KR101191949B1 - Method of preparing capacitance type touch panel and capacitance type touch panel prepared by the same - Google Patents

Method of preparing capacitance type touch panel and capacitance type touch panel prepared by the same Download PDF

Info

Publication number
KR101191949B1
KR101191949B1 KR1020110059657A KR20110059657A KR101191949B1 KR 101191949 B1 KR101191949 B1 KR 101191949B1 KR 1020110059657 A KR1020110059657 A KR 1020110059657A KR 20110059657 A KR20110059657 A KR 20110059657A KR 101191949 B1 KR101191949 B1 KR 101191949B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
touch panel
axis
axis electrostatic
pattern
connection portion
Prior art date
Application number
KR1020110059657A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
박준영
정주현
정해용
배상모
Original Assignee
박준영
(주)티메이
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 박준영, (주)티메이 filed Critical 박준영
Priority to KR1020110059657A priority Critical patent/KR101191949B1/en
Priority to CN201280030563.4A priority patent/CN103718142A/en
Priority to PCT/KR2012/004840 priority patent/WO2012177032A2/en
Priority to JP2014515772A priority patent/JP2014520326A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101191949B1 publication Critical patent/KR101191949B1/en

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • G06F3/0446—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means using a grid-like structure of electrodes in at least two directions, e.g. using row and column electrodes
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • G06F3/0443—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means using a single layer of sensing electrodes
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F2203/00—Indexing scheme relating to G06F3/00 - G06F3/048
    • G06F2203/041—Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
    • G06F2203/04103—Manufacturing, i.e. details related to manufacturing processes specially suited for touch sensitive devices
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F2203/00—Indexing scheme relating to G06F3/00 - G06F3/048
    • G06F2203/041—Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
    • G06F2203/04111—Cross over in capacitive digitiser, i.e. details of structures for connecting electrodes of the sensing pattern where the connections cross each other, e.g. bridge structures comprising an insulating layer, or vias through substrate

Abstract

PURPOSE: A manufacturing method of a capacitance touch panel and a touch panel manufactured by the manufacturing method are provided to implement an X-axis pattern and a Y-axis pattern with one indium tin oxide film. CONSTITUTION: An optical material(400) is formed on an insulator. An insulating layer pattern is formed on the optical material. A conductive material(430) is spread in a circuit area(420). The insulating layer pattern divides a first connection part between first axis electrostatic electrodes(100) and a second connection part between second axis electrostatic electrodes(200) into an insulating layer(500). A first axis pattern and a second axis pattern are formed of a transparent conductive layer. [Reference numerals] (100) X axis ITO pattern; (200) Y axis ITO pattern; (410) Jumping area; (420) Circuit area

Description

정전용량 터치 패널의 제조 방법 및 이에 의해 제조되는 터치 패널{Method of Preparing Capacitance Type Touch Panel and Capacitance Type Touch Panel Prepared By The Same}A method of manufacturing a capacitive touch panel and a touch panel manufactured by the same {Method of Preparing Capacitance Type Touch Panel and Capacitance Type Touch Panel Prepared By The Same}

본 발명은 터치 패널의 제조 방법에 관한 것으로서, 특히 ITO(Indium Tin Oxide) 필름 한 장으로 X축 패턴과 Y축 패턴을 구현하는 정전용량 터치 패널의 제조 방법 및 이에 의해 제조되는 터치 패널에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing a touch panel, and more particularly, to a method of manufacturing a capacitive touch panel that implements an X-axis pattern and a Y-axis pattern with one sheet of indium tin oxide (ITO) film, and a touch panel manufactured by the same. .

일반적으로 터치 패널은 버튼을 손가락으로 접촉하여 컴퓨터 등을 대화적, 직감적으로 조작함으로써 누구나 쉽게 사용할 수 있는 입력 장치인데, 이를 디스플레이와 함께 집적한 경우 터치스크린으로 사용되며 손가락을 스크린에 접촉하여 입력을 수행하는 입력 장치이다.In general, the touch panel is an input device that can be easily used by anyone by touching a button with a finger to interactively and intuitively operate a computer. When the touch panel is integrated with a display, the touch panel is used as a touch screen. The input device to perform.

이와 같은 터치 패널은 접촉을 감지하는 방식에 따라 저항막 방식과 정전용량 방식, 적외선 방식, 초음파 방식 등이 사용되고 있으며, 현재는 저항막 방식이 많이 사용되어지고 있으나, 향후 내구성 및 경박 단소한 특성에 유리한 정전용량방식의 사용이 증가될 것이다.Such a touch panel uses a resistive method, a capacitive method, an infrared method, an ultrasonic method, etc. according to a method of sensing a touch. Currently, a resistive method is used. The use of advantageous capacitive methods will be increased.

이와 같은 정전용량 방식의 터치 패널, 특히 터치스크린은 그 구조가 폴리에틸렌 테레프탈레이트(Polyethylene Terephthalate, PET)나 유리 등의 투명한 절연체 필름 상에 투광 도전체로 이루어진 ITO(Indium Tin Oxide)와, ITO의 테두리에 실버 페이스트 등의 리드 선으로 이루어진 패드를 접착제층이나 절연체층을 부가하여 상하로 적층하여 구성된다.Such a capacitive touch panel, especially a touch screen, has an indium tin oxide (ITO) made of a transparent conductor on a transparent insulator film such as polyethylene terephthalate (PET) or glass, and the edge of the ITO. A pad made of lead wire such as silver paste is laminated up and down by adding an adhesive layer or an insulator layer.

여기서, ITO는 X축의 X축 정전전극을 등 간격으로 형성한 X축 ITO와 Y축의 Y축 정전전극을 등 간격으로 형성한 Y축 ITO로 구성하여, 적층 과정에서 복층으로 적층되도록 한다.Here, ITO is composed of X-axis ITO having X-axis electrostatic electrodes formed at equal intervals and Y-axis ITO having Y-axis electrostatic electrodes formed at equal intervals, so as to be stacked in multiple layers during the lamination process.

위와 같이 형성된 터치스크린은 사용자의 터치에 따른 터치 신호를 컨트롤러가 입력받아서 좌표 신호를 출력하는 것이다.The touch screen formed as above is a controller that receives a touch signal according to a user's touch and outputs a coordinate signal.

그런데 이와 같이 X축 또는 Y축에 나란하게 배치되는 정전전극은 리드 선으로부터 각각 다른 이격거리를 가지고 배치되며, 이들 사이에는 다른 정전전극이 배치되므로, 리드 선이 연결되는 부분에서 바라보면, 각각의 정전전극은 서로 다른 전기적 특성을 가지게 된다.However, since the electrostatic electrodes arranged side by side on the X-axis or the Y-axis are arranged at different distances from the lead wires, and the different electrostatic electrodes are disposed between them, so that when viewed from the part where the lead wires are connected, Electrostatic electrodes have different electrical characteristics.

이하에서는 이러한 터치 패널의 종래 기술에 관하여 도 1 내지 도 4를 참조하여 설명한다.Hereinafter, the prior art of such a touch panel will be described with reference to FIGS. 1 to 4.

도 1은 종래의 바텀(Bottom) 패턴층을 나타내는 도면으로서 X축 패턴을 나타내고, 도 2는 종래의 탑(Top) 패턴층을 나타내는 도면으로서 Y축 패턴을 나타낸다.FIG. 1 is a diagram showing a conventional bottom pattern layer, and shows an X-axis pattern, and FIG. 2 is a diagram showing a conventional Top pattern layer, and a Y-axis pattern.

종래에는 도 1 및 도 2와 같은 X축 정전전극(10)을 갖는 탑(Top) 패턴과 Y축 정전전극(20)을 갖는 바텀 패턴을 각각 제작한후 층간 합지후 윈도우 부착을 하여 터치 패널을 제조하였다. 이러한 제조 과정에 의해 완성된 터치 패널은 평면도를 도 3에 도시하였다.In the related art, a top pattern having the X-axis electrostatic electrode 10 and a bottom pattern having the Y-axis electrostatic electrode 20 are manufactured, respectively, as shown in FIGS. Prepared. The touch panel completed by this manufacturing process is shown in FIG. 3.

도 3을 참조하면, 종래의 정전방식 터치 패널은, X축 정전전극(10)을 갖는 탑(Top) 패턴과 Y축 정전전극(20)을 갖는 바텀(Bot) 패턴이 패널의 전면에 고루 형성되고, 일측에 연결전극(30, 40)을 형성하였다.Referring to FIG. 3, in the conventional capacitive touch panel, the top pattern having the X-axis electrostatic electrode 10 and the bottom pattern having the Y-axis electrostatic electrode 20 are evenly formed on the front surface of the panel. Then, connecting electrodes 30 and 40 were formed on one side.

이러한 종래의 정전방식 터치 패널의 층 구조를 보면 도 4와 같다.The layer structure of the conventional capacitive touch panel is shown in FIG. 4.

도 4를 참조하면, 종래에는 탑(Top) 패턴과 바텀(Bot) 패턴을 각각 제작하므로 탑(Top) 패턴과 바텀(Bot) 패턴에 사용되는 ITO 필름 2장이 필요하였다.Referring to FIG. 4, in the related art, two ITO films used for the top pattern and the bottom pattern were required because the top pattern and the bottom pattern were manufactured.

또한, ITO 필름 상부에는 접착제층(Optical Clear Adhesive, OCA)가 필수적으로 부가되어야 하는데, ITO 필름이 2장 사용되므로 OCA도 2장 필요하였다.In addition, an adhesive layer (Optical Clear Adhesive (OCA)) must be added to the top of the ITO film, which is required because two ITO films are used.

따라서, 종래의 터치 패널은 하나의 터치 패널 제품을 만들기 위해 ITO 필름 두장과 OCA 두장이 사용되기 때문에 가격적으로 비싼 단점이 있다.Accordingly, the conventional touch panel has a disadvantage in that it is expensive because two ITO films and two OCA sheets are used to make a single touch panel product.

또한, 종래의 터치 패널은 탑 패턴층과 바텀 패턴층의 합지할 때, 셀바이셀(Cell by cell) 방식이 아니라 시트바이시트(Sheet by sheet) 방식으로 하기 때문에 패턴층 별로 불량률을 측정하는 특성에 의해 수율이 좋지 않았다. 특히, 층별 합지시 얼라인 공차를 맞추기가 힘들어 수율이 좋지 않고, 타이트한 공차 관리가 어려운 단점이 있다.In the conventional touch panel, when the top pattern layer and the bottom pattern layer are laminated, the defect rate is measured for each pattern layer because the sheet by sheet method is used instead of the cell by cell method. Yield was not good by In particular, it is difficult to meet the alignment tolerance when laminating each floor, the yield is not good, and tight tolerance management has a disadvantage.

따라서 이러한 문제를 해결할 수 있는 정전용량 터치 패널의 구조가 개발되어져야만 한다.Therefore, a structure of a capacitive touch panel that can solve this problem must be developed.

이와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명은 ITO 필름 한 장으로 X축 패턴과 Y축 패턴을 구현하는 정전용량 터치 패널의 제조 방법 및 이에 의해 제조되는 터치 패널을 제공하는데 그 목적이 있다.In order to solve this problem, an object of the present invention is to provide a method of manufacturing a capacitive touch panel that implements an X-axis pattern and a Y-axis pattern with a single ITO film and a touch panel manufactured thereby.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 실시예에 따른 정전용량 터치 패널의 제조 방법은,
절연체 위에 광학성 특성을 가진 광학 물질을 형성하는 단계;
상기 광학 물질 중 투명 도전층으로 이루어진 복수의 제1축 정전전극?상기 각각의 제1축 정전전극은 서로 일정 거리 떨어져 있음?과 상기 복수의 제1축 정전전극과 일정 거리 이격되는 복수의 제2축 정전전극과 교차되는 영역에 상기 제1축 정전전극 간을 전기적으로 연결하는 도전성 물질을 묻히는 형태로 매몰시키는 단계;
상기 제1축 정전전극 사이의 제1 연결 부분과 상기 제1 연결 부분과 일정 거리 떨어진 상기 제2축 정전전극 사이의 제2 연결 부분을 절연막으로 분리하는 절연막 패턴을 상기 광학 물질의 위에 형성하는 단계; 및
상기 절연막 패턴을 이용하여 상기 제1 연결 부분과 상기 제2 연결 부분이 분리되어 절연하는 상기 복수의 제1축 정전전극을 나타내는 제1축 패턴과 상기 복수의 제2축 정전전극을 나타내는 제2축 패턴을 상기 투명 도전층으로 형성하는 단계를 포함한다.In order to achieve the above object, a method of manufacturing a capacitive touch panel according to an embodiment of the present invention,
Forming an optical material having optical properties on the insulator;
A plurality of first axis electrostatic electrode made of a transparent conductive layer of the optical material, each of the first axis electrostatic electrode is a predetermined distance from each other and a plurality of second spaced apart from the plurality of first axis electrostatic electrode Burying the conductive material electrically buried in the area intersecting the axial electrostatic electrode in a form of being buried therein;
Forming an insulating layer pattern on the optical material to separate the first connection portion between the first axis electrostatic electrode and the second connection portion between the second axis electrostatic electrode spaced apart from the first connection portion with an insulating film; ; And
A first axis pattern representing the plurality of first axis electrostatic electrodes in which the first connection portion and the second connection portion are separated and insulated using the insulating layer pattern, and a second axis representing the plurality of second axis electrostatic electrodes Forming a pattern from the transparent conductive layer.

삭제delete

삭제delete


본 발명의 실시예에 따른 정전용량 터치 패널은,
정전용량 터치 패널에 있어서,
절연체;
상기 절연체의 위에 형성되고, 투명 도전층으로 이루어지며 복수의 제1축 정전전극?상기 각각의 제1축 정전전극은 서로 일정 거리 떨어져 있음?과 상기 복수의 제1축 정전전극과 일정 거리 이격되는 복수의 제2축 정전전극과 교차되는 영역에 상기 제1축 정전전극 간을 전기적으로 연결하는 도전성 물질을 묻히는 형태로 매몰시키는 광학 물질;
상기 제1축 정전전극의 제1 연결 부분과 상기 제1 연결 부분과 일정 거리 떨어진 상기 제2축 정전전극 사이의 제2 연결 부분을 절연막으로 분리하는 패턴을 상기 광학 물질의 위에 형성하는 절연막 패턴; 및
상기 광학 물질의 위에 상기 절연막 패턴을 이용하여 상기 제1 연결 부분과 상기 제2 연결 부분이 분리되어 절연하는 상기 복수의 제1축 정전전극과 상기 복수의 제2축 정전전극을 형성한 투명 도전층을 포함한다.
Capacitive touch panel according to an embodiment of the present invention,
In the capacitive touch panel,
Insulators;
A plurality of first axis electrostatic electrodes, each of the first axis electrostatic electrodes spaced apart from each other, and a plurality of first axis electrostatic electrodes formed on the insulator and spaced apart from the plurality of first axis electrostatic electrodes. An optical material buried in a form in which a conductive material electrically connecting the first axis electrostatic electrodes is buried in a region crossing the plurality of second axis electrostatic electrodes;
An insulating film pattern forming a pattern for separating a second connection portion between the first connection portion of the first axis electrostatic electrode and the second axis electrostatic electrode spaced apart from the first connection portion with an insulating film on the optical material; And
The transparent conductive layer on which the first and second axis electrostatic electrodes and the plurality of second axis electrostatic electrodes are formed to separate and insulate the first connection portion and the second connection portion using the insulating layer pattern on the optical material. It includes.

삭제delete

삭제delete

삭제delete

본 발명은 정전용량 터치 패널의 제조 방법 및 이에 의해 제조되는 터치 패널에 따르면, X축 패턴과 Y축 패턴을 ITO 필름 한장으로 구현이 가능하기 때문에 원가 절감 및 공정이 간소화되는 효과가 있다.According to the present invention, a capacitive touch panel manufacturing method and a touch panel manufactured by the capacitive touch panel can implement the X-axis pattern and the Y-axis pattern with one ITO film, thereby reducing costs and simplifying the process.

본 발명은 정전용량 터치 패널의 제조 방법에서 점핑 공정을 먼저 진행한 후, ITO 패턴을 구현함으로써 점핑 영역이 육안으로 잘 안보이게 할 수 있고, 초기 인쇄 공정에서 회로 영역과 점핑 영역을 미리 형성하므로 공정 간소화가 가능하다.According to the present invention, a jumping process is first performed in a method of manufacturing a capacitive touch panel, and then the ITO pattern can be implemented to make the jumping region invisible to the naked eye, and the process is simplified since the circuit region and the jumping region are formed in advance in the initial printing process. Is possible.

본 발명은 정전용량 터치 패널의 제조 방법에서 실버(도전성 물질)가 레진 안쪽에 존재하기 때문에 신뢰성 확보가 유리한 효과가 있다.The present invention has an advantageous effect of securing reliability because silver (conductive material) is present inside the resin in the method of manufacturing the capacitive touch panel.

도 1은 종래의 정전용량 방식 터치 패널에서 X축 전극 패턴을 나타낸 도면이다.
도 2는 종래의 정전용량 방식 터치 패널에서 Y축 전극 패턴을 나타낸 도면이다.
도 3은 종래의 정전용량 방식 터치 패널에서 X축 전극 패턴과 Y축 전극 패턴을 합체한 상태를 나타낸 도면이다.
도 4는 종래의 정전용량 방식 터치 패널에서 X축 전극 패턴과 Y축 전극 패턴을 합체한 상태에서의 층 구조를 나타낸 도면이다.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 정전용량 터치 패널의 구성을 나타낸 도면이다.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 정전용량 터치 패널에서 A 부분의 상세 구조를 나타낸 도면이다.
도 7은 본 발명의 실시예에 따른 정전용량 터치 패널에서 도 5의 A 와 B 부분의 층구조를 나타낸 도면이다.
도 8은 본 발명의 실시예에 따른 정전용량 터치 패널의 제조 방법을 측면에서 본 모습을 나타낸 도면이다.
도 9는 본 발명의 실시예에 따른 정전용량 터치 패널의 층구조를 나타낸 도면이다.1 is a view showing an X-axis electrode pattern in a conventional capacitive touch panel.
2 illustrates a Y-axis electrode pattern in a conventional capacitive touch panel.
3 is a view illustrating a state in which an X-axis electrode pattern and a Y-axis electrode pattern are coalesced in a conventional capacitive touch panel.
4 is a diagram illustrating a layer structure in a state in which an X-axis electrode pattern and a Y-axis electrode pattern are combined in a conventional capacitive touch panel.
5 is a diagram illustrating a configuration of a capacitive touch panel according to an exemplary embodiment of the present invention.
6 is a diagram illustrating a detailed structure of a portion A of the capacitive touch panel according to the embodiment of the present invention.
FIG. 7 illustrates a layer structure of portions A and B of FIG. 5 in the capacitive touch panel according to the exemplary embodiment of the present invention.
8 is a view showing a side view of the manufacturing method of the capacitive touch panel according to the embodiment of the present invention.
9 illustrates a layer structure of a capacitive touch panel according to an exemplary embodiment of the present invention.

아래에서는 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.DETAILED DESCRIPTION Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the present invention. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein. In the drawings, parts irrelevant to the description are omitted in order to clearly describe the present invention, and like reference numerals designate like parts throughout the specification.

명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.Throughout the specification, when a part is said to "include" a certain component, it means that it can further include other components, without excluding other components unless specifically stated otherwise.

도 5는 본 발명의 실시예에 따른 정전용량 터치 패널의 구성을 나타낸 도면이고, 도 6은 본 발명의 실시예에 따른 정전용량 터치 패널에서 A 부분의 상세 구조를 나타낸 도면이고, 도 7은 본 발명의 실시예에 따른 정전용량 터치 패널에서 도 5의 A 와 B 부분의 층구조를 나타낸 도면이며, 도 8은 본 발명의 실시예에 따른 정전용량 터치 패널의 제조 방법을 측면에서 본 모습을 나타낸 도면이다.5 is a view showing a configuration of a capacitive touch panel according to an embodiment of the present invention, Figure 6 is a view showing a detailed structure of a portion A in the capacitive touch panel according to an embodiment of the present invention, Figure 7 In the capacitive touch panel according to an exemplary embodiment of the present invention, a layer structure of parts A and B of FIG. 5 is shown, and FIG. 8 is a side view of a method of manufacturing a capacitive touch panel according to an exemplary embodiment of the present invention. Drawing.

도 5 내지 도 8에 도시된 바와 같이, 투명 도전층에 복수의 X 정전전극(100)을 포함하는 X축 패턴 및 복수의 Y축 정전전극(200)을 포함하는 Y축 패턴을 형성한다.5 to 8, an X-axis pattern including a plurality of X electrostatic electrodes 100 and a Y-axis pattern including a plurality of Y-axis electrostatic electrodes 200 are formed on the transparent conductive layer.

여기서, 투명 도전층은 투명 전도성 산화물(Transparent Conducting Oxide, TCO)와 같은 투명한 재질의 전도성 물질로 형성되며, 구체적으로는 ITO 또는 IZO(Indium Zinc Oxide)를 포함하거나 ITO 또는 IZO로 이루어지는 투명 전도성 물질로 형성한다.Here, the transparent conductive layer is formed of a conductive material of a transparent material, such as transparent conductive oxide (TCO), specifically, a transparent conductive material containing ITO or Indium Zinc Oxide (IZO) or made of ITO or IZO Form.

X 정전전극(100) 간은 소정의 길이로 서로 이격되어 있고, Y축 정전전극(200) 간은 서로 전기적으로 연결되어 있다.
도 6은 본 발명의 정전용량 터치 패널을 위에서 본 모습을 나타낸 것이고, 도 7은 본 발명의 정전용량 터치 패널의 측면 층구조를 나타낸 단면도이다.
도 7 및 도 8에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 터치 패널용 패드를 제조하기 위해서는 광학 필름(300) 위에 X축 정전전극(100) 간을 연결하는 점핑(Jumping) 영역(410)과 배선전극 패턴인 회로 영역(420)을 형성한다.
여기서, 배선전극 패턴은 복수의 X축, Y축 정전전극(100, 200)의 일측 끝단과 연결되고 터치 패널의 원도우 영역을 제외한 가장 자리 영역의 금속 회로이며, 복수의 X축, Y축 정전전극(100, 200)과 인쇄회로기판을 연결시켜 사용자의 터치 패턴을 감지, 제어하는 버스 전극을 나타낸다.
여기서, 광학 필름(300)은 언더 코팅한 절연체를 나타낸 것으로, 절연체는 투명한 재질의 유기 절연체 또는 무기 절연체로 형성되고, 유기 절연체는 폴리이미드 또는 폴리에틸렌 테레프탈레이트(Polyethylene Terephthalate, PET), 폴리카보네이트(PC)를 포함하며 무기 절연체는 유리로 이루어진다.The X electrostatic electrodes 100 are spaced apart from each other by a predetermined length, and the Y-axis electrostatic electrodes 200 are electrically connected to each other.
6 is a view showing the capacitive touch panel of the present invention from above, and FIG. 7 is a cross-sectional view showing a side layer structure of the capacitive touch panel of the present invention.
As shown in FIG. 7 and FIG. 8, in order to manufacture a pad for a touch panel according to an embodiment of the present invention, a jumping region 410 connecting the X-axis electrostatic electrodes 100 on the optical film 300. ) And a circuit region 420 which is a wiring electrode pattern.
Here, the wiring electrode pattern is a metal circuit connected to one end of the plurality of X-axis and Y-axis electrostatic electrodes 100 and 200 and has an edge region except for the window region of the touch panel, and the plurality of X-axis and Y-axis electrostatic electrodes The bus electrodes 100 and 200 are connected to the printed circuit board to sense and control a user's touch pattern.
Here, the optical film 300 represents an undercoated insulator, and the insulator is formed of an organic insulator or an inorganic insulator of a transparent material, and the organic insulator is polyimide or polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC). And the inorganic insulator is made of glass.

삭제delete

전술한 언더 코팅은 ITO 패턴후 ITO 유무가 확인되지 않도록 처리하는 코팅으로, 즉 정전 용량 ITO 필름 제작시 ITO가 존재하는 부분과 존재하지 않는 부분이 눈에서 감지하지 못하도록 ITO 하지층에 광학 처리를 하는 것을 의미한다. 즉, 언더 코팅은 건식 방식(증착)으로 SiO2,TiO2 Ceo2 등을 올리는 경우도 있고, 습식 방식으로 약품 처리를 하는 경우도 있다.The above-described undercoating is a coating for treating the presence or absence of ITO after the ITO pattern, that is, the optical treatment is performed on the ITO base layer so that the presence or absence of ITO is not detected by the eye during capacitive ITO film production. Means that. That is, the undercoat may in some cases raising the SiO 2, TiO 2 Ceo 2 such as a dry method (vapor deposition), there is also a case that a chemical treatment by a wet method.

점핑 영역(410)과 회로 영역(420)은 광학 필름(300) 위에 광학 물질(400)을 도포하고 홈을 파는 공정을 수행하여 형성한다(S100). 여기서, 광학 물질(400)은 레진(UV, 열경화 타입)과 같이 광학성 특성을 가진 물질이면 어떠한 것도 가능하다.The jumping region 410 and the circuit region 420 are formed by applying an optical material 400 on the optical film 300 and digging a groove (S100). Here, the optical material 400 may be any material as long as the material has optical properties such as resin (UV, thermosetting type).

X축 정전전극(100) 간을 전기적으로 연결하기 위해 점핑 영역(410)에, 배선전극 패턴을 형성하기 위해 회로 영역(420)에 도전성 물질(430)을 도포한다(S102).A conductive material 430 is applied to the jumping region 410 to electrically connect the X-axis electrostatic electrodes 100 to the circuit region 420 to form a wiring electrode pattern (S102).

여기서, 도전성 물질(430)은 실버(Silver), 도전성 폴리머와 같은 도전성 물질이면 된다.
다시 말해, 단계 S100, S102는 광학 물질(300)에 서로 일정 거리 떨어진 X축 정전전극(100) 간을 전기적으로 연결하는 도전성 물질(430)을 X축 정전전극(100)의 연결 부분과 Y축 정전전극의 연결 부분이 교차되는 점핑 영역(410)과, 배선전극 패턴을 나타내는 회로 영역(420)에 묻히는 형태로 매몰한다.The conductive material 430 may be a conductive material such as silver or a conductive polymer.
In other words, in steps S100 and S102, the connecting portion of the X-axis electrostatic electrode 100 and the Y-axis of the conductive material 430 electrically connecting the X-axis electrostatic electrodes 100 spaced apart from each other to the optical material 300 by a predetermined distance. It is buried in the form of being buried in the jumping region 410 where the connection portions of the electrostatic electrode cross and the circuit region 420 representing the wiring electrode pattern.

단계 S102 이후에, 절연막(SiO2)(500)이 증착되지 않아야 할 영역을 보호하기 위해 제1 드라이필름 레지스터(Dry Film Resist, DFR) 마스킹을 처리한다(S104). 여기서, 제1 DFR 마스킹은 제1 DFR 라미네이팅(Laminating), 제1 노광, 제1 현상 공정을 수행한다.After step S102, a first dry film resistor (DFR) masking process is performed to protect an area where the insulating film SiO 2 500 should not be deposited (S104). Here, the first DFR masking performs a first DFR laminating, a first exposure, and a first developing process.

단계 S104 이후에, 절연막(500)를 전체 영역에 스퍼터링, 증착 방식, 이빔 방식 등의 공지의 방법으로 증착시키고, 드라이필름을 박리하는 공정을 수행한다(S106).
다시 말해, 단계 S104, S106은 X축 정전전극(100) 사이의 연결 부분과 일정 거리 떨어진 Y축 정전전극(200) 사이의 연결 부분을 절연막(500)으로 분리하는 절연막 패턴을 광학 물질(300)의 위에 형성한다.
회로 영역(420)에 형성된 도전성 물질(430)은 상부면이 외부로 개방되고, 광학 물질(400) 중 터치 패널의 가장 자리 영역인 각각의 버스 전극에 해당하는 부분에 위치히며, 개방된 상부면에 각각의 X축 정전전극(100)을 형성한다.
점핑 영역(300)에 형성된 도전성 물질(430)은 상부면의 일부 영역이 개방되며 개방된 일부 영역에 절연막(500)을 사이에 두고 각각의 X축 정전전극(100) 사이의 연결 부분을 형성한다.
단계 S106 이후에, 투명 도전층(ITO)을 전체 영역에 스퍼터링, 증착 방식, 이빔 방식 등의 공지의 방법으로 증착시키고, 제2 DFR 마스킹 처리와 ITO 에칭 공정을 수행하여 X축, Y축의 ITO 회로(100, 200)를 구현한다(S108).After step S104, the insulating film 500 is deposited on the entire region by a known method such as sputtering, vapor deposition, and e-beam, and a dry film is peeled off (S106).
In other words, in steps S104 and S106, the insulating material pattern for separating the connecting portion between the X-axis electrostatic electrode 100 and the connecting portion between the Y-axis electrostatic electrode 200 spaced a predetermined distance from the insulating film 500 may be formed of the optical material 300. Form on top of.
The conductive material 430 formed in the circuit area 420 has an upper surface open to the outside, and is positioned at a portion corresponding to each bus electrode of the edge of the touch panel of the optical material 400, and the open upper surface Each X-axis electrostatic electrode 100 is formed on the substrate.
The conductive material 430 formed in the jumping region 300 forms a connection portion between each of the X-axis electrostatic electrodes 100 with a portion of the upper surface opened and an insulating layer 500 interposed therebetween. .
After step S106, the transparent conductive layer (ITO) is deposited on the entire area by a known method such as sputtering, vapor deposition, and e-beam, and a second DFR masking process and an ITO etching process are performed to perform ITO circuits of X and Y axes. Implement (100, 200) (S108).

삭제delete

여기서, 제2 DFR 마스킹은 제2 DFR 라미네이팅(Laminating), 제2 노광, 제2 현상 공정을 수행한다.Here, the second DFR masking performs a second DFR laminating, a second exposure, and a second development process.

단계 S108 이후에, DFR 박리 공정을 수행하여 ITO 필름에 복수의 X 정전전극(100)을 포함하는 X축 패턴 및 복수의 Y축 정전전극(200)을 포함하는 Y축 패턴을 형성한다(S110). 이때, 단계 S110는 터치 패널의 원도우 영역(화면이 표시될 투명한 부분)에 해당하는 X축, Y축 패턴과, 터치 패널의 가장 자리 영역인 버스 전극의 배선전극 패턴을 투명 도전층으로 동시에 패턴링하여 형성한다.
다시 말해, 도 5 및 도 8에 도시된 바와 같이, 복수의 X축 정전전극(100)과 복수의 Y축 정전전극(200)과, 각각의 X축 정전전극(100)과 연결된 버스 전극과, 각각의 Y축 정전전극(200)과 연결된 버스 전극을 투명 도전층으로 동시에 패턴링하여 형성한다.
본 발명의 실시예에 따른 터치 패널은 광학 필름(300) 위에 도전성 물질(430)을 도포나 코팅을 한 후, 그 위에 절연막(500)을 형성하고 그 다음에 ITO(100, 200)을 코팅 및 증착하여 패턴링을 하는 방식이다.After step S108, a DFR peeling process is performed to form an X-axis pattern including a plurality of X electrostatic electrodes 100 and a Y-axis pattern including a plurality of Y-axis electrostatic electrodes 200 on the ITO film (S110). . At this time, step S110 simultaneously patterning the X-axis, Y-axis pattern corresponding to the window area of the touch panel (the transparent portion where the screen is displayed) and the wiring electrode pattern of the bus electrode, which is the edge region of the touch panel, with the transparent conductive layer. To form.
In other words, as illustrated in FIGS. 5 and 8, a plurality of X-axis electrostatic electrodes 100 and a plurality of Y-axis electrostatic electrodes 200, bus electrodes connected to the respective X-axis electrostatic electrodes 100, The bus electrodes connected to the respective Y-axis electrostatic electrodes 200 are simultaneously patterned with a transparent conductive layer.
In the touch panel according to the embodiment of the present invention, after applying or coating the conductive material 430 on the optical film 300, the insulating film 500 is formed thereon, and then the ITOs 100 and 200 are coated and It is a method of patterning by vapor deposition.

삭제delete

이러한 공정에 따라 X축 패턴과 Y축 패턴 즉, 복수의 Y 정전전극(200)을 포함하는 Y축 패턴인 탑(Top) 패턴과 복수의 X 정전전극(100)을 포함하는 X축 패턴인 바텀(Bot) 패턴을 ITO 필름 한장으로 구현을 하기 때문에 원가 절감 및 공정이 간소화되는 효과가 있다. 이러한 터치 패널을 구성하는 층은 도 9와 같이 3개로 된다.According to this process, a bottom pattern, which is an X-axis pattern and a Y-axis pattern, that is, a top pattern, which is a Y-axis pattern including a plurality of Y electrostatic electrodes 200, and an X-axis pattern, which includes a plurality of X electrostatic electrodes 100. Since the (Bot) pattern is implemented with one sheet of ITO film, cost reduction and the process are simplified. There are three layers constituting the touch panel as shown in FIG.

도 9를 참조하면, 터치 패널은 윈도우층, OCA층, ITO 층(100, 200)의 3개로 구성되며, 윈도우층 및 OCA층은 기존과 유사하고, 점핑 영역(410)과 회로 영역(420)을 레진(400) 안쪽에 미리 형성한 후 ITO 층(100, 200)을 구현하는 방식이다.Referring to FIG. 9, the touch panel includes three window layers, an OCA layer, and an ITO layer (100, 200), and the window layer and the OCA layer are similar to the conventional ones, and the jumping area 410 and the circuit area 420 are provided. After the pre-formed on the inside of the resin 400 to implement the ITO layer (100, 200).

도 7 및 도 8에 도시된 바와 같이, 점핑 공정을 먼저 진행한 후, ITO 패턴(100, 200)을 구현함으로써 점핑 영역(410)이 육안으로 잘 안보이게 할 수 있고, 초기 인쇄 공정에서 점핑 영역(410)과 회로 영역(420)을 미리 형성하므로 공정 간소화가 가능하다.As shown in FIGS. 7 and 8, after the jumping process is first performed, the ITO patterns 100 and 200 may be implemented to make the jumping region 410 invisible to the naked eye. Since the 410 and the circuit region 420 are formed in advance, the process can be simplified.

본 발명의 실시예는 실버(도전성 물질)(430)가 레진(400) 안쪽에 존재하기 때문에 신뢰성 확보가 유리하다.The embodiment of the present invention is advantageous in securing reliability because the silver (conductive material) 430 is present inside the resin 400.

이러한 본 발명의 실시예는 다양한 변형이 가능하고, X축 패턴과 Y축 패턴이 서로 바뀌어져 형성될 수 있음은 자명하다.
전술한 회로 영역(420)은 도 5, 도 6, 도 7의 B와 같이, 광학 물질(400)에서 터치 패널 중 배선전극 패턴이 형성되는 영역에 해당하는 부분에 홈을 형성하고, 형성된 홈에 도전성 물질(430)을 도포하여 형성한다.
전술한 점핑 영역(410)은 도 5, 도 6, 도 7의 A와 같이, 터치 패널의 원도우 영역(화면이 표시될 투명한 부분)에 해당하는 부분 중 X축 정전전극(100)과 Y축 정전전극(200)이 교차되는 영역을 의미한다.
점핑 영역(410)은 단계 S104, S106을 통해 절연막(500)이 증착되지 않아야 할 영역에 제1 드라이필름 레지스터로 마스킹 처리한 후, 제1 드라이필름 레지스터가 없는 영역에 절연막을 증착하며, 단계 S108, S110을 통해 복수의 X축 정전전극(100)을 포함하는 X축 패턴과 복수의 Y축 정전전극(200)을 포함하는 Y축 패턴을 형성한다.
도 6, 도 7 및 도 8에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 정전용량 터치 패널의 구조를 설명하면 다음과 같다.
원도우 패널층과 접착제층을 구비한 정전용량 터치 패널은 접착제층의 하부에 서로 일정 거리가 이격된 복수의 X축 정전전극(100)과 서로 전기적으로 연결된 복수의 Y축 정전전극(200)이 구비된 투명 도전층이 형성된다.
광학 물질(400)은 투명 도전층의 하부에 형성되어 터치 패널 중 배선전극 패턴이 형성되는 영역에 해당하는 홈을 파고, 형성된 홈에 도전성 물질(400)을 도포한다.
또한, 광학 물질(400)은 터치 패널 중 윈도우 영역에 해당하는 부분 중 X축 정전전극(100)과 Y축 정전전극(200)이 교차되는 연결 부분에 홈을 파고, 형성된 홈에 도전성 물질(430)을 도포한다. 도전성 물질(430)의 위에 복수의 X축 정전전극(100)의 연결 부분이 위치하여 이격된 복수의 X축 정전전극(100) 간을 전기적으로 연결한다.
도 6 및 도 7을 참조하면, 복수의 Y축 정전전극(200) 사이의 연결 부분과 연결 부분으로부터 일정 거리 떨어진 복수의 X축 정전전극(100) 사이의 연결 부분 간을 절연막(500)으로 분리시켜 절연한다. 다시 말해, X축 정전전극(100) 사이의 연결 부분은 광학 물질(400)에 형성된 도전성 물질(430)을 통해 전기적으로 연결된다.
복수의 Y축 정전전극(200) 사이의 연결 부분의 하부에는 절연막(500)을 사이에 두고 복수의 X축 정전전극(100) 사이의 연결 부분이 형성된다.
이와 같이 점핑 영역(410)은 광학 물질(400)의 내부에 형성된 도전성 물질(430)과 그 위에 복수의 X축 정전전극(100)의 연결 부분이 위치하고, X축 정전전극(100)의 연결 부분의 위에 절연막(500)을 사이에 두고, 서로 전기적으로 연결된 Y축 정전전극(200)의 연결 부분이 형성된다.
이와 같은 정전용량 터치 패널의 구조는 X축 ITO 패턴(100)과 Y축 ITO 패턴(200)을 ITO 필름 한장으로 구현할 수 있다.Such embodiments of the present invention can be variously modified, it is obvious that the X-axis pattern and the Y-axis pattern can be formed to be interchanged with each other.
5, 6, and 7, the circuit region 420 is formed in the groove formed in the optical material 400 corresponding to the region where the wiring electrode pattern is formed in the touch panel. The conductive material 430 is coated and formed.
The jumping region 410 described above is the X-axis electrostatic electrode 100 and the Y-axis electrostatic out of the portions corresponding to the window region (the transparent portion on which the screen will be displayed) of the touch panel as shown in FIG. 5, 6, and 7A. It means the area where the electrode 200 crosses.
The jumping region 410 masks the first dry film register in an area where the insulating film 500 should not be deposited through steps S104 and S106, and then deposits an insulating film in an area where the first dry film resistor is not present. The X-axis pattern including the plurality of X-axis electrostatic electrodes 100 and the Y-axis pattern including the plurality of Y-axis electrostatic electrodes 200 are formed through S110.
6, 7 and 8, the structure of a capacitive touch panel according to an embodiment of the present invention will be described.
The capacitive touch panel including the window panel layer and the adhesive layer includes a plurality of X-axis electrostatic electrodes 100 spaced apart from each other at a lower portion of the adhesive layer by a plurality of Y-axis electrostatic electrodes 200 electrically connected to each other. Transparent conductive layer is formed.
The optical material 400 is formed under the transparent conductive layer to dig a groove corresponding to a region where the wiring electrode pattern is formed in the touch panel, and apply the conductive material 400 to the formed groove.
In addition, the optical material 400 digs a groove in a connection portion where the X-axis electrostatic electrode 100 and the Y-axis electrostatic electrode 200 intersect among the portions corresponding to the window region of the touch panel, and forms a conductive material 430 in the groove formed. ) Is applied. Connection portions of the plurality of X-axis electrostatic electrodes 100 are positioned on the conductive material 430 to electrically connect the spaced apart plurality of X-axis electrostatic electrodes 100.
6 and 7, the insulating portion 500 separates the connection portion between the plurality of Y-axis electrostatic electrodes 200 and the connection portion between the plurality of X-axis electrostatic electrodes 100 spaced apart from the connection portion by a predetermined distance. Insulate it. In other words, the connection portions between the X-axis electrostatic electrodes 100 are electrically connected through the conductive material 430 formed in the optical material 400.
A connection portion between the plurality of X-axis electrostatic electrodes 100 is formed below the connection portion between the plurality of Y-axis electrostatic electrodes 200 with the insulating film 500 therebetween.
As such, the jumping region 410 has a connection portion between the conductive material 430 formed inside the optical material 400 and the plurality of X-axis electrostatic electrodes 100 thereon, and the connection portion of the X-axis electrostatic electrode 100. A connection portion of the Y-axis electrostatic electrode 200 electrically connected to each other with an insulating film 500 therebetween is formed thereon.
The structure of the capacitive touch panel may implement the X-axis ITO pattern 100 and the Y-axis ITO pattern 200 as one ITO film.

이상에서 설명한 본 발명의 실시예는 장치 및/또는 방법을 통해서만 구현이 되는 것은 아니며, 본 발명의 실시예의 구성에 대응하는 기능을 실현하기 위한 프로그램, 그 프로그램이 기록된 기록 매체 등을 통해 구현될 수도 있으며, 이러한 구현은 앞서 설명한 실시예의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술분야의 전문가라면 쉽게 구현할 수 있는 것이다The embodiments of the present invention described above are not implemented only by the apparatus and / or method, but may be implemented through a program for realizing a function corresponding to the configuration of the embodiments of the present invention, a recording medium on which the program is recorded, and the like. Such implementations may be readily implemented by those skilled in the art to which the present invention pertains based on the description of the above-described embodiments.

이상에서 본 발명의 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, It belongs to the scope of right.

100: X축 정전전극
200: Y축 정전전극
300: 광학 필름
400: 광학 물질
410: 점핑 영역
420: 회로 영역
430: 도전성 물질
500: 절연막100: X-axis electrostatic electrode
200: Y-axis electrostatic electrode
300: optical film
400: optical material
410: jumping area
420: circuit area
430: conductive material
500: insulating film

Claims (7)

절연체 위에 광학성 특성을 가진 광학 물질을 형성하는 단계;
상기 광학 물질 중 투명 도전층으로 이루어진 복수의 제1축 정전전극?상기 각각의 제1축 정전전극은 서로 일정 거리 떨어져 있음?과 상기 복수의 제1축 정전전극과 일정 거리 이격되는 복수의 제2축 정전전극과 교차되는 영역에 상기 제1축 정전전극 간을 전기적으로 연결하는 도전성 물질을 묻히는 형태로 매몰시키는 단계;
상기 제1축 정전전극 사이의 제1 연결 부분과 상기 제1 연결 부분과 일정 거리 떨어진 상기 제2축 정전전극 사이의 제2 연결 부분을 절연막으로 분리하는 절연막 패턴을 상기 광학 물질의 위에 형성하는 단계; 및
상기 절연막 패턴을 이용하여 상기 제1 연결 부분과 상기 제2 연결 부분이 분리되어 절연하는 상기 복수의 제1축 정전전극을 나타내는 제1축 패턴과 상기 복수의 제2축 정전전극을 나타내는 제2축 패턴을 상기 투명 도전층으로 형성하는 단계
를 포함하는 정전용량 터치 패널의 제조 방법.Forming an optical material having optical properties on the insulator;
A plurality of first axis electrostatic electrode made of a transparent conductive layer of the optical material, each of the first axis electrostatic electrode is a predetermined distance from each other and a plurality of second spaced apart from the plurality of first axis electrostatic electrode Burying the conductive material electrically buried in the area intersecting the axial electrostatic electrode in a form of being buried therein;
Forming an insulating layer pattern on the optical material to separate the first connection portion between the first axis electrostatic electrode and the second connection portion between the second axis electrostatic electrode spaced apart from the first connection portion with an insulating film; ; And
A first axis pattern representing the plurality of first axis electrostatic electrodes in which the first connection portion and the second connection portion are separated and insulated using the insulating layer pattern, and a second axis representing the plurality of second axis electrostatic electrodes Forming a pattern into the transparent conductive layer
Method of manufacturing a capacitive touch panel comprising a. 제1항에 있어서,
상기 절연막 패턴을 상기 광학 물질 위에 형성하는 단계는,
상기 도전성 물질은 상기 광학 물질 중 터치 패널의 원도우 영역에 해당하는 부분에 위치하고, 상기 도전성 물질의 상부면의 일부 영역이 외부로 개방되며, 상기 개방된 일부 영역에 상기 절연막을 사이에 두고 상기 제1 연결 부분이 형성되는 단계
를 포함하는 정전용량 터치 패널의 제조 방법.The method of claim 1,
Forming the insulating film pattern on the optical material,
The conductive material is positioned in a portion of the optical material corresponding to the window region of the touch panel, a portion of the upper surface of the conductive material is opened to the outside, and the first insulating layer is interposed with the insulating layer in the open portion. Steps in which the connecting part is formed
Method of manufacturing a capacitive touch panel comprising a. 제1항에 있어서,
상기 도전성 물질을 묻히는 형태로 매몰시키는 단계는,
상기 도전성 물질은 상기 광학 물질 중 터치 패널의 가장 자리 영역인 버스 전극에 해당하는 부분에 위치하고, 상기 도전성 물질의 상부면을 외부로 개방하며, 상기 각각의 제1축 정전전극이 형성되는 단계
를 포함하는 정전용량 터치 패널의 제조 방법.The method of claim 1,
The step of embedding the conductive material in buried form,
Wherein the conductive material is located in a portion of the optical material corresponding to the bus electrode which is the edge region of the touch panel, opening the upper surface of the conductive material to the outside, wherein each of the first axis electrostatic electrode is formed
Method of manufacturing a capacitive touch panel comprising a. 제1항에 있어서,
상기 투명 도전층으로 형성하는 단계는,
상기 복수의 제1축 정전전극 및 상기 복수의 제2축 정전전극과, 상기 각각의 제1축 정전전극에 연결되는 터치 패널의 가장 자리 영역인 각각의 제1 버스 전극과, 상기 각각의 제2축 정전전극에 연결되는 각각의 제2 버스 전극에 해당하는 부분을 상기 투명 도전층으로 동시에 패턴링하여 형성하는 단계
를 포함하는 정전용량 터치 패널의 제조 방법.The method of claim 1,
Forming the transparent conductive layer,
The plurality of first axis electrostatic electrodes and the plurality of second axis electrostatic electrodes, each first bus electrode that is an edge region of a touch panel connected to each of the first axis electrostatic electrodes, and the respective second electrodes Simultaneously patterning a portion corresponding to each second bus electrode connected to the axis electrostatic electrode with the transparent conductive layer.
Method of manufacturing a capacitive touch panel comprising a. 정전용량 터치 패널에 있어서,
절연체;
상기 절연체의 위에 형성되고, 투명 도전층으로 이루어지며 복수의 제1축 정전전극?상기 각각의 제1축 정전전극은 서로 일정 거리 떨어져 있음?과 상기 복수의 제1축 정전전극과 일정 거리 이격되는 복수의 제2축 정전전극과 교차되는 영역에 상기 제1축 정전전극 간을 전기적으로 연결하는 도전성 물질을 묻히는 형태로 매몰시키는 광학 물질;
상기 제1축 정전전극의 제1 연결 부분과 상기 제1 연결 부분과 일정 거리 떨어진 상기 제2축 정전전극 사이의 제2 연결 부분을 절연막으로 분리하는 패턴을 상기 광학 물질의 위에 형성하는 절연막 패턴; 및
상기 광학 물질의 위에 상기 절연막 패턴을 이용하여 상기 제1 연결 부분과 상기 제2 연결 부분이 분리되어 절연하는 상기 복수의 제1축 정전전극과 상기 복수의 제2축 정전전극을 형성한 투명 도전층
을 포함하는 정전용량 터치 패널.In the capacitive touch panel,
Insulators;
A plurality of first axis electrostatic electrodes, each of the first axis electrostatic electrodes spaced apart from each other, and a plurality of first axis electrostatic electrodes formed on the insulator and spaced apart from the plurality of first axis electrostatic electrodes. An optical material buried in a form in which a conductive material electrically connecting the first axis electrostatic electrodes is buried in a region crossing the plurality of second axis electrostatic electrodes;
An insulating film pattern forming a pattern for separating a second connection portion between the first connection portion of the first axis electrostatic electrode and the second axis electrostatic electrode spaced apart from the first connection portion with an insulating film on the optical material; And
The transparent conductive layer on which the first and second axis electrostatic electrodes and the plurality of second axis electrostatic electrodes are formed to separate and insulate the first connection portion and the second connection portion using the insulating layer pattern on the optical material.
Capacitive touch panel comprising a. 제5항에 있어서,
상기 도전성 물질은 상기 광학 물질 중 터치 패널의 원도우 영역에 해당하는 부분에 위치하고, 상부면의 일부 영역이 외부로 개방되며 상기 개방된 일부 영역에 상기 절연막을 사이에 두고 상기 제1 연결 부분이 형성되는 정전용량 터치 패널.The method of claim 5,
The conductive material is positioned in a portion of the optical material corresponding to the window region of the touch panel, and a portion of the upper surface is opened to the outside, and the first connection portion is formed with the insulating layer interposed therebetween. Capacitive touch panel. 제5항에 있어서,
상기 도전성 물질은 상기 광학 물질 중 터치 패널의 가장 자리 영역인 버스 전극에 해당하는 부분에 위치하고, 상부면이 외부로 개방되며 상기 개방된 상부면에 상기 각각의 제1축 정전전극이 형성되는 정전용량 터치 패널.

The method of claim 5,
The conductive material is located at a portion of the optical material corresponding to the bus electrode which is the edge region of the touch panel, and has an upper surface open to the outside and each of the first axis electrostatic electrodes formed on the open upper surface. Touch panel.

KR1020110059657A 2011-06-20 2011-06-20 Method of preparing capacitance type touch panel and capacitance type touch panel prepared by the same KR101191949B1 (en)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110059657A KR101191949B1 (en) 2011-06-20 2011-06-20 Method of preparing capacitance type touch panel and capacitance type touch panel prepared by the same
CN201280030563.4A CN103718142A (en) 2011-06-20 2012-06-19 Method for manufacturing a capacitive touch panel, and touch panel manufactured thereby
PCT/KR2012/004840 WO2012177032A2 (en) 2011-06-20 2012-06-19 Method for manufacturing a capacitive touch panel, and touch panel manufactured thereby
JP2014515772A JP2014520326A (en) 2011-06-20 2012-06-19 Capacitive touch panel manufacturing method and touch panel manufactured thereby

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110059657A KR101191949B1 (en) 2011-06-20 2011-06-20 Method of preparing capacitance type touch panel and capacitance type touch panel prepared by the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR101191949B1 true KR101191949B1 (en) 2012-10-17

Family

ID=47288157

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020110059657A KR101191949B1 (en) 2011-06-20 2011-06-20 Method of preparing capacitance type touch panel and capacitance type touch panel prepared by the same

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP2014520326A (en)
KR (1) KR101191949B1 (en)
CN (1) CN103718142A (en)
WO (1) WO2012177032A2 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015069048A1 (en) * 2013-11-11 2015-05-14 주식회사 티메이 Touch panel for implementing touch sensor using one sheet of film and method for manufacturing same
JP2015517193A (en) * 2013-03-28 2015-06-18 ナンチャン オー−フィルム テック カンパニー リミテッド Capacitive transparent conductive film and method for producing the same
US10222915B2 (en) 2014-07-04 2019-03-05 Alps Electric Co., Ltd. Input device and method of manufacturing it

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5880142B2 (en) * 2012-03-01 2016-03-08 大日本印刷株式会社 Touch panel sensor substrate, input / output device including touch panel sensor substrate, and method for manufacturing touch panel sensor substrate
KR101687163B1 (en) * 2014-10-07 2016-12-16 동우 화인켐 주식회사 Apparatus and method for inspection of touch panel
CN106339116B (en) * 2015-07-11 2023-07-14 宸新科技(厦门)有限公司 Touch panel and manufacturing method thereof

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009265748A (en) * 2008-04-22 2009-11-12 Hitachi Displays Ltd Display with touch panel
JP4720857B2 (en) * 2008-06-18 2011-07-13 ソニー株式会社 Capacitance type input device and display device with input function
KR101022105B1 (en) * 2009-01-16 2011-03-17 삼성모바일디스플레이주식회사 Touch Screen Panel and Fabricating Method for the Same
JP2010182027A (en) * 2009-02-04 2010-08-19 Hosiden Corp Touch panel and method for manufacturing touch panel
KR101304787B1 (en) * 2009-03-20 2013-09-05 티피케이 터치 솔루션즈 (씨아먼) 인코포레이티드 Capacitive touch circuit pattern and manufacturing method thereof
JP2011060617A (en) * 2009-09-11 2011-03-24 Toppan Printing Co Ltd Transparent conductive laminate, method of manufacturing the same, and capacitance touch panel
KR101309862B1 (en) * 2009-12-10 2013-09-16 엘지디스플레이 주식회사 Liquid Crystal Display Device Including Touch Panel

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015517193A (en) * 2013-03-28 2015-06-18 ナンチャン オー−フィルム テック カンパニー リミテッド Capacitive transparent conductive film and method for producing the same
WO2015069048A1 (en) * 2013-11-11 2015-05-14 주식회사 티메이 Touch panel for implementing touch sensor using one sheet of film and method for manufacturing same
US10222915B2 (en) 2014-07-04 2019-03-05 Alps Electric Co., Ltd. Input device and method of manufacturing it

Also Published As

Publication number Publication date
JP2014520326A (en) 2014-08-21
WO2012177032A3 (en) 2013-03-28
WO2012177032A2 (en) 2012-12-27
CN103718142A (en) 2014-04-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104635981B (en) Touch module and the touch control display apparatus with the touch module
KR101191949B1 (en) Method of preparing capacitance type touch panel and capacitance type touch panel prepared by the same
KR101093651B1 (en) Touch panel using metallic thin-film and manufacture method thereof
US20100053114A1 (en) Touch panel apparatus and method for manufacturing the same
US10606425B2 (en) Touch panel and method for making same
WO2017004975A1 (en) Capacitive touch screen and preparation method therefor, and touch device
CN104951155B (en) Capacitive touch device and preparation method thereof
KR20120049784A (en) Touch panel device
CN106126001A (en) Contact panel and manufacture method thereof
CN106201136A (en) Touch base plate and preparation method thereof, touch screen
KR101536236B1 (en) Touch sensitive structure of electronic device
CN104423711B (en) The method of touch panel and manufacture for the conductive layer of touch panel
CN204102115U (en) Input media
KR20160071542A (en) Electrode pattern, manufacturing method thereof and touch sensor including the same
KR20150052682A (en) Touch panel and manufacturing method thereof
US9323094B2 (en) Touch panel
KR20080092633A (en) Touch screen
KR101496250B1 (en) Touch Panel and Method for Making the Same
TWI462001B (en) Single lamellar projective capacitive touch panel structure and method of manufacturing the same
US20140247242A1 (en) Touch screen panel
JP2015011492A (en) Input device and manufacturing method therefor
KR101428009B1 (en) Touch Panel and Method for Making the Same
JP2013214185A (en) Touch panel sensor and manufacturing method of the same
KR101496254B1 (en) Touch Panel and Method for Making the Same
TWI447476B (en) Manufacturing method of touch panel

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
A302 Request for accelerated examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150923

Year of fee payment: 4

LAPS Lapse due to unpaid annual fee