KR20130053963A - Touch screen panel and manufacturing method of the same - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A touch screen panel and a manufacturing method are provided to form first and second detection wirings connected to first and second electrode patterns by using a transparent conductive material, thereby not forming a light blocking area. CONSTITUTION: A first electrode pattern(120) is extended to a first direction on a transparent substrate and includes a transparent conductive material. A second electrode pattern(130) is insulated with the first electrode pattern and is extended to a second direction. The second electrode pattern includes the transparent conductive material. A first detection wiring(140) is connected to one end of the first electrode pattern and includes the transparent conductive material. A second detection wiring(150) is connected to one end of the second electrode pattern and includes the transparent conductive material. The first detection wiring is arranged in a layer which is the same as the first electrode pattern. The second detection wiring is arranged in a layer which is the same as the second electrode pattern.

Description

터치 스크린 패널 및 이의 제조 방법{TOUCH SCREEN PANEL AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a touch screen panel and a method of manufacturing the touch screen panel.

본 발명은 터치 스크린 패널 및 이의 제조 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 시인성을 개선하고 제조 공정을 간소화한 터치 스크린 패널 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a touch screen panel and a method of manufacturing the touch screen panel, and more particularly, to a touch screen panel and a method of manufacturing the touch screen panel which improve the visibility and simplify the manufacturing process.

최근에는 리모컨, 키보드 및 마우스와 같이 영상 표시 장치에 연결되는 입력 장치를 대신하여 터치 스크린 패널이 널리 사용되고 있다.In recent years, a touch screen panel has been widely used instead of an input device such as a remote controller, a keyboard, and a mouse, which is connected to a video display device.

상기 터치 스크린 패널은 표시되는 화면에 나타난 지시 내용을 스타일러스 펜(Stylus Pen), 손가락 등의 터치 수단으로 터치함으로써 사용자의 명령을 입력할 수 있는 입력 장치이다. 상기 터치 스크린 패널은 터치 수단이 터치된 위치를 전기적 신호로 변환하고, 상기 전기적 신호에 의해 확인된 터치 위치에서 선택된 지시 내용이 입력 신호로 동작된다.The touch screen panel is an input device that can input a command of a user by touching an instruction displayed on a displayed screen with a stylus pen, a finger, or the like. The touch screen panel converts the touched position into an electrical signal, and the instruction content selected at the touch position identified by the electrical signal is operated as an input signal.

상기 터치 스크린 패널은 터치를 감지하는 방법에 따라 정전 용량 방식(capacitive type), 저항막 방식(resistive type), 전자기 유도 방식(EM, Electro-magnetic type) 등으로 구분할 수 있다.The touch screen panel may be classified into a capacitive type, a resistive type, and an electromagnetic (EM) type according to a touch sensing method.

상기 정전 용량 방식의 터치 스크린 패널은 화면이 터치될 때 도전성 전극 패턴에 형성되는 정전 용량의 변화를 감지하여 접촉 위치를 검출한다. 상기 터치 스크린 패널은 접촉 위치를 정확하게 감지하기 위하여 복수의 전극 패턴들이 서로 교차하는 구조를 갖는다. 즉, 상기 터치 스크린 패널은 수직 방향으로 연장되는 수직 전극 패턴들과, 수평 방향으로 연장되는 수평 전극 패턴들을 포함하며, 상기 수직 및 수평 전극 패턴들의 외곽에 형성되고, 상기 수직 및 수평 전극들과 각각 전기적으로 연결되어 정전 용량의 외부의 제어부로 전달하기 위한 검출 배선들을 포함한다.The capacitive touch screen panel senses a change in electrostatic capacitance formed on a conductive electrode pattern when a screen is touched to detect a contact position. The touch screen panel has a structure in which a plurality of electrode patterns intersect each other to accurately detect a contact position. That is, the touch screen panel includes vertical electrode patterns extending in the vertical direction and horizontal electrode patterns extending in the horizontal direction, and formed on the outer sides of the vertical and horizontal electrode patterns, And detection wirings electrically connected to the external control unit of the capacitance.

상기 검출 배선들은 일반적으로 도전성 메탈 소재를 사용하게 된다. 따라서, 상기 검출 배선들이 배치된 영역은 비표시 영역이 되며, 상기 검출 배선들이 배치된 영역에 차광 영역을 구비하기 위하여 블랙 매트릭스(black matrix)를 형성하게 된다.The detection wirings are generally made of a conductive metal material. Therefore, a region where the detection wirings are disposed becomes a non-display region, and a black matrix is formed in order to provide a light shielding region in an area where the detection wirings are disposed.

하지만, 상기 블랙 매트릭스가 형성되는 영역은 다른 영역에 비해 상기 블랙 매트릭스의 두께에 상당하여 단차 문제를 갖게 되며, 이와 같은 단차로 경계부분에서 빛샘이 발생하게 되고, 광간섭에 의한 모아레 현상을 초래함으로써 영상의 시인성을 저하시키게 된다. 또한, 상기 전극 패턴을 형성하는 공정 이외에 상기 블랙 매트릭스를 형성하거나, 상기 메탈 소재의 검출 배선들을 형성하는 공정을 별도로 수행하여야 한다. 이러한 이유로, 메탈 소재의 검출 배선들을 포함하는 터치 스크린 패널은 그 제조 방법이 복잡한 문제점을 갖는다.However, the region where the black matrix is formed has a level difference problem corresponding to the thickness of the black matrix as compared with other regions, and light leakage occurs at the boundary portion due to such a level difference, resulting in moire phenomenon due to optical interference The visibility of the image is lowered. In addition to the step of forming the electrode pattern, the step of forming the black matrix or forming the detection wirings of the metal material must be separately performed. For this reason, the manufacturing method of the touch screen panel including the detection wirings of the metal material has complicated problems.

따라서 본 발명이 해결하고자 하는 일 과제는 메탈 재질의 검출 배선 사용을 배제하여 차광 영역 형성에 의한 시인성 저하를 개선하고, 제조 공정을 간소화 할 수 있는 터치 스크린 패널을 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, it is an object of the present invention to provide a touch screen panel capable of eliminating the use of a detection wiring of a metal material to improve visibility due to the formation of a light shielding region and simplify the manufacturing process.

본 발명이 해결하고자 하는 다른 과제는 시인성을 개선하고, 제조 공정을 간소화 할 수 있는 상기 터치 스크린 패널을 제조하기 위한 방법을 제공하는 것이다.Another problem to be solved by the present invention is to provide a method for manufacturing the touch screen panel which can improve the visibility and simplify the manufacturing process.

상술한 본 발명의 과제를 달성하기 위한 터치 스크린 패널은 절연성 투명 기판, 상기 투명 기판 상에 제1 방향으로 연장되며 투명한 도전성 물질을 포함하는 제1 전극 패턴, 상기 제1 전극 패턴과 절연되고, 상기 제1 방향에 수직한 제2 방향으로 연장되며 투명한 도전성 물질을 포함하는 제2 전극 패턴, 상기 제1 전극 패턴의 일단에 연결되며 상기 제1 전극 패턴과 동일한 물질을 포함하는 제1 검출 배선 및 상기 제2 전극 패턴의 일단에 연결되고 상기 제2 전극 패턴과 동일한 물질을 포함하는 제2 검출 배선을 포함한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a touch screen panel including: an insulating transparent substrate; a first electrode pattern extending in a first direction on the transparent substrate and including a transparent conductive material; A second electrode pattern extending in a second direction perpendicular to the first direction and including a transparent conductive material, a first detection wiring connected to one end of the first electrode pattern and including the same material as the first electrode pattern, And a second detection wiring connected to one end of the second electrode pattern and including the same material as the second electrode pattern.

일 실시예에서, 상기 제1 검출 배선은 상기 제1 전극 패턴과 동일한 레이어에 배치되고, 상기 제2 검출 배선은 상기 제2 전극 패턴과 동일한 레이어에 배치될 수 있다.In one embodiment, the first detection wiring may be disposed on the same layer as the first electrode pattern, and the second detection wiring may be disposed on the same layer as the second electrode pattern.

일 실시예에서, 상기 투명 기판과 상기 제1 전극 패턴 사이에 개재되어 상기 투명 기판과 상기 제1 전극 패턴 사이의 접착력을 증가시키기 위한 버퍼층을 더 포함할 수 있다.In one embodiment, the transparent substrate may further include a buffer layer interposed between the transparent substrate and the first electrode pattern to increase the adhesive force between the transparent substrate and the first electrode pattern.

일 실시예에서, 상기 제1 전극 패턴과 상기 제2 전극 패턴 사이에 개재되는 절연층을 더 포함할 수 있다.In one embodiment, the insulating layer may further include an insulating layer interposed between the first electrode pattern and the second electrode pattern.

일 실시예에서, 상기 제1 검출 배선과 동일한 패턴으로 상기 제1 검출 배선 상에 배치된 제1 이중 배선 및 상기 제2 검출 배선과 동일한 패턴으로 상기 제2 검출 배선 상에 배치된 제2 이중 배선을 더 포함하며, 상기 제1 및 제2 이중 배선은 투명한 도전성 물질을 포함할 수 있다.In one embodiment, a first double wiring arranged on the first detecting wiring in the same pattern as the first detecting wiring, and a second double wiring arranged on the second detecting wiring in the same pattern as the second detecting wiring, And the first and second double wirings may include a transparent conductive material.

상술한 본 발명의 다른 과제를 달성하기 위한 터치 스크린 패널 제조 방법은 절연성 투명 기판 상에 투명한 도전 물질을 이용하여 제1 도전층을 형성하는 단계와, 상기 제1 도전층을 패터닝하여 제2 방향으로 연장된 제1 전극 패턴 및 상기 제1 전극 패턴의 일단에 연결된 제1 검출 배선을 형성하는 단계와, 상기 제1 전극 패턴 및 상기 제1 검출 배선이 형성된 상기 투명 기판의 전면에 절연층을 형성하는 단계와, 상기 절연층이 형성된 상기 투명 기판의 전면에 투명한 도전 물질을 이용하여 제2 도전층을 형성하는 단계, 그리고 상기 제2 도전층을 패터닝하여 상기 제1 방향에 수직한 제2 방향으로 연장된 제2 전극 패턴 및 상기 제2 전극 패턴의 일단에 연결된 제2 검출 배선을 형성하는 단계를 포함한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a touch screen panel, including: forming a first conductive layer on a transparent insulating substrate using a transparent conductive material; patterning the first conductive layer in a second direction Forming an extended first electrode pattern and a first detection wiring connected to one end of the first electrode pattern; forming an insulating layer on the entire surface of the transparent substrate on which the first electrode pattern and the first detection wiring are formed Forming a second conductive layer on the entire surface of the transparent substrate on which the insulating layer is formed by using a transparent conductive material and patterning the second conductive layer to extend in a second direction perpendicular to the first direction; And forming a second detection wiring connected to one end of the second electrode pattern.

일 실시예에서, 상기 제1 도전층을 형성하기 전에 상기 투명 기판 상에 접착력 향상을 위한 버퍼층을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.In one embodiment, the method may further include forming a buffer layer for improving adhesion on the transparent substrate before forming the first conductive layer.

일 실시예에서, 상기 버퍼층은 이산화 규소(SiO2)를 포함할 수 있다.In one embodiment, the buffer layer may include silicon dioxide (SiO 2).

일 실시예에서, 상기 제1 검출 배선 상에 투명한 도전성 물질을 이용하여 상기 제1 검출 배선과 동일한 패턴을 갖는 제1 이중 배선을 형성하는 단계 및 상기 제2 검출 배선 상에 투명한 도전성 물질을 이용하여 상기 제2 검출 배선과 동일한 패턴을 갖는 제2 이중 배선을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.Forming a first double wiring having the same pattern as that of the first detection wiring by using a transparent conductive material on the first detection wiring; and forming a second double wiring using a transparent conductive material on the second detection wiring And forming a second double wiring having the same pattern as the second detecting wiring.

일 실시예에서, 상기 제2 전극 패턴 및 상기 제2 검출 배선이 형성된 상기 투명 기판 상에 페시베이션층을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.In one embodiment, the method may further include forming a passivation layer on the transparent substrate on which the second electrode pattern and the second detection wiring are formed.

이와 같은 터치 스크린 패널 및 터치 스크린 패널 제조 방법에 따르면, 제1 및 제2 전극 패턴들에 각각 연결되는 제1 및 제2 검출 배선들을 상기 제1 및 제2 전극 패턴과 동일한 투명 도전성 물질로 형성함으로써, 차광 영역의 형성을 배제하여 차광 영역에 의한 시인성 저하 문제를 개선할 수 있다.According to such a method of manufacturing a touch screen panel and a touch screen panel, the first and second detection wirings connected to the first and second electrode patterns are formed of the same transparent conductive material as the first and second electrode patterns , It is possible to eliminate the problem of visibility deterioration due to the shielding region by excluding the formation of the shielding region.

또한, 상기 제1 전극 패턴을 형성함과 동시에 상기 제1 검출 배선을 함께 형성하고, 상기 제2 전극 패턴을 형성함과 동시에 상기 제2 검출 배선을 함께 형성함으로써, 상기 제1 및 제2 검출 배선을 형성하기 위한 공정을 생략함으로써 터치 스크린 패널의 제조 공정을 간소화 할 수 있다.Further, the first electrode pattern and the first detection wiring may be formed together, and the second electrode pattern may be formed and the second detection wiring may be formed together, The manufacturing process of the touch screen panel can be simplified by omitting the process for forming the touch screen panel.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 스크린 패널을 나타내는 평면도이다.
도 2는 도 1에 도시된 I-I' 선을 따라 절단한 단면도이다.
도 3a 내지 도 3f는 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 스크린 패널 제조 방법을 설명하기 위한 공정 단면도들이다.
도 4a 내지 도 4c는 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 스크린 패널 제조 방법을 설명하기 위한 평면도들이다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 터치 스크린 패널을 나타내는 단면도이다.1 is a plan view of a touch screen panel according to an embodiment of the present invention.
2 is a cross-sectional view taken along the line II 'shown in FIG.
3A to 3F are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a touch screen panel according to an exemplary embodiment of the present invention.
4A to 4C are plan views illustrating a method of manufacturing a touch screen panel according to an embodiment of the present invention.
5 is a cross-sectional view illustrating a touch screen panel according to another embodiment of the present invention.

본문에 개시되어 있는 본 발명의 실시예들에 대해서, 특정한 구조적 내지 기능적 설명들은 단지 본 발명의 실시예를 설명하기 위한 목적으로 예시된 것으로, 본 발명의 실시예들은 다양한 형태로 실시될 수 있으며 본문에 설명된 실시예들에 한정되는 것으로 해석되어서는 아니 된다.For the embodiments of the invention disclosed herein, specific structural and functional descriptions are set forth for the purpose of describing an embodiment of the invention only, and it is to be understood that the embodiments of the invention may be practiced in various forms, The present invention should not be construed as limited to the embodiments described in Figs.

본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.As the inventive concept allows for various changes and numerous modifications, particular embodiments will be illustrated in the drawings and described in detail in the text. It is to be understood, however, that the invention is not intended to be limited to the particular forms disclosed, but on the contrary, is intended to cover all modifications, equivalents, and alternatives falling within the spirit and scope of the invention.

제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성 요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로 사용될 수 있다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위로부터 이탈되지 않은 채 제1 구성 요소는 제2 구성 요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성 요소도 제1 구성 요소로 명명될 수 있다.The terms first, second, etc. may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. The terms may be used for the purpose of distinguishing one component from another component. For example, without departing from the scope of the present invention, the first component may be referred to as a second component, and similarly, the second component may also be referred to as a first component.

어떤 구성 요소가 다른 구성 요소에 “연결되어” 있다거나 “접속되어” 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성 요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성 요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성 요소가 다른 구성 요소에 “직접 연결되어” 있다거나 “직접 접속되어” 있다고 언급된 때에는, 중간에 다른 구성 요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다. 구성 요소들 간의 관계를 설명하는 다른 표현들, 즉 “~사이에”와 “바로 ~사이에” 또는 “~에 인접하는”과 “~에 직접 인접하는” 등도 마찬가지로 해석되어야 한다.It is to be understood that when an element is referred to as being "connected" or "connected" to another element, it may be directly connected or connected to the other element, . On the other hand, when an element is referred to as being "directly connected" or "directly connected" to another element, it should be understood that there are no other elements in between. Other expressions that describe the relationship between components, such as "between" and "immediately adjacent to" or "adjacent to" and "directly adjacent to" should also be interpreted.

본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, “포함하다”, “구비하다” 또는 “가지다” 등의 용어는 실시된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular example embodiments only and is not intended to be limiting of the present invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise. In this application, the terms "comprises", "having", or "having", etc., designate the presence of a feature, a number, a step, an operation, an element, a component or a combination thereof, It is to be understood that the foregoing does not preclude the presence or addition of other features, numbers, steps, operations, elements, parts, or combinations thereof.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미이다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 의미인 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Unless otherwise defined, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. Terms such as those defined in commonly used dictionaries should be construed as meaning consistent with meaning in the context of the relevant art and are not to be construed as ideal or overly formal in meaning unless expressly defined in the present application .

이하, 첨부한 도면들을 참조하여, 본 발명의 예시적인 실시예들을 보다 상세하게 설명한다. 도면상의 동일한 구성 요소에 대해서 는 동일한 참조 부호를 사용하고 동일한 구성 요소에 대해서 중복되는 설명은 생략한다.
Exemplary embodiments of the present invention will now be described in more detail with reference to the accompanying drawings. The same reference numerals are used for the same constituent elements in the drawing and the duplicated description for the same constituent elements is omitted.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 스크린 패널을 나타내는 평면도이고, 도 2는 도 1에 도시된 I-I' 선을 따라 절단한 단면도이다.FIG. 1 is a plan view of a touch screen panel according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along a line I-I 'shown in FIG.

도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 스크린 패널(100)은 투명 기판(110), 제1 전극 패턴(120), 제2 전극 패턴(130), 제1 검출 배선(140) 및 제2 검출 배선(150)을 포함한다.1 and 2, a touch screen panel 100 according to an exemplary embodiment of the present invention includes a transparent substrate 110, a first electrode pattern 120, a second electrode pattern 130, (140) and a second detection wiring (150).

상기 투명 기판(110)은 평판형 기판으로 절연 부재를 포함한다. 예를 들어, 상기 투명 기판(110)은 유기 기판, 플라스틱 기판, 섬유기판, 필름기판 등을 포함할 수 있으며, 필름 기판은 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌(PE), 폴리 비닐알코올(PVA) 등을 포함할 수 있다.The transparent substrate 110 includes a plate-like substrate and an insulating member. For example, the transparent substrate 110 may include an organic substrate, a plastic substrate, a fiber substrate, a film substrate, and the like. The film substrate may be formed of polyethylene terephthalate (PET), polyethylene (PE), polyvinyl alcohol And the like.

상세히 도시하지는 않았지만, 상기 투명 기판(110)은 실질적으로 터치에 대한 감지가 이루어지는 감지 영역과, 상기 감지 영역 둘레의 에지 영역을 포함한다. 상기 감지 영역은 상기 투명 기판(110)의 중앙부로써 상기 제1 및 제2 전극 패턴(120, 130)이 배치되는 영역으로 정의할 수 있다. 상기 에지 영역은 상기 감지 영역의 둘레에 위치하며, 상기 에지 영역에는 상기 제1 및 제2 검출 배선(140, 150)이 배치된다. 상기 에지부는 상기 감지 영역의 둘레 중 일부에 배치되건, 상기 에지부를 둘러싸는 구조일 수도 있다. 상기 에지 영역은 다양한 형태를 가질 수 있으며, 본 발명이 상기 감지 영역과 상기 에지 영역의 형태에 의해 한정되지는 않는다.Although not shown in detail, the transparent substrate 110 substantially includes a sensing area for sensing a touch and an edge area around the sensing area. The sensing region may be defined as a region where the first and second electrode patterns 120 and 130 are disposed as a central portion of the transparent substrate 110. The edge region is located around the sensing region, and the first and second sensing lines 140 and 150 are disposed in the edge region. The edge portion may be disposed on a portion of the periphery of the sensing region, or may surround the edge portion. The edge region may have various shapes, and the present invention is not limited by the shape of the sensing region and the edge region.

상기 제1 전극 패턴(120)은 상기 투명 기판(110) 상에 배치되며, 제1 방향으로 연장되는 구조를 갖는다. 예를 들어, 상기 제1 전극 패턴(120)은 소정의 폭을 가지면서 상기 제1 방향으로 길게 연장된 막대 형상일 수 있다. 이와 달리, 상기 제1 전극 패턴(120)은 소정의 형상을 가지며 터치 동작시 실질적으로 정전 용량의 변화가 감지되는 복수의 센싱 패턴들과, 이들 센싱 패턴들을 상기 제1 방향을 따라서 연결하는 복수의 연결 패턴들을 포함하여 구성될 수도 있다. 상기 센싱 패턴들은 다이아몬드 형상을 비롯한 다양한 형상일 수 있다. 여기서, 상기 제1 방향은 예컨대 수직 방향(혹은 세로 방향) 일 수 있다.The first electrode pattern 120 is disposed on the transparent substrate 110 and extends in a first direction. For example, the first electrode pattern 120 may have a predetermined width and may have a rod shape elongated in the first direction. Alternatively, the first electrode pattern 120 may include a plurality of sensing patterns having a predetermined shape and substantially sensing a change in capacitance during a touch operation, and a plurality of sensing patterns And may include connection patterns. The sensing patterns may be various shapes including a diamond shape. Here, the first direction may be, for example, a vertical direction (or a vertical direction).

상기 제1 전극 패턴(120)은 투명한 도전성 물질을 포함한다. 상기 투명한 도전성 물질로는 인듐 징크 옥사이드(indium zinc oxide, IZO), 인듐 틴 옥사이드(indium tin oxide, ITO) 또는 안티모니 틴 옥사이드(antimony tin oxide, ATO) 등을 들 수 있다.The first electrode pattern 120 includes a transparent conductive material. Examples of the transparent conductive material include indium zinc oxide (IZO), indium tin oxide (ITO), antimony tin oxide (ATO), and the like.

상기 제1 전극 패턴(120)은 복수개가 상기 투명 기판(110) 상에 구비된다. 상기 복수개의 제1 전극 패턴(120)들 각각은 상기 제1 방향으로 연장되며, 서로 평행하게 배열된다.A plurality of the first electrode patterns 120 are formed on the transparent substrate 110. Each of the plurality of first electrode patterns 120 extends in the first direction and is arranged in parallel with each other.

상기 제2 전극 패턴(130)은 상기 투명 기판(110) 상에 상기 제1 전극 패턴(120)과 절연된다. 이를 위해, 상기 제2 전극 패턴(130)은 상기 제1 전극 패턴(120)과 다른 레이어(layer)에 배치될 수 있다. 예를 들어, 상기 제2 전극 패턴(130)과 상기 제1 전극 패턴(120) 사이에 절연층(114)이 구비되고, 상기 절연층(114)에 의해 상기 제2 전극 패턴(130)이 상기 제1 전극 패턴(120)과 절연될 수 있다. 상기 절연층(114)은 투명한 소재로 절연성을 갖는 다양한 물질이 사용될 수 있다.The second electrode pattern 130 is insulated from the first electrode pattern 120 on the transparent substrate 110. For this, the second electrode pattern 130 may be disposed on a different layer from the first electrode pattern 120. For example, an insulating layer 114 is provided between the second electrode pattern 130 and the first electrode pattern 120, and the second electrode pattern 130 is formed by the insulating layer 114, And may be insulated from the first electrode pattern 120. The insulating layer 114 may be formed of a transparent material having various insulating properties.

상기 제2 전극 패턴(130)은 상기 투명 기판(110) 상에서 상기 제1 방향에 수직한 제2 방향으로 연장되는 구조를 갖는다. 예를 들어, 상기 제2 전극 패턴(1300은 소정의 폭을 가지면서 상기 제2 방향으로 길게 연장된 막대 형상일 수 있다. 이와 달리, 상기 제2 전극 패턴(130)은 복수의 센싱 패턴들과 상기 센싱 패턴들을 상기 제2 방향을 따라서 연결하는 복수의 연결 패턴들을 포함하여 구성될 수도 있다. 상기 센싱 패턴들은 다이아몬드 형상을 비롯한 다양한 형상일 수 있다. 여기서, 기 제2 방향은 예컨대 수평 방향(혹은 가로 방향) 일 수 있다.The second electrode pattern 130 has a structure extending on the transparent substrate 110 in a second direction perpendicular to the first direction. For example, the second electrode pattern 1300 may have a predetermined width and may have a rod shape elongated in the second direction. Alternatively, the second electrode pattern 130 may include a plurality of sensing patterns, And a plurality of connection patterns connecting the sensing patterns along the second direction. The sensing patterns may have various shapes including a diamond shape. Here, the second direction may be, for example, a horizontal direction Horizontal direction).

상기 제2 전극 패턴(130)은 상기 제1 전극 패턴(120)과 동일한 물질을 포함할 수 있다. 즉, 상기 제2 전극 패턴(130)은 투명한 도전성 물질을 포함한다. 상기 투명한 도전성 물질로는 인듐 징크 옥사이드(indium zinc oxide, IZO), 인듐 틴 옥사이드(indium tin oxide, ITO) 또는 안티모니 틴 옥사이드(antimony tin oxide, ATO) 등을 들 수 있다.The second electrode pattern 130 may include the same material as the first electrode pattern 120. That is, the second electrode pattern 130 includes a transparent conductive material. Examples of the transparent conductive material include indium zinc oxide (IZO), indium tin oxide (ITO), antimony tin oxide (ATO), and the like.

상기 제2 전극 패턴(130)은 상기 제1 전극 패턴(120)의 경우와 마찬가지로, 복수개가 상기 투명 기판(110) 상에 구비된다. 상기 복수개의 제2 전극 패턴(130)들 각각은 상기 제2 방향으로 연장되며, 상기 제1 방향을 따라서 서로 평행하게 배열된다.A plurality of the second electrode patterns 130 are formed on the transparent substrate 110, as in the case of the first electrode patterns 120. Each of the plurality of second electrode patterns 130 extends in the second direction and is arranged parallel to each other along the first direction.

상기 제1 검출 배선(140)은 상기 투명 기판(110) 상에서 상기 제1 전극 패턴(120)의 일단에 연결된다. 상기 제1 검출 배선(140)은 상기 제1 전극 패턴(120)에서 감지된 정전 용량의 변화를 외부의 제어부(미도시)에 전달하기 위한 인출 배선이다. 이를 위해, 상기 제1 검출 배선(140)은 말단이 상기 투명 기판(110)의 일측 모서리로 연장되고, 상기 제1 검출 배선(140)의 말단에는 패드부가 구비되어 플렉시블 회로 기판(FPCB) 등을 통해 외부의 제어부(미도시)와 연결된다.The first detection wiring 140 is connected to one end of the first electrode pattern 120 on the transparent substrate 110. The first detection wiring 140 is a lead wiring for transmitting a change in capacitance sensed by the first electrode pattern 120 to an external control unit (not shown). The first detection wiring 140 extends at one edge of the transparent substrate 110 and a pad portion is provided at the end of the first detection wiring 140 to form a flexible printed circuit board (FPCB) (Not shown) through an external control unit (not shown).

상기 제1 검출 배선(140)은 상기 제1 전극 패턴(120)과 동일한 물질을 포함한다. 즉, 상기 제1 검출 배선(140)은 투명한 도전성 물질을 포함하며, 상기 투명한 도전성 물질로는 인듐 징크 옥사이드(indium zinc oxide, IZO), 인듐 틴 옥사이드(indium tin oxide, ITO) 또는 안티모니 틴 옥사이드(antimony tin oxide, ATO) 등을 들 수 있다. 또한, 상기 제1 검출 배선(140)은 상기 제1 전극 패턴(120)을 형성할 때 동시에 형성됨으로써, 상기 제1 전극 패턴(120)과 동일한 레이어(layer)에 배치될 수 있다.The first detection wiring 140 includes the same material as the first electrode pattern 120. That is, the first detection wiring 140 includes a transparent conductive material, and the transparent conductive material may include indium zinc oxide (IZO), indium tin oxide (ITO), or antimony tin oxide and antimony tin oxide (ATO). The first detection wiring 140 may be formed at the same time when the first electrode pattern 120 is formed and may be disposed on the same layer as the first electrode pattern 120.

이와 같이, 상기 제1 검출 배선(140)은 상기 제1 전극 패턴(120)과 동시에 형성됨으로써, 상기 제1 검출 배선(140)을 형성하기 위한 별도의 공정을 생략하여 상기 터치 스크린 패널(100)의 제조 공정을 간소화 할 수 있다. 또한, 상기 제1 검출 배선(140)은 상기 제1 전극 패턴(120)과 동일한 투명한 도전성 물질을 포함함으로써, 상기 제1 검출 배선(140)이 형성된 영역을 차광하기 위한 블랙 매트릭스의 사용을 생략할 수 있다. 따라서, 상기 블랙 매트릭스로 인한 단차에 의해 시인성이 저하되는 것을 개선할 수 있다.The first detection wiring 140 is formed at the same time as the first electrode pattern 120 so that a separate step for forming the first detection wiring 140 is omitted, Can be simplified. Since the first detection wiring 140 includes the same transparent conductive material as the first electrode pattern 120, the use of the black matrix for shielding the region where the first detection wiring 140 is formed is omitted . Therefore, it is possible to improve the visibility degradation due to the step due to the black matrix.

상기 제1 검출 배선(140)은 상기 제1 전극 패턴(120)에 일대일 대응하여 구비된다. 상기 제1 전극 패턴(120)이 복수개 구비되므로, 상기 제1 검출 배선(140)도 복수개 구비된다. 상기 복수개의 제1 검출 배선들(140)은 상기에서 설명한 바와 같이 상기 투명 기판(110)의 일측 모서리로 집결되어 외부의 제어부(미도시)와 연결된다. 상기 제1 검출 배선들(140)은 각각 상기 제1 전극 패턴들(120)의 일단에 연결될 수 있다.The first detection wirings 140 are provided in a one-to-one correspondence with the first electrode patterns 120. Since a plurality of the first electrode patterns 120 are provided, a plurality of the first detection wirings 140 are also provided. As described above, the plurality of first detection wirings 140 are gathered at one edge of the transparent substrate 110 and connected to an external control unit (not shown). The first detection lines 140 may be connected to one end of the first electrode patterns 120, respectively.

상기 제2 검출 배선(150)은 상기 투명 기판(110) 상에서 상기 제2 전극 패턴(130)의 일단에 연결된다. 상기 제2 검출 배선(150)은 상기 제2 전극 패턴(130)에서 감지된 정전 용량의 변화를 외부의 제어부(미도시)에 전달하기 위한 인출 배선이다. 이를 위해, 상기 제2 검출 배선(150)은 말단이 상기 투명 기판(110)의 일측 모서리로 연장되고, 상기 제2 검출 배선(150)의 말단에는 패드부가 구비되어 플렉시블 회로 기판(FPCB) 등을 통해 외부의 제어부(미도시)와 연결된다.The second detection wiring 150 is connected to one end of the second electrode pattern 130 on the transparent substrate 110. The second detection wiring 150 is a lead wiring for transmitting a change in capacitance sensed by the second electrode pattern 130 to an external control unit (not shown). The second detection wiring 150 has a distal end extending to one side edge of the transparent substrate 110 and a pad portion provided at the end of the second detection wiring 150 to connect a flexible circuit board (Not shown) through an external control unit (not shown).

상기 제2 검출 배선(150)은 상기 제2 전극 패턴(130)과 동일한 물질을 포함한다. 즉, 상기 제2 검출 배선(150)은 투명한 도전성 물질을 포함하며, 상기 투명한 도전성 물질로는 인듐 징크 옥사이드(indium zinc oxide, IZO), 인듐 틴 옥사이드(indium tin oxide, ITO) 또는 안티모니 틴 옥사이드(antimony tin oxide, ATO) 등을 들 수 있다. 또한, 상기 제2 검출 배선(150)은 상기 제2 전극 패턴(130)을 형성할 때 동시에 형성됨으로써, 상기 제2 전극 패턴(130)과 동일한 레이어(layer)에 배치될 수 있다.The second detection wiring 150 includes the same material as the second electrode pattern 130. That is, the second detection wiring 150 includes a transparent conductive material, and the transparent conductive material may include indium zinc oxide (IZO), indium tin oxide (ITO), or antimony tin oxide and antimony tin oxide (ATO). The second detection wiring 150 may be formed at the same time when the second electrode pattern 130 is formed, so that the second detection wiring 150 may be disposed on the same layer as the second electrode pattern 130.

이와 같이, 상기 제2 검출 배선(150)은 상기 제2 전극 패턴(130)과 동시에 형성됨으로써, 상기 제2 검출 배선(150)을 형성하기 위한 별도의 공정을 생략하여 상기 터치 스크린 패널(100)의 제조 공정을 간소화 할 수 있다. 또한, 상기 제2 검출 배선(150)은 상기 제2 전극 패턴(130)과 동일한 투명한 도전성 물질을 포함함으로써, 상기 제2 검출 배선(150)이 형성된 영역을 차광하기 위한 블랙 매트릭스의 사용을 생략할 수 있다. 따라서, 상기 블랙 매트릭스로 인한 단차에 의해 시인성이 저하되는 것을 개선할 수 있다.The second detection wiring 150 is formed simultaneously with the second electrode pattern 130 so that a separate step for forming the second detection wiring 150 is omitted, Can be simplified. In addition, since the second detection wiring 150 includes the same transparent conductive material as the second electrode pattern 130, the use of a black matrix for shielding a region where the second detection wiring 150 is formed is omitted . Therefore, it is possible to improve the visibility degradation due to the step due to the black matrix.

상기 제2 검출 배선(150)은 상기 제2 전극 패턴(130)에 일대일 대응하여 구비된다. 상기 제2 전극 패턴(130)이 복수개 구비되므로, 상기 제2 검출 배선(150)도 복수개 구비된다. 상기 복수개의 제2 검출 배선들(150)은 상기에서 설명한 바와 같이 상기 투명 기판(110)의 일측 모서리로 집결되어 외부의 제어부(미도시)와 연결된다. 상기 제2 검출 배선들(150)은 상기 제2 전극 패턴들(130)의 일단에 각각 연결될 수 있고, 또는 홀수 번째와 짝수 번째를 구분하여 각각 상기 제2 전극 패턴(130)의 일단 및 타단에 연결될 수 있다.The second detection wiring 150 is provided in a one-to-one correspondence with the second electrode pattern 130. Since a plurality of the second electrode patterns 130 are provided, a plurality of the second detection wirings 150 are also provided. The plurality of second detection wirings 150 are gathered at one side edge of the transparent substrate 110 and connected to an external control unit (not shown) as described above. The second detection lines 150 may be connected to one end of the second electrode patterns 130 or may be connected to one end and the other end of the second electrode pattern 130 by dividing the odd- Can be connected.

한편, 상기 제1 검출 배선(140)의 말단이 집결하는 영역과, 상기 제2 검출 배선(150)의 말단이 집결하는 영역은 동일할 수 있다. 또는, 상기 제1 검출 배선(140)의 말단이 집결하는 영역과, 상기 제2 검출 배선(150)의 말단이 집결하는 영역은 상기 투명 기판(110)에서 서로 다른 방향에 위치할 수도 있다.On the other hand, the region where the ends of the first detection wiring 140 are gathered and the region where the ends of the second detection wiring 150 are gathered may be the same. Alternatively, the region where the ends of the first detection wiring 140 are gathered and the region where the ends of the second detection wiring 150 are gathered may be located in different directions on the transparent substrate 110.

상기 터치 스크린 패널(100)은 버퍼층(112) 및 페시베이션층(116)을 더 포함할 수 있다.The touch screen panel 100 may further include a buffer layer 112 and a passivation layer 116.

상기 버퍼층(112)은 상기 투명 기판(110)과 상기 제1 전극 패턴(120) 사이 및 상기 투명 기판(110)과 상기 제1 검출 배선(130) 사이에 개재된다. 상기 버퍼층(112)은 상기 투명 기판(110)에 대한 상기 제1 전극 패턴(120) 및 상기 제1 검출 배선(140)의 접착력을 향상시킨다. 예를 들어, 상기 버퍼층(112)은 이산화 규소(SiO2) 등과 같은 산화물을 포함한다.The buffer layer 112 is interposed between the transparent substrate 110 and the first electrode pattern 120 and between the transparent substrate 110 and the first detection wiring 130. The buffer layer 112 improves adhesion between the first electrode pattern 120 and the first detection wiring 140 with respect to the transparent substrate 110. For example, the buffer layer 112 includes an oxide such as silicon dioxide (SiO 2 ).

상기 페시베이션층(116)은 상기 제2 전극 패턴(130) 및 상기 제2 검출 배선(150) 상에 형성된다. 상기 페시베이션층(116)은 상기 제2 전극 패턴(130) 및 상기 제2 검출 배선(150)을 비롯한 상기 투명 기판(110)의 전면에 대하여 형성된다. 상기 페시베이션층(116)은 상기 제2 전극 패턴(130) 및 상기 제2 검출 배선(150)을 커버하는 보호층이다. 상기 페시베이션층(116)은 일정한 두께 이상으로 형성되며, 그 상부면은 평평하게 형성되는 것이 바람직하다.The passivation layer 116 is formed on the second electrode pattern 130 and the second detection wiring 150. The passivation layer 116 is formed on the entire surface of the transparent substrate 110 including the second electrode pattern 130 and the second detection wiring 150. The passivation layer 116 is a protective layer covering the second electrode pattern 130 and the second detection wiring 150. The passivation layer 116 may be formed to have a predetermined thickness or more, and the upper surface of the passivation layer 116 may be formed flat.

상기 터치 스크린 패널(100)은 경우에 따라서 상기 페시베이션층(116)을 생략하고, 상기 제1 투명 기판(110)에 대향하여 제2 투명 기판(미도시)을 구비할 수도 있다.The touch screen panel 100 may include a second transparent substrate (not shown) opposite to the first transparent substrate 110, in which case the passivation layer 116 may be omitted.

이하에서, 상기 터치 스크린 패널(100)의 제조 방법에 대하여 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing the touch screen panel 100 will be described in detail.

도 3a 내지 도 3f는 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 스크린 패널 제조 방법을 설명하기 위한 공정 단면도들이고, 도 4a 내지 도 4c는 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 스크린 패널 제조 방법을 설명하기 위한 평면도들이다.FIGS. 3A to 3F are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a touch screen panel according to an embodiment of the present invention. FIGS. 4A to 4C illustrate a method of manufacturing a touch screen panel according to an exemplary embodiment of the present invention. Plan views.

여기서, 상기 터치 스크린 패널 제조 방법을 설명하기 위한 공정 단면도들은 상기 도 1에 도시된 I-I' 선을 따라 절단한 단면도를 기준으로 도시하였다.Here, the process cross-sectional views illustrating the method of manufacturing the touch screen panel are based on a cross-sectional view taken along the line I-I 'shown in FIG.

도 3a를 참조하면, 상기 터치 스크린 패널 제조 방법은 절연성 투명 기판(110) 상에 버퍼층(112)을 형성한다. 상기 버퍼층(112)은 이하에서 형성하게 될 제1 전극 패턴(120) 및 제1 검출 배선(140)이 상기 투명 기판(110)에 보다 강하게 접착될 수 있게 하기 위하여 형성한다. 상기 버퍼층(112)은 이산화 규소(SiO2) 등을 포함하는 산화물을 포함할 수 있다.Referring to FIG. 3A, the method for manufacturing a touch screen panel includes forming a buffer layer 112 on an insulating transparent substrate 110. The buffer layer 112 is formed to enable the first electrode pattern 120 and the first detection wiring 140 to be formed to be more strongly bonded to the transparent substrate 110. The buffer layer 112 may include an oxide including silicon dioxide (SiO 2 ) or the like.

도 3b를 참조하면, 상기 투명 기판(110) 상에 투명한 도전성 물질을 이용하여 제1 도전층(102)을 형성한다. 상기 제1 도전층(102)은 상기 투명 기판(110)의 전면에 형성된다. 상기 투명한 도전성 물질로는 인듐 징크 옥사이드(indium zinc oxide, IZO), 인듐 틴 옥사이드(indium tin oxide, ITO) 또는 안티모니 틴 옥사이드(antimony tin oxide, ATO) 등을 들 수 있다.Referring to FIG. 3B, a first conductive layer 102 is formed on the transparent substrate 110 using a transparent conductive material. The first conductive layer 102 is formed on the entire surface of the transparent substrate 110. Examples of the transparent conductive material include indium zinc oxide (IZO), indium tin oxide (ITO), antimony tin oxide (ATO), and the like.

도 3c 및 도 4a를 참조하면, 상기 제1 도전층(102)을 패터닝 한다. 상기 제1 도전층(102)에 대한 패터닝을 통해서 제1 방향으로 연장된 제1 전극 패턴(120) 및 상기 제1 전극 패턴(120)의 일단에 연결되는 제1 검출 배선(140)을 형성한다. 상기 제1 전극 패턴(120)과 상기 제1 검출 배선(140)은 함께 형성될 수 있다.Referring to FIGS. 3C and 4A, the first conductive layer 102 is patterned. A first electrode pattern 120 extending in a first direction and a first detection wiring 140 connected to one end of the first electrode pattern 120 are formed through patterning with respect to the first conductive layer 102 . The first electrode pattern 120 and the first detection wiring 140 may be formed together.

도 3d 및 도 4b를 참조하면, 상기 제1 전극 패턴(120) 및 상기 제1 검출 배선(140)이 형성된 상기 투명 기판(110) 상에 절연 물질로 절연층(114)을 형성한다. 상기 절연층(114)은 질화 실리콘(SiNx), 산화 실리콘(SiO2) 등을 포함할 수 있다.3D and 4B, an insulating layer 114 is formed of an insulating material on the transparent substrate 110 on which the first electrode pattern 120 and the first detecting wiring 140 are formed. The insulating layer 114 may include silicon nitride (SiNx), silicon oxide (SiO2), or the like.

도 3e를 참조하면, 상기 절연층(114)이 형성된 상기 투명 기판(110) 상에 투명한 도전성 물질을 이용하여 제2 도전층(104)을 형성한다. 상기 제2 도전층(104)은 투명 기판(110)의 전면에 대하여 형성된다. 상기 제2 도전층(104)을 형성하는 상기 투명한 도전성 물질로는 인듐 징크 옥사이드(indium zinc oxide, IZO), 인듐 틴 옥사이드(indium tin oxide, ITO) 또는 안티모니 틴 옥사이드(antimony tin oxide, ATO) 등을 들 수 있다.Referring to FIG. 3E, a second conductive layer 104 is formed on the transparent substrate 110 on which the insulating layer 114 is formed, using a transparent conductive material. The second conductive layer 104 is formed on the entire surface of the transparent substrate 110. The transparent conductive material forming the second conductive layer 104 may be indium zinc oxide (IZO), indium tin oxide (ITO), or antimony tin oxide (ATO) And the like.

도 3f 및 도 4c를 참조하면, 상기 제2 도전층(104)을 패터닝 한다. 상기 제2 도전층(104)에 대한 패터닝을 통해서 상기 제1 방향에 수직한 제2 방향으로 연장된 제2 전극 패턴(130) 및 상기 제2 전극 패턴(130)의 일단에 연결되는 제2 검출 배선(140)을 형성한다. 상기 제2 전극 패턴(130)과 상기 제2 검출 배선(150)은 함께 형성될 수 있다.Referring to FIGS. 3F and 4C, the second conductive layer 104 is patterned. A second electrode pattern 130 extending in a second direction perpendicular to the first direction through patterning with respect to the second conductive layer 104 and a second electrode pattern 130 connected to one end of the second electrode pattern 130. [ Wiring 140 is formed. The second electrode pattern 130 and the second detection wiring 150 may be formed together.

상기 제2 전극 패턴(130) 및 상기 제2 검출 배선(150)을 형성 후에, 상기 투명 기판(110)에 대해 페시베이션층(116)을 형성할 수 있다. 상기 페시베이션층(116)은 상부면이 평평하게 형성될 수 있다.The passivation layer 116 may be formed on the transparent substrate 110 after the second electrode pattern 130 and the second detection wiring 150 are formed. The passivation layer 116 may have a flat upper surface.

상기 제조 방법에 의해 형성되는 상기 터치 스크린 패널(100)은 실질적으로 복수의 제1 전극 패턴들(120) 및 제2 전극 패턴들(130)을 구비하며, 상기 제1 및 제2 전극 패턴들(120, 130)에 각각 연결되는 복수의 제1 검출 배선들(140) 및 제2 검출 배선들(150)을 구비한다. 여기서, 상기 제1 검출 배선들(140) 및 상기 제2 검출 배선들(150)은 상기 투명 기판(110)의 일측 모서리, 예를 들어 상기 투명 기판(110)의 하단 모서리에 집결되는 구조일 수 있다.The touch screen panel 100 formed by the manufacturing method includes a plurality of first electrode patterns 120 and second electrode patterns 130, and the first and second electrode patterns A plurality of first detection wirings 140 and second detection wirings 150 connected to the first detection wirings 120 and 130, respectively. Here, the first detection lines 140 and the second detection lines 150 may be arranged at one corner of the transparent substrate 110, for example, at the lower edge of the transparent substrate 110 have.

한편, 상기 제1 및 제2 검출 배선(140, 150)을 투명한 도전성 물질로 형성할 경우 저항 특성이 나쁘기 때문에 신호 전달이 원활하지 못할 수 있다. 이를 개선하기 위한 구조를 이하에서 설명한다.On the other hand, when the first and second detection wirings 140 and 150 are formed of a transparent conductive material, signal transmission may not be smooth due to poor resistance characteristics. The structure for improving this will be described below.

도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 터치 스크린 패널을 나타내는 단면도이다.5 is a cross-sectional view illustrating a touch screen panel according to another embodiment of the present invention.

본 발명의 다른 실시예에 다른 터치 스크린 패널은 일부 구성을 제외하고는 도 1 및 도 2에서 설명한 터치 스크린 패널(110)과 실질적으로 동일하다. 따라서, 동일 부재에 대해서는 동일한 도면부호를 사용하고, 상세한 설명은 차이점 위주로 간략하게 설명하기로 한다.The touch screen panel according to another embodiment of the present invention is substantially the same as the touch screen panel 110 described in FIGS. 1 and 2 except for some configurations. Therefore, the same reference numerals are used for the same members, and the detailed description will be briefly described with a focus on the differences.

도 5를 참조하면, 다른 실시예에 따른 터치 스크린 패널(200)은 투명 기판(110), 제1 전극 패턴(120), 제2 전극 패턴(130), 제1 검출 배선(140), 제2 검출 배선(150), 제1 이중 배선(142) 및 제2 이중 배선(152)을 포함한다.5, a touch screen panel 200 according to another embodiment includes a transparent substrate 110, a first electrode pattern 120, a second electrode pattern 130, a first detection wiring 140, A detection wiring 150, a first double wiring 142, and a second double wiring 152.

상기 제1 이중 배선(142)은 상기 제1 검출 배선(140) 상에 배치되며, 상기 제1 검출 배선(140)과 동일한 패턴을 갖는다. 상기 제1 이중 배선(142)은 상기 제1 검출 배선(140)의 역할을 보조한다. 상기 제1 이중 배선(142)은 상기 제1 검출 배선(140)의 부하를 감소시킴으로써, 상기 제1 검출 배선(140)의 낮은 저항 특성에 따른 불량을 개선한다.The first double wiring 142 is disposed on the first detection wiring 140 and has the same pattern as the first detection wiring 140. The first double wiring 142 assists the role of the first detection wiring 140. The first double wiring 142 reduces the load on the first detecting wiring 140, thereby improving the defects due to the low resistance characteristic of the first detecting wiring 140. [

상기 제1 이중 배선(142)은 제1 검출 배선(140)과 동일한 물질을 포함한다. 즉, 상기 제1 이중 배선(142)은 투명한 도전성 물질을 포함하며, 상기 투명한 도전성 물질로는 인듐 징크 옥사이드(indium zinc oxide, IZO), 인듐 틴 옥사이드(indium tin oxide, ITO) 또는 안티모니 틴 옥사이드(antimony tin oxide, ATO) 등을 들 수 있다.The first double wiring 142 includes the same material as the first detection wiring 140. That is, the first double wiring 142 includes a transparent conductive material, and the transparent conductive material may include indium zinc oxide (IZO), indium tin oxide (ITO), or antimony tin oxide and antimony tin oxide (ATO).

상기 제2 이중 배선(152)은 상기 제2 검출 배선(150) 상에 배치되며, 상기 제2 검출 배선(150)과 동일한 패턴을 갖는다. 상기 제2 이중 배선(152)은 상기 제2 검출 배선(150)의 역할을 보조한다. 상기 제2 이중 배선(152)은 상기 제2 검출 배선(140)의 부하를 감소시킴으로써, 상기 제1 검출 배선(140)의 낮은 저항 특성에 따른 불량을 개선한다.The second double wiring 152 is disposed on the second detection wiring 150 and has the same pattern as that of the second detection wiring 150. The second double wiring 152 assists the role of the second detection wiring 150. The second double wiring 152 reduces the load on the second detecting wiring 140, thereby improving defects due to the low resistance characteristic of the first detecting wiring 140. [

상기 제1 이중 배선(142)은 제1 검출 배선(140)과 동일한 물질을 포함한다. 즉, 상기 제1 이중 배선(142)은 투명한 도전성 물질을 포함하며, 상기 투명한 도전성 물질로는 인듐 징크 옥사이드(indium zinc oxide, IZO), 인듐 틴 옥사이드(indium tin oxide, ITO) 또는 안티모니 틴 옥사이드(antimony tin oxide, ATO) 등을 들 수 있다.The first double wiring 142 includes the same material as the first detection wiring 140. That is, the first double wiring 142 includes a transparent conductive material, and the transparent conductive material may include indium zinc oxide (IZO), indium tin oxide (ITO), or antimony tin oxide and antimony tin oxide (ATO).

다른 실시예에 따른 터치 스크린 패널 제조 방법은 상기 제1 및 제2 이중 배선(142, 152)의 형성 단계를 제외하면, 상기 도 3a 내지 도 3f와, 상기 도 4a 내지 도 4c에서 설명한 제조 방법과 실질적으로 유사하다. 따라서, 상기 제1 및 제2 이중 배선(142, 152)의 형성 단계에 대해서만 설명하기로 한다.The method of manufacturing a touch screen panel according to another embodiment may include the steps of forming the first and second double wirings 142 and 152 by using the manufacturing method described with reference to FIGs. 3A to 3F, FIGS. 4A to 4C, They are substantially similar. Therefore, only the steps of forming the first and second double wirings 142 and 152 will be described.

상세히 도시하지는 않았지만, 상기 제1 전극 패턴(120) 및 제1 검출 배선(140)의 형성이 완료되면, 상기 절연층(114)을 형성하기 전에 상기 제1 검출 배선(140)의 상에 상기 제1 이중 배선(142)을 형성한다. 상기 제1 이중 배선(142)은 상기 투명 기판(110) 상에 투명한 도전성 물질로 제1 이중 도전층을 형성하고, 상기 제1 이중 도전층을 패터닝 하여 상기 제1 검출 배선(140)과 동일한 패턴으로 상기 제1 이중 배선(142)을 형성한다.Although not shown in detail, when the formation of the first electrode pattern 120 and the first detection wiring 140 is completed, before the insulating layer 114 is formed, 1 double wiring 142 is formed. The first double wiring layer 142 may be formed by forming a first double conductive layer of a transparent conductive material on the transparent substrate 110 and patterning the first double conductive layer to form the same pattern as the first detection wiring 140 The first double wiring 142 is formed.

상기 절연층(114)은 상기 제1 이중 배선(142)이 형성된 상기 투명 기판(110)에 대하여 형성한다.The insulating layer 114 is formed on the transparent substrate 110 on which the first double wiring 142 is formed.

상세히 도시하지는 않았지만, 상기 제2 전극 패턴(120) 및 제2 검출 배선(150)의 형성이 완료되면, 상기 페시베이션층(116)을 형성하기 전에 상기 제2 검출 배선(150) 상에 상기 제2 이중 배선(152)을 형성한다. 상기 제2 이중 배선(152)은 상기 투명 기판(110) 상에 투명한 도전성 물질을 이용하여 제2 이중 도전층을 형성하고, 상기 제2 이중 도전층을 패터닝 하여 상기 제2 검출 배선(150)과 동일한 패턴으로 상기 제2 이중 배선(152)을 형성한다.Although not shown in detail, when the formation of the second electrode pattern 120 and the second detection wiring 150 is completed, the second detection wiring 150 is formed on the second detection wiring 150 before the passivation layer 116 is formed, 2 double wiring 152 is formed. The second double wiring 152 may be formed by forming a second double conductive layer using a transparent conductive material on the transparent substrate 110, patterning the second double conductive layer, The second double wiring 152 is formed in the same pattern.

이와 같이, 상기 제1 및 제2 이중 배선(142, 152)에 의해 배선 부위에서의 체적 저항 특성이 증가되므로, 저항 특성 저하로 인한 불량을 개선할 수 있다.As described above, since the volume resistance characteristic at the wiring portion is increased by the first and second double wirings 142 and 152, the defect due to the lowering of the resistance characteristic can be improved.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the present invention as defined by the following claims. It can be understood that it is possible.

이와 같은 터치 스크린 패널 및 이의 제조 방법에 따르면, 제1 및 제2 전극 패턴들에 각각 연결되는 제1 및 제2 검출 배선들을 상기 제1 및 제2 전극 패턴과 동일한 투명 도전성 물질로 형성함으로써, 차광 영역의 형성을 배제하여 차광 영역에 의한 시인성 저하 문제를 개선할 수 있다.According to the touch screen panel and the method of manufacturing the same, the first and second detection wirings connected to the first and second electrode patterns are formed of the same transparent conductive material as the first and second electrode patterns, It is possible to eliminate the formation of the region and to solve the visibility problem caused by the light shielding region.

또한, 상기 제1 전극 패턴을 형성함과 동시에 상기 제1 검출 배선을 함께 형성하고, 상기 제2 전극 패턴을 형성함과 동시에 상기 제2 검출 배선을 함께 형성함으로써, 상기 제1 및 제2 검출 배선을 형성하기 위한 공정을 생략함으로써 터치 스크린 패널의 제조 공정을 간소화 할 수 있다.Further, the first electrode pattern and the first detection wiring may be formed together, and the second electrode pattern may be formed and the second detection wiring may be formed together, The manufacturing process of the touch screen panel can be simplified by omitting the process for forming the touch screen panel.

따라서, 본 발명에 따른 터치 스크린 패널 및 이의 제조 방법은 제조 공정을 간소화하여 생산성을 향상시키고, 시인성을 개선하기 위하여 바람직하게 사용될 수 있다.Accordingly, the touch screen panel and the method of manufacturing the same according to the present invention can be preferably used to improve the productivity and improve the visibility by simplifying the manufacturing process.

100: 터치 스크린 패널 102: 제1 도전층
104: 제2 도전층 110: 투명 기판
112: 버퍼층 114: 절연층
116: 페시베이션층 120; 제1 전극 패턴
130: 제2 전극 패턴 140: 제1 검출 배선
142: 제1 이중 배선 150: 제2 검출 배선
152: 제2 이중 배선100: touch screen panel 102: first conductive layer
104: second conductive layer 110: transparent substrate
112: buffer layer 114: insulating layer
116: passivation layer 120; The first electrode pattern
130: second electrode pattern 140: first detection wiring
142: first double wiring 150: second detection wiring
152: second double wiring

Claims (10)

절연성 투명 기판;
상기 투명 기판 상에 제1 방향으로 연장되며 투명한 도전성 물질을 포함하는 제1 전극 패턴;
상기 제1 전극 패턴과 절연되고, 상기 제1 방향에 수직한 제2 방향으로 연장되며 투명한 도전성 물질을 포함하는 제2 전극 패턴;
상기 제1 전극 패턴의 일단에 연결되며 상기 제1 전극 패턴과 동일한 물질을 포함하는 제1 검출 배선; 및
상기 제2 전극 패턴의 일단에 연결되고 상기 제2 전극 패턴과 동일한 물질을 포함하는 제2 검출 배선을 포함하는 터치 스크린 패널;An insulating transparent substrate;
A first electrode pattern extending on the transparent substrate in a first direction and including a transparent conductive material;
A second electrode pattern insulated from the first electrode pattern and extending in a second direction perpendicular to the first direction and including a transparent conductive material;
A first detection line connected to one end of the first electrode pattern and including the same material as the first electrode pattern; And
A touch screen panel connected to one end of the second electrode pattern and including a second detection wire including the same material as the second electrode pattern; 제 1 항에 있어서, 상기 제1 검출 배선은 상기 제1 전극 패턴과 동일한 레이어에 배치되고,
상기 제2 검출 배선은 상기 제2 전극 패턴과 동일한 레이어에 배치된 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널.The semiconductor device according to claim 1, wherein the first detection wiring is disposed on the same layer as the first electrode pattern,
And the second detection wiring is disposed on the same layer as the second electrode pattern. 제 1 항에 있어서, 상기 투명 기판과 상기 제1 전극 패턴 사이에 개재되어 상기 투명 기판과 상기 제1 전극 패턴 사이의 접착력을 증가시키기 위한 버퍼층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널.The touch screen panel according to claim 1, further comprising a buffer layer interposed between the transparent substrate and the first electrode pattern to increase the adhesive force between the transparent substrate and the first electrode pattern. 제 1 항에 있어서, 상기 제1 전극 패턴과 상기 제2 전극 패턴 사이에 개재되는 절연층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널.The touch screen panel according to claim 1, further comprising an insulating layer interposed between the first electrode pattern and the second electrode pattern. 제 1 항에 있어서, 상기 제1 검출 배선과 동일한 패턴으로 상기 제1 검출 배선 상에 배치된 제1 이중 배선; 및
상기 제2 검출 배선과 동일한 패턴으로 상기 제2 검출 배선 상에 배치된 제2 이중 배선을 더 포함하며,
상기 제1 및 제2 이중 배선은 투명한 도전성 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널.The semiconductor device according to claim 1, further comprising: a first double wiring arranged on the first detecting wiring in the same pattern as the first detecting wiring; And
And a second double wiring arranged on the second detecting wiring in the same pattern as the second detecting wiring,
Wherein the first and second double wires comprise a transparent conductive material. 절연성 투명 기판 상에 투명한 도전 물질을 이용하여 제1 도전층을 형성하는 단계;
상기 제1 도전층을 패터닝하여 제2 방향으로 연장된 제1 전극 패턴 및 상기 제1 전극 패턴의 일단에 연결된 제1 검출 배선을 형성하는 단계;
상기 제1 전극 패턴 및 상기 제1 검출 배선이 형성된 상기 투명 기판의 전면에 절연층을 형성하는 단계;
상기 절연층이 형성된 상기 투명 기판의 전면에 투명한 도전 물질을 이용하여 제2 도전층을 형성하는 단계;
상기 제2 도전층을 패터닝하여 상기 제1 방향에 수직한 제2 방향으로 연장된 제2 전극 패턴 및 상기 제2 전극 패턴의 일단에 연결된 제2 검출 배선을 형성하는 단계를 포함하는 터치 스크린 패널 제조 방법.Forming a first conductive layer on the insulating transparent substrate using a transparent conductive material;
Patterning the first conductive layer to form a first electrode pattern extending in a second direction and a first detection wiring connected to one end of the first electrode pattern;
Forming an insulating layer on the entire surface of the transparent substrate on which the first electrode pattern and the first detecting wiring are formed;
Forming a second conductive layer on the entire surface of the transparent substrate on which the insulating layer is formed by using a transparent conductive material;
Patterning the second conductive layer to form a second electrode pattern extending in a second direction perpendicular to the first direction and forming a second detection wiring connected to one end of the second electrode pattern; Way. 제 6 항에 있어서, 상기 제1 도전층을 형성하기 전에 상기 투명 기판 상에 접착력 향상을 위한 버퍼층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널 제조 방법.The method of claim 6, further comprising forming a buffer layer for improving adhesion on the transparent substrate before forming the first conductive layer. 제 7 항에 있어서, 상기 버퍼층은 이산화 규소(SiO2)를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널.The touch screen panel of claim 7, wherein the buffer layer comprises silicon dioxide (SiO 2 ). 제 6 항에 있어서, 상기 제1 검출 배선 상에 투명한 도전성 물질을 이용하여 상기 제1 검출 배선과 동일한 패턴을 갖는 제1 이중 배선을 형성하는 단계; 및
상기 제2 검출 배선 상에 투명한 도전성 물질을 이용하여 상기 제2 검출 배선과 동일한 패턴을 갖는 제2 이중 배선을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널 제조 방법.7. The method of claim 6, further comprising: forming a first double wiring having the same pattern as the first detecting wiring on the first detecting wiring using a transparent conductive material; And
And forming a second double wiring having the same pattern as that of the second detecting wiring by using a transparent conductive material on the second detecting wiring. 제 6 항에 있어서, 상기 제2 전극 패턴 및 상기 제2 검출 배선이 형성된 상기 투명 기판 상에 페시베이션층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널의 제조 방법.7. The method of claim 6, further comprising forming a passivation layer on the transparent substrate on which the second electrode pattern and the second detection wiring are formed.
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