KR101523160B1 - Photocurable/thermosetting inkjet composition, and printed wiring board using same - Google Patents

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Abstract

본 발명에 의하면, 분자 내에 (메트)아크릴로일기와 글리시딜기를 갖고 25℃에서의 점도가 10mPa·s 이하인 단량체와, 3관능 이상의 아크릴레이트 단량체와, 열경화 촉매와, 광중합 개시제를 포함하는 것을 특징으로 하는 잉크젯용 광경화성 열경화성 조성물이 제공된다. 또한, 상기한 조성에 산화티타늄을 포함하는 광경화성 열경화성 조성물이며, 프린트 배선판에 형성되는 수지 절연층 상으로의 패턴 묘화에 사용되는 것을 특징으로 하는 잉크젯용 광경화성 열경화성 조성물이 제공된다.According to the present invention, there is provided a process for producing a photopolymerizable composition comprising a monomer having a (meth) acryloyl group and a glycidyl group in a molecule and having a viscosity at 25 DEG C of 10 mPa.s or less, an acrylate monomer having three or more functional groups, Wherein the photo-curable thermosetting composition for inkjet is provided. Further, there is provided a photocurable thermosetting composition containing titanium oxide in the above composition, which is used for patterning on a resin insulating layer formed on a printed wiring board.

Description

잉크젯용 광경화성 열경화성 조성물 및 이것을 사용한 프린트 배선판 {PHOTOCURABLE/THERMOSETTING INKJET COMPOSITION, AND PRINTED WIRING BOARD USING SAME}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a photocurable thermosetting composition for inkjet, and a printed circuit board using the same. BACKGROUND OF THE INVENTION [0002]

본 발명은, 수지 절연층의 형성에 사용하는 광경화성 열경화성 조성물로서, 잉크젯 프린터를 사용하여, 프린트 배선판용의 기판 상에 절연층이나 마킹으로서의 패턴을 직접 묘화하기에 적합한 광경화성 열경화성 조성물, 및 이것을 사용하여 형성된 수지 절연층을 갖는 프린트 배선판에 관한 것이다.The present invention relates to a photo-curable thermosetting composition for use in forming a resin insulating layer, which is suitable for directly drawing an insulating layer or a pattern as a marking on a substrate for a printed circuit board by using an inkjet printer, And a resin insulating layer formed using the resin insulating layer.

잉크젯 프린터를 사용한 프린트 배선판의 제조 방법으로서는, 예를 들어 플라스틱 기판 상의 금속박에 잉크젯 프린터를 사용하여 에칭 레지스트를 형성하고, 에칭 처리를 행하는 도체 회로의 형성 방법이 존재한다(일본 특허 공개 소56-66089호, 일본 특허 공개 소56-157089호, 일본 특허 공개 소58-50794호, 일본 특허 공개 평6-237063호 참조). 이 방법은, CAD 데이터에 따라 금속박에 패턴을 직접 묘화하므로, 포토마스크가 필수적인 감광성 수지를 사용한 사진 현상법에 의한 패터닝이나, 레지스트 잉크를 스크린 인쇄법에 의해 패터닝하는 경우에 비교하여, 프린트 배선판의 제조 공정에 드는 수고나 시간을 대폭 단축할 수 있는 동시에, 현상액, 레지스트 잉크, 세정 용제 등의 소모품도 삭감할 수 있다는 이점을 갖는다.As a manufacturing method of a printed wiring board using an ink jet printer, there is a method of forming a conductor circuit in which an etching resist is formed by using, for example, an ink jet printer on a metal foil on a plastic substrate and subjected to an etching treatment (Japanese Patent Application Laid- Japanese Patent Application Laid-open No. 56-157089, Japanese Patent Laid-Open Nos. 58-50794 and 6-237063). This method directly draws the pattern on the metal foil in accordance with the CAD data. Therefore, compared with the case of patterning by the photographic developing method using a photosensitive resin in which a photomask is essential and patterning the resist ink by the screen printing method, The labor and time required for the manufacturing process can be greatly shortened, and consumption of a developing solution, a resist ink, a cleaning solvent, and the like can be reduced.

또한, 프린트 배선판에 형성된 도체 회로를 보호하는 솔더 레지스트와 같은 수지 절연층에 대해서도, 잉크젯 프린터를 사용한 형성 방법은 이미 제안되어 있다(일본 특허 공개 평7-263845호, 일본 특허 공개 평9-18115호 참조). 그 형성 방법은, 상술한 에칭 레지스트를 형성하는 방법과 마찬가지이다. 이 잉크젯 방법을 사용한 경우에도, 사진 현상법이나 스크린 인쇄법에 비교하여 공정수, 시간, 소모품을 삭감할 수 있다. 또한, 잉크젯 프린터의 잉크 탱크를, 예를 들어 에칭 레지스트용 잉크, 솔더 레지스트 잉크, 마킹 잉크 및 그들의 경화제 각각으로 나누어 잉크젯 프린터에 구비함으로써, 1대의 잉크젯 프린터에 의해 복수의 공정을 행할 수 있는 방식도 제안되어 있다(일본 특허 공개 평8-236902호 참조).In addition, a method of forming a resin insulating layer such as a solder resist for protecting a conductor circuit formed on a printed wiring board using an inkjet printer has already been proposed (Japanese Patent Laid-Open Nos. 7-263845 and 9-18115 Reference). The forming method is the same as the above-described method of forming the etching resist. Even when the inkjet method is used, the number of steps, time, and consumables can be reduced as compared with the photographic developing method and the screen printing method. Further, the ink tank of the ink jet printer is divided into each of the ink for the etching resist, the solder resist ink, the marking ink, and the curing agent thereof, and provided in the inkjet printer so that a plurality of processes can be performed by one inkjet printer (See Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-236902).

그러나, 잉크젯 프린터에 사용하는 잉크는, 도포 시의 점도가 약 20mPa·s 이하인 것이 필요하다. 한편, 스크린 인쇄에 사용되는 잉크의 점도는 20,000mPa·s 전후이며, 양자의 점도에는 큰 차이가 있다. 따라서, 스크린 인쇄용의 레지스트 잉크를 대량의 희석제에 의해 희석한 경우에도, 잉크젯 프린터에 사용할 수 있는 점도에까지 이것을 저하시키는 것은 어렵다. 또한, 가령 20mPa·s까지 상기 레지스트 잉크의 점도를 저하시킬 수 있었다고 해도, 솔더 레지스트와 같은 수지 절연층에 요구되는 내열성, 내약품성 등의 물성은 크게 저하되어 버린다. 또한, 상기 레지스트 잉크를 휘발성 용제로 희석한 경우에는 불휘발분이 매우 적어지기 때문에, 이것을 기판에 도포할 때 소정의 막 두께의 확보가 어려워진다. 그로 인해, 프린트 배선판의 수지 절연층의 형성 방법으로서는, 상기 잉크젯 방식은 아이디어의 영역을 벗어나지 못하고, 잉크젯 프린터에서 사용할 수 있는, 실용적인 수지 절연층 형성용의 레지스트 잉크 등의 수지 조성물은 존재하지 않았다.However, the ink used for the ink-jet printer needs to have a viscosity of about 20 mPa · s or less at the time of application. On the other hand, the viscosity of the ink used for screen printing is around 20,000 mPa · s, and there is a large difference in the viscosity of both. Therefore, even when the resist ink for screen printing is diluted with a large amount of diluent, it is difficult to lower the viscosity of the ink for use in an inkjet printer. Further, even if the viscosity of the resist ink can be lowered to 20 mPa 占 퐏, for example, the physical properties such as heat resistance and chemical resistance required for the resin insulating layer such as solder resist are significantly deteriorated. In addition, when the resist ink is diluted with a volatile solvent, the nonvolatile content becomes very small, so that it becomes difficult to secure a predetermined film thickness when the resist ink is applied to a substrate. As a method for forming the resin insulating layer of the printed wiring board, there is no resin composition such as a resist ink for forming a practical resin insulating layer, which can be used in an inkjet printer without departing from the idea of the inkjet method.

이러한 종래 기술에 대하여, 분자 내에 (메트)아크릴로일기와 열경화성 관능기를 갖는 단량체, 중량 평균 분자량 700 이하의 광반응성 희석제 및 광중합 개시제를 함유하고, 점도가 25℃에서 150mPa·s 이하인 수지 조성물을 사용함으로써, 상기한 과제를 해결한 잉크젯용 광경화성·열경화성 조성물이 알려져 있다(국제 공개 WO2004/099272). 이 잉크젯용 광경화성·열경화성 조성물에 의하면, 저점도임에도 불구하고, 솔더 레지스트로서 요구되는 내열성을 갖는 잉크젯용 조성물이 얻어지지만, 이 수지 조성물에 있어서는, 솔더 레지스트로서 요구되는 밀착성, 내약품성, 저온 경화성의 점에서 한층 더 개선이 요망되고 있었다.With respect to this prior art, a resin composition containing a monomer having a (meth) acryloyl group and a thermosetting functional group, a photoreactive diluent having a weight average molecular weight of 700 or less, and a photopolymerization initiator and having a viscosity of 150 mPa · s or less at 25 ° C A photo-curable and thermosetting composition for ink jet which solves the above problems is known (International Publication WO2004 / 099272). According to this inkjet photocurable and thermosetting composition, an inkjet composition having heat resistance required as a solder resist can be obtained in spite of a low viscosity. In this resin composition, the adhesion property, chemical resistance, low temperature curability And further improvement was desired in terms of

또한, 최근에는 상기 잉크젯 방식에 사용하는 백색의 마킹 잉크의 수요가 높아지고 있는데, 백색 안료로서 적합한 산화티타늄을 배합한 경우, 마킹 잉크의 점도가 상승한다. 그리고 그 대응책으로서 수지 조성을 저분자량화하는 방법을 취하는 것이 일반적이기 때문에, 마킹 패턴과 수지 절연층의 밀착성이 저하되어 버려, 수지 절연층으로부터 마킹 패턴이 박리되어 버린다는 문제가 있었다. 그로 인해, 잉크젯 프린터에서 사용할 수 있는 실용적인 백색 마킹 잉크는 존재하지 않았다.Further, in recent years, the demand for white marking ink used in the above-mentioned inkjet method is increasing, but when the titanium oxide suitable as a white pigment is blended, the viscosity of the marking ink increases. As a countermeasure, it is common to employ a method of lowering the molecular weight of the resin composition, so that the adhesion between the marking pattern and the resin insulating layer is lowered and the marking pattern is peeled off from the resin insulating layer. As a result, there was no practical white marking ink usable in an ink jet printer.

일본 특허 공개 소56-66089호Japanese Patent Application Laid-Open No. 56-66089 일본 특허 공개 소56-157089호Japanese Patent Application Laid-Open No. 56-157089 일본 특허 공개 소58-50794호Japanese Patent Laid-Open No. 58-50794 일본 특허 공개 평6-237063호Japanese Patent Laid-Open No. 6-237063 일본 특허 공개 평7-263845호Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-263845 일본 특허 공개 평9-18115호Japanese Patent Laid-Open No. 9-18115 일본 특허 공개 평8-236902호Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-236902 국제 공개 WO2004/099272International Publication WO2004 / 099272

본 발명은, 상술한 종래 기술의 문제를 해소하기 위하여 이루어진 것이며, 그 제1 과제는, 수지 절연층의 형성에 사용하는 광경화성 열경화성 조성물로서, 잉크젯 프린터를 사용하여, 프린트 배선판용의 기판 상에 수지 절연층 패턴을 직접 묘화할 수 있는 잉크젯용 광경화성 열경화성 조성물을 제공하는 데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve the problems of the conventional art described above. The first problem is to provide a photo-curable thermosetting composition for use in forming a resin insulating layer, Curable thermosetting composition capable of directly drawing a resin insulating layer pattern.

본 발명의 제2 과제는, 프린트 배선판에 형성되는 솔더 레지스트 등의 수지 절연층 상에, 잉크젯 프린터를 사용하여 마킹으로서의 패턴을 직접 묘화하기에 적합한, 산화티타늄을 포함하는 잉크젯용 광경화성 열경화성 조성물을 제공하는 데 있다.A second object of the present invention is to provide a photocurable thermosetting composition for inkjet comprising titanium oxide which is suitable for directly drawing a pattern as a marking by using an inkjet printer on a resin insulating layer such as solder resist formed on a printed wiring board .

본 발명의 제3 과제는, 상기 잉크젯용 광경화성 열경화성 조성물을 사용하여 잉크젯 프린터에 의해 프린트 배선판용의 기판 상에 직접 패턴을 묘화하고, 이것을 경화시켜 이루어지는 수지 절연층을 갖는 프린트 배선판을 제공하는 데 있다.A third object of the present invention is to provide a printed wiring board having a resin insulating layer formed by directly drawing a pattern on a substrate for a printed wiring board by using an inkjet printer using the photo-curable thermosetting composition for inkjet and curing the pattern have.

본 발명의 제4 과제는, 프린트 배선판에 형성되는 수지 절연층 상에, 잉크젯 프린터를 사용하여 상기 광경화성 열경화성 조성물의 패턴을 형성하고 이것을 경화시켜 이루어지는 마킹 패턴을 갖는 프린트 배선판을 제공하는 데 있다.A fourth object of the present invention is to provide a printed wiring board having a marking pattern formed by forming a pattern of the above-mentioned photocurable thermosetting composition using an inkjet printer on a resin insulating layer formed on a printed wiring board and hardening the pattern.

상기 제1 과제는, 보다 구체적으로 설명하면, 잉크젯 프린터에 사용할 수 있는 점도이며, 수지 절연층에 요구되는 내열성, 내약품성 등이 우수하고, 밀착성도 좋고, 프린트 배선판을 제조할 때의 가열 온도인 170℃ 이하, 바람직하게는 150℃ 이하의 저온에서 열경화시킬 수 있는 광경화성 열경화성 조성물을 제공하는 데 있다.More specifically, the first problem described above is a viscosity that can be used in an inkjet printer, and is excellent in heat resistance, chemical resistance, and the like required for the resin insulating layer, Curable thermosetting composition capable of thermosetting at a low temperature of 170 占 폚 or lower, preferably 150 占 폚 or lower.

상기 제2 과제는, 보다 구체적으로 설명하면, 잉크젯 프린터에 사용할 수 있는 점도이며, 산화티타늄을 배합해도 프린트 배선판 상에 형성되는 수지 절연층과의 밀착성이 좋은 패턴을 형성할 수 있는 광경화성 열경화성 조성물을 제공하는 데 있다.More specifically, the second problem is a viscosity that can be used in an inkjet printer. The second problem is that the photocurable thermosetting composition capable of forming a pattern having good adhesion to the resin insulating layer formed on the printed wiring board even if titanium oxide is blended .

상기 제1 과제를 해결하기 위해, 본 발명의 잉크젯용 광경화성 열경화성 조성물은, 분자 내에 (메트)아크릴로일기와 글리시딜기를 갖고 25℃에서의 점도가 10mPa·s 이하인 단량체와, 3관능 이상의 아크릴레이트 단량체와, 열경화 촉매와, 광중합 개시제를 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to solve the first problem, the inkjet photocurable thermosetting composition of the present invention comprises a monomer having a (meth) acryloyl group and a glycidyl group in the molecule and having a viscosity at 25 ° C of 10 mPa · s or less, Acrylate monomer, a thermosetting catalyst, and a photopolymerization initiator.

또한 본 발명의 잉크젯용 광경화성 열경화성 조성물의 다른 특징은, 상기 분자 내에 (메트)아크릴로일기와 글리시딜기를 갖고 25℃에서의 점도가 10mPa·s 이하인 단량체가 글리시딜메타크릴레이트 또는 4-히드록시부틸아크릴레이트글리시딜에테르인 것이다.Another feature of the inkjet photocurable thermosetting composition of the present invention is that the monomer having a (meth) acryloyl group and a glycidyl group in the molecule and having a viscosity at 25 DEG C of 10 mPa.s or less is glycidyl methacrylate or 4 - hydroxybutyl acrylate glycidyl ether.

본 발명의 잉크젯용 광경화성 열경화성 조성물의 또 다른 특징은, 상기 잉크젯용 광경화성 열경화성 조성물에 있어서, 상기 분자 내에 (메트)아크릴로일기와 글리시딜기를 갖고 25℃에서의 점도가 10mPa·s 이하인 단량체를 100질량부로 했을 때, 상기 3관능 이상의 아크릴레이트 단량체를 15 내지 400질량부, 바람직하게는 20 내지 300질량부, 상기 열경화 촉매를 0.1 내지 5질량부, 바람직하게는 0.5 내지 4질량부 함유할 수 있다.Another characteristic feature of the ink-jet photo-curable thermosetting composition of the present invention is that in the ink-jet photo-curable thermosetting composition, the ink has a (meth) acryloyl group and a glycidyl group in the molecule and has a viscosity at 25 ° C of 10 mPa · s or less When the monomer is 100 parts by mass, 15 to 400 parts by mass, preferably 20 to 300 parts by mass of the trifunctional or higher functional acrylate monomer, 0.1 to 5 parts by mass, preferably 0.5 to 4 parts by mass of the thermosetting catalyst ≪ / RTI >

여기서 상기 점도란, JIS K2283에 따라 측정한 점도를 가리킨다. 또한, 상기 잉크젯용 광경화성 열경화성 조성물의 점도는 상온(25℃)에서 150mPa·s 이하이다. 상술한 바와 같이, 잉크젯 프린터에 사용하는 잉크의 점도는 도포시의 온도에 있어서 약 20mPa·s 이하인 것이 필요하다. 그러나, 상온에서 150mPa·s 이하의 점도이면, 도포 전 또는 도포시의 가온에 의해 상기 조건을 충족할 수 있다. 이하의 본 명세서에 있어서도, 점도란 상기한 의미로 사용하는 것으로 한다.Here, the viscosity refers to the viscosity measured according to JIS K2283. The viscosity of the photo-curable thermosetting composition for inkjet is 150 mPa 占 퐏 or less at room temperature (25 占 폚). As described above, the viscosity of the ink used in the ink jet printer is required to be about 20 mPa s or less at the temperature at the time of coating. However, if the viscosity is 150 mPa 占 퐏 or less at room temperature, the above conditions can be satisfied by heating before or during coating. In the following description, the viscosity is used in the above-mentioned meaning.

상기 제2 과제를 해결하기 위해, 본 발명의 잉크젯용 광경화성 열경화성 조성물은, 분자 내에 (메트)아크릴로일기와 글리시딜기를 갖고 25℃에서의 점도가 10mPa·s 이하인 단량체와, 3관능 이상의 아크릴레이트 단량체와, 산화티타늄과, 열경화 촉매와, 광중합 개시제를 포함하는 광경화성 열경화성 조성물이며, 프린트 배선판에 형성되는 수지 절연층 상으로의 패턴 묘화에 사용되는 것을 특징으로 하는 것이다.In order to solve the second problem, the ink-jet photo-curable thermosetting composition for inkjet according to the present invention comprises a monomer having a (meth) acryloyl group and a glycidyl group in a molecule and having a viscosity at 25 ° C of 10 mPa · s or less, A photocurable thermosetting composition comprising an acrylate monomer, titanium oxide, a thermosetting catalyst, and a photopolymerization initiator, and is used for patterning on a resin insulating layer formed on a printed wiring board.

또한 본 발명의 잉크젯용 광경화성 열경화성 조성물의 다른 특징은, 상기 산화티타늄을 포함하는 잉크젯용 광경화성 열경화성 조성물에 있어서, 상기 분자 내에 (메트)아크릴로일기와 글리시딜기를 갖고 25℃에서의 점도가 10mPa·s 이하인 단량체가 글리시딜메타크릴레이트 또는 4-히드록시부틸아크릴레이트글리시딜에테르인 것이다.Another feature of the inkjet photocurable thermosetting composition of the present invention is that the photocurable thermosetting composition for inkjet comprising the titanium oxide is characterized in that it has a (meth) acryloyl group and a glycidyl group in the molecule and has a viscosity Is 10 mPa · s or less is glycidyl methacrylate or 4-hydroxybutyl acrylate glycidyl ether.

또한 본 발명의 잉크젯용 광경화성 열경화성 조성물의 다른 특징은, 상기 산화티타늄을 포함하는 잉크젯용 광경화성 열경화성 조성물에 있어서, 상기 분자 내에 (메트)아크릴로일기와 글리시딜기를 갖고 25℃에서의 점도가 10mPa·s 이하인 단량체를 100질량부로 했을 때, 상기 3관능 이상의 아크릴레이트 단량체를 15 내지 400질량부, 바람직하게는 20 내지 300질량부, 상기 열경화 촉매를 0.1 내지 5질량부, 바람직하게는 0.5 내지 4질량부 함유할 수 있다.Another feature of the inkjet photocurable thermosetting composition of the present invention is that the photocurable thermosetting composition for inkjet comprising the titanium oxide is characterized in that it has a (meth) acryloyl group and a glycidyl group in the molecule and has a viscosity Is in the range of 15 to 400 parts by mass, preferably 20 to 300 parts by mass, and the thermosetting catalyst is used in an amount of 0.1 to 5 parts by mass, preferably 0.1 to 5 parts by mass, 0.5 to 4 parts by mass.

본 발명의 프린트 배선판은, 상기 잉크젯용 광경화성 열경화성 조성물을 사용하여 잉크젯 프린터에 의해 기판 상에 패턴을 묘화하고, 이것을 경화시켜 이루어지는 수지 절연층을 갖는 것을 특징으로 하는 것이다.The printed wiring board of the present invention is characterized by having a resin insulating layer formed by drawing a pattern on a substrate by an inkjet printer using the photo-curable thermosetting composition for inkjet and curing the pattern.

또한, 본 발명의 프린트 배선판은, 프린트 배선판에 형성된 수지 절연층 상에, 잉크젯 프린터를 사용하여 상기 잉크젯용 광경화성 열경화성 조성물을 패턴 묘화하고, 이것을 경화시켜 이루어지는 패턴을 갖는 것을 특징으로 한다.The printed wiring board of the present invention is characterized by having a pattern formed by patterning the ink-jet photocurable thermosetting composition using an inkjet printer on a resin insulating layer formed on a printed wiring board and curing the pattern.

본 발명의 잉크젯용 광경화성 열경화성 조성물은, 분자 내에 (메트)아크릴로일기와 글리시딜기를 갖고 25℃에서의 점도가 10mPa·s 이하인 단량체와 3관능 이상의 아크릴레이트 단량체를 배합함으로써, 이것을 경화시켜 이루어지는 수지 절연층의 내열성, 내약품성 및 밀착성을 향상시킬 수 있다. 특히, 종래의 잉크젯용 수지 조성물에서는, 점도가 높은 감광성 단량체(또는 감광성 열경화성 단량체)를 사용하고 있으며, 당해 조성물을 상기 소정의 점도(20mPa·s)로 저하시키기 위하여, 점도가 낮은 단관능의 감광성 단량체를 배합하는 것이 일반적이었다. 한편, 본 발명에서는, 감광성 열경화성 단량체로서 점도가 낮은, 분자 내에 (메트)아크릴로일기와 글리시딜기를 갖고 25℃에서의 점도가 10mPa·s 이하인 단량체를 사용함으로써, 내열성, 내약품성 및 밀착성이 우수한 점도가 높은 3관능 이상의 아크릴레이트 단량체의 배합이 가능하게 되었다.The photo-curable thermosetting composition for inkjet of the present invention comprises a monomer having a (meth) acryloyl group and a glycidyl group in the molecule and having a viscosity at 25 ° C of 10 mPa · s or less and a trifunctional or higher-functional acrylate monomer, Heat resistance, chemical resistance and adhesion of the resin insulating layer can be improved. Particularly, in a conventional inkjet resin composition, a photosensitive monomer (or a photosensitive thermosetting monomer) having a high viscosity is used, and in order to lower the composition to the predetermined viscosity (20 mPa · s), a monofunctional photosensitive It was common to form monomers. On the other hand, in the present invention, by using a monomer having a low viscosity, a (meth) acryloyl group and a glycidyl group in the molecule and having a viscosity of 10 mPa 占 퐏 or less at 25 占 폚 as the photosensitive thermosetting monomer, heat resistance, chemical resistance and adhesion It has become possible to blend an acrylate monomer having three or more functionalities with high viscosity.

또한, 본 발명의 잉크젯용 광경화성 열경화성 조성물은, 열경화 촉매를 배합함으로써, 프린트 배선판을 제조할 때의 가열 온도인 170℃ 이하, 바람직하게는 150℃ 이하에서 경화시킬 수 있다. 이에 의해, 프린트 배선판의 특성에 영향을 주지 않고, 수지 절연층을 형성할 수 있다.Further, by incorporating a thermosetting catalyst, the photo-curable thermosetting composition for inkjet of the present invention can be cured at a heating temperature of 170 占 폚 or less, preferably 150 占 폚 or less, at the time of producing a printed wiring board. Thereby, the resin insulating layer can be formed without affecting the characteristics of the printed wiring board.

또한, 본 발명의 잉크젯용 광경화성 열경화성 조성물은, 분자 내에 (메트)아크릴로일기와 글리시딜기를 갖고 25℃에서의 점도가 10mPa·s 이하인 단량체와 3관능 이상의 아크릴레이트 단량체를 조합함으로써, 백색 안료로서 산화티타늄을 배합하는 경우에도 프린트 배선판 상에 형성되는 수지 절연층과 마킹 패턴의 밀착성을 향상시킬 수 있다. 특히, 종래의 잉크젯용 수지 조성물에서는, 점도가 높은 감광성 단량체(또는 감광성 열경화성 단량체)를 사용하고 있기 때문에, 여기에 백색 안료로서 산화티타늄을 배합하면, 당해 조성물의 점도는 더욱 상승한다. 따라서, 당해 조성물을 상기 소정의 점도(20mPa·s)로 저하시키기 위해서는, 다량의 점도가 낮은 단관능의 감광성 단량체를 배합해야 되어, 충분한 밀착성을 갖는 마킹 패턴을 형성할 수 없었다. 한편, 본 발명에서는, 감광성 열경화성 단량체로서 점도가 낮은, 분자 내에 (메트)아크릴로일기와 글리시딜기를 갖고 25℃에서의 점도가 10mPa·s 이하인 단량체를 사용함으로써, 내열성, 내약품성 및 밀착성이 우수한 점도가 높은 3관능 이상의 아크릴레이트 단량체의 배합이 가능하게 되어, 조성물의 점도가 실현됨과 함께, 충분한 밀착성을 갖는 마킹 패턴의 형성이 가능하게 되었다.Further, the photo-curable thermosetting composition for inkjet of the present invention can be obtained by combining a monomer having a (meth) acryloyl group and a glycidyl group in a molecule and having a viscosity of 10 mPa 占 퐏 or less at 25 占 폚 and an acrylate monomer having three or more functional groups, The adhesion of the marking pattern to the resin insulating layer formed on the printed wiring board can be improved even when titanium oxide is blended as the pigment. In particular, since the conventional inkjet resin composition uses a photosensitive monomer (or a photosensitive thermosetting monomer) having a high viscosity, the viscosity of the composition is further increased by adding titanium oxide as a white pigment thereto. Therefore, in order to lower the composition to the predetermined viscosity (20 mPa 占 퐏), a large amount of a monofunctional photosensitive monomer having a low viscosity must be blended, and a marking pattern having sufficient adhesion can not be formed. On the other hand, in the present invention, by using a monomer having a low viscosity, a (meth) acryloyl group and a glycidyl group in the molecule and having a viscosity of 10 mPa 占 퐏 or less at 25 占 폚 as the photosensitive thermosetting monomer, heat resistance, chemical resistance and adhesion It is possible to form a trifunctional or higher acrylate monomer having a high viscosity and to realize a viscosity of the composition and to form a marking pattern having sufficient adhesion.

또한, 본 발명의 잉크젯용 광경화성 열경화성 조성물은, 열경화 촉매를 배합함으로써, 프린트 배선판을 제조할 때의 가열 온도인 170℃ 이하, 바람직하게는 150℃ 이하에서 경화시킬 수 있다. 이에 의해, 프린트 배선판의 특성에 영향을 주지 않고, 마킹 패턴을 형성할 수 있다.Further, by incorporating a thermosetting catalyst, the photo-curable thermosetting composition for inkjet of the present invention can be cured at a heating temperature of 170 占 폚 or less, preferably 150 占 폚 or less, at the time of producing a printed wiring board. Thereby, the marking pattern can be formed without affecting the characteristics of the printed wiring board.

이하, 본 발명의 제1 실시 형태를 상세하게 설명한다. 이 실시 형태에 있어서는, 전술한 제1 과제를 해결하는 수단으로서의 광경화성 열경화성 조성물에 대하여 그 제법 및 조성물을 사용한 프린트 배선판에 대하여 설명한다.Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described in detail. In this embodiment, a printed circuit board using the photo-curable thermosetting composition as a means for solving the above-mentioned first problem will be described.

즉, 이 조성물은, 잉크젯 프린터에 사용할 수 있는 점도이며, 수지 절연층에 요구되는 내열성, 내약품성 등이 우수하고, 밀착성도 좋고, 프린트 배선판을 제조할 때의 가열 온도인 170℃ 이하, 바람직하게는 150℃ 이하의 저온에서 열경화시킬 수 있는 광경화성 열경화성 조성물이다. 또한, 본 발명이 당해 실시 형태에 한정되지 않는 것은 물론이다.That is, this composition is a viscosity that can be used in an ink jet printer, and is excellent in heat resistance, chemical resistance, and the like required for the resin insulating layer, and has good adhesion, and is preferably 170 ° C or less, Is a photocurable thermosetting composition that can be thermally cured at a low temperature of 150 ° C or lower. Needless to say, the present invention is not limited to this embodiment.

상술한 바와 같이, 본 발명의 잉크젯용 광경화성 열경화성 조성물은, 잉크젯 프린터를 사용하여 소정의 패턴을 프린트 배선판용의 기판 상에 직접 묘화할 수 있고, 여기에 활성 에너지선을 조사함으로써 1차 경화시키고, 그 후 재차 가열 경화시킴으로써, 내열성, 내약품성, 밀착성 등이 우수한 수지 절연층을 형성할 수 있다. 또한, 상기 조성물은 열경화 촉매를 함유하고 있어, 상기 가열 경화에 있어서 프린트 배선판을 제조할 때의 가열 온도보다 낮은 온도에서도 충분히 경화시키는 것이 가능하게 된다. 이 경우, 활성 에너지선의 조사 조건은, 100mJ/㎠ 이상, 바람직하게는 300mJ/㎠ 내지 2000mJ/㎠로 하는 것이 바람직하다. 또한, 가열 경화의 조건은, 140 내지 170℃에서 20분 이상, 바람직하게는 150 내지 170℃에서 20 내지 60분으로 하는 것이 바람직하다.As described above, the photocurable thermosetting composition for inkjet of the present invention can directly draw a predetermined pattern on a substrate for a printed wiring board by using an inkjet printer, primary-curing it by irradiating it with an active energy ray , And then heating and curing it again, a resin insulating layer excellent in heat resistance, chemical resistance, adhesion, and the like can be formed. In addition, since the composition contains a thermosetting catalyst, it is possible to sufficiently cure the thermosetting resin at a temperature lower than the heating temperature at the time of producing the printed wiring board in the thermosetting. In this case, the irradiation condition of the active energy ray is preferably 100 mJ / cm 2 or more, and more preferably 300 mJ / cm 2 to 2,000 mJ / cm 2. The heat curing is preferably carried out at 140 to 170 占 폚 for 20 minutes or more, preferably 150 to 170 占 폚 for 20 to 60 minutes.

상기 활성 에너지선의 조사는, 잉크젯 프린터에 의한 패턴의 묘화 후에 행하는 방법과, 당해 패턴 묘화와 병행하여 행하는 방법이 있지만, 시간이나 공정의 단축 등의 점에서, 후자의 방법이 바람직하다. 상기 활성 에너지선의 조사를 패턴 묘화와 병행하여 행하는 방법으로서는, 예를 들어 패턴 묘화시에 기판의 측부나 저부 등으로부터 활성 에너지선을 조사하는 방법 등이 있다. 활성 에너지선의 조사광원으로서는, 저압 수은등, 중압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등, 크세논 램프, 메탈 할라이드 램프 등을 이용할 수 있다. 그 외, 전자선, α선, β선, γ선, X선, 중성자선 등도 이용할 수 있다.The irradiation of the active energy ray is carried out after drawing of the pattern by the ink jet printer and the method is performed in parallel with the pattern drawing. The latter method is preferable from the viewpoint of time and shortening of the process. Examples of the method of conducting the irradiation of the active energy ray in parallel with the pattern drawing include a method of irradiating active energy rays from the side or bottom of the substrate during patterning. As the irradiation light source of the active energy ray, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultra high pressure mercury lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp and the like can be used. In addition, electron beams,? Rays,? Rays,? Rays, X rays, neutron rays, etc. can also be used.

이어서, 본 발명의 제1 실시 형태에 관한 잉크젯용 광경화성 열경화성 조성물에 대하여 설명한다.Next, the ink-jet photocurable thermosetting composition according to the first embodiment of the present invention will be described.

상기 분자 내에 (메트)아크릴로일기와 글리시딜기를 갖고 25℃에서의 점도가 10mPa·s 이하인 단량체로서는, 예를 들어 글리시딜메타크릴레이트, 4-히드록시부틸아크릴레이트글리시딜에테르 등을 들 수 있고, 시판품으로서는 니찌유제 브렌마 G, 교에샤 가가꾸제 라이트 에스테르 G 등이 있다. 또한, 본 명세서에 있어서, (메트)아크릴로일기는 아크릴로일기 및 메타크릴로일기를 총칭하는 용어이며, 다른 유사한 표현에 대해서도 마찬가지로 한다.Examples of the monomer having a (meth) acryloyl group and a glycidyl group in the molecule and having a viscosity of 10 mPa 占 퐏 or less at 25 占 폚 include glycidyl methacrylate, 4-hydroxybutyl acrylate glycidyl ether and the like Examples of commercially available products include Nichiyu Brenma G and Kyoeisha Chemical Lite Esters G, and the like. In the present specification, the term "(meth) acryloyl group" generally refers to an acryloyl group and a methacryloyl group, and the same applies to other similar expressions.

상기 3관능 이상의 아크릴레이트 단량체로서는, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디아크릴레이트 등의 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 트리메틸올 메탄트리아크릴레이트, 에틸렌옥시드 변성 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 프로필렌옥시드 변성 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 에피클로로히드린 변성 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라메타크릴레이트, 테트라메틸올메탄테트라아크릴레이트, 에틸렌옥시드 변성 인산 트리아크릴레이트, 에피클로로히드린 변성 글리세롤트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 디펜타에리트리톨모노히드록시펜타아크릴레이트, 또는 이들의 실세스퀴옥산 변성물 등으로 대표되는 다관능 아크릴레이트, 또는 이들에 대응하는 메타크릴레이트 단량체, 3관능 메타크릴레이트에스테르, ε-카프로락톤 변성 트리스(아크록시에틸)이소시아누레이트 등을 들 수 있다. 당해 3관능 이상의 아크릴레이트 단량체의 배합량은, 분자 내에 (메트)아크릴로일기와 글리시딜기를 갖고 25℃에서의 점도가 10mPa·s 이하인 단량체를 100질량부로 했을 때, 15 내지 400질량부, 바람직하게는 20 내지 300질량부이다.Examples of the trifunctional or higher functional acrylate monomers include polyethylene glycol diacrylate such as triethylene glycol diacrylate and tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolmethane triacrylate , Ethylene oxide modified trimethylol propane triacrylate, propylene oxide modified trimethylol propane triacrylate, epichlorohydrin modified trimethylol propane triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, Tetramethylolmethane tetraacrylate, ethylene oxide modified phosphoric acid triacrylate, epichlorohydrin-modified glycerol triacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol monohydroxypentaacrylate, Are polyfunctional acrylates represented by silsesquioxane-modified products thereof, or methacrylate monomers corresponding thereto, trifunctional methacrylate esters,? -Caprolactone-modified tris (acroxyethyl) isocyanurate And the like. The blending amount of the trifunctional or higher functional acrylate monomer is preferably 15 to 400 parts by mass when 100 parts by mass of a monomer having a (meth) acryloyl group and a glycidyl group in the molecule and having a viscosity at 25 DEG C of 10 mPa.s or less is used Is 20 to 300 parts by mass.

상기 광중합 개시제로서는, 광 라디칼 중합 개시제나 광 양이온 중합 개시제를 들 수 있다.Examples of the photopolymerization initiator include a photo radical polymerization initiator and a photo cation polymerization initiator.

광 라디칼 중합 개시제로서는, 광, 레이저, 전자선 등에 의해 라디칼을 발생시켜, 라디칼 중합 반응을 개시하는 화합물이면 모두 사용할 수 있다. 당해 광 라디칼 중합 개시제로서는, 예를 들어 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르 등의 벤조인과 벤조인알킬에테르류; 아세토페논, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 2,2-디에톡시-2-페닐아세토페논, 1,1-디클로로아세토페논 등의 아세토페논류; 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온, N,N-디메틸아미노아세토페논 등의 아미노아세토페논류; 2-메틸안트라퀴논, 2-에틸안트라퀴논, 2-t-부틸안트라퀴논, 1-클로로안트라퀴논 등의 안트라퀴논류; 2,4-디메틸티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2-클로로티오크산톤, 2,4-디이소프로필티오크산톤 등의 티오크산톤류; 아세토페논디메틸케탈, 벤질디메틸케탈 등의 케탈류; 2,4,5-트리아릴이미다졸 이량체; 리보플라빈테트라부틸레이트; 2-머캅토벤조이미다졸, 2-머캅토벤조옥사졸, 2-머캅토벤조티아졸 등의 티올 화합물; 2,4,6-트리스-s-트리아진, 2,2,2-트리브로모에탄올, 트리브로모메틸페닐술폰 등의 유기 할로겐 화합물; 벤조페논, 4,4'-비스 디에틸아미노벤조페논 등의 벤조페논류 또는 크산톤류; 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥시드 등을 들 수 있다.As the photo radical polymerization initiator, any compound that generates a radical by light, laser, electron beam or the like and initiates a radical polymerization reaction can be used. Examples of the photo radical polymerization initiator include benzoin and benzoin alkyl ethers such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether and benzoin isopropyl ether; Acetophenones such as acetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone and 1,1-dichloroacetophenone; 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane- - amino acetophenones such as N, N, N-dimethylaminoacetophenone; Anthraquinones such as 2-methyl anthraquinone, 2-ethyl anthraquinone, 2-t-butyl anthraquinone, and 1-chloro anthraquinone; Thioxanthones such as 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone and 2,4-diisopropylthioxanthone; Ketal such as acetophenone dimethyl ketal and benzyl dimethyl ketal; 2,4,5-triarylimidazole dimer; Riboflavin tetrabutyrate; Thiol compounds such as 2-mercaptobenzoimidazole, 2-mercaptobenzoxazole and 2-mercaptobenzothiazole; Organic halogen compounds such as 2,4,6-tris-s-triazine, 2,2,2-tribromoethanol, and tribromomethylphenyl sulfone; Benzophenones such as benzophenone and 4,4'-bisdiethylaminobenzophenone, or xanthones; 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, and the like.

상기 광 라디칼 중합 개시제는, 단독으로 또는 복수종을 혼합하여 사용할 수 있다. 또한, 이들 외에, N,N-디메틸아미노벤조산에틸에스테르, N,N-디메틸아미노벤조산이소아밀에스테르, 펜틸-4-디메틸아미노벤조에이트, 트리에틸아민, 트리에탄올아민 등의 3급 아민류 등의 광 개시 보조제를 더 사용할 수 있다. 또한, 가시광 영역에 흡수가 있는 CGI-784 등(바스프(BASF) 재팬사제)의 티타노센 화합물 등도, 광 반응을 촉진시키기 위하여 광 라디칼 중합 개시제에 첨가할 수도 있다. 또한, 광 라디칼 중합 개시제에 첨가하는 성분은 이들에 한정되는 것은 아니고, 자외광 또는 가시광 영역에서 광을 흡수하여, (메트)아크릴로일기 등의 불포화기를 라디칼 중합시키는 것이면, 광중합 개시제, 광 개시 보조제에 한하지 않고, 단독으로 또는 복수 병용하여 사용할 수 있다.The photoradical polymerization initiator may be used singly or in combination of a plurality of species. In addition to these, in addition to these, tertiary amines such as N, N-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester, N, N-dimethylaminobenzoic acid isoamyl ester, pentyl-4-dimethylaminobenzoate, triethylamine and triethanolamine Additional initiating adjuvants may be used. Further, a titanocene compound such as CGI-784 (manufactured by BASF Japan) having absorption in the visible light region and the like can also be added to the photo radical polymerization initiator to promote the photoreaction. The component added to the photo radical polymerization initiator is not limited to these, and if it absorbs light in ultraviolet light or in the visible light region to radically polymerize an unsaturated group such as a (meth) acryloyl group, a photopolymerization initiator, But they may be used singly or in combination.

상기 광 양이온 중합 개시제로서는, 광, 레이저, 전자선 등에 의해 양이온 중합 반응을 개시하는 화합물이면 사용할 수 있다. 광에 의해 양이온종을 발생시키는 광 양이온 중합 개시제로서는, 예를 들어 디아조늄염, 요오도늄염, 브로모늄염, 클로로늄염, 술포늄염, 셀레노늄염, 피릴륨염, 티아피릴륨염, 피리디늄염 등의 오늄염; 트리스(트리할로메틸)-s-트리아진 및 그의 유도체 등의 할로겐화 화합물; 술폰산의 2-니트로벤질에스테르; 이미노술포네이트; 1-옥소-2-디아조나프토퀴논-4-술포네이트 유도체; N-히드록시이미드=술포네이트; 트리(메탄술포닐옥시)벤젠 유도체; 비스술포닐디아조메탄류; 술포닐카르보닐알칸류; 술포닐카르보닐디아조메탄류; 디술폰 화합물 등을 들 수 있다. 시판되고 있는 광 양이온 중합 개시제로서는, 사이라큐어(Cyracure) UVI-6970, UVI-6974, UVI-6990, UVI-6950(이상, UCC사제의 상품명), 이르가큐어(Irgacure) 261(바스프 재팬사제의 상품명), SP-150, SP-152, SP-170(이상, 아사히 덴까 고교(주)제의 상품명), DAICATII(다이셀 가가꾸 고교(주)제의 상품명), UVAC1591(다이셀 사이텍(주)제의 상품명), CI-2734, CI-2855, CI-2823, CI-2758(이상, 닛본 소다(주)제의 상품명), PI-2074(로느푸란(주)제의 상품명), FFC509(3M(주)제의 상품명), 로드실(Rhodorsil) 광 개시제 2074(로디아(Rhodia)(주)제의 상품명), BBI-102, BBI-101(미도리 가가꾸(주)제의 상품명), CD-1012(사토마(Sartomer)(주)제의 상품명) 등을 들 수 있다.As the photo cationic polymerization initiator, any compound that initiates cationic polymerization reaction by light, laser, electron beam or the like can be used. Examples of the photo cationic polymerization initiator that generates cationic species by light include diazonium salts, iodonium salts, bromonium salts, chloronium salts, sulfonium salts, selenonium salts, pyrylium salts, thiapyrylium salts, pyridinium salts and the like Onium salts; Halogenated compounds such as tris (trihalomethyl) -s-triazine and its derivatives; 2-nitrobenzyl ester of sulfonic acid; Iminosulfonate; 1-oxo-2-diazonaphthoquinone-4-sulfonate derivatives; N-hydroxyimide = sulfonate; Tri (methanesulfonyloxy) benzene derivatives; Bis-sulfonyldiazomethanes; Sulfonylcarbonylalkanes; Sulfonylcarbonyldiazomethanes; Disulfone compounds and the like. Examples of commercially available photo cationic polymerization initiators include Cyracure UVI-6970, UVI-6974, UVI-6990 and UVI-6950 (trade names, manufactured by UCC Co., Ltd.), Irgacure 261 (Trade name, manufactured by Asahi Denka Kogyo K.K.), DAICAT II (trade name, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), UVAC 1591 (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) (Trade name, manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.), PI-2074 (trade name, manufactured by Lo Fran Co., Ltd.), FFC509 (trade name, manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.), CI-2734, CI-2855, CI- Rhodorsil photoinitiator 2074 (trade name, manufactured by Rhodia), BBI-102, BBI-101 (trade name, manufactured by Midori Kagaku Co., Ltd.) CD-1012 (trade name, manufactured by Sartomer), and the like.

상기 열경화 촉매로서는, 이미다졸, 2-메틸이미다졸, 2-에틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸, 2-페닐이미다졸, 4-페닐이미다졸, 1-시아노에틸-2-페닐이미다졸, 1-(2-시아노에틸)-2-에틸-4-메틸이미다졸 등의 이미다졸 유도체; 디시안디아미드, 벤질디메틸아민, 4-(디메틸아미노)-N,N-디메틸벤질아민, 4-메톡시-N,N-디메틸벤질아민, 4-메틸-N,N-디메틸벤질아민 등의 아민 화합물, 아디프산디히드라지드, 세박산디히드라지드 등의 히드라진 화합물; 트리페닐포스핀 등의 인 화합물 등을 들 수 있다. 시판되고 있는 열경화 촉매로서는, 예를 들어 시꼬꾸 가세이 고교사제의 2MZ-A, 2MZ-OK, 2PHZ, 2P4BHZ, 2P4MHZ(모두 이미다졸계 화합물의 상품명), 산아프로사제의 U-CAT3503N, U-CAT3502T(모두 디메틸아민의 블록 이소시아네이트 화합물의 상품명), DBU, DBN, U-CATSA102, U-CAT5002(모두 2환식 아미딘 화합물 및 그의 염) 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수도 있다. 당해 열경화 촉매의 배합량은, 분자 내에 (메트)아크릴로일기와 글리시딜기를 갖고 25℃에서의 점도가 10mPa·s 이하인 단량체를 100질량부로 했을 때 0.1 내지 5질량부, 바람직하게는 0.5 내지 4질량부이다.Examples of the thermosetting catalyst include imidazole, 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 4- Imidazole derivatives such as cyanoethyl-2-phenylimidazole and 1- (2-cyanoethyl) -2-ethyl-4-methylimidazole; Amines such as dicyandiamide, benzyldimethylamine, 4- (dimethylamino) -N, N-dimethylbenzylamine, 4-methoxy-N, N-dimethylbenzylamine and 4- Compounds, hydrazine compounds such as adipic acid dihydrazide and sebacic acid dihydrazide; And phosphorus compounds such as triphenylphosphine. Examples of commercially available thermosetting catalysts include 2MZ-A, 2MZ-OK, 2PHZ, 2P4BHZ, and 2P4MHZ (all trade names of imidazole compounds) manufactured by Shikoku Chemical Industry Co., U-CAT 3503N, DBT, DBN, U-CATSA102, and U-CAT5002 (both bicyclic amidine compounds and salts thereof), and the like can be given as examples of CAT3502T (all of the block isocyanate compounds of dimethylamine). These may be used alone or in combination of two or more. The blending amount of the thermal curing catalyst is 0.1 to 5 parts by mass, preferably 0.5 to 5 parts by mass, based on 100 parts by mass of a monomer having a (meth) acryloyl group and a glycidyl group in the molecule and having a viscosity at 25 DEG C of 10 mPa.s or less, 4 parts by mass.

본 발명의 제1 실시 형태에 관한 잉크젯용 광경화성 열경화성 조성물은, 점도의 조정을 목적으로 하여, 희석 용제를 첨가할 수도 있다. 희석 용제로서는, 예를 들어 메틸에틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류; 톨루엔, 크실렌, 테트라메틸벤젠 등의 방향족 탄화수소류; 셀로솔브, 메틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 카르비톨, 메틸카르비톨, 부틸카르비톨, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜디에틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르 등의 글리콜에테르류; 아세트산에틸, 아세트산부틸, 셀로솔브아세테이트, 부틸셀로솔브 아세테이트, 카르비톨아세테이트, 부틸카르비톨아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 등의 아세트산에스테르류; 에탄올, 프로판올, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜 등의 알코올류; 옥탄, 데칸 등의 지방족 탄화수소류; 석유 에테르, 석유 나프타, 수소 첨가 석유 나프타, 솔벤트 나프타 등의 석유계 용제류 등을 들 수 있다.A diluting solvent may be added to the ink-jet photo-curable thermosetting composition of the first embodiment of the present invention for the purpose of adjusting the viscosity. Examples of the diluting solvent include ketones such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone; Aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, and tetramethylbenzene; Methyl cellosolve, butyl cellosolve, carbitol, methyl carbitol, butyl carbitol, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol diethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, etc. Of glycol ethers; Acetic acid esters such as ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, carbitol acetate, butyl carbitol acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate and dipropylene glycol monomethyl ether acetate; Alcohols such as ethanol, propanol, ethylene glycol and propylene glycol; Aliphatic hydrocarbons such as octane and decane; Petroleum solvents such as petroleum ether, petroleum naphtha, hydrogenated petroleum naphtha and solvent naphtha.

또한 본 발명의 제1 실시 형태에 관한 광경화성 열경화성 조성물은, 필요에 따라 프탈로시아닌 블루, 프탈로시아닌 그린, 아이오딘 그린, 디스아조 옐로우, 크리스탈 바이올렛, 카본 블랙, 나프탈렌 블랙 등의 착색제, 히드로퀴논, 히드로퀴논모노메틸에테르, tert-부틸카테콜, 피로갈롤, 페노티아진 등의 공지 관용의 중합 금지제, 실리콘계, 불소계, 고분자계 등의 소포제 및/또는 레벨링제, 이미다졸계, 티아졸계, 트리아졸계, 실란 커플링제 등의 밀착성 부여제 등의 첨가제류를 배합할 수 있다.Further, the photo-curable thermosetting composition according to the first embodiment of the present invention may contain a coloring agent such as phthalocyanine blue, phthalocyanine green, iodine green, disazo yellow, crystal violet, carbon black and naphthalene black, hydroquinone, hydroquinone monomethyl Based antifoaming agents and / or leveling agents such as silicone, fluorine, and high molecular weight, imidazole-based, thiazole-based, triazole-based, silane couple And an adhesion-imparting agent such as a lixing agent.

[실시예] [Example]

이하, 본 발명의 제1 실시 형태에 관한 잉크젯용 광경화성 열경화성 조성물의 실시예를 기재하여 본 발명에 대하여 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에만 한정되는 것은 아니다. 또한, 이하에 있어서 특별히 언급하지 않는 한, 「부」는 질량부를 의미한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples of the ink-jet photo-curable thermosetting composition according to the first embodiment of the present invention, but the present invention is not limited to these Examples. Unless specifically stated below, " parts " means parts by mass.

실시예 1 내지 5 및 비교예 1 내지 6에 대해, 표 1에 나타내는 비율로 각 성분을 배합하고, 이것을 디졸버에 의해 교반하고, 1㎛의 디스크 필터로 여과를 행하여, 각 조성물을 얻었다.For each of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 6, each component was blended at the ratios shown in Table 1, stirred with a dissolver, and filtered through a 1 占 퐉 disk filter to obtain respective compositions.

Figure 112013078894330-pct00001
Figure 112013078894330-pct00001

<분자 내에 (메트)아크릴로일기와 글리시딜기를 갖고 25℃에서의 점도가 10mPa·s 이하인 단량체>&Lt; Monomer having a (meth) acryloyl group and a glycidyl group in the molecule and having a viscosity at 25 캜 of 10 mPa> or less>

GMA: 글리시딜메타크릴레이트(점도 2mPa·s(25℃))GMA: glycidyl methacrylate (viscosity 2 mPa 占 퐏 (25 占 폚))

4HBAGE: 4-히드록시부틸아크릴레이트글리시딜에테르(점도 7mPa·s(25℃))4HBAGE: 4-hydroxybutyl acrylate glycidyl ether (viscosity 7 mPa s (25 캜))

<「분자 내에 (메트)아크릴로일기와 글리시딜기를 갖고 25℃에서의 점도가 10mPa·s 이하인 단량체」이외의 단량체>&Quot; Monomer having a (meth) acryloyl group and a glycidyl group in the molecule and having a viscosity of 10 mPa 占 퐏 or less at 25 占 폚>

EA-1010N: 비스페놀 A형 에폭시 수지의 한쪽 에폭시기에 아크릴산을 부가시킨 화합물 신나까무라 가가꾸 고교사제(점도 22,000mPa·s(25℃))EA-1010N: Compound obtained by adding acrylic acid to one epoxy group of a bisphenol A type epoxy resin (viscosity: 22,000 mPa 揃 s (25 属 C) manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)

AGE: 알릴글리시딜에테르알릴기와 글리시딜기를 갖는다(점도 1mPa·s(25℃))AGE: allyl glycidyl ether having allyl group and glycidyl group (viscosity 1 mPa 占 퐏 (25 占 폚))

4HBA: 4-히드록시부틸아크릴레이트(점도 10mPa·s(25℃))4HBA: 4-hydroxybutyl acrylate (viscosity 10 mPa 占 퐏 (25 占 폚))

DPGDA: 디프로필렌글리콜디아크릴레이트(점도 12mPa·s(25℃))DPGDA: dipropylene glycol diacrylate (viscosity 12 mPa 占 퐏 (25 占 폚))

M-100: 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트 메타크로일과 지환식 에폭시기를 갖는 화합물 다이셀 가가꾸 고교제(점도 10mPa·s(25℃))M-100: Compound having 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate meta-chromate and alicyclic epoxy group Diacetate crosslinking agent (viscosity 10 mPa · s (25 ° C))

<3관능 이상의 아크릴레이트 단량체> &Lt; Trifunctional acrylate monomer >

PETA: 펜타에리트리톨트리아크릴레이트PETA: pentaerythritol triacrylate

TMPTA: 트리메틸올프로판트리아크릴레이트TMPTA: trimethylolpropane triacrylate

SR9011: 3관능 메타크릴레이트에스테르 사토마사제SR9011: Trifunctional methacrylate ester Satomase

M327: ε-카프로락톤 변성 트리스(아크록시에틸)이소시아누레이트(도아 고세사제)M327:? -Caprolactone-modified tris (acroxyethyl) isocyanurate (manufactured by Doagosei Co., Ltd.)

<열경화 촉매> <Thermal curing catalyst>

2E4MZ: 2-에틸-4-메틸이미다졸2E4MZ: 2-ethyl-4-methylimidazole

<광중합 개시제> <Photopolymerization initiator>

IRG819: 바스프사제 이르가큐어 819IRG819: BASF priest Irgacure 819

상기 각 조성물에 대하여 이하에 나타내는 특성 시험을 행했다. 그 결과를 표 2에 나타낸다.Each of the above compositions was subjected to the following characteristic tests. The results are shown in Table 2.

<도포성> &Lt; Coatability >

후지 필름제 잉크젯 프린터인 다이매틱스 머트리얼 프린터(Dimatix Materials Printer) DMP-2831을 사용하여, 잉크젯 프린트 용지(엡손 포맷지 A4)에, 상기 각 조성물에 의해 폭이 100㎛이고 1변의 길이가 20mm인 L형 라인을 인쇄했다. 당해 L형 라인에 대해, 돋보기로 관찰하여, 라인의 형상을 이하와 같이 평가했다.(Epson Format A4) using a Dimatix Materials Printer DMP-2831, an inkjet printer manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., with each composition having a width of 100 mu m and a length of one side of 20 mm L-type lines were printed. The L-shaped line was observed with a magnifying glass, and the shape of the line was evaluated as follows.

○: 라인에 긁힘이나 꼬임이 없고 정확하게 묘화되어 있음.○: Line is drawn without any scratches or kinks.

×: 라인을 확인할 수 없거나, 또는 라인에 긁힘이나 꼬임이 발생함.X: The line can not be confirmed, or scratches or kinks occur in the line.

<광경화성> <Photocurability>

후지 필름제 잉크젯 프린터인 다이매틱스 머트리얼 프린터 DMP-2831을 사용하여, 프린트 배선판용 동장 적층판(FR-4 두께 1.6mm 크기 150×95mm)에, 상기 각 조성물에 의해 10×20mm 크기의 직사각형의 패턴을 인쇄했다. 그 직후에, 상기 인쇄 완료된 적층판에 대하여 고압 수은등을 사용하여 300mJ/㎠의 적산 광량으로 UV 조사했다. 당해 직사각형 패턴에 대해, UV 조사 후의 경화 상태에 대하여 이하와 같이 평가했다.(FR-4, thickness: 1.6 mm, size: 150 mm x 95 mm) was printed with a rectangular pattern having a size of 10 x 20 mm by each of the above compositions on a printed circuit board laminate (FR-4, thickness 150 mm x 95 mm) using a DMI- . Immediately thereafter, the printed laminated plate was subjected to UV irradiation at a cumulative light quantity of 300 mJ / cm 2 using a high-pressure mercury lamp. With respect to the rectangular pattern, the cured state after UV irradiation was evaluated as follows.

○: 경화되어 있어, 형상 유지하고 있음.∘: Cured and maintained in shape.

×: 경화되지 않음. X: Not cured.

<밀착성> &Lt; Adhesion >

후지 필름제 잉크젯 프린터인 다이매틱스 머트리얼 프린터 DMP-2831을 사용하여, 프린트 배선판용 동장 적층판(FR-4 두께 1.6mm 크기 150×95mm)에, 상기 각 조성물에 의해 10×20mm 크기의 직사각형의 패턴을 막 두께가 15㎛로 되도록 인쇄했다. 그 직후에 상기 인쇄 완료된 적층판에 대하여, 고압 수은등을 사용하여 300mJ/㎠의 적산 광량으로 UV 조사했다. 계속해서, 당해 UV 조사 완료된 적층판을 열풍 순환식 건조로에서 150℃ 30분 가열하여, 상기 패턴을 열경화시켜 각 시험편을 얻었다. 당해 각 시험편의 직사각형 패턴에 커터 나이프에 의해 종횡으로 1개씩 절입을 형성하고, 이것에 대하여 셀로판 테이프로 필링을 행하여, 그 박리에 대하여 이하와 같이 평가를 행했다.(FR-4, thickness: 1.6 mm, size: 150 mm x 95 mm) was printed with a rectangular pattern having a size of 10 x 20 mm by each of the above compositions on a printed circuit board laminate (FR-4, thickness 150 mm x 95 mm) using a DMI- Was printed so as to have a film thickness of 15 mu m. Immediately thereafter, the printed laminated plate was subjected to UV irradiation at a cumulative light quantity of 300 mJ / cm 2 using a high-pressure mercury lamp. Subsequently, the laminated plate subjected to the UV irradiation was heated in a hot-air circulating type drying oven at 150 DEG C for 30 minutes to thermally cure the pattern to obtain test pieces. A rectangular pattern of each of the test pieces was cut one by one vertically and horizontally by a cutter knife. Peeling was performed with a cellophane tape, and the peeling was evaluated as follows.

○: 거의 박리가 보이지 않음.○: Almost no peeling was observed.

×: 셀로테이프(등록 상표)에 크게 전사되는 박리가 있음.X: There is peeling which is largely transferred to Cellotape (registered trademark).

<내약품성> <Chemical resistance>

상기 각 조성물에 대해, 상기 밀착성 시험에 기재한 방법과 마찬가지의 방법으로 각 시험편을 제작했다. 당해 각 시험편에 대해, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트에 실온에서 30분 침지시키고, 이것을 취출한 후에 건조시켰다. 건조 후의 각 시험편에 대해, 도막의 상태를 육안으로 이하와 같이 평가했다.For each of the above compositions, each test piece was produced by the same method as described in the above adhesion test. Each of the test pieces was immersed in propylene glycol monomethyl ether acetate at room temperature for 30 minutes, taken out, and then dried. With respect to each test piece after drying, the state of the coating film was visually evaluated as follows.

○: 도막의 상태에 변화 없음 ○: No change in the state of the coating film

×: 도막에 들뜸, 박리가 있음 X: Exposed to the coating film and peeled

<내열성> <Heat resistance>

상기 각 조성물에 대해, 상기 밀착성 시험에 기재한 방법과 마찬가지의 방법으로 각 시험편을 제작했다. 당해 각 시험편에 대해, 로진계 플럭스를 도포하고, 260℃의 땜납조에 10초간 침지시키고, 이것을 취출하여 자연 냉각했다. 이 시험을 3회 반복한 후, 각 시험편의 도막의 상태를 육안으로 이하와 같이 평가했다.For each of the above compositions, each test piece was produced by the same method as described in the above adhesion test. For each of the test pieces, a rosin-based flux was applied and immersed in a solder bath at 260 캜 for 10 seconds, taken out and naturally cooled. After this test was repeated three times, the state of the coating film of each test piece was visually evaluated as follows.

○: 도막의 상태에 변화 없음 ○: No change in the state of the coating film

×: 도막에 들뜸, 박리가 있음 X: Exposed to the coating film and peeled

<절연성> <Insulation>

상기 실시예 1 내지 5의 조성물에 대해, 동장 적층판 대신 IPC B-25 테스트 패턴의 빗형 전극 B 쿠폰을 사용하고, 막 두께를 40㎛로 한 것 이외는, 밀착성 시험에 기재된 방법과 마찬가지의 방법으로 각 시험편을 제작했다. 이 시험편에, DC500V의 바이어스를 인가하여, 절연 저항값을 측정했다. 값이 100GΩ 이상이면 ○, 100GΩ 미만이면 ×로 했다.The compositions of Examples 1 to 5 were prepared by the same method as described in the adhesion test except that the interdigital electrode B coupon of the IPC B-25 test pattern was used in place of the copper clad laminate, Each test piece was produced. A bias of 500 V DC was applied to the test piece to measure the insulation resistance value. When the value was 100 G? Or more, it was rated?, And when it was less than 100 G?

Figure 112013078894330-pct00002
Figure 112013078894330-pct00002

이상으로부터, 본 발명의 잉크젯용 광경화성 열경화성 조성물은, 잉크젯 프린터를 사용하여, 프린트 배선판용의 기판 상에 직접 패턴을 묘화할 수 있고, 도포성에 문제없이, 밀착성, 내약품성, 내열성이 우수한 수지 절연층을 형성할 수 있다.From the above, the photo-curable thermosetting composition for inkjet according to the present invention can be used to draw a pattern directly on a substrate for a printed wiring board by using an inkjet printer and can form a resin insulation Layer can be formed.

이어서, 본 발명의 제2 실시 형태에 관한 잉크젯용 광경화성 열경화성 조성물을 상세하게 설명한다. 이 실시 형태에 있어서는, 전술한 제2 과제를 해결하는 수단으로서의, 마킹 패턴의 형성에 적합한 잉크젯용 광경화성 열경화성 조성물에 대하여 그 제법 및 조성물을 사용한 프린트 배선판에 대하여 설명한다.Next, the ink-jet photocurable thermosetting composition according to the second embodiment of the present invention will be described in detail. In this embodiment, a printed wiring board using the composition and a method for the ink-jet photocurable thermosetting composition suitable for forming a marking pattern as a means for solving the above-mentioned second problem will be described.

제2 실시 형태에 관한 잉크젯용 광경화성 열경화성 조성물은, 프린트 배선판에 형성되는 수지 절연층 상에, 잉크젯 프린터를 사용하여 소정의 마킹 패턴을 직접 묘화할 수 있고, 여기에 활성 에너지선을 조사함으로써 1차 경화시키고, 그 후 재차 가열 경화시킴으로써, 내열성, 내약품성, 밀착성 등이 우수한 마킹 패턴을 형성할 수 있다. 또한, 상기 조성물은 열경화 촉매를 함유하고 있어, 상기 가열 경화에 있어서 프린트 배선판을 제조할 때의 가열 온도보다 낮은 온도에서도 충분히 경화시키는 것이 가능하게 된다. 이 경우, 활성 에너지선의 조사 조건은, 100mJ/㎠ 이상, 바람직하게는 300mJ/㎠ 내지 2000mJ/㎠로 하는 것이 바람직하다. 또한, 가열 경화의 조건은, 140 내지 170℃에서 20분 이상, 바람직하게는 150 내지 170℃에서 20 내지 60분으로 하는 것이 바람직하다.The ink-jet photo-curable thermosetting composition for inkjet according to the second embodiment can directly form a predetermined marking pattern on a resin insulating layer formed on a printed wiring board using an inkjet printer, And then heating and curing it again, a marking pattern excellent in heat resistance, chemical resistance, adhesion, and the like can be formed. In addition, since the composition contains a thermosetting catalyst, it is possible to sufficiently cure the thermosetting resin at a temperature lower than the heating temperature at the time of producing the printed wiring board in the thermosetting. In this case, the irradiation condition of the active energy ray is preferably 100 mJ / cm 2 or more, and more preferably 300 mJ / cm 2 to 2,000 mJ / cm 2. The heat curing is preferably carried out at 140 to 170 占 폚 for 20 minutes or more, preferably 150 to 170 占 폚 for 20 to 60 minutes.

상기 활성 에너지선의 조사는, 제1 실시 형태의 설명에 있어서 설명한 바와 같이, 잉크젯 프린터에 의한 패턴의 묘화와 병행하여 행하는 방법이 바람직하다. 이 방법으로서는, 전술한 바와 같이, 예를 들어 패턴 묘화시에 기판의 측부나 저부 등으로부터 활성 에너지선을 조사하는 방법 등이 있다. 활성 에너지선의 조사광원으로서는, 저압 수은등, 중압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등, 크세논 램프, 메탈 할라이드 램프 등을 이용할 수 있다. 그 외, 전자선, α선, β선, γ선, X선, 중성자선 등도 이용할 수 있다.As described in the description of the first embodiment, the irradiation of the active energy ray is preferably performed in parallel with the patterning of the pattern by the inkjet printer. As this method, for example, there is a method of irradiating an active energy ray from a side portion or a bottom portion of a substrate at the time of patterning, for example, as described above. As the irradiation light source of the active energy ray, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultra high pressure mercury lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp and the like can be used. In addition, electron beams,? Rays,? Rays,? Rays, X rays, neutron rays, etc. can also be used.

실시 형태 1과 마찬가지로, 분자 내에 (메트)아크릴로일기와 글리시딜기를 갖고 25℃에서의 점도가 10mPa·s 이하인 단량체로서는, 예를 들어 글리시딜메타크릴레이트, 4-히드록시부틸아크릴레이트글리시딜에테르 등을 들 수 있고, 시판품으로서는 니찌유제 브렌마 G, 교에샤 가가꾸제 라이트 에스테르 G 등이 있다.Examples of the monomer having a (meth) acryloyl group and a glycidyl group in the molecule and having a viscosity of 10 mPa 占 퐏 or less at 25 占 폚 as in Embodiment 1 include glycidyl methacrylate, 4-hydroxybutyl acrylate Glycidyl ether and the like. Commercially available products include Nichiyu Brenma G, Kyoeisha Chemical Co., Ltd. Light Ester G, and the like.

상기 3관능 이상의 아크릴레이트 단량체로서는, 제1 실시 형태와 마찬가지의 단량체를 들 수 있다. 그러나, 당해 3관능 이상의 아크릴레이트 단량체의 배합량은, 분자 내에 (메트)아크릴로일기와 글리시딜기를 갖고 25℃에서의 점도가 10mPa·s 이하인 단량체를 100질량부로 했을 때, 15 내지 400질량부, 바람직하게는 20 내지 300질량부이다.As the acrylate monomers having three or more functional groups, monomers similar to those of the first embodiment can be mentioned. However, the blending amount of the trifunctional or higher functional acrylate monomer is preferably in the range of 15 to 400 parts by weight, based on 100 parts by weight of the monomer having a (meth) acryloyl group and a glycidyl group in the molecule and having a viscosity of 10 mPa.s or less at 25 DEG C , Preferably 20 to 300 parts by mass.

상기 산화티타늄으로서는, 아나타제형 산화티타늄과 루틸형 산화티타늄 모두 사용할 수 있다. 마킹 패턴의 광 열화를 억제할 수 있는 점에서, 특히 루틸형 산화티타늄을 사용하는 것이 바람직하다. 아나타제형 산화티타늄은 루틸형 산화티타늄과 비교하여 자외선 영역과 가시광 영역의 경계 부근의 반사율이 높기 때문에, 백색도와 반사율의 관점에서는, 아나타제 산화티타늄이 백색 안료로서는 더 바람직하다. 그러나, 아나타제형 산화티타늄은 광촉매 활성을 갖기 때문에, 이 광 활성에 의해 광경화 열경화성 조성물에 포함되는 수지의 변색을 일으키는 경우가 있다. 이에 반하여, 루틸형 산화티타늄은 아나타제형 산화티타늄과 비교하여 백색도는 약간 떨어지지만, 광촉매 활성을 거의 갖지 않기 때문에, 상기 수지의 열화를 억제할 수 있어, 안정된 마킹 패턴을 얻을 수 있다.As the titanium oxide, both anatase type titanium oxide and rutile type titanium oxide can be used. From the standpoint of suppressing photo deterioration of the marking pattern, it is particularly preferable to use rutile titanium oxide. The anatase type titanium oxide is more preferable as the white pigment from the viewpoints of the whiteness and the reflectance because the anatase type titanium oxide has a higher reflectance near the boundary between the ultraviolet ray region and the visible light region as compared with the rutile type titanium oxide. However, since the anatase type titanium oxide has photocatalytic activity, there is a case where the resin included in the photocurable thermosetting composition causes discoloration due to the photoactivity. On the other hand, the rutile titanium oxide has a slightly lower whiteness than the anatase type titanium oxide, but has almost no photocatalytic activity, so that deterioration of the resin can be suppressed and a stable marking pattern can be obtained.

상기 루틸형 산화티타늄으로서는, 구체적으로는, 타이페이크(Tipaque) R-820, 타이페이크 R-830, 타이페이크 R-930, 타이페이크 R-550, 타이페이크 R-630, 타이페이크 R-670, 타이페이크 R-680, 타이페이크 R-780, 타이페이크 R-850, 타이페이크 CR-50, 타이페이크 CR-57, 타이페이크 CR-80, 타이페이크 CR-90, 타이페이크 CR-93, 타이페이크 CR-95, 타이페이크 CR-97, 타이페이크 CR-60, 타이페이크 CR-63, 타이페이크 CR-67, 타이페이크 CR-58, 타이페이크 CR-85, 타이페이크 UT771(이상, 이시하라 산교(주)제), 타이퓨어(TiPure) R-100, 타이퓨어 R-101, 타이퓨어 R-102, 타이퓨어 R-103, 타이퓨어 R-104, 타이퓨어 R-105, 타이퓨어 R-108, 타이퓨어 R-900, 타이퓨어 R-902, 타이퓨어 R-960, 타이퓨어 R-706, 타이퓨어 R-931(이상, 듀퐁(주)제), 티톤(TITON) R-25, 티톤 R-21, 티톤 R-32, 티톤 R-7E, 티톤 R-5N, 티톤 R-61N, 티톤 R-62N, 티톤 R-42, 티톤 R-45M, 티톤 R-44, 티톤 R-49S, 티톤 GTR-100, 티톤 GTR-300, 티톤 D-918, 티톤 TCR-29, 티톤 TCR-52, 티톤 FTR-700(이상, 사까이 가가꾸 고교(주)제) 등을 들 수 있다.Specific examples of the rutile-type titanium oxide include Teapac R-820, Taipei R-830, Taipei R-930, Taipei R-550, Taipei R-630, Taipei R-670, Taipei KR-80, Taipei KR-80, Taipei CR-50, Taipei CR-57, Taipei CR-80, Taipei CR-90, Taipei CR-93, Taipei CR-95, Taipei CR-97, Taipei CR-60, Taipei CR-63, Taipei CR-67, Taipei CR-58, ), Tie Pure R-101, Tie Pure R-102, Tie Pure R-103, Tie Pure R-104, Tie Pure R-105, (TITON) R-25, TITON R-21 (trade name, manufactured by DuPont), Titan R-901, TITON R-7N, TITON R-61N, TITON R-62N, TITON R-4N, TITON R-45, TITON R-49S, TITON GTR-100, TITON GTR-300, TITON D-918, TITON TCR-29, TITON TCR-52, TITON FTR-700 Manufactured by Cai Kagaku Kogyo Co., Ltd.).

또한, 상기 아나타제형 산화티타늄으로서는, TA-100, TA-200, TA-300, TA-400, TA-500(이상, 후지 티타늄 고교(주)제), 타이페이크 A-100, 타이페이크 A-220, 타이페이크 W-10(이상, 이시하라 산교(주)제), 티타닉스(TITANIX) JA-1, 티타닉스 JA-3, 티타닉스 JA-4, 티타닉스 JA-5(이상, 테이카(주)제), 크로노스(KRONOS) KA-10, 크로노스 KA-15, 크로노스 KA-20, 크로노스 KA-30(이상, 티탄 고교(주)제), A-100, A-100, A-100, SA-1, SA-1L(이상, 사까이 가가꾸 고교(주)제) 등을 들 수 있다.As the anatase type titanium oxide, TA-100, TA-200, TA-300, TA-400 and TA-500 (manufactured by Fuji Titanium High Co., 220, Taipei W-10 (manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.), TITANIX JA-1, Titanix JA-3, Titanix JA-4, Titanix JA- A-100, A-100, A-100, K-10, Kronos KA-15, Kronos KA-20 and Kronos KA-30 manufactured by Titan Kogyo Co., SA-1, and SA-1L (all manufactured by SAKAI KAGAKU KOGYO CO., LTD.).

산화티타늄의 배합량은, 전체 조성물의 합계량에 대하여 바람직하게는 3 내지 30질량부, 보다 바람직하게는 5 내지 20질량부이다. 산화티타늄의 배합량이 상기 합계량에 대하여 30질량부를 초과하면, 본 발명의 광경화성 열경화성 조성물의 점도가 높아짐과 함께, 광경화성이 저하되고, 경화 심도가 낮아지므로 바람직하지 않다. 한편, 산화티타늄의 배합량이 상기 합계량에 대하여 3질량부 미만이면 당해 광경화성 열경화성 조성물의 은폐력이 작아져, 백색의 마킹 패턴을 얻을 수 없다.The blending amount of titanium oxide is preferably 3 to 30 parts by mass, more preferably 5 to 20 parts by mass based on the total amount of the whole composition. If the blending amount of titanium oxide exceeds 30 parts by mass based on the total amount, the viscosity of the photocurable thermosetting composition of the present invention becomes high, and the photocurability is lowered and the depth of curing is lowered. On the other hand, if the blending amount of titanium oxide is less than 3 parts by mass based on the total amount, the hiding power of the photocurable thermosetting composition becomes small, and a white marking pattern can not be obtained.

상기 열경화 촉매로서는, 제1 실시 형태와 동일하기 때문에, 상세한 설명은 생략한다.Since the thermosetting catalyst is the same as that of the first embodiment, a detailed description thereof will be omitted.

상기 광중합 개시제로서는, 제1 실시 형태와 마찬가지로, 광 라디칼 중합 개시제나 광 양이온 중합 개시제를 들 수 있다.As the photopolymerization initiator, as in the first embodiment, a photo radical polymerization initiator and a photo cation polymerization initiator can be mentioned.

광 라디칼 중합 개시제로서는, 제1 실시 형태와 마찬가지이기 때문에, 상세한 설명은 생략한다.The photoradical polymerization initiator is the same as that of the first embodiment, and thus a detailed description thereof will be omitted.

상기 광 양이온 중합 개시제로서도, 제1 실시 형태와 마찬가지이기 때문에, 상세한 설명은 생략한다.Since the photocationic polymerization initiator is the same as that of the first embodiment, detailed description thereof will be omitted.

본 발명의 잉크젯용 광경화성 열경화성 조성물은, 제1 실시 형태와 마찬가지로, 점도의 조정을 목적으로 하여, 희석 용제를 첨가할 수도 있지만, 중복을 피하기 위하여 상세한 것은 생략한다.In the ink-jet photo-curable thermosetting composition for inkjet of the present invention, a diluting solvent may be added for the purpose of adjusting the viscosity, similarly to the first embodiment, but detailed description is omitted in order to avoid duplication.

또한 본 발명의 광경화성 열경화성 조성물은, 제1 실시 형태와 마찬가지로, 필요에 따라 공지 관용의 중합 금지제, 실리콘계, 불소계, 고분자계 등의 소포제 및/또는 레벨링제, 이미다졸계, 티아졸계, 트리아졸계, 실란 커플링제 등의 밀착성 부여제 등의 첨가제류를 배합할 수 있다.The photo-curable thermosetting composition of the present invention may contain, as necessary, antifoaming agents such as known polymerization inhibitors, silicones, fluorides, and polymers, and / or leveling agents, imidazoles, thiazoles, An adhesion promoter such as a silane coupling agent, etc. may be added.

[실시예] [Example]

이하, 실시예를 기재하여 본 발명의 제2 실시 형태에 관한 광경화성 열경화성 조성물에 대하여 구체적으로 설명한다. 이하에 있어서 전술한 바와 마찬가지로, 특별히 언급하지 않는 한, 「부」는 질량부를 의미한다.Hereinafter, the photocurable thermosetting composition according to the second embodiment of the present invention will be described in detail with reference to examples. Unless otherwise stated, &quot; part &quot; means the part by mass, as described above in the following.

실시예 1 내지 5 및 비교예 1 내지 8에 대해, 표 3에 나타내는 비율로 각 성분을 배합하고, 이것을 디졸버에 의해 교반하고, 1㎛의 디스크 필터로 여과를 행하여, 각 조성물을 얻었다.For each of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 8, each component was blended at the ratios shown in Table 3, stirred with a dissolver, and filtered with a disc filter of 1 mu m to obtain respective compositions.

Figure 112013078894330-pct00003
Figure 112013078894330-pct00003

<분자 내에 (메트)아크릴로일기와 글리시딜기를 갖고 25℃에서의 점도가 10mPa·s 이하인 단량체>&Lt; Monomer having a (meth) acryloyl group and a glycidyl group in the molecule and having a viscosity at 25 캜 of 10 mPa> or less>

GMA: 글리시딜메타크릴레이트(점도 2mPa·s(25℃))GMA: glycidyl methacrylate (viscosity 2 mPa 占 퐏 (25 占 폚))

4HBAGE: 4-히드록시부틸아크릴레이트글리시딜에테르(점도 7mPa·s(25℃))4HBAGE: 4-hydroxybutyl acrylate glycidyl ether (viscosity 7 mPa s (25 캜))

<「분자 내에 (메트)아크릴로일기와 글리시딜기를 갖고 25℃에서의 점도가 10mPa·s 이하인 단량체」이외의 단량체>&Quot; Monomer having a (meth) acryloyl group and a glycidyl group in the molecule and having a viscosity of 10 mPa 占 퐏 or less at 25 占 폚>

EA-1010N: 비스페놀 A형 에폭시 수지의 한쪽 에폭시기에 아크릴산을 부가시킨 화합물 신나까무라 가가꾸 고교사제(점도 22,000mPa·s(25℃))EA-1010N: Compound obtained by adding acrylic acid to one epoxy group of a bisphenol A type epoxy resin (viscosity: 22,000 mPa 揃 s (25 属 C) manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)

AGE: 알릴글리시딜에테르알릴기와 글리시딜기를 갖는다(점도 1mPa·s(25℃))AGE: allyl glycidyl ether having allyl group and glycidyl group (viscosity 1 mPa 占 퐏 (25 占 폚))

4HBA: 4-히드록시부틸아크릴레이트(점도 10mPa·s(25℃))4HBA: 4-hydroxybutyl acrylate (viscosity 10 mPa 占 퐏 (25 占 폚))

DPGDA: 디프로필렌글리콜디아크릴레이트(점도 12mPa·s(25℃))DPGDA: dipropylene glycol diacrylate (viscosity 12 mPa 占 퐏 (25 占 폚))

M-100: 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트 메타크로일과 지환식 에폭시기를 갖는 화합물 다이셀 가가꾸 고교제(점도 10mPa·s(25℃))M-100: Compound having 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate meta-chromate and alicyclic epoxy group Diacetate crosslinking agent (viscosity 10 mPa · s (25 ° C))

<3관능 이상의 아크릴레이트 단량체>&Lt; Trifunctional acrylate monomer >

PETA: 펜타에리트리톨트리아크릴레이트PETA: pentaerythritol triacrylate

TMPTA: 트리메틸올프로판트리아크릴레이트TMPTA: trimethylolpropane triacrylate

SR9011: 3관능 메타크릴레이트에스테르 사토마사제SR9011: Trifunctional methacrylate ester Satomase

M327: ε-카프로락톤 변성 트리스(아크록시에틸)이소시아누레이트(도아 고세사제)M327:? -Caprolactone-modified tris (acroxyethyl) isocyanurate (manufactured by Doagosei Co., Ltd.)

<산화티타늄> <Titanium oxide>

CR-95: 이시하라 산교제 산화티타늄CR-95: Ishihara acid titanium oxide

<황산바륨> <Barium sulfate>

B-30: 사까이 가가꾸제 황산바륨B-30: barium sulfate &lt; RTI ID = 0.0 &gt;

<열경화 촉매> <Thermal curing catalyst>

2E4MZ: 2-에틸-4-메틸이미다졸2E4MZ: 2-ethyl-4-methylimidazole

<광중합 개시제> <Photopolymerization initiator>

IRG819: 바스프사제 이르가큐어 819IRG819: BASF priest Irgacure 819

상기 각 조성물에 대하여 이하에 나타내는 특성 시험을 행했다. 그 결과를 표 4에 나타낸다.Each of the above compositions was subjected to the following characteristic tests. The results are shown in Table 4.

<도포성> &Lt; Coatability >

후지 필름제 잉크젯 프린터인 다이매틱스 머트리얼 프린터 DMP-2831을 사용하여, 잉크젯 프린터용 필름(선하야토 PF-10R-A4)에, 상기 각 조성물에 의해 알파벳 A 내지 Z를 한 변이 2mm인 사각형 크기로 인쇄했다. 각 문자에 대해, 돋보기로 관찰하여 문자의 형상을 이하와 같이 평가했다.(SUNHAYATO PF-10R-A4) using the above-mentioned composition, letters A to Z were printed in a square size of 2 mm on each side using a DIMMTIC MULTI PRINTER DMP-2831, an inkjet printer manufactured by Fuji Photo Film Co., Printed. For each character, the shape of the character was observed with a magnifying glass and evaluated as follows.

○: 문자에 긁힘이나 꼬임이 없고, 쓸데없는 부분으로의 튀어나옴이 없음.○: There are no scratches or kinks in the characters, and no protruding parts are wasted.

×: 문자를 확인할 수 없거나, 또는 문자에 긁힘이나 꼬임이 발생, 또는 쓸데없는 부분으로의 튀어나옴이 있음.X: The character can not be confirmed, or the character has scratches or kinks, or has jumped out to a useless part.

<광경화성> <Photocurability>

프린트 배선판용 동장 적층판(FR-4 두께 1.6mm 크기 150×95mm)에 대하여, 다이요 잉키 제조(주)제 솔더 레지스트 PSR-4000G24를, 건조 도막이 20㎛로 되도록 스크린 인쇄에 의해 베타 인쇄했다. 그리고 이것을 80℃에서 30분 건조하고, 도막을 상기 적층판에 전면 잔존시키는 패턴으로 300mJ/㎠로 노광했다. 노광 후의 적층판을 30℃ 1wt% Na2CO3로 현상하여 수세했다. 이것을 150℃에서 30분간 더 경화시켜, 시험용 기판을 제작했다. 그리고, 후지 필름제 잉크젯 프린터인 다이매틱스 머트리얼 프린터 DMP-2831을 사용하여, 당해 각 시험용 기판에 상기 각 조성물에 의해 10×20mm 크기의 직사각형의 패턴을 인쇄했다. 또한 인쇄 직후의 각 시험용 기판을 고압 수은등을 사용하여 300mJ/㎠의 적산 광량으로 UV 조사했다.The solder resist PSR-4000G24 manufactured by Daiei Ink Manufacturing Co., Ltd. was printed on the copper-clad laminate for printed wiring boards (FR-4 thickness 1.6 mm in size 150 mm 95 mm) by screen printing with a screen printing method so as to have a dry film thickness of 20 탆. Then, it was dried at 80 DEG C for 30 minutes, and exposed at 300 mJ / cm2 in a pattern in which a coating film remained entirely on the laminate. The exposed laminate was developed with 30 wt% 1 wt% Na 2 CO 3 and washed with water. This was further cured at 150 DEG C for 30 minutes to prepare a test substrate. Then, a rectangular pattern having a size of 10 x 20 mm was printed on each of the test substrates by using a DMI-2831, a DIMMatic material printer, an inkjet printer manufactured by Fuji Photo Film. Each test substrate immediately after printing was subjected to UV irradiation at a cumulative light quantity of 300 mJ / cm 2 using a high-pressure mercury lamp.

상기 직사각형 패턴에 대해, UV 조사 후의 경화 상태에 대하여 이하와 같이 평가했다.With respect to the rectangular pattern, the cured state after UV irradiation was evaluated as follows.

○: 경화되어 있어, 형상 유지하고 있음.∘: Cured and maintained in shape.

×: 경화되지 않음. X: Not cured.

<밀착성> &Lt; Adhesion >

상기 광경화성 시험에 기재한 방법과 마찬가지의 방법으로 각 시험용 기판을 제작했다. 그리고, 후지 필름제 잉크젯 프린터인 다이매틱스 머트리얼 프린터 DMP-2831을 사용하여, 상기 각 시험용 기판에, 상기 각 조성물에 의해, 10×20mm 크기의 직사각형의 패턴을 막 두께가 15㎛로 되도록 인쇄했다. 인쇄 직후의 각 시험용 기판을 고압 수은등을 사용하여 300mJ/㎠의 적산 광량으로 UV 조사했다. 계속해서, UV 조사 후의 각 시험용 기판을 열풍 순환식 건조로에서 150℃ 30분 가열하여 열경화시켜, 각 시험편을 얻었다. 그 후, 각 시험편의 직사각형 패턴에 커터 나이프에 의해 종횡으로 1개씩 절입을 형성하고 나서 셀로판 테이프로 필링을 행하여, 박리에 대하여 이하와 같이 평가를 행했다.Each test substrate was produced by the same method as described in the above-described photocuring property test. Then, a rectangular pattern with a size of 10 x 20 mm was printed on each of the above-mentioned test substrates using a DMI-2831 manufactured by Fuji Film's Inkjet printer so as to have a film thickness of 15 mu m . Immediately after printing, each test substrate was subjected to UV irradiation using a high-pressure mercury lamp at an integrated light quantity of 300 mJ / cm 2. Subsequently, each of the test substrates after the UV irradiation was heated in a hot-air circulation type drying furnace at 150 DEG C for 30 minutes to thermally cure the test pieces. Thereafter, a rectangular pattern of each test piece was formed by inserting one by one longitudinally and horizontally by a cutter knife, and then peeling was performed with a cellophane tape. The peeling was evaluated as follows.

○: 거의 박리가 보이지 않음.○: Almost no peeling was observed.

×: 셀로 테이프(등록 상표)에 크게 전사되는 박리가 있음.X: There is peeling which is largely transferred to Cellotape (registered trademark).

<내약품성> <Chemical resistance>

상기 각 조성물에 대해, 상기 밀착성 시험에 기재한 방법과 마찬가지의 방법으로 각 시험편을 제작했다. 당해 각 시험편에 대해, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트에 실온에서 30분 침지시키고, 이것을 취출한 후에 건조시켰다. 건조 후의 각 시험편에 대해, 도막의 상태를 육안으로 이하와 같이 평가했다.For each of the above compositions, each test piece was produced by the same method as described in the above adhesion test. Each of the test pieces was immersed in propylene glycol monomethyl ether acetate at room temperature for 30 minutes, taken out, and then dried. With respect to each test piece after drying, the state of the coating film was visually evaluated as follows.

○: 도막의 상태에 변화 없음 ○: No change in the state of the coating film

×: 도막에 들뜸, 박리가 있음 X: Exposed to the coating film and peeled

<내열성> <Heat resistance>

상기 각 조성물에 대해, 상기 밀착성 시험에 기재한 방법과 마찬가지의 방법으로 각 시험편을 제작했다. 당해 각 시험편에 대해, 로진계 플럭스를 도포하고, 260℃의 땜납조에 10초간 침지시키고, 이것을 취출하여 자연 냉각했다. 이 시험을 3회 반복한 후, 각 시험편의 도막의 상태를 육안으로 이하와 같이 평가했다.For each of the above compositions, each test piece was produced by the same method as described in the above adhesion test. For each of the test pieces, a rosin-based flux was applied and immersed in a solder bath at 260 캜 for 10 seconds, taken out and naturally cooled. After this test was repeated three times, the state of the coating film of each test piece was visually evaluated as follows.

○: 도막의 상태에 변화 없음 ○: No change in the state of the coating film

×: 도막에 들뜸, 박리가 있음 X: Exposed to the coating film and peeled

<시인성> <Visibility>

상기 광경화성 시험에 기재한 방법과 마찬가지의 방법으로 각 시험용 기판을 제작했다. 그리고, 당해 각 시험용 기판에, 후지 필름제 잉크젯 프린터인 다이매틱스 머트리얼 프린터 DMP-2831을 사용하여, 상기 각 조성물에 의해 알파벳 A 내지 E를 한 변이 3mm인 사각형의 크기로 인쇄했다. 각 문자에 대해, 육안으로 하지와의 콘트라스트에 대하여 이하와 같이 평가했다.Each test substrate was produced by the same method as described in the above-described photocuring property test. Alphabet A to E were printed on each of the test substrates by using the above-mentioned respective compositions with a square size of 3 mm on each side using a DIMMTIC MATERIAL PRINTER DMP-2831, an ink jet printer manufactured by Fuji Photo Film. For each character, the contrast with the naked eye was evaluated as follows.

○: 콘트라스트가 커서 문자를 분명히 시인할 수 있음.○: The contrast is so large that the characters can be clearly recognized.

×: 콘트라스트가 작아 하지와 문자의 구별이 애매함.X: The contrast is small and the distinction between text and characters is ambiguous.

Figure 112013078894330-pct00004
Figure 112013078894330-pct00004

이상으로부터, 본 발명의 제2 실시 형태에 관한 잉크젯용 광경화성 열경화성 조성물은, 프린트 배선판에 형성된 수지 절연층에 잉크젯 프린터를 사용하여 직접 패턴을 묘화할 수 있고, 도포성에 문제없이, 밀착성, 내약품성, 내열성이 우수한 마킹 패턴을 형성할 수 있다. 특히, 상기 수지 절연층과 밀착성이 높은 마킹 패턴을 형성할 수 있다. 그리고 당해 광경화성 열경화성 조성물은, 프린트 배선판을 비롯하여 가혹한 특성이 요구되는 마킹용 조성물로서 사용할 수 있다.As described above, the ink-jet photo-curable thermosetting composition for inkjet according to the second embodiment of the present invention is capable of directly patterning a resin insulating layer formed on a printed wiring board by using an inkjet printer and has excellent adhesiveness, , A marking pattern excellent in heat resistance can be formed. In particular, a marking pattern having high adhesion to the resin insulating layer can be formed. The photocurable thermosetting composition can be used as a marking composition which requires harsh characteristics including printed wiring boards.

Claims (10)

분자 내에 (메트)아크릴로일기와 글리시딜기를 갖고 25℃에서의 점도가 10mPa·s 이하인 단량체와,
3관능 이상의 아크릴레이트 단량체와,
열경화 촉매와,
광중합 개시제를 포함하며,
상기 열경화 촉매의 배합량이 상기 분자 내에 (메트)아크릴로일기와 글리시딜기를 갖고 25℃에서의 점도가 10mPa·s 이하인 단량체 100질량부에 대하여 0.1 내지 5질량부인 것을 특징으로 하는 150℃ 이하의 저온 경화용 잉크젯용 광경화성 열경화성 조성물.
A monomer having a (meth) acryloyl group and a glycidyl group in the molecule and having a viscosity of 10 mPa 占 퐏 or less at 25 占 폚,
A trifunctional or higher acrylate monomer,
A thermosetting catalyst,
A photopolymerization initiator,
Wherein the amount of the thermosetting catalyst is 0.1 to 5 parts by mass based on 100 parts by mass of the monomer having a (meth) acryloyl group and a glycidyl group in the molecule and a viscosity at 25 DEG C of 10 mPa.s or less. Curable thermosetting composition for inkjet.
제1항에 있어서, 상기 분자 내에 (메트)아크릴로일기와 글리시딜기를 갖고 25℃에서의 점도가 10mPa·s 이하인 단량체가 글리시딜메타크릴레이트 또는 4-히드록시부틸아크릴레이트글리시딜에테르인 것을 특징으로 하는 잉크젯용 광경화성 열경화성 조성물.The positive resist composition according to claim 1, wherein the monomer having a (meth) acryloyl group and a glycidyl group in the molecule and having a viscosity of 10 mPa 占 퐏 or less at 25 占 폚 is glycidyl methacrylate or 4-hydroxybutyl acrylate glycidyl Wherein the photo-curable thermosetting composition is an ether. 제2항에 있어서, 상기 3관능 이상의 아크릴레이트 단량체의 배합량이 상기 분자 내에 (메트)아크릴로일기와 글리시딜기를 갖고 25℃에서의 점도가 10mPa·s 이하인 단량체 100질량부에 대하여 15 내지 400질량부인 것을 특징으로 하는 잉크젯용 광경화성 열경화성 조성물.The process according to claim 2, wherein the amount of the trifunctional or higher acrylate monomer is in the range of 15 to 400 parts by mass relative to 100 parts by mass of the monomer having a (meth) acryloyl group and a glycidyl group in the molecule and having a viscosity at 25 DEG C of 10 mPa.s or less. By mass based on the total amount of the thermosetting thermosetting composition. 삭제delete 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 기재된 잉크젯용 광경화성 열경화성 조성물을 사용하여 잉크젯 프린터에 의해 기판 상에 패턴을 묘화하고, 이것을 경화시켜 이루어지는 수지 절연층을 갖는 것을 특징으로 하는 프린트 배선판.A printed wiring board characterized by having a resin insulating layer formed by drawing a pattern on a substrate by an inkjet printer using the inkjet photo-curable thermosetting composition according to any one of claims 1 to 3 and curing the pattern. 분자 내에 (메트)아크릴로일기와 글리시딜기를 갖고 25℃에서의 점도가 10mPa·s 이하인 단량체와,
3관능 이상의 아크릴레이트 단량체와,
산화티타늄과,
열경화 촉매와,
광중합 개시제를 포함하며,
상기 열경화 촉매의 배합량이 상기 분자 내에 (메트)아크릴로일기와 글리시딜기를 갖고 25℃에서의 점도가 10mPa·s 이하인 단량체 100질량부에 대하여 0.1 내지 5질량부인, 프린트 배선판에 형성되는 수지 절연층 상으로의 패턴 묘화에 사용되는 것을 특징으로 하는 150℃ 이하의 저온 경화용 잉크젯용 광경화성 열경화성 조성물.
A monomer having a (meth) acryloyl group and a glycidyl group in the molecule and having a viscosity of 10 mPa 占 퐏 or less at 25 占 폚,
A trifunctional or higher acrylate monomer,
Titanium oxide,
A thermosetting catalyst,
A photopolymerization initiator,
Wherein the blending amount of the thermosetting catalyst is 0.1 to 5 parts by mass relative to 100 parts by mass of the monomer having a (meth) acryloyl group and a glycidyl group in the molecule and having a viscosity at 25 캜 of 10 mPa 이하 or less, Wherein the curable composition is used for patterning on an insulating layer.
제6항에 있어서, 상기 분자 내에 (메트)아크릴로일기와 글리시딜기를 갖고 25℃에서의 점도가 10mPa·s 이하인 단량체가 글리시딜메타크릴레이트 또는 4-히드록시부틸아크릴레이트글리시딜에테르인 것을 특징으로 하는 잉크젯용 광경화성 열경화성 조성물.The composition of claim 6, wherein the monomer having a (meth) acryloyl group and a glycidyl group in the molecule and having a viscosity of 10 mPa 占 퐏 or less at 25 占 폚 is glycidyl methacrylate or 4-hydroxybutyl acrylate glycidyl Wherein the photo-curable thermosetting composition is an ether. 제7항에 있어서, 상기 3관능 이상의 아크릴레이트 단량체의 배합량이 상기 분자 내에 (메트)아크릴로일기와 글리시딜기를 갖고 25℃에서의 점도가 10mPa·s 이하인 단량체 100질량부에 대하여 15 내지 400질량부인 것을 특징으로 하는 잉크젯용 광경화성 열경화성 조성물.[Claim 8] The method according to claim 7, wherein the blending amount of the trifunctional or higher acrylate monomer is 15 to 400 parts by mass based on 100 parts by mass of the monomer having a (meth) acryloyl group and a glycidyl group in the molecule and having a viscosity at 25 DEG C of 10 mPa.s or less. By mass based on the total amount of the thermosetting thermosetting composition. 삭제delete 프린트 배선판에 형성된 수지 절연층 상에, 잉크젯 프린터를 사용하여 제6항 내지 제8항 중 어느 한 항에 기재된 잉크젯용 광경화성 열경화성 조성물을 패턴 묘화하고, 이것을 경화시켜 이루어지는 패턴을 갖는 것을 특징으로 하는 프린트 배선판.There is provided a pattern forming method comprising the steps of patterning a photocurable thermosetting composition for inkjet according to any one of claims 6 to 8 on a resin insulating layer formed on a printed wiring board using an inkjet printer, Printed wiring board.
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