KR101543594B1 - 터치 스크린 및 그 전도층 - Google Patents

터치 스크린 및 그 전도층 Download PDF

Info

Publication number
KR101543594B1
KR101543594B1 KR1020137025414A KR20137025414A KR101543594B1 KR 101543594 B1 KR101543594 B1 KR 101543594B1 KR 1020137025414 A KR1020137025414 A KR 1020137025414A KR 20137025414 A KR20137025414 A KR 20137025414A KR 101543594 B1 KR101543594 B1 KR 101543594B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
sensing
conductive layer
network
touch screen
area
Prior art date
Application number
KR1020137025414A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20140123890A (ko
Inventor
페이 조우
Original Assignee
난창 오-필름 테크 컴퍼니 리미티드
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 난창 오-필름 테크 컴퍼니 리미티드 filed Critical 난창 오-필름 테크 컴퍼니 리미티드
Publication of KR20140123890A publication Critical patent/KR20140123890A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101543594B1 publication Critical patent/KR101543594B1/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • G06F3/0443—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means using a single layer of sensing electrodes
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B5/00—Non-insulated conductors or conductive bodies characterised by their form
    • H01B5/14—Non-insulated conductors or conductive bodies characterised by their form comprising conductive layers or films on insulating-supports
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F2203/00—Indexing scheme relating to G06F3/00 - G06F3/048
    • G06F2203/041—Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
    • G06F2203/04103—Manufacturing, i.e. details related to manufacturing processes specially suited for touch sensitive devices
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F2203/00—Indexing scheme relating to G06F3/00 - G06F3/048
    • G06F2203/041—Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
    • G06F2203/04112—Electrode mesh in capacitive digitiser: electrode for touch sensing is formed of a mesh of very fine, normally metallic, interconnected lines that are almost invisible to see. This provides a quite large but transparent electrode surface, without need for ITO or similar transparent conductive material

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Human Computer Interaction (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Position Input By Displaying (AREA)

Abstract

본 발명은 터치 스크린의 전도층에 관한 것으로, 전도층은 금속 와이어로 구성된 망상체이고, 망상체는 복수의 망상체 셀을 포함하며, 망상체 셀은 복수의 망상체 에지 및 인접하는 두 에지를 연결함으로써 형성되는 복수의 노드를 포함하며, 전도층은 감지 지역 및 이 감지 지역에 전기적으로 연결되는 배선 지역을 포함하고, 감지 지역은 복수의 제1감지 패턴 및 복수의 제2감지 패턴을 포함하며, 제1감지 패턴 및 제2감지 패턴은 인접하고 서로 전기적으로 절연되며, 각 제1감지 패턴의 망상체 셀은 서로 전기적으로 연결되고, 각 제2감지 패턴의 망상체 셀은 서로 전기적으로 연결된다. 또한, 본 발명은 터치 스크린에 관한 것이다. 금속 망상체 구조를 갖는 전도층은 엠보싱 공정에 의해 제조될 수 있는데, 전도층으로 ITO를 사용하는 종래 공정과 비교하면, 망상체 형상은 한 단계로 형성될 수 있고, 공정은 단순하며, 수율은 높다. 그리고, ITO 대신에 금속을 이용하여 재료 비용이 크게 절감되고, 에칭 공정이 사용되지 않기 때문에, 전도성 재료가 낭비되지 않을 것이며, 폐기액에서의 중금속 방출이 감소한다.

Description

터치 스크린 및 그 전도층{Touch screen and conductive layer thereof}
본 발명은 터치 스크린에 관한 것이고, 더욱 구체적으로는 터치 스크린의 전도층에 관한 것이다.
터치 스크린은 입력 신호를 수신할 수 있는 터치 센서 장치이다. 터치 스크린은 정보 상호작용에 새로운 모습을 주고, 새로운 매력적인 정보 상호작용 장치이다. 터치 스크린 기술의 발달은 국내 및 해외 정보 매체 분야의 폭넓은 관심을 불러일으키고, 광전자 산업에서 새로운 떠오르는 첨단 기술이 되고 있다.
전도층은 터치 스크린의 매우 중요한 부품이다. 현재, 터치 스크린의 전도층은 주로 진공 코팅 및 그래픽 에칭 공정을 통해 절연성 기판 위에 형성되는 산화 인듐 주석(ITO)으로 만들어지는데, 그래픽 에칭은 공정 및 설비에 있어서 고비용이고, 대량의 ITO 재료가 에칭 중에 낭비되며, 중금속을 함유하는 대량의 산업 폐수가 만들어진다.
[선행기술문헌]
[특허문헌]
1. 공개특허공보 제10-2011-0089423호(2011.08.08.)
2. 공개특허공보 제10-2010-0021112호(2010.02.24.)
3. 공개특허공보 제10-2010-0137483호(2010.12.30.)
4. 일본 공개특허공보 특개2010-039537호(2010.02.18.)
본 발명의 목적은 전도층으로 ITO를 이용하는 제조 공정에서 재료 낭비의 문제를 극복하기 위해 새로운 형태의 터치 스크린의 전도층을 제공하는 것이다.
본 발명에 따른 터치 스크린의 전도층은 금속 와이어(wire)로 구성된 망상체(mesh)이고, 망상체는 복수의 망상체 셀(cell)을 포함하며, 망상체 셀은 복수의 망상체 에지(edge) 및 인접하는 두 에지를 연결함으로써 형성되는 복수의 노드(node)를 포함한다. 전도층은 감지 지역(sensing region) 및 이 감지 지역에 전기적으로 연결되는 배선 지역(wire region)을 포함하고, 감지 지역은 복수의 제1감지 패턴 및 복수의 제2감지 패턴을 포함하며, 제1감지 패턴 및 제2감지 패턴은 인접하고 서로 전기적으로 절연되며, 각 제1감지 패턴의 망상체 셀은 서로 전기적으로 연결되고, 각 제2감지 패턴의 망상체 셀은 서로 전기적으로 연결된다.
일 태양에서, 제1감지 패턴은 2차원 좌표의 제2축을 따라 연장되는 제1주선(main line) 및 제1주선을 따라 횡으로 연장되는 복수의 제1측면 슈트(side shoot)를 포함하고, 제2감지 패턴은 2차원 좌표의 제2축을 따라 연장되는 제2주선 및 제2주선을 따라 횡으로 연장되는 복수의 제2측면 슈트를 포함하며, 제2주선은 상단과 하단 사이의 상호 간격을 갖고, 제1측면 슈트 및 제2측면 슈트는 일정 간격을 두고 교대로 배치된다.
일 태양에서, 제1측면 슈트 및 제2측면 슈트는 2차원 좌표의 제1축을 따라 연장되고, 제1주선 및 제2주선은 평행하다.
일 태양에서, 전도층은 감지 지역 및 배선 지역과 상보적 패턴을 형성하는 배색 라인(color matching line)을 추가로 포함하고, 감지 지역 및 배선 지역은 전기적으로 절연된다.
일 태양에서, 배색 라인은 망상체를 형성하고, 배색 라인에 의해 형성되는 망상체의 망상체 셀은 제1감지 패턴 및 제2감지 패턴의 망상체의 망상체 셀과 동일한 형상 및 크기를 갖는다.
일 태양에서, 인접하는 제1감지 패턴 및 제2감지 패턴 사이의 배색 라인은 절연된 트랙(track)과 만나는 망상체 에지를 상실한다.
일 태양에서, 인접하는 제1감지 패턴 및 제2감지 패턴 사이의 배색 라인은 망상체 에지의 중간에서 단절된다.
일 태양에서, 단절 길이는 2 내지 20 마이크로미터이다.
일 태양에서, 단절 길이는 3 내지 9 마이크로미터이다.
일 태양에서, 단절 길이는 6 마이크로미터이다.
일 태양에서, 인접하는 제1감지 패턴 및 제2감지 패턴 사이의 배색 라인은 제1감지 패턴 및 제2감지 패턴이 인접하는 망상체의 노드에서 단절된다.
일 태양에서, 망상체의 망상체 셀은 다이아몬드 형상을 갖는다.
일 태양에서, 감지 지역은 상호 분리되는 좌측 감지 지역 및 우측 감지 지역을 포함하고, 각 좌측 감지 지역 및 우측 감지 지역은 복수의 제1감지 패턴 및 복수의 제2감지 패턴을 포함하며, 배선 지역은 좌측 감지 지역 및 우측 감지 지역 사이에 배치된다.
일 태양에서, 전도층은 축 대칭적이다.
유리 기판, 전도층 및 유리 기판의 표면 상에 배치되는 기재층을 포함하되, 전도층은 기재층에 매립되고, 전도층은 금속 와이어로 구성된 망상체이며, 망상체는 복수의 망상체 셀을 포함하고, 망상체 셀은 복수의 망상체 에지 및 인접하는 두 에지를 연결함으로써 형성되는 복수의 노드를 포함하며, 전도층은 감지 지역 및 이 감지 지역에 전기적으로 연결되는 배선 지역을 포함하고, 감지 지역은 복수의 제1감지 패턴 및 복수의 제2감지 패턴을 포함하며, 제1감지 패턴 및 제2감지 패턴은 인접하고 서로 전기적으로 절연되며, 각 제1감지 패턴의 망상체 셀은 서로 전기적으로 연결되고, 각 제2감지 패턴의 망상체 셀은 서로 전기적으로 연결되는 터치 스크린을 제공하는 것이 필요하다.
일 태양에서, 기재층은 유리 기판으로부터 먼 면에 홈(trench)을 구비하고, 전도층은 홈에 수용되며, 홈은 미리 설치된 돌기를 갖는 엠보싱 몰드를 이용한 엠보싱에 의해 형성된다.
일 태양에서, 홈의 깊이/폭 비율은 1보다 크다.
일 태양에서, 홈의 깊이는 전도층의 두께보다 작지 않다.
일 태양에서, 터치 스크린은 보호층을 추가로 포함하고, 보호층은 기재층 및 전도층을 덮는다.
일 태양에서, 터치 스크린은 배선 지역을 추가로 포함하고, 배선 지역은 제2감지 패턴 옆에 배치되며, 배선 지역은 금속 와이어로 구성된 복수의 배선 클러스터(cluster)를 포함하고, 각 배선 클러스터의 일단은 제2감지 패턴 중 하나에 전기적으로 연결되며, 타단은 기재층의 한 에지로 연장된다.
금속 망상체 구조를 갖는 터치 스크린의 전도층은 엠보싱 공정에 의해 제조될 수 있는데, 전도층으로 ITO를 사용하는 종래 공정과 비교하면, 망상체 형상은 한 단계로 형성될 수 있고, 공정은 단순하며, 수율은 높다. 그리고, ITO 대신에 금속을 이용하여 재료 비용이 크게 절감되고, 에칭 공정이 사용되지 않기 때문에, 전도성 재료가 낭비되지 않을 것이며, 폐기액에서의 중금속 방출이 감소한다.
본 발명에 따른 금속 망상체 구조를 갖는 전도층은 엠보싱 공정에 의해 제조될 수 있다. 전도층으로 ITO를 사용하는 종래 공정과 비교하면, 망상체 형상은 한 단계로 형성될 수 있고, 공정은 단순하며, 수율은 높다. 그리고, ITO 대신에 금속을 이용함으로써 재료 비용이 크게 절감되고, 에칭 공정을 사용하지 않기 때문에, 전도성 재료는 낭비되지 않을 것이며, 폐기액에서의 중금속 방출이 감소한다.
도 1은 일 태양에 따른 터치 스크린의 구성도이다.
도 2a는 감지 지역의 구성도이다.
도 2b는 도 2a의 부분도이다.
도 3a는 배선 지역 및 이 배선 지역과 감지 지역에서의 배색 라인의 구성도이다.
도 3b는 대칭 축의 우측에 있는 배색 라인이 없는 도 3a의 구성도이다.
도 4a 내지 4d는 4개의 다른 태양으로 단절되어 절연을 구현한 배색 라인의 구성도이다.
도 5는 일 태양에 따른 터치 스크린의 단면도이다.
도 6a 내지 6c는 터치 스크린의 제조 단계별 단면도이다.
도 7은 일 태양에 따른 터치 스크린 제조 방법의 흐름도이다.
본 발명은 이해를 돕기 위해 도면을 참고하여 상세하게 설명될 것이다. 본 발명의 바람직한 태양이 도면에 주어진다. 그러나, 본 발명은 다른 방식으로 구현될 수 있으며, 여기에 기술된 태양에 한정되지 않는다. 이에 반해, 이들 태양을 제공하는 목적은 본 발명의 개시 내용을 더욱 철저하게 그리고 이해하기 쉽게 하는 것이다.
한 구성요소가 다른 구성요소에 소위 "고정되는" 경우, 그 구성요소는 다른 구성요소에 직접 고정될 수 있고, 또는 이들 사이에 다른 구성요소가 존재할 수 있다. 한 구성요소가 다른 구성요소에 "연결되는" 것으로 고려될 경우, 그 구성요소는 다른 구성요소에 직접 연결될 수 있고, 또는 동시에 이들 사이에 다른 구성요소가 존재할 수 있다. 본 명세서에서, "수직", "수평", "상", "하", "좌", "우"의 용어 및 유사 표현은 단지 예시 목적으로 사용된다.
달리 정의되지 않는다면, 본 명세서에서 사용되는 기술적 및 과학적 용어는 이 분야의 당업자가 통상적으로 이해하는 것과 동일한 의미를 지닌다. 본 발명의 명세서에 사용되는 용어의 목적은 본 발명을 한정하는 것이 아니라, 특정 태양을 기술하기 위한 것이다. 본 명세서에서 "및/또는"의 용어는 하나 또는 그 이상의 관련 구성요소의 조합을 포함한다.
도 1은 일 태양에 따른 터치 스크린의 구성도로서, 터치 스크린은 유리 기판(10), 이 유리 기판(10)의 표면 위에 배치되는 기재층(20) 및 이 기재층(20)에 매립되는 전도층(100)을 포함한다. 전도층(100)은 금속 와이어로 구성된 망상체이고, 망상체는 복수의 망상체 셀을 포함하며, 망상체 셀은 복수의 망상체 에지 및 인접하는 두 에지를 연결함으로써 형성되는 복수의 노드를 포함한다. 이 태양에서, 금속 망상체의 각 망상체 셀은 다이아몬드 형상을 갖고, 다른 태양에서, 망상체 셀은 예를 들어 사각형, 삼각형 등과 같은 다른 형상을 가질 수 있다.
도 5는 일 태양에 따른 터치 스크린의 단면도이고, 도 6a 내지 6c는 제조 중인 터치 스크린의 단면도이다. 기재층(20)은 젤(jell) 경화에 의해 형성되고, 따라서 그 두께는 유리 기판(10)의 것보다 작다. 이 태양에서, 기재층(20)을 형성하는 젤은 무용제 타입 UV 경화성 아크릴 수지이다. 다른 태양에서, 기재층(20)을 형성하는 젤은 다른 광 경화성, 열경화성 접착제 및 자가 접착제일 수 있다. 광 경화성은 프리폴리머, 모노머, 광 개시제 및 첨가제의 조합으로서, 이들의 몰 비율은 30 내지 50%, 40 내지 60%, 1 내지 6% 및 0.2 내지 1%이다. 프리폴리머는 에폭시 아크릴레이트, 폴리우레탄, 폴리에테르 아크릴레이트, 폴리에스터 아크릴레이트 및 아크릴 수지 중 적어도 하나이다. 모노머는 단관능성(예를 들어, IBOA, IBOMA, HEMA 등), 이관능성(예를 들어, TPGDA, HDDA, DEGDA, NPGDA 등), 삼관능성(예를 들어, TMPTA, PETA 등) 중 적어도 하나이다. 광 개시제는 벤조페논, 데스옥시벤조인 등이다. 더욱 구체적으로, 0.2 내지 1%의 몰 비율을 갖는 보조제(첨가제)는 상기 조합에 첨가될 수 있다. 보조제는 하이드로퀴논, 메톡시 페놀, 벤조퀴논, 2,6-디-터트-부틸-p-크레졸 등일 수 있다.
도 6b를 참고하면, 기재층(20)은 그 일면 상에 홈(23)을 구비하고, 금속 와이어로 만들어진 전도층(100)이 이 홈(23)에 수용된다. 홈(23)은 1 초과의 깊이/폭 비율을 갖고, 홈의 깊이는 전도층(100)의 두께보다 작지 않아서, 기재층(20)이 금속 와이어를 보호할 수 있다.
도 5를 참고하면, 이 태양에서, 터치 스크린은 보호층(30)을 추가로 포함하고, 보호층(30)은 기재층(20) 및 전도층(100)을 덮어서, 기재층(20) 및 전도층(100)을 보호한다.
또한 도 7을 참고하면, (홈(23) 및 전도층(100)을 포함하는) 터치 스크린의 제조방법은 유리 기판을 제공하는 단계(S110)를 포함한다.
이 태양에서, 유리 기판(10)은 125 ㎛의 두께를 갖는다. 다른 태양에서, 유리 기판의 두께는 실제 수요에 따라 변할 수 있다.
S120은 유리 기판(10)의 표면 위에 젤을 코팅 및 경화시켜 기재층(20)을 형성하는 단계이다.
도 6을 참고하면, 기재층(20)은 유리 기판(10) 상에 코팅되는 젤을 경화시킴으로써 형성되고, 그 두께는 유리 기판(10)의 것보다 작다. 이 태양에서, 기재층(20)을 형성하는 젤은 무용제 타입 UV 경화성 아크릴 수지이다. 다른 태양에서, 기재층(20)을 형성하는 젤은 다른 광 경화성, 열경화성 접착제 및 자가 접착제일 수 있다. 광 경화성은 프리폴리머, 모노머, 광 개시제 및 첨가제의 조합으로서, 이들의 몰 비율은 30 내지 50%, 40 내지 60%, 1 내지 6% 및 0.2 내지 1%이다. 프리폴리머는 에폭시 아크릴레이트, 폴리우레탄, 폴리에테르 아크릴레이트, 폴리에스터 아크릴레이트 및 아크릴 수지 중 적어도 하나이다. 모노머는 단관능성(예를 들어, IBOA, IBOMA, HEMA 등), 이관능성(예를 들어, TPGDA, HDDA, DEGDA, NPGDA 등), 삼관능성(예를 들어, TMPTA, PETA 등) 중 적어도 하나이다. 광 개시제는 벤조페논, 데스옥시벤조인 등이다. 더욱 구체적으로, 0.2 내지 1%의 몰 비율을 갖는 보조제(첨가제)는 상기 조합에 첨가될 수 있다. 보조제는 하이드로퀴논, 메톡시 페놀, 벤조퀴논, 2,6-디-터트-부틸-p-크레졸 등일 수 있다.
S130은 엠보싱 몰드(61)를 이용하여 기재층(20)을 엠보싱하고, 유리 기판(10)의 반대편인 기재층(20)의 표면에 홈(23)을 형성하는 단계이다.
도 6을 참고하면, 홈(23)은 1 초과의 깊이/폭 비율을 갖고, 그 깊이는 전도층(100)의 두께보다 작지 않아서, 기재층(20)이 금속 와이어를 보호할 수 있다. 이 태양에서, 홈은 3 ㎛의 깊이 및 2.2 ㎛의 폭을 갖는다. 다른 태양에서, 홈의 크기는 실제 수요에 따라 변할 수 있다.
S140은 홈(23)에 금속을 충진하여 전도층(100)으로서 금속 망상체를 형성하는 단계이다.
이 태양에서, 홈의 형상은 망상체이고, 엠보싱에 의해 형성되는 홈(23)에 금속을 충진함으로써, 교차하는 금속 와이어를 형성하고 또한 규칙적인 전도성 망상체를 형성할 수 있다. 특히, 스크레이핑(scraping) 기술이 홈(23)을 나노 은 잉크로 충진하는데 사용되고, 이후 150℃에서 소결되며, 나노 은 잉크의 Ag는 전도성 와이어로 소결될 것이다. 은 잉크 고형분은 35%의 함량을 갖고, 용매는 소결 공정에서 휘발된다.
전도층(100)은 감지 지역(110) 및 배선 지역(120)을 포함하고, 배선 지역(120)은 PCB 회로와 연결하는데 사용된다.
이 태양에서, 색차를 줄이고 더 좋은 디스플레이 효과를 얻기 위해, 전도층(100)은 감지 지역(110) 및 배선 지역(120)과 상보적 패턴을 형성하는 배색 라인을 추가로 포함하고, 배색 라인은 감지 지역(110) 및 배선 지역(120)과 전기적으로 절연된다. 이 태양에서, 감지 지역(110), 배선 지역(120) 및 배색 라인의 망상체 셀은 동일한 형상 및 크기를 갖고, 다른 태양에서 그것은 다를 수 있는데, 예를 들어, 배색 라인은 지그재그 또는 파선일 수 있다.
도 1에서 전도층(100)은 축 대칭적이고, 전도층(100)은 수직 이등분선 중 하나와 축 대칭적이며, 다른 태양에서 전도층(100)은 축 대칭 이외에 다른 구조일 수 있다. 또한, 도 2b를 참고하면, 감지 지역(110)은 적어도 하나의 제1감지 패턴(111) 및 적어도 하나의 제2감지 패턴(113)을 포함하며, 제1감지 패턴(111) 및 제2감지 패턴(113)은 인접하고 서로 전기적으로 절연되며, 각 제1감지 패턴(111)의 망상체 셀은 서로 전기적으로 연결되고, 각 제2감지 패턴(113)의 망상체 셀은 서로 전기적으로 연결된다. 각 제2감지 패턴(113)은 대응하는 제1감지 패턴(111) 옆에 배치된다. 배선 지역(120)은 제2감지 패턴(113) 옆에 배치되고, 금속 와이어로 구성된 복수의 배선 클러스터를 포함한다. 각 배선 클러스터의 일단은 제2감지 패턴(113)의 하나에 전기적으로 연결되고, 타단은 기재층(20)의 한 에지로 연장된다.
또한 도 2a를 참고하면, 이 태양에서, 감지 지역(110)은 상호 분리되는 좌측 감지 지역(112) 및 우측 감지 지역(114)을 포함하고, 축 대칭적인 전도층(100)으로 인해, 좌측 감지 지역(112) 및 우측 감지 지역(114)은 축 대칭적이며, 각 좌측 감지 지역(112) 및 각 우측 감지 지역(114)은 적어도 하나의 제1감지 패턴(111) 및 적어도 하나의 제2감지 패턴(113)을 포함한다.
도 2b를 참고하면, 제1감지 패턴(111)은 2차원 좌표의 제2축을 따라 연장되는 제1주선(111a) 및 제1주선(111a)을 따라 횡으로 연장되는 복수의 제1측면 슈트(111b)를 포함하고, 제2감지 패턴(113)은 2차원 좌표의 제2축을 따라 연장되는 제2주선(113a) 및 제2주선(113a)을 따라 횡으로 연장되는 복수의 제2측면 슈트(113b)를 포함하며, 제2주선(113a)은 상단과 하단 사이의 상호 간격을 갖고, 제1측면 슈트(111b) 및 제2측면 슈트(113b)는 일정 간격을 두고 교대로 배치됨으로써, 제2감지 패턴(113) 및 제1감지 패턴(111) 사이에 상호 인덕턴스(inductance)를 형성한다. 제1측면 슈트(111b) 및 제2측면 슈트(113b)는 2차원 좌표의 제1축을 따라 연장되고, 제1주선(111a) 및 제2주선(113a)은 평행하다.
도면의 상세한 태양에서, 2차원 좌표는 XOY 직각 좌표계이며, 제1축은 X축이고, 제2축은 Y축이다. 다른 태양에서, 2차원 좌표는 다른 좌표계, 예를 들어 2차원 사교(oblique) 좌표계일 수 있다.
배선 지역(120)은 좌측 감지 지역(112) 및 우측 감지 지역(114) 사이에 배치된다. 도 3a는 배선 지역 및 이 배선 지역(120)과 감지 지역(110) 사이의 배색 라인 구조를 예시한다. 배선 지역(120) 및 인접하는 배색 라인의 용이한 구별을 위해, 도 3b는 대칭 축의 우측에 있는 배색 라인이 생략되고 대칭 축의 좌측에 있는 배색 라인이 남은 것을 보여준다.
전술한 바와 같이, 전도층(100)은 배색 라인을 추가로 포함한다. 터치 스크린의 작동 원리에 따르면, 각 제1감지 패턴(111) 및 제2감지 패턴(113)은 서로 절연되고, 따라서 본 발명은 제1감지 패턴(111) 및 제2감지 패턴(113) 사이의 공간을 배색 라인으로 충진하고 배색 라인을 단절시킴으로써 절연을 구현한다.
더욱 구체적으로, 본 발명은 복수의 단절 수단을 제공하고, 다음의 도면은 절연 구조를 상사하게 예시한다:
(1) 인접하는 제1감지 패턴 및 제2감지 패턴 사이의 배색 라인은 절연된 트랙과 만나는 망상체 에지를 상실한다. 도 4a를 참고하면, 도 4a는 일 태양에 따라 단절되어 절연을 구현하는 배색 라인의 절연 구조 구성도이고, 상기 전도층(100)의 위치는 도 1의 I 지역에 해당한다. 절연 트랙(11)은 이해를 돕기 위해, 인접하는 제1감지 패턴(111) 및 제2감지 패턴(113) 사이의 간극에 있는 선이다(이것은 또한 파선 또는 곡선일 수 있다). 도 2b도 절연 트랙(11)을 예시한다. 이 태양에서 절연 트랙은 파선이고, X축을 따라 연장되는 부분과 Y축을 따라 연장되는 다른 부분을 포함한다. 도 4a의 태양에서, 제1감지 패턴(111) 및 제2감지 패턴(113) 사이의 배색 라인은 단일 행/열 구조이고, 따라서 제1감지 패턴(111) 및 제2감지 패턴(113) 사이의 모든 배색 라인은 상실된다. 절연구조 (1)은 망상체 주기를 변화시키지 않고 원래의 망상체를 기준으로 복수의 망상체 에지를 상실하는 것과 동일하고, 따라서 터치 스크린의 디스플레이 중에 큰 색차를 초래하지 않을 것이다.
(2) 인접하는 제1감지 패턴 및 제2감지 패턴 사이의 배색 라인은 망상체 에지의 중간에서 단절된다. 도 4b를 참고하면, 단절 부분은 포트(13)를 형성하며, 단절 길이는 2 내지 20 마이크로미터이고, 바람직하게는 단절 길이는 3 내지 9 마이크로미터이며, 바람직한 일 태양에서 단절 길이는 6 마이크로미터이다. 인접하는 제1감지 패턴(111) 및 제2감지 패턴(113) 사이의 간격이 넓고, 복수의 행/열의 배색 라인을 포함한다면, 이론상 배색 라인의 각 망상체 에지를 단절시킬 필요가 없으며, 예를 들어 배색 라인(예를 들어 절연 트랙과 만나는 배색 라인) 중 단지 하나의 행/열만이 단절된다. 설계된 단절 부분의 위치가 제조 중의 결함으로 인해 부착되는 경우를 고려하면, 더 많은 배색 라인이 단절되도록 설계될 수 있으며, 예를 들어 절연을 확보하도록, 인접하는 제1감지 패턴(111) 및 제2감지 패턴(113)의 배색 라인의 각 망상체 에지가 중간에서 단절된다.
(3) 인접하는 제1감지 패턴(111) 및 제2감지 패턴(113) 사이의 배색 라인이 제1감지 패턴(111) 및 제2감지 패턴(113)이 인접하는 망상체 노드의 중간에서 단절된다. 도 4c를 참고하면, 망상체 노드(15)에서 단절된다. 인접하는 제1감지 패턴(111) 및 제2감지 패턴(113) 사이의 배색 라인은 절연을 이루도록, 제1감지 패턴(111)에 인접하거나 제2감지 패턴(113)에 인접하는 망상체 노드에서 단절될 필요만 있음을 이해하여야 한다. 설계된 단절 부분의 위치가 제조 공정 중의 작동 오류로 인해 부착되는 경우를 고려하면, 배색 라인은 제1감지 패턴(111) 및 제2감지 패턴(113)에 인접하는 양쪽 노드에서 모두 단절될 수 있다.
도 1의 태양에서 수단 (2) 및 (3)이 조합되고, 도 4d를 참고하면, 인접하는 제1감지 패턴(111) 및 제2감지 패턴(113) 사이의 배색 라인은 제1감지 패턴(111) 및 제2감지 패턴(113)에 인접하는 망상체 노드(15)에서 단절되며, 단절된 망상체 노드(15) 사이의 망상체 에지는 중간에서 단절되어 포트(13)를 형성한다.
상기 절연 구조 (2) 및 (3) 및 도 4d에 따른 태양의 절연 구조는, 단절 부분 크기가 망상체 에지에 비해 무시될 수 있기 때문에, 색차를 더욱 줄일 수 있다.
상술한 금속 망상체 구조를 갖는 전도층은 엠보싱 공정에 의해 제조될 수 있다. 전도층으로 ITO를 사용하는 종래 공정과 비교하면, 망상체 형상은 한 단계로 형성될 수 있고, 공정은 단순하며, 수율은 높다. 그리고, ITO 대신에 금속을 이용함으로써 재료 비용이 크게 절감되고, 에칭 공정을 사용하지 않기 때문에, 전도성 재료는 낭비되지 않을 것이며, 폐기액에서의 중금속 방출이 감소한다.
본 발명은 구조적 특징 및/또는 방법론적인 작용에 대해 특정 문구로 기술되었지만, 첨부된 청구범위에 기재된 본 발명은 기술된 특정 특징 또는 작용에 한정될 필요가 없다. 오히려, 특정 특징 및 작용은 청구된 발명을 구현하는 예시 형태로서 개시된다.

Claims (20)

  1. 복수의 망상체 에지(edge) 및 인접하는 두 에지를 연결함으로써 형성되는 복수의 노드(node)를 갖는 복수의 망상체 셀(cell)을 포함하고 금속 와이어(wire)로 구성된 망상체(mesh)로서, 감지 지역(sensing region) 및 이 감지 지역에 전기적으로 연결되는 배선 지역(wire region)을 포함하며;
    감지 지역은 복수의 제1감지 패턴 및 복수의 제2감지 패턴을 포함하며, 제1감지 패턴 및 제2감지 패턴은 인접하고 서로 전기적으로 절연되며, 각 제1감지 패턴의 망상체 셀은 서로 전기적으로 연결되고, 각 제2감지 패턴의 망상체 셀은 서로 전기적으로 연결되며,
    감지 지역은 상호 분리되는 좌측 감지 지역 및 우측 감지 지역을 포함하고, 각 좌측 감지 지역 및 우측 감지 지역은 복수의 제1감지 패턴 및 복수의 제2감지 패턴을 포함하며, 배선 지역은 좌측 감지 지역 및 우측 감지 지역 사이에 배치되는 터치 스크린의 전도층.
  2. 제1항에 있어서,
    제1감지 패턴은 2차원 좌표의 제2축을 따라 연장되는 제1주선(main line) 및 제1주선을 따라 횡으로 연장되는 복수의 제1측면 슈트(side shoot)를 포함하고, 제2감지 패턴은 2차원 좌표의 제2축을 따라 연장되는 제2주선 및 제2주선을 따라 횡으로 연장되는 복수의 제2측면 슈트를 포함하며, 각 제2주선은 상단과 하단 사이의 상호 간격을 갖고, 제1측면 슈트 및 제2측면 슈트는 일정 간격을 두고 교대로 배치되는 터치 스크린의 전도층.
  3. 제1항에 있어서,
    제1측면 슈트 및 제2측면 슈트는 2차원 좌표의 제1축을 따라 연장되고, 제1주선 및 제2주선은 평행한 터치 스크린의 전도층.
  4. 제1항에 있어서,
    감지 지역 및 배선 지역과 상보적 패턴을 형성하는 배색 라인(color matching line)을 추가로 포함하고, 감지 지역 및 배선 지역은 전기적으로 절연되는 터치 스크린의 전도층.
  5. 제4항에 있어서,
    배색 라인은 망상체를 형성하고, 배색 라인에 의해 형성되는 망상체의 망상체 셀은 제1감지 패턴 및 제2감지 패턴의 망상체의 망상체 셀과 동일한 형상 및 크기를 갖는 터치 스크린의 전도층.
  6. 제4항에 있어서,
    인접하는 제1감지 패턴 및 제2감지 패턴 사이의 배색 라인은 절연된 트랙(track)과 만나는 망상체 에지를 상실하는 터치 스크린의 전도층.
  7. 제4항에 있어서,
    인접하는 제1감지 패턴 및 제2감지 패턴 사이의 배색 라인은 망상체 에지의 중간에서 단절되는 터치 스크린의 전도층.
  8. 제7항에 있어서,
    단절 길이는 2 내지 20 마이크로미터인 터치 스크린의 전도층.
  9. 제8항에 있어서,
    단절 길이는 3 내지 9 마이크로미터인 터치 스크린의 전도층.
  10. 제9항에 있어서,
    단절 길이는 6 마이크로미터인 터치 스크린의 전도층.
  11. 제4항에 있어서,
    인접하는 제1감지 패턴 및 제2감지 패턴 사이의 배색 라인은 제1감지 패턴 및 제2감지 패턴이 인접하는 망상체의 노드에서 단절되는 터치 스크린의 전도층.
  12. 제1항에 있어서,
    망상체의 망상체 셀은 다이아몬드 형상을 갖는 터치 스크린의 전도층.
  13. 삭제
  14. 제1항에 있어서,
    전도층은 수직 이등분선 중 하나와 축 대칭적인 터치 스크린의 전도층.
  15. 유리 기판, 전도층 및 유리 기판의 표면 상에 배치되는 기재층을 포함하며;
    전도층은 기재층에 매립되고, 전도층은 금속 와이어로 구성된 망상체이며, 망상체는 복수의 망상체 셀을 포함하고, 망상체 셀은 복수의 망상체 에지 및 인접하는 두 에지를 연결함으로써 형성되는 복수의 노드를 포함하며, 전도층은 감지 지역 및 이 감지 지역에 전기적으로 연결되는 배선 지역을 포함하고, 감지 지역은 복수의 제1감지 패턴 및 복수의 제2감지 패턴을 포함하며, 제1감지 패턴 및 제2감지 패턴은 인접하고 서로 전기적으로 절연되며, 각 제1감지 패턴의 망상체 셀은 서로 전기적으로 연결되고, 각 제2감지 패턴의 망상체 셀은 서로 전기적으로 연결되며,
    감지 지역은 상호 분리되는 좌측 감지 지역 및 우측 감지 지역을 포함하고, 각 좌측 감지 지역 및 우측 감지 지역은 복수의 제1감지 패턴 및 복수의 제2감지 패턴을 포함하며, 배선 지역은 좌측 감지 지역 및 우측 감지 지역 사이에 배치되는 터치 스크린.
  16. 제15항에 있어서,
    기재층은 유리 기판과 접하지 않는 표면에 홈(trench)을 구비하고, 전도층은 홈에 수용되며, 홈은 미리 설치된 돌기를 갖는 엠보싱 몰드를 이용한 엠보싱에 의해 형성되는 터치 스크린.
  17. 제16항에 있어서,
    홈의 깊이/폭 비율은 1보다 큰 터치 스크린.
  18. 제15항에 있어서,
    홈의 깊이는 전도층의 두께보다 작지 않은 터치 스크린.
  19. 제15항에 있어서,
    보호층을 추가로 포함하고, 보호층은 기재층 및 전도층을 덮는 터치 스크린.
  20. 제15항에 있어서,
    배선 지역을 추가로 포함하고, 배선 지역은 제2감지 패턴 옆에 배치되며, 배선 지역은 금속 와이어로 구성된 복수의 배선 클러스터(cluster)를 포함하고, 각 배선 클러스터의 일단은 제2감지 패턴 중 하나에 전기적으로 연결되며, 타단은 기재층의 한 에지로 연장되는 터치 스크린.
KR1020137025414A 2013-03-20 2013-07-08 터치 스크린 및 그 전도층 KR101543594B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201310090535.8 2013-03-20
CN201310090535.8A CN103176657B (zh) 2013-03-20 2013-03-20 触摸屏及其导电层
PCT/CN2013/078975 WO2014146384A1 (zh) 2013-03-20 2013-07-08 触摸屏及其导电层

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20140123890A KR20140123890A (ko) 2014-10-23
KR101543594B1 true KR101543594B1 (ko) 2015-08-11

Family

ID=48636586

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020137025414A KR101543594B1 (ko) 2013-03-20 2013-07-08 터치 스크린 및 그 전도층

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP6027225B2 (ko)
KR (1) KR101543594B1 (ko)
CN (1) CN103176657B (ko)
TW (1) TWI494816B (ko)
WO (1) WO2014146384A1 (ko)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20170048062A (ko) * 2015-10-26 2017-05-08 미래나노텍(주) 흑화 처리된 전도성 잉크 기반 임베디드형 메탈메쉬를 이용하는 감압식의 터치 센서
US10572045B2 (en) 2017-04-14 2020-02-25 Samsung Display Co., Ltd. Touch sensor with high touch sensitivity and display device having the same

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN203149516U (zh) * 2013-02-06 2013-08-21 南昌欧菲光科技有限公司 触摸感应元件及具有该触摸感应元件的触摸屏
CN103176657B (zh) * 2013-03-20 2015-11-25 南昌欧菲光科技有限公司 触摸屏及其导电层
US9198285B2 (en) 2013-03-20 2015-11-24 Nanchang O-Film Tech. Co., Ltd. Touch screen and conductive layer thereof
CN103197795B (zh) * 2013-03-20 2015-04-08 南昌欧菲光科技有限公司 触摸屏的导电层
CN104461160A (zh) * 2014-12-31 2015-03-25 业成光电（深圳）有限公司 触控显示装置
CN106155380A (zh) * 2015-03-31 2016-11-23 深圳欧菲光科技股份有限公司 触摸屏及其导电膜
CN109669586B (zh) * 2017-10-16 2022-01-04 日本航空电子工业株式会社 触控面板

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6297811B1 (en) * 1999-06-02 2001-10-02 Elo Touchsystems, Inc. Projective capacitive touchscreen
CN102722279A (zh) 2012-05-09 2012-10-10 崔铮 金属网格导电层及其具备该导电层的触摸面板

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE202007005237U1 (de) * 2006-04-25 2007-07-05 Philipp, Harald, Southampton Hybrides kapazitives Berührungsbildschirmelement
US7639234B2 (en) * 2007-01-04 2009-12-29 Avago Technologies Ecbu Ip (Singapore) Pte. Ltd. Capacitive sensing and absolute position mapping in displacement type pointing devices
KR100885730B1 (ko) * 2007-03-05 2009-02-26 (주)멜파스 단순한 적층 구조를 갖는 접촉위치 감지 패널
US9244568B2 (en) * 2008-11-15 2016-01-26 Atmel Corporation Touch screen sensor
KR101219242B1 (ko) * 2009-01-16 2013-01-07 삼성디스플레이 주식회사 터치 스크린 패널 및 그 제조방법
KR101055102B1 (ko) * 2009-01-21 2011-08-08 엘지이노텍 주식회사 입력장치
JP5249806B2 (ja) * 2009-02-16 2013-07-31 グンゼ株式会社 タッチスイッチ
CN101887324B (zh) * 2010-06-28 2012-10-03 友达光电股份有限公司 感测式显示装置
JP5636768B2 (ja) * 2010-06-30 2014-12-10 ソニー株式会社 情報入力装置
TWI427521B (zh) * 2010-09-15 2014-02-21 Au Optronics Corp 電容式觸控感測器及電容式觸控裝置
JP5809846B2 (ja) * 2011-05-13 2015-11-11 富士フイルム株式会社 導電シート及びタッチパネル
JP5638027B2 (ja) * 2011-05-17 2014-12-10 富士フイルム株式会社 導電シート及び静電容量方式タッチパネル
KR101907484B1 (ko) * 2011-07-21 2018-12-05 미래나노텍(주) 터치 스크린 패널 제조 장치 및 제조 방법
US20130100038A1 (en) * 2011-10-20 2013-04-25 Atmel Technologies U.K. Limited Single-Layer Touch Sensor
US9207814B2 (en) * 2011-12-14 2015-12-08 Atmel Corporation Single-layer touch sensor
CN203178962U (zh) * 2013-03-20 2013-09-04 南昌欧菲光科技有限公司 触摸屏及其导电层
CN103176657B (zh) * 2013-03-20 2015-11-25 南昌欧菲光科技有限公司 触摸屏及其导电层

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6297811B1 (en) * 1999-06-02 2001-10-02 Elo Touchsystems, Inc. Projective capacitive touchscreen
CN102722279A (zh) 2012-05-09 2012-10-10 崔铮 金属网格导电层及其具备该导电层的触摸面板

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20170048062A (ko) * 2015-10-26 2017-05-08 미래나노텍(주) 흑화 처리된 전도성 잉크 기반 임베디드형 메탈메쉬를 이용하는 감압식의 터치 센서
KR102395822B1 (ko) * 2015-10-26 2022-05-09 미래나노텍(주) 흑화 처리된 전도성 잉크 기반 임베디드형 메탈메쉬를 이용하는 감압식의 터치 센서
US10572045B2 (en) 2017-04-14 2020-02-25 Samsung Display Co., Ltd. Touch sensor with high touch sensitivity and display device having the same
US11182003B2 (en) 2017-04-14 2021-11-23 Samsung Display Co., Ltd. Touch sensor with high sensitivity and display device having the same

Also Published As

Publication number Publication date
CN103176657B (zh) 2015-11-25
CN103176657A (zh) 2013-06-26
KR20140123890A (ko) 2014-10-23
JP2015513753A (ja) 2015-05-14
TWI494816B (zh) 2015-08-01
JP6027225B2 (ja) 2016-11-16
TW201437872A (zh) 2014-10-01
WO2014146384A1 (zh) 2014-09-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101543594B1 (ko) 터치 스크린 및 그 전도층
JP5957141B2 (ja) タッチスクリーンおよびその製造方法
CN107977116B (zh) 柔性触控面板、触控显示屏及触控显示装置
JP5856318B2 (ja) 導電膜、導電膜の製造方法、および導電膜を有するタッチスクリーン
KR102222652B1 (ko) 터치 패널 및 그것의 제조 방법, 및 터치 디스플레이 디바이스
US9198285B2 (en) Touch screen and conductive layer thereof
JP5846463B2 (ja) 容量性タッチスクリーン及びその製造方法
US9430068B2 (en) Touch screen
CN105278739A (zh) 感测结构
CN103631432A (zh) 触控感测电极结构及触控装置
KR20140127734A (ko) 터치 스크린과 그 제조 방법
CN104834398A (zh) 触摸面板以及制造触摸面板的方法
CN104699308A (zh) 一种触控面板的制作方法、触控面板及触控显示装置
TWI727245B (zh) 觸控面板
WO2020001422A1 (zh) 触控面板及其制作方法、显示装置
JP5866059B2 (ja) タッチスクリーンの導電層
CN203825593U (zh) 一种触控面板结构
CN104347153A (zh) 一种透明导电膜
CN104516587A (zh) 导电膜和触摸屏
CN103955314A (zh) 一种触控面板结构及其制造方法
CN110221723A (zh) 触控面板制作方法、触控面板及电子装置
CN104516610A (zh) 单层多点电容屏及制造方法
CN103440906B (zh) 导电膜及触控面板
CN106155381B (zh) 触摸屏及其导电膜
TWM494356U (zh) 觸控電極基材的結構

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
LAPS Lapse due to unpaid annual fee