KR101544734B1 - 가압원판, 접합장치 및 접합방법 - Google Patents

가압원판, 접합장치 및 접합방법 Download PDF

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Abstract

일방의 원판의 측면의 1군데에 각도맞춤용의 노치가 있더라도 2매의 원판을 접합한 후의 원판적층체의 원주방향의 두께 프로필에 불균형이 발생하는 것을 억제한다. 스테이지(50)상에 지지된, 접착제가 상면에 균일하게 도포된 제1원판(W1)의 상방에, 측면에 각도맞춤용의 노치(N)가 형성된 제2원판(W2)이 대향하도록 지지되고, 제1원판(W1) 및 제2원판(W2)과 중심맞춤이 이루어진 가압원판(60)에 의하여 제2원판(W2)의 상면을 균등한 힘으로 가압하여 제1원판(W1) 및 제2원판(W2)을 접합하여 원판적층체를 제작한다. 가압원판(60)의 측면에는, 제2원판(W2)의 노치(N)에 대응하여 가압원판(60)의 하면과 동일한 면으로 설정되는 돌기부(61)가 형성된다.

Description

가압원판, 접합장치 및 접합방법{PRESSURIZATION DISC, BONDING DEVICE, AND BONDING METHOD}
본 발명은, 2매의 원판을 접합하여 원판적층체(圓板積層體)를 제작하는 접합장치, 접합방법 및 그것에 사용되는 가압원판(加壓圓板)에 관한 것이다. 상세하게는 평면연삭(平面硏削)·연마가공(硏磨加工)에 의하여 반도체기판 등의 원형 피가공체(圓形 被加工體)를 박편화(薄片化)하는 데에 있어서, 미리 상기 원형 피가공체에 대하여 대략 동일한 지름의 원형지지체(圓形支持體)를 중심맞춤 및 각도맞춤을 한 후에 접합하는 접합장치, 접합방법 및 그것에 사용되는 가압원판에 관한 것이다.
TSV(Through Silicon Via = 실리콘 관통 전극) 프로세스로 대표되는 반도체 3차원 적층 프로세스에서는, 반도체기판 등의 원형 피가공체를 평면연삭·연마가공에 의하여 박편화하는 기술이 불가결하다. 박편화는 예를 들면 지름이 300mm인 실리콘 웨이퍼(silicon wafer)에 대하여 두께를 30∼50μm까지 얇게 하는 것이 요구되고 있다. 이와 같이 평면치수에 대하여 극단적으로 두께를 박편화한 원형 피가공체는, 자체의 강성(剛性)으로는 내부응력(內部應力), 자체중량(自體重量)에 의하여 평면형상을 단일물체로 유지할 수 없다. 그래서 특허문헌1에 기재되어 있는 것과 같이, 평면연삭·연마가공의 전단(前段)에 있어서 미리 원형지지체를 원형 피가공체의 비가공면(非加工面)측에 접착제(接着劑)를 통하여 접합시키는 공정이 필요하다.
이 접합공정은, 우선 박편가공(薄片加工)전의 원형 피가공체의 비가공면(이하, 이 면을 상면(上面)이라고 부른다)측을 위로 향하게 하여 스핀코트법(spin coat法)에 의하여 접착제를 전체면에 균일하게 도포한다. 접착제는 일반적으로 열경화성 수지(熱硬化性 樹脂), UV경화성 수지가 사용되고, 접합후의 열처리, UV조사에 의하여 고착(固着)시킬 수 있다.
또한 원형지지체는 평면이 미리 정밀하게 가공되어, 원형 피가공체와 대략 동일한 지름이며, 박편화전의 원형 피가공체와 대략 동일한 두께의 내열성 글라스(耐熱性 glass) 혹은 실리콘 웨이퍼가 사용된다. 접합처리는, 도9에 나타나 있는 바와 같이 원형 피가공체(W1), 원형지지체(W2)를 사이에 두고 하방(下方)에 스테이지(stage)(50), 상방(上方)에 가압원판(60)을 배치한 진공챔버(眞空chamber)(도면에 나타내지 않는다)내에서 이루어진다. 스테이지(50)와 가압원판(60)은 각각 고정밀도로 평면이 가공된 것을 사용하여, 진공챔버내에 있어서 평행도(平行度)도 서로 정밀하게 조정되어 있다. 또한 스테이지(50)와 가압원판(60)의 지름은 원형 피가공체(W1) 및 이것과 대략 동일한 지름의 원형지지체(W2)보다 작게 함으로써, 접합시에 외연부(外緣部)에서 발생하는 접착제의 밀려나옴에 의하여 오손(汚損)되지 않도록 고안되어 있다.
여기에서 스핀코트법에 의하여 원형 피가공체(W1)의 상면에 도포된 접착제층(R)의 반경방향의 두께 프로필(thickness profile)은, 스핀코트법의 특유한 현상이지만, 도9에 나타나 있는 바와 같이 외연부에 부풀어 오름을 구비하는 형상이 된다.
한편 접합공정에서는, 원형지지체(W2), 접착제층(R) 및 원형 피가공체(W1)로 구성되는 접합후의 원판적층체의 총두께에 있어서, 박편가공후의 면내 오차(面內 誤差)를 원형 피가공체(W1)의 두께의 대략 1할 정도로 억제하는 것이 요구되고 있다.
접착제층(R)의 막두께가 두꺼워지면 외연부의 접착제의 부풀어 오름이 높아지고, 그 상태에서 원형지지체(W2)보다 지름치수가 매우 작은 가압원판(60)으로 가압하면, 도10(A)에 나타나 있는 바와 같이 접합한 후에 원판적층체의 반경방향의 두께 프로필은 외연부가 두꺼워진다. 이 이유는 가압원판(60)의 지름치수가 작으면, 외연부의 접착제의 부풀어 오름을 찌부러뜨리는 힘보다 원형지지체(W2)의 강성이 약하기 때문이다. 가압원판(60)의 지름치수를 크게 해가면 두께 프로필은 평탄(平坦)에 근접하고, 더 크게 하면 도10(B)에 나타나 있는 바와 같이 반대로 외연부가 얇아지게 된다. 이 이유는 가압원판(60)의 지름치수가 큰 경우에, 외연부의 접착제가 지나치게 찌부러져서 중심부에 남은 접착제가 외주(外周)로 흘러가지 않게 되기 때문이다.
이 때문에 가압원판(60)의 지름은, 접합후의 원판적층체의 반경방향의 두께 프로필에 있어서의 이러한 외연부의 변동을 억제하여 균일화하기 위해서, 적절한 치수값이 경험적으로 사용되고 있다.
가압처리공정의 전단계에서 원형 피가공체(W1)의 상방에 배치되는 원형지지체(W2)는, 원형 피가공체(W1)에 대하여 평행도를 유지하여 지지되어 있다. 이것을 가능하게 하는 지지기구의 일례로서, 도11에 나타나 있는 바와 같이 원형지지체(W2)의 측면을 원주방향으로 등분(等分)한 부분에서 접촉하는 복수의 핀(81, 82)에 의하여 원형지지체(W2)의 중심방향을 향하는 힘을 가함으로써, 원형지지체(W2)를 파지(把持)하는 것이 채용되어 있다.
스테이지(50)상에 지지된 원형 피가공체(W1)와 지지기구로 지지된 원형지지체(W2)는 각도맞춤이 이루어져 있다. 이러한 각도맞춤을 하는 방법의 일례로서, 우선 원형지지체(W2)의 각도를 정확하게 정하고, 이것을 기준으로 하여 얼라인먼트 장치(alignment 裝置)에 의하여 원형 피가공체(W1)의 각도를 맞추고, 로봇암(robot arm) 등에 의하여 스테이지(50)상으로 반송하는 방법이 채용되어 있다. 원형지지체(W2)의 각도맞춤을 하는 방법의 일례로서, 도11에 나타나 있는 바와 같이 원형지지체(W2)의 측면의 1군데에 형성된 노치(notch)(N)에 상기 지지기구를 구성하는 복수의 핀중에서 1개의 핀(81)을 결합시키는 구성이 채용되어 있다.
이렇게 하여 지지되어 있는 원형지지체(W2)에 대하여 상방으로부터 가압원판(60)을 하강시켜서, 원형지지체(W2)의 상면에 가압원판(60)의 하면(下面)을 접촉시킨 후에, 가압원판(60)을 더 하강시켜 감으로써 원형지지체(W2)에 아래로 향하는 힘을 가한다. 이에 따라 원형지지체(W2)가 하강하여 가고, 이윽고 스테이지(50)상에 지지된 원형 피가공체(W1)의 상면에 도포된 접착제층(R)에 원형지지체(W2)의 하면이 접촉된다. 이 상태에서 가압원판(60)에 의하여 원형지지체(W2)의 상면에 압력을 더 가함으로써, 원형 피가공체(W1)와 원형지지체(W2)의 접합을 한다.
특허문헌1 : 일본국 공개특허 특개2005-159155호 공보(단락(段落) 0015, 0016 및 도2 참조)
도11은, 가압처리시의 접착제의 확산을 설명하는 평면도이다. 가압처리시에 원형지지체(W2)의 노치(N)가 형성된 부분에서는 중심으로부터의 거리가 가깝기 때문에, 접착제가 밀려나오는 양이 적은 것에 더하여 중심방향(화살표(C1) 참조)으로부터 뿐만 아니라 가로방향(화살표(C2) 참조)으로부터도 밀려오기 때문에, 반경방향에 대한 접착제의 확산이 노치(N)가 없는 부분(화살표(D) 참조)에 비하여 억제된다. 이 결과로 접합후의 원판적층체의 반경방향의 두께는, 노치부에서는 노치(N)가 없는 부분에 비하여 전체적으로 두꺼워지는 경향이 있다. 즉 각도맞춤의 기준을 만들기 위해서 원형지지체의 측면에 형성된 노치(N)가, 가압처리공정에서는 접착제의 확산의 불균일을 발생시키는 원인이 되어, 원판적층체의 원주방향의 두께 프로필에 불균형을 발생시키게 된다.
또한 가압처리공정의 전단계에서는, 원형지지체(W2)는 측면에서 복수의 핀(81, 82)이 접촉되는 형태로 지지되어 있다. 이 상태에서 원형지지체(W2)에 가압원판(60)에 의하여 상방으로부터 압력을 가해서 원형지지체(W2)를 하강시키면, 원형지지체(W2)에 있어서 측면의 핀(81, 82)이 접촉되는 부분에는 마찰(동마찰(動摩擦))이 작용한다. 특히 노치(N)가 형성된 부분에서는, 핀(81)이 원형지지체(W2)의 측면의 2점에서 접촉되기 때문에 노치(N)가 형성되어 있지 않은 부분보다 마찰이 크다. 이러한 마찰이 가압원판(60)으로부터 가해지는 압력에 대한 저항력이 되어, 도12에 나타나 있는 바와 같이 핀(81, 82)이 접촉하고 있는 부분에서는 원형지지체(W2)의 외연부가 말려 올라가기 쉽다. 이 결과, 원형지지체(W2)의 하면의 평면성이 확보되지 않은 채로 접착제층(R)에 접촉되게 되어, 지지기구의 특유한 문제로서 접합후의 마무리에 악영향을 끼칠 우려가 있었다.
본 발명은 상기한 과제를 감안하여 이루어진 것으로서, 일방(一方)의 원판의 측면의 1군데에 각도맞춤용의 노치가 있더라도 2매의 원판을 접합한 후의 원판적층체의 원주방향의 두께 프로필에 불균형이 발생하는 것을 억제하는 것이 가능한 가압원판형상을 제공하는 것이다. 또한 본 발명은, 측면의 복수부분이 핀으로 파지된 원판을 변형시키지 않고 하강시킬 수 있는 가압원판형상을 제공하는 것이다.
가압원판은, 스테이지상에 지지되고 상면에 접착제가 균일하게 도포된 제1원판의 상방에 측면의 1군데에 각도맞춤용의 노치를 구비하는 제2원판이 대향하도록 배치되어 있고, 상기 제2원판보다 작은 지름치수로 설정됨과 아울러 상기 제1원판 및 상기 제2원판에 대하여 중심맞춤이 이루어지고, 상기 제2원판의 상면에 밀착시켜서 상기 스테이지상에서 상기 제1원판에 대하여 상기 제2원판을 가압한다. 그리고 본 발명의 가압원판은, 상기 제2원판의 상기 노치에 대응하여 상기 가압원판의 측면에, 상기 가압원판의 하면과 동일한 면으로 설정되는 돌기부가 형성된 것을 특징으로 한다.
이 구성에 의하면 가압원판은, 제2원판의 노치가 형성된 부분에 대응하여 상기 가압원판의 하면과 동일한 면으로 설정된 돌기부를 구비하기 때문에, 제2원판을 가압하는 가압원판의 하면의 중심으로부터 외측 가장자리까지의 치수가, 노치부에서는 돌기부의 분만큼 노치가 형성되지 않은 부분(즉 반경과 동일한 치수)에 비하여 길어진다. 이 때문에 가압처리시에, 접착제의 밀려나오는 양이 절대적으로 적은 노치부에 가압원판의 압력이 확실히 작용하게 된다. 따라서 노치부에서의 반경방향에 대한 접착제의 확산이 촉진되어, 주류가 되는 이 방향에 있어서 접착제의 흐름에 저해되도록 가로방향으로부터의 밀려나옴도 억제된다. 이 결과로 접합후의 원판적층체의 반경방향의 두께가, 노치부에서 두꺼워지는 것이 억제된다. 즉 가압처리공정에 있어서 노치부에 기인하는 접착제의 확산의 불균일이 억제되어, 원판적층체의 원주방향의 두께 프로필에 불균형이 발생하는 것이 억제된다.
또한 가압처리공정의 전단계에서, 제1원판의 상방에 배치되는 제2원판은, 제1원판에 대하여 평행도를 유지하여 지지되어 있다. 이것을 가능하게 하는 지지기구의 일례로서, 제2원판의 측면을 원주방향으로 등분한 부분에서 접촉하는 복수의 핀에 의하여 제2원판의 중심방향을 향하는 힘을 가함으로써, 제2원판을 파지하는 것이 채용되어 있다. 이 지지구조를 채용하였을 경우에는, 상기 복수의 핀이 접촉되는 부분에 대응하여 상기 가압원판의 측면에, 상기 가압원판의 하면과 동일한 면으로 설정되는 돌기부를 형성하는 것이 바람직하다.
이 구성에 의하면 가압원판은, 제2원판에 있어서 측면의 핀이 접촉되는 부분에 대응하여 상기 가압원판의 하면과 동일한 면으로 설정된 돌기부를 구비하기 때문에, 제2원판을 가압하는 가압원판의 하면의 중심으로부터 외측 가장자리까지의 치수가, 핀이 접촉되는 부분에서는 돌기부의 분만큼 핀이 접촉되지 않는 부분(즉 반경과 동일한 치수)에 비하여 길어진다. 이 때문에 가압처리공정의 전단계에서 제2원판을 하강시킬 때에 저항력이 상대적으로 커지게 되어, 핀이 접촉되는 부분에 가압원판의 압력이 확실히 작용하게 된다. 따라서 제2원판의 외연부가 말려 올라가는 것이 억제된다. 이 결과, 원형지지체의 하면의 평면성이 확보된 상태에서 접착제층에 접촉되어, 지지기구의 특유한 문제로서 접합후의 마무리에 악영향을 끼치는 것이 억제된다.
접합장치는, 제1원판 및 제2원판이 미리 중심맞춤이 됨과 아울러 상기 제1원판의 상면 또는 상기 제2원판의 하면에 접착제가 균일하게 도포되어 있으며, 상기 제1원판 및 상기 제2원판을 상하방향으로 가압함으로써 상기 제1원판상에 접착제층을 통하여 상기 제2원판이 접합된 원판적층체를 제작하는 것이다. 제2원판의 측면의 1군데에는, 각도맞춤용의 노치가 형성되어 있다.
이러한 접합장치는, 구체적인 구성으로서 기밀성을 구비하는 처리실과, 상기 처리실내에 배치되고 상기 제1원판을 지지하는 스테이지와, 상기 처리실내의 상기 스테이지의 상방에 대향하도록 배치되고 상기 제1원판 및 상기 제2원판에 대하여 중심맞춤이 이루어진 가압원판과, 상기 가압원판을 승강시킬 수 있도록 지지하는 승강기구와, 상기 제2원판을 상기 스테이지의 상방으로 또한 상기 가압원판의 하방으로 이탈 가능하게 지지하는 지지기구를 구비한다. 그리고 본 발명의 접합장치는, 이러한 구성에 있어서 상기 가압원판은, 상기 제2원판의 상기 노치에 대응하여 상기 가압원판의 측면에, 상기 가압원판의 하면과 동일한 면으로 설정되는 돌기부가 형성된 것을 특징으로 한다.
상기 지지기구는, 구체적인 구성의 일례로서 상기 제2원판의 측면의 1군데에 접촉하는 1개의 가동핀과, 상기 제2원판의 측면의 복수부분에 접촉하는 복수개의 부동핀과, 상기 가동핀을 상기 제2원판의 반경방향으로 왕복으로 이동시키는 이동기구를 구비한다.
이 지지기구의 구성에 의하면, 이동기구를 제2원판의 반경방향으로 동작시켜서 가동핀을 제2원판의 반경방향에 있어서 중심에 근접하는 방향으로 이동시킴으로써, 가동핀이 제2원판의 측면에 가압되어 가동핀 및 부동핀에 의하여 제2원판의 측면이 파지된다. 반대로 이동기구를 제2원판의 반경방향의 반대방향으로 동작시켜서 가동핀을 제2원판의 중심으로부터 멀어지는 방향으로 이동시킴으로써, 가동핀이 제2원판의 측면으로부터 이간되어, 제2원판의 측면의 파지가 해제되어 제2원판은 이탈된다.
상기 가동핀을 상기 제2원판의 측면의 1군데에 형성된 각도맞춤용 노치에 결합시키면, 제2원판의 파지와 동시에 제2원판의 각도위치도 결정된다.
상기 지지기구는, 구체적인 구성의 다른 예로서 상기 제2원판의 상면을 상기 가압원판의 가압면에 흡착시키는 흡인기구를 구비하더라도 좋다. 이것에 의하면 흡인기구를 동작시킴으로써 흡인흡착력이 제2원판에 작용하여, 가압원판의 가압면에 제2원판의 상면이 흡착된다. 반대로 흡인기구를 정지시키면, 제2원판은 가압원판으로부터 이탈한다. 이 지지기구의 구성에서는 가압원판 자체에 제2원판이 지지되기 때문에, 별도의 지지부재가 불필요하여 지지기구를 간소화할 수 있다.
또한 상기 가압원판의 중심을 위치결정하여 상기 승강기구에 착탈하도록 지지시키는 착탈기구를 구비하면, 가압원판의 교환을 간편하게 할 수 있어 원판적층체의 로트변경에 용이하게 대응할 수 있다.
또한 본 발명의 접합방법은, 스테이지상에 지지된 접착제가 상면에 균일하게 도포된 제1원판의 상방에, 측면의 1군데에 각도맞춤용의 노치가 형성된 제2원판이 대향하도록 지지되고, 상기 제1원판 및 상기 제2원판과 중심맞춤이 이루어진 가압원판에 의하여, 상기 제2원판의 상면을 균등한 힘으로 가압하여 상기 제1원판 및 상기 제2원판을 접합하여 원판적층체를 제작하는 것이다. 그리고 본 발명의 접합방법에서는, 가압처리공정에서 상기 제2원판의 상기 노치에 대응하여 상기 가압원판의 하면과 동일한 면으로 설정된 돌기부가 측면에 형성된 가압원판을 사용한다.
대기(大氣) 중에 포함되는 성분에 의한 상기 제1원판 및 상기 제2원판의 오염을 방지하기 위해서, 상기 가압원판에 의한 가압처리는 고진공상태에서 하는 것이 바람직하다.
또 상기 제2원판의 지름치수를 상기 제1원판의 지름치수보다 크게 설정하면, 가압처리시에 제1원판의 상면에 도포된 접착제층이 제1원판의 외측으로 밀려나오더라도, 당해 제1원판보다 한단계 큰 제2원판의 하면의 외연부로 유동되고 거기에 부착되어 머물기 때문에, 제1원판의 측면에 접착제가 부착되지 않는다. 따라서 접합후의 제1원판의 지름치수가 원주방향으로 불균일하게 되는 것이 방지된다.
최적의 지름치수를 구비하는 가압원판은 상기 원판적층체의 로트별로 다르게 된다. 따라서 로트별로 가압원판의 최적의 지름치수를 관리해 두면, 로트가 변경되었을 때에는 대응되는 가압원판과 교환하는 것만으로 용이하게 대응할 수 있다.
상기 제1원판은 일례로서 실리콘 웨이퍼가 사용되고, 상기 제2원판은 일례로서 유리로 만든 지지체가 사용된다. 상기 접착제는 일례로서, 광경화성 수지(光硬化性 樹脂) 또는 열경화성 수지가 사용된다.
본 발명에 의하면, 가압원판의 압력에 의하여 2매의 원판을 접착제층을 통하여 접합함에 있어서, 일방의 원판의 측면의 1군데에 각도맞춤용의 노치가 있더라도 접합한 후의 원판적층체의 원주방향의 두께 프로필에 불균형이 발생하는 것을 억제할 수 있다. 또한 본 발명에 의하면, 측면의 복수부분이 핀으로 파지된 원판의 상방으로부터 가압원판의 압력을 부가해서 원판을 하강시킴에 있어서, 원판을 변형시키지 않고 하강시키는 것이 가능하게 된다.
[도1] 본 발명의 제1실시형태에 관한 접합장치의 개략적인 구성을 나타내는 측면도로서, 제1원판 및 제2원판에 대한 가압처리 실행전의 상태를 나타내고 있다.
[도2] 상기와 같은 접합장치의 개략적인 구성을 나타내는 측면도로서, 제1원판 및 제2원판에 대한 가압처리 실행중의 상태를 나타내고 있다.
[도3] 제2원판의 지지기구를 설명하는 평면도이다.
[도4] 도4(A)는 가동핀의 이동기구를 설명하는 측면도로서, 제2원판의 측면에 가동핀을 가압시켜서 제2원판을 지지한 상태를 나타내고 있다. 도4(B)는 가동핀의 이동기구를 설명하는 측면도로서, 제2원판의 측면으로부터 가동핀을 이간시켜서 제2원판의 지지를 해제한 상태를 나타내고 있다.
[도5] 가압원판의 일례를 나타내는 평면도이다.
[도6] 가압원판의 다른 예를 나타내는 평면도이다.
[도7] 가압원판의 또 다른 예를 나타내는 평면도이다.
[도8] 본 발명의 가압원판을 사용하여 핀에 파지되어 있는 제2원판을 하강시킬 때의 모양을 설명하는 측면도이다.
[도9] 접합장치의 원리를 설명하는 도면이다.
[도10] 도10(A)는 가압공정에서의 접착제층의 외연부의 부풀어 오름을 찌부러뜨리는 방법을 가압원판의 지름치수와의 관계로 설명하는 도면으로서, 가압원판의 지름치수가 제2원판에 비하여 매우 작은 경우를 나타내고 있다. 도10(B)는 가압공정에서의 접착제층의 외연부의 부풀어 오름을 찌부러뜨리는 방법을 가압원판의 지름치수와의 관계로 설명하는 도면으로서, 가압원판의 지름치수가 제2원판과 같은 정도인 경우를 나타내고 있다.
[도11] 가압처리 실행중에 있어서 접착제의 유동 태양을 설명하는 평면도이다.
[도12] 종래의 가압원판을 사용하여 핀에 파지되어 있는 제2원판을 하강시킬 때의 모양을 설명하는 측면도이다.
이하, 본 발명을 구현화한 실시형태를 도면을 참조하여 설명한다.
도1은, 본 발명의 제1실시형태에 관한 접합장치(接合裝置)의 개략적인 구성을 나타내는 측면도이다. 이 접합장치에서는, 미리 어느 일방(一方)에 접착제가 균일하게 도포되어 대향(對向)하도록 배치되는 2종류의 제1원판(第1圓板)(W1) 및 제2원판(第2圓板)(W2)을 접합하여 원판적층체(圓板積層體)를 제작한다. 제1원판은 일례로서 실리콘 웨이퍼(silicon wafer) 등의 반도체로 만들어진 원형 피가공체(圓形 被加工體)이며, 제2원판은 일례로서 유리로 만들어진 원형지지체(圓形 支持體)이다.
도1에 나타나 있는 바와 같이 접합장치(10)는 주요한 구성요소로서, 챔버(chamber)(처리실)(20), 감압기구(減壓機構)(30), 개폐기구(開閉機構)(40), 스테이지(stage)(50), 가압원판(加壓圓板)(60), 승강기구(昇降機構)(70) 및 지지기구(支持機構)(80)를 구비한다.
이 접합장치(10)에는, 베이스판(base板)(11) 및 상기 베이스판(11)에 고정된 문(門) 형상의 지지프레임(支持frame)(12)이 구비된다. 또 베이스판(11) 및 지지프레임(12)은 충분하게 높은 강성(剛性)을 구비하는 재질로 형성되어 있다. 지지프레임(12)의 내측에는 처리실로서의 챔버(20)가 구비된다. 챔버(20)는 상하로 분할되어 상측용기(上側容器)(20A)와 하측용기(下側容器)(20B)로 구성되어 있다. 챔버(20)의 개구부 즉 상측용기(20A)와 하측용기(20B)가 접촉되는 부분에는, 그들 사이를 밀봉하여 챔버(20)내의 기밀(氣密)을 유지하기 위한 O링(O-ring)(21)이 설치되어 있다.
하측용기(20B)는 베이스판(11)에 지지되어 있다. 상측용기(20A)는 지지프레임(12)에 매달려 지지되어 있으며 또한 개폐기구(40)에 의하여 승강(상하이동)이 가능하도록 구성되어 있다.
개폐기구(40)는, 액추에이터(actuator)(41), 승강판(昇降板)(42) 및 지주(支柱)(43)를 구비한다. 액추에이터(41)는 피스톤(piston)(411) 및 실린더(cylinder)(412)를 구비한다. 피스톤(411)은 액추에이터(41)의 부동부(不動部)로서, 지지프레임(12)의 천장벽의 상면 중앙에 수직으로 세워서 설치된다. 실린더(412)는 액추에이터(41)의 가동부(可動部)로서, 피스톤(411)을 따라 상하이동이 가능하도록 구성된다. 액추에이터(41)는 일례로서 솔레노이드(solenoid)나 유압(油壓), 공기압(空氣壓) 등을 동력으로 하여 구동되고, 제어기구(도면에 나타내지 않는다)를 사용하여 전기적인 신호에 의하여 제어 가능하도록 구성된다. 승강판(42)은 액추에이터(41)의 실린더(412)에 고정되어, 실린더(412)와 함께 수평을 유지한 채로 상하이동이 가능하다. 피스톤(411)은 승강판(42)의 중심에 삽입되어 있다.
승강판(42)의 하면 외연부(下面 外緣部)에는, 수직으로 늘어진 복수의 지주(43)의 상단(上端)이 고정되어 있다. 지주(43)는 지지프레임(12)의 천장벽을 관통하고, 그 하단(下端)은 상측용기(20A)의 상면에 고정되어 있다. 이에 따라 상측용기(20A)는 지주(43)를 통하여 승강판(42)에 매달려 지지된다.
상기의 개폐기구(40)의 구성에 있어서 액추에이터(41)가 구동되면, 그 실린더(412)의 상하이동과 연동하여 상측용기(20A)가 하측용기(20B)에 대하여 상하로 이동된다. 이에 따라 챔버(20)의 개폐동작이 이루어지도록 되어 있다. 도1은 챔버(20)가 열린 상태를 나타내고, 도2는 챔버(20)가 닫힌 상태를 나타내고 있다.
감압기구(30)는, 진공라인(眞空line)(31), 벤트라인(vent line)(32), 진공펌프(眞空pump)(33), 진공밸브(眞空valve)(34) 및 벤트밸브(vent valve)(35)를 구비한다. 진공라인(31)은 진공재료로 제작된 배관(配管)으로 형성되고, 흡기(吸氣)측은 하측용기(20B)를 관통시켜서 부착된다. 이에 따라 진공라인(31)은 챔버(20)내와 통하고 있다. 진공라인(31)에는 진공펌프(33) 및 진공밸브(34)가 설치된다. 벤트라인(32)은 진공밸브(34)의 상류측에서 진공라인(31)으로부터 분기되어, 불활성 가스(예를 들면 질소)를 수용하는 내압용기(耐壓容器)와 연결되어 있다. 벤트라인(32)은 배관으로 형성된다. 벤트라인(32)에는 벤트밸브(35)가 설치된다.
상기의 감압기구(30)의 구성에서, 도2와 같이 챔버(20)가 닫힌 상태에서 진공밸브(34)를 개방하고 진공펌프(33)를 구동하면 챔버(20)내의 공기가 진공라인(31)을 통하여 배기된다. 이에 따라 챔버(20)내가 감압되어 고진공(高眞空)이 얻어진다. 벤트밸브(35)는, 질소 등의 불활성 가스를 벤트라인(32)을 통해서 챔버(20)내로 누설시켜서 챔버(20)내의 압력을 상압(常壓)으로 되돌릴 때에 열린다. 챔버(20)내의 압력은, 상측용기(20A)의 외측에 부착된 진공계(眞空計)(17)에 의하여 감시된다.
챔버(20)내에는, 제1원판(W1)을 지지하는 지지판으로서의 스테이지(50) 및 제2원판(W2)을 가압하는 가압원판(60)이 대향하도록 배치되어 있다. 스테이지(50)는, 흡인흡착력(吸引吸着力) 또는 정전흡착력(靜電吸着力) 중에 적어도 일방을 작용시켜서 제1원판(W1)을 흡착하여 지지하는 기구를 구비한다.
가압원판(60)은, 상측용기(20A)에 설치된 승강기구(70)에 의하여 승강할 수 있도록 지지되어 있다. 승강기구(70)는, 액추에이터(71), 부착대(72), 지축(支軸)(73) 및 원판자석(圓板磁石)(74)을 구비한다. 가압원판(60)은 스테이지(50)에 대하여 4μm 이하의 평행도(平行度)로 부착되어 조정되어 있다.
액추에이터(71)는 피스톤(711) 및 실린더(712)를 구비한다. 실린더(712)는 액추에이터(71)의 부동부로서, 그 축방향이 수직으로 배향(配向)되어 상측용기(20A)의 천장벽에 고정된 부착대(72)에 부착되어 있다. 피스톤(711)은 액추에이터(71)의 가동부로서, 부착대(72)를 관통하여 실린더(712)의 축방향으로 이동 가능하도록 즉 상하이동이 가능하도록 구성된다. 액추에이터(71)는 일례로서 솔레노이드, 유압, 공기압 등을 동력으로 하여 구동되고, 제어기구(도면에 나타내지 않는다)를 사용하여 전기적인 신호에 의하여 제어 가능하도록 구성된다.
지축(73)의 상단은 액추에이터(71)의 피스톤(711)의 하단과 동축(同軸)으로 고정된다. 지축(73)은 원기둥모양으로 형성되어 있으며, 상측용기(20A)의 천장벽 중심에 형성된 관통구멍에 삽입된다. 상측용기(20A)의 관통구멍에는 축밀봉(軸密封:shaft seal)(14)이 구비되고, 그 축밀봉(14)에 의하여 상측용기(20A)와 지축(73) 사이를 밀봉하도록 되어 있다. 지축(73)의 하단에는 원판자석(74)이 수평으로 부착된다. 원판자석(74)은, 그 중심이 동축으로 설정되어 있는 피스톤(711) 및 지축(73)의 축선과 정밀하게 얼라인먼트(alignment)된 상태로 부착되어 있다. 가압원판(60)은 자성(磁性)을 구비하는 재질(예를 들면 자성재료를 포함하는 합금 등)로 형성되어 있으며, 원판자석(74)의 자성흡착력을 작용시켜서 흡착하여 지지시키는 것이 가능하다.
가압원판(60)의 지름치수 및 가압면(하면)의 평활성(平滑性)은 매우 고정밀도로 가공되어 있다. 가압원판(60)의 상면에는 그 중심 및 중심 주위에 있어서 원주방향으로 복수의 위치결정돌기(도면에 나타내지 않는다)가 형성되어 있다. 한편 원판자석(74)의 하면에 있어서 위치결정돌기에 대응하는 부분에는 복수의 위치결정구멍이 형성되어 있다. 따라서 가압원판(60) 상면의 각 위치결정돌기를 원판자석(74)의 하면이 대응하는 각 위치결정구멍과 결합하도록 가압원판(60)을 원판자석(74)으로 흡착하여 지지시키면, 가압원판(60)은 위치 어긋남이 방지된 상태에서 또한 그 중심이 피스톤(711) 및 지축(73)의 축선과 맞춰져서 장착된다.
원판자석(74) 및 그 위치결정구멍 및 가압원판(60)의 위치결정돌기는 가압원판(60)을 착탈 가능하게 하는 착탈기구(着脫機構)의 일례이다. 이 자성흡착을 이용한 착탈기구에서는, 나사 등의 고정부품이 불필요하기 때문에 착탈작업을 원터치로 매우 간편하게 할 수 있다. 특히 원판적층체의 로트(lot)별로 가압원판(60)의 교환이 필요하게 되는 본 발명의 가압방식에서는, 교환을 용이하게 할 수 있기 때문에 매우 유용한 착탈기구가 된다.
상기의 승강기구(70)의 구성에 있어서 액추에이터(71)가 제어기구에 의하여 구동되면, 그 피스톤(711)의 상하이동에 연동하여 가압원판(60)이 스테이지(50)에 대하여 상하로 이동된다. 따라서 도2에 나타나 있는 바와 같이 챔버(20)가 닫힌 상태에서, 가압원판(60)을 하강시킴으로써 가압원판(60)과 스테이지(50) 사이에 끼워져 있었던 피가압물 즉 제1원판(W1) 및 제2원판(W2)에 대하여 상하방향의 압력이 부여된다.
스테이지(50)는 하측용기(20B)에 지지되어 있다. 스테이지(50)에는, 하방으로부터 복수의 리프트핀(lift pin)(13)이 관통되어 있다. 복수의 리프트핀(13)은 지지부재(16)상에 수직으로 세워서 설치된다. 지지부재(16)는 승강기구(90)에 의하여 상하이동이 가능하며, 이에 따라 스테이지(50)의 지지면(상면)으로부터 리프트핀(13)의 선단부(先端部)가 출몰(出沒) 가능하도록 구성된다. 승강기구(90)의 구성은 상기한 가압원판(60)의 승강기구(70)와 동일하다.
제1원판(W1)은, 얼라인먼트 장치(도면에 나타내지 않는다)를 사용하여 미리 중심맞춤 및 각도맞춤이 이루어진 상태에서, 로봇암을 구비한 반송장치(搬送裝置)(도면에 나타내지 않는다)에 의하여 스테이지(50)의 상방으로 반송되어, 스테이지(50)상으로 돌출되는 리프트핀(13)에 지지된다. 이 상태에서 리프트핀(13)을 하강시키면 제1원판(W1)은 스테이지(50)의 지지면의 정위치(定位置)에 지지된다.
제2원판(W2)은, 지지기구(80)에 의하여 스테이지(50)의 상방으로 또한 가압원판(60)의 하방으로 이탈(離脫) 가능하게 지지된다. 본 실시형태에서는, 지지기구(80)는 제2원판(W2)의 측면을 파지(把持) 가능하도록 구성되어 있다. 지지기구(80)는 가동핀(81), 부동핀(82) 및 이동기구(장치)(83)를 구비한다.
도3은 지지기구(80)를 설명하는 평면도이다. 도4(A), 도4(B)는 가동핀(81)의 이동기구(83)를 설명하는 측면도이다. 지지기구(80)를 도3, 도4(A), 도4(B)를 참조하여 상세하게 설명한다. 도3에 나타나 있는 바와 같이, 가동핀(81)은 제2원판(W2)의 측면의 1군데에 형성된 각도맞춤용 노치(N)에 결합되고, 2개의 부동핀(82)은 제2원판(W2)의 측면의 2군데에 접촉된다. 1개의 가동핀(81) 및 2개의 부동핀(82)은 중심각 120°로 제2원판(W2)의 원주를 3등분한 평면배치로 설치된다. 가동핀(81) 및 부동핀(82)은 일례로서 원기둥모양으로 형성되어 있다. 도1에 나타나 있는 바와 같이 부동핀(82)은, 상측용기(20A)의 천장벽 내면에 축방향을 수직으로 하여 고정된다.
이동기구(83)는 가동핀(81)이 제2원판(W2)의 반경방향으로 왕복이동이 가능하도록 구성된다. 도4에 나타나 있는 바와 같이 이동기구(83)는, 스텝핑 모터(stepping motor)(831), 볼스크루 너트(ball screw nut)(832), 볼스크루(833), 스템(stem)(834), 지축(835), 스토퍼(stopper)(836), 플랜지(flange)(837), 압축코일 스프링(838) 및 베어링(bearing)(839)을 구비한다.
스텝핑 모터(831)는, 그 구동축이 제2원판(W2)의 반경방향에 있어서 중심으로부터 멀어지는 방향으로 배향되어 상측용기(20A)의 천장벽 외면에 고정된다. 스텝핑 모터(831)는 펄스구동에 의하여 정역 양방향(正逆 兩方向)으로 구동축이 회전 가능하게 구성되고, 그 구동력은 볼스크루 너트(832)에 전달되어, 볼스크루 너트(832)를 정방향 또는 역방향으로 소정량만큼 회전시킨다. 볼스크루 너트(832)의 회전운동은, 볼스크루(833)의 직선운동으로 변환된다. 볼스크루(833)의 선단은 수직으로 연장되는 스템(834)의 상부에 부착된다. 스템(834)의 하부에는, 볼스크루(833)와 평행하게 연장되는 지축(835)의 기단(基端)이 부착된다.
지축(835)은 상측용기(20A)의 측벽의 관통구멍에 삽입된다. 상측용기(20A)의 관통구멍에는 축밀봉(14)이 구비되고, 그 축밀봉(14)에 의하여 상측용기(20A)와 지축(835) 사이를 밀봉하도록 되어 있다. 지축(835)의 축방향에 있어서 상측용기(20A)의 내측에 위치하는 부분에는 플랜지(837)가 형성된다. 지축(835)의 선단부는 가동핀(81)의 관통구멍에 삽입된다. 가동핀(81)의 관통구멍에는 베어링(839)이 구비되고, 그 베어링(839)에 의하여 가동핀(81)이 지축(835)을 따라 슬라이드가 가능하게 되어 있다.
지축(835)의 축방향에 있어서 플랜지(837)와 가동핀(81) 사이의 부분에는 압축코일 스프링(838)이 구비되고, 그 압축코일 스프링(838)에 의하여 가동핀(81)을 지축(835)의 선단측으로 가압하고 있다. 지축(835)의 선단에는 스토퍼(836)가 부착되어 있고, 그 스토퍼(836)에 의하여 가동핀(81)은 지축(835)으로부터 빠지지 않게 되어 있다.
이러한 이동기구(83)의 구성에 의하여 스텝핑 모터(831)가 정회전으로 구동되면, 도4(A)의 화살표로 나타나 있는 바와 같이 지축(835)이 제2원판(W2)의 반경방향에 있어서 중심에 근접하는 방향으로 이동한다. 이에 따라 압축코일 스프링(838)에 의하여 가압되는 가동핀(81)이 제2원판(W2)의 측면에 가압되고, 이 가동핀(81)과 2개의 부동핀(82)에 의하여 제2원판(W2)이 측면의 3군데에서 파지된다. 또 도3에 나타나 있는 바와 같이 제2원판(W2)의 중심은, 가압원판(60)의 중심과 맞춰지도록 부동핀(82)의 부착위치가 설정되어 있는 것으로 한다. 이때에 가동핀(81)을 제2원판(W2)의 측면의 1군데에 형성된 노치(N)에 결합시키면, 제2원판(W2)의 각도맞춤도 할 수 있다.
한편 스텝핑 모터(831)가 역회전으로 구동되면, 도4(B)의 화살표로 나타나 있는 바와 같이 지축(835)이 제2원판(W2)의 반경방향에 있어서 중심으로부터 멀어지는 방향으로 이동한다. 이에 따라 가동핀(81)이 제2원판(W2)의 측면으로부터 이간(離間)되어 제2원판(W2)이 이탈된다. 가압원판(60)에 의하여 제2원판(W2)을 제1원판(W1)에 대하여 스테이지(50)상에서 가압할 때는, 도4(B)와 같이 제2원판(W2)이 이탈된 상태에서 하더라도 좋고, 도4(A)와 같이 제2원판(W2)이 핀에 파지된 상태에서 가압을 하더라도 좋다. 후자(後者)의 경우에는 가압시에 있어서 제2원판(W2)의 위치 어긋남을 방지하는데도 효과적이다. 제2원판(W2)의 파지력(把持力)은 압축코일 스프링(838)의 스프링 정수(spring 定數)에 의하여 조정이 가능하다.
도5∼도7은 본 발명의 접합장치에서 사용되는 가압원판(60)을 예시하고 있다. 가압원판(60)의 측면에는, 3개의 돌기부(突起部)(61, 62, 62)가 형성되어 있다. 돌기부(61)는 제2원판(W2)의 노치(N)(도3 참조)에 대응하여 형성된다. 노치(N)는 가동핀(81)(도3 참조)이 결합(접촉)되는 부분이기도 하기 때문에, 이 돌기부(61)는 제2원판(W2)의 측면의 가동핀(81)(도3 참조)이 접촉되는 부분에도 대응하게 된다. 돌기부(62)는, 제2원판(W2)의 측면의 부동핀(82)이 접촉되는 부분에 대응하여 형성된다. 돌기부(61, 62)의 하면은 가압원판(60)의 하면과 동일한 면으로 설정된다. 또 돌기부(61, 62)의 하면이 가압원판(60)의 하면과 동일한 면으로 설정되어 있으면, 가압원판(60)의 두께방향의 전체에 걸쳐서 돌기부(61, 62)가 형성되어 있을 필요는 없다.
본 실시형태에서는, 제작의 용이성(容易性)으로부터 돌기부(61, 62)는 가압원판(60)과 일체로 형성되어 있다. 또 돌기부(61, 62)를 가압원판(60)과는 별도의 부재로서 준비하고, 후에 접착 등에 의하여 가압원판(60)에 부착되도록 하더라도 상관없다.
도5는 돌기부(61, 62)의 평면형상이 사각형, 도6은 반원형, 도7은 삼각형인 경우를 예시하고 있지만, 이들은 일례이며 한정되지 않는다. 돌기부(61, 62)의 평면형상은 노치의 형상이나 크기 등에 맞춰서 적절하게 최적의 형상을 선택하면 된다.
상기한 바와 같이 구성되는 접합장치(10)의 사용방법에 대해서 설명한다. 우선 준비단계로서, 챔버(20)가 열린 상태에서 지지기구(80)에 제2원판(W2)을 지지시킴과 아울러, 이 제2원판(W2)을 얼라인먼트의 기준으로 하여 제1원판(W1)을 스테이지(50)상에 지지시킨다. 이에 따라 챔버(20)내에서 제1원판(W1)과 제2원판(W2)이 상하방향으로 대향하도록 배치된다. 또 제1원판(W1)의 상면에는, 접착제가 소정의 막두께로 상면에 균등하게 도포되어 있다. 그리고 개폐기구(40)에 의하여 상측용기(20A)를 하강시켜서 챔버(20)를 닫은 후에, 감압기구(30)를 동작시켜서 챔버(20)내를 고진공으로 유지한다.
이렇게 하여 지지되고 있는 제2원판(W2)에 대하여 승강기구(70)를 동작시켜서 가압원판(60)을 하강시켜 가서, 제2원판(W2)의 상면에 가압원판(60)의 하면이 접촉한 후에, 가압원판(60)을 더 하강시켜 감으로써 제2원판(W2)에 아래로 향하는 힘을 가한다. 이에 따라 제2원판(W2)이 하강하여 가고, 이윽고 스테이지(50)상에 지지된 제1원판(W1)의 상면에 도포된 접착제층(R)에 제2원판(W2)의 하면을 접촉시킨다.
여기에서 도3에 나타나 있는 바와 같이 가압원판(60)은, 제2원판(W2)에 있어서 측면의 핀(81, 82)이 접촉되는 부분에 대응하여 가압원판(60)의 하면과 동일한 면으로 설정된 돌기부(61, 62)를 구비하기 때문에, 제2원판을 가압하는 가압원판(60)의 하면의 중심으로부터 외측 가장자리까지의 치수가, 핀(81, 82)이 접촉되는 부분에서는 돌기부(61, 62)의 분만큼 핀(81, 82)이 접촉되지 않는 부분(즉 반경과 동일한 치수)에 비하여 길어진다. 이 때문에 제2원판(W2)을 하강시킬 때에 저항력이 상대적으로 커지게 되어, 핀(81, 82)이 접촉되는 부분에 가압원판(60)의 압력이 확실히 작용하게 된다. 따라서 제2원판(W2)의 외연부가 말려 올라가는 것이 억제된다. 이 결과, 제2원판(W2)의 하면의 평면성이 확보된 상태에서 접착제층에 접촉되어, 지지기구의 특유한 문제로서 접합후의 마무리에 악영향을 끼치는 것이 억제된다.
다음에 가압원판(60)을 승강기구(70)에 의하여 하강을 계속시키면서, 지지기구(80)로부터 제2원판(W2)을 이탈시킨다. 이에 따라 제2원판(W2)의 상면이 가압원판(60)에 의하여 스테이지(50)상에서 균등한 힘으로 가압되어, 제1원판(W1)의 상면 및 제2원판(W2)의 하면이 접착제층을 통하여 접합된 원판적층체가 제작된다. 제1원판(W1), 제2원판(W2) 및 가압원판(60)은 미리 중심맞춤이 이루어져 있다.
여기에서 도3에 나타나 있는 바와 같이 가압원판(60)은, 제2원판(W2)의 노치(N)가 형성된 부분에 대응하여 가압원판(60)의 하면과 동일한 면으로 설정된 돌기부(61)를 구비하기 때문에, 제2원판(W2)을 가압하는 가압원판(60)의 하면의 중심으로부터 외측 가장자리까지의 치수가 원주방향으로 균일하지 않게 되어, 노치부에서는 돌기부(61)의 분만큼 노치가 형성되지 않은 부분(즉 반경과 동일한 치수)에 비하여 길어진다. 이 때문에 가압처리시에, 접착제의 밀려나오는 양이 절대적으로 적은 노치부에 가압원판의 압력이 확실히 작용하게 된다. 따라서 노치부에서의 반경방향에 대한 접착제의 확산이 촉진되어(화살표(E) 참조), 주류(主流)가 되는 이 방향에 있어서 접착제의 흐름에 저해되도록 가로방향으로부터의 밀려나옴도 억제된다. 이 결과로 접합후의 원판적층체의 반경방향의 두께가, 노치부에서 두꺼워지는 것이 억제된다. 즉 가압처리공정에 있어서 노치부에 기인하는 접착제의 확산의 불균일이 억제되어, 원판적층체의 원주방향의 두께 프로필에 불균형이 발생하는 것이 억제된다.
접착제는 일례로서 열경화성 수지나 UV경화성 수지가 사용된다. 접합후의 원판적층체는 접합장치(10)로부터 배출되고, 다음 공정에서 가열(加熱) 혹은 UV조사(UV照射)를 함으로써 접착제층이 고화(固化)되어 제품이 완성된다.
상기 실시형태에 대한 설명은 모든 점에서 예시이며, 제한적인 것은 아니라고 생각되어야 한다. 본 발명의 범위는 상기의 실시형태가 아니라, 특허청구범위에 의하여 나타난다. 또한 본 발명의 범위에는, 특허청구범위와 균등한 의미 및 범위내에서의 모든 변경이 포함되는 것이 의도된다.
10 ; 접합장치
20 ; 챔버
30 ; 감압기구
40 ; 개폐기구
50 ; 스테이지
60 ; 가압원판
61, 62 ; 돌기부
70 ; 승강기구
80 ; 지지기구
81 ; 가동핀
82 ; 부동핀
83 ; 이동기구
W1 ; 제1원판
W2 ; 제2원판

Claims (7)

  1. 스테이지(stage)상에 지지되고 상면(上面)에 접착제가 균일하게 도포된 제1원판(第1圓板)의 상방에, 측면의 1군데에 노치(notch)를 구비하는 제2원판(第2圓板)이 대향하도록 배치되어 있고, 상기 제2원판보다 작은 지름치수로 설정됨과 아울러 상기 제1원판 및 상기 제2원판에 대하여 중심맞춤이 이루어지고 상기 제2원판의 상면에 밀착시켜서 상기 스테이지상에서 상기 제1원판에 대하여 상기 제2원판을 가압하는 가압원판(加壓圓板)으로서,
    상기 제2원판의 상기 노치에 대응하여 상기 가압원판의 측면에, 상기 가압원판의 하면과 동일한 면으로 설정되는 돌기부(突起部)가 형성된 것을 특징으로 하는 가압원판.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제2원판은, 그 측면의 복수부분에 접촉되는 복수의 핀에 의하여 중심방향을 향하는 힘을 받아서 상기 스테이지의 상방으로 또한 상기 가압원판의 하방으로 이탈 가능하게 지지되어 있고, 상기 복수의 핀이 접촉되는 부분에 대응하여 상기 가압원판의 측면에, 상기 가압원판의 하면과 동일한 면으로 설정되는 돌기부가 형성되는 가압원판.
  3. 제1항의 가압원판과,
    기밀성(氣密性)을 구비하는 처리실(處理室)과,
    상기 처리실내에 배치되고 상기 제1원판을 지지하는 스테이지와,
    상기 가압원판을 승강시킬 수 있도록 지지하는 승강기구(昇降機構)와,
    상기 제2원판을, 상기 스테이지의 상방으로 또한 상기 가압원판의 하방으로 이탈 가능하게 지지하는 지지기구(支持機構)를
    구비하는 접합장치(接合裝置).
  4. 제2항의 가압원판과,
    기밀성을 구비하는 처리실과,
    상기 처리실내에 배치되고 상기 제1원판을 지지하는 스테이지와,
    상기 가압원판을 승강시킬 수 있도록 지지하는 승강기구와,
    상기 제2원판을, 상기 스테이지의 상방으로 또한 상기 가압원판의 하방으로 이탈 가능하게 지지하는 지지기구를
    구비하는 접합장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 지지기구는, 상기 제2원판의 측면의 1군데에 접촉하는 1개의 가동핀(可動pin)과, 상기 제2원판의 측면의 복수부분에 접촉하는 복수개의 부동핀(不動pin)과, 상기 가동핀을 상기 제2원판의 반경방향으로 왕복으로 이동시키는 이동기구(移動機構)를 구비하는 접합장치.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 가동핀은 상기 제2원판의 측면의 1군데에 형성된 노치에 결합되는 접합장치.
  7. 스테이지상에 지지되고 접착제가 상면에 균일하게 도포된 제1원판의 상방에, 측면의 1군데에 노치가 형성된 제2원판이 대향하도록 지지되고, 상기 제1원판 및 상기 제2원판과 중심맞춤이 이루어진 가압원판에 의하여 상기 제2원판의 상면을 균등한 힘으로 가압하여 상기 제1원판 및 상기 제2원판을 접합하여 원판적층체(圓板積層體)를 제작하는 접합방법에 있어서,
    상기 가압원판에, 상기 제2원판의 상기 노치에 대응하는 부분에 돌기부가 형성된 가압원판을 사용하는 접합방법.
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