KR101469149B1 - Touch Panel and Method for Making the Same - Google Patents

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Abstract

터치 패널의 제조 방법은 터치 패널의 원도우 영역에 해당하고 투명 도전층으로 이루어지며 복수의 제1축 정전전극과 복수의 제1축 정전전극과 직각 방향으로 교차하는 복수의 제2축 정전전극―상기 각각의 제2축 정전전극 사이의 연결 부분은 서로 일정 거리 이격됨―을 형성하는 단계; 터치 패널의 전면에 일정 두께의 절연체층을 형성한 후, 각각의 제1축 정전전극 사이의 연결 부분 또는 각각의 제2축 정전전극 사이의 연결 부분의 위에 전기적으로 절연하는 길이 방향의 절연체층을 남기는 절연 공정을 수행하는 단계; 및 길이 방향의 절연체층의 위로 금속 와이어의 와이어 본딩(Wire Bonding)을 수행하여 일정 거리 이격된 제2축 정전전극 사이를 금속 와이어로 점핑하여 전기적으로 연결하는 단계를 포함한다.A manufacturing method of a touch panel includes a plurality of first axis electrostatic electrodes and a plurality of second axis electrostatic electrodes which are formed in a transparent conductive layer corresponding to a window region of a touch panel and cross the plurality of first axis electrostatic electrodes in a direction perpendicular to the first axis, And the connection portions between each second axis electrostatic electrode are spaced apart from each other by a predetermined distance; After forming a certain thickness of insulator layer on the front surface of the touch panel, a longitudinal insulator layer electrically insulated on the connection portion between each first axis electrostatic electrode or on the connection portion between each second axis electrostatic electrode Performing a remaining insulating process; And wire bonding of the metal wire to the insulator layer in the longitudinal direction to electrically couple the second shaft electrostatic electrodes spaced apart from each other to the metal wire by jumping.

Description

터치 패널 및 제조 방법{Touch Panel and Method for Making the Same}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a touch panel,

본 발명은 터치 패널의 제조 방법에 관한 것으로서, 특히 터치 패널의 윈도우 영역에서의 서로 일정 거리 이격된 정전전극 사이를 점핑 연결하여 2중 브릿지(Bridge) 1 레이어(Layer)의 터치 센서를 구현한 터치 패널 및 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing a touch panel, and more particularly, to a touch panel in which a double bridge bridge and a touch sensor implementing a touch sensor are jumped and connected between electrostatic electrodes spaced a certain distance from each other in a window region of a touch panel Panel and a manufacturing method thereof.

일반적으로 터치 패널은 버튼을 손가락으로 접촉하여 컴퓨터 등을 대화적, 직감적으로 조작함으로써 누구나 쉽게 사용할 수 있는 입력 장치이다.Generally, a touch panel is an input device that can be easily used by anyone by touching a button with a finger to operate a computer, etc. in a conversational and intuitive manner.

이러한 터치패널은 접촉을 감지하는 방식에 따라 저항막 방식과 정전용량 방식, 적외선방식, 초음파 방식 등이 사용되고 있으며, 현재는 저항막 방식이 많이 사용되어지고 있으나, 향후 내구성 및 경박 단소한 특성에 유리한 정전용량 방식의 사용이 증가될 것이다.Such a touch panel uses a resistance film type, a capacitive type, an infrared type, an ultrasonic type, and the like, depending on the method of detecting the touch. Currently, the resistance film type is widely used. However, The use of capacitive systems will increase.

이와 같은 상기 정전용량방식의 터치패널, 특히 터치스크린은 그 구조가 PET(Polyethylene Terephthalate)나 유리 등의 투명한 절연체 필름 상에 투광 도전체로 이루어진 ITO(Indium Tin Oxide)와, ITO의 테두리에 실버 페이스트, 메탈 및 다양한 금속 등의 리드선으로 이루어진 정전전극을 접착제층이나 절연체층을 부가하여 상하로 적층하여 구성된다.The touch panel of the capacitive type, particularly the touch screen, has an ITO (Indium Tin Oxide) structure made of a transparent conductive material on a transparent insulating film such as PET (polyethylene terephthalate) or glass, An electrostatic electrode composed of lead wires such as a metal and various metals is stacked on top and bottom by adding an adhesive layer or an insulator layer.

여기서, ITO는 X축의 X축 송신전극을 다이아몬드 형태의 등간격 또는 바 형태의 다양한 모습으로 형성한 X축 ITO와 Y축의 Y축 수신전극을 동일한 형태로 형성한 Y축 ITO로 구성하여 적층되도록 한다.Here, the ITO is formed by stacking the Y-axis ITO formed by forming the X-axis transmission electrode of the X-axis in the same shape as the X-axis ITO and the Y-axis reception electrode of the diamond shape, .

위와 같이 형성된 터치스크린은 사용자의 터치에 따른 터치 신호를 컨트롤러가 입력 받아서 좌표 신호를 출력하는 것이다.In the touch screen formed as above, the controller receives the touch signal corresponding to the user's touch and outputs the coordinate signal.

그런데 이와 같이 X축 또는 Y축에 나란하게 배치되는 정전전극은 리드선으로부터 각각 다른 이격거리를 가지고 배치된다. 이들 사이에는 다른 정전전극이 배치되므로 리드선이 연결되는 부분에서 바라보면 각각의 정전전극은 서로 다른 전기적 특성을 가지게 된다.However, the electrostatic electrodes arranged side by side on the X axis or the Y axis are arranged with different distances from the lead wires. Since the other electrostatic electrodes are disposed therebetween, each of the electrostatic electrodes has different electrical characteristics when viewed from the portion where the lead wires are connected.

이하에서는 이러한 터치 패널의 종래 기술에 관하여 도 1 내지 도 4를 참조하여 설명한다.Hereinafter, the conventional art of such a touch panel will be described with reference to Figs. 1 to 4. Fig.

도 1은 종래의 정전용량 방식 터치 패널에서 X축 전극 패턴을 나타낸 도면이고, 도 2는 종래의 정전용량 방식 터치 패널에서 Y축 전극 패턴을 나타낸 도면이고, 도 3은 종래의 정전용량 방식 터치 패널에서 X축 전극 패턴과 Y축 전극 패턴을 합체한 상태를 나타낸 도면이고, 도 4는 종래의 정전용량 방식 터치 패널에서 X축 전극 패턴과 Y축 전극 패턴을 합체한 상태에서의 층 구조를 나타낸 도면이다.FIG. 1 is a view showing an X-axis electrode pattern in a conventional capacitive touch panel, FIG. 2 is a view illustrating a Y-axis electrode pattern in a conventional capacitive touch panel, and FIG. FIG. 4 is a view showing a layer structure in a state where an X-axis electrode pattern and a Y-axis electrode pattern are combined in a conventional capacitive touch panel. FIG. to be.

이하에서는 X축과 Y축 전극은 설계 형태에 따라서 탑(Top) 전극이 될 수도 바탐(Bottom) 전극이 될 수도 있다. 다만 이후의 설명에서는 설명의 편의를 위하여 X축 전극은 바탐(Bottom) 전극으로, Y축 전극은 탑(Top) 전극으로 지정하여 설명한다.Hereinafter, the X-axis and Y-axis electrodes may be a top electrode or a bottom electrode, depending on the design. In the following description, the X-axis electrode is referred to as a bottom electrode and the Y-axis electrode is referred to as a top electrode for convenience of explanation.

도 1은 종래의 바텀(Bottom) 패턴층을 나타내는 도면으로서 X축 전극 패턴을 나타내고, 도 2는 종래의 탑(Top) 패턴층을 나타내는 도면으로서 Y축 전극 패턴을 나타낸다.Fig. 1 shows a conventional bottom pattern layer and shows an X-axis electrode pattern. Fig. 2 shows a conventional top pattern layer and shows a Y-axis electrode pattern.

도 1 및 도 2와 같은 X축 정전전극(10)을 갖는 바탐(Bot) 전극과 Y축 정전전극(20)을 갖는 탑(Top) 전극을 각각 제작한후 층간 합지후 윈도우 부착을 하여 터치 패널을 제조하였다. 이러한 제조 과정에 의해 완성된 터치 패널은 평면도를 도 3에 도시하였다.A Bot electrode having an X axis electrostatic electrode 10 as shown in FIGS. 1 and 2 and a top electrode having a Y axis electrostatic electrode 20 are manufactured, . A plan view of the touch panel completed by this manufacturing process is shown in Fig.

도 3을 참조하면, 종래의 정전방식 터치 패널은 송신 전극(드라이빙 전극)인 X축 정전전극(10)을 갖는 탑(Top) 패턴과 수신 전극(센싱 전극)인 Y축 정전전극(20)을 갖는 바텀(Bottom) 패턴이 패널의 전면에 고루 형성되고, 일측에 연결전극(30, 40)을 형성하였다.3, the conventional electrostatic-type touch panel includes a top pattern having an X-axis electrostatic electrode 10 as a transmitting electrode (driving electrode) and a Y-axis electrostatic electrode 20 serving as a receiving electrode (sensing electrode) And the connection electrodes 30 and 40 are formed on one side of the panel.

이러한 종래의 정전방식 터치 패널의 층 구조를 보면 도 4와 같다.The layer structure of such a conventional electrostatic-type touch panel is shown in Fig.

도 4를 참조하면, 종래에는 탑(Top) 패턴과 바텀(Bottom) 패턴을 각각 제작하므로 탑(Top) 패턴과 바텀(Bottom) 패턴에 사용되는 ITO 필름이 2장 필요하였다.Referring to FIG. 4, two ITO films used for a top pattern and a bottom pattern are required because a top pattern and a bottom pattern are manufactured, respectively.

또한, ITO 필름 상부에는 OCA가 필수적으로 부가되어야 하는데, ITO 필름이 2장 사용되므로 OCA도 2장 필요하였다.Also, OCA should be added to the upper part of the ITO film. Two OCA films were required because two ITO films were used.

따라서, 종래의 터치 패널은 하나의 터치 패널 제품을 만들기위해 ITO 필름과 OCA가 각각 두 장이 사용되기 때문에 가격적으로 비싼 단점이 있다.Therefore, the conventional touch panel has a disadvantage in that it is expensive because two ITO films and two OCA are used to make one touch panel product.

종래의 터치 패널은 송신 전극과 수신 전극으로 2개 층을 사용하기 때문에 두께 축소가 어렵고 높은 원자재 비용과 공정 비용이 높게 발생하며 투과도가 떨어지는 문제점이 있었다.Since the conventional touch panel uses two layers as the transmitting electrode and the receiving electrode, it is difficult to reduce the thickness, high raw material cost and high process cost are generated, and the permeability is low.

또한, 종래의 터치 패널은 탑 패턴층과 바텀 패턴층의 합지할 때, 셀바이셀(Cell by cell) 방식이 아니라 시트바이시트(Sheet by sheet) 방식으로 하기 때문에 패턴층 별로 불량률을 측정하는 특성에 의해 수율이 좋지 않았다. 특히, 층별 합지시 얼라인 공차를 맞추기가 힘들어 수율이 좋지 않고, 타이트한 공차 관리가 어려운 단점이 있다.In addition, the conventional touch panel is formed by a sheet by sheet method instead of a cell by cell method when laminating the top pattern layer and the bottom pattern layer. Therefore, Yield was not good. In particular, it is difficult to adjust the alignment tolerance for the layered joints, which results in poor yield and difficult tight tolerance management.

따라서, 이러한 문제점을 해결할 수 있는 정전용량 터치 패널의 구조의 개발이 필요한 실정이다.Therefore, it is necessary to develop a structure of a capacitive touch panel that can solve such a problem.

이와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명은 터치 패널의 윈도우 영역에서의 서로 일정 거리 이격된 Y축 정전전극(투명 도전층) 사이의 연결 부분을 금속 와이어로 와이어 본딩하여In order to solve such problems, the present invention relates to a method of manufacturing a touch panel, which comprises wire-bonding a connection portion between Y-axis electrostatic electrodes (transparent conductive layers)

매우 좁은 면적의 금속층으로 패터닝하여 시인성 및 선저항성이 우수하면서 회로폭을 줄일 수 있는 2중 브릿지(Bridge) 1 레이어(Layer)의 터치 센서를 구현한 터치 패널 및 제조 방법에 관한 것이다.And more particularly, to a touch panel and a manufacturing method of a double-layer bridge, which can reduce a circuit width while having excellent visibility and line resistance by patterning with a metal layer having a very narrow area.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 특징에 따른 터치 패널의 제조 방법은 터치 패널의 원도우 영역에 해당하고 투명 도전층으로 이루어지며 복수의 제1축 정전전극과 복수의 제1축 정전전극과 직각 방향으로 교차하는 복수의 제2축 정전전극―상기 각각의 제2축 정전전극 사이의 연결 부분은 서로 일정 거리 이격됨―을 형성하는 단계; 및According to an aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a touch panel, comprising: forming a transparent conductive layer corresponding to a window region of a touch panel; forming a plurality of first axis electrostatic electrodes and a plurality of first axis electrostatic electrodes Forming a plurality of second axial electrostatic electrodes intersecting each other in a direction of the first axial electrostatic electrode, wherein the connection portions between the respective second axial electrostatic electrodes are spaced apart from each other by a predetermined distance; And

일정 거리 이격된 제2축 정전전극 사이를 금속 와이어의 와이어 본딩(Wire Bonding)을 수행하여 금속 와이어로 점핑하여 전기적으로 연결하는 단계를 포함한다.And electrically connecting the second shaft electrostatic electrodes spaced apart by a predetermined distance by performing wire bonding of metal wires and jumping them to the metal wires.

본 발명의 특징에 따른 터치 패널의 제조 방법은,A method of manufacturing a touch panel according to an aspect of the present invention includes:

터치 패널의 원도우 영역에 해당하고 투명 도전층으로 이루어지며 복수의 제1축 정전전극과 복수의 제1축 정전전극과 직각 방향으로 교차하는 복수의 제2축 정전전극―상기 각각의 제2축 정전전극 사이의 연결 부분은 서로 일정 거리 이격됨―을 형성하는 단계;A plurality of second axial electrostatic electrodes corresponding to the window regions of the touch panel and made of a transparent conductive layer and intersecting the plurality of first axial electrostatic electrodes in a direction perpendicular to the plurality of first axial electrostatic electrodes, The connection portions between the electrodes being spaced apart from each other by a predetermined distance;

터치 패널의 전면에 일정 두께의 절연체층을 형성한 후, 각각의 제1축 정전전극 사이의 연결 부분 또는 각각의 제2축 정전전극 사이의 연결 부분의 위에 전기적으로 절연하는 길이 방향의 절연체층을 남기는 절연 공정을 수행하는 단계; 및After forming a certain thickness of insulator layer on the front surface of the touch panel, a longitudinal insulator layer electrically insulated on the connection portion between each first axis electrostatic electrode or on the connection portion between each second axis electrostatic electrode Performing a remaining insulating process; And

길이 방향의 절연체층의 위로 금속 와이어의 와이어 본딩(Wire Bonding)을 수행하여 일정 거리 이격된 제2축 정전전극 사이를 금속 와이어로 점핑하여 전기적으로 연결하는 단계를 포함한다.And performing wire bonding of a metal wire on the insulator layer in the longitudinal direction to electrically couple the second shaft electrostatic electrodes spaced apart from each other to the metal wire by jumping.

본 발명의 특징에 따른 터치 패널의 제조 방법은,A method of manufacturing a touch panel according to an aspect of the present invention includes:

터치 패널의 원도우 영역에 해당하고 투명 도전층으로 이루어지며 복수의 제1축 정전전극과 복수의 제1축 정전전극과 직각 방향으로 교차하는 복수의 제2축 정전전극―상기 각각의 제2축 정전전극 사이의 연결 부분은 서로 일정 거리 이격됨―을 형성하는 단계;A plurality of second axial electrostatic electrodes corresponding to the window regions of the touch panel and made of a transparent conductive layer and intersecting the plurality of first axial electrostatic electrodes in a direction perpendicular to the plurality of first axial electrostatic electrodes, The connection portions between the electrodes being spaced apart from each other by a predetermined distance;

일정 거리 이격된 제2축 정전전극 간을 점핑하여 전기적으로 연결하기 위해 각각의 제2축 정전전극의 상부면 일측에 형성되는 각각의 제2축 정전전극의 연결 영역에 감광성 소재를 형성한 후, 터치 패널의 전면에 절연체층을 형성하는 단계;A photosensitive material is formed in a connection region of each of the second axial electrostatic electrodes formed on one side of the upper surface of each of the second axial electrostatic electrodes for jumping and electrically connecting the second axial electrostatic electrodes spaced apart from each other by a predetermined distance, Forming an insulator layer on the front surface of the touch panel;

절연체층 중에서 감광성 소재가 형성된 연결 영역을 제거하는 단계; 및Removing a connecting region where a photosensitive material is formed in the insulator layer; And

각각의 제2축 정전전극의 연결 영역의 사이를 금속 와이어의 와이어 본딩(Wire Bonding)을 수행하여 금속 와이어로 점핑하여 전기적으로 연결하는 단계를 포함한다.And a step of performing wire bonding between the connection regions of the respective second axis electrostatic electrodes by jumping the metal wires to electrically connect the metal wires.

본 발명의 특징에 따른 터치 패널은,In the touch panel according to the present invention,

투명한 재질의 유기 절연체 또는 무기 절연체의 절연층;An insulating layer of an organic insulator or an inorganic insulator of a transparent material;

절연층의 위에 복수의 제1축 정전전극과, 복수의 제1축 정전전극과 직각 방향으로 교차하는 복수의 제2축 정전전극―상기 각각의 제2축 정전전극 사이의 연결 부분은 서로 일정 거리 떨어져 있음―을 형성하는 투명 도전층; 및A plurality of first axial electrostatic electrodes on the insulating layer and a plurality of second axial electrostatic electrodes crossing the plurality of first axial electrostatic electrodes in a direction perpendicular to the plurality of first axial electrostatic electrodes, A transparent conductive layer forming a transparent conductive layer; And

일정 거리 이격된 제2축 정전전극 사이를 점핑하여 전기적으로 연결하는 금속 와이어를 포함한다.And metal wires for jumping and electrically connecting the second axis electrostatic electrodes spaced apart from each other by a predetermined distance.

본 발명의 특징에 따른 터치 패널은,In the touch panel according to the present invention,

투명한 재질의 유기 절연체 또는 무기 절연체의 절연층;An insulating layer of an organic insulator or an inorganic insulator of a transparent material;

절연층의 위에 복수의 제1축 정전전극과, 복수의 제1축 정전전극과 직각 방향으로 교차하는 복수의 제2축 정전전극―상기 각각의 제2축 정전전극 사이의 연결 부분은 서로 일정 거리 떨어져 있음―을 형성하는 투명 도전층;A plurality of first axial electrostatic electrodes on the insulating layer and a plurality of second axial electrostatic electrodes crossing the plurality of first axial electrostatic electrodes in a direction perpendicular to the plurality of first axial electrostatic electrodes, A transparent conductive layer forming a transparent conductive layer;

각각의 제1축 정전전극 사이의 연결 부분 또는 각각의 제2축 정전전극 사이의 연결 부분의 위에 전기적으로 절연하는 길이 방향의 절연체층; 및A longitudinal insulator layer electrically insulated above a connection portion between each first axis electrostatic electrode or a connection portion between each second axis electrostatic electrode; And

길이 방향의 절연체층의 위로 일정 거리 이격된 제2축 정전전극 사이를 점핑하여 와이어 본딩을 통해 전기적으로 연결하는 금속 와이어를 포함한다.And a metal wire which jumps between the second axial electrostatic electrodes spaced a certain distance above the insulator layer in the longitudinal direction and electrically connects the second axial electrostatic electrodes by wire bonding.

본 발명의 특징에 따른 터치 패널은,In the touch panel according to the present invention,

투명한 재질의 유기 절연체 또는 무기 절연체의 절연층;An insulating layer of an organic insulator or an inorganic insulator of a transparent material;

절연층의 위에 복수의 제1축 정전전극과, 복수의 제1축 정전전극과 직각 방향으로 교차하는 복수의 제2축 정전전극―상기 각각의 제2축 정전전극 사이의 연결 부분은 서로 일정 거리 떨어져 있음―을 형성하는 투명 도전층;A plurality of first axial electrostatic electrodes on the insulating layer and a plurality of second axial electrostatic electrodes crossing the plurality of first axial electrostatic electrodes in a direction perpendicular to the plurality of first axial electrostatic electrodes, A transparent conductive layer forming a transparent conductive layer;

투명 도전층의 위에 일정 두께로 형성되고, 각각의 제2축 정전전극의 상부면 일측에 각각의 제2축 정전전극의 연결 영역을 홈 형태로 형성하는 절연체층; 및An insulator layer formed in a predetermined thickness on the transparent conductive layer and forming a connection region of each of the second axial electrostatic electrodes on one side of the upper surface of each of the second axial electrostatic electrodes in a groove shape; And

홈 형태로 형성된 연결 영역의 사이를 점핑하여 와이어 본딩을 통해 전기적으로 연결하는 금속 와이어를 포함한다.And a metal wire which jumps between the connection regions formed in a groove shape and electrically connects the connection regions by wire bonding.

전술한 구성에 의하여, 본 발명은 금속 와이어를 사용하여 서로 일정 거리 이격된 각각의 Y축 정전전극의 브릿지 회로를 형성하므로 공정이 단순하고 선저항이 균일하며 내식성이 강한 효과가 있다.According to the above-described construction, since the bridge circuit of each Y-axis electrostatic electrode spaced apart from each other by a metal wire is formed using the metal wire, the process is simple, the line resistance is uniform, and the corrosion resistance is strong.

본 발명은 50㎛ 이하로 금속 와이어의 브릿지 회로를 구성할 수 있어 브릿지 회로가 안보여서 시인성이 개선되고 1회 공정으로 브릿지 회로가 완성되므로 공정 원가를 절감하며 금속 와이어의 저항값(면저항 5Ω 이하)이 낮아서 수신 감도를 향상시키는 효과가 있다.Since the bridge circuit of the metal wire can be formed at 50 μm or less, the bridging circuit can not be seen, the visibility is improved, and the bridge circuit is completed in a single process, so that the process cost is reduced and the resistance value of the metal wire It is effective to improve the reception sensitivity.

도 1은 종래의 정전용량 방식 터치 패널에서 X축 전극 패턴을 나타낸 도면이다.
도 2는 종래의 정전용량 방식 터치 패널에서 Y축 전극 패턴을 나타낸 도면이다.
도 3은 종래의 정전용량 방식 터치 패널에서 X축 전극 패턴과 Y축 전극 패턴을 합체한 상태를 나타낸 도면이다.
도 4는 종래의 정전용량 방식 터치 패널에서 X축 전극 패턴과 Y축 전극 패턴을 합체한 상태에서의 층 구조를 나타낸 도면이다.
도 5a 및 도 5b는 본 발명의 실시예에 따른 터치 패널의 제조 방법을 나타낸 측면에서의 층 구조로 나타낸 도면이다.
도 6a 내지 도 6d는 본 발명의 실시예에 따른 터치 패널의 제조 방법을 평면에서 나타낸 도면이다.
도 7은 본 발명의 실시예에 따른 서로 일정 거리 이격된 Y축 정전전극을 금속 와이어로 점핑한 모습을 나타낸 도면이다.
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 서로 일정 거리 이격된 Y축 정전전극을 금속 와이어로 점핑한 모습을 나타낸 도면이다.
도 9는 본 발명의 다른 실시예에 따른 터치 패널의 제조 방법을 나타낸 측면에서의 층 구조로 나타낸 도면이다.
도 10은 본 발명의 다른 실시예에 따른 터치 패널의 제조 방법을 평면에서 나타낸 도면이다.
1 is a view showing an X-axis electrode pattern in a conventional capacitive touch panel.
2 is a diagram illustrating a Y-axis electrode pattern in a conventional capacitive touch panel.
FIG. 3 is a view showing a state where an X-axis electrode pattern and a Y-axis electrode pattern are combined in a conventional capacitive touch panel.
4 is a view showing a layer structure in a state where an X-axis electrode pattern and a Y-axis electrode pattern are combined in a conventional capacitive touch panel.
5A and 5B are views showing a layer structure in a side view of a method of manufacturing a touch panel according to an embodiment of the present invention.
6A to 6D are plan views illustrating a method of manufacturing a touch panel according to an embodiment of the present invention.
FIG. 7 is a view illustrating a Y-axis electrostatic electrode spaced apart from each other by a metal wire by jumping according to an embodiment of the present invention.
FIG. 8 is a view illustrating a Y-axis electrostatic electrode spaced a predetermined distance apart from a metal wire according to another embodiment of the present invention.
FIG. 9 is a view showing a layer structure in a side view of a method of manufacturing a touch panel according to another embodiment of the present invention.
10 is a plan view of a method of manufacturing a touch panel according to another embodiment of the present invention.

아래에서는 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art can easily carry out the present invention. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein. In order to clearly illustrate the present invention, parts not related to the description are omitted, and similar parts are denoted by like reference characters throughout the specification.

명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.Throughout the specification, when an element is referred to as "comprising ", it means that it can include other elements as well, without excluding other elements unless specifically stated otherwise.

도 5a 및 도 5b는 본 발명의 실시예에 따른 터치 패널의 제조 방법을 나타낸 측면에서의 층 구조로 나타낸 도면이고, 도 6a 내지 도 6d는 본 발명의 실시예에 따른 터치 패널의 제조 방법을 평면에서 나타낸 도면이다.FIGS. 5A and 5B are views showing a layer structure in a method of manufacturing a touch panel according to an embodiment of the present invention. FIGS. 6A to 6D show a method of manufacturing a touch panel according to an embodiment of the present invention, Fig.

도 5a 및 도 5b는 터치 패널의 제조 방법을 터치 패널의 X축 측면에서의 층 구조로 나타낸 것이다.5A and 5B show a method of manufacturing the touch panel in a layer structure on the X axis side of the touch panel.

도 5a의 (a)와 도 6a에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 터치 패널은 절연층(110) 위에 투명 도전층(120)을 형성하고, 그 상부에 금속층(130)을 형성한다. 여기서, 절연층(110)은 투명한 재질의 유기 절연체 또는 무기 절연체로 형성되고, 유기 절연체는 폴리이미드 또는 폴리에틸렌 테레프탈레이트(Polyethylene Terephthalate, PET), 폴리에틸렌나프탈레이트(Polyethylenenaphthalate, PEN), 폴리카보네이트(Polycarbonate, PC), 아크릴의 플라스틱 소재를 포함하며 무기 절연체는 글라스(Glass) 소재, 광학 처리된 글라스 소재로 이루어진다.5A and 6A, a touch panel according to an embodiment of the present invention includes a transparent conductive layer 120 formed on an insulating layer 110, a metal layer 130 formed on the transparent conductive layer 120, do. Here, the insulating layer 110 is formed of an organic insulator or an inorganic insulator of a transparent material, and the organic insulator may be a polyimide, a polyethylene terephthalate (PET), a polyethylene naphthalate (PEN), a polycarbonate PC) and acrylic plastic material, and the inorganic insulator is made of glass material and optically processed glass material.

투명 도전층(120)은 투명 전도성 산화물(Transparent Conducting Oxide, TCO)와 같은 투명한 재질의 전도성 물질로 형성되며, 구체적으로는 ITO 또는 IZO(Indium Zinc Oxide)를 포함하거나 ITO, IZO, SnO2, AZO, 탄소나노튜브(Carbon Nano Tube, CNT), 그라핀(Graphene), 은 나노와이어(Silver Nanowires, AGNW) 등으로 이루어지는 투명 전도성 물질로 형성한다.The transparent conductive layer 120 is formed of a transparent conductive material such as transparent conductive oxide (TCO), and specifically includes ITO or IZO (Indium Zinc Oxide) or ITO, IZO, SnO 2 , AZO , Carbon nanotubes (CNT), graphene, silver nanowires (AGNW), and the like.

금속층(130)은 낮은 면저항의 다양한 금속을 사용할 수 있으며 제조의 용이성 및 전기 전도도를 고려하여 구리 또는 알루미늄, 은, 금, 백금 등으로 하는 것이 바람직하다.The metal layer 130 may be made of a variety of metals having a low sheet resistance, and is preferably made of copper, aluminum, silver, gold, platinum or the like in consideration of ease of manufacture and electric conductivity.

절연층(110)에 금속층(130)을 형성하는 방법은 라미네이팅이나 기상 증착, 코팅과 같은 공지의 방법을 사용할 수 있다.The metal layer 130 may be formed on the insulating layer 110 by a known method such as laminating, vapor deposition, or coating.

본 발명의 실시예는 포토리소그래피뿐 아니라, 그라비아 옵셋 방식, 실버 프린팅, 임프린트 공법, 잉크젯 인쇄 공법 등 다양한 공정으로 구현할 수 있다.Embodiments of the present invention can be implemented by various processes such as photolithography, gravure offset method, silver printing, imprint method, and inkjet printing method.

이하부터는 설명의 편의를 위해 포토리소그래피에 의한 공법을 그 실시예로 든다.Hereinafter, a photolithography method is taken as an example for convenience of explanation.

다음으로, 도 5a의 (b), (c), (d)와 도 6b에 도시된 바와 같이, 본 발명은 포토리소그래피(Photolithography)의 공정에 의해 투명 도전층(120)으로 이루어진 투명전극 패턴과 금속층(130)으로 이루어진 배선전극 패턴을 형성한다.Next, as shown in FIGS. 5A, 5B, 5C and 5D, the present invention is a method of forming a transparent electrode pattern made of a transparent conductive layer 120 by a photolithography process, A wiring electrode pattern made of the metal layer 130 is formed.

터치 패널은 복수의 X축 정전전극을 포함한 제1축 패턴과, 제1축 패턴과 일정 거리 이격되어 직각 방향으로 교차하는 복수의 Y축 정전전극을 포함한 제2축 패턴, 각각의 X축 정전전극의 일측 끝단과 연결된 각각의 버스 전극을 포함한 배선전극 패턴과, 각각의 Y축 정전전극의 일측 끝단과 연결된 각각의 버스 전극을 포함한 배선전극 패턴을 형성한다.The touch panel includes a first axis pattern including a plurality of X axis electrostatic electrodes, a second axis pattern including a plurality of Y axis electrostatic electrodes spaced apart from the first axis pattern by a predetermined distance and intersecting in a perpendicular direction, A wiring electrode pattern including bus electrodes connected to one end of each Y-axis electrostatic electrode, and bus electrodes connected to one end of each Y-axis electrostatic electrode.

투명전극 패턴은 터치 패널의 원도우 영역(화면이 표시되는 영역)에 해당하는 부분의 복수의 X축, Y축 정전전극을 나타내는 금속 회로(투명 도전층(120)으로 이루어짐)로서 사용자의 터치 패턴 영역을 나타낸다.The transparent electrode pattern is a metal circuit (composed of a transparent conductive layer 120) representing a plurality of X-axis and Y-axis electrostatic electrodes in a portion corresponding to a window area (screen display area) of the touch panel, .

배선전극 패턴은 투명전극 패턴의 각각의 X축, Y축 정전전극의 일측 끝단과 연결되고 터치 패널의 원도우 영역을 제외한 가장자리 영역의 금속 회로(금속층(130)으로 이루어짐)이며, 투명전극 패턴과 인쇄회로기판과 연결시켜 사용자의 터치 패턴을 감지, 제어하는 버스 전극을 나타낸다.The wiring electrode pattern is connected to one end of each of the X-axis and Y-axis electrostatic electrodes of the transparent electrode pattern and is a metal circuit (consisting of the metal layer 130) in the edge area excluding the window area of the touch panel, And a bus electrode connected to the circuit board to sense and control a user's touch pattern.

도 5a의 (b), (c)에 도시된 바와 같이, 본 발명은 포토리소그래피의 공정에 의해 투명전극 패턴과 배선전극 패턴에 해당하지 않는 부분의 금속층(130)과 투명 도전층(120)을 동시에 제거한다(1차 메탈+ITO 에칭 공정). 즉, 포토리소그래피의 공정은 드라이필름 라미네이팅, 노광, 현상, 메탈 에칭, ITO 에칭, 박리 공정을 수행한다.As shown in FIGS. 5A and 5B, in the present invention, a metal layer 130 and a transparent conductive layer 120, which are not covered with a transparent electrode pattern and a wiring electrode pattern, are formed by photolithography Simultaneously remove (primary metal + ITO etch process). That is, the photolithography process performs dry film laminating, exposure, development, metal etching, ITO etching, and peeling process.

포토리소그래피의 공정은 제1 감광성 소재(140)를 금속층(130) 위에 형성하고 패턴이 형성된 아트워크 필름을 이용하여 UV 조사하면 제1 감광성 소재(140)가 패턴이 형성되며(노광 공정), 약한 알칼리 용액을 이용하여 패턴이 형성된 제1 감광성 소재(140)가 형성된 후(현상 공정), 메탈 에칭, ITO 에칭, 박리 공정을 수행한다.In the photolithography process, when the first photosensitive material 140 is formed on the metal layer 130 and the patterned artwork film is used for UV irradiation, the first photosensitive material 140 forms a pattern (exposure process) After the first photosensitive material 140 having the pattern formed using the alkali solution is formed (developing step), the metal etching, the ITO etching, and the peeling process are performed.

여기서, 제1 감광성 소재(140)를 금속층(130) 위에 형성하는 공정은 드라이필름을 라미네이팅 공정을, 액상 타입의 실리콘, 에폭시 소재를 사용하는 경우 코팅 공정을, SiO2, TiO2의 절연 물질을 사용하는 경우, 증착 공정을 사용한다.Here, the process of forming the first photosensitive material 140 on the metal layer 130 includes a laminating process of a dry film, a coating process of using a liquid type silicon, an epoxy material, and an insulating material of SiO 2 and TiO 2 If used, a deposition process is used.

본 발명은 패턴이 형성된 아트워크 필름을 예시하고 있지만, 이에 한정하지 않고 패턴이 형성된 패턴 툴(Tool)이면 어떠한 것도 가능하며, 패턴 툴 없이 직접적으로 패턴을 구현하는 장비를 이용하여 노광 공정을 수행할 수도 있다.However, the present invention is not limited thereto. Any pattern tool having a pattern can be used. An exposure process is performed using an apparatus that directly implements a pattern without a pattern tool It is possible.

이하에서의 포토리소그래피의 공정은 동일한 라미네이팅, 노광, 현상, 에칭, 박리 과정을 거치므로 중복되는 설명으로 생략한다.Hereinafter, the photolithography process is performed by the same laminating, exposure, development, etching, and peeling processes, so that duplicate explanations are omitted.

도 5a의 (c), (d)에 도시된 바와 같이, 본 발명은 제2 감광성 소재(141)를 이용하여 배선전극 패턴의 금속층(130)을 남기고 투명전극 패턴의 금속층(130)을 제거한다(2차 메탈 공정). 즉, 포토리소그래피의 공정은 드라이필름 라미네이팅, 노광, 현상, 메탈 에칭, 박리 공정을 수행한다.5A, the metal layer 130 of the transparent electrode pattern is removed by leaving the metal layer 130 of the wiring electrode pattern using the second photosensitive material 141 (FIG. 5A) (Secondary metal process). That is, the photolithography process performs dry film laminating, exposure, development, metal etching, and peeling process.

다음으로, 도 5b의 (e), (f)와 도 6c에 도시된 바와 같이, 본 발명은 터치 패널의 전면에 일정 두께의 절연체층(150)을 형성한 후, 제3 감광성 소재(142)를 이용하여 각각의 X축 정전전극의 사이의 연결 부분(122)을 전기적으로 절연하는 길이 방향의 절연체층(152)과 배선전극 패턴에 형성된 절연체층(150)을 남기고 나머지 영역의 절연체층(150)을 제거하는 절연체층(150)의 패터링 공정을 수행한다(절연체층(150, 152)의 절연 공정). 즉, 포토리소그래피의 공정은 드라이필름 라미네이팅, 노광, 절연체층 절연 공정(현상)을 수행한다.Next, as shown in FIGS. 5 (e), 5 (f) and 6 (c), the insulator layer 150 having a predetermined thickness is formed on the front surface of the touch panel, Axis insulator layer 152 for electrically insulating the connection portion 122 between the X-axis electrostatic electrodes and the insulator layer 150 formed on the wiring electrode pattern are left using the insulator layer 150 (Insulating process of the insulator layers 150 and 152) is performed. That is, the photolithography process performs dry film laminating, exposure, and insulator layer insulation process (development).

길이 방향의 절연체층(152)은 각각의 X축 정전전극의 사이의 연결 부분(122)에 형성하고 있지만 각각의 Y축 정전전극의 사이의 연결 부분에도 형성될 수 있다.The insulator layer 152 in the longitudinal direction is formed in the connecting portion 122 between the respective X-axis electrostatic electrodes, but may also be formed in the connecting portion between the respective Y-axis electrostatic electrodes.

본 발명은 설명의 편의를 위해 절연체층(150, 152)으로 SiO2를 증착하고 있으나, 이에 한정하지 않고, 아크릴 소재 드라이필름을 라미네이팅하거나 액상 타입의 실리콘, 에폭시를 코팅 및 SiO2, TiO2의 투명 절연 물질을 증착하는 공정 중 하나의 공정을 선택하여 형성될 수 있다.The present invention, the insulation layer 150 and 152 for convenience of description, but by depositing the SiO 2, this is not limited, an acrylic material laminating a dry film or a silicone, an epoxy coating, and SiO 2, TiO 2 liquid type And a process of depositing a transparent insulating material.

액상 타입의 실리콘, 에폭시 소재의 경우, 다이렉트 그라비아(Direct Gravure), 리버스 그라비아(Reverse Gravure), 마이크로 그라비아, 콤마(Comma), 슬롯 다이 코팅(Slot die coating), 슬릿 코팅(Slit coating), 커튼 코팅(Curtain coating), 캐필러리 코팅(Capillary coating), 스프레이 코팅(Spray coating), 딥 코팅(Dip coating), 실크 스크린 및 스핀 코팅(Spin coating), 프렉소(Flexo) 인쇄, 그라비아 프린팅, 잉크젯 프린팅, 오프셋 프린팅 중에서 선택된 한 가지 방법에 의해 도포된다.In the case of liquid type silicon and epoxy materials, it is possible to use direct gravure, reverse gravure, microgravure, comma, slot die coating, slit coating, curtain coating Coating, coating, spray coating, dip coating, silk screen and spin coating, flexo printing, gravure printing, inkjet printing, , Offset printing, and the like.

여기서, 절연체층(150, 152)은 전술한 감광성 소재와 동일한 물질이므로 소재의 종류에 따라 라미네이팅, 코팅 및 증착 공정을 수행할 수 있다.Here, since the insulator layers 150 and 152 are the same materials as the photosensitive material described above, laminating, coating, and deposition processes can be performed according to the type of material.

다음으로, 도 5b의 (g)와 도 6d에 도시된 바와 같이, 본 발명은 각각의 X축 정전전극의 사이의 연결 부분(122)에 형성된 길이 방향의 절연체층(152)의 위로 금속 와이어(160)의 와이어 본딩(Wire Bonding)을 수행하여 일정 거리 이격된 Y축 정전전극 사이를 금속 와이어(160)를 이용하여 전기적으로 연결한다.Next, as shown in FIGS. 5B and 6D, the present invention is characterized in that a metal wire (not shown) is formed over a longitudinal insulator layer 152 formed in a connecting portion 122 between each X- 160 are electrically connected by using a metal wire 160 between the Y-axis electrostatic electrodes spaced apart by a predetermined distance by performing wire bonding.

더욱 상세하게 설명하면, 도 7에 도시된 바와 같이, 각각의 X축 정전전극의 사이의 연결 부분(122)은 터치 패널의 X축 측면에서의 층 구조를 나타낸 것으로서, 본딩 장비를 이용하여 서로 일정 거리 이격된 각각의 Y축 정전전극의 사이를 저저항의 금속 와이어(160)로 점핑하여 전기적으로 연결한다.More specifically, as shown in FIG. 7, the connection portion 122 between the X-axis electrostatic electrodes shows the layer structure on the X-axis side of the touch panel, The space between the Y-axis electrostatic electrodes spaced apart is jumped to the metal wire 160 of low resistance and electrically connected.

여기서, 금속 와이어(160)의 연결은 하나 또는 두 개 이상으로 복수개로 형성할 수 있다.Here, the connection of the metal wires 160 may be formed by one or more than one connection.

금속 와이어(160)의 종류는 금, 은, 알루미늄, 구리 등의 저저항의 금속을 사용한다.As the metal wire 160, metal of a low resistance such as gold, silver, aluminum, or copper is used.

금속 와이어(160)의 굵기는 금의 경우 연성이 우수하여 10-50㎛ 정도이고, 은, 알루미늄, 구리의 경우 50-350㎛ 정도이다. 예를 들면, 금속 와이어(160)의 사용 용도에 따라 전류량이 적은 메모리와 같은 고집적 회로에 금이 사용되고 전류량이 많고 배수선이 적은 소자에 굵은 선으로 알루미늄이 사용될 수 있다.The thickness of the metal wire 160 is about 10-50 占 퐉 in the case of gold, and about 50-350 占 퐉 in the case of silver, aluminum, and copper. For example, depending on the use of the metal wire 160, gold may be used for a highly integrated circuit such as a memory having a small amount of current, and aluminum may be used as a thick line for a device having a large current amount and a small number of water lines.

본 발명은 50㎛ 이하로 금속 와이어(160)의 브릿지 회로(20㎛ 이하로도 구성할 수 있음)를 구성할 수 있어 브릿지 회로가 안보여서 시인성이 개선되고 1회 공정으로 브릿지 회로가 완성되므로 공정 원가를 절감하며 금속 와이어(160)의 저항값(면저항 5Ω 이하)이 낮아서 수신 감도를 향상시키는 효과가 있다.Since the bridge circuit of the metal wire 160 (which can be formed to 20 μm or less) can be formed at 50 μm or less, the bridging circuit is not visible, the visibility is improved, and the bridge circuit is completed in a single process. And the resistance value (the sheet resistance of 5? Or less) of the metal wire 160 is low, thereby improving the reception sensitivity.

또한, 본 발명은 금속 와이어(160)의 종류를 선택하여 브릿지 저항을 선택할 수 있다.In addition, the present invention can select the type of the metal wire 160 to select the bridge resistance.

본딩 장비, 본딩 방법 및 와이어 본딩 접합 방법은 금속 와이어(160)를 본딩하는 종래 기술로 상세한 설명을 생략한다.The bonding equipment, the bonding method, and the wire bonding method are not described in detail in the prior art for bonding the metal wire 160.

본딩 방법은 열압착법, 초음파 압착법, 초음파 병용 열압착법 등이 있고, 와이어 본딩 접합 방법에 따라 볼 본딩(Ball Bonding)과 웨지 본딩(Wedge Bonding)으로 구분된다.The bonding method includes a thermal bonding method, an ultrasonic bonding method, and an ultrasonic bonding thermocompression bonding method. The bonding method is classified into a ball bonding method and a wedge bonding method according to a wire bonding method.

범용 본딩 장치는 본딩 와이어를 그 내부에 통과시켜 접속에 이용하는 캐필러리 지그를 이용하여 본딩 와이어의 선단을 아크 입열로 가열 용융하고 표면장력에 의하여 볼부를 형성시킨다.The universal bonding device uses a capillary jig that is used for connection by passing a bonding wire therethrough to heat and melt the tip of the bonding wire with arc heat and form a ball portion by surface tension.

범용 본딩 장치는 형성된 볼부를 제1 Y축 정전전극 상에 초음파 압착 접합시키고 본딩 와이어를 제1 Y축 정전전극과 일정 거리 이격된 제2 Y축 정전전극 상에 찍게 되면 본딩 와이어가 붙게 되며 본딩 장치를 들어 올려 본딩 와이어가 잘려지게 되어 붙게 된다(볼 본딩(Ball Bonding)).When the universal bonding device is ultrasonically bonded on the first Y-axis electrostatic electrode and the bonding wire is placed on the second Y-axis electrostatic electrode spaced a certain distance from the first Y-axis electrostatic electrode, a bonding wire is attached to the ball portion, And the bonding wire is cut off and attached (Ball Bonding).

웨지 본딩(Wedge Bonding) 방식은 30-60도 정도의 기울기를 가진 웨지 툴(Wedge Tool)을 이용하여 Y축 정전전극에서 수평적으로 찍히게 되고 웨지를 들어 올리면 본딩 와이어를 잡아 당겨 접착 부분을 끊어주게 되며 이러한 과정을 반복하여 여러 지점의 접착점에 대해 본딩 와이어를 끊지 않고 연속적으로 붙일 수 있다. The wedge bonding method is applied horizontally on the Y-axis electrostatic electrode using a wedge tool having a gradient of about 30-60 degrees. When the wedge is lifted, the bonding wire is pulled out by pulling the bonding wire. This process can be repeated and the bonding wires can be stuck to the bonding points at various points without breaking the bonding wires.

본 발명은 금속 와이어(160)를 사용하여 Y축 정전전극의 브릿지 회로를 사용하므로 공정이 단순하고 선저항이 균일하며 내식성면에서 금속 와이어(160)의 굵기가 굵기 때문에 강하다.The present invention uses a metal wire 160 and uses a bridge circuit of the Y-axis electrostatic electrode, so that the process is simple, the line resistance is uniform, and the metal wire 160 is strong because of the thickness of the metal wire 160 in terms of corrosion resistance.

와이어 본딩(Wire Bonding)을 수행한 후, 각각의 Y축 정전전극과 금속 와이어(160) 간을 액상 절연제로 도포하여 밀착력을 강화한다.After the wire bonding, the adhesion between the Y-axis electrostatic electrode and the metal wire 160 is improved by applying a liquid insulating material.

액상 절연제는 각각의 Y축 정전전극와 금속 와이어(160) 간에 접촉되는 일부 영역을 몰딩할 수 있고, 터치 패널의 상면 전체를 몰딩할 수도 있다.The liquid insulating material can mold a part of the area where the Y-axis electrostatic electrode and the metal wire 160 are contacted, and can mold the entire upper surface of the touch panel.

여기서, 액상 절연제는 광학 투명 점착제(Optical Clear Adhesive, OCA), 광학 투명 레진(Optical Clear Resin, OCR), 아크릴 점착제(Acrlic Adhesive)를 포함한 다양한 점착제를 포함한다.Here, the liquid insulating material includes various pressure sensitive adhesives including optical clear adhesives (OCA), optical clear resins (OCR), and acrylic adhesive.

다른 실시예로서, 본 발명은 금속 와이어(160)의 접착성을 증대하기 위해서 각각의 Y축 정전전극과 금속 와이어(160) 간을 별도의 프라즈마 표면 처리를 수행한 후 금속 와이어(160)의 와이어 본딩을 수행할 수 있다.In another embodiment of the present invention, a separate plasma surface treatment is performed between each Y-axis electrostatic electrode and the metal wire 160 to increase the adhesion of the metal wire 160, Bonding can be performed.

프라즈마 표면 처리는 금속 와이어(160)가 연결된 일부 영역을 수행할 수 있고, 터치 패널의 전면을 수행할 수도 있다.The plasma surface treatment can perform a part of the area to which the metal wire 160 is connected and perform the front surface of the touch panel.

이외에 본 발명은 와이어의 굵기를 50-100㎛의 굵은 것을 사용하여 밀착력을 강화할 수도 있다.In addition, in the present invention, the cohesive force may be enhanced by using a thick wire having a thickness of 50-100 mu m.

본 발명의 실시예는 서로 일정 거리 이격된 각각의 Y축 정전전극을 금속 와이어(160)로 본딩하는 것으로 예시하고 있지만, 이에 한정하지 않고 각각의 X축 정전전극을 이격시켜 금속 와이어(160)로 본딩할 수도 있다.Although the embodiment of the present invention exemplifies that each Y-axis electrostatic electrode spaced apart from each other by a certain distance is bonded to the metal wire 160, the present invention is not limited thereto, Bonding.

또한, 도 8에 도시된 바와 같이, 본 발명의 다른 실시예는 서로 일정 거리 이격된 Y축 정전전극을 금속 와이어(160)로 점핑한 모습으로서, 금속 와이어(160)의 접착성을 증대하기 위해서 금속 와이어(160)가 접촉하는 Y축 정전전극 일면에 금속층(132)을 형성한 후 그 위에 금속 와이어(160)로 와이어 본딩을 수행한다.8, the Y-axis electrostatic electrode spaced a certain distance from each other is jumped to the metal wire 160, and in order to increase the adhesion of the metal wire 160 A metal layer 132 is formed on one surface of the Y-axis electrostatic electrode to which the metal wire 160 contacts, and wire bonding is performed thereon with a metal wire 160.

금속층(132)의 크기는 금속 와이어(160)의 본딩되는 돌출 영역보다 크게 형성한다.The size of the metal layer 132 is larger than the protruding area to which the metal wire 160 is bonded.

금속층(132)은 포토리소그래피 공법, 그라비아 옵셋 방식, 실버 프린팅, 임프린트 공법, 잉크젯 인쇄 공법 등 다양한 공정으로 구현할 수 있다.The metal layer 132 may be formed by various processes such as a photolithography method, a gravure offset method, a silver printing method, an imprint method, and an inkjet printing method.

도 9는 본 발명의 다른 실시예에 따른 터치 패널의 제조 방법을 나타낸 측면에서의 층 구조로 나타낸 도면이고, 도 10은 본 발명의 다른 실시예에 따른 터치 패널의 제조 방법을 평면에서 나타낸 도면이다.FIG. 9 is a view showing a layer structure in a method of manufacturing a touch panel according to another embodiment of the present invention, and FIG. 10 is a plan view illustrating a method of manufacturing a touch panel according to another embodiment of the present invention .

도 9는 터치 패널의 제조 방법을 터치 패널의 X축 측면에서의 층 구조로 나타낸 것이다.9 shows a method of manufacturing a touch panel in a layer structure on the X-axis side of the touch panel.

도 9 및 도 10의 실시예는 전술한 도 5a 및 도 5b, 도 6a 내지 도 6d에 도시된 실시예와 중복되는 구성요소의 설명을 생략하고 차이점을 중심으로 설명한다.9 and 10 will be described with reference to the differences, omitting the description of the elements overlapping with the embodiment shown in Figs. 5A and 5B and Figs. 6A to 6D.

도 9 및 도 10은 일정 거리 이격된 Y축 정전전극의 사이를 점핑될 연결 영역을 오픈하고 오픈된 연결 영역에 금속 와이어(160)로 점핑하여 전기적으로 연결하는 오픈 타입 방식(Open Type)이다.FIGS. 9 and 10 show an open type in which a connection region to be jumped between the Y-axis electrostatic electrodes spaced apart from each other by a predetermined distance is opened and electrically connected by jumping the metal wire 160 to an open connection region.

도 9 및 도 10은 전술한 도 5a의 (a), (b), (c), (d)와 도 6a, 도 6b에 도시된 바와 같이, 본 발명은 포토리소그래피(Photolithography)의 공정에 의해 투명 도전층(120)으로 이루어진 투명전극 패턴과 금속층(130)으로 이루어진 배선전극 패턴을 형성한다.9 and 10, the present invention can be realized by a process of photolithography, as shown in FIGS. 5A, 5B, 5C and 5D and 6A and 6B, A transparent electrode pattern made of the transparent conductive layer 120 and a wiring electrode pattern made of the metal layer 130 are formed.

다음으로, 도 9의 (a)에 도시된 바와 같이, 본 발명은 서로 일정 거리 이격된 각각의 Y축 정전전극의 투명 도전층(120)의 상부면 일측에 형성되는 각각의 Y축 정전전극의 연결 영역(124)에 드라이필름(또는 액상 포토 레지스트)(155)을 형성한다.Next, as shown in FIG. 9A, the Y-axis electrostatic electrode of each Y-axis electrostatic electrode formed on one side of the upper surface of the transparent conductive layer 120 of each Y- A dry film (or liquid photoresist) 155 is formed on the connection region 124.

여기서, 연결 영역(124)은 서로 일정 거리 이격된 각각의 Y축 정전전극 간을 점핑하여 전기적으로 연결하는 위치로 각각의 Y축 정전전극의 상부면 일측에 각각 하나 이상을 포함할 수 있다.Here, the connection region 124 may include at least one each on one side of the upper surface of each Y-axis electrostatic electrode, which is a position for jumping and electrically connecting each Y-axis electrostatic electrode spaced apart from each other by a predetermined distance.

이러한 포토리소그래피의 공정은 감광성 소재(예들 들면, 드라이필름)를 투명 도전층(120) 위에 형성하고 패턴이 형성된 아트워크 필름을 이용하여 UV 조사하면 감광성 소재가 패턴이 형성되며(노광 공정), 약한 알칼리 용액을 이용하여 패턴이 형성된 감광성 소재가 형성된다(현상 공정).In this photolithography process, when a photosensitive material (for example, dry film) is formed on the transparent conductive layer 120 and the patterned artwork film is used for UV irradiation, a photosensitive material is patterned (exposure process) A photosensitive material having a pattern formed using an alkali solution is formed (developing step).

다음으로, 본 발명은 터치 패널의 전면에 일정 두께의 절연체층(150)을 형성한 후(도 9의 (b)와 도 10의 (b)), 형성한 절연체층(150) 중 드라이필름(155)이 형성된 연결 영역(124)을 노광 및 현상 공정으로 제거한다(도 9의 (c)와 도 10의 (c)).9 (b) and 10 (b)), the insulating layer 150 is formed on the entire surface of the touch panel, The connection regions 124 in which the conductive films 155 are formed are removed by the exposure and development processes (Fig. 9 (c) and Fig. 10 (c)).

다음으로, 본 발명은 각각의 Y축 정전전극의 상부면 일측에 형성된 연결 영역(124)의 사이를 금속 와이어(160)로 점핑하여 전기적으로 연결하도록 금속 와이어(160)의 와이어 본딩(Wire Bonding)을 수행한다(도 7, 도 9의 (d)와 도 10의 (d)).Next, wire bonding of the metal wire 160 is performed by jumping the metal wire 160 between the connection regions 124 formed on one side of the upper surface of each Y-axis electrostatic electrode, (Fig. 7, Fig. 9 (d) and Fig. 10 (d)).

전술한 도 5a 및 도 5b, 도 6a 내지 도 6d의 마스킹 타입(Masking Type), 도 9 및 도 10의 오픈 타입 방식(Open Type)을 예시하고 있지만. 이에 한정하지 않고 서로 일정 거리 이격된 Y축 정전전극의 사이를 금속 와이어(160)로 점핑하여 전기적으로 연결할 수 있는 경우이면 X축 정전전극과 Y축 정전전극을 구성하는 모든 방식을 포함한다.The masking type shown in Figs. 5A and 5B, Figs. 6A to 6D, and the open type shown in Figs. 9 and 10 are exemplified. The present invention is not limited thereto and includes all the methods of constructing the X-axis electrostatic electrode and the Y-axis electrostatic electrode in the case where the Y-axis electrostatic electrodes spaced from each other by a certain distance are jumped to the metal wire 160 and electrically connected thereto.

이상에서 설명한 본 발명의 실시예는 장치 및/또는 방법을 통해서만 구현이 되는 것은 아니며, 본 발명의 실시예의 구성에 대응하는 기능을 실현하기 위한 프로그램, 그 프로그램이 기록된 기록 매체 등을 통해 구현될 수도 있으며, 이러한 구현은 앞서 설명한 실시예의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술분야의 전문가라면 쉽게 구현할 수 있는 것이다.The embodiments of the present invention described above are not implemented only by the apparatus and / or method, but may be implemented through a program for realizing functions corresponding to the configuration of the embodiment of the present invention, a recording medium on which the program is recorded And such an embodiment can be easily implemented by those skilled in the art from the description of the embodiments described above.

이상에서 본 발명의 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, It belongs to the scope of right.

110: 절연층
120: 투명 도전층
122: X축 정전전극 사이의 연결 부분
124: 각각의 Y축 정전전극의 연결 영역
130, 132: 금속층
140: 제1 감광성 소재
141: 제2 감광성 소재
142: 제3 감광성 소재
143: 제4 감광성 소재
144: 제5 감광성 소재
150, 152: 절연체층
155: 드라이필름
160: 금속 와이어
110: insulating layer
120: transparent conductive layer
122: connection portion between X axis electrostatic electrodes
124: connection area of each Y-axis electrostatic electrode
130, 132: metal layer
140: 1st photosensitive material
141: Second photosensitive material
142: Third photosensitive material
143: Fourth photosensitive material
144: 5th photosensitive material
150, 152: insulator layer
155: dry film
160: metal wire

Claims (13)

터치 패널의 제조 방법에 있어서,
상기 터치 패널의 원도우 영역에 해당하고 투명 도전층으로 이루어지며 복수의 제1축 정전전극과 상기 복수의 제1축 정전전극과 직각 방향으로 교차하는 복수의 제2축 정전전극―상기 각각의 제2축 정전전극 사이의 연결 부분은 서로 일정 거리 이격됨―을 형성하는 단계; 및
상기 일정 거리 이격된 제2축 정전전극 사이를 금속 와이어의 와이어 본딩(Wire Bonding)을 수행하여 상기 금속 와이어로 점핑하여 전기적으로 연결한 후 상기 각각의 제2축 정전전극과 상기 금속 와이어 간에 접촉되는 일부 영역 또는 터치 패널의 상면 전체에 액상 절연제를 도포하는 단계
를 포함하는 터치 패널의 제조 방법.
A manufacturing method of a touch panel,
A plurality of first axis electrostatic electrodes and a plurality of second axis electrostatic electrodes corresponding to the window regions of the touch panel and made of a transparent conductive layer and intersecting in a direction perpendicular to the plurality of first axis electrostatic electrodes, And the connection portions between the axial electrostatic electrodes are spaced apart from each other by a predetermined distance; And
The second axial electrostatic electrode spaced apart by a predetermined distance is subjected to wire bonding of a metal wire to be jumped to the metal wire to electrically connect the metal wire to the second axial electrostatic electrode, A step of applying a liquid insulating material to the entire upper surface of the partial region or the touch panel
The method comprising the steps of:
터치 패널의 제조 방법에 있어서,
상기 터치 패널의 원도우 영역에 해당하고 투명 도전층으로 이루어지며 복수의 제1축 정전전극과 상기 복수의 제1축 정전전극과 직각 방향으로 교차하는 복수의 제2축 정전전극―상기 각각의 제2축 정전전극 사이의 연결 부분은 서로 일정 거리 이격됨―을 형성하는 단계;
상기 터치 패널의 전면에 일정 두께의 절연체층을 형성한 후, 상기 각각의 제1축 정전전극 사이의 연결 부분 또는 상기 각각의 제2축 정전전극 사이의 연결 부분의 위에 전기적으로 절연하는 길이 방향의 절연체층을 남기는 절연 공정을 수행하는 단계; 및
상기 길이 방향의 절연체층의 위로 금속 와이어의 와이어 본딩(Wire Bonding)을 수행하여 상기 일정 거리 이격된 제2축 정전전극 사이를 금속 와이어로 점핑하여 전기적으로 연결한 후 상기 각각의 제2축 정전전극과 상기 금속 와이어 간에 접촉되는 일부 영역 또는 터치 패널의 상면 전체에 액상 절연제를 도포하는 단계
를 포함하는 터치 패널의 제조 방법.
A manufacturing method of a touch panel,
A plurality of first axis electrostatic electrodes and a plurality of second axis electrostatic electrodes corresponding to the window regions of the touch panel and made of a transparent conductive layer and intersecting in a direction perpendicular to the plurality of first axis electrostatic electrodes, And the connection portions between the axial electrostatic electrodes are spaced apart from each other by a predetermined distance;
Wherein the insulator layer has a predetermined thickness on the front surface of the touch panel and is electrically insulated from a connection portion between the first axis electrode and a connection portion between the first axis electrode and the second axis electrode, Performing an insulation process to leave an insulator layer; And
Wire bonding of a metal wire is performed on the insulator layer in the longitudinal direction to electrically couple the second axial electrostatic electrodes spaced apart by a predetermined distance to a metal wire to electrically connect the second axial electrostatic electrode, And applying a liquid insulating material to the entire upper surface of the touch panel or a part of the area that is in contact with the metal wire
The method comprising the steps of:
터치 패널의 제조 방법에 있어서,
상기 터치 패널의 원도우 영역에 해당하고 투명 도전층으로 이루어지며 복수의 제1축 정전전극과 상기 복수의 제1축 정전전극과 직각 방향으로 교차하는 복수의 제2축 정전전극―상기 각각의 제2축 정전전극 사이의 연결 부분은 서로 일정 거리 이격됨―을 형성하는 단계;
상기 일정 거리 이격된 제2축 정전전극 간을 점핑하여 전기적으로 연결하기 위해 상기 각각의 제2축 정전전극의 상부면 일측에 형성되는 상기 각각의 제2축 정전전극의 연결 영역에 감광성 소재를 형성한 후, 상기 터치 패널의 전면에 절연체층을 형성하는 단계;
상기 절연체층 중에서 상기 감광성 소재가 형성된 연결 영역을 제거하는 단계; 및
상기 각각의 제2축 정전전극의 연결 영역의 사이를 금속 와이어의 와이어 본딩(Wire Bonding)을 수행하여 상기 금속 와이어로 점핑하여 전기적으로 연결한 후 상기 각각의 제2축 정전전극과 상기 금속 와이어 간에 접촉되는 일부 영역 또는 터치 패널의 상면 전체에 액상 절연제를 도포하는 단계
를 포함하는 터치 패널의 제조 방법.
A manufacturing method of a touch panel,
A plurality of first axis electrostatic electrodes and a plurality of second axis electrostatic electrodes corresponding to the window regions of the touch panel and made of a transparent conductive layer and intersecting in a direction perpendicular to the plurality of first axis electrostatic electrodes, And the connection portions between the axial electrostatic electrodes are spaced apart from each other by a predetermined distance;
And forming a photosensitive material on a connection region of each of the second axial electrostatic electrodes formed on one side of the upper surface of each of the second axial electrostatic electrodes in order to electrically connect the second axial electrostatic electrodes spaced apart by the predetermined distance Forming an insulator layer on the front surface of the touch panel;
Removing a connection region where the photosensitive material is formed in the insulator layer; And
The first axis electrode and the second axis electrode are connected to each other by wire bonding between the connection areas of the second axis electrostatic electrodes and by jumping to the metal wires to electrically connect the metal wires to each other, A step of applying a liquid insulating material to the entire area of the contact area or the entire upper surface of the touch panel
The method comprising the steps of:
삭제delete 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 액상 절연제로 도포하는 단계는,
상기 각각의 제2축 정전전극과 상기 금속 와이어 간을 프라즈마 표면 처리를 수행한 후 상기 금속 와이어의 와이어 본딩을 수행하는 단계
를 포함하는 터치 패널의 제조 방법.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
The step of applying with the liquid insulating material comprises:
Performing a plasma surface treatment between each of the second axial electrostatic electrodes and the metal wire, and then performing wire bonding of the metal wire
The method comprising the steps of:
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 금속 와이어의 굵기는 금의 경우, 10-50㎛이고, 은, 알루미늄, 구리의 경우, 50-350㎛인 터치 패널의 제조 방법.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
Wherein the thickness of the metal wire is 10-50 占 퐉 for gold and 50-350 占 퐉 for silver, aluminum, and copper.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 금속 와이어의 연결은 하나 또는 두 개 이상의 복수개로 형성하는 터치 패널의 제조 방법.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
Wherein the connection of the metal wires is formed by one or more than one connection.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 액상 절연제로 도포하는 단계는,
상기 금속 와이어가 접촉하는 상기 제2축 정전전극 일면에 금속층을 형성한 후 그 위에 상기 금속 와이어의 와이어 본딩을 수행하는 단계
를 포함하는 터치 패널의 제조 방법.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
The step of applying with the liquid insulating material comprises:
Forming a metal layer on one surface of the second axial electrostatic electrode to which the metal wire contacts, and then performing wire bonding of the metal wire on the metal layer;
The method comprising the steps of:
터치 패널에 있어서,
투명한 재질의 유기 절연체 또는 무기 절연체의 절연층;
상기 절연층의 위에 복수의 제1축 정전전극과, 상기 복수의 제1축 정전전극과 직각 방향으로 교차하는 복수의 제2축 정전전극―상기 각각의 제2축 정전전극 사이의 연결 부분은 서로 일정 거리 떨어져 있음―을 형성하는 투명 도전층;
상기 일정 거리 이격된 제2축 정전전극 사이를 점핑하여 전기적으로 연결하는 금속 와이어; 및
상기 각각의 제2축 정전전극과 상기 금속 와이어 간에 접촉되는 일부 영역 또는 터치 패널의 상면 전체에 도포되는 액상 절연제
를 포함하는 터치 패널.
In the touch panel,
An insulating layer of an organic insulator or an inorganic insulator of a transparent material;
Wherein a connection portion between a plurality of first axial electrostatic electrodes on the insulating layer and a plurality of second axial electrostatic electrodes crossing in a direction perpendicular to the plurality of first axial electrostatic electrodes, A transparent conductive layer forming a predetermined distance away from the transparent conductive layer;
A metal wire for jumping and electrically connecting the second axial electrostatic electrodes spaced apart from each other by a predetermined distance; And
A liquid-phase insulating material applied to the entire area of the upper surface of the touch panel or a part of the area contacted between the second axis electrostatic electrode and the metal wire,
.
터치 패널에 있어서,
투명한 재질의 유기 절연체 또는 무기 절연체의 절연층;
상기 절연층의 위에 복수의 제1축 정전전극과, 상기 복수의 제1축 정전전극과 직각 방향으로 교차하는 복수의 제2축 정전전극―상기 각각의 제2축 정전전극 사이의 연결 부분은 서로 일정 거리 떨어져 있음―을 형성하는 투명 도전층;
상기 각각의 제1축 정전전극 사이의 연결 부분 또는 상기 각각의 제2축 정전전극 사이의 연결 부분의 위에 전기적으로 절연하는 길이 방향의 절연체층;
상기 길이 방향의 절연체층의 위로 상기 일정 거리 이격된 제2축 정전전극 사이를 점핑하여 와이어 본딩을 통해 전기적으로 연결하는 금속 와이어; 및
상기 각각의 제2축 정전전극과 상기 금속 와이어 간에 접촉되는 일부 영역 또는 터치 패널의 상면 전체에 도포되는 액상 절연제
를 포함하는 터치 패널.
In the touch panel,
An insulating layer of an organic insulator or an inorganic insulator of a transparent material;
Wherein a connection portion between a plurality of first axial electrostatic electrodes on the insulating layer and a plurality of second axial electrostatic electrodes crossing in a direction perpendicular to the plurality of first axial electrostatic electrodes, A transparent conductive layer forming a predetermined distance away from the transparent conductive layer;
A longitudinal insulator layer electrically insulated above a connection portion between each of the first axial electrostatic electrodes or a connection portion between each of the second axial electrostatic electrodes;
A metal wire which jumps between the second axial electrostatic electrodes spaced apart by a predetermined distance above the insulator layer in the longitudinal direction and electrically connects the second axial electrostatic electrodes by wire bonding; And
A liquid-phase insulating material applied to the entire area of the upper surface of the touch panel or a part of the area contacted between the second axis electrostatic electrode and the metal wire,
.
터치 패널에 있어서,
투명한 재질의 유기 절연체 또는 무기 절연체의 절연층;
상기 절연층의 위에 복수의 제1축 정전전극과, 상기 복수의 제1축 정전전극과 직각 방향으로 교차하는 복수의 제2축 정전전극―상기 각각의 제2축 정전전극 사이의 연결 부분은 서로 일정 거리 떨어져 있음―을 형성하는 투명 도전층;
상기 투명 도전층의 위에 일정 두께로 형성되고, 상기 각각의 제2축 정전전극의 상부면 일측에 상기 각각의 제2축 정전전극의 연결 영역을 홈 형태로 형성하는 절연체층;
상기 홈 형태로 형성된 연결 영역의 사이를 점핑하여 와이어 본딩을 통해 전기적으로 연결하는 금속 와이어; 및
상기 각각의 제2축 정전전극과 상기 금속 와이어 간에 접촉되는 일부 영역 또는 터치 패널의 상면 전체에 도포되는 액상 절연제
를 포함하는 터치 패널.
In the touch panel,
An insulating layer of an organic insulator or an inorganic insulator of a transparent material;
Wherein a connection portion between a plurality of first axial electrostatic electrodes on the insulating layer and a plurality of second axial electrostatic electrodes crossing in a direction perpendicular to the plurality of first axial electrostatic electrodes, A transparent conductive layer forming a predetermined distance away from the transparent conductive layer;
An insulator layer formed on the transparent conductive layer to have a predetermined thickness and forming a connection region of each of the second axial electrostatic electrodes on one side of the upper surface of each of the second axial electrostatic electrodes in a groove shape;
A metal wire that jumps between the connection regions formed in the groove shape and electrically connects the connection regions by wire bonding; And
A liquid-phase insulating material applied to the entire area of the upper surface of the touch panel or a part of the area contacted between the second axis electrostatic electrode and the metal wire,
.
제9항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서,
상면에서 상기 금속 와이어의 와이어 본딩에 의해 상기 금속 와이어가 접촉되는 상기 투명 도전층의 일면에 형성된 금속층
을 더 포함하는 터치 패널.
12. The method according to any one of claims 9 to 11,
A metal layer formed on one surface of the transparent conductive layer to which the metal wire is contacted by wire bonding of the metal wire on the upper surface,
And a touch panel.
삭제delete
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