KR101529213B1 - 심리스 롤마스터 제작방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 심리스 롤마스터 제작방법에 관한 것이며, 본 발명의 심리스 롤마스터 제작방법은, 롤 형태의 기판 외주면에 박막층을 형성하는 박막층 형성단계와, 박막층의 자기조립(self assembly)을 유도하는 자기조립 유도단계와, 박막층을 현상하여 제1패턴을 형성하는 제1패턴 형성단계를 포함하고, 박막층 형성단계는, 박막층의 소재가 되는 코팅액이 수용된 코팅액 수용조에 기판을 담근 상태에서 기판을 회전시키며, 박막층의 두께가 조절되도록 기판을 제1 속도 범위에서 회전시키는 제1 두께 조절단계를 구비하는 제1처리단계와, 기판을 코팅액 수용조로부터 이탈시킨 상태에서 기판을 회전시키며, 제1 두께 조절단계에서 조절된 박막층의 두께가 재조절되도록 기판을 제2 속도 범위에서 회전시키는 제2 두께 조절단계를 구비하는 제2처리단계를 포함하며, 제2 속도 범위에서의 기판의 회전 속도는 제1 속도 범위에서의 기판의 회전 속도보다 크며, 코팅액은, 은 나노 입자 현탁액(suspensions) 또는 은 이온 용액(solution)으로 이루어진다.
Description
본 발명은 심리스 롤마스터 제작방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 이음새가 없는 롤마스터를 쉽게 제작할 수 있는 심리스 롤마스터 제작방법에 관한 것이다.
최근 들어 나노임프린트 공정 개발 방향은, 디스플레이 소자 분야에서 저비용 공정이 가능한 매력적인 장점이 인식되어짐에 따라, 이를 실현할 수 있는 대면적화 롤 연속 공정이 광범위하게 연구개발되고 있다. 대면적의 나노임프린트 공정을 수행하기 위해서는 롤 형태의 템플릿의 준비가 필수 전제되어야 한다.
일반적으로 롤 형태의 템플릿은 대면적 (글래스 또는 웨이퍼 레벨 크기) 마스터 패턴을 복제한 플렉시블 소프트 몰드를 만들고, 이를 롤금형에 패턴면이 외부로 향하도록 감아 몰드패턴을 만듬으로써 제작되었다.
다만, 이러한 방법의 경우에는, 몰드패턴의 양단을 서로 접합하여 마감함으로써, 접합 부위에 미세 선폭의 이음새가 발생하고, 이러한 이음새는 나노임프린트 공정시에 의도하지 않은 패턴으로 기능하여 기판상에 불량패턴을 형성하는 문제가 있다.
도 1은 종래의 심리스 롤마스터를 제작하는 공정의 일례를 도시한 것이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 이음새를 없애기 위하여 레이저(L)를 이용하여 롤 마스터(11)의 외주면을 직접 패터닝하는 방식이 연구되었으나, 원주방향으로 나선형태의 패턴(13)만 형성할 수 있다는 단점이 있었다.
(특허문헌 1) KR10-0692483 B1
따라서, 본 발명의 목적은 이와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 자기조립 유도를 이용하여 이음새가 없는 롤 마스터를 용이하게 제작할 수 있는 심리스 롤마스터 제작방법을 제공함에 있다.
상기 목적은 본 발명에 따른, 롤 형태의 기판 외주면에 박막층을 형성하는 박막층 형성단계; 상기 박막층의 자기조립(self assembly)을 유도하는 자기조립 유도단계; 및 상기 박막층을 현상하여 제1패턴을 형성하는 제1패턴 형성단계를 포함하고, 상기 박막층 형성단계는, 상기 박막층의 소재가 되는 코팅액이 수용된 코팅액 수용조에 상기 기판을 담근 상태에서 상기 기판을 회전시키며, 상기 박막층의 두께가 조절되도록 상기 기판을 제1 속도 범위에서 회전시키는 제1 두께 조절단계를 구비하는 제1처리단계; 및 상기 기판을 상기 코팅액 수용조로부터 이탈시킨 상태에서 상기 기판을 회전시키며, 상기 제1 두께 조절단계에서 조절된 상기 박막층의 두께가 재조절되도록 상기 기판을 제2 속도 범위에서 회전시키는 제2 두께 조절단계를 구비하는 제2처리단계를 포함하며, 상기 제2 속도 범위에서의 상기 기판의 회전 속도는 상기 제1 속도 범위에서의 상기 기판의 회전 속도보다 크며, 상기 코팅액은, 은 나노 입자 현탁액(suspensions) 또는 은 이온 용액(solution)인 것을 특징으로 하는 심리스 롤마스터 제작방법에 의해 달성된다.
여기서, 상기 심리스 롤마스터 제작방법은 상기 제1패턴을 마스크로 하여 상기 기판의 외주면을 에칭하여 제2패턴을 형성하는 제2패턴 형성단계; 및 상기 제1패턴을 제거하는 제거단계를 더 포함할 수 있다.
상기 박막층 형성단계는 상기 박막층이 어닐링(annealing)되도록 챔버 내에서 상기 기판을 회전시키는 제3처리단계를 더 포함할 수 있다.
상기 박막층 형성단계 이전에 상기 기판의 외면을 친수처리하는 전처리단계를 더 포함할 수 있다.
상기 전처리단계 이전에 건식 플라즈마 또는 습식 산 처리를 통하여 상기 기판의 외주면을 세정하는 세정단계를 더 포함할 수 있다.
상기 자기조립 유도단계에서 상기 박막층의 자기조립은 상기 챔버 내에서 열 또는 자외선광(UV)를 조사함으로써 이루어질 수 있다.
상기 제2패턴은 단면이 도트(DOT) 형상을 가질 수 있다.
여기서, 상기 심리스 롤마스터 제작방법은 상기 제1패턴을 마스크로 하여 상기 기판의 외주면을 에칭하여 제2패턴을 형성하는 제2패턴 형성단계; 및 상기 제1패턴을 제거하는 제거단계를 더 포함할 수 있다.
상기 박막층 형성단계는 상기 박막층이 어닐링(annealing)되도록 챔버 내에서 상기 기판을 회전시키는 제3처리단계를 더 포함할 수 있다.
상기 박막층 형성단계 이전에 상기 기판의 외면을 친수처리하는 전처리단계를 더 포함할 수 있다.
상기 전처리단계 이전에 건식 플라즈마 또는 습식 산 처리를 통하여 상기 기판의 외주면을 세정하는 세정단계를 더 포함할 수 있다.
상기 자기조립 유도단계에서 상기 박막층의 자기조립은 상기 챔버 내에서 열 또는 자외선광(UV)를 조사함으로써 이루어질 수 있다.
상기 제2패턴은 단면이 도트(DOT) 형상을 가질 수 있다.
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본 발명에 따르면, 자기조립 유도를 이용하여 이음새가 없는 롤마스터를 용이하게 제작할 수 있는 심리스 롤마스터 제작방법이 제공된다.
또한, 자기조립으로 형성되는 패턴을 마스크로 하여 기판 자체를 에칭하여 별도의 박막층이 형성되지 않는 기판과 일체형으로 형성됨으로써, 내구성이 향상되는 롤마스터를 제작할 수 있다.
또한, 기판 외면을 친수성으로 전처리하여 기판에 박막층이 원활하게 코팅되도록 할 수 있다.
또한, 박막층 형성 시에 기판의 회전속도를 제어하여 박막층의 두께를 용이하게 조절할 수 있다.
도 1은 종래의 심리스 롤마스터를 제작하는 공정의 일례를 도시한 것이고,
도 2는 본 발명의 제1실시예에 따른 심리스 롤마스터 제작방벙의 개략적인 공정 흐름도이고,
도 3은 도 2의 심리스 롤마스터 제작방법의 제1처리단계 공정을 개략적으로 도시한 것이고,
도 4는 도 2의 심리스 롤마스터 제작방법의 제2처리단계 공정을 개략적으로 도시한 것이고,
도 5는 도 2의 심리스 롤마스터 제작방법의 자기조립 유도단계 공정을 개략적으로 도시한 것이고,
도 6은 본 발명의 제2실시예에 따른 심리스 롤마스터 제작방법의 제1패턴 형성단계 공정을 개략적으로 도시한 것이고,
도 7은 본 발명의 제3실시예에 따른 심리스 롤마스터 제작방법의 제2패턴 형성단계와 제거단계 공정을 개략적으로 도시한 것이다.
도 2는 본 발명의 제1실시예에 따른 심리스 롤마스터 제작방벙의 개략적인 공정 흐름도이고,
도 3은 도 2의 심리스 롤마스터 제작방법의 제1처리단계 공정을 개략적으로 도시한 것이고,
도 4는 도 2의 심리스 롤마스터 제작방법의 제2처리단계 공정을 개략적으로 도시한 것이고,
도 5는 도 2의 심리스 롤마스터 제작방법의 자기조립 유도단계 공정을 개략적으로 도시한 것이고,
도 6은 본 발명의 제2실시예에 따른 심리스 롤마스터 제작방법의 제1패턴 형성단계 공정을 개략적으로 도시한 것이고,
도 7은 본 발명의 제3실시예에 따른 심리스 롤마스터 제작방법의 제2패턴 형성단계와 제거단계 공정을 개략적으로 도시한 것이다.
설명에 앞서, 여러 실시예에 있어서, 동일한 구성을 가지는 구성요소에 대해서는 동일한 부호를 사용하여 대표적으로 제1실시예에서 설명하고, 그 외의 실시예에서는 제1실시예와 다른 구성에 대해서 설명하기로 한다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 제1실시예에 따른 심리스 롤마스터 제작방법(S100)에 대하여 상세하게 설명한다.
도 2를 참조하면, 본 발명의 제1실시예에 따른 심리스 롤마스터 제작방법(S100)은 이음새가 없는 심리스(seamless) 표면의 롤 마스터를 제작하기 위한 방법에 관한 것으로서, 세정단계(S110)와 전처리단계(S120)와 박막층 형성단계(S130)와 자기조립 유도단계(S140)를 포함한다.
상기 세정단계(S110)는 횡단면이 원 형상인 실린더형 기판(110)의 외주면을 세정하는 동시에 표면을 친수성 처리하는 단계이다.
본 단계에서는 기판(110)에 전기적 에너지를 가하면서 아르곤(Ar), 수소(H2), 산소(O2) 등의 가스를 기판(110)의 외주면에 투입하면, 투입되는 가스가 플라즈마 상태로 활성화된다. 이러한 플라즈마 상태에서 발생하는 가스의 이온 또는 라디칼 등이 기판(110)의 표면에 충돌함으로써, 기판(110) 표면의 미세 이물질을 제거한다.
또한, 이와 같은 공정을 통하여 기판(110)의 표면은 친수화된다.
한편, 본 실시예에서는 플라즈마를 이용하여 공정이 이루어졌으나, 본 단계는 습식 산 처리를 통하여 진행될 수도 있으며, 기판(110) 표면의 세정 및 친수처리가 가능한 공정이라면 제한되는 것은 아니다.
상기 전처리단계(S120)에서는 후술하는 박막층 형성단계(S130)에서 박막층(120)의 박막층 형성이 원활하게 이루어질 수 친수 처리된 기판(110)의 외주면이 접합 증친층을 증착하는 단계이다.
즉, 본 단계는 기판(110)의 외주면과 후술하는 박막층 형성단계(S130)에서 형성될 박막층(120)과의 화학적 친밀성을 향상시켜 상호 간의 부착성을 증진시키기 위한 단계로서, 기판(110)의 외주면에 접합 증진층(adhesion promoter)(미도시)을 증착하거나, 접합 증진 처리를 한다.
이때, 접합 증진층(미도시) 및 접합 증친 처리 기술은 본 기술분야의 당업자에게 널리 알려진 기술이므로 자세한 설명은 생략한다.
상기 박막층 형성단계(S130)는 기판(110)의 외주면에 박막층(120)을 균일하게 형셩하는 단계로서, 제1처리단계(S131)와 제2처리단계(S132)와 제3처리단계(S133)를 포함한다.
도 3은 도 2의 심리스 롤마스터 제작방법의 제1처리단계 공정을 개략적으로 도시한 것이다.
도 3을 참조하여 설명하면, 상기 제1처리단계(S131)는 박막층(120)의 소재가 되는 코팅액이 수용되는 코팅액 수용조(B)에 기판(110)을 담근 상태에서, 기판(110)의 외주면에 코팅액을 형성하는 단계이다. 또한 이러한 제1처리단계(S131)는 박막층(120)의 두께가 조절되도록 기판(110)을 제1 속도 범위에서 회전시키는 제1 두께 조절단계를 구비한다.
본 실시예에서 코팅액 수용조(B)에 수용되는 코팅액은 은 나노 입자 현탁액(suspensions), 은 이온 용액(solution)이 이용된다.
본 단계를 상세히 설명하면, 먼저, 코팅액 수용조(B)에 상술한 소재 중 어느 하나를 원료로 하는 코팅액을 수용시킨 상태에서, 코팅액에 기판(110)을 침지시킨다. 이와 동시에, 코팅액과 접촉한 상태의 기판(110)을 소정의 구동장비를 통하여 회전시킴으로써 외주면에 코팅액이 균일하게 형성되도록 한다.
한편, 상술한 세정단계(S110)에서 기판(110)의 외주면이 친수성을 갖도록 처리됨에 따라 코팅액이 더욱 쉽게 형성되며, 전처리단계(S120)를 통하여 표면과의 부착성을 향상시킬 수 있다.
이러한 과정에서, 기판(110)이 회전하는 속도를 소정의 제1 속도 범위 내에서 조절함으로써, 박막층(120)의 두께를 조절할 수 있다. 즉, 기판(110)의 회전속도를 증가시키는 경우에는 원심력에 의하여 기판(110)으로부터 이탈하는 코팅액의 양도 증가하므로 박막층(120)의 두께는 감소하는 반면에, 기판(110)의 회전속도를 감소시키는 경우에는 박막층(120)의 두께는 증가한다.
또한, 균일한 속도로 기판을 회전시킴으로써, 박막층(120)이 균일한 두께로 기판(110)에 형성될 수 있다.
도 4는 도 2의 심리스 롤마스터 제작방법의 제2처리단계 공정을 개략적으로 도시한 것이다.
도 4를 참조하여 설명하면, 상기 제2처리단계(S132)는 기판(110)을 코팅액 수용조(B)로부터 이탈시킨 후에, 기판(110)을 회전시키는 단계이다. 이러한 제2처리단계(S132)는 제1 두께 조절단계에서 조절된 박막층(120)의 두께가 재조절되도록 기판(110)을 제2 속도 범위에서 회전시키는 제2 두께 조절단계를 구비한다.
즉 본 단계에서는 기판(110)을 코팅액 수용조(B)로부터 꺼낸 후에 코팅액과 접촉되지 않은 상태에서 기판(110)을 다시 한번 회전시킴으로써, 기판(110) 상에 형성된 박막층(120)의 두께를 재조절하고 균일한 두께의 박막층(120)이 형성될 수 있도록 한다.
이때, 기판(110)의 회전속도는 박막층(120)의 두께 및 최종 형성되는 제1패턴(130)의 크기를 결정하는 것이므로, 본 단계에서는 이를 고려하여 기판(110)의 회전속도를 소정의 제2 속도 범위 내에서 결정하는 것이 바람직하다. 따라서 본 실시예에서 박막층(120)의 두께가 점진적으로 작아지도록 제2 속도 범위에서의 기판(110)의 회전 속도는 제1 속도 범위에서의 기판(110)의 회전 속도보다 크게 설정된다.
상기 제3처리단계(S133)는 챔버(C) 내에서 기판(110)을 회전시키면서, 소프트 어닐링(soft-annealing)을 수행하여, 형성된 박막층(120)에 포함되는 용매(solvent)를 제거하는 단계이다.
단, 본 공정에서는 박막층(120)의 자기조립이 발생할 수 있는 온도보다 낮은 온도, 바람직하게는 50 도 내지 100도 사이에서 처리되도록 한다.
도 5는 도 2의 심리스 롤마스터 제작방법의 자기조립 유도단계 공정을 개략적으로 도시한 것이다.
도 5를 참조하여 설명하면, 상기 자기조립 유도단계(S140)는 기판(110)에 형성되는 박막층(120)의 자기조립을 유도하는 단계이다.
본 단계에서는 박막층(120)에 열을 가하거나 박막층(120)을 향하여 자외선 광(UV)을 조사함으로써, 박막층(120)의 자기조립(self-assembly)이 유도되도록 한다.
본 단계에서는 박막층(120)으로 은 나노 입자 현탁액(suspensions), 은 이온 용액(solution)이 이용되므로, 이러한 은 입자는 자기조립에 의하여 제1패턴(130)을 형성한다. 즉, 본 단계에서는 박막층(120)을 이루는 은 소재가 자기응집 현상을 통하여 아이솔레이션(isolation)되어진 아일랜드(island)의 분포가 형성된다.
이때, 본 실시예에서 박막층(120)의 자기조립 유도에 의하여 형성되는 제1패턴(130)의 형상은 단면이 미세 사이즈의 원인 도트(dot)이나, 이에 제한되는 것은 아니다.
한편, 상술한 제2처리단계(S132)에서 기판(110)의 회전속도에 따라 박막층(120)의 두께 및 자기조립 유도에 의하여 최종 형성되는 제1패턴(130)의 크기가 조절될 수 있다.
따라서, 본 실시예에 의하면, 이음새가 없는 패턴을 가지는 롤마스터가 제작될 수 있다.
다음으로 본 발명의 제2실시예에 따른 심리스 롤마스터 제작방법(S200)에 대하여 설명한다.
본 발명의 제2실시예에 따른 심리스 롤마스터 제작방법(S200)은 이음새가 없는 심리스(seamless) 표면의 롤 마스터를 제작하기 위한 방법에 관한 것으로서, 세정단계(S110)와 전처리단계(S120)와 박막층 형성단계(S230)와 자기조립 유도단계(S240)와 제1패턴 형성단계(S250)를 포함한다.
다만, 본 실시예에서의 세정단계(S110)와 전처리단계(S120)는 제1실시예에서 상술한 공정과 동일한 것이므로 중복 설명은 생략한다.
제1실시예의 박막층 형성단계(S130)에서 박막층(120)의 소재로 은 나노 입자 현탁액(suspensions) 또는 은 이온 용액(solution)이 이용되는 것과는 달리 본 실시예의 박막층 형성단계(S230)에서는 박막층(120)의 소재로 블록공중합체(block copolymer)가 이용된다.
상기 자기조립 유도단계(S240)는 기판(110)에 형성되는 박막층(120)의 자기조립을 유도하는 단계이다.
본 단계에서는 박막층(120)에 열을 가하거나 박막층(120)을 향하여 자외선 광(UV)을 조사함으로써, 박막층(120)의 자기조립(self-assembly)이 유도되도록 한다.
본 단계에서는 박막층(120)의 소재로 블록공중합체(block copolymer)가 이용되므로, 은 이온 용액(solution)이 이용되는 제1실시예와는 달리 패턴을 형성하지 않는다.
즉, 본 단계에서는 블록공중합체로 구성되는 박막층(120)이 식각 선택비가 다른 상분리 현상이 일어나고, 후술하는 제1패턴 형성단계(S250)에서 식각 선택비에 의하여 패턴을 형성한다.
도 6은 본 발명의 제2실시예에 따른 심리스 롤마스터 제작방법의 제1패턴 형성단계 공정을 개략적으로 도시한 것이다.
도 6을 참조하면, 상기 제1패턴 형성단계(S250)는 상술한 자기조립 유도단계(S140)에서 자기조립된 박막층(120)을 현상(develope)하여 제1패턴(130)이 형성되도록 하는 단계이다.
즉, 본단계에서는 소정의 현상액을 이용하여 기판에(110) 형성된 박막층(120)을 현상함으로써 제1패턴(130)을 형성한다.
따라서, 본 실시예에 의하면, 이음새가 없는 패턴을 가지는 롤마스터가 제작될 수 있다.
다음으로 본 발명의 제3실시예에 따른 심리스 롤마스터 제작방법(S200)에 대하여 설명한다.
본 발명의 제3실시예에 따른 심리스 롤마스터 제작방법(S200)은 심이 없는 심리스(seamless) 표면의 롤 마스터를 제작하기 위한 방법에 관한 것으로서, 세정단계(S110)와 전처리단계(S120)와 박막층 형성단계(S230)와 자기조립 유도단계(S240)와 제1패턴 형성단계(S250)와 제2패턴 형성단계(S360)와 제거단계(S370)를 포함한다.
다만, 본 실시예의 세정단계(S110)와 전처리단계(S120)와 박막층 형성단계(S130)와 자기조립 유도단계(S240)와 제1패턴 형성단계(S250)는 제1실시예 및 제2실시예에서 상술한 공정과 동일한 것이므로 중복설명은 생략한다.
도 7은 본 발명의 제3실시예에 따른 심리스 롤마스터 제작방법의 제2패턴 형성단계와 제거단계 공정을 개략적으로 도시한 것이다.
도 7을 참조하여 설명하면, 상기 제2패턴 형성단계(S360)는 이미 형성되는 제1패턴(130)을 마스크로 사용하여 기판(110) 자체를 패터닝하는 단계이다.
즉, 본 단계에서는 기판(110)의 외주면에 형성되는 제1패턴(120)을 마스크로 하여, 기판(110)을 에칭액에 노출시킴으로써, 기판(110)의 외주면에 제2패턴(130)을 형성한다. 따라서, 본 실시예에서 기판(110)은 습식 에칭에 의하여 패터닝될 수 있는 소재로 마련되는 것이 바람직하다.
또한, 본 단계에서는 습식 에칭 외에도 플라즈마 등을 이용한 건식에칭을 통하여 제2패턴(140)을 형성할 수도 있으며, 에칭 방식이 제한되는 것은 아니고, 에칭 방식을 고려하여 기판(110)의 소재가 결정될 수 있다.
상기 제거단계(S370)는 제2패턴(140) 상에 형성된 제1패턴(130)을 제거하여, 최종적으로 롤마스터를 제작하는 단계이다.
따라서, 본 실시예에 의하면, 별도로 적층되는 구조물 없이 기판 자체에 롤패턴을 일체로 형성하므로, 보다 견고한 롤마스터가 제작될 수 있다.
한편, 상술한 제3실시예의 제2패턴 형성단계(S360)에서는 제2실시예에서 블록공중합체 소재의 박막층을 이용하여 형성되는 제1패턴으로부터 제2패턴을 형성하는 것으로 설명하였으나, 이에 제한되는 것은 아니고 제1실시예에서 은 나노 입자 현탁액(suspensions), 은 이온 용액(solution) 소재로 적층된 박막층이 자기조립 유도되어 형성되는 제1패턴을 통하여 제2패턴을 형성할 수도 있다.
본 발명의 권리범위는 상술한 실시예에 한정되는 것이 아니라 첨부된 특허청구범위 내에서 다양한 형태의 실시예로 구현될 수 있다. 특허청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 변형 가능한 다양한 범위까지 본 발명의 청구범위 기재의 범위 내에 있는 것으로 본다.
110 : 기판 120 : 박막층
130 : 제1패턴 140 : 제2패턴
130 : 제1패턴 140 : 제2패턴
Claims (9)
- 롤 형태의 기판 외주면에 박막층을 형성하는 박막층 형성단계;
상기 박막층의 자기조립(self assembly)을 유도하는 자기조립 유도단계; 및
상기 박막층을 현상하여 제1패턴을 형성하는 제1패턴 형성단계를 포함하고,
상기 박막층 형성단계는,
상기 박막층의 소재가 되는 코팅액이 수용된 코팅액 수용조에 상기 기판을 담근 상태에서 상기 기판을 회전시키며, 상기 박막층의 두께가 조절되도록 상기 기판을 제1 속도 범위에서 회전시키는 제1 두께 조절단계를 구비하는 제1처리단계; 및
상기 기판을 상기 코팅액 수용조로부터 이탈시킨 상태에서 상기 기판을 회전시키며, 상기 제1 두께 조절단계에서 조절된 상기 박막층의 두께가 재조절되도록 상기 기판을 제2 속도 범위에서 회전시키는 제2 두께 조절단계를 구비하는 제2처리단계를 포함하며,
상기 제2 속도 범위에서의 상기 기판의 회전 속도는 상기 제1 속도 범위에서의 상기 기판의 회전 속도보다 크며,
상기 코팅액은,
은 나노 입자 현탁액(suspensions) 또는 은 이온 용액(solution)인 것을 특징으로 하는 심리스 롤마스터 제작방법. - 삭제
- 제1항에 있어서,
상기 제1패턴을 마스크로 하여 상기 기판의 외주면을 에칭하여 제2패턴을 형성하는 제2패턴 형성단계; 및
상기 제1패턴을 제거하는 제거단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 심리스 롤마스터 제작방법. - 삭제
- 제1항에 있어서,
상기 박막층 형성단계는 상기 박막층이 어닐링(annealing)되도록 챔버 내에서 상기 기판을 회전시키는 제3처리단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 심리스 롤마스터 제작방법. - 제5항에 있어서,
상기 박막층 형성단계 이전에 상기 기판의 외면을 친수처리하는 전처리단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 심리스 롤마스터 제작방법. - 제6항에 있어서,
상기 전처리단계 이전에 건식 플라즈마 또는 습식 산 처리를 통하여 상기 기판의 외주면을 세정하는 세정단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 심리스 롤마스터 제작방법. - 제5항에 있어서,
상기 자기조립 유도단계에서 상기 박막층의 자기조립은 상기 챔버 내에서 열 또는 자외선광(UV)를 조사함으로써 이루어지는 것을 특징으로 하는 심리스 롤마스터 제작방법. - 제3항에 있어서,
상기 제2패턴은 단면이 도트(DOT) 형상을 갖는 것을 특징으로 하는 심리스 롤마스터 제작방법.
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2013
- 2013-07-30 KR KR1020130090395A patent/KR101529213B1/ko active IP Right Grant
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| ACS NANO. 2010, 제4권 제4호 제1943-1948면. * |
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