 용리하여 생성물의 증류분을 수집하고 동결건조시켜 조제품인 카스퍼폰진 디아세트산염(0.77g, 77％)을 얻었으며, HPLC순도는 98.3％고, 백색고체였다. 이를 에탄올(6ml), 6％의 초산 수용액(0.6ml)에 용해시킨 후 초산 에테르(11ml)를 적가하고, 10℃에서 1시간을 교반시키고 여과하여 카스포펀진 디아세트산염(화학식 1의 화합물)(0.72g, 수율 72％)을 얻었다.

실시예7

화학식 2의 화합물로 화학식 3c의 화합물 제조

질소기체 보호하에서, 아세토니트릴(200ml), 화학식 2의 화합물(5.0g), 페닐 보론산(1.50g)과4-히드록시-3-메틸티오페놀(2.05g)을 균일하게 교반한 후, -50 내지 -45℃로 온도를 낮춰, 메탄술폰산(1.36g)을 천천히 적가하였으며, 적가가 끝난 후, 온도를 -50 내지 -45℃로 낮춰 2.5시간 정도 반응시켰다. TLC 모니터링으로 반응이 끝남을 확인 한 후, 반응을 결속(quenched)시키고 NaOAc 수용액(1.20g NaOAc을 20ml물에 용해)을 천천히 적가하였으며, 적가가 끝난 후, 온도를 20℃까지 올려 2시간 동안 교반하였다. 대량의 고체가 석출된 후 다시 온도를 0℃이하로 낮추고 여과시킨 후, 여과 케이크를 아세토니트릴/물=9：1(V/V)50ml로 3차 세척하고 5시간 동안 진공건조시켜 시료인 화학식 3c의 화합물(4.60 g, 수율 92％)을 얻었다.

실시예8

화학식 3c의 화합물로 화학식 4의 화합물 제조

질소기체 보호하에서, 화학식 3c의 화합물(2.0g)을 에탄올(10ml)에 용해시키고 35 내지 40℃에서 에틸렌디아민(10ml)을 적가하였으며, 적가가 끝난 후, 35 내지 40℃에서 2시간을 반응시키고 HPLC 모니터링으로 반응 전화율이 98％임을 확인하였다. 이를 아세트산 무수물(16.6ml)의 물(36.3ml)용액에 적가 한 후, 물로 1배 희석시켜 제조컬럼에 주입하였다. 22％의 아세토니트릴/물(0.15％의 아세트산)으로 용리하여 생성물을 포함한 수집액을 합병한 후, 다시 물로 1배 희석하여 제조컬럼에 주입하였다. 90％의 아세토니트릴/물(0.15％의 아세트산)로 용리하여 생성물의 증류분을 수집하고 마를때까지 감압농축시켜, 시료 화학식 4의 화합물(1.88g)을 얻었으며, HPLC 순도는 96.0％이고, 백색고체였다. 메탄올(8ml)을 가하고, 교반 용해시켰으며, 실온에서 초산에테르(24ml)를 적가하고, 실온에서 2시간 교반하고 온도를 낮춰 여과하고 건조시켜 화학식 4의 화합물(1.82g, 수율91％)을 얻었다.

실시예9

화학식 4의 화합물로 화학식 1의 화합물 제조

질소기체 보호하에, 화학식 4의 화합물(1.0g), 페닐 보론산(0.24g), 테트라히드로푸란(40ml)을 30분 동안 가열환류시킨 후, 실온까지 냉각시키고 BSTFA(2.4ml)을 가하고 실온에서 1시간 교반시켰으며, 다시 온도를 15 내지 20℃로 맞추고, 보란-메틸설파이드 복합체(0.8ml, 0.94%)를 적가하였으며, 적가가 끝난 후, 15 내지 20℃에서 3.5시간 반응시켰다. HPLC 모니터링을 통해 전화율이 85%임을 확인하였다. 이어서, 2N염산(2.4ml)을 적가하고, 물(100ml)를 가한 후, 실온에서 24시간 교반하였다. 물로 희석하여 제조컬럼에 주입한 후, 22％의 아세토니트릴/물(0.15％의 아세트산)로 용리하고 생성물을 함유한 수집액을 합병하고 물로 1배 희석시킨 후, 다시 제조컬럼에 주입하고 90％의 아세토니트릴/물(0.15％의 아세트산)로 용리하고 생성물의 증류분을 수집하고 동결건조시켜 조제품 카스포펀진 디아세트산염(0.82g, 82％)을 얻었으며, HPLC 순도는 98.3％이고, 백색고체였다. 다시, 에탄올(6ml)、6％의 초산 수용액(0.6ml)에 용해시킨 후, 초산에테르(11ml)를 적가하고, 10℃에서 1시간 동안 교반하였다. 여과, 건조시켜 카스포펀진 디아세트산염(화학식 1의 화합물)(0.79g, 수율 79％)을 얻었다.

상기 기재는 본 발명의 비교적 바람직한 실시예일 뿐이며, 본 발명의 실질적인 기술 내용의 범위를 한정하는 것은 아니다. 본 발명의 실질적 기술 내용은 광의적으로 본 발명의 특허청구의 범위에 기재되어 있으며, 임의의 타인에 의해 완성된 기술 실체 또는 방법이 본 발명의 특허청구의 범위에서 정의한 내용과 완전히 같거나 또는 등가의 변경일 경우, 모두 본 발명의 특허청구의 범위에 포함된다.

Claims

(a) 화학식 2로 표시된 화합물과 강한 탈리기 화합물 5를 혼합하여 화학식 3으로 표시된 화합물을 얻는 단계;
(b) 화학식 3으로 표시된 화합물과 에틸렌디아민을 혼합하여 화학식 4로 표시된 화합물을 얻는 단계; 및
(c) 화학식 4로 표시된 화합물과 히드록시 보호제를 혼합한 후, 보란(borane) 복합체와 혼합하여 화학식 1로 표시된 화합물을 얻는 단계를 포함하고:

상기 단계(a)에서, 상기 강한 탈리기 화합물 5는 메르캅토기(mercapto group) 치환된 방향족환 화합물 5이며, 그중, R₁는 히드록시, 벤질옥시, 페녹시, 치환된 페녹시, 또는 치환된 벤질옥시에서 선택되며, R₂, R₃, R₄, R₅는 수소, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, 히드록시, 또는 벤질옥시페닐기, 치환된 벤질옥시페닐기, 니트로기, 불소, 염소, 브롬, 요오드에서 선택되는 것을 특징으로 하는 화학식 1로 표시된 화합물의 제조방법.
삭제
제1항에 있어서, 상기 메르캅토기 치환된 방향족환 화합물 5에서, R₁은 히드록시, 벤질옥시, 페녹시, 또는 치환된 페녹시에서 선택되며, R₂, R₃, R₄, R₅는 수소, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 히드록시, 브롬, 니트로기에서 선택되는 것을 특징으로 하는 제조방법.
제3항에 있어서, 상기 메르캅토기 치환된 방향족환 화합물 5에서, R₁는 히드록실기에서 선택되며, R₂, R₃, R₄, R₅는 수소, 메틸기, 히드록실기에서 선택되는 것을 특징으로 하는 제조방법.
제4항에 있어서, 상기 화합물 5는 4-머캡토페놀(4-mercaptophenol), 3-머캡토페놀, 또는 4-히드록시-3-메틸티오페놀에서 선택되는 것을 특징으로 하는 제조방법.
제5항에 있어서, 상기 메르캅토기 치환된 방향족환 화합물 5가 4-머캡토페놀에서 선택되는 것을 특징으로 하는 제조방법.
제1항에 있어서, 상기 방법의 단계(a)에서, 화학식 2로 표시된 화합물과 산에 용해시킨 강한 탈리기 화합물을 혼합하며, 상기 산은 트리플루오로아세트산, 트리플루오로메탄술폰산, 캄포설폰산(Camphorsulfonic acid), 메틸술폰산(Methylsulphonic acid) 또는 p-톨루엔설폰산(p-Toluenesulfonic acid)에서 선택되는 것을 특징으로 하는 제조방법.
제1항에 있어서, 상기 단계(a)에서, 혼합온도는 -50℃ 내지 40℃인 것을 특징으로 하는 제조방법.
제1항에 있어서, 상기 단계(b)에서, 상기 화학식 3으로 표시된 화합물과 메탄올, 에탄올, 테트라히드로푸란, 2-메틸 테트라히드로푸란, 이소프로판올, 트리프루오로에탄올, 아세토니트릴 또는 디클로로메탄에서 선택된 용매에 용해시킨 에틸렌디아민을 혼합하는 것을 특징으로 하는 제조방법.
제1항에 있어서, 상기 단계(b)에서, 혼합온도는 0℃ 내지 40℃인 것을 특징으로 하는 제조방법.
제1항에 있어서, 상기 단계(c)에서, 상기 히드록시 보호제는 붕산계 보호제, 또는 실란(silane)시약에서 선택되는 것을 특징으로 하는 제조방법.
제1항에 있어서, 상기 단계(c)에서, 상기 보란 복합체는 보란과 테트라히드로푸란, 보란과 디메틸 설파이드, 보란과 디페닐 설파이드, 보란과 디벤질 설파이드, 보란과 디옥산(dioxane), 보란과 1,4-옥사티앤(oxathiane)의 복합체 또는 BH₂Cl와 디메틸 설파이드의 복합체에서 선택되는 것을 특징으로 하는 제조방법.
제1항에 있어서, 상기 단계(c)에서, 혼합온도는 -20℃ 내지 20℃인 것을 특징으로 하는 제조방법.
제8항에 있어서, 상기 단계(a)에서, 혼합온도는 -20 내지 -15℃인 것을 특징으로 하는 제조방법.
제10항에 있어서, 상기 단계(b)에서, 혼합온도는 25 내지 35℃인 것을 특징으로 하는 제조방법.
제12항에 있어서, 상기 단계(c)에서, 상기 보란 복합체는 보란과 테트라히드로푸란, 또는 보란과 디메틸 설파이드의 복합체인 것을 특징으로 하는 제조방법.
제13항에 있어서, 상기 단계(c)에서, 혼합온도는 0℃ 내지 10℃인 것을 특징으로 하는 제조방법.