KR101548014B1 - Capacitive touch sensing structure, process of producing the same and touch sensing device using the same - Google Patents

Capacitive touch sensing structure, process of producing the same and touch sensing device using the same Download PDF

Info

Publication number
KR101548014B1
KR101548014B1 KR1020127029258A KR20127029258A KR101548014B1 KR 101548014 B1 KR101548014 B1 KR 101548014B1 KR 1020127029258 A KR1020127029258 A KR 1020127029258A KR 20127029258 A KR20127029258 A KR 20127029258A KR 101548014 B1 KR101548014 B1 KR 101548014B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
electrode
touch sensing
sensing structure
insulator
capacitive touch
Prior art date
Application number
KR1020127029258A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20130029388A (en
Inventor
첸-유 리우
루-싱 리
Original Assignee
티피케이 터치 솔루션스 인코포레이션
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 티피케이 터치 솔루션스 인코포레이션 filed Critical 티피케이 터치 솔루션스 인코포레이션
Publication of KR20130029388A publication Critical patent/KR20130029388A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101548014B1 publication Critical patent/KR101548014B1/en

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • G06F3/0443Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means using a single layer of sensing electrodes
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • G06F3/0446Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means using a grid-like structure of electrodes in at least two directions, e.g. using row and column electrodes
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F2203/00Indexing scheme relating to G06F3/00 - G06F3/048
    • G06F2203/041Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
    • G06F2203/04103Manufacturing, i.e. details related to manufacturing processes specially suited for touch sensitive devices
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F2203/00Indexing scheme relating to G06F3/00 - G06F3/048
    • G06F2203/041Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
    • G06F2203/04111Cross over in capacitive digitiser, i.e. details of structures for connecting electrodes of the sensing pattern where the connections cross each other, e.g. bridge structures comprising an insulating layer, or vias through substrate

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Human Computer Interaction (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Position Input By Displaying (AREA)
  • Switches That Are Operated By Magnetic Or Electric Fields (AREA)

Abstract

본 발명은 정전용량 방식의 터치 감지 구조에 관한 것이다. 상기 정전용량 방식의 터치 감지 구조는 기판, 적어도 하나의 제1 방향의 전극, 적어도 하나의 절연체, 적어도 하나의 제2 방향의 전극, 및 적어도 하나의 보호 블록을 포함한다. 상기 제1 방향의 전극은 상기 기판상에 중첩되어 있다. 상기 절연체는 상기 제1 방향의 전극 상에 중첩되어 있다. 상기 제2 방향의 전극은 상기 제1 방향의 전극의 반대편에 있는 상기 절연체 상에 중첩되어 있으며 상기 제1 방향의 전극을 교차하여 적어도 하나의 교차 위치를 형성한다. 상기 보호 블록은 상기 제2 방향의 전극 상에 배치되어 있으며 상기 교차 위치를 도포한다.The present invention relates to a capacitive touch sensing structure. The capacitive touch sensing structure includes a substrate, at least one electrode in the first direction, at least one insulator, at least one electrode in the second direction, and at least one protection block. The electrodes in the first direction are superimposed on the substrate. The insulator is superimposed on the electrode in the first direction. The electrodes in the second direction are superimposed on the insulator opposite the electrodes in the first direction and form at least one intersection with the electrodes in the first direction. The protection block is disposed on the electrode in the second direction and applies the crossing position.

Description

정전용량 방식의 터치 감지 구조, 정전용량 방식의 터치 감지 구조를 제조하는 방법 및 정전용량 방식의 터치 감지 구조를 이용한 터치 감지 장치{Capacitive touch sensing structure, process of producing the same and touch sensing device using the same}Technical Field [0001] The present invention relates to a capacitive touch sensing structure, a capacitive touch sensing structure, and a capacitive touch sensing structure using the capacitive touch sensing structure. }

본 발명은 일반적으로는 정보 입력 시스템들을 위한 터치 감지 장치들에 관한 것이며 좀더 구체적으로 기술하면 상기 터치 감지 장치의 터치 감지 구조 및 상기 터치 감지 구조를 제조하는 방법에 관한 것이다.The present invention generally relates to touch sensing devices for information input systems, and more particularly, to a touch sensing structure of the touch sensing device and a method of manufacturing the touch sensing structure.

전자 시스템들을 제어하기 위해 손가락들, 스타일러스 따위로 터치하는 방식의 기법들은 일상 생활 및 업무에 널리 사용되고 있다. 일반적으로, 상기 전자 시스템들은 터치 감지 장치들(예를 들면, 터치패드, 터치 패널, 터치 스크린)을 사용하여 터치 행위를 검출함으로써 상기 터치 행위에 따른 동작을 위한 전기 신호를 생성한다.Techniques such as touching with fingers, stylus to control electronic systems are widely used in everyday life and work. Generally, the electronic systems generate electrical signals for operation in accordance with the touching behavior by detecting touching actions using touch sensing devices (e.g., a touch pad, touch panel, touch screen).

동작 원리들에 의하면, 정전용량 방식의 감지 타입, 저항 방식의 감지 타입, 광학 방식의 감지 타입, 전자기 방식의 감지 타입, 음향 방식의 감지 타입 등과 같은 여러 타입의 터치 감지 방법이 존재한다. 정전용량 방식의 터치 감지 장치는 다른 것들보다 좀더 널리 사용되고 있다. 상기 정전용량 방식의 터치 감지 장치는 터치 감지 구조, 몇몇 와이어들, 및 마이크로프로세서를 포함한다. 상기 터치 감지 구조는 상기 와이어들에 의해 상기 마이크로프로세서와 접속한다. 사용자가 손가락들 또는 도전성 스타일러스와 같은 도전성 물체들을 가지고 상기 정전용량 방식의 터치 감지 장치의 표면을 터치하여 전압 변화를 일으키면, 상기 마이크로프로세서는 전압 변화에 따라 터치되고 있는 위치를 검출한다.There are several types of touch sensing methods, such as capacitive sensing, resistive sensing, optical sensing, electromagnetic sensing, acoustic sensing, etc., according to operating principles. Capacitive touch sensing devices are more widely used than others. The capacitive touch sensing device includes a touch sensing structure, several wires, and a microprocessor. The touch sensitive structure is connected to the microprocessor by the wires. When the user touches the surface of the electrostatic capacity type touch sensing device with conductive objects such as fingers or conductive stylus to cause a voltage change, the microprocessor detects the touch position according to the voltage change.

서로 다른 타입들의 전자 시스템들에 적합하도록 하기 위해, 여러 타입의 정전용량 방식의 터치 감지 구조가 제공되며, 그들 중 하나는 투영법에 의한 정전용량 방식의 터치 감지 구조이다. 도 1 및 도 2를 참조하면, 투영법에 의한 정전용량 방식의 터치 감지 구조(1)는 격자-같은 구조이며, 기판(6), 제1 방향의 전극(2), 제2 방향의 전극(3), 절연체(4) 및 보호 층(5)을 포함한다. 상기 제1 방향의 전극(2) 및 상기 제2 방향의 전극(3)은 상기 기판(6) 상에 직교 형태로 배치되어 있으며, 상기 절연체(4)에 의해 절연되어 있다. 상기 보호 층(5)은 상기 제1 방향의 전극(2) 및 상기 제2 방향의 전극(3)을 보호하도록 상기 제2 방향의 전극(3) 상에 배치된다. 그 외에도, 마이크로프로세서(도 1 및 도 2에는 도시되지 않음)는 상기 제1 방향의 전극(2) 및 상기 제2 방향의 전극(3)에 대응하여 접속된다. 상기 투영법에 의한 정전용량 방식의 터치 감지 구조(1)가 터치되는 경우에, 상기 제1 방향의 전극(2) 및 상기 제2 방향의 전극(3)은 터치 신호들을 생성한다. 상기 터치 신호들은 와이어들에 의해 상기 마이크로프로세서에 전송되며, 상기 마이크로프로세서는 상기 터치 신호들에 따라 터치되고 있는 위치를 결정한다.To accommodate different types of electronic systems, several types of capacitive touch sensing structures are provided, one of which is a capacitive touch sensing structure by projection. Referring to FIGS. 1 and 2, a touch sensing structure 1 according to the projection method of the capacitance type has a lattice-like structure and includes a substrate 6, electrodes 2 in a first direction, electrodes 3 in a second direction ), An insulator (4), and a protective layer (5). The electrodes 2 in the first direction and the electrodes 3 in the second direction are arranged orthogonally on the substrate 6 and are insulated by the insulator 4. The protective layer 5 is disposed on the electrode 3 in the second direction so as to protect the electrode 2 in the first direction and the electrode 3 in the second direction. In addition, a microprocessor (not shown in Figs. 1 and 2) is connected corresponding to the electrode 2 in the first direction and the electrode 3 in the second direction. When the touch sensing structure 1 according to the projection method is touched, the electrode 2 in the first direction and the electrode 3 in the second direction generate touch signals. The touch signals are transmitted to the microprocessor by wires, and the microprocessor determines a position being touched according to the touch signals.

그러나, 상기 종래의 투영법에 의한 정전용량 방식의 터치 감지 구조의 보호 층은 연속적인 평면적 구조이지만, 보호되어야 할 부분들은 단지 상기 제1 방향의 전극(2) 및 상기 제2 방향의 전극(3)의 교차 위치뿐이다. 그러므로, 상기 보호 층(5)의 이용율(utilization rate)이 너무 낮다. 그 외에도, 상기 투영법에 의한 정전용량 방식의 터치 감지 구조가 (터치 스크린과 같은) 모니터 내에 조립되는 경우에, 상기 투영법에 의한 정전용량 방식의 터치 감지 구조의 모든 부분들이 가시성(visibility) 및 운영성(operability)을 보장하기 위해 투명하다. 상기 종래의 투영법에 의한 정전용량 방식의 터치 감지 구조가 다층 구조이며 전극들이 시각 영역에 걸쳐 있기 때문에, 각 층 재료의 상이한 굴절율의 영향으로, 상기 투영법에 의한 정전용량 방식의 터치 감지 구조의 광 투과율은 제약을 받아 왔다. 그러므로, 상기 투영법에 의한 정전용량 방식의 터치 감지 구조를 결합하는 모니터의 가시성이 떨어지게 된다.However, the protection layer of the capacitive touch sensing structure according to the conventional projection method is a continuous plane structure, but the portions to be protected are only the electrodes 2 in the first direction and the electrodes 3 in the second direction, . Therefore, the utilization rate of the protective layer 5 is too low. In addition, when the electrostatic capacitive touch sensing structure according to the projection method is assembled in a monitor (such as a touch screen), all parts of the electrostatic capacitive touch sensing structure by the projection method have visibility and operability which is transparent to ensure operability. Since the touch sensing structure of the capacitance type according to the conventional projection method has a multilayer structure and the electrodes extend over the visual region, the light transmittance of the capacitive touch sensing structure by the projection method due to the different refractive index of each layer material Has been constrained. Therefore, the visibility of the monitor incorporating the touch sensing structure of the capacitance type by the projection method is lowered.

본 발명이 해결하려는 과제는 보호 층의 재료를 절감할 수 있는 정전용량 방식의 터치 감지 구조, 상기 정전용량 방식의 터치 감지 구조를 제조하는 방법, 및 상기 정전용량 방식의 터치 감지 구조를 이용한 터치 감지 장치들을 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a touch sensing structure of a capacitive type which can reduce the material of a protective layer, a method of manufacturing the capacitive touch sensing structure, Devices.

본 발명의 한 실시예에 의하면, 보호 층의 재료를 절감할 수 있는 정전용량 방식의 터치 감지 구조, 상기 정전용량 방식의 터치 감지 구조를 제조하는 방법 및 상기 정전용량 방식의 터치 감지 구조를 이용한 터치 감지 장치들이 제공된다.According to an embodiment of the present invention, there is provided a touch sensing structure of a capacitive type, a method of manufacturing the touch sensing structure of the capacitive type, and a touch using a touch sensing structure of the capacitive type, Sensing devices are provided.

한 실시태양에서는, 정전용량 방식의 터치 감지 구조가 기판, 적어도 하나의 제1 방향의 전극, 적어도 하나의 절연체, 적어도 하나의 제2 방향의 전극, 및 적어도 하나의 보호 블록을 포함한다. 상기 제1 방향의 전극은 상기 기판상에 중첩된다. 상기 절연체는 상기 제1 방향의 전극 상에 중첩된다. 상기 제2 방향의 전극은 상기 제1 방향의 전극의 반대편에 있는 상기 절연체 상에 중첩되어 있으며 상기 제1 방향의 전극을 교차하여 적어도 하나의 교차 위치를 형성하게 된다. 상기 보호 블록은 상기 제2 방향의 전극 상에 배치되어 있으며 상기 교차 위치를 도포한다.In one embodiment, a capacitive touch sensing structure includes a substrate, at least one electrode in a first direction, at least one insulator, at least one electrode in a second direction, and at least one protection block. The electrodes in the first direction are superimposed on the substrate. The insulator is superimposed on the electrode in the first direction. The electrodes in the second direction are superimposed on the insulator opposite to the electrodes in the first direction and intersect the electrodes in the first direction to form at least one intersection position. The protection block is disposed on the electrode in the second direction and applies the crossing position.

다른 한 실시태양에서는, 정전용량 방식의 터치 감지 구조를 제조하는 방법이, (a) 기판상에 적어도 하나의 제1 방향의 전극을 부착하는 단계; (b) 상기 제1 방향의 전극 상에 적어도 하나의 절연체를 부착하는 단계; (c) 상기 절연체 상에 적어도 하나의 제2 방향의 전극을 부착하고 상기 제1 방향의 전극과 교차하여 교차 위치를 형성하며, 그리고 상기 제1 방향의 전극 및 상기 제2 방향의 전극이 상기 절연체의 양측 표면상에 위치해 있게 하는 단계; (d) 상기 제2 방향의 전극 상에 적어도 하나의 보호 블록을 부착하는 단계로서, 상기 보호 블록은 상기 교차 위치를 도포하는 단계;를 포함한다.In another embodiment, a method of fabricating a capacitive touch-sensing structure includes the steps of: (a) attaching at least one electrode in a first direction on a substrate; (b) attaching at least one insulator on the electrode in the first direction; (c) attaching at least one electrode in a second direction on the insulator and intersecting the electrode in the first direction to form an intersecting position, and the electrode in the first direction and the electrode in the second direction are connected to the insulator On both sides of the surface; (d) attaching at least one protection block on the electrode in the second direction, wherein the protection block applies the intersection position.

또 다른 한 실시태양에서는, 정전용량 방식의 터치 감지 장치가, 적어도 하나의 와이어; 프로세서; 쉘(shell); 및 상기 쉘 내에 배치된 정전용량 방식의 터치 감지 구조;를 포함한다. 상기 정전용량 방식의 터치 감지 구조는 기판, 적어도 하나의 제1 방향의 전극, 적어도 하나의 절연체, 적어도 하나의 제2 방향의 전극, 및 적어도 하나의 보호 블록을 포함한다. 상기 제1 방향의 전극은 상기 기판상에 위치해 있다. 상기 절연체는 상기 제1 방향의 전극 상에 위치해 있다. 상기 제2 방향의 전극은 상기 제1 방향의 전극의 반대편에 있는 상기 절연체 상에 위치해 있으며 상기 제1 방향의 전극을 교차하여 적어도 하나의 교차 위치를 형성하게 된다. 상기 보호 블록은 상기 제2 방향의 전극 상에 배치되어 있으며 교차 위치를 도포한다. 상기 정전용량 방식의 터치 감지 구조의 제1 방향의 전극 및 제2 방향의 전극은 상기 와이어에 의해 상기 프로세서와 접속한다.In yet another embodiment, a capacitive touch sensing device comprises at least one wire; A processor; Shell; And a capacitive touch sensing structure disposed within the shell. The capacitive touch sensing structure includes a substrate, at least one electrode in the first direction, at least one insulator, at least one electrode in the second direction, and at least one protection block. The electrodes in the first direction are located on the substrate. The insulator is positioned on the electrode in the first direction. The electrodes in the second direction are located on the insulator opposite the electrodes in the first direction and intersect the electrodes in the first direction to form at least one intersection. The protection block is disposed on the electrode in the second direction and applies the crossing position. An electrode in a first direction and an electrode in a second direction of the capacitive touch sensing structure are connected to the processor by the wire.

본 발명에 의하면, 보호 층을 형성하기 위한 재료가 절감됨으로써, 제조 단가가 줄어들게 된다. 또한, 정전용량 방식의 터치 감지 구조가 투명한 경우에, 상기 정전용량 방식의 터치 감지 구조의 광 투과율이 개선된다. 상기 터치 감지 구조를 이용한 디스플레이 장치들의 디스플레이 효과도 또한 개선된다.According to the present invention, since the material for forming the protective layer is reduced, the manufacturing cost is reduced. Further, when the capacitive touch sensing structure is transparent, the light transmittance of the capacitive touch sensing structure is improved. The display effect of the display devices using the touch sensing structure is also improved.

도 1은 종래의 투영법에 의한 정전용량 방식의 터치 감지 구조의 평면도이다.
도 2는 라인 A-A를 따라 절취된 도 1에 도시된 종래의 투영법에 의한 정전용량 방식의 터치 감지 구조의 횡단면도이다.
도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 정전용량 방식의 터치 감지 구조의 평면도이다.
도 4는 라인 B-B를 따라 절취된 도 3에 도시된 정전용량 방식의 터치 감지 구조의 횡단면도이다.
도 5는 본 발명의 제2 실시예에 따른 정전용량 방식의 터치 감지 구조의 횡단면도이다.
도 6은 본 발명의 제3 실시예에 따른 정전용량 방식의 터치 감지 구조의 평면도이다.
도 7은 라인 C-C에 따라 절취된 도 6에 도시된 정전용량 방식의 터치 감지 구조의 횡단면도이다.
도 8은 본 발명의 제4 실시예에 따른 정전용량 방식의 터치 감지 구조의 평면도이다.
도 9는 라인 D-D에 따라 절취된 도 8에 도시된 정전용량 방식의 터치 감지 구조의 횡단면도이다.
도 10은 본 발명의 제5 실시예에 따른 정전용량 방식의 터치 감지 구조의 평면도이다.
도 11은 라인 E-E를 따라 절취된 도 10에 도시된 정전용량 방식의 터치 감지 구조의 횡단면도이다.
도 12a 내지 도 12d는 본 발명의 제1 실시예에 따른 정전용량 방식의 터치 감지 구조를 제조하는 방법의 플로차트이다.
도 13a 내지 도 13d는 본 발명의 제4 실시예에 따른 정전용량 방식의 터치 감지 구조를 제조하는 방법의 플로차트이다.
도 14a 내지 도 14d는 본 발명의 제4 실시예에 따른 정전용량 방식의 터치 감지 구조를 제조하는 다른 방법의 플로차트이다.
도 15는 본 발명의 정전용량 방식의 터치 감지 구조를 이용한 터치 감지 장치의 개략도이다.
도 16은 본 발명의 정전용량 방식의 터치 감지 구조를 이용한 터치 감지 장치의 다른 개략도이다.
도 17은 본 발명의 정전용량 방식의 터치 감지 구조를 이용한 터치 감지 장치의 또 다른 개략도이다.
1 is a plan view of a touch sensing structure of a capacitive type according to a conventional projection method.
FIG. 2 is a cross-sectional view of the touch sensing structure of the capacitive type according to the conventional projection method shown in FIG. 1 taken along line AA.
3 is a plan view of a touch sensing structure of a capacitance type according to a first embodiment of the present invention.
4 is a cross-sectional view of the capacitive touch sensing structure shown in FIG. 3 taken along line BB.
5 is a cross-sectional view of a touch sensing structure of a capacitance type according to a second embodiment of the present invention.
6 is a plan view of a capacitive touch sensing structure according to a third embodiment of the present invention.
7 is a cross-sectional view of the capacitive touch sensing structure shown in FIG. 6 taken along line CC.
8 is a plan view of a capacitive touch sensing structure according to a fourth embodiment of the present invention.
9 is a cross-sectional view of the capacitive touch sensing structure shown in FIG. 8 taken along line DD.
10 is a plan view of a capacitive touch sensing structure according to a fifth embodiment of the present invention.
Figure 11 is a cross-sectional view of the capacitive touch sensing structure shown in Figure 10 taken along line EE.
12A to 12D are flowcharts of a method of manufacturing a capacitive touch sensing structure according to a first embodiment of the present invention.
13A to 13D are flowcharts of a method of manufacturing a capacitive touch sensing structure according to a fourth embodiment of the present invention.
FIGS. 14A to 14D are flowcharts of another method of fabricating the touch sensing structure of the capacitance type according to the fourth embodiment of the present invention.
15 is a schematic view of a touch sensing apparatus using the capacitive touch sensing structure of the present invention.
16 is another schematic view of the touch sensing apparatus using the capacitive touch sensing structure of the present invention.
17 is another schematic diagram of a touch sensing apparatus using the capacitive touch sensing structure of the present invention.

본 발명의 정전용량 방식의 터치 감지 구조는 기판, 상기 기판상에 배치된 적어도 하나의 제1 방향의 전극, 상기 제1 방향의 전극 상에 배치된 적어도 하나의 절연체, 상기 절연체 상에 중첩된 적어도 하나의 제2 방향의 전극을 포함한다. 상기 제1 방향의 전극 및 상기 제2 방향의 전극은 교차 위치를 형성하도록 교차되어 있으며 상기 절연체의 양 측면 상에 각각 배치되어 있다. 그러므로, 상기 제1 방향의 전극 및 상기 제2 방향의 전극은 상기 절연체에 의해 절연되어 있다. 상기 정전용량 방식의 터치 감지 구조는 또한 상기 교차 위치를 도포하여 재료를 절감하도록 상기 제2 방향의 전극 상에 배치되어 있는 보호 블록을 포함한다.The capacitive touch sensing structure of the present invention includes a substrate, at least one electrode in a first direction disposed on the substrate, at least one insulator disposed on the electrode in the first direction, at least one electrode on the insulator, And includes an electrode in one second direction. The electrodes in the first direction and the electrodes in the second direction are crossed to form an intersecting position and are disposed on both sides of the insulator, respectively. Therefore, the electrode in the first direction and the electrode in the second direction are insulated by the insulator. The capacitive touch sensing structure also includes a protection block disposed on the electrode in the second direction to apply the crossing to save material.

도 3 및 도 4를 참조하면, 본 발명의 제1 실시예에 따른 정전용량 방식의 터치 감지 구조(100)는 기판(110), 적어도 하나의 제1 방향의 전극(120), 적어도 하나의 제2 방향의 전극(130), 적어도 하나의 절연체(140) 및 적어도 하나의 보호 블록(150)을 포함한다. 일반적으로는, 복수 개의 제1 방향의 전극들(120) 및 복수 개의 제2 방향의 전극들(130)이 존재한다. 상기 제1 방향의 전극들(120)은 상기 기판(110)의 표면상에 중첩되어 있다. 상기 절연체들(140)은 상기 제1 방향의 전극(120)의 표면상에 배치되어 있다. 상기 제2 방향의 전극들(130)은 상기 제1 방향의 전극들(120)의 반대편에 위치해 있는 상기 절연체들(140) 상에 중첩되어 있다. 상기 제1 방향의 전극들(120) 및 상기 제2 방향의 전극들(130)은 복수 개의 교차 위치들을 형성하도록 교차되어 있으며 상기 절연체들(140)에 의해 절연되어 있다. 상기 보호 블록들(150)은 상기 제2 방향의 전극들(130)의 표면상에 배치되어 있으며, 상기 교차 위치들을 도포한다. 상기 절연체들(140)은 상기 제1 방향의 전극들(120) 및 상기 제2 방향의 전극들(130) 사이에 위치해 있으며 상기 제2 방향의 전극들(130)로부터 상기 제1 방향의 전극들(120)을 절연시키도록 상기 교차 위치들에 배치되어 있다. 상기 절연체들(140) 각각은 시트(sheet) 형상으로 이루어져 있다.3 and 4, a capacitive touch sensing structure 100 according to a first embodiment of the present invention includes a substrate 110, at least one electrode 120 in a first direction, A bi-directional electrode 130, at least one insulator 140 and at least one protection block 150. Generally, a plurality of electrodes 120 in the first direction and a plurality of electrodes 130 in the second direction exist. The electrodes 120 in the first direction are superimposed on the surface of the substrate 110. The insulators 140 are disposed on the surface of the electrode 120 in the first direction. The electrodes 130 in the second direction are superimposed on the insulators 140 located on the opposite sides of the electrodes 120 in the first direction. The electrodes 120 in the first direction and the electrodes 130 in the second direction are crossed to form a plurality of intersecting positions and are insulated by the insulators 140. The protection blocks 150 are disposed on the surface of the electrodes 130 in the second direction and apply the intersections. The insulators 140 are disposed between the electrodes 120 in the first direction and the electrodes 130 in the second direction and electrically connected to the electrodes 130 in the first direction from the electrodes 130 in the second direction. (120). ≪ / RTI > Each of the insulators 140 is formed in a sheet shape.

프로세스 요건에 따라, 상기 보호 블록들을 배치하는 방법들이 서로 다를 수 있다. 도 4에 도시된 제1 실시예에 의하면, 상기 보호 블록들(150) 각각은 해당 절연체(140) 및 상기 절연체(140)의 표면상에 위치해 있는 제2 방향의 전극(130)의 일부를 도포한다. 도 5를 참조하면, 본 발명의 제2 실시예에서는, 상기 보호 블록들(250) 각각은 단지 상기 절연체(240)의 표면상에 위치해 있는 제2 방향의 전극(230)의 일부만을 도포한다.Depending on the process requirements, the methods of placing the protection blocks may be different. 4, each of the protection blocks 150 applies a part of the electrode 130 in the second direction, which is located on the surface of the insulator 140 and the insulator 140. In other words, do. Referring to FIG. 5, in a second embodiment of the present invention, each of the protection blocks 250 applies only a portion of the electrode 230 in the second direction, which is located on the surface of the insulator 240 only.

도 6 및 도 7을 참조하면, 본 발명의 제3 실시예에 따른 정전용량 방식의 터치 감지 구조(300)는 기판(310), 제1 방향의 전극들(320), 제2 방향의 전극들(330), 절연체(340) 및 보호 블록들(350)을 포함한다. 상기 제1 실시예에 따른 정전용량 방식의 터치 감지 구조(100)와 차이가 있다면, 상기 절연체(340)는 적어도 한 쌍의 스루 홀(through hole)들(341)을 형성하는 연속적인 평면적 구조이다. 상기 한 쌍의 스루 홀들(341)은 제1 방향의 전극(320)의 양 측면에 형성되어 있으며 상기 제1 방향의 전극(320) 및 상기 제2 방향의 전극(330)의 교차 위치에 바로 위치해 있다. 제2 방향의 전극(330)은 상기 한 쌍의 스루 홀들(341)을 관통함으로써, 상기 절연체(340)는 상기 교차 위치에서 상기 제1 방향의 전극(320) 및 상기 제2 방향의 전극(330) 사이에 배치된다. 상기 한 쌍의 스루 홀들(341) 외부에 있는 제2 방향의 전극(330)의 일부는 상기 기판(310) 및 상기 절연체(340) 사이에 배치되며 상기 한 쌍의 스루 홀들(341) 사이의 일부는 상기 제1 방향의 전극(320)의 반대편에 위치해 있는 상기 절연체(340) 상에 중첩되어 있다. 그 결과, 상기 제1 방향의 전극(320)은 상기 절연체(340)에 의해 상기 제2 방향의 전극(330)으로부터 절연될 수 있다. 각각의 보호 블록(350)은 절연체(340) 상에 위치해 있는 제2 방향의 전극(330)의 표면상에 중첩되어 있으며 상기 한 쌍의 스루 홀들(341)로부터 돌출해 있는 제2 방향의 전극(330)의 일부를 도포한다.6 and 7, a capacitive touch sensing structure 300 according to a third embodiment of the present invention includes a substrate 310, electrodes 320 in a first direction, electrodes 320 in a second direction, (330), an insulator (340), and protection blocks (350). The insulator 340 has a continuous planar structure in which at least a pair of through holes 341 are formed if there is a difference from the capacitive touch sensing structure 100 according to the first embodiment . The pair of through holes 341 are formed on both sides of the electrode 320 in the first direction and positioned immediately at the intersection of the electrode 320 in the first direction and the electrode 330 in the second direction have. The electrode 330 in the second direction penetrates through the pair of through holes 341 so that the insulator 340 is electrically connected to the electrode 320 in the first direction and the electrode 330 in the second direction . A part of the electrode 330 in the second direction outside the pair of through holes 341 is disposed between the substrate 310 and the insulator 340 and a part of the part between the pair of through holes 341 Is overlaid on the insulator (340) located opposite the electrode (320) in the first direction. As a result, the electrode 320 in the first direction can be insulated from the electrode 330 in the second direction by the insulator 340. Each of the protection blocks 350 overlaps on the surface of the electrode 330 in the second direction located on the insulator 340 and protrudes from the pair of through holes 341 in the second direction 330 is applied.

도 8 및 도 9를 참조하면, 본 발명의 제4 실시예에 따른 정전용량 방식의 터치 감지 구조(400)는 기판(410), 제1 방향의 전극들(420), 제2 방향의 전극들(430), 복수 개의 절연체들 및 복수 개의 보호 블록들(450)을 포함한다. 상기 제1 실시예에 따른 정전용량 방식의 터치 감지 구조(100)와 차이가 있다면, 각각의 제1 방향의 전극(420)은 적어도 2개의 제1 방향의 도전성 유닛들(422) 및 적어도 하나의 제1 방향의 와이어(421)를 포함하며, 각각의 제2 방향의 전극(430)은 적어도 2개의 제2 방향의 도전성 유닛들(432) 및 적어도 하나의 제2 방향의 와이어(431)를 포함한다. 상기 제1 방향의 도전성 유닛들(422)은 서로 분리되어 있으며 상기 제1 방향의 와이어(421)에 의해 접속되어 있고, 마찬가지로 상기 제2 방향의 도전성 유닛들(432)은 서로 분리되어 있으며 상기 제2 방향의 와이어(431)에 의해 접속되어 있다. 각각의 절연체(440)는 상기 제1 방향의 와이어(421)의 표면상에 중첩되어 있으며, 상기 제2 방향의 와이어(431)는 상기 절연체(440)의 표면상에서 교차하기 때문에, 상기 제1 방향의 전극(420)은 상기 제2 방향의 전극(430)으로부터 절연될 수가 있다. 상기 절연체들(440) 각각은 시트 형태로 이루어져 있다.8 and 9, a capacitive touch sensing structure 400 according to a fourth embodiment of the present invention includes a substrate 410, electrodes 420 in a first direction, electrodes 420 in a second direction, (430), a plurality of insulators, and a plurality of protection blocks (450). If the touch sensing structure 100 of the first embodiment is different from the touch sensing structure 100 of the first embodiment, each electrode 420 in the first direction may include at least two conductive units 422 in the first direction and at least one Each of the electrodes 430 in the second direction includes at least two conductive units 432 in the second direction and wires 431 in the at least one second direction do. The conductive units 422 in the first direction are separated from each other and connected by the wire 421 in the first direction and likewise the conductive units 432 in the second direction are separated from each other, And are connected by a wire 431 of two directions. Since each insulator 440 overlaps on the surface of the wire 421 in the first direction and the wire 431 in the second direction crosses on the surface of the insulator 440, The electrode 420 of the first direction may be insulated from the electrode 430 of the second direction. Each of the insulators 440 is in the form of a sheet.

본 발명의 제1 실시예 및 제2 실시예와 마찬가지로, 프로세스 요건에 따라, 각각의 보호 블록(450)은 상기 절연체(440) 상에 위치해 있는 제2 방향의 와이어(431)의 일부, 또는 해당 절연체(440) 및 상기 절연체(440) 상에 위치해 있는 제2 방향의 와이어(431)를 도포할 수 있다.As with the first and second embodiments of the present invention, in accordance with the process requirements, each protection block 450 may include a portion of the wire 431 in the second direction located on the insulator 440, The insulator 440 and the wire 431 in the second direction located on the insulator 440 can be applied.

도 10 및 도 11을 참조하면, 본 발명의 제5 실시예에 따른 정전용량 방식의 터치 감지 구조(500)는 기판(510), 제1 방향의 전극들(520), 제2 방향의 전극들(530), 절연체(540) 및 복수 개의 보호 블록들(550)을 포함한다. 상기 제3 실시예에 따른 정전용량 방식의 터치 감지 구조(300)와 차이가 있다면, 제1 방향의 전극(520)은 적어도 2개의 제1 방향의 도전성 유닛들(522) 및 적어도 하나의 제1 방향의 와이어(521)를 포함하며, 제2 방향의 전극(530)은 적어도 2개의 제2 방향의 도전성 유닛들(532) 및 적어도 하나의 제2 방향의 와이어(531)를 포함한다. 상기 제1 방향의 도전성 유닛들(522)은 서로 분리되어 있으며, 상기 제1 방향의 와이어(521)에 의해 접속되어 있고, 마찬가지로 상기 제2 방향의 도전성 유닛들(532)은 서로 분리되어 있으며 상기 제2 방향의 와이어(531)에 의해 접속되어 있다. 상기 제1 방향의 도전성 유닛들(522), 상기 제1 방향의 와이어(521), 및 상기 제2 방향의 도전성 유닛들(532)은 기판(510)의 표면의 동일 측면 상에 위치해 있다. 상기 절연체(540) 내에는 상기 제1 방향의 와이어(521)의 양 측면에 위치해 있는 적어도 한 쌍의 스루 홀들(541)이 형성되어 있다. 상기 제2 방향의 와이어(531)는 계속해서 상기 스루 홀들(541)을 관통하여 상기 제2 방향의 도전성 유닛들(532)을 접속함으로써, 상기 절연체(540)는 상기 제1 방향의 전극(520) 및 상기 제2 방향의 전극(530)을 분리하기 위해 교차 위치에서 상기 제1 방향의 와이어(521) 및 상기 제2 방향의 와이어(531) 사이에 배치된다. 상기 보호 블록들(550)은 해당 절연체(540)의 표면상에 중첩되어 있으며, 상기 제2 방향의 와이어(531)를 도포한다.10 and 11, a capacitive touch sensing structure 500 according to a fifth embodiment of the present invention includes a substrate 510, electrodes 520 in a first direction, electrodes 520 in a second direction, An insulating layer 530, an insulator 540, and a plurality of protection blocks 550. The electrode 520 in the first direction may include at least two conductive units 522 in the first direction and at least one first conductive unit 522 in the first direction, Directional wire 521 and the electrode 530 in the second direction includes at least two conductive units 532 in the second direction and a wire 531 in the at least one second direction. The conductive units 522 in the first direction are separated from each other and connected by the wires 521 in the first direction and likewise the conductive units 532 in the second direction are separated from each other, And is connected by a wire 531 in the second direction. The conductive units 522 in the first direction, the wires 521 in the first direction, and the conductive units 532 in the second direction are located on the same side of the surface of the substrate 510. In the insulator 540, at least a pair of through holes 541 located on both sides of the wire 521 in the first direction are formed. The wire 531 in the second direction continues to penetrate the through holes 541 to connect the conductive units 532 in the second direction so that the insulator 540 contacts the electrodes 520 in the first direction And a wire 531 in the first direction and a wire 531 in the second direction at an intersecting position for separating the electrode 530 in the first direction and the electrode 530 in the second direction. The protection blocks 550 are superimposed on the surface of the insulator 540 and apply the wires 531 in the second direction.

(상기 기판, 전극, 절연체, 및 보호 블록을 포함하는) 본 발명의 정정용량 방식의 터치 감지 구조의 모든 부분들은 적용 요건들에 따라 투명한 재료 또는 불투명한 재료로 이루어질 수 있다. 여기에서, 불투명한 도전성 재료는 구리, 알루미늄, 금 등과 같은 금속일 수 있으며, 전극들을 형성하기 위한 투명한 도전성 재료는 ITO(Indium Tin Oxides; 산화 인듐 주석) 또는 기타의 것들일 수 있다. 상기 절연체는 투명하거나 불투명한 수지 또는 유리를 사용할 수 있다. 예를 들면, 상기 정전용량 방식의 터치 감지 구조는 불투명한 경우에 컴퓨터에서 터치패드를 형성하는데 사용될 수 있으며, 또한 투명한 경우에 모니터 또는 다른 디스플레이 장치들에서 터치 스크린을 형성하는데 사용될 수 있다. 종래의 구조의 연속적인 평면적 구조 대신에 본 발명의 실시예들에 따른 교차 위치상에서 중첩되는 보호 블록을 사용한 결과로, 투명한 정전용량 방식의 터치 감지 구조의 광 투과율이 개선될 수 있다. 그 외에도, 그러한 결과는 재료가 투명하든 불투명하든 보호 블록을 형성하기 위한 재료의 양을 절감할 수 있으며 그에 따라 제조 단가가 줄어들게 된다.All parts of the touch sensitive sensing structure of the present invention (including the substrate, electrode, insulator, and protection block) can be made of a transparent material or an opaque material according to application requirements. Here, the opaque conductive material may be a metal such as copper, aluminum, gold or the like, and the transparent conductive material for forming the electrodes may be indium tin oxide (ITO) or the like. The insulator may be transparent or opaque resin or glass. For example, the capacitive touch sensing structure may be used to form a touchpad in a computer when opaque, and may also be used to form a touch screen in a monitor or other display device if transparent. As a result of using a protection block superimposed on an intersecting position according to embodiments of the present invention instead of a continuous planar structure of a conventional structure, the light transmittance of the transparent capacitive touch sensing structure can be improved. In addition, such results can reduce the amount of material to form the protective block, whether the material is transparent or opaque, thereby reducing manufacturing costs.

위에서 언급한 정전용량 방식의 터치 감지 구조를 제조하는 방법이 또한 제공되는데, 상기 방법은 (a) 기판의 표면상에 적어도 하나의 제1 방향의 전극을 부착하는 단계; (b) 제1 방향의 전극의 표면상에 적어도 하나의 절연체를 부착하는 단계; (c) 상기 절연체 상에 적어도 하나의 제2 방향의 전극을 부착하고 상기 제1 방향의 전극과 교차하여 교차 위치를 형성하는 단계로서, 상기 제1 방향의 전극 및 상기 제2 방향의 전극이 상기 절연체의 양측 표면상에 위치해 있는, 단계; (d) 상기 제2 방향의 전극 상에 적어도 하나의 보호 블록을 부착하는 단계로서, 상기 보호 블록은 상기 교차 위치를 도포하는, 단계;를 포함한다.A method of manufacturing a capacitive touch sensing structure as described above is also provided, comprising: (a) attaching at least one electrode in a first direction on a surface of a substrate; (b) attaching at least one insulator on the surface of the electrode in the first direction; (c) attaching at least one electrode in a second direction on the insulator and forming an intersection with the electrode in the first direction, wherein the electrode in the first direction and the electrode in the second direction And is located on both side surfaces of the insulator; (d) attaching at least one protection block on the electrode in the second direction, wherein the protection block applies the intersection position.

도 12a 내지 도 12d를 참조하면, 본 발명의 제1 실시예에 따른 정전용량 방식의 터치 감지 구조(100)를 제조하는 방법이 도시되어 있으며, 상기 방법은, 단계(S110)로, 도 12a에 도시되어 있는 바와 같이, 기판(110)의 표면상에 적어도 하나의 제1 방향의 전극(120)을 부착하는 단계; 단계(S120)로, 도 12b에 도시되어 있는 바와 같이, 제1 방향의 전극(120)의 표면상에 적어도 하나의 절연체(140)를 부착하는 단계; 단계(S130)로, 도 12c에 도시되어 있는 바와 같이, 상기 절연체(140) 상에 적어도 하나의 제2 방향의 전극(130)을 부착하는 단계로서, 상기 제2 방향의 전극(130)은 상기 제1 방향의 전극(120)과 교차하여 상기 제1 방향의 전극(120)이 상기 제2 방향의 전극(130)으로부터 절연되게 하도록 상기 절연체들(140)에 해당하는 복수 개의 교차 위치들을 형성하는, 단계; 단계(S140)로, 도 12d에 도시되어 있는 바와 같이, 해당 절연체들(140) 및 상기 제2 방향의 전극(130)을 도포하기 위해 상기 제2 방향의 전극(130) 및 상기 제1 방향의 전극(120)의 해당하는 교차 위치에서 보호 블록들(150)을 각각 부착하는 단계;를 포함한다.12A to 12D, there is shown a method of manufacturing a capacitive touch sensing structure 100 according to a first embodiment of the present invention, wherein the method comprises the steps of: Attaching at least one electrode 120 in a first direction on the surface of the substrate 110, as shown; In step S120, attaching at least one insulator 140 on the surface of the electrode 120 in the first direction, as shown in Fig. 12B; In step S130, as shown in FIG. 12C, at least one electrode 130 in the second direction is attached to the insulator 140, Forming a plurality of intersecting positions corresponding to the insulators 140 such that the electrodes 120 in the first direction intersect the electrodes 120 in the first direction so as to be insulated from the electrodes 130 in the second direction , step; The electrode 130 in the second direction and the electrode 130 in the second direction are formed in order to apply the insulators 140 and the electrode 130 in the second direction in step S140, And attaching the protection blocks 150 at corresponding intersections of the electrodes 120, respectively.

상기 제1 방향의 전극이 적어도 2개의 제1 방향의 도전성 유닛들 및 상기 제1 방향의 도전성 유닛들을 접속하는 적어도 하나의 제1 방향의 와이어를 포함하고 상기 제2 방향의 전극이 적어도 2개의 제2 방향의 도전성 유닛들 및 상기 제2 방향의 도전성 유닛들을 접속하는 적어도 하나의 제2 방향의 와이어를 포함하는 경우에 정전용량 방식의 터치 감지 구조를 제조하는 전형적인 실시예가 존재한다. 이러한 대표적인 실시예는, (a) 기판의 표면상에 복수 개의 제1 방향의 와이어들을 부착하는 단계; (b) 각각의 제1 방향의 와이어의 표면상에 복수 개의 절연체들을 부착하는 단계; (c) 각각의 절연체 상에 복수 개의 제2 방향의 와이어들을 부착하고 상기 제1 방향의 와이어들과 교차하여 복수 개의 교차 위치들을 형성하는 단계로서, 상기 제1 방향의 와이어들 및 상기 제2 방향의 와이어들이 상기 절연체들의 양측 표면상에 각각 배치되는, 단계; (d) 각각의 제2 방향의 와이어들 상에 복수 개의 보호 블록들을 부착하는 단계로서, 상기 보호 블록들 각각은 상기 교차 위치를 도포하는 단계;를 포함한다. 상기 방법은 상기 제1 방향의 도전성 유닛들 및 상기 제2 방향의 도전성 유닛들을 부착하는 단계를 더 포함할 수 있다.Wherein the electrodes in the first direction include at least two conductive units in the first direction and at least one wire in the first direction connecting the conductive units in the first direction and the electrodes in the second direction include at least two There is an exemplary embodiment for fabricating a capacitive touch sensing structure in the case of including two directional conductive units and at least one second directional wire connecting the conductive units in the second direction. Such representative embodiments include: (a) attaching wires in a plurality of first directions on a surface of a substrate; (b) attaching a plurality of insulators on the surface of each wire in the first direction; (c) attaching a plurality of wires in a second direction on each insulator and intersecting the wires in the first direction to form a plurality of intersecting positions, the wires in the first direction and the wires in the second direction Wherein each of the wires is disposed on each of the opposite side surfaces of the insulators; (d) attaching a plurality of protection blocks on each of the wires in the second direction, each of the protection blocks applying the intersection position. The method may further include attaching the conductive units in the first direction and the conductive units in the second direction.

도 13a 내지 도 13d 및 도 14a 내지 도 14d에는 상기 전형적인 실시예의 좀더 세부적인 단계들이 도시되어 있으며 상기 정전용량 방식의 터치 감지 구조를 제조하는 방법에서 서로 다른 단계들로 제1 방향의 도전성 유닛들 및 제2 방향의 도전성 유닛들을 부착하는 주된 차이점이 예시되어 있다.13A to 13D and Figs. 14A to 14D show more detailed steps of the exemplary embodiment, and in the method of fabricating the capacitive touch sensing structure, the conductive units in the first direction and the conductive units in the first direction The main difference in attaching the conductive units in the second direction is illustrated.

도 13a 내지 도 13d를 참조하면, 정전용량 방식의 터치 감지 구조를 제조하는 제4 실시예에 따른 방법이, 다음 4 가지의 단계들, 즉 단계(S210)로, 도 13a에 도시되어 있는 바와 같이, 적어도 2개의 제1 방향의 도전성 유닛들(422), 상기 제1 방향의 도전성 유닛들(422)을 접속하는 적어도 하나의 제1 방향의 와이어(421) 및 적어도 2개의 제2 방향의 도전성 유닛들(432)을 기판(410)의 표면상에 부착하는 단계; 단계(S220)로, 도 13b에 도시되어 있는 바와 같이, 제1 방향의 와이어(421)의 표면상에 복수 개의 절연체들(440)을 부착하는 단계; 단계(S230)로, 도 13c에 도시되어 있는 바와 같이, 상기 절연체들(440) 상에 적어도 하나의 제2 방향의 와이어(431)를 부착하여 상기 제2 방향의 도전성 유닛들(432)을 접속하는 단계; 단계(S240)로, 도 13d에 도시되어 있는 바와 같이, 해당 절연체들(440) 및 상기 제2 방향의 와이어(431)를 도포하기 위해 상기 제2 방향의 와이어(431)의 표면상에 복수 개의 보호 블록들(450)을 부착하는 단계;를 포함한다.13A to 13D, the method according to the fourth embodiment for manufacturing the capacitive touch sensing structure includes the following four steps: step S210, as shown in FIG. 13A, At least two first directional conductive units 422, at least one first directional wire 421 connecting the first directional conductive units 422, and at least two second directional conductive units 422, (432) on the surface of the substrate (410); In step S220, attaching a plurality of insulators 440 on the surface of the wire 421 in the first direction, as shown in Fig. 13B; In step S230, as shown in FIG. 13C, at least one wire 431 in the second direction is attached on the insulators 440 to connect the conductive units 432 in the second direction ; In step S240, a plurality of wires 431 are formed on the surface of the wire 431 in the second direction so as to apply the insulators 440 and the wire 431 in the second direction, as shown in Fig. 13D. And attaching the protection blocks 450.

도 14a 내지 도 14d를 참조하면, 정전용량 방식의 터치 감지 구조를 제조하는 제4 실시예에 따른 다른 한 방법이 도시되어 있으며, 상기 방법은, 단계(S310)로, 도 14a에 도시되어 있는 바와 같이, 기판(410)의 표면상에 적어도 하나의 제1 방향의 와이어(421)를 부착하는 단계; 단계(S320)로, 도 14b에 도시되어 있는 바와 같이, 상기 제1 방향의 와이어(421)의 표면상에 복수 개의 절연체들(440)을 부착하는 단계; 단계(S330)로, 도 14c에 도시되어 있는 바와 같이, 기판(410)의 표면상에 배치되며 상기 제1 방향의 와이어(421)에 접속되는 적어도 2개의 제1 방향의 도전성 유닛들(422) 및 적어도 2개의 제2 방향의 도전성 유닛들(432)을 기판(410)의 표면상에 부착하며, 상기 제2 방향의 도전성 유닛들(432)을 접속하기 위해 절연체들(440) 상에 적어도 하나의 제2 방향의 와이어(431)를 부착하는 단계; 단계(S340)로, 도 14d에 도시되어 있는 바와 같이, 해당 절연체들(440) 및 상기 제2 방향의 와이어(431)를 도포하기 위해 상기 제2 방향의 와이어(431)의 표면상에 복수 개의 보호 블록들(450)을 부착하는 단계;를 포함한다.14A to 14D, there is shown another method according to the fourth embodiment for manufacturing a capacitive touch sensing structure, which method includes, in step S310, Similarly, attaching at least one wire 421 in the first direction on the surface of the substrate 410; In step S320, as shown in FIG. 14B, attaching a plurality of insulators 440 on the surface of the wire 421 in the first direction; At step S330, conductive units 422 in at least two first directions disposed on the surface of the substrate 410 and connected to the wire 421 in the first direction, as shown in Fig. 14C, And at least two second directional conductive units 432 on the surface of the substrate 410 and at least one second conductive unit 432 on the insulators 440 for connecting the conductive units 432 in the second direction. Attaching a wire (431) in a second direction of the wire (431); In step S340, a plurality of wires 431 are formed on the surface of the wire 431 in the second direction to apply the insulators 440 and the wire 431 in the second direction, as shown in Fig. 14D. And attaching the protection blocks 450.

정전용량 방식의 터치 감지 구조를 제조하는 제5 실시예에 따른 방법은 상기 제4 실시예에 따른 방법과 유사하고 상기 제4 실시예와 제5 실시예 간의 차이점은 제2 단계 동안, 절연체(540)가 제1 방향의 와이어(521)의 양 측면 상에 형성하는 적어도 한 쌍의 스루 홀(through hole)들(541)을 포함한다는 것이다.The method according to the fifth embodiment for fabricating the capacitive touch sensing structure is similar to the method according to the fourth embodiment and the difference between the fourth and fifth embodiments is that during the second step the insulator 540 Have at least a pair of through holes 541 formed on both sides of the wire 521 in the first direction.

제조 장비, 적용 환경 또는 프로세스 요건의 변경으로서, 포토리도그래피 또는 프린팅 방법이 위에 언급한 본 발명의 정전용량 방식의 터치 감지 구조를 제조하는 방법에 도입될 수 있다.As a change in manufacturing equipment, application environment or process requirements, a photolithography or printing method can be introduced into the above-described method of manufacturing the capacitive touch sensing structure of the present invention.

도 15를 참조하면, 본 발명의 정전용량 방식의 터치 감지 구조를 이용한 정전용량 방식의 터치 감지 장치(10)가 도시되어 있다. 상기 터치 감지 장치(10)는 정전용량 방식의 터치 감지 구조(11), 외이어들(12), 프로세서(13) 및 쉘(shell)(14)을 포함한다. 상기 쉘(14)은 상기 터치 감지 구조(11), 상기 와이어들(12) 및 상기 프로세서(13)를 보관하기 위해 사용된다. 상기 정전용량 방식의 터치 감지 구조(11)는 상기 쉘(14)의 내측 표면(14a) 부근에 있으며, 상기 정전용량 방식의 터치 감지 구조(11)의 제1 방향의 전극 및 제2 방향의 전극은 상기 와이어들(12)에 의해 상기 프로세서(13)에 접속되어 있다. 도전성 물체가 상기 쉘(14)의 내측 표면(14a)을 터치하는 동안, 상기 정전용량 방식의 터치 감지 구조(11)는 상기 와이어들(12)에 의해 상기 프로세서(13)에 전달되는 전기 신호를 생성하며, 상기 프로세서(13)는 상기 전기 신호에 따라 터치 위치 좌표를 결정한다.Referring to FIG. 15, there is shown a capacitive touch sensing device 10 using the capacitive touch sensing structure of the present invention. The touch sensing device 10 includes a capacitive touch sensing structure 11, an external ear 12, a processor 13, and a shell 14. The shell 14 is used to store the touch sensing structure 11, the wires 12 and the processor 13. [ The capacitive touch sensing structure 11 is located near an inner surface 14a of the shell 14 and includes an electrode in a first direction of the capacitive touch sensing structure 11, Is connected to the processor (13) by the wires (12). While the conductive object touches the inner surface 14a of the shell 14, the touch sensing structure 11 of the electrostatic capacitive type provides an electrical signal transmitted to the processor 13 by the wires 12 And the processor 13 determines the touch position coordinates according to the electric signal.

도 16을 참조하면, 본 발명의 정전용량 방식의 터치 감지 구조를 이용한 다른 한 정전용량 방식의 터치 감지 장치(20)가 도시되어 있다. 상기 터치 감지 장치(20)는 정전용량 방식의 터치 감지 구조(21), 와이어들(22), 프로세서(23) 및 편광판(polarizer; 24)을 지니는 디스플레이 유닛(25)을 포함한다. 상기 정전용량 방식의 터치 감지 구조(21)는 상기 디스플레이 유닛(25) 내에 배치되며, 상기 정전용량 방식의 터치 감지 구조(21)는 상기 편광판(24)의 내측 표면(24a) 상에 존재한다. 상기 정전용량 방식의 터치 감지 구조(21)는 투명한 재료로 이루어져 있다. 상기 정전용량 방식의 터치 감지 구조(21)의 제1 방향의 전극 및 제2 방향의 전극은 상기 와이어들(22)에 의해 상기 프로세서(23)에 접속된다. 도전성 물체가 터치 동작을 수행하도록 상기 편광판(24)을 직접 터치할 수 있다. 바람직한 실시예에서는, 상기 디스플레이 유닛(25)이 LCD 유닛이다.Referring to FIG. 16, another capacitive touch sensing device 20 using the capacitive touch sensing structure of the present invention is shown. The touch sensing device 20 includes a display unit 25 having a capacitive touch sensing structure 21, wires 22, a processor 23 and a polarizer 24. The capacitance sensing touch sensing structure 21 is disposed within the display unit 25 and the capacitance sensing touch sensing structure 21 is on the inner surface 24a of the polarizing plate 24. [ The capacitive touch sensing structure 21 is made of a transparent material. Electrodes in the first direction and electrodes in the second direction of the capacitive touch sensing structure 21 are connected to the processor 23 by the wires 22. The polarizing plate 24 can be directly touched so that the conductive object performs a touch operation. In a preferred embodiment, the display unit 25 is an LCD unit.

도 17을 참조하면, 본 발명의 정전용량 방식의 터치 감지 구조를 이용한 또 다른 한 정전용량 방식의 터치 감지 장치(30)가 도시되어 있다. 상기 터치 감지 장치(30)는 정전용량 방식의 터치 감지 구조(31), 와어어들(32), 프로세서(33) 및 디스플레이 유닛(35)을 포함한다. 상기 정전용량 방식의 터치 감지 구조(31)는 투명하며 상기 디스플레이 유닛(35)의 외측 표면상에 배치된다. 상기 정전용량 방식의 터치 감지 구조(31)의 제1 방향의 전극 및 제2 방향의 전극은 상기 와이어들(32)에 의해 상기 프로세서(33)에 접속된다. 바람직한 실시예에서는, 상기 디스플레이 유닛(35)이 LCD 유닛이다.Referring to FIG. 17, another capacitance sensing type touch sensing device 30 using the capacitive touch sensing structure of the present invention is shown. The touch sensing device 30 includes a capacitive touch sensing structure 31, words 32, a processor 33, and a display unit 35. The capacitive touch sensing structure 31 is transparent and disposed on the outer surface of the display unit 35. Electrodes in the first direction and electrodes in the second direction of the electrostatic capacity type touch sensing structure 31 are connected to the processor 33 by the wires 32. In a preferred embodiment, the display unit 35 is an LCD unit.

위에서 언급한 터치 감지 장치에서 이용된 정전용량 방식의 터치 감지 구조는 상기 정전용량 방식의 터치 감지 구조의 실시예들 중 어느 한 실시예일 수 있다. 보호 블록을 도포한 결과로, 상기 보호 층을 형성하기 위한 재료가 절감됨으로써, 제조 단가가 줄어들게 된다. 상기 정전용량 방식의 터치 감지 구조가 투명한 경우에, 상기 정전용량 방식의 터치 감지 구조의 광 투과율이 개선된다. 상기 터치 감지 구조를 이용한 디스플레이 장치들의 디스플레이 효과도 또한 개선된다.The capacitive touch sensing structure used in the above-described touch sensing device may be any of the embodiments of the capacitive touch sensing structure. As a result of applying the protective block, the material for forming the protective layer is saved, and the manufacturing cost is reduced. When the capacitive touch sensing structure is transparent, the light transmittance of the capacitive touch sensing structure is improved. The display effect of the display devices using the touch sensing structure is also improved.

본 발명의 정전용량 방식의 터치 감지 구조의 제1 방향의 전극 또는 제2 방향의 전극은 적어도 하나의 전극을 포함한다. 더군다나, 상기 절연체들, 스루 홀들, 및 보호 블록들의 분량은 상기 제1 방향의 전극들 및 제2 방향의 전극들의 분량에 의존한다. 그 외에도, 상기 제1 방향의 전극들 및 제2 방향의 전극들의 분량은 상기 터치 감지 구조의 해상도 및 사이즈에 의존한다. 해상도가 높게 되거나 사이즈가 커지게 되면 그 분량도 많아지게 된다.The electrode in the first direction or the electrode in the second direction of the capacitive touch sensing structure of the present invention includes at least one electrode. Furthermore, the amount of the insulators, through-holes, and protection blocks depends on the amount of electrodes in the first direction and electrodes in the second direction. In addition, the amount of the electrodes in the first direction and the electrodes in the second direction depends on the resolution and size of the touch sensing structure. When the resolution is increased or the size is increased, the amount thereof is also increased.

비록 지금까지 본 발명이 구조적 특징들 및/또는 방법론적 행위들에 특정된 표현으로 설명되었지만, 당업자라면 첨부된 청구항들에서 정의된 발명이 반드시 본 명세서에 기재되어 있는 특정된 특징들 또는 행위들에 국한되는 것이 아니고 오히려 상기 특정된 특징들 및 행위들이 청구된 발명을 구현하는 예시 형태들로서 개시된 것임을 이해할 것이다.Although the present invention has been described in terms of specific features and / or methodological acts, it will be apparent to those skilled in the art that the invention as defined in the appended claims is not limited to the particular features or acts described herein It is to be understood that the specified features and acts are not intended to be limiting, but rather that the specified features and acts are disclosed as exemplary forms of implementing the claimed invention.

Claims (19)

정전용량 방식의 터치 감지 구조로서,
기판;
상기 기판상에 중첩된 적어도 하나의 제1 방향의 전극;
상기 제1 방향의 전극 상에 중첩된 적어도 하나의 절연체;
상기 제1 방향의 전극의 반대편에 있는 상기 절연체 상에 중첩되어 있으며 상기 제1 방향의 전극을 교차하여 적어도 하나의 교차 위치를 형성하는 적어도 하나의 제2 방향의 전극; 및
상기 교차 위치를 도포하도록 상기 제2 방향의 전극 일부 상에 배치되어 있는 적어도 하나의 보호 블록;
을 포함하며,
상기 제1 방향의 전극 및 상기 제2 방향의 전극은 상기 절연체에 의해 절연되는, 정전용량 방식의 터치 감지 구조.
As a capacitive touch sensing structure,
Board;
At least one electrode in the first direction superposed on the substrate;
At least one insulator superposed on the electrode in the first direction;
At least one second directional electrode overlapped on the insulator opposite the electrode in the first direction and intersecting the electrode in the first direction to form at least one intersection; And
At least one protection block disposed on a portion of the electrode in the second direction to apply the intersection;
/ RTI >
Wherein the electrode in the first direction and the electrode in the second direction are insulated by the insulator.
제1항에 있어서, 상기 절연체는 시트(sheet) 형상으로 이루어져 있고 상기 교차 위치에 배치되어 있으며, 상기 제2 방향의 전극은 상기 절연체의 표면상에서 교차하는, 정전용량 방식의 터치 감지 구조.The touch sensing structure of claim 1, wherein the insulator is in sheet form and is disposed at the intersection, and the electrode in the second direction intersects the surface of the insulator. 제2항에 있어서, 상기 보호 블록은 상기 절연체 및 상기 절연체의 표면상에 위치해 있는 제2 방향의 전극 일부를 도포하는, 정전용량 방식의 터치 감지 구조.3. The capacitive touch sensing structure of claim 2, wherein the protection block applies a portion of the electrode in a second direction located on a surface of the insulator and the insulator. 제2항에 있어서, 상기 보호 블록은 상기 절연체 상에 중첩되어 있으며, 그리고 상기 보호 블록은 상기 절연체의 표면상에 중첩되어 있는 제2 방향의 전극 일부를 도포하는, 정전용량 방식의 터치 감지 구조.3. The touch sensing structure of claim 2, wherein the protection block overlaps the insulator and the protection block applies a portion of the electrode in the second direction overlapping the surface of the insulator. 제1항에 있어서, 상기 절연체는 상기 제1 방향의 전극의 양 측면에 있으며 상기 교차 위치에 바로 위치해 있는 적어도 한 쌍의 스루 홀(through hole)들을 형성하고, 상기 제2 방향의 전극은 상기 적어도 한 쌍의 스루 홀들을 통과하는, 정전용량 방식의 터치 감지 구조.The method of claim 1, wherein the insulator defines at least a pair of through holes on both sides of the electrode in the first direction and positioned directly at the intersection, A capacitive touch-sensing structure through a pair of through-holes. 제5항에 있어서, 상기 보호 블록은 상기 적어도 한 쌍의 스루 홀들로부터 돌출해 있는 상기 제2 방향의 전극 일부를 도포하는, 정전용량 방식의 터치 감지 구조.6. The touch sensing structure of claim 5, wherein the protection block applies a part of the electrode in the second direction protruding from the at least one pair of through holes. 제2항에 있어서, 상기 제1 방향의 전극은 적어도 2개의 제1 방향의 도전성 유닛들 및 상기 제1 방향의 도전성 유닛들을 접속하는 적어도 하나의 제1 방향의 와이어를 포함하며, 상기 제2 방향의 전극은 적어도 2개의 제2 방향의 도전성 유닛들 및 상기 제2 방향의 도전성 유닛들을 접속하는 적어도 하나의 제2 방향의 와이어를 포함하고, 상기 교차 위치는 상기 제1 방향의 와이어가 상기 제2 방향의 와이어를 교차하는 위치인, 정전용량 방식의 터치 감지 구조.3. The method of claim 2, wherein the electrode in the first direction comprises at least two first conductive units and at least one first directional wire connecting the conductive units in the first direction, Wherein the electrode of the first direction includes at least two conductive units in the second direction and at least one wire in the second direction connecting the conductive units in the second direction, A capacitive touch-sensing structure that is a crossing of the wires in the direction. 제1항에 있어서, 상기 보호 블록은 투명한 재료로 이루어져 있는, 정전용량 방식의 터치 감지 구조.2. The touch sensing structure of claim 1, wherein the protection block is made of a transparent material. 제1항에 있어서, 상기 기판, 상기 제1 방향의 전극, 상기 제2 방향의 전극 및 상기 절연체는 투명한 재료로 이루어져 있는, 정전용량 방식의 터치 감지 구조.The capacitive touch sensing structure of claim 1, wherein the substrate, the electrodes in the first direction, the electrodes in the second direction, and the insulator are made of a transparent material. 정전용량 방식의 터치 감지 구조를 제조하는 방법으로서,
(a) 기판상에 적어도 하나의 제1 방향의 전극을 부착하는 단계;
(b) 상기 제1 방향의 전극 상에 적어도 하나의 절연체를 부착하는 단계;
(c) 상기 제1 방향의 전극을 교차하는 적어도 하나의 제2 방향의 전극을 상기 제1 방향의 전극의 반대편에 있는 상기 절연체 상에 부착하여 적어도 하나의 교차 위치를 형성하는 단계;
(d) 상기 교차 위치를 도포하는 적어도 하나의 보호 블록을 상기 제2 방향의 전극 일부 상에 부착하는 단계;
를 포함하는, 정전용량 방식의 터치 감지 구조를 제조하는 방법.
A method of fabricating a capacitive touch sensing structure,
(a) attaching at least one electrode in a first direction on a substrate;
(b) attaching at least one insulator on the electrode in the first direction;
(c) attaching at least one second directional electrode crossing the electrode in the first direction on the insulator opposite the electrode in the first direction to form at least one intersection position;
(d) attaching at least one protective block applying the crossing on a portion of the electrode in the second direction;
Wherein the touch sensing structure of the capacitive touch sensing structure comprises:
제10항에 있어서, 상기 제1 방향의 전극은 적어도 2개의 제1 방향의 도전성 유닛들 및 상기 제1 방향의 도전성 유닛들을 접속하는 적어도 하나의 제1 방향의 와이어를 포함하고, 상기 제2 방향의 전극은 적어도 2개의 제2 방향의 도전성 유닛들 및 상기 제2 방향의 도전성 유닛들을 접속하는 적어도 하나의 제2 방향의 와이어를 포함하며, 상기 단계 (a)는 상기 기판의 표면상에 상기 제1 방향의 와이어를 특정되도록 부착하는 단계이며, 상기 단계 (b)는 상기 제1 방향의 와이어의 표면 상에 상기 절연체를 특정되도록 부착하는 단계이고, 상기 단계(c)는 상기 절연체 상에 상기 제2 방향의 와이어를 특정되도록 부착하고 상기 제1 방향의 와이어와 교차하여 교차 위치를 형성하는 단계이며, 상기 제1 방향의 와이어 및 상기 제2 방향의 와이어는 상기 절연체의 양측 표면상에 위치해 있고, 상기 단계(d)는 상기 제2 방향의 와이어 상에 상기 보호 블록을 특정되게 부착하는 단계이며, 상기 보호 블록은 상기 교차 위치를 도포하는, 정전용량 방식의 터치 감지 구조를 제조하는 방법.11. The method of claim 10, wherein the electrode in the first direction comprises at least two first directional conductive units and at least one first directional wire connecting the conductive units in the first direction, (A) comprises at least two second directional conductive units and at least one second directional wire connecting the conductive units in the second direction, wherein step (a) (B) is a step of attaching the insulator so as to be specified on the surface of the wire in the first direction so that the step (c) Attaching the wires in two directions so as to be specified and intersecting with the wires in the first direction to form an intersecting position, the wires in the first direction and the wires in the second direction are formed on both sides Wherein the step (d) is a step of specifically attaching the protection block on the wire in the second direction, and the protection block applies the intersection position, Lt; / RTI > 제11항에 있어서, 상기 정전용량 방식의 터치 감지 구조를 제조하는 방법은,
상기 기판의 표면상에 상기 제1 방향의 도전성 유닛들을 부착하는 단계;
상기 기판의 표면상에 상기 제2 방향의 도전성 유닛들을 부착하는 단계;
를 더 포함하는, 정전용량 방식의 터치 감지 구조를 제조하는 방법.
12. The method of claim 11, wherein the capacitive touch sensing structure comprises:
Attaching the conductive units in the first direction on the surface of the substrate;
Attaching the conductive units in the second direction on the surface of the substrate;
Further comprising the steps of: providing a capacitive touch sensing structure;
제10항에 있어서, 상기 절연체는 시트 형태로 이루어져 있는, 정전용량 방식의 터치 감지 구조를 제조하는 방법.11. The method of claim 10, wherein the insulator is in the form of a sheet. 제10항에 있어서, 상기 절연체는 상기 제1 방향의 전극 양 측면에 있으며 상기 교차 위치에 바로 위치해 있는 적어도 한 쌍의 스루 홀(through hole)들을 형성하며, 상기 제2 방향의 전극은 상기 적어도 한 쌍의 스루 홀들을 통과하는, 정전용량 방식의 터치 감지 구조를 제조하는 방법.11. The apparatus of claim 10, wherein the insulator defines at least a pair of through holes on both sides of the electrode in the first direction and positioned directly at the intersection, Through the through holes of the pair. 제10항에 있어서, 상기 정전용량 방식의 터치 감지 구조를 제조하는 방법은 포토리도그래피 또는 프린팅 방법을 사용하는, 정전용량 방식의 터치 감지 구조를 제조하는 방법.11. The method of claim 10, wherein the method of fabricating the capacitive touch sensing structure uses a photolithography or printing method. 정전용량 방식의 터치 감지 장치로서,
적어도 하나의 와이어;
프로세서;
쉘(shell); 및
상기 쉘에 배치되어 있는 정전용량 방식의 터치 감지 구조;
를 포함하며,
상기 정전용량 방식의 터치 감지 구조는,
기판;
상기 기판상에 위치해 있는 적어도 하나의 제1 방향의 전극;
상기 제1 방향의 전극 상에 위치해 있는 적어도 하나의 절연체;
상기 제1 방향의 전극의 반대편에 있는 상기 절연체 상에 중첩되어 있으며 상기 제1 방향의 전극을 교차하여 적어도 하나의 교차 위치를 형성하는 적어도 하나의 제2 방향의 전극; 및
상기 교차 위치를 도포하도록 상기 제2 방향의 전극 일부 상에 배치되어 있는 적어도 하나의 보호 블록;
을 포함하고,
상기 정전용량 방식의 터치 감지 구조의 상기 제1 방향의 전극 및 상기 제2 방향의 전극은 상기 적어도 하나의 와이어에 의해 상기 프로세서에 접속되어 있는, 정전용량 방식의 터치 감지 장치.
1. A capacitive touch sensing device comprising:
At least one wire;
A processor;
Shell; And
A capacitive touch sensing structure disposed in the shell;
/ RTI >
Wherein the capacitive touch sensing structure comprises:
Board;
At least one electrode in a first direction located on the substrate;
At least one insulator located on the electrode in the first direction;
At least one second directional electrode overlapped on the insulator opposite the electrode in the first direction and intersecting the electrode in the first direction to form at least one intersection; And
At least one protection block disposed on a portion of the electrode in the second direction to apply the intersection;
/ RTI >
Wherein the electrode in the first direction and the electrode in the second direction of the capacitive touch sensing structure are connected to the processor by the at least one wire.
정전용량 방식의 터치 감지 장치로서,
적어도 하나의 와이어;
프로세서;
디스플레이 유닛; 및
정전용량 방식의 터치 감지 구조;
를 포함하며,
상기 정전용량 방식의 터치 감지 구조는,
기판;
상기 기판상에 중첩된 적어도 하나의 제1 방향의 전극;
상기 제1 방향의 전극 상에 중첩된 적어도 하나의 절연체;
상기 제1 방향의 전극의 반대편에 있는 상기 절연체 상에 중첩되어 있으며 상기 제1 방향의 전극을 교차하여 적어도 하나의 교차 위치를 형성하는 적어도 하나의 제2 방향의 전극; 및
상기 교차 위치를 도포하도록 상기 제2 방향의 전극 일부 상에 배치되어 있는 적어도 하나의 보호 블록;
을 포함하고,
상기 정전용량 방식의 터치 감지 구조는 투명한 재료로 이루어져 있으며 상기 디스플레이 유닛과 결합되어 있고, 상기 정전용량 방식의 터치 감지 구조의 상기 제1 방향의 전극 및 상기 제2 방향의 전극은 상기 적어도 하나의 와이어에 의해 상기 프로세서에 접속되어 있는, 정전용량 방식의 터치 감지 장치.
1. A capacitive touch sensing device comprising:
At least one wire;
A processor;
A display unit; And
Capacitive touch sensing structure;
/ RTI >
Wherein the capacitive touch sensing structure comprises:
Board;
At least one electrode in the first direction superposed on the substrate;
At least one insulator superposed on the electrode in the first direction;
At least one second directional electrode overlapped on the insulator opposite the electrode in the first direction and intersecting the electrode in the first direction to form at least one intersection; And
At least one protection block disposed on a portion of the electrode in the second direction to apply the intersection;
/ RTI >
Wherein the capacitive touch sensing structure is made of a transparent material and is coupled to the display unit, wherein electrodes in the first direction and electrodes in the second direction of the capacitive touch sensing structure are electrically connected to the at least one wire Wherein the processor is connected to the processor.
제17항에 있어서, 상기 디스플레이 유닛은 편광판을 포함하며, 상기 정전용량 방식의 터치 감지 구조는 상기 편광판의 내측 표면상에 배치되어 있는, 정전용량 방식의 터치 감지 장치.18. The touch sensing device of claim 17, wherein the display unit includes a polarizing plate, and the capacitive touch sensing structure is disposed on an inner surface of the polarizing plate. 제17항에 있어서, 상기 디스플레이 유닛은 LCD 유닛인, 정전용량 방식의 터치 감지 장치.18. The touch sensing device of claim 17, wherein the display unit is an LCD unit.
KR1020127029258A 2010-05-04 2010-07-19 Capacitive touch sensing structure, process of producing the same and touch sensing device using the same KR101548014B1 (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN2010101678610A CN102236482B (en) 2010-05-04 2010-05-04 Capacitive touch structure, manufacturing method thereof and touch equipment
CN201010167861.0 2010-05-04
PCT/CN2010/075268 WO2011137606A1 (en) 2010-05-04 2010-07-19 Capacitive touch sensing structure, process of producing the same and touch sensing device using the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20130029388A KR20130029388A (en) 2013-03-22
KR101548014B1 true KR101548014B1 (en) 2015-08-27

Family

ID=44887183

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020127029258A KR101548014B1 (en) 2010-05-04 2010-07-19 Capacitive touch sensing structure, process of producing the same and touch sensing device using the same

Country Status (6)

Country Link
EP (1) EP2567307A4 (en)
JP (1) JP5599940B2 (en)
KR (1) KR101548014B1 (en)
CN (1) CN102236482B (en)
DE (1) DE202010018618U1 (en)
WO (1) WO2011137606A1 (en)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103123559A (en) * 2011-11-17 2013-05-29 升达科技股份有限公司 Capacitance-type touchpad structure and manufacturing method thereof
CN103699252B (en) * 2012-09-27 2016-12-21 宝宸(厦门)光学科技有限公司 Touch control device structure and manufacture method thereof
JP6057332B2 (en) * 2013-02-06 2017-01-11 アルプス電気株式会社 Input device
US20150370372A1 (en) * 2014-06-20 2015-12-24 Maxim Integrated Products, Inc. Capacitive touch panel having dielectric structures formed therein
CN107728861B (en) * 2016-08-10 2021-09-14 深圳莱宝高科技股份有限公司 Capacitive touch panel
CN107329643A (en) * 2017-08-16 2017-11-07 永沣御光电科技(东莞)有限公司 Capacitance digital is drawn and writing device

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010029979A1 (en) * 2008-09-12 2010-03-18 オプトレックス株式会社 Electrostatic capacity type touch panel, display device, and electrostatic capacity type touch panel manufacturing method

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6269582A (en) * 1985-09-21 1987-03-30 富士通株式会社 Forming method for circuit of printed board
JPH0527265A (en) * 1991-07-24 1993-02-05 Sanyo Electric Co Ltd Liquid crystal display device and production thereof
US6819316B2 (en) * 2001-04-17 2004-11-16 3M Innovative Properties Company Flexible capacitive touch sensor
JP2005302808A (en) * 2004-04-07 2005-10-27 Sharp Corp Manufacturing method of thin film transistor array substrate
CN101334702A (en) * 2007-06-28 2008-12-31 触控科技有限公司 Transparent touching control panel device
TWM344544U (en) * 2007-12-25 2008-11-11 Cando Corp Sensory structure of touch panel
JP2009265748A (en) * 2008-04-22 2009-11-12 Hitachi Displays Ltd Display with touch panel
US8970504B2 (en) * 2008-04-25 2015-03-03 Apple Inc. Reliability metal traces
TWI394067B (en) * 2008-06-20 2013-04-21 Multi - sensor touchpad
US8629842B2 (en) * 2008-07-11 2014-01-14 Samsung Display Co., Ltd. Organic light emitting display device
CN101441545A (en) * 2008-12-08 2009-05-27 中国南玻集团股份有限公司 Capacitance type touch control screen and manufacturing method thereof
CN101639749B (en) * 2009-08-21 2012-01-11 深圳莱宝高科技股份有限公司 Wiring and manufacturing method of capacitive touch screen
CN101692193B (en) * 2009-09-07 2012-03-28 苏州超联光电有限公司 Manufacturing method of capacitive touch screen
CN101699377B (en) * 2009-09-11 2013-03-06 深超光电(深圳)有限公司 Touch panel
CN201725317U (en) * 2010-05-04 2011-01-26 宸鸿光电科技股份有限公司 Capacitive touch control structure and touch control equipment

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010029979A1 (en) * 2008-09-12 2010-03-18 オプトレックス株式会社 Electrostatic capacity type touch panel, display device, and electrostatic capacity type touch panel manufacturing method

Also Published As

Publication number Publication date
CN102236482A (en) 2011-11-09
DE202010018618U1 (en) 2018-11-27
JP5599940B2 (en) 2014-10-01
WO2011137606A1 (en) 2011-11-10
EP2567307A4 (en) 2016-06-22
EP2567307A1 (en) 2013-03-13
CN102236482B (en) 2013-11-06
JP2013525925A (en) 2013-06-20
KR20130029388A (en) 2013-03-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101410584B1 (en) Touch panel and a manufacturing method thereof
JP5512734B2 (en) Conductive pattern structure of capacitive touch panel
JP5563417B2 (en) Display device with touch panel
US9086766B2 (en) Touch panel and touch display panel
CN108780368B (en) Touch screen, touch panel, display device and electronic equipment
CN110502152B (en) Touch panel, touch display panel and touch display device
TWI480775B (en) Touch panel and manufacturing method thereof
KR101548014B1 (en) Capacitive touch sensing structure, process of producing the same and touch sensing device using the same
JP6384058B2 (en) Touch screen, touch panel, display device with touch panel, and electronic device
JP5877864B2 (en) Conductive pattern structure of capacitive touch panel
TW201308176A (en) Capacitive touch panel and method for reducing visibility of its metal conductor
TWI514228B (en) Display apparatus with touch sensor and method for manufacturing the same
JP6541418B2 (en) Touch screen, touch panel, display device and electronic device
US9058083B2 (en) Touch sensing structure and method for making the same
KR101056264B1 (en) Touch screen panel
TW201510803A (en) Touch panel and liquid crystal display device using the same
KR20150072838A (en) Touch panel
EP2837996B1 (en) Projected capacitance touch screen and manufacturing method thereof
TWI409684B (en) Electrode pattern structure of a capacitive touch panel and method of manufacturing the same
JP3130570U (en) Touch panel structure
JP2018063677A (en) Touch screen panel
KR101378597B1 (en) Touch screen panel
JP2013156949A (en) Touch panel
KR20140054756A (en) Touch screen panel
KR20130053963A (en) Touch screen panel and manufacturing method of the same

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180704

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190604

Year of fee payment: 5