KR20150120169A - Touch Panel and Method for Making the Same - Google Patents

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KR20150120169A
KR20150120169A KR1020140046057A KR20140046057A KR20150120169A KR 20150120169 A KR20150120169 A KR 20150120169A KR 1020140046057 A KR1020140046057 A KR 1020140046057A KR 20140046057 A KR20140046057 A KR 20140046057A KR 20150120169 A KR20150120169 A KR 20150120169A
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박준영
정주현
김기보
공태경
이성림
한민규
이하나
김인주
김나영
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(주)티메이
박준영
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Abstract

A touch panel according to the characteristics of the present invention comprises: an insulator layer composed of an organic insulator or an inorganic insulator; a transparent conductive layer which is formed on the upper surface of the insulator layer, corresponds to a window area of the touch panel, and has a plurality of first shaft capacitive electrodes formed to be spaced apart at intervals of a predetermined distance; a metal layer having a plurality of first metal conducting wires located at the boundary area of the touch panel connected to one end of the first shaft capacitive electrodes, and a plurality of second metal conducting wires located at the boundary area of the touch panel connected to one end of each second shaft capacitive electrode spaced apart from each first capacitive electrode at predetermined intervals and intersected; a transparent photosensitive material of a transparent material, which is formed on the upper surfaces of the transparent conductive layer and the metal layer, and in which an insulator layer opening area, where one end of each second shaft capacitive electrode is connected to a metal electrode part of each second metal conducting wire, is opened; and a conductive transparent electrode which is formed on the upper surface of the transparent photosensitive material, and in which each second shaft conductive electrode spaced apart from each first shaft conductive electrode at predetermined intervals and intersected in a perpendicular direction, is formed. he insulator opening area is formed on the upper surface of the metal electrode part of each second metal conducting wire and configured to increase contact reliability by being designed with various structures so that the contact surface can be maximized by an opening shape.

Description

터치 패널 및 제조 방법{Touch Panel and Method for Making the Same}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a touch panel,

본 발명은 터치 패널의 제조 방법에 관한 것으로서, 특히 터치 패널의 윈도우 영역에서 브릿지와 점핑 연결을 하지 않고 원도우 영역의 바깥에서의 점핑 연결을 수행하여 하나의 레이어를 구현하는 터치 패널 및 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing a touch panel, and more particularly, to a touch panel and a method of manufacturing a touch panel by performing a jumping connection outside a window area without jumping connection with a bridge in a window area of the touch panel will be.

일반적으로 터치 패널은 버튼을 손가락으로 접촉하여 컴퓨터 등을 대화적, 직감적으로 조작함으로써 누구나 쉽게 사용할 수 있는 입력 장치이다.Generally, a touch panel is an input device that can be easily used by anyone by touching a button with a finger to operate a computer, etc. in a conversational and intuitive manner.

이러한 터치패널은 접촉을 감지하는 방식에 따라 저항막 방식과 정전용량 방식, 적외선방식, 초음파 방식 등이 사용되고 있으며, 현재는 저항막 방식이 많이 사용되어지고 있으나, 향후 내구성 및 경박 단소한 특성에 유리한 정전용량 방식의 사용이 증가될 것이다.Such a touch panel uses a resistance film type, a capacitive type, an infrared type, an ultrasonic type, and the like, depending on the method of detecting the touch. Currently, the resistance film type is widely used. However, The use of capacitive systems will increase.

이와 같은 상기 정전용량방식의 터치패널, 특히 터치스크린은 그 구조가 PET(Polyethylene Terephthalate)나 유리 등의 투명한 절연체 필름 상에 투광 도전체로 이루어진 ITO(Indium Tin Oxide)와, ITO의 테두리에 실버 페이스트 등의 리드선으로 이루어진 패드를 접착제층이나 절연체층을 부가하여 상하로 적층하여 구성된다.The touch panel of the capacitive type, particularly the touch screen, has an ITO (Indium Tin Oxide) structure made of a transparent conductor on a transparent insulating film such as PET (polyethylene terephthalate) or glass, and a silver paste Is laminated on top and bottom by adding an adhesive layer or an insulating layer.

여기서, ITO는 X축의 X축 정전전극을 등 간격으로 형성한 X축 ITO와 Y축의 Y축 정전전극을 등 간격으로 형성한 Y축 ITO로 구성하여 적층되도록 한다.Here, the ITO is made up of Y-axis ITO formed by equally spaced X-axis ITO and Y-axis Y-axis electrostatic electrodes formed with X-axis electrostatic electrodes at regular intervals on the X axis.

위와 같이 형성된 터치스크린은 사용자의 터치에 따른 터치 신호를 컨트롤러가 입력 받아서 좌표 신호를 출력하는 것이다.In the touch screen formed as above, the controller receives the touch signal corresponding to the user's touch and outputs the coordinate signal.

그런데 이와 같이 X축 또는 Y축에 나란하게 배치되는 정전전극은 리드선으로부터 각각 다른 이격거리를 가지고 배치된다. 이들 사이에는 다른 정전전극이 배치되므로 리드선이 연결되는 부분에서 바라보면 각각의 정전전극은 서로 다른 전기적 특성을 가지게 된다.However, the electrostatic electrodes arranged side by side on the X axis or the Y axis are arranged with different distances from the lead wires. Since the other electrostatic electrodes are disposed therebetween, each of the electrostatic electrodes has different electrical characteristics when viewed from the portion where the lead wires are connected.

이하에서는 이러한 터치 패널의 종래 기술에 관하여 도 1 내지 도 4를 참조하여 설명한다.Hereinafter, the conventional art of such a touch panel will be described with reference to Figs. 1 to 4. Fig.

도 1은 종래의 정전용량 방식 터치 패널에서 X축 전극 패턴을 나타낸 도면이고, 도 2는 종래의 정전용량 방식 터치 패널에서 Y축 전극 패턴을 나타낸 도면이고, 도 3은 종래의 정전용량 방식 터치 패널에서 X축 전극 패턴과 Y축 전극 패턴을 합체한 상태를 나타낸 도면이고, 도 4는 종래의 정전용량 방식 터치 패널에서 X축 전극 패턴과 Y축 전극 패턴을 합체한 상태에서의 층 구조를 나타낸 도면이다.FIG. 1 is a view showing an X-axis electrode pattern in a conventional capacitive touch panel, FIG. 2 is a view illustrating a Y-axis electrode pattern in a conventional capacitive touch panel, and FIG. FIG. 4 is a view showing a layer structure in a state where an X-axis electrode pattern and a Y-axis electrode pattern are combined in a conventional capacitive touch panel. FIG. to be.

도 1은 종래의 탑(Top) 패턴층을 나타내는 도면으로서 X축 전극 패턴을 나타내고, 도 2는 종래의 바텀(Bottom) 패턴층을 나타내는 도면으로서 Y축 전극 패턴을 나타낸다.Fig. 1 is a view showing a conventional top pattern layer, showing an X-axis electrode pattern, and Fig. 2 is a drawing showing a conventional bottom pattern layer and showing a Y-axis electrode pattern.

도 1 및 도 2와 같은 X축 정전전극(10)을 갖는 탑(Bot) 패턴과 Y축 정전전극(20)을 갖는 바텀(Bottom) 패턴을 각각 제작하여 층간 합지한 후 윈도우를 부착하여 터치 패널을 제조한다. 이러한 제조 과정에 의해 완성된 터치 패널은 평면도를 도 3에 도시하였다.A bot pattern having the X-axis electrostatic electrode 10 as shown in FIGS. 1 and 2 and a bottom pattern having the Y-axis electrostatic electrode 20 are manufactured, . A plan view of the touch panel completed by this manufacturing process is shown in Fig.

도 3을 참조하면, 종래의 정전방식 터치 패널은 센싱 전극인 X축 정전전극(10)을 갖는 탑(Top) 패턴과 구동 전극인 Y축 정전전극(20)을 갖는 바텀(Bottom) 패턴이 패널의 전면에 고루 형성되고, 일측에 연결전극(30, 40)을 형성한다.3, a conventional electrostatic-type touch panel includes a bottom pattern having a top pattern having an X-axis electrostatic electrode 10 serving as a sensing electrode and a Y-axis electrostatic electrode 20 serving as a driving electrode. And the connection electrodes 30 and 40 are formed on one side.

여기서, 탑 패턴과 바텀 패턴은 절연층(PET), 투명 도전층(ITO), 금속층의 순서로 적층되어 있다.Here, the top pattern and the bottom pattern are laminated in order of an insulating layer (PET), a transparent conductive layer (ITO), and a metal layer.

이러한 종래의 정전방식 터치 패널의 층 구조를 보면 도 4와 같다.The layer structure of such a conventional electrostatic-type touch panel is shown in Fig.

도 4를 참조하면, 종래에는 탑(Top) 패턴과 바텀(Bottom) 패턴을 각각 제작하므로 탑(Top) 패턴과 바텀(Bottom) 패턴에 사용되는 ITO 필름이 2장 필요하였다.Referring to FIG. 4, two ITO films used for a top pattern and a bottom pattern are required because a top pattern and a bottom pattern are manufactured, respectively.

또한, ITO 필름 상부에는 OCA(Optically Clear Adhesive)가 필수적으로 부가되어야 하는데, ITO 필름이 2장 사용되므로 OCA도 2장 필요하였다.In addition, OCA (Optically Clear Adhesive) must be added to the upper part of the ITO film. Two OCA films are required because two ITO films are used.

따라서, 종래의 터치 패널은 하나의 터치 패널 제품을 만들기위해 ITO 필름과 OCA가 각각 두 장이 사용되기 때문에 가격적으로 비싼 단점이 있고, 각각의 탑 패턴과 바텀 패턴을 OCA에 의해 합지하는 과정에서 정합이 맞지 않는 경우 터치 불량의 요인이 될 수 있다.Therefore, the conventional touch panel has a disadvantage in that it is expensive in price because two ITO film and OCA are used to make one touch panel product, and in the process of laminating each top pattern and bottom pattern by OCA, If it does not fit, it can be a factor of touch failure.

또한, 종래의 터치 패널은 각각의 탑 패턴과 바텀 패턴을 각각의 공정으로 진행해야 하므로 복잡한 공정을 거치게 되고 센싱 전극과 구동 전극으로 2개 층을 사용하기 때문에 터치 패널의 두께 축소가 어렵고 높은 원자재 비용과 공정 비용이 높게 발생한다.In addition, since the conventional touch panel requires complicated processes because each top pattern and the bottom pattern must be processed in respective processes, it is difficult to reduce the thickness of the touch panel because of using two layers as the sensing electrode and the driving electrode. And the process cost is high.

또한, 종래의 터치 패널은 탑 패턴층과 바텀 패턴층의 합지할 때, 셀바이셀(Cell by cell) 방식이 아니라 시트바이시트(Sheet by sheet) 방식으로 하기 때문에 패턴층 별로 불량률을 측정하는 특성에 의해 수율이 좋지 않았다. 특히, 층별 합지시 얼라인 공차를 맞추기가 힘들어 수율이 좋지 않고, 타이트한 공차 관리가 어려운 단점이 있다.In addition, the conventional touch panel is formed by a sheet by sheet method instead of a cell by cell method when laminating the top pattern layer and the bottom pattern layer. Therefore, Yield was not good. In particular, it is difficult to adjust the alignment tolerance for the layered joints, which results in poor yield and difficult tight tolerance management.

이와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명은 터치 패널의 윈도우 영역에서 브릿지와 점핑 연결을 하지 않고 원도우 영역의 바깥에서의 점핑 연결을 수행하여 하나의 레이어를 구현하는 터치 패널 및 제조 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.In order to solve such problems, the present invention provides a touch panel and a method of fabricating a single layer by performing a jumping connection outside a window area without jumping connection with a bridge in a window area of the touch panel, There is a purpose.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 특징에 따른 터치 패널의 제조 방법은,According to an aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a touch panel,

터치 패널의 원도우 영역에 해당하고 일정거리의 간격마다 이격되어 형성된 복수개의 제1축 정전전극을 투명 도전층으로 형성하고, 각각의 제1축 정전전극과 일정거리 이격되어 교차되는 각각의 제2축 정전전극의 일측 끝단과 연결되는 터치 패널의 가장 자리 영역인 복수개의 금속 도선을 금속층으로 형성하는 단계;A plurality of first axial electrostatic electrodes formed corresponding to a window area of the touch panel and spaced apart at a predetermined distance from each other are formed as a transparent conductive layer and each of the first axial electrostatic electrodes spaced apart from the first axial electrostatic electrodes by a predetermined distance, Forming a plurality of metal conductive lines, which are edge regions of the touch panel, connected to one end of the electrostatic electrode as a metal layer;

터치 패널의 상부면에 투명한 재질의 투명 감광성 소재를 형성한 후 투명 감광성 소재로 형성된 층에서 각각의 제2축 정전전극의 일측 끝단과 각각의 금속 도선의 금속 전극 부분이 연결되는 위치인 절연층 개방 영역을 개방하는 단계; 및A transparent photosensitive material having a transparent material is formed on the upper surface of the touch panel, and then, in a layer formed of a transparent photosensitive material, an insulating layer opened at a position where one end of each second axial electrostatic electrode is connected to a metal electrode portion of each metal wire, Opening a region; And

터치 패널의 상부면에 전도성 투명전극을 형성하고 전도성 투명전극으로 이루어진 복수개의 제2축 정전전극을 형성하여 각각의 제2축 정전전극의 일측 끝단과 각각의 금속 도선의 금속 전극 부분과 전기적으로 연결하는 단계를 포함하며, 절연층 개방 영역은 각각의 금속 도선의 금속 전극 부분의 상면에 형성한다.A conductive transparent electrode is formed on the upper surface of the touch panel and a plurality of second axial electrostatic electrodes made of a conductive transparent electrode are formed and electrically connected to one end of each second axial electrostatic electrode and a metal electrode portion of each metal wire And an insulating layer open region is formed on the upper surface of the metal electrode portion of each metal lead.

본 발명의 특징에 따른 터치 패널의 제조 방법은,A method of manufacturing a touch panel according to an aspect of the present invention includes:

터치 패널의 원도우 영역에 해당하고 일정거리의 간격마다 이격되어 형성된 복수개의 제1축 정전전극을 투명 도전층으로 형성하고, 각각의 제1축 정전전극과 일정거리 이격되어 교차되는 각각의 제2축 정전전극의 일측 끝단과 연결되는 터치 패널의 가장 자리 영역인 복수개의 금속 도선을 금속층으로 형성하는 단계;A plurality of first axial electrostatic electrodes formed corresponding to a window area of the touch panel and spaced apart at a predetermined distance from each other are formed as a transparent conductive layer and each of the first axial electrostatic electrodes spaced apart from the first axial electrostatic electrodes by a predetermined distance, Forming a plurality of metal conductive lines, which are edge regions of the touch panel, connected to one end of the electrostatic electrode as a metal layer;

터치 패널의 상부면에 투명한 재질의 투명 감광성 소재를 형성한 후 투명 감광성 소재로 형성된 층에서 각각의 제2축 정전전극의 일측 끝단과 각각의 금속 도선의 금속 전극 부분이 연결되는 위치인 절연층 개방 영역을 개방하는 단계; 및A transparent photosensitive material having a transparent material is formed on the upper surface of the touch panel, and then, in a layer formed of a transparent photosensitive material, an insulating layer opened at a position where one end of each second axial electrostatic electrode is connected to a metal electrode portion of each metal wire, Opening a region; And

터치 패널의 상부면에 전도성 투명전극을 형성하고 전도성 투명전극으로 이루어진 복수개의 제2축 정전전극을 형성하여 각각의 제2축 정전전극의 일측 끝단과 각각의 금속 도선의 금속 전극 부분과 전기적으로 연결하는 단계를 포함하며, 절연층 개방 영역은 각각의 제1축 정전전극의 일측 끝단 부분의 상면에 형성한다.A conductive transparent electrode is formed on the upper surface of the touch panel and a plurality of second axial electrostatic electrodes made of a conductive transparent electrode are formed and electrically connected to one end of each second axial electrostatic electrode and a metal electrode portion of each metal wire And an insulating layer open region is formed on the upper surface of one end portion of each first axial electrostatic electrode.

본 발명의 특징에 따른 터치 패널은,In the touch panel according to the present invention,

유기 절연체 또는 무기 절연체로 이루어진 절연체층;An insulator layer made of an organic insulator or an inorganic insulator;

절연체층의 상부면에 형성되고 터치 패널의 원도우 영역에 해당하며 일정거리의 간격마다 이격되어 형성된 복수개의 제1축 정전전극을 형성하는 투명 도전층;A transparent conductive layer formed on an upper surface of the insulator layer and forming a plurality of first axis electrostatic electrodes spaced apart by a predetermined distance corresponding to a window area of the touch panel;

복수개의 제1축 정전전극의 일측 끝단과 연결되는 터치 패널의 가장 자리 영역인 복수개의 제1 금속 도선과, 각각의 제1축 정전전극과 일정거리 이격되어 교차되는 각각의 제2축 정전전극의 일측 끝단과 연결되는 터치 패널의 가장 자리 영역인 복수개의 제2 금속 도선을 형성하는 금속층;A plurality of first metal conductors which are edge regions of the touch panel connected to one end of the plurality of first axis electrostatic electrodes and a plurality of second metal conductors which are respectively connected to the first axis electrostatic electrodes and the second axis electrostatic electrodes A metal layer forming a plurality of second metal conductive lines which are edge regions of the touch panel connected to one end;

투명 도전층과 상기 금속층의 상부면에 형성되고, 각각의 제2축 정전전극의 일측 끝단과 각각의 제2 금속 도선의 금속 전극 부분이 연결되는 위치인 절연층 개방 영역이 개방된 투명한 재질의 투명 감광성 소재; 및A transparent conductive layer and a transparent transparent material which is formed on an upper surface of the metal layer and in which an insulating layer open region at which one end of each second axial electrostatic electrode is connected to a metal electrode portion of each second metal conductive wire, Photosensitive material; And

투명 감광성 소재의 상부면에 형성되고 각각의 제1축 정전전극과 일정거리 이격되어 직각 방향으로 교차되는 각각의 제2축 정전전극을 형성하는 전도성 투명전극을 포함하며, 절연층 개방 영역은 각각의 제2 금속 도선의 금속 전극 부분의 상면에 형성한다.And a conductive transparent electrode formed on an upper surface of the transparent photosensitive material and forming a second axial electrostatic electrode that is spaced apart from the first axial electrostatic electrode and intersecting in a perpendicular direction with respect to each of the first axial electrostatic electrodes, Is formed on the upper surface of the metal electrode portion of the second metal conductor.

본 발명의 특징에 따른 터치 패널은,In the touch panel according to the present invention,

유기 절연체 또는 무기 절연체로 이루어진 절연체층;An insulator layer made of an organic insulator or an inorganic insulator;

절연체층의 상부면에 형성되고 상기 터치 패널의 원도우 영역에 해당하며 일정거리의 간격마다 이격되어 형성된 복수개의 제1축 정전전극을 형성하는 투명 도전층;A transparent conductive layer formed on an upper surface of the insulator layer and forming a plurality of first axis electrostatic electrodes spaced apart by a predetermined distance corresponding to a window area of the touch panel;

복수개의 제1축 정전전극의 일측 끝단과 연결되는 터치 패널의 가장 자리 영역인 복수개의 제1 금속 도선과, 각각의 제1축 정전전극과 일정거리 이격되어 교차되는 각각의 제2축 정전전극의 일측 끝단과 연결되는 터치 패널의 가장 자리 영역인 복수개의 제2 금속 도선을 형성하는 금속층;A plurality of first metal conductors which are edge regions of the touch panel connected to one end of the plurality of first axis electrostatic electrodes and a plurality of second metal conductors which are respectively connected to the first axis electrostatic electrodes and the second axis electrostatic electrodes A metal layer forming a plurality of second metal conductive lines which are edge regions of the touch panel connected to one end;

투명 도전층과 상기 금속층의 상부면에 형성되고, 각각의 제2축 정전전극의 일측 끝단과 각각의 금속 도선의 금속 전극 부분이 연결되는 위치인 절연층 개방 영역이 개방된 투명한 재질의 투명 감광성 소재; 및Transparent transparent photosensitive material which is formed on the transparent conductive layer and the upper surface of the metal layer and which is opened at the position where the one end of each second axial electrostatic electrode is connected to the metal electrode portion of each metal wire, ; And

투명 감광성 소재의 상부면에 형성되고 각각의 제1축 정전전극과 일정거리 이격되어 직각 방향으로 교차되는 각각의 제2축 정전전극을 형성하는 전도성 투명전극을 포함하며, 상기 절연층 개방 영역은 상기 각각의 제1축 정전전극의 일측 끝단 부분의 상면에 형성한다.And a conductive transparent electrode formed on an upper surface of the transparent photosensitive material and forming respective second axial electrostatic electrodes spaced apart from the respective first axial electrostatic electrodes at right angles to each other, Is formed on the upper surface of one end portion of each first axis electrostatic electrode.

전술한 구성에 의하여, 본 발명은 1 레이어 터치 센서를 제조하여 두께를 줄일 수 있고 원자재 비용과 공정 비용을 낮출 수 있는 효과가 있다.According to the above-described structure, the present invention can reduce the thickness of the one-layer touch sensor and reduce the raw material cost and the process cost.

본 발명은 View Area 영역(터치 패널의 원도우 영역)에서의 브릿지(Bridge)와 점핑(Jumping)을 하지 않고, 원도우 영역의 바깥 영역인 금속 도선을 이용하여 윈도우 바깥에서의 점핑과 브릿지를 수행하여 높은 수신 감도와 시인성이 개선되는 효과가 있다.The present invention performs jumping and bridging outside a window using a metal lead, which is an area outside a window area, without performing a bridge and jumping in a view area (a window area of a touch panel) The receiving sensitivity and visibility are improved.

본 발명은 View Area 영역의 시인성이 개선될 뿐 아니라, 브릿지와 점핑 포인트를 한 곳만 형성하여 수신 감도를 높이는 효과가 있다.The present invention not only improves the visibility of the view area, but also enhances reception sensitivity by forming only one bridge and jumping point.

본 발명은 기존의 터치 패널의 제조 공정을 간소화하여 생산성을 향상시키는 효과가 있다.The present invention has the effect of improving the productivity by simplifying the manufacturing process of the existing touch panel.

본 발명은 시인성이 문제가 되는 원도우 영역(View Area)에서의 브릿지와 점핑을 하지 않고 원도우 바깥 영역에서 점핑되도록 설계하여 브릿지와 점핑 포인트를 한 곳만 형성할 수 있어 수신 감도를 높인다.The present invention is designed to jump in a window area without jumping in a window area where visibility is a problem, and to form a bridge and a jumping point at only one place, thereby enhancing reception sensitivity.

도 1은 종래의 정전용량 방식 터치 패널에서 X축 전극 패턴을 나타낸 도면이다.
도 2는 종래의 정전용량 방식 터치 패널에서 Y축 전극 패턴을 나타낸 도면이다.
도 3은 종래의 정전용량 방식 터치 패널에서 X축 전극 패턴과 Y축 전극 패턴을 합체한 상태를 나타낸 도면이다.
도 4는 종래의 정전용량 방식 터치 패널에서 X축 전극 패턴과 Y축 전극 패턴을 합체한 상태에서의 층 구조를 나타낸 도면이다.
도 5 내지 도 7은 본 발명의 실시예에 따른 원도우 바깥 점핑 브릿지 기술을 이용한 터치 패널의 제조 방법을 측면에서의 층 구조로 나타낸 도면이다.
도 8은 본 발명의 실시예에 따른 원도우 바깥 점핑 브릿지 기술을 이용한 터치 패널의 제조 방법을 평면에서 나타낸 도면이다.
도 9는 본 발명의 제1 실시예에 따른 절연층 개방 영역의 일례를 나타낸 도면이다.
도 10은 본 발명의 제2 실시예에 따른 절연층 개방 영역의 일례를 나타낸 도면이다.
도 11은 본 발명의 제3 실시예에 따른 절연층 개방 영역의 일례를 나타낸 도면이다.
도 12는 본 발명의 실시예에 따른 절연층 개방 영역의 개방 형태를 나타낸 도면이다.
도 13은 본 발명의 다른 실시예에 따른 절연층 개방 영역의 개방 형태를 나타낸 도면이다.1 is a view showing an X-axis electrode pattern in a conventional capacitive touch panel.
2 is a diagram illustrating a Y-axis electrode pattern in a conventional capacitive touch panel.
FIG. 3 is a view showing a state where an X-axis electrode pattern and a Y-axis electrode pattern are combined in a conventional capacitive touch panel.
4 is a view showing a layer structure in a state where an X-axis electrode pattern and a Y-axis electrode pattern are combined in a conventional capacitive touch panel.
5 to 7 are views illustrating a method of manufacturing a touch panel using a window outside jumping bridge technique according to an embodiment of the present invention in a layer structure.
8 is a plan view illustrating a method of manufacturing a touch panel using a window jumping bridge technique according to an embodiment of the present invention.
9 is a view showing an example of an insulating layer open region according to the first embodiment of the present invention.
10 is a view showing an example of the insulating layer open region according to the second embodiment of the present invention.
11 is a view showing an example of the insulating layer open region according to the third embodiment of the present invention.
12 is a view showing an open form of an insulating layer open region according to an embodiment of the present invention.
13 is a view showing an open form of an insulating layer open region according to another embodiment of the present invention.

아래에서는 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art can easily carry out the present invention. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein. In order to clearly illustrate the present invention, parts not related to the description are omitted, and similar parts are denoted by like reference characters throughout the specification.

명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.Throughout the specification, when an element is referred to as "comprising ", it means that it can include other elements as well, without excluding other elements unless specifically stated otherwise.

도 5 내지 도 7은 본 발명의 실시예에 따른 원도우 바깥 점핑 브릿지 기술을 이용한 터치 패널의 제조 방법을 측면에서의 층 구조로 나타낸 도면이고, 도 8은 본 발명의 실시예에 따른 원도우 바깥 점핑 브릿지 기술을 이용한 터치 패널의 제조 방법을 평면에서 나타낸 도면이다.FIGS. 5 to 7 are views showing a layer structure in a method of manufacturing a touch panel using a window outside jumping bridge technique according to an embodiment of the present invention. FIG. 8 is a cross- In a plan view of a manufacturing method of a touch panel using the technique.

도 5의 (a)와 도 8의 (a)에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 터치 패널의 제조 방법은 절연체층(110)의 상부면에 인덱스 매칭층(Index-Matching)(112)을 형성하고, 그 위에 투명 도전층(120)을 형성하며, 투명 도전층(120)의 상면에 금속층(130)을 형성한다. 여기서, 절연체층(110)은 투명한 재질의 유기 절연체 또는 무기 절연체로 형성되고, 유기 절연체는 폴리이미드 또는 폴리에틸렌 테레프탈레이트(Polyethylene Terephthalate, PET), 폴리에틸렌나프탈레이트(Polyethylenenaphthalate, PEN), 폴리카보네이트(Polycarbonate, PC), 아크릴의 플라스틱 소재를 포함하며 무기 절연체는 글라스(Glass) 소재, 광학 처리된 글라스 소재로 이루어진다.As shown in FIGS. 5A and 8A, a method of manufacturing a touch panel according to an embodiment of the present invention includes the steps of forming an index matching layer (Index Matching) on the upper surface of an insulator layer 110 A transparent conductive layer 120 is formed on the transparent conductive layer 120, and a metal layer 130 is formed on the transparent conductive layer 120. Here, the insulator layer 110 is formed of an organic insulator or an inorganic insulator of a transparent material, and the insulator of the organic insulator may be a polyimide, a polyethylene terephthalate (PET), a polyethylene naphthalate (PEN), a polycarbonate PC) and acrylic plastic material, and the inorganic insulator is made of glass material and optically processed glass material.

인덱스 매칭층(Index-Matching)(112)은 투명 도전층(120)과의 굴절율 차이가 있는 절연 소재를 이용하여 절연막층을 형성하고, ITO 패턴닝 후 ITO 유무가 확인되지 않도록 처리하는 코팅이다.The index matching layer 112 is a coating that forms an insulating film layer using an insulating material having a refractive index difference from the transparent conductive layer 120 and processes the ITO patterning so that the presence or absence of ITO is not confirmed.

즉, 인덱스 매칭층(112)은 투명 도전층(120) 상에 패턴을 형성한 후 투명 도전층(120)이 있고 없는 부분의 반사율 차이로 인해 시인 현상을 개선하는 역할을 한다.That is, the index matching layer 112 plays a role of improving the visibility phenomenon due to the difference in the reflectance of the portion where the transparent conductive layer 120 does not exist after the pattern is formed on the transparent conductive layer 120.

인덱스 매칭층(112)은 투명 도전층(120) 상에 패턴이 형성된 경우, 투명 도전층(120)의 회로가 보이는 시인성을 개선할 수 있는 굴절율을 가진 절연막층이다.The index matching layer 112 is an insulating film layer having a refractive index capable of improving the visibility of the circuit of the transparent conductive layer 120 when a pattern is formed on the transparent conductive layer 120.

인덱스 매칭층(112)은 정전 용량의 ITO 필름 제작시 ITO가 존재하는 부분과 존재하지 않는 부분이 눈에서 감지하지 못하도록 ITO(120)의 하부층에 광학 처리를 하는 것을 의미한다.The index matching layer 112 means that the lower layer of the ITO 120 is subjected to optical processing so that the portion where the ITO exists and the portion where the ITO does not exist are not sensed by the eye when the ITO film of the capacitance is manufactured.

인덱스 매칭층(112)은 건식 방식(증착)으로 SiO2,TiO2 Ceo2 등을 올리는 경우도 있고, 습식 방식으로 약품 처리를 하는 경우도 있다.The index matching layer 112 may be made of SiO 2 , TiO 2 CeO 2 or the like by a dry method (vapor deposition), or may be subjected to a chemical treatment by a wet method.

인덱스 매칭층(112)은 투명 도전층(120)의 높이를 보상할 수 있는 굴절율을 보유하고 있는 SiO2,TiO2 Ceo2, Nb2O5 등의 절연막층을 단독 또는 복수개의 층 구조로 형성한다.The index matching layer 112 may be formed of an insulating film layer such as SiO 2 , TiO 2 Ceo 2, or Nb 2 O 5 having a refractive index capable of compensating for the height of the transparent conductive layer 120, do.

투명 도전층(120)은 투명 전도성 산화물(Transparent Conducting Oxide, TCO)와 같은 투명한 재질의 전도성 물질로 형성되며, 구체적으로는 ITO 또는 IZO(Indium Zinc Oxide)를 포함하거나 ITO, IZO, SnO2, AZO로 이루어지는 투명 전도성 물질로 형성한다.The transparent conductive layer 120 is formed of a transparent conductive material such as transparent conductive oxide (TCO), and specifically includes ITO or IZO (Indium Zinc Oxide) or ITO, IZO, SnO 2 , AZO A transparent conductive material.

본 발명의 투명 도전층(ITO 필름 등)(120)은 하부면에 인덱스 매칭층(절연막층)(112)을 포함하고 있다.The transparent conductive layer (ITO film or the like) 120 of the present invention includes an index matching layer (insulating film layer) 112 on the lower surface.

금속층(130)은 APC, Cu, Cu alloy, Ag, Ag alloy, Ni+Cr, Ni+Ni alloy, Mo/Ag, Mo/Al/Mo, Ni+Cr/Cu/Ni+Cr, Ni alloy/Cu, Ni alloy/Cu/Ni alloy, Mo/APC, Cu/Ni+Cu+Ti, Ni+Cu+Ti/Cu/Ni+Cu+Ti, 카본 등 전도성 물질을 모두 포함하는 개념이고 인쇄, 증착, 페이스트 및 도포의 공지된 기술로 형성한다.The metal layer 130 may be formed of a metal such as APC, Cu, Cu alloy, Ag, Ag alloy, Ni + Cr, Ni + Ni alloy, Mo / Ag, Mo / Al / Mo, Ni + Cr / Cu / , And a conductive material such as Ni alloy / Cu / Ni alloy, Mo / APC, Cu / Ni + Cu + Ti, Ni + Cu + Ti / Cu / Ni + Cu + Ti, And a known technique of application.

예를 들면, 금속층(130)은 은 페이스트로 형성할 수 있고, 구리를 증착시킬 수도 있는 등 다양한 방법이 가능하다.For example, the metal layer 130 may be formed of a silver paste, or copper may be deposited.

금속층(130)은 다양한 금속을 사용할 수 있으며 제조의 용이성 및 전기 전도도를 고려하여 구리 또는 알루미늄으로 하는 것이 바람직하다.The metal layer 130 may be made of copper or aluminum in consideration of ease of manufacture and electrical conductivity.

금속층(130)을 형성하는 방법은 라미네이팅이나 기상 증착, 코팅과 같은 공지의 방법을 사용할 수 있다.The metal layer 130 may be formed by a known method such as laminating, vapor deposition, or coating.

다음으로, 도 5의 (b), (c), (d)에 도시된 바와 같이, 본 발명은 금속층(130)의 상부면에 제1 감광성 소재(140)를 형성하고, 패턴이 형성된 제1 아트워크 필름(142)을 이용하여 UV 조사하면, 제1 감광성 소재(140)에 패턴을 형성하며(노광), 약한 알칼리 용액을 이용하여 제1 감광성 소재(140)에 개방 패턴을 형성한다(현상).5 (b), 5 (c), and 5 (d), a first photosensitive material 140 is formed on the upper surface of the metal layer 130, A pattern is formed on the first photosensitive material 140 (exposure), and an open pattern is formed on the first photosensitive material 140 using a weak alkaline solution by applying the UV using the artwork film 142 ).

본 발명은 패턴이 형성된 제1 아트워크 필름(142)을 예시하고 있지만, 이에 한정하지 않고 패턴이 형성된 패턴 툴(Tool)이면 어떠한 것도 가능하며, 패턴 툴 없이 직접적으로 패턴을 구현하는 장비를 이용하여 노광 공정을 수행할 수도 있다.However, the present invention is not limited to this, and any pattern tool having a pattern may be used, and it is also possible to use any apparatus that directly implements a pattern without a pattern tool An exposure process may be performed.

또한, 제1 감광성 소재(140)를 형성하는 공정은 액상 포토 레지스트를 코팅하거나 드라이필름을 라미네이팅하여 형성한다. 이외에 액상 타입의 실리콘, 에폭시 소재를 사용하는 경우 코팅 공정을, SiO2, TiO2의 절연 물질을 사용하는 경우, 증착 공정을 사용할 수 있다.In addition, the process of forming the first photosensitive material 140 is formed by coating a liquid photoresist or laminating a dry film. In addition, when liquid type silicon or epoxy material is used, the coating process is used. When SiO 2 or TiO 2 insulating material is used, a deposition process can be used.

다음으로, 본 발명은 도 6의 (e), (f)와 도 8의 (b)에 도시된 바와 같이, 개방 패턴이 형성된 제1 감광성 소재(140)에 산성 약품을 이용하여 투명 도전층(120)과 금속층(130)을 선택 또는 동시에 에칭하고 강알칼리 약품을 이용하여 제1 감광성 소재(140)를 제거하여 정전전극 패턴(122)과 배선전극 패턴(132)을 형성한다(에칭 공정, 박리 공정). 여기서, 도 5의 (a) 내지 도 6의 (f)는 1차 포토리소그래피(Photolithography)의 공정에 의해 라미네이팅, 노광, 현상, 에칭, 박리 과정을 거친다.Next, as shown in FIGS. 6 (e), 6 (f) and 8 (b), the transparent conductive layer 120 and the metal layer 130 are selectively etched and the first photosensitive material 140 is removed using a strong alkali chemical to form the electrostatic electrode pattern 122 and the wiring electrode pattern 132 ). Here, Figs. 5A to 6F are subjected to laminating, exposure, development, etching, and peeling processes by a first photolithography process.

정전전극 패턴(122)은 터치 패널의 원도우 영역(화면이 표시되는 영역)에 해당하는 부분으로 일정거리의 간격마다 이격되어 형성된 복수개의 Y축 정전전극을 나타내는 Y축 바(Bar) 패턴을 나타내며, 사용자의 터치 패턴 영역을 나타낸다.The electrostatic electrode pattern 122 represents a Y-axis bar pattern representing a plurality of Y-axis electrostatic electrodes spaced apart from each other by a predetermined distance in a portion corresponding to a window region (screen display region) of the touch panel, Represents a touch pattern area of the user.

배선전극 패턴(132)은 터치 패널의 원도우 영역을 제외한 가장자리 영역의 금속 도선을 나타내는 회로로서, 각각의 정전전극의 일측 끝단으로부터 외측으로 연결되어 사용자의 터치 패턴을 감지 및 제어하는 리드선 전극과 리드선 전극의 일측 끝단과 연결되어 외부로 노출되고 연성회로기판(Flexible Printed Circuit Board, FPCB)과 결합되는 FPCB 본딩 영역의 금속 전극 부분을 포함한다.The wiring electrode pattern 132 is a circuit for indicating the metal conductor of the edge region of the touch panel except for the window region. The wiring electrode pattern 132 is connected to the outside of one end of each electrostatic electrode, And a metal electrode portion of the FPCB bonding region which is connected to one end of the flexible printed circuit board (FPCB) and is exposed to the outside and is coupled to a flexible printed circuit board (FPCB).

본 발명의 실시예의 배선전극 패턴(132)은 각각의 Y축 정전전극의 일측 끝단과 연결되는 제1 배선전극 패턴(132a)과, 각각의 Y축 정전전극과 일정거리 이격되어 직각 방향으로 교차하는 복수개의 X축 정전전극의 일측 끝단에 연결되는 제2 배선전극 패턴(132b)을 금속층(130)의 선택 에칭을 통해 형성된다.The wiring electrode pattern 132 of the embodiment of the present invention includes a first wiring electrode pattern 132a connected to one end of each Y-axis electrostatic electrode, and a first wiring electrode pattern 132a spaced apart from each Y- And a second wiring electrode pattern 132b connected to one end of the plurality of X axis electrostatic electrodes is formed through selective etching of the metal layer 130. [

다음으로, 도 6의 (g)와, 도 8의 (b)에 도시된 바와 같이, 본 발명은 2차 포토리소그래피의 공정에 의해 터치 패널의 원도우 영역인 정전전극 패턴(122)에 형성된 금속층(130)을 선택적으로 제거하고 투명 도전층(120)을 남긴다. 여기서, 2차 포토리소그래피의 공정은 전술한 1차 포토리소그래피의 공정과 동일한 공정인 라미네이팅, 노광, 현상, 에칭, 박리 과정을 거친다.Next, as shown in FIGS. 6G and 8B, the present invention forms a metal layer (not shown) formed on the electrostatic electrode pattern 122 that is a window region of the touch panel by the secondary photolithography process 130 are selectively removed and the transparent conductive layer 120 is left. Here, the secondary photolithography process is a laminating process, a light exposure process, a developing process, an etching process, and a peeling process, which are the same processes as the above-described primary photolithography process.

이하에서의 포토리소그래피의 공정은 라미네이팅, 노광, 현상, 에칭, 박리 과정을 거치므로 중복된 설명을 생략한다.Hereinafter, the photolithography process is performed through laminating, exposure, development, etching, and peeling processes, so that duplicated description is omitted.

다음으로, 도 6의 (h)와 도 8의 (c)에 도시된 바와 같이, 본 발명은 투명 도전층(120)으로 이루어진 정전전극 패턴(122)과 금속층(130)으로 이루어진 배선전극 패턴(132)을 형성한 후, 터치 패널의 상부면에 투명한 재질의 투명 감광성 소재(150)를 형성한다(라미네이팅, 코팅 또는 증착 공정). 좀 더 정확하게 설명하면, 투명 감광성 소재(150)의 형성은 FPCB가 결합되는 FPCB 본딩 영역의 금속 전극 부분을 제외한 나머지 영역의 터치 패널의 상부면에 형성한다.6 (h) and 8 (c), the present invention is a method for manufacturing a wiring electrode pattern made of an electrostatic electrode pattern 122 made of a transparent conductive layer 120 and a metal layer 130 132), and then a transparent photosensitive material 150 is formed on the upper surface of the touch panel (laminating, coating, or vapor deposition process). More precisely, formation of the transparent photosensitive material 150 is formed on the upper surface of the touch panel in the remaining region except for the metal electrode portion of the FPCB bonding region to which the FPCB is bonded.

여기서, 투명 감광성 소재(150)는 감광성이 있는 투명 절연 물질로서 투명 드라이 필름을 일례로 들 수 있다.Here, the transparent photosensitive material 150 is a photosensitive transparent insulating material, for example, a transparent dry film.

투명 감광성 소재(150)를 사용하는 경우, 투명 원도우 영역에 남길 수 있어 후공정에서 스크래치 등의 불량을 방지할 수 있다.When the transparent photosensitive material 150 is used, it can be left in the transparent window region, and defects such as scratches can be prevented in a subsequent process.

만약, 불투명한 일반 드라이 필름, 액상 포토레지스트 등을 사용하는 경우, FPCB 본딩 영역에 있는 감광성 소재를 남기고 원도우 영역 부분에 있는 감광성 소재를 포토리소그래피의 노광 및 현상 공정에 의해 제거하는 공정을 추가적으로 수행한다.If an opaque general dry film or a liquid photoresist is used, a step of removing the photosensitive material in the window area while leaving the photosensitive material in the FPCB bonding area by photolithography exposure and development is further performed .

다음으로, 도 7의 (i), (j)와 도 8의 (d)에 도시된 바와 같이, 본 발명은 투명 감광성 소재(150)의 상부면에 제2 아트워크 필름(152)을 형성하고 포토리소그래피의 노광 및 현상 공정에 의해 터치 패널의 투명 감광성 소재(150)로 이루어진 층에서 절연층 개방 영역(160)을 선택적으로 제거하여 개방한다.Next, as shown in FIGS. 7 (i), (j) and 8 (d), the present invention forms a second artwork film 152 on the upper surface of the transparent photosensitive material 150 The insulating layer opening region 160 is selectively removed from the layer made of the transparent photosensitive material 150 of the touch panel by the exposure and development process of photolithography.

여기서, 절연층 개방 영역(160)은 투명 감광성 소재(150)로 형성된 층에서 투광 감광성 소재(150)가 개방되는 위치로서 각각의 X축 정전전극(122)의 일측 끝단 부분과 제2 배선전극 패턴(132b)의 금속 전극 부분이 물리적으로 접촉하거나 전기적으로 접촉되는 영역을 나타낸다.Here, the insulating layer open region 160 is a position where the light-transmitting photosensitive material 150 is opened in the layer formed of the transparent photosensitive material 150, as one end portion of each X-axis electrostatic electrode 122, And a region where the metal electrode portion of the first electrode 132b is physically contacted or electrically contacted.

더욱 상세하게 설명하면, 본 발명은 절연층 개방 영역(160)을 개방하는 패턴이 형성된 제2 아트워크 필름(152)을 이용하여 UV 조사하면, 투명 감광성 소재(150)에 패턴을 형성하고(노광), 약한 알칼리 용액을 이용하여 투명 감광성 소재(150)에 절연층 개방 영역(160)을 개방하는 패턴을 형성한다(현상).More specifically, the present invention forms a pattern on the transparent photosensitive material 150 by exposing it to UV using a second artwork film 152 having a pattern for opening the insulating layer open region 160 ), A pattern is formed (a development) in which the insulating layer opening region 160 is opened in the transparent photosensitive material 150 using a weak alkaline solution.

여기서, 투명 감광성 소재(150)에 절연층 개방 영역(160)을 개방하는 패턴은 도 7의 (j)와 도 8의 (d)와 같이, 터치 패널의 상부면에 형성된 투명 감광성 소재(150)로 이루어진 층에서 절연층 개방 영역(160)이 개방된 패턴을 의미한다.7 (j) and 8 (d), the pattern for opening the insulating layer opening region 160 on the transparent photosensitive material 150 includes a transparent photosensitive material 150 formed on the upper surface of the touch panel, In which the insulating layer opening region 160 is opened.

본 발명은 패턴이 형성된 제2 아트워크 필름(152)을 예시하고 있지만, 이에 한정하지 않고 절연층 개방 영역(160)을 개방하는 패턴이 형성된 패턴 툴(Tool)이면 어떠한 것도 가능하며, 패턴 툴 없이 직접적으로 패턴을 구현하는 장비를 이용하여 노광 공정을 수행할 수도 있다.However, the present invention is not limited to this, and any pattern tool having a pattern for opening the insulating layer open area 160 may be used. The exposure process may be performed using equipment that directly implements the pattern.

다음으로, 도 7의 (k)에 도시된 바와 같이, 본 발명은 터치 패널의 상부면에 전도성 투명전극(170)을 형성한다. 여기서, 전도성 투명전극(170)은 투명 전도성 산화물(Transparent Conducting Oxide, TCO)와 같은 투명한 재질의 전도성 물질로 형성되며, 구체적으로 ITO(Indium Tin Oxide), ZnO(Zinc Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), 탄소나노튜브(Carbon Nano Tube, CNT), 그라핀(Graphene), 유기계 화합물인 전도성 고분자, 나노와이어(Silver Nanowires, AGNW), 전도성 고분자에 카본 나노튜브를 혼합한 물질 등을 포함한다.Next, as shown in FIG. 7 (k), the present invention forms a conductive transparent electrode 170 on the upper surface of the touch panel. Here, the conductive transparent electrode 170 is formed of a transparent conductive material such as transparent conductive oxide (TCO), and specifically, ITO (Indium Tin Oxide), ZnO (Zinc Oxide), IZO (Indium Zinc Oxide ), Carbon nanotubes (CNT), graphene, conductive polymers such as organic compounds, nanowires (Silver Nanowires, AGNW), and materials obtained by mixing carbon nanotubes with conductive polymers.

다음으로, 도 7의(l)와 도 8의 (e)에 도시된 바와 같이, 본 발명은 3차 포토리소그래피(Photolithography)의 공정에 의해 전도성 투명전극(170)으로 이루어진 투명전극 패턴(복수의 X축 정전전극을 나타내는 X축 바 패턴)을 형성한다.Next, as shown in FIGS. 7L and 8E, the present invention is a method of forming a transparent electrode pattern (a plurality of transparent electrodes) 170 made of a conductive transparent electrode 170 by a third photolithography process An X-axis bar pattern representing an X-axis electrostatic electrode) is formed.

다시 상세하게 설명하면, 본 발명은 제3 감광성 소재(미도시)를 이용하여 X축 바 패턴에 해당하지 않는 부분의 전도성 투명전극(170)을 제거하면(전도성 투명전극 에칭 공정), 절연층 개방 영역(160)의 금속층(130)의 일부 전극과 X축 바 패턴인 복수의 X축 정전전극을 전기적으로 연결한다.In more detail, the present invention uses a third photosensitive material (not shown) to remove a portion of the conductive transparent electrode 170 that does not correspond to the X-axis bar pattern (a conductive transparent electrode etching process) A plurality of X-axis electrostatic electrodes, which are X-axis bar patterns, are electrically connected to some electrodes of the metal layer 130 of the region 160. [

즉, 3차 포토리소그래피의 공정은 드라이필름 라미네이팅, 3차 노광, 3차 현상, 전도성 투명전극 에칭, 박리 공정을 수행한다.That is, in the third photolithography process, dry film laminating, tertiary exposure, tertiary development, conductive transparent electrode etching, and peeling process are performed.

본 발명은 복수의 X축 정전전극과 Y축 정전전극을 바(Bar) 패턴으로 형성하고 있으나 이에 한정하지 않고 사각, 원형, 다이아몬드, 다각형 및 무작위 패턴 등 다양하게 적용할 수 있다.Although a plurality of X-axis electrostatic electrodes and Y-axis electrostatic electrodes are formed in a bar pattern, the present invention is applicable to various shapes such as square, circular, diamond, polygonal, and random patterns.

이와 같은 터치 패널의 제조 방법을 통하여 본 발명은 1 레이어 터치 센서를 제조하여 두께를 줄일 수 있고 원자재 비용과 공정 비용을 낮출 수 있는 효과가 있다.Through the manufacturing method of the touch panel, the present invention can reduce the thickness of the one-layer touch sensor and reduce the raw material cost and the process cost.

본 발명은 View Area 영역(터치 패널의 원도우 영역)에서의 브릿지(Bridge)와 점핑(Jumping)을 하지 않고, 원도우 영역의 바깥 영역인 금속 도선을 이용하여 윈도우 바깥에서의 점핑과 브릿지를 수행하여 높은 수신 감도와 시인성이 개선되는 효과가 있다.The present invention performs jumping and bridging outside a window using a metal lead, which is an area outside a window area, without performing a bridge and jumping in a view area (a window area of a touch panel) The receiving sensitivity and visibility are improved.

본 발명은 View Area 영역의 시인성이 개선될 뿐 아니라, 브릿지와 점핑 포인트를 한 곳만 형성하여 수신 감도를 높이는 효과가 있다.The present invention not only improves the visibility of the view area, but also enhances reception sensitivity by forming only one bridge and jumping point.

도 9는 본 발명의 제1 실시예에 따른 절연층 개방 영역의 일례를 나타낸 도면이다.9 is a view showing an example of an insulating layer open region according to the first embodiment of the present invention.

도 9의 (a)는 절연층 개방 영역(160)을 터치 패널의 위에서 본 평면도를 나타내고, 도 9의 (b)는 절연층 개방 영역(160)을 터치 패널의 측면에서의 층 구조를 나타낸다.9A is a plan view of the insulating layer open region 160 viewed from the top of the touch panel and FIG. 9B is a view showing the layer structure of the insulating layer open region 160 on the side of the touch panel.

절연층 개방 영역(160)는 투명 감광성 소재(150)로 형성된 층에서 각각의 X축 정전전극(122)의 일측 끝단 부분과 제2 배선전극 패턴(132b)의 금속 전극 부분이 접촉되는 영역을 직사각형의 형태로 개방된 복수개의 패턴을 의미한다.The insulating layer open region 160 is a region in which one end portion of each X-axis electrostatic electrode 122 and the metal electrode portion of the second wiring electrode pattern 132b are in contact with each other in the layer formed of the transparent photosensitive material 150, ≪ / RTI >

도 9의 (a) 및 (b)에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제1 실시예의 절연층 개방 영역(160)은 투명 감광성 소재(150)를 형성한 후, 포토리소그래피의 노광 및 현상 공정에 의해 투명 감광성 소재(150)로 형성된 층에서 투명 감광성 소재(150)를 개방하는 위치가 투명 도전층(120)과 금속층(130)의 상이한 금속에 걸쳐져 있다.9A and 9B, the insulating layer opening region 160 of the first embodiment of the present invention is formed by forming a transparent photosensitive material 150 and then performing a photolithographic exposure and development process The position where the transparent photosensitive material 150 is opened in the layer formed of the transparent photosensitive material 150 is spread over the different metals of the transparent conductive layer 120 and the metal layer 130. [

본 발명의 제1 실시예의 절연층 개방 영역(160)은 투명 감광성 소재(150)가 개방된 위치에 투명 도전층(120)과 그 위에 적층된 금속층(130)이 존재하기 때문에 터치 패널의 상부면에 전도성 투명전극(170)이 형성되는 경우, 전도성 투명전극(170)과 금속층(130)이 전기적 또는 물리적으로 연결된다.Since the transparent conductive layer 120 and the metal layer 130 stacked thereon exist at a position where the transparent photosensitive material 150 is opened, the insulating layer open region 160 of the first embodiment of the present invention is formed in the upper surface The conductive transparent electrode 170 and the metal layer 130 are electrically or physically connected to each other.

본 발명의 제1 실시예는 터치 패널의 상부면에 투명 감광성 소재(150)을 형성한 후, 투명 감광성 소재(150)의 개방시 2개 이상의 금속층을 포함하여 개방할 경우, 상이한 금속별 밀착력 차이에 의한 현상성 차이가 발생하여 공정 조건이 어려울 수 있다.When the transparent photosensitive material 150 is formed on the upper surface of the touch panel and then the transparent photosensitive material 150 is opened including two or more metal layers when the transparent photosensitive material 150 is opened, So that process conditions may be difficult.

이러한 문제점을 해결하기 위하여 이하의 도 10 및 도 11을 참조하여 투명 감광성 소재(150)로 형성된 층에서 투명 감광성 소재(150)가 개방되는 위치를 투명 도전층(120) 또는 금속층(130)의 상면에 형성한다.10 and 11, the position where the transparent photosensitive material 150 is opened in the layer formed of the transparent photosensitive material 150 is referred to as the transparent conductive layer 120 or the top surface of the metal layer 130 .

즉, 본 발명은 투명 감광성 소재(150)와 밀착력이 높은 단일 금속의 상면에 형성된 투명 감광성 소재(150)를 선택적으로 개방한다.That is, the present invention selectively opens the transparent photosensitive material 150 formed on the upper surface of the single metal having high adhesion with the transparent photosensitive material 150.

도 10은 본 발명의 제2 실시예에 따른 절연층 개방 영역의 일례를 나타낸 도면이고, 도 11은 본 발명의 제3 실시예에 따른 절연층 개방 영역의 일례를 나타낸 도면이다.FIG. 10 is a view showing an example of an insulating layer open region according to a second embodiment of the present invention, and FIG. 11 is a view showing an example of an insulating layer open region according to the third embodiment of the present invention.

도 10의 (a) 및 (b)에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제1 실시예의 절연층 개방 영역(160)은 투명 감광성 소재(150)를 형성한 후, 포토리소그래피의 노광 및 현상 공정에 의해 투명 감광성 소재(150)로 형성된 층에서 투명 감광성 소재(150)를 개방하는 위치가 제2 배선전극 패턴(132b)의 일측 끝단 부분의 금속 전극의 상면에 형성된다.10 (a) and 10 (b), the insulating layer opening region 160 of the first embodiment of the present invention is formed by forming a transparent photosensitive material 150 and then performing a photolithographic exposure and development process A position for opening the transparent photosensitive material 150 in the layer formed of the transparent photosensitive material 150 is formed on the upper surface of the metal electrode at one end of the second wiring electrode pattern 132b.

도 11의 (a) 및 (b)에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제1 실시예의 절연층 개방 영역(160)은 투명 감광성 소재(150)를 형성한 후, 포토리소그래피의 노광 및 현상 공정에 의해 투명 감광성 소재(150)로 형성된 층에서 투명 감광성 소재(150)를 개방하는 위치가 각각의 X축 정전전극(122)의 일측 끝단 부분의 상면에 형성된다.11A and 11B, the insulating layer opening region 160 of the first embodiment of the present invention is formed by forming a transparent photosensitive material 150 and then performing a photolithographic exposure and development process A position where the transparent photosensitive material 150 is opened in the layer formed of the transparent photosensitive material 150 is formed on the upper surface of one end portion of each X-axis electrostatic electrode 122.

도 10 및 도 11에 도시된 바와 같이, 전도성 투명전극(170)의 증착시 투명 감광성 소재(150)의 개방 구간이 단일 금속 위에만 존재하기 때문에 금속별 밀착력 차이가 발생하지 않아 높은 해상도로 현상 구현이 가능하다.10 and 11, since the open interval of the transparent photosensitive material 150 exists only on a single metal during the deposition of the conductive transparent electrode 170, there is no difference in adhesion between metals, This is possible.

도 12는 본 발명의 실시예에 따른 절연층 개방 영역의 개방 형태를 나타낸 도면이다.12 is a view showing an open form of an insulating layer open region according to an embodiment of the present invention.

도 12에 도시된 바와 같이, 절연층 개방 영역(160)의 개방 형태는 직사각형 형태 이외에 개방폭이 넓어졌다 좁아지는 형태가 주기적으로 반복되는 구조, 복수개의 구멍이 뚫려 있는 형태, 오목과 볼록 형태가 주기적으로 반복되는 구조, 원 형태, 다각형 형태 중 하나 또는 이들의 조합된 형태로 절연층 개방 영역(160)의 접촉 면적을 최대화 할 수 있는 형태로 구현한다.12, the opening shape of the insulating layer opening region 160 may include a structure in which the opening width is widened in addition to the rectangular shape, a structure in which the shape narrowing periodically repeats, a structure in which a plurality of holes are drilled, The contact area of the insulating layer open region 160 can be maximized in a periodically repeated structure, a circular shape, a polygonal shape, or a combination thereof.

이러한 절연층 개방 영역(160)의 개방 형태는 전술한 제1 실시예와, 제2 실시예와, 제3 실시예에 적용할 수 있다.The opening form of the insulating layer opening region 160 is applicable to the first, second, and third embodiments described above.

도 13은 본 발명의 다른 실시예에 따른 절연층 개방 영역의 개방 형태를 나타낸 도면이다.13 is a view showing an open form of an insulating layer open region according to another embodiment of the present invention.

전술한 도 13의 (a)에 도시된 바와 같이, 전도성 투명전극(170)의 증착시 투명 감광성 소재(150)의 단차에 의해 전도성 투명전극(170)의 접촉 신뢰성이 감소될 수 있다.The contact reliability of the conductive transparent electrode 170 can be reduced by the step of the transparent photosensitive material 150 during the deposition of the conductive transparent electrode 170, as shown in Fig. 13 (a).

이러한 문제점을 해결하기 위하여 절연층 개방 영역(160)은 투명 감광성 소재(150)의 개방시 개방된 투명 감광성 소재(150)의 내측 테두리를 따라 상부에서 하부로 갈수록 좁아지도록 경사진 테이퍼(Taper) 형태로 구현하여 접촉 신뢰성을 향상할 수 있다.In order to solve such a problem, the insulating layer opening region 160 is tapered so as to be narrowed from the top to the bottom along the inner edge of the transparent photosensitive material 150 opened when the transparent photosensitive material 150 is opened So that contact reliability can be improved.

도 13의 (a)는 절연층 개방 영역(160)의 단면이 직각으로 구현될 경우, 전도성 투명전극(170)의 증착시 내측 측면이 얇게 증착되어 접촉 신뢰성이 떨어질 가능성이 있다.13 (a), when the cross section of the insulating layer open region 160 is implemented at a right angle, there is a possibility that the inner side of the conductive transparent electrode 170 is deposited thinly to lower contact reliability.

도 13의 (b)는 절연층 개방 영역(160)의 단면이 경사진 테이퍼 형태로 구현될 경우, 전도성 투명전극(170)의 증착시 내측 측면이 두껍게 증착되어 접촉 신뢰성이 높아진다.13 (b) shows that when the end face of the insulating layer open region 160 is formed in a tapered shape, the inner side of the conductive transparent electrode 170 is deposited thickly, thereby increasing the contact reliability.

이러한 테이퍼 형태의 절연층 개방 영역(160)은 전술한 도 10, 도 11, 도 12에 모두 적용될 수 있다.Such a tapered insulating layer opening region 160 can be applied to both of FIGS. 10, 11, and 12 described above.

또한, 절연층 개방 영역(160)은 투명 감광성 소재(150)의 개방시 도 12와 같이 투명 감광성 소재(150)의 개방 형상을 다양한 디자인을 통하여 접촉 면적을 최대한으로 넓혀서 접촉 신뢰성을 향상시킬 수 있다.12, when the transparent photosensitive material 150 is opened, the opening area of the transparent photosensitive material 150 may be enlarged to maximize the contact area through various designs, thereby improving contact reliability .

이상에서 설명한 본 발명의 실시예는 장치 및/또는 방법을 통해서만 구현이 되는 것은 아니며, 본 발명의 실시예의 구성에 대응하는 기능을 실현하기 위한 프로그램, 그 프로그램이 기록된 기록 매체 등을 통해 구현될 수도 있으며, 이러한 구현은 앞서 설명한 실시예의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술분야의 전문가라면 쉽게 구현할 수 있는 것이다.The embodiments of the present invention described above are not implemented only by the apparatus and / or method, but may be implemented through a program for realizing functions corresponding to the configuration of the embodiment of the present invention, a recording medium on which the program is recorded And such an embodiment can be easily implemented by those skilled in the art from the description of the embodiments described above.

이상에서 본 발명의 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, It belongs to the scope of right.

110: 절연체층
112: 인덱스 매칭층
120: 투명 도전층
122: 정전전극 패턴
130: 금속층
132: 배선전극 패턴
132a: 제1 배선전극 패턴
132b: 제2 배선전극 패턴
140: 제1 감광성 소재
142: 제1 아트워크 필름
150: 투명 감광성 소재
152: 제2 아트워크 필름
160: 절연층 개방 영역
170: 전도성 투명전극110: insulator layer
112: index matching layer
120: transparent conductive layer
122: electrostatic electrode pattern
130: metal layer
132: wiring electrode pattern
132a: first wiring electrode pattern
132b: second wiring electrode pattern
140: 1st photosensitive material
142: 1st artwork film
150: transparent photosensitive material
152: 2nd artwork film
160: insulating layer open area
170: Conductive transparent electrode

Claims (9)

터치 패널의 제조 방법에 있어서,
상기 터치 패널의 원도우 영역에 해당하고 일정거리의 간격마다 이격되어 형성된 복수개의 제1축 정전전극을 투명 도전층으로 형성하고, 상기 각각의 제1축 정전전극과 일정거리 이격되어 교차되는 각각의 제2축 정전전극의 일측 끝단과 연결되는 상기 터치 패널의 가장 자리 영역인 복수개의 금속 도선을 금속층으로 형성하는 단계;
상기 터치 패널의 상부면에 투명한 재질의 투명 감광성 소재를 형성한 후 상기 투명 감광성 소재로 형성된 층에서 상기 각각의 제2축 정전전극의 일측 끝단과 상기 각각의 금속 도선의 금속 전극 부분이 연결되는 위치인 절연층 개방 영역을 개방하는 단계; 및
상기 터치 패널의 상부면에 전도성 투명전극을 형성하고 상기 전도성 투명전극으로 이루어진 상기 복수개의 제2축 정전전극을 형성하여 상기 각각의 제2축 정전전극의 일측 끝단과 상기 각각의 금속 도선의 금속 전극 부분과 전기적으로 연결하는 단계를 포함하며, 상기 절연층 개방 영역은 상기 각각의 금속 도선의 금속 전극 부분의 상면에 형성하는 터치 패널의 제조 방법.A manufacturing method of a touch panel,
A plurality of first axis electrostatic electrodes formed corresponding to a window area of the touch panel and spaced apart at intervals of a predetermined distance are formed as a transparent conductive layer and each of the first axis electrodes, Forming a plurality of metal wires, which are edge regions of the touch panel, connected to one end of the biaxial electrostatic electrode as a metal layer;
A transparent photosensitive material having a transparent material is formed on the upper surface of the touch panel, and a transparent conductive material is formed on the transparent conductive material, Opening an insulating layer open region that is a first side of the insulating layer; And
A conductive transparent electrode is formed on an upper surface of the touch panel and the plurality of second axial electrostatic electrodes formed of the conductive transparent electrode are formed so that one end of each of the second axial electrostatic electrodes and the metal electrode And the insulating layer open region is formed on the upper surface of the metal electrode portion of each of the metal wires. 터치 패널의 제조 방법에 있어서,
상기 터치 패널의 원도우 영역에 해당하고 일정거리의 간격마다 이격되어 형성된 복수개의 제1축 정전전극을 투명 도전층으로 형성하고, 상기 각각의 제1축 정전전극과 일정거리 이격되어 교차되는 각각의 제2축 정전전극의 일측 끝단과 연결되는 상기 터치 패널의 가장 자리 영역인 복수개의 금속 도선을 금속층으로 형성하는 단계;
상기 터치 패널의 상부면에 투명한 재질의 투명 감광성 소재를 형성한 후 상기 투명 감광성 소재로 형성된 층에서 상기 각각의 제2축 정전전극의 일측 끝단과 상기 각각의 금속 도선의 금속 전극 부분이 연결되는 위치인 절연층 개방 영역을 개방하는 단계; 및
상기 터치 패널의 상부면에 전도성 투명전극을 형성하고 상기 전도성 투명전극으로 이루어진 상기 복수개의 제2축 정전전극을 형성하여 상기 각각의 제2축 정전전극의 일측 끝단과 상기 각각의 금속 도선의 금속 전극 부분과 전기적으로 연결하는 단계를 포함하며, 상기 절연층 개방 영역은 상기 각각의 제1축 정전전극의 일측 끝단 부분의 상면에 형성하는 터치 패널의 제조 방법.A manufacturing method of a touch panel,
A plurality of first axis electrostatic electrodes formed corresponding to a window area of the touch panel and spaced apart at intervals of a predetermined distance are formed as a transparent conductive layer and each of the first axis electrodes, Forming a plurality of metal wires, which are edge regions of the touch panel, connected to one end of the biaxial electrostatic electrode as a metal layer;
A transparent photosensitive material having a transparent material is formed on the upper surface of the touch panel, and a transparent conductive material is formed on the transparent conductive material, Opening an insulating layer open region that is a first side of the insulating layer; And
A conductive transparent electrode is formed on an upper surface of the touch panel and the plurality of second axial electrostatic electrodes formed of the conductive transparent electrode are formed so that one end of each of the second axial electrostatic electrodes and the metal electrode And the insulating layer open region is formed on an upper surface of one end portion of each of the first axial electrostatic electrodes. 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 절연층 개방 영역의 개방 형태는 구멍이 뚫려 있는 형태, 오목과 볼록 형태가 주기적으로 반복되는 구조, 개방폭이 좁아졌다 넓어지는 형태가 주기적으로 반복되는 구조, 직사각형 형태, 원 형태, 다각형 형태 중 하나 또는 이들의 조합된 형태로 개방 영역의 접촉 면적을 최대화하는 형태를 가지는 터치 패널의 제조 방법.3. The method according to claim 1 or 2,
The open form of the insulating layer open region may include a pattern having a hole, a structure in which concave and convex patterns are periodically repeated, a structure in which a pattern having a wide opening width is periodically repeated, a rectangular pattern, a circular pattern, and a polygonal pattern Wherein the contact area of the open area is maximized in one or a combination thereof. 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 절연층 개방 영역을 개방하는 단계는,
상기 투명 감광성 소재의 개방시 개방된 투명 감광성 소재의 내측 테두리를 따라 상부에서 하부로 갈수록 좁아지도록 테이퍼(Taper) 형태로 개방하는 단계
를 더 포함하는 터치 패널의 제조 방법.3. The method according to claim 1 or 2,
Opening the insulating layer open region comprises:
Opening in the form of a taper so as to become narrower from the top to the bottom along the inner edge of the transparent photosensitive material opened when the transparent photosensitive material is opened;
The method comprising the steps of: 터치 패널에 있어서,
유기 절연체 또는 무기 절연체로 이루어진 절연체층;
상기 절연체층의 상부면에 형성되고 상기 터치 패널의 원도우 영역에 해당하며 일정거리의 간격마다 이격되어 형성된 복수개의 제1축 정전전극을 형성하는 투명 도전층;
상기 복수개의 제1축 정전전극의 일측 끝단과 연결되는 상기 터치 패널의 가장 자리 영역인 복수개의 제1 금속 도선과, 상기 각각의 제1축 정전전극과 일정거리 이격되어 교차되는 각각의 제2축 정전전극의 일측 끝단과 연결되는 상기 터치 패널의 가장 자리 영역인 복수개의 제2 금속 도선을 형성하는 금속층;
상기 투명 도전층과 상기 금속층의 상부면에 형성되고, 상기 각각의 제2축 정전전극의 일측 끝단과 상기 각각의 제2 금속 도선의 금속 전극 부분이 연결되는 위치인 절연층 개방 영역이 개방된 투명한 재질의 투명 감광성 소재; 및
상기 투명 감광성 소재의 상부면에 형성되고 상기 각각의 제1축 정전전극과 일정거리 이격되어 직각 방향으로 교차되는 상기 각각의 제2축 정전전극을 형성하는 전도성 투명전극을 포함하며, 상기 절연층 개방 영역은 상기 각각의 제2 금속 도선의 금속 전극 부분의 상면에 형성하는 터치 패널.In the touch panel,
An insulator layer made of an organic insulator or an inorganic insulator;
A transparent conductive layer formed on an upper surface of the insulator layer and forming a plurality of first axis electrostatic electrodes spaced apart by a predetermined distance corresponding to a window area of the touch panel;
A plurality of first metal conductive lines which are edge regions of the touch panel connected to one ends of the plurality of first axial electrostatic electrodes and a plurality of second metal conductive lines extending from the respective first axial conductive electrodes, A metal layer forming a plurality of second metal conductive lines which are edge regions of the touch panel connected to one end of the electrostatic electrode;
A transparent conductive layer and an insulating layer open region formed on an upper surface of the metal layer, the insulating layer opening region being a position where one end of each of the second axial electrostatic electrodes and a metal electrode portion of each of the second metal conductive wires are connected, Transparent transparent material of material; And
And a conductive transparent electrode formed on an upper surface of the transparent photosensitive material and forming the respective second axial electrostatic electrodes spaced apart from the respective first axial electrostatic electrodes at right angles to each other, Region is formed on the upper surface of the metal electrode portion of each second metal wire. 터치 패널에 있어서,
유기 절연체 또는 무기 절연체로 이루어진 절연체층;
상기 절연체층의 상부면에 형성되고 상기 터치 패널의 원도우 영역에 해당하며 일정거리의 간격마다 이격되어 형성된 복수개의 제1축 정전전극을 형성하는 투명 도전층;
상기 복수개의 제1축 정전전극의 일측 끝단과 연결되는 상기 터치 패널의 가장 자리 영역인 복수개의 제1 금속 도선과, 상기 각각의 제1축 정전전극과 일정거리 이격되어 교차되는 각각의 제2축 정전전극의 일측 끝단과 연결되는 상기 터치 패널의 가장 자리 영역인 복수개의 제2 금속 도선을 형성하는 금속층;
상기 투명 도전층과 상기 금속층의 상부면에 형성되고, 상기 각각의 제2축 정전전극의 일측 끝단과 상기 각각의 금속 도선의 금속 전극 부분이 연결되는 위치인 절연층 개방 영역이 개방된 투명한 재질의 투명 감광성 소재; 및
상기 투명 감광성 소재의 상부면에 형성되고 상기 각각의 제1축 정전전극과 일정거리 이격되어 직각 방향으로 교차되는 상기 각각의 제2축 정전전극을 형성하는 전도성 투명전극을 포함하며, 상기 절연층 개방 영역은 상기 각각의 제1축 정전전극의 일측 끝단 부분의 상면에 형성하는 터치 패널.In the touch panel,
An insulator layer made of an organic insulator or an inorganic insulator;
A transparent conductive layer formed on an upper surface of the insulator layer and forming a plurality of first axis electrostatic electrodes spaced apart by a predetermined distance corresponding to a window area of the touch panel;
A plurality of first metal conductive lines which are edge regions of the touch panel connected to one ends of the plurality of first axial electrostatic electrodes and a plurality of second metal conductive lines extending from the respective first axial conductive electrodes, A metal layer forming a plurality of second metal conductive lines which are edge regions of the touch panel connected to one end of the electrostatic electrode;
A transparent conductive layer and a transparent material formed on an upper surface of the metal layer and having an insulating layer open region at a position where one end of each of the second axial electrostatic electrodes is connected to a metal electrode portion of each of the metal wires, Transparent photosensitive material; And
And a conductive transparent electrode formed on an upper surface of the transparent photosensitive material and forming the respective second axial electrostatic electrodes spaced apart from the respective first axial electrostatic electrodes at right angles to each other, Region is formed on an upper surface of one end portion of each of the first axial electrostatic electrodes. 제5항에 있어서,
상기 절연층 개방 영역은 상기 각각의 제2 금속 도선의 일측 끝단 부분의 상면에 형성하는 터치 패널.6. The method of claim 5,
And the insulating layer open region is formed on an upper surface of one end portion of each second metal wire. 제5항 또는 제6항에 있어서,
상기 절연층 개방 영역의 개방 형태는 구멍이 뚫려 있는 형태, 오목과 볼록 형태가 주기적으로 반복되는 구조, 개방폭이 좁아졌다 넓어지는 형태가 주기적으로 반복되는 구조, 직사각형 형태, 원 형태, 다각형 형태 중 하나 또는 이들의 조합된 형태로 개방 영역의 접촉 면적을 최대화하는 형태를 가지는 터치 패널.The method according to claim 5 or 6,
The open form of the insulating layer open region may include a pattern having a hole, a structure in which concave and convex patterns are periodically repeated, a structure in which a pattern having a wide opening width is periodically repeated, a rectangular pattern, a circular pattern, and a polygonal pattern The touch panel having a shape that maximizes the contact area of the open area in one or a combination thereof. 제5항 또는 제6항에 있어서,
상기 절연층 개방 영역은 상기 투명 감광성 소재의 개방시 개방된 투명 감광성 소재의 내측 테두리를 따라 상부에서 하부로 갈수록 좁아지도록 테이퍼(Taper) 형태인 터치 패널.The method according to claim 5 or 6,
Wherein the insulating layer opening region is tapered so as to become narrower from the top to the bottom along the inner edge of the transparent photosensitive material opened when the transparent photosensitive material is opened.
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