KR101445036B1 - 포토마스크, 이를 이용한 패턴 형성 방법, 상기 패턴 형성 방법으로 제조된 패턴을 포함하는 적층체, 상기 패턴 형성 방법으로 제조된 패턴을 포함하는 컬러필터, 및 이를 포함하는 디스플레이 장치 - Google Patents

포토마스크, 이를 이용한 패턴 형성 방법, 상기 패턴 형성 방법으로 제조된 패턴을 포함하는 적층체, 상기 패턴 형성 방법으로 제조된 패턴을 포함하는 컬러필터, 및 이를 포함하는 디스플레이 장치 Download PDF

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Abstract

본 명세서는 포토마스크의 제조방법, 포토마스크, 이를 이용한 패턴 형성 방법, 상기 패턴 형성 방법으로 제조된 패턴을 포함하는 적층체, 상기 패턴 형성 방법으로 제조된 패턴을 포함하는 컬러필터, 이를 포함하는 디스플레이 장치에 관한 것이다.

Description

포토마스크, 이를 이용한 패턴 형성 방법, 상기 패턴 형성 방법으로 제조된 패턴을 포함하는 적층체, 상기 패턴 형성 방법으로 제조된 패턴을 포함하는 컬러필터, 및 이를 포함하는 디스플레이 장치{PHOTOMASK, FORMING METHOD OF PATTERN, LAMINATE COMPRISING THE PATTERN MANUFACTURED BY USING THE FORMING METHOD, COLOR FILTER COMPRISING THE PATTERN MANUFACTURED BY USING THE FORMING METHOD, AND DISPLAY DEVICE HAVING THE SAME}
본 명세서는 포토마스크의 제조방법, 포토마스크, 이를 이용한 패턴 형성 방법, 상기 패턴 형성 방법으로 제조된 패턴을 포함하는 적층체, 상기 패턴 형성 방법으로 제조된 패턴을 포함하는 컬러필터, 이를 포함하는 디스플레이 장치에 관한 것이다.
디스플레이 장치의 패턴을 형성하는 경우에, 기판에 패턴을 형성하는 방법 중에서, 포토마스크를 이용한 포토리소그래피법이 많이 사용되고 있다.
상기 포토리소그래피법은 포토레지스트(photoresist)를 기재 상에 균일하게 도포하고, 노광(exposing) 장비와 포토마스크를 사용하여 포토마스크 상의 패턴을 노광 시킨 후, 현상(developing), 포스트 베이크 과정을 거쳐 원하는 패턴을 형성시키는 모든 공정을 말한다.
상기 포토레지스트 층이 포지티브(positive) 레지스트 층이면, 노광된 영역에서 레지스트 층 재료의 화학적 변화가 일어나고, 상기 재료는 현상 시에 레지스트 층으로부터 떨어져 나갈 수 있다. 이에 반해, 포토레지스트 층이 네거티브(negative) 레지스트 층이면, 현상 시에 노광되지 않은 재료가 떨어져 나간다.
이때, 포토리소그래피법은 마스크패턴이 형성된 투과성 기판을 포토마스크로 배치하고 상기 포토마스크 상에 빛을 조사하여 레지스트막에 소정형상의 레지스트 패턴을 형성한다.
한국특허공개번호 제10-2009-0003601호
본 명세서는 포토마스크의 제조방법, 포토마스크, 이를 이용한 패턴 형성 방법, 상기 패턴 형성 방법으로 제조된 패턴을 포함하는 적층체, 상기 패턴 형성 방법으로 제조된 패턴을 포함하는 컬러필터, 이를 포함하는 디스플레이 장치를 제공하고자 한다.
본 명세서는 빛의 파장 중 일부의 파장을 차단하는 차단필터를 포함하는 포토마스크를 제공한다.
또한, 본 명세서는 기판 상에 차단필터 조성물을 이용하여, 빛의 파장 중 일부의 파장을 차단하는 차단필터를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 포토마스크의 제조방법을 제공한다.
또한, 본 명세서는 기판 상에 감광성 수지 조성물을 도포하여 포토레지스트층을 형성하는 단계; 및 상기 포토레지스트층 상에 상기 포토마스크를 배치시키고, 빛을 조사하여 상기 포토레지스트층에 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴 형성 방법을 제공한다.
또한, 기판; 및 상기 기판 상에 상기 패턴 형성 방법에 의해서 제조된 패턴을 포함하는 적층체를 제공한다.
또한, 상기 적층체를 포함하는 디스플레이 장치를 제공한다.
또한, 상기 패턴 형성 방법에 의해서 제조된 패턴을 포함하는 컬러필터를 제공한다.
또한, 상기 컬러필터를 포함하는 액정 표시 장치를 제공한다.
본 명세서의 일 실시상태에 따른 포토마스크를 이용하여, 서로 상이한 두께의 패턴을 쉽게 형성할 수 있는 장점이 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따른 포토마스크를 이용하여, 막의 특성을 해치지 않으면서, 서로 상이한 두께의 패턴을 형성할 수 있는 장점이 있다.
이하 본 명세서를 보다 상세히 설명한다.
본 명세서는 도막에 UV를 조사 하여 패턴을 형성하는 과정에 사용되는 포토마스크의 제작에 관한 것으로 포토마스크를 투과하는 빛을 조절함으로서 두 개 이상의 두께를 가지는 패턴을 형성할 수 있다.
본 명세서는 빛의 파장 중 일부의 파장을 차단하는 차단필터를 포함하는 포토마스크를 제공한다.
상기 차단필터는 자외선 중에서 일부의 파장의 빛을 차단하는 것이며, 구체적으로 상기 차단필터는 0 초과 330 nm 이하의 빛의 파장을 차단할 수 있다. 이 경우 자외선 노광기의 빛 중 단파장의 자외선을 차단할 수 있으며, 구체적으로 j 라인(303nm) 및 k 라인(313nm) 영역의 빛을 차단할 수 있다.
상기 차단필터는 빛의 파장 중 일부의 파장을 차단하므로, 차단필터에 빛이 조사되는 경우에 조사된 빛의 파장 중 일부의 파장만이 통과된다. 이때, 상기 차단필터의 빛의 투과율은 10% 초과 30% 미만일 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에서, 상기 포토마스크는 빛의 파장을 차단하는 차단부; 빛의 파장이 통과하는 통과부; 및 상기 차단필터에 의해서 빛의 파장 중 일부의 파장을 차단하는 부분 통과부를 포함할 수 있다.
구체적으로 포토마스크에 빛이 조사되는 경우, 상기 차단부에 조사된 빛은 모두 차단되고, 상기 통과부에 조사된 빛은 모두 통과하며, 상기 부분 통과부에 조사된 빛은 빛의 파장 중 일부의 파장을 차단하고 차단되지 않은 빛은 통과하는 것이다.
상기 차단부, 통과부 및 부분 통과부를 포함하는 포토마스크를 이용하여 패턴을 형성할 때, 상기 포토마스크에 의해서 두 개 이상의 두께를 가지는 패턴을 한번의 노광공정에서 형성할 수 있는 장점이 있다.
만약 단파장의 차단 없이 단순히 노광량 조절만으로 터치부를 형성할 경우 충분한 ΔH를 형성하기 위해 노광량을 적게 조사할 경우 패턴 탈락이 일어날 수 있다. 반대로 패턴 탈락을 줄이기 위해 노광양을 많이 조사할 경우 원하는 두께차(ΔH)는 얻어지지 않게 된다.
한편, 본 명세서의 포토마스크는 차단필터를 이용하여 330nm 이하의 빛을 차단함으로써 그리드를 사용하는 것보다 부분통과부의 투과율을 좀 더 높게 함으로써, 부분통과부에 의해 통과한 빛으로 형성된 패턴이 통과부에 의해 통과한 빛으로 형성된 패턴과 충분한 두께차(ΔH)도 형성하면서 탈락 없이 안정적으로 형성될 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 통과부는 포토마스크에 빛이 조사되는 경우에 조사된 빛이 모두 통과하는 부분으로 주로 갭 컬럼 스페이서를 형성한다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 부분통과부는 포토마스크에 빛이 조사되는 경우에 조사된 빛의 양이 전체적으로 조정되면서 더불어 빛의 파장 중 일부의 파장만 통과하는 부분으로 주로 터치 컬럼 스페이서를 형성한다.
본 명세서는 기판 상에 차단필터 조성물을 이용하여, 빛의 파장 중 일부의 파장을 차단하는 차단필터 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 포토마스크의 제조방법을 제공한다.
본 명세서의 일 실시상태에서, 기판 상에 빛의 파장을 차단하는 차단부 패턴을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에서, 포토마스크의 제조방법은 기판 상에 빛의 파장 중 일부의 파장을 차단하는 차단필터 패턴 및 차단부 패턴을 형성하는 단계를 포함할 수 있다. 기판 상에 차단필터 패턴 및 차단부 패턴을 형성할 때, 포토마스크에 조사된 빛이 모두 통과될 수 있는 통과부가 존재할 수 있도록, 기판 상에 차단필터 패턴 및 차단부 패턴이 없는 부분이 존재할 수 있다.
상기 차단부 패턴을 형성하는 조성물은 포토마스크에 조사된 빛이 모두 차단될 수 있다면, 특별히 한정하지 않는다. 이는 당 기술분야에서 일반적으로 사용되는 조성물일 수 있다.
상기 차단필터 조성물은 자외선 중에서 일부의 파장의 빛을 차단할 수 있는 물질을 포함하고 있다면, 특별히 한정하지 않는다.
상기 차단부 패턴 및 차단필터 패턴을 형성하는 방법은 당 기술분야에서 일반적으로 사용하는 방법으로 제조될 수 있으며, 특별히 한정되지 않는다.
본 명세서는 기판 상에 감광성 수지 조성물을 도포하여 포토레지스트층을 형성하는 단계; 및 상기 포토레지스트층 상에 본 명세서에 따른 포토마스크를 배치시키고, 빛을 조사하여 상기 포토레지스트층에 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴 형성 방법을 제공한다.
상기 기판 상에 감광성 수지 조성물을 도포하는 방법은 특별히 제한되지는 않지만 스프레이 법, 롤 코팅법, 스핀 코팅법 등을 사용할 수 있으며, 일반적으로 스핀 코팅법을 널리 사용한다.
상기 포토레지스트층에 조사하는 빛의 광원으로는, 당 기술분야에서 일반적으로 사용되는 것일 수 있다.
상기 차단필터는 자외선 중에서 일부의 파장의 빛을 차단하는 것으로 구체적으로 0 nm 초과 330 nm 이하의 파장의 빛을 차단할 수 있다.
이 경우 상기 차단필터에 의해 차단되는 일부의 파장의 빛은 제외되고, 차단필터에 의해 차단되지 않는 나머지의 파장의 빛은 차단필터에 의해서 영향을 거의 받지 않는 장점이 있다.
본 명세서는 기판; 및 상기 기판 상에 본 명세서에 따른 패턴 형성 방법에 의해서 제조된 패턴을 포함하는 적층체를 제공한다.
상기 패턴은 상기 기판으로부터 높이가 서로 다른 2 이상의 패턴을 포함할 수 있으며, 상기 기판으로부터 높이가 가장 높은 패턴과 상기 기판으로부터 높이가 가장 낮은 패턴의 높이 차이는 5000 내지 7000Å일 수 있다. 이 경우 양산을 위한 최적의 두께차이를 가질 수 있다.
상기 패턴은 상기 기판으로부터 높이가 서로 다른 두 개의 패턴을 포함할 수 있으며, 상기 패턴 중 어느 하나는 갭 컬럼 스페이서이고, 다른 하나는 터치 컬럼 스페이서일 수 있다.
구체적으로 예를 들면, 높이가 서로 다른 두 개의 패턴이 각각 갭 컬럼 스페이서와 터치 컬럼 스페이서라면, 패턴 중 상대적으로 높이가 높은 패턴은 갭 컬럼 스페이서이고, 패턴 중 상대적으로 높이가 낮은 패턴은 터치 컬럼 스페이서일 수 있다.
본 명세서는 상기 적층체를 포함하는 디스플레이 장치를 제공한다.
상기 디스플레이 장치는 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel, PDP), 발광 다이오드(Light Emitting Diode, LED), 유기 발광 소자(Organic Light Emitting Diode, OLED), 액정 표시 장치(Liquid Crystal Display, LCD), 씨오티 구조의 액정 표시 장치(Color filter on Thin FIlm Transistor-Liquid Crystal Display, COT-LCD), 박막 트랜지스터 액정 표시 장치(Thin FIlm Transistor- Liquid Crystal Display, LCD-TFT) 및 음극선관(Cathode Ray Tube, CRT) 중 어느 하나일 수 있다.
본 명세서에 따른 패턴 형성 방법에 의해서 제조된 패턴을 포함하는 컬러필터를 제공한다.
상기 컬러필터는 적색 패턴, 녹색 패턴, 청색 패턴, 블랙 매트릭스, 오버코트층 및 컬럼 스페이서를 포함할 수 있다.
또한, 상기 컬러필터는 상판으로 글래스기판에 적층되어 제작되거나 하판의 박막트렌지스터 기판에 제작될 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 패턴은 컬럼 스페이서로 상기 칼라 필터의 적층구조에 형성될수도 있고, 단독으로 상판 글래스에만 적용될 수도 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 패턴은 컬럼 스페이서일 수 있으며, 특별히, 흑색 착색제를 포함한 블랙 컬럼 스페이서일 수 있다.
컬러필터에서 컬럼 스페이서는 갭을 유지하기 위한 갭 컬럼 스페이서와 터치 시 작동하는 터치 컬럼 스페이서로 2 이상의 높이 또는 두께를 가질 수 있다.
상기 패턴은 상기 기판으로부터 높이가 서로 다른 두 개의 패턴을 포함할 수 있으며, 상기 패턴 중 어느 하나는 갭 컬럼 스페이서이고, 다른 하나는 터치 컬럼 스페이서일 수 있다.
구체적으로 예를 들면, 높이가 서로 다른 두 개의 패턴이 각각 갭 컬럼 스페이서와 터치 컬럼 스페이서라면, 패턴 중 상대적으로 높이가 높은 패턴은 갭 컬럼 스페이서이고, 패턴 중 상대적으로 높이가 낮은 패턴은 터치 컬럼 스페이서일 수 있다.
LCD 모듈은 칼라 필터층이 있는 상판과 박막트렌지스터(TFT)가 있는 하판을 컬럼스페이서라는 패턴 기둥을 이용하여 일정 갭(gap)을 유지시키는 채로 합착하여 제작된다. 이때 컬럼 스페이서는 갭유지을 위한 갭 컬럼 스페이서와 터치 시 작동하는 터치 컬럼 스페이서로 2종 또는 그 이상의 두께를 가지고 있다.
상기 2 이상의 높이 또는 두께를 가지는 컬럼 스페이서를 동시에 제작하는 방법으로 포토마스크에 스페이서의 CD(critical dimension)를 다양하게 조정하거나 그리드(grid)를 적용하여 투과율을 낮춤으로써 컬럼 스페이서의 두께 및 크기를 조정할 수 있다.
그러나, 상기와 같이 스페이서의 CD(critical dimension)를 조정하거나 그리드를 사용하여 빛의 투과율을 조정할 경우 투과하는 자외선의 전 영역에 걸쳐서 노광양이 감소되어 다양한 두께를 가지는 패턴의 구현이 어렵다. 즉, 일정 이상의 두께차(△H= 갭 컬럼 스페이서의 두께- 터치 컬럼 스페이서의 두께)를 확보하기 위해서 터치 컬럼 스페이서 형성시 마스크의 투과율을 10%미만으로 적게 하여 노광양을 줄이면 형성된 패턴의 탈락이 쉽게 일어나고 도막 특성을 확보하기가 어렵다. 또한, 그리드의 양에 따라 노광양 조절이 가능하더라도 컬럼 스페이서의 CD와 두께를 최적화하기가 어려우며, 안정한 공정 마진을 확보하기가 어렵다.
특히, 보다 높은 개구율을 갖기 위한 COT(Color filter on TFT) 구조에서 적용되는 블랙 패턴 스페이서의 경우 그 블랙의 특성을 가지고 있어 그리드를 적용한 마스크를 사용할 경우 양호한 패턴을 갖는 멀티 패턴특성을 확보하기가 어렵다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 일정 파장만 컷팅하는 방식을 적용하고 이와 더불어 보다 높은 투과율을 선택하여 가교 밀도를 높여 넓은 공정마진과 도막특성을 해치지 않는 안정적인 패턴을 확보 할 수 있다.
본 명세서의 패턴은 기판으로부터 2 이상의 높이를 가진 패턴을 1회 노광 공정을 통해 형성할 수 있으며, 착색제 특히, 블랙 착색제가 포함되어 있더라도, 현상성, 강도 등의 적절한 막의 특성을 유지할 수 있는 장점이 있다.
본 명세서에 따른 컬러필터를 포함하는 액정 표시 장치를 제공한다. 그 종류로는 씨오티 구조의 액정 표시 장치(Color filter on Thin FIlm Transistor-Liquid Crystal Display, COT-LCD), 박막 트랜지스터 액정 표시 장치(Thin FIlm Transistor- Liquid Crystal Display, LCD-TFT)등의 액정 표시 장치 일 수 있다.
이하, 본 명세서를 실시예를 들어 상세하게 설명한다. 하기 실시예는 본 명세서를 설명하기 위한 것으로, 본 명세서의 범위는 하기의 특허청구범위에 기재된 범위 및 그 치환 및 변경을 포함하며, 실시예의 범위로 한정되지 않는다.
<실시예 1>
블랙 스페이서 감광액(BCS_075_광학밀도 1.0인 제품)을 이용하고, 차단필터가 구비된 포토마스크를 사용했다. 이때, 적외선 노광기의 j 및 k 라인 영역에 해당하는 330nm 이하의 파장을 차단하는 차단필터를 사용했다. 패턴형성 공정은 다음과 같다.
블랙스페이서 감광액을 스핀 코팅 한 후 100℃ 오븐에서 100초 프리 베이크를 진행한다. 그리고 고압 수은 노광기를 통해 50mJ/㎠의 빛을 갭 컬럼 스페이서는 차단필터가 적용되지 않는 형태로 진행되고, 터치 컬럼 스페이서에만 차단필터가 적용된 테스트 마스크를 적용하여 노광한 후 0.043% KOH 현상액으로 60초 현상하였다. 현상한 글래스를 DI water로 린스 한 후 230℃에서 30분 포스트 베이크하여 블랙 스페이서 패턴을 얻었다. 이렇게 하여 얻은 스페이서 패턴 중 차단필터가 적용된 터치 컬럼 스페이서는 15%투과에서 최소 마스크 CD가 26㎛(광학 이미지_26C), 20% 투과에서는 19㎛(광학 이미지_19C) 가 얻어졌으며 갭 컬럼 스페이서와 두께차(ΔH)는 5000Å ~ 7000Å으로 양산 가능한 수준으로 얻어졌다. 차단필터 적용시15 % ~ 20 % 범위의 투과 영역에서 모두 양산가능 수준의 두께차(ΔH)를 얻을 수 있는 안정적인 공정마진을 확보하였다.
Figure 112013048892616-pat00001
갭 컬럼 스페이서는 노광기 전체의 빛을 흡수하여 안정적인 스펙트럼을 얻고, 터치 컬럼 스페이서는 j,K 라인이 완전히 제거된 영역이나 i-라인을 상대적으로 15% 이상 흡수하여 이상적인 두께차를 가지는 터치 컬럼 스페이서를 형성할 수 있다.
<비교예 1>
블랙 스페이서 감광액(BCS_075_광학밀도 1.0인 제품)을 이용하여 기존에 사용하던 그리드 마스크를 이용하여 블랙 스페이서 패턴을 형성한 것을 제외한 다른 공정은 실시예 1과 동일한 방법으로 진행하였다.
이때 형성된 터치 컬럼 스페이서는 5% 투과에서 얻어지는 최소 마스크 CD 가 28㎛(광학 이미지_28C), 10% 투과율에서는 15㎛(광학 이미지_15C) 패턴이 얻어졌다. 그러나 갭 컬럼 스페이서와 두께차이가 5% 투과는 8700Å으로 얻어지며, 10% 투과에서는 4100Å으로 양산 최적 수준인 5000Å~7000Å에서 벗어나는 값을 가진다. 그 투과도 영역의 중간 정도에서 ΔH는 구현 될 수 있으나 그 공정 마진이 적어 투과도 범위가 약간만 흔들려도 ΔH의 값이 많이 흔들리고 안정적인 값을 확보하기 어렵다.
Figure 112013048892616-pat00002
갭 컬럼 스페이서는 노광기 전체의 빛을 흡수하여 안정적인 패턴을 얻었고, 터치 컬럼 스페이서는 전 영역에 걸쳐 노광양이 감소하여 안정적인 패턴을 형성하기가 어렵고, 갭 컬럼 스페이서와의 두께차를 안정적으로 유지하기가 어렵다.
<실험예 1>
터치 컬럼 스페이서에 적용된 스펙스럼의 비교
(1) 노광기 전체의 빛 중 터치 컬럼 스페이서의 형성을 위한 빛의 투과율이 실시예 1는 15%이고, 비교예 1는 5%일 때 (스펙트럼 시뮬레이션)
Figure 112013048892616-pat00003
비교예 1은 330nm 이하의 빛이 조사되나 극히 적은 양이고, i-라인의 빛의 투과율도 극히 작아, 광학밀도 1을 갖는 도막에서 빛이 막을 통과하여 Through cure하기가 힘들어 안정적인 패턴을 형성하기가 힘들었다.
한편, 실시예 1에는 330nm 이하의 빛은 제거되었으나, i-라인을 포함하는 장파장의 빛이 일정이상의 투과율을 가지므로 패턴 탈락이 없이 안정적인 패턴을 형성할 수 있었다.
(2) 노광기 전체의 빛 중 터치 컬럼 스페이서의 형성을 위한 빛의 투과율이 실시예 1는 20%이고, 비교예 1는 10%일 때 (스펙트럼 시뮬레이션)
Figure 112013048892616-pat00004
비교예 1의 경우 단파장 영역이 강하게 나와 터치 컬럼 스페이서 형성은 용이하나, 그 두께가 일정 요구 두께 이상으로 형성되어 갭 컬럼 스페이서와 두께 차이가 적게되어 적절한 ΔH를 나타낼 수 없었다.
이와 반대로 실시에 1의 경우 i-라인의 강도는 증가하나 여전히 에너지가 높은 j, k-라인이 완전히 제거되어 적절한 ΔH를 나타냈다.
<실험예 2>
갭 컬럼 스페이서와 두께차이(ΔH) 측정
Figure 112013048892616-pat00005
상기 광학 이미지에서 숫자는 최소부착한 마스크 CD이며 C는 원형 패턴(circle)을 의미한다.
갭 컬럼 스페이서와 터치 컬럼 스페이서와 두께 차이(ΔH)의 양산 최적 수준은 5000 ~ 7000 Å이므로, 본 비교예 1의 갭 컬럼 스페이서와 터치 컬럼 스페이서와 두께 차이(ΔH)는 최적 수준을 벗어나는 값을 가진다.
그 투과도 영역의 중간 정도에서 갭 컬럼 스페이서와 터치 컬럼 스페이서와 두께 차이(ΔH)는 구현될 수 있으나, 그 공정 마진이 적어 투과도 범위가 약간만 흔들려도 갭 컬럼 스페이서와 터치 컬럼 스페이서와 두께 차이(ΔH)의 값이 흔들리고 안정적인 값을 확보하기 어렵다.

Claims (16)

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  8. 기판; 및 상기 기판 상에 형성된 포토레지스트층 위에 빛의 파장 중 일부의 파장을 차단하는 차단필터를 포함하는 포토마스크를 배치시키고, 빛을 조사하여 제조된 패턴을 포함하며,
    상기 패턴은 상기 기판으로부터 높이가 서로 다른 2 이상의 패턴을 포함하고, 상기 패턴 중에서, 상기 기판으로부터 높이가 가장 높은 패턴과 상기 기판으로부터 높이가 가장 낮은 패턴의 높이 차이는 5000 내지 7000Å인 것인 적층체.
  9. 삭제
  10. 삭제
  11. 청구항 8에 따른 적층체를 포함하는 디스플레이 장치.
  12. 기판; 및 상기 기판 상에 형성된 포토레지스트층 위에 빛의 파장 중 일부의 파장을 차단하는 차단필터를 포함하는 포토마스크를 배치시키고, 빛을 조사하여 제조된 패턴을 포함하며,
    상기 패턴은 상기 기판으로부터 높이가 서로 다른 2 이상의 패턴을 포함하고, 상기 패턴 중에서, 상기 기판으로부터 높이가 가장 높은 패턴과 상기 기판으로부터 높이가 가장 낮은 패턴의 높이 차이는 5000 내지 7000Å인 것인 컬러필터.
  13. 삭제
  14. 청구항 12에 있어서, 상기 패턴은 상기 기판으로부터 높이가 서로 다른 두 개의 패턴을 포함하고,
    상기 패턴 중 어느 하나는 갭 컬럼 스페이서이고, 다른 하나는 터치 컬럼 스페이서인 것인 컬러필터.
  15. 삭제
  16. 청구항 12에 따른 컬러필터를 포함하는 액정 표시 장치.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2006317737A (ja) 2005-05-13 2006-11-24 Dainippon Printing Co Ltd 露光用マスク
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