KR101440839B1 - 고정점이 없는 플로트에 의한 편평한 유리의 제조 - Google Patents

Abstract

본 발명은 플로트 장치 내에서 용융 금속 배스(5) 상에 용융 유리(1)의 연속하는 플로트를 포함하는, 편평한 유리의 제조 방법 및 디바이스에 관한 것으로, 이로서 상기 플로트 유리는 상기 장치 내에서 고정점(fixed point)를 갖지 않는 상기 금속 배스 상에 유동 리본(moving ribbon)을 형성한다. 상기 목적을 위해, 용융 금속은 정지점일 수 있는 지점(6), 특히 상기 배스의 종축 상에 위치한 최상류 플로트 지점에 주입될 수 있다. 상기 유리는 유리세라믹 전구체 유리이다. 본 발명에 따르면, 3mm 보다 더 얇은, 매우 얇은 플레이트일 뿐 아니라 75cm 보다 큰, 커다란 유리세라믹 판을 제조할 수 있다.

Description

고정점이 없는 플로트에 의한 편평한 유리의 제조{FLAT GLASS PRODUCTION BY MEANS OF FLOTATION WITH NO FIXED POINT}

본 발명은 편평한 플로트 유리, 특히 편평한 유리세라믹의 제조에 관한 것이다.

유리세라믹은 적어도 하나의 결정상을 포함하며 전구체 유리(또는 기본유리)로부터 세라믹화 열처리 후에 얻어진 실리카(silica)가 풍부한 물질이다. 유리세라믹은 매우 낮은 선형 팽창 계수를 가지며, 이는 종종 15×10^-7K^-1 미만이다. 유리세라믹은 적어도 50중량%의 실리카를 포함할 수 있다. 유리세라믹의 주요 계열(family)은 SiO₂, Al₂O₃ 및 Li₂O 를 모두 포함하는 것으로 상기 세라믹화 공정에서 베타-유크립타이트(beta-eucryptite), 베타-스포듀민(beta-spodumene) 또는 베타-쿼츠(beta-quartz)의 결정을 생성한다.

이들 유리세라믹들은 투명하거나 또는 불투명할 수도 있으며, 특히 호브 플레이트(hob plates) 또는 내화성 플레이트로서 사용되며, 보다 일반적으로는 매우 낮은 팽창 계수를 갖는 유리를 요구하는 경우에 사용된다. 그러나, 유리세라믹은 뜨거울 때 실투되는(투명성을 잃는) 경향이 크다는 단점이 있어, 일반적으로 성형 장치(forming installations) 상에서의 많은 유지 보수의 원인이 된다. 상세하게는, 상기 유리세라믹 플레이트 또는 시트는 종종 금속 롤들 사이에서의 압연(rolling)에 의해 제조되고 실투 침전물(devitrification deposits)들은 상기 롤의 표면을 손상시킨다. 따라서, 롤이 주기적으로 (심지어는 2~3일마다) 정지되거나 또는 교체되어야 한다. 따라서 상기 유리세라믹 성형 장치는 일반적으로 유지 공정을 쉽게 하도록 설계되며, 심지어 제조 시에도 상기 롤들에 고도의 접근성을 갖게 설계된다. 따라서, 당업자들이 플로트 유리 장치의 경우, 공정 중에 중심부에 접근할 수 없는 거대한 장치에서 유리세라믹을 생성하는 것을 생각할 수 없다. 상세하게는, 이들 장치들은 수십 미터 혹은 수백 미터 길이와 수 미터의 너비를 가지며, 이를 가동시키거나 이를 중지시키는 전이시간도 상당하다. 따라서 이러한 장치들은 쉬지 않고 가동하며 보수를 위한 중지는 치명적 마비상태가 된다. 유리세라믹을 롤들 사이에서 압연하여 성형시키는 통상의 장치들은 매우 큰 시트의 제조가 불가능하다. 그 너비는 700nm 미만으로 제한된다. 그러나 오늘날, 더 큰 너비의 플레이트가 요구된다. 유사하게, 이들 압연 공정은 3㎜ 미만의 매우 얇은 시트의 제조에는 사용될 수 없다.

본 출원인은 유리세라믹의 플로트(floating)는 소다-석회-실리카(soda-lime-silica) 타입의 통상의 일반적인 유리용 방법에서는 달성될 수 없다는 것을 효과적으로 확인할 수 있었다. 상세하게는, 실투는 상기 유리가 금속 플로트 배스 상에서 주조되는 구역(zone)에서 자주 발생한다. 플로트 유리 리본의 제조시에, 플로트 유리 시트를 제조하기 위하여 용융 유리는 일반적으로 주석 또는 주로 주석 합금으로 된 용융 금속의 배스 상에 부어지고, 여기서 점진적으로 냉각되는 연속 리본이 형성되며 lehr로 불리우는 어닐링 로(annealing furnace)로 이송하는 추출 로울러(extractor rollers)에 의해 추출된다. 유리의 리본이 플로트 배스 상에서 이동할 때, 유리가 소정의 두께로 인발되고 고정될 수 있게 유리의 온도 및 더욱 정확하게는 유리의 점도를 조절하기 위해 제공된 가열 시스템 및 냉각 시스템에 의해, 유리의 리본을 뒤덮는 구역은 방해된다.

플로트의 종축 및 플로트 배스의 최상류에 위치한 용융 플로트 물질의 중심 구역은 사실상 플로트 물질의 속도가 낮거나 제로인 구역(zone)이다. 이러한 형태의 구역은 특히 유리 세라믹의 경우에, 실투가 촉진되는 것으로 나타난다. 상기 실투는 동일한 위치에서 축적되어 제조 공정의 중지를 요구하는 결정체의 형성을 야기한다.

본 발명에 따르면, 이러한 문제점은 용융 플로트 물질용으로 정지점(stationary point)이 전혀 없는 플로트 장치(float installiation)를 고안함으로써 해소되었다. 따라서 상기 용융 플로트 물질의 속도는 어느 지점에서도 제로가 되지 않는다.

미국특허 제 3,843,345호는 상기 유리의 주입(pouring 또는 fall)이 없는 플로트 배스 상에서 통상의 유리의 플로팅(floating)을 설명한다. 상기 유리가 금속으로 이송되는 위치에서, 반드시 멈춰지는 유리/금속/내화물의 삼중점이 (사실상, 일렬로) 존재한다. 또한, 그 모서리에서의 상기 유리의 속도는 제로일 수 있다. 따라서 이 장치는 유리세라믹 전구체 유리 용으로는 적합하지 않다.

미국특허 제 3,684,475호는 플로트 배스 상에서 압연된 리본의 통과를 설명 한다. 따라서, 용융 유리의 주입은 포함하지 않는다. 그러한 매우 높은 온도에서의 압연은 넓고/넓거나 두꺼운 유리 시트를 얻는 것이 불가능하다.

미국특허출원 제 2002/0023463호는 표면 결정화 없이 플로트 될 수 있는 유리세라믹의 특이한 조성을 설명한다.

일본특허 제 2000281365호의 요약서는 플로트 봉입물(enclosure)의 플로트 배스 모서리들을 통해 하류에서 상류로의 주석의 재순환을 설명한다.

다른 문서들로는 미국특허 제 3,539,320호, 미국특허 제 4,115,091호 및 미국특허 제 3,718,450호가 언급될 수 있다.

본 발명에 따르면, 일반적으로 전구체 유리가 주입되는 위치에서 유리의 낮은 속도 또는 제로 속도의 지점 또는 구역을 형성하는 통상적인 플로트 장치를 사용할 수 있으나, 유리의 임의의 정지점을 제거하기 위하여 이 위치에 용융 금속의 주형(casting)을 또한 배치한다. 상기 용융 금속의 주형은 유리가 움직이고 있는 지점을 구성하도록 배열된다. 용융금속의 주형은 유리에 대한 이동영역을 구성하도록 배열된다. 유입(introduction)이 없는 경우, 유리를 고정시킬 수 있는 플로트 지점에서 용융 금속이 유입된다. 이 용융 금속은 플로트 배스의 것과 동일한 종류인 것이 바람직하며 이와 혼합될 것이다. 용융 금속의 주형은 임계 구역에서 용융 물질을 따라 움직이며, 용융물질이 정지하는 것을 방지한다. 따라서, 플로트 장치에 유입된 모든 용융 유리 물질은 임의 위치에서 정체(정지) 없이 플로트 장치의 출구를 향해 움직이므로, 어느 위치에서도 실투가 없어 이는 유리세라믹을 제조하는 필수 조건으로 매우 유용하다. 정지점을 막도록 의도된 용융 금속의 주형은 플로트 장치의 종축에 대해 유리의 주입이 대칭되는 것을 막지 않도록 종축에 대해 대칭하는 방법으로 수행된다. 이 주형은 예를 들어 유리스파우트 립 너비의 적어도 50%, 유리스파우트 립의 심지어는 적어도 80% 이상에 대응하는 특정한 너비 이상으로 수행되는 것이 바람직하다. 따라서, 장치의 큰 너비를 훨씬 초과하는 실제의 커튼 또는 캐스케이드를 포함할 수도 있다. 바람직하게는, 금속은 플로트 배스에서 난류(turbulence)를 야기하지 않도록 주입된다. 따라서, 내화 물질(예를 들면, 규선석으로 만든)의 기울어진 평면상에 주입되는 것이 바람직하며, 기울어진 평면은 플로트 배스에서 끝난다. 이 방법으로, 금속은 배스 내로 순조롭게 주입된다.

일 실시예에 따르면, 장치의 정상(head)에서 금속 주형으로 인해 용융 금속이 초과되는 것을 막기 위해, 용융 금속은 동일한 플로트 배스의 적어도 하나의 하류 지점으로부터 유입된다. 유용하게는, 동일한 유입된 금속의 적어도 일부가 상기 배스의 정상에서 주조되는 것이다. 이 경우, 금속은 사실상, 부분적으로 상류에서 하류로 또는 그 반대로 반복하여 루프로 순환한다. 이러한 재순환은 또한 성형(forming)을 방해할 수 있는 배스 내부의 본래의 재순환을 제한 또는 심지어 방해할 수도 있다. 바람직하게는, 장치의 대칭 작동을 방해하지 않도록, 용융 금속은 유출(tapped off)되어 상기 장치의 종축에 대해 대칭하는 방법으로 재주입된다. 따라서, 금속이 장치의 하류 일면으로부터 유입되면, 금속은 장치의 다른 면으로부터 장치의 종축에 첫 번째로 대칭 하는 위치에 동일한 속도로 유입된다. 이 경우, 용융 금속은 종축에 대칭 하는 방법으로 플로트 배스의 측면 부분에서 유입될 수 있다. 동일하게 재유입에도 적용되며, 이는 일반적으로 장치의 종축 상에 있는 축의 파이프를 통해 수행되며, 적어도 유리의 종축 상에 위치한 최상류 지점에 금속을 주입시키는 것으로 이해된다. 상기에 이미 언급된 바와 같이, 파이프에 주입되는 금속은 이 위치에서 플로트 배스의 너비에 비례하여 적절히 넓은 것이 바람직하다. 용융 금속의 순환 시스템의 대칭은 조절된 펌프를 사용함으로써 보장될 수 있다. 이들 펌프의 유속은 일반적으로 그들에게 공급된 공기압에 의해 조절될 수 있다. 조절은 상기 유리 시트의 온도와 무진동 인발(pulse-free drawing)의 균형을 보장하도록 시도된다.

본 발명에 따르면, 용융 금속은 상기 배스의 종축상에 위치한 최상류의 유리 플로트 지점에서 연속적으로 주입된다. 상기 주입된 용융 금속은 특히 최하류에 위치한 동일한 배스의 유입 지점(tapping point)으로부터 적어도 부분적으로 시작될 수도 있다.

상류에서 주입된 금속의 유속은 장치의 크기에 따른다. 상기 금속의 유량은 유리의 정지점 형성을 방해하는데 충분하다. 최상류 지점에서의 유속은 일반적으로 초당 0.05 내지 5 리터이다.

일 실시예에서, 상기 플로트 배스상에 도포된 유리질 조성물은 유리세라믹 전구체 유리이다. 유리세라믹의 특이한 구조는 시트/플레이트 형태로 성형한 후, 그리고 심지어 일반적으로 플로트 리본의 종방향 및 횡방향 커팅 후에 특정 열처리(세라믹화 반응이라 불리움)에 의해 달성된다. 상기 유리세라믹 전구체 유리는 또한 "기본" 유리로 부르기도 한다. 간략하게, 본 발명에서는 단순히 "유리"라 지칭한다.

본 발명은 플로트 유리, 특히 유리-세라믹 전구체의 리본을 제조하는 방법에 관한 것으로, 플로트 배스 상에 형성된 리본은 배스를 따라 유동하고, 리본은 충분히 경화되었을 때 배스로부터 제거된다. 본 발명은 다양한 두께의 유리를 제조하는데 사용되며, 더욱 상세하게는 얇은 리본, 특히 3 mm 이하의 얇은 리본의 제조에 관한 것이다.

보다 상세하게는, 본 발명은 플로트 장치의 플로트 배스 상에 용융된 유리의 연속 플로팅(continuous floating)으로 구성된 편평한 유리의 제조 방법에 관한 것으로, 상기 플로트된 유리는 장치 내에서 어떠한 정지점도 가지지 않는 플로트 배스 상에서 이동하는 리본을 단계적으로 형성한다.

리본의 두께는 추출기에 의해서 가해진 견인력(traction force)에 의해 결정되며, 필요한 경우 리본의 상류 모서리에서 작용하는 울퉁불퉁한 "상류 로울"의 작용에 의해 결정된다. 상세하게는, 주어진 인발에 있어서, 즉, 주어진 단위 시간당 로(furnace)에서 나오는 유리의 양에 있어서, 플로트 유리 리본의 두께는 lehr에서의 리본 속도와 리본 너비의 함수(function)이다.

유리가 금속 위에 주입되는 순간, 플로트 인클로저의 입구에서, 유리는 자기의 무게 영향으로 금속 표면상에 충분히 도포 되도록 유동적이다. 유리하게는, 이 위치에서의 온도는 유리의 동적 점도를 3 내지 4.5 푸아즈(poise)로 나타낸다. 유리세라믹 전구체 유리에 있어서, 이 위치에서 유리의 온도는 일반적으로 1300 내지 1450℃로 된다.

상기 리본이 플로트 배스 상에서 진행하는 동안, 상기 리본은 그 두께를 줄이기 위해 인발된다. 인발 공정은 일반적으로 분당 15 내지 30 미터인 리본 속도로 하루에 500 내지 600톤을 출력하기 위해 약 2 내지 5mm의 통상의 두께로 얻어진다. 그러한 플로트 배스에서 진행하는 유리 리본의 출력 및 속도는, 리본 하에서, 배스의 더 차가운 출구 단부쪽을 향한 주석의 전류(current)를 야기하며, 이는 하류 전류라 불리운다. 이 하류 전류 상에서 리본을 따라 이송된 상기 금속은 배스의 출구 벽을 가격하고, 이후 반사에 의해 배스의 상류쪽을 향하는 순환 전류(return current)를 형성한다. 이 상류 전류는 유리 리본의 모서리와 배스의 측벽 사이에서 특히 강할 수 있다. 더 차가운 상류 전류는 난류와 같은 혼란을 야기하는 하류 전류와 혼합되고 하류 전류의 금속 온도보다 더 낮은 온도의 금속에 주입된다. 이후, 특히 횡단 구역들(transverse zones)을 따라, 인발위치에서 고온 변화가 나타나며, 여기서 유리들은 이러한 온도 변화에 특히 민감하다. 이러한 온도차는 유리의 점도를 국부적으로 변경시키고 이로써 인발이 균일하지 않을 수 있기 때문에 특히 유해하다. 이것은 유리 리본의 변형 및 배스의 일면으로부터 다른 면으로 주기적으로 움직이는 유리 리본의 측면 불안정성(lateral instability)을 야기한다. 이러한 불안정성은 특히 lehr에서 온도에 혼란을 주어 어닐링(annealing)에 유해한 영향을 주며 심지어는 파손을 야기할 수도 있다.

상기 상류 전류로부터 발생하는 단점들을 제거하기 위하여, 프랑스 특허 제 2 254 527호는 소다-석회-실리카 유리의 경우, 배스의 출구 벽에 의해 반사된 상류 전류가 상기 인발 위치의 하류 전류와 혼합되는 것을 막기 위하여, 횡단 장막을 유리 리본 근처에 두는 배치를 설명한다. 이를 위하여, 제 1 트윌(tweel)이 상기 인발 위치의 하단부에 위치한 유리 리본 하류에 배치되고; 이 트윌은 상기 하류 전류의 일부만이 상기 리본 하류로 흘러들어가도록 허용하며, 상기 상류 전류는 상기 리본의 모서리를 따라 유동하게 한다. 상기 제 1 트윌의 상류와 이격하여 상기 유리의 최대 가속 위치에 배치된 제 2 트윌은 상기 하류 전류의 일부만이 상기 유리 리본 하류로 흘러들어가도록 허용하고 상기 상류 전류가 상기 리본의 모서리를 따라 유동하게 하는 제 2 위치에서 동일한 방법으로 작용한다. 또한, 프랑스 특허 제 2 372 122 호는 상기 언급된 횡방향 트윌을 상기 트윌의 상류에 위치하고 상기 배스의 측벽을 따라 이동하는 금속 전류를 가로막는 기능이 있는 고정된 변류기(deflector)와 결합시키는 것을 제안하고 있다.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 플로트 배스는 한 개 이상의 트윌을 구비하며, 바람직하게는 상류 전류의 강도를 제한하는 하나 이상의 고정된 변류기를 구비한다.

본 발명의 일 실시예에 따르면 상기 리본은 플로트 배스 상에서 움직이며, 용융 금속의 일부는 배스의 하류 단부에서 시작되어 배스의 상류로 재주입된다. 변형에 의하면, 유입된 융융 금속의 양은 실질적으로 상기 언급된 상류 전류, 즉 유리 리본의 구동을 수반하는 용융 금속 전류의 배스 출구벽에서의 반사에 의해 생성된 전류를 따라 인발되는 용융 금속의 양에 상응한다. 변형에 의하면, 본 발명에 따른 방법은 상기 배스에서의 순환 전류, 특히 난류로부터 발생한 파괴(distruption)를 사실상 완전히 제거하기 위해 사용된다. 따라서, 그 효과와 결합하여, 용융 금속은 상기 유리의 이동 수용 구역(moving receiption zone)을 형성하기 위하여 배스의 상류에서 주조되고, 이는 플로트 유리의 최상류 위치에서의 임의의 탈유리화(devitrification)를 막는다.

용융 금속은 또한 상기 배스 내로 재유입되기 전에 열처리를 수행할 수 있다. 상세하게는, 유입된 금속의 온도가 상기 유입된 금속이 재유입될 배스 위치의 금속 온도에 상응하는 온도로 되는 것이 바람직하다. 이는 난류를 막을 뿐 아니라, 상기 금속이 재유입될 위치에서 온도 변화가 야기되는 것을 막을 수 있다.

용융 금속은 상기 배스의 측면부로부터, 바람직하게는 어느 한쪽 면에서 대칭 방법에 의해 유입될 수도 있다. 상기 용융 금속은 배스의 표면에서 유입될 수도 있다. 또한 상기 용융 금속은 상기 면들에서 배스의 하류 또는 하류를 통해 태핑될 수도 있다. 바람직하게는, 상기 유입(tapping)은 상기 용융 금속상에서 구동하는 유리 리본의 궤적이 분열되지 않도록 배스의 종축에 대해 대칭하는 방법으로 수행된다.

상기 유입은 또한 배스의 단부에서 또는 최상류 단부에서 전적으로 수행될 수도 있다.

변형에 의하면, 상기 유입된 용융 금속은,

- 한편으로는, 탈유리화를 방지하기 위하여 유리 질량의 최상류 위치에서 부분적으로, 그리고

- 다른 한편으로는, 상기 플로트 장치의 입구 및 출구 사이에서 적어도 하나 이상의 제 2 지점(second point)으로,

동시에 재유입될 수 있다. 변형에 의하면, 제 2 지점(사실, 바람직하게는 상기 배스의 종축에 대해 대칭하도록 위치된 한 쌍의 제 2 지점들)이 상기 유리의 인발 위치 단부에 배치된다. 이 선택은 가장 끝 단부가 말려진 후에 위로부터 유리 리본을 따라 인발되기 때문에 몇몇 방해물(encumbrances)이 있는 위치에서도 이 작동이 가능하게 된다. 또한, 이 위치의 선택은 상기 위치에서 일반적으로 800 내지 1200℃사이의 온도인 금속의 온도를 증가시키기 위해 필요한 에너지를 제한하는 것을 가능하게 한다.

따라서, 변형에 의하면, 유입되고 재유입된 금속의 흐름은 한편으로는, 배스의 종축상에 위치한 최상류 유동 지점(float point)에 공급되고, 또한 다른 한편으로는 상기 선행지점(preceding point)과 태핑 지점(tapping point) 사이에 위치한 적어도 하나 이상의 다른 재유입 지점에 공급되도록 분리된다.

본 발명의 변형에 의하면, 용융 금속이 제 2지점(및 물론, 최상류 위치인 경우는 아님)에서 실질적으로 제로 속도로 그리고, 바람직하게는 상기 플로트 장치의 종축에 대해 대칭하는 방법으로 상기 배스 상에 재유입 된다. 이 변형에 의하면, 재유입된 용융 금속의 질량으로 인해 새로운 전류의 생성을 막거나 또는 적어도 제한할 수 있다. 대칭적인 재유입의 보다 바람직한 선택은 또한 재료(물질)의 일방적 첨가에 의해 상기 유리 리본의 궤적을 방해하는 않는 것이 가능하게 한다.

본 발명은 또한 앞서 제시된 방법을 적용하기 위한 장치를 제안한다. 플로트 유리 리본의 제조를 위한 이 장치는 리본이 이동중인 플로트 배스, 상기 유리를 배스의 상류에 주입하는 수단 및 용융 금속을 배스의 상류 및 종축 상에서 주조하는 수단을 포함한다.

변형에 의하면, 상기 장치는 또한 상기 용융 금속을 유입하는 적어도 하나 이상의 시스템 및 상기 유입 구멍(tapping orifice)을 적어도 하나의 재유입 지점 또는 위치에 연결하는 적어도 하나의 파이프를 포함한다.

금속을 유입시키기 위한 시스템은 플로트 배스의 바닥에 존재하는 구멍일 수도 있다.

변형에 의하면, 상기 용융 금속을 유입하는 시스템은 배스의 하단부에의 범람으로, 적어도 하나의 파이프는 상기 범람 시스템(overflow system)을 적어도 하나 이상의 재유입 지점 또는 위치에 연결한다.

상기 범람 시스템은 상기 배스에 근접하게 결합되고 상기 파이프가 배스 외부에 있는 경우 방수로(spillway)에 의해 연결된 탱크 또는 보유고(reserve)로 구성될 수 있다. 이는 적어도 하니 이상의 제 2 지점(상기에 이미 언급된 것으로서, 제1 지점은 플로트 유리의 최상류 및 종축상에 위치한 위치), 바람직하게는 배스의 어느 한 면에서 금속의 재유입을 허용하고, 이는 위로부터 수행된다. 유용하게는, 본 발명은 제2지점에 재유입된 금속을 실질적으로 제로 속도로 배스에 흐르게 하는 플레어 표면(flared surface)을 구비한 방수로 타입의 디바이스 사용방법을 제공한다. 상기 외부 파이프는 용융 금속으로 인한 부식에 저항성이 있으며; 이는 예를 들어 지르콘/알루미나 타입의 내화성 물질로 제조된다.

본 발명의 다른 변형된 실시예에 따르면, 범람 시스템 및 파이프는 배스 내에 제공된다. 상기 파이프는 특히, 유리 리본의 움직임에 의해 형성되는 용융 금속의 전류와의 접촉 없이 배스 내에서 순환 전류를 허용하게 하는 배스 벽의 존재에 의해 형성된다.

바람직하게는, 이들 변형들 중 어느 것에 따르면, 본 발명은 상기 파이프가 가열 요소들과 결합하는 것을 준비한다. 후자는 유도 타입(induction type)의 가열 수단인 것이 바람직하며, 특히 배스 외부에 파이프가 있는 경우, 내화성 물질로 제조되는 것이 바람직하다. 상기 배스 내에 순환 채널이 준비되는 경우, 상기 채널을 간접적으로 가열하는 전극과 같은 가열 요소들을 제공하는 것이 가능하다.

따라서, 본 발명은 또한 적어도 하나의 외부 파이프(duct)을 통해 하류로부터 상류까지 적어도 부분적으로 재순환하는 플로트 배스 상에서의 플로트 방법(float method)에 관한 것으로, 하류에서 유입된 금속은 상류로 재유입되기 전에 재가열된다.

본 발명은 또한 유입 시스템 및 재유입 위치 및 지점(또는 지점들) 사이에 주입되는 적어도 하나의 흑연 펌프와 같은 펌핑 시스템(pumping system)을 제공하는 것이다. 상기 펌핑 시스템은 상기 배스 내에서 용융 금속의 수준을 지속적으로 유지하기 위하여 파이프 내에서 용융 금속의 순환을 허용할 것이다. 만약 몇 개의 펌프들이 존재한다면, 재순환된 금속의 유속(flow rate)을 제어하는 시스템은 상기 시스템들의 균형을 보장하도록 제공될 수 있다. 변형된 실시예 및 상기 파이프가 감소된 길이인 경우에 따르면, 상기 열처리에 연결된 용융 금속의 밀도 변화는 예를 들면 동일한 결과를 야기하는 용융 금속의 속도를 제공하는데 사용된 파이프 내에서 나타난다.

본 발명의 다른 세부 내용 및 유용한 특성들은 도시하는 도 1 내지 8을 참고로 하는 본 발명의 예시적인 실시예의 설명으로부터 드러날 것이다.

도 1은 플로팅(floating)에 의해 유리 리본을 제조하기 위한 플로트 배스를 포함하는 통상의 탱크(선행 기술)의 상류를 도시한 개략측면도(a) 및 정면도(b).

도 2는 본 발명에 따른 디바이스의 개략 측면도.

도 3은 통상의 플로트 장치(선행 기술)의 위로부터의 개략적인 전체도.

도 4는 본 발명의 일 실시예의 개략적인 정면도.

도 5는 본 발명의 또다른 실시예에 따른 개략적인 측면도.

도 6은 본 발명의 또다른 실시예에 따른 개략적인 정면도.

도 7은 도 4의 경우에 대응하는 디바이스 일부의 다이아그램의 단면을 도시한 부분 측면도.

도 8은 도 7을 도시하는 정면도.

도 1은 측면(a) 및 상류면(b)으로부터 보여지는, 선행 기술에 따른 플로트 유리의 제조를 위한 연장된 탱크의 상부를 도시한 것이다. 유리(1)는 두께 및 스파우트립(2)과 수직 전면 트윌(vertical front tweel, 3) 사이의 하중을 조절한 후, 상기 스파우트 립 위를 유동하고, 이후 금속의 배스(5) 위를 플로트한다. 이는 상기 유리가 스파우트 립 아래에 힐(4)을 형성하는 것을 볼 수 있다. 화살표는 용융 유리의 움직임을 나타낸다. 종축(AA') 상에 대칭되게 위치한 상기 힐의 최상부 위치(6)는 정지점의 위치이다. 이 위치는 장치의 또 다른 측면을 이동하는 유리의 두 흐름 사이에서 상기 축(AA')에 대칭적으로 위치한다.

도 2는 측면으로부터 보여지는 본 발명에 따른 디바이스를 도시한다. 상기와 같이, 유리는 제 1 트윌(3)에 의해 두께 조정(thickness calibration) 후 플로트 배스(5) 상을 플로트하기 위하여 스파우트 립(2) 위를 이동한다. 힐(4)은 스파우트 립(2) 하류에 형성된다. 발명에 따르면, 배스(5)와 같은 종류의 용융 금속은 용융 유리에 대한 정지점 형성을 막는 위치(6)에서 일정하게 유동한다. 파이프(7)는 제조된 용융 금속이 플로트 배스에 도달하기 전에 경사판(201) 위를 유동하도록 이동시켜, 액상 금속의 배스 상에서 난류를 막도록 한다.

도 3은 본 발명에 따른 특별한 디바이스가 없는 통상의 플로트 장치를 도시한 것이다. 본 발명은 유리세라믹 형태의 플로팅 유리를 위한 이러한 타입의 장치에 적합성을 제공한다. 따라서 본 발명은 위치 또는 최상류 지점에서 장치의 종축(AA')에 대칭하는 방법으로 용융 금속 입구(molten metal inlet)를 첨가한 동일한 장치 및 플로트 유리를 사용할 수도 있다. 상기 탱크는 측벽(8) 및 단벽(9 및 10)을 각각 탱크의 입구 및 출구에 포함한다. 용융 주석으로 된 배스(5)를 포함하는 상기 탱크는 더 좁은 하류(11)를 갖는다. 상기 용융 유리는 상기 입구 단부에서, 탱크의 입구 벽 위에 배치된 스파우트 립의 단부에 존재하는 분포 채널(12)로부터, 배스 상으로 대량 유입된다. 도면에 미도시된, 온도 조절기들은 배스를 둘러싸는 루프와 결합 된다. 이들 조절기는 상기 유리의 가열 조건을 설정하여 인발 위치의 단부까지 그 변형가능한 상태를 유지한다.

유리 제조시에, 상기 배스는 도 3에 도시된 몇 개의 위치를 포함하며, 이는 다음의 형태로 구분될 수 있다.

- 플로트 배스 상에 주조된 후 상기 유리를 펼치는 위치 I.

- 형성된 상기 유리의 리본이 리프트-아웃 로울러(12) 및 탑 롤(13)의 작용 하에서 외부를 향한 종방향 힘에 영향을 받는 위치 Ⅱ(이 위치에서는, 상기 유리의 인발이 시작되고, 유리는 더 얇아진다).

- 상기 유리 리본이 리프트 아웃 로울러(12)의 작용 하에서 명확한 형태를 취하는 위치 Ⅲ.

위치 Ⅱ와 Ⅲ은 함께 인발 위치를 형성한다.

- 상기 유리 리본 세트가 점진적으로 냉각되는 경화 위치 Ⅳ.

유리는 플로트 배스 상에 대량 유입된 후, 위치 I에서 최대로 자유롭게 펼쳐진다. 이로서 리본(14)이 형성되고 상기 리본은 탱크 밖의 리프트 아웃 로울러(12)의 견인력(traction)의 영향 하에서 하류로 이동한다.

이후, 리프트 아웃 로울러(12)와, 일반적으로 강철로 만들어지고 상기 리본의 이동 방향의 수직 방향에 상대적으로 약간 기울어진 말려진 탑 롤(13)의 결합된 견인력에 의해 바람직한 두께가 얻어진다. 상기 탑 롤은 샤프트(15)에 의해 모터(16)에 연결되며 상기 모터는 일반적으로 위치에 따라 달라지고 하류에서 증가하는 속도로 탑 롤을 구동시킨다. 이들 탑 롤은 유리 리본의 좁아짐(narrowing)에 대항하는 힘을 유리 리본의 모서리에 가한다. 따라서, 유리 리본은 이러한 상류롤 영역에서 인발된다. 이후, 상기 유리 리본은 리프트 아웃 로울러로 인한 인발에 의해 바람직한 두께를 갖는다.

배스 상에서 유리 리본의 움직임은 리본 아래에서, 탱크의 하류를 향한 용융 금속의 전류를 야기하고, 이는 하류 전류라 불린다. 이 하류 전류는 탱크의 출구면과 정면으로 충돌하고 반향되어 상류 전류를 형성한다. 상기 하류 전류는 도면에서 직선 화살표(full arrow)로 도식화되며, 상기 상류 전류는 실선 화살표(dashed arrow)로 도식화된다.

도 4는 플로트 배스(17)의 절반을 나타내는 다이아그램의 일부 정면도를 도시한 것이다. 본 발명에 따르면, 용융 금속의 일부는 상기 배스의 하단부에서 유출될 수 있으며 파이프(18)에 의해 이송된다. 상기 금속은 종축(AA')에 대칭하는, 상기 배스의 상류 전체 너비{영역(6)에서 금속 흐름을 화살표로 나타냄}를 통과하여 위치(6)로 재유입된다(따라서, 도 4는 용융 금속의 재유입 너비의 절반만을 도시된다). 또 다른 재유입 위치는 배스의 다른 지점(19)에 위치할 수도 있다. 본 발명은 또한, 열처리를 수행하여 재유입 위치의 온도에 근접한 온도로 유입된 금속의 온도를 거의 정확하게 승온시키는 가능성을 준비하며, 그러한 작동은 온도 변화로 인한 붕괴를 추가적으로 제한하는데 사용된다. 도 4 및 두 개의 재유입 위치(6 및 19)로 분할된 경우, 상기 파이프를 따라 모든 점진적 열처리가 준비되며, 본 실시예에 따르면, 상기 열 조절은 상기 배스 내에서 재유입 위치(19)에서 상기 배스의 온도에 상응하는 유입된 용융 금속의 온도가 얻도록 조절되며, 상기 열 처리는 상기 용융 금속의 잔여분이 유동중일 때, 이 지점(6)에서 금속의 온도가 상기 재유입 위치에서 배스 온도에 상응하도록 지점 (6)까지 계속된다. 또 다른 실시예에서는, 지점 (6)에서 조여진 금속만의 열처리를 제공할 수 있으며, 지점(19)에서 재유입된 금속이 상기 배스의 재유입 위치를 분열시키지 않는 온도인 것을 고려하나, 온도 차이는 미미하다. 사용된 가열 수단은 기술분야의 당업자에게 잘 알려진 수단일 수 있으며 특히, 파이프(18)가 내화성 물질로 만들어진 경우 유도(induction)에 의한 가열 수단인 것이 바람직하다. 본 발명에 따르면, 도 4에 도시된 장치는 상기 용융 금속의 유입 및 재유입이 유리 리본의 이동의 궤적을 파괴시키지 않도록 상기 배스의 두 모서리 상에서 대칭적인 방법에 의해 만들어지는 것이 유용하다.

이는 다시 상기에 언급한 바와 같이 흑연 펌프와 같은 펌핑 장치를 제공한다. 이러한 펌프는 상기 파이프(18) 내에서 상기 유입된 금속의 이동을 보장한다. 또 다른 실시예 및, 특히 열처리가 제공된 경우에 따르면, 상기 파이프(18) 내부에서 용융 금속의 밀도 변화는 상기에 이미 언급된 바와 같이 유입된 금속의 이동을 보장하기에 충분할 수 있다.

플로트 배스의 일부 개략 측면도를 보여주는 도 5는 용융 금속이 더 이상 배스의 측면을 통해 유입되지 않고 파이프(18)를 경유하여 그 하류면을 통해 유입된다는 점에 따라, 기존의 것과 유사한 장치를 도시한 것이다. 이 도면은 펌프(20)와 가열 장치를 보여주지만, 후자는 도 4의 경우와 같이 선택적이다. 펌프(20)는 파이프(18)의 개시 지점에 제공되는 것이 바람직하며, 상기 가열 장치(51)는 재유입 지역(6) 바로 앞인 상기 파이프(18)의 단부에 제공된 부분을 위한 것이다. 재유입된 금속은 플로트 배스(53)에 재결합되기 전에 경사판(52) 위에서 이동한다.

도 6은 한편으로는 벽(23)의 존재에 의해 배스(5)의 내부에 생성된 파이프(27)에 의해, 혹은 다른 한편으로는 유리의 정지점 형성을 막기 위하여 상류에 존재하는 상기 유입된 용융 금속을 위치(6)로 되돌리는 파이프(18)에 의해, 상기 유입된 용융 금속이 상류로 되돌아 오는 점에 따른 본 발명의 또 다른 실시예를 도시한 것이다. 펌프(61)는 파이프(18)를 통해 용융 금속을 되돌려 보낸다. 도 6은 우선 유리 리본(1)을 도시하며, 이는 벽(8)에 의해 범위가 결정된 플로트 배스(5) 상에서 이동한다. 상기 용융 금속은 화살표(26)로 표시된 하류 전류를 생성하는 유리 리본을 따라 인발된다. 배스의 단부에서, 상기 하류 전류는 상류 전류로 변환된다. 이 변환은 이미 설명된 것으로서 상기 배스 단부에서의 반향(rebound)에 의해 자연적으로 발생하며, 상기 용융 금속은 이 목적으로 적절하게 제공된 배스-하류 크기에 의해 파이프(27)로 흘러들어간다. 도 6은 또한 유입된 용융 금속을 열적으로 재조절하고, 이 지점(29)으로 배스 온도에 가능한 한 근접한 온도로 배스 내로 재유입하기 위한 지점(29)으로 이를 가져오기 위해 배스 위에 위치한 발광 요소(radiant elements)와 같은 가열 요소를 또한 도시하고 있다. 상기에 언급된 실시예들의 경우에는, 이들 가열 요소가 선택적이며, 재유입 지점이 상류에서 먼 경우, 이들 요소가 존재하는 것이 바람직하다. 유사하게, 그러한 상기 파이프(27)의 개시 지점에 펌프가 놓이는 것이 바람직한 실시예를 추가하는 것이 가능하다.

도 7 및 8은 도 4에 따른 실시예, 즉 용융 금속의 측면 유입에 상응하는 장치의 다이아그램을 나타낸다. 이들 도면들은 배스(37)의 하류, 용융 금속의 유입 지점(30) 및 최상류 재유입지점(31)을 도시한다. 범람 디바이스(overflow device, 33)는 상기 배스의 벽(32)에 밀접결합(close-coupled)된 방법으로 제조된다. 상기 디바이스(33)는 자연적으로 유리 리본을 따라 인발되고 상기 배스의 하단부에 충돌한 후, 펌프로 되돌려 보내져 최종적으로 파이프(35)에 보내지는 용융 금속을 수신할 것이다. 상기 범람 디바이스(33)는 기본적으로 배스(37) 내에서 상류 전류가 나타나지 않도록 인발되는 과량의 용융 금속을 돕는 경사판(36)을 포함한다. 상기 펌프(34)는 흑연 펌프인것이 바람직하며, 이미 제시된 모든 실시예들에서, 선택적이다. 또한 선택적인 가열 시스템을 이 장치에 추가하는 것이 가능하다.

배스(37)로의 재유입 지점(31)에서, 도면에는 미도시된 실질적으로 제로 속도로 용융 금속을 재유입하는데 사용되는 장치가 제공되는 것이 바람직하며, 이는 플래어 표면과 함께 파우트 립을 그 예로 들 수 있다.

상기 용융 금속을 되돌려 보내는 파이프는 최상부 재유입 지점(6)에 공급하기 위하여 분리되며 상기 유리가 정지점을 형성을 방지하도록 축상에 놓여진다.

본 발명에 따른 다른 실시예와 동일한 방법에서, 도 7 및 8에 도시된 시스템은 특히 유입 위치 및 재유입 위치 모두에서 유리 리본의 궤적을 방해하지 않도록 배스의 어느 한 측면에 제공되는 것이 바람직하다.

자연적으로, 본 발명의 실시예에서 선택된 것과는 상관없이, 상기 용융 금속 순환 장치에 의해 특히 생성된 가장 큰 부피는 플로트 유리 리본을 생성하기 위한 디바이스의 올바른 작동을 위하여 필요한 용융 금속의 총 부피를 결정하는데 고려된다.

본 발명에 따른 이들 실시예들은, 추가의 이점들을 갖는다; 플로트 유리의 리본을 제조하는 시스템에서, 불순물들이 생성되며 상기 불순물들은 상기 배스의 하류 위치에서 발견되어 유리 리본의 하류면을 오염시킬 수 있다는 점을 알려져 있다. 본 발명은 동시에 하류 위치에서 용융 금속의 유입시킴으로서 이들 불순물들을 꺼내 이들을 제거하거나 또는 최상류 배스로 재유입시키는 것이 가능하며, 후자의 경우 유입된 용융 금속의 루트를 따른다. 이들 불순물이 감소 대기 하에서 가열된 위치에서의 배스 상류로의 재유입되는 것은 불순물을 감소시키거나 사라지게 할 것이다. 따라서 본 발명에 따른 상기 방법은 불순물을 제거하는 용융 금속의 처리를 가능하게 한다.

본 발명에 따른 방법은 단순히 실행할 수 있으며, 특히, 주요 수행 작업을 요구하지 않고 기존의 장치에 적용할 수 있다는 추가 장점이 있다.

플로트 유리, 특히 유리세라믹 전구체의 리본은 1mm 내지 30mm, 보다 상세하게는 1.5mm 내지 25mm의 두께를 가지며, 50 내지 500cm, 보다 상세하게는 60 내지 460cm의 너비를 갖는다.

성형 장치를 이탈하여, 상기 리본은 lehr로 통과되어 점진적으로 냉각되고 두개의 주면(main faces)과 하나의 절단된 모서리로 구성된 시트로 절단된다. 상기 시트의 각각의 주면들은 0.15 내지 20m²의 표면 영역을 가질 수 있다. 특히, 각 주면들의 길이는 0.4 내지 6m이고, 너비는 0.4 내지 3.5m일 수 있다.

이후, 이들 시트들은 특정한 세라믹화 열처리를 거쳐 유리세라믹으로 변형시킨다. 이 예로서, SiO₂-Al₂O₃-Li₂O 를 기재로한 유리세라믹에 대해 세라믹화 처리는 일반적으로 이하의 방법으로 수행된다.

a) 일반적으로 유리 변형 도메인 근처에 위치된 핵형성 도메인을 30 내지 80℃/분의 속도로 온도를 상승시키고;

b) 15 내지 25분 동안 핵형성 범위(670 - 800℃)를 통과시키고;

c) 상기 온도를 일반적으로 900 내지 1100℃에 놓이는 세라믹화 수준의 온도까지 15 내지 30℃/분의 속도로 온도를 상승시키고;

d) 상기 세라믹화 수준의 온도를 10 내지 25분 동안 유지시킨 후;

e) 대기 온도로 신속히 냉각시킨다.

상기 세라믹화 사이클 후, 유리 시트는 유리세라믹 구조의 결정상 특성을 함유한다.

본 발명은 정지점 없이 편평한 유리를 유도하는 본 발명에 따른 플로트 공정을 포함하는 편평한 유리세라믹 제조에 관한 것으로, 이후 상기 편평한 유리세라믹을 유도하는 세라믹화 처리를 겪는다.

본 발명은 이미 언급된 방법을 적용하는 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 리본이 플로트 배스 상에서 이동한다는 점에 따른 플로트 유리의 리본을 제조 하는 디바이스에 관한 것으로, 상기 디바이스는 상기 배스의 종축 상에 위치한 실질적으로 플로트 유리의 최상류 지점에 용융 금속을 유입하는 수단을 포함하는 것을 특징으로 한다. 유입 수단은 또한 상기 용융 금속이 플로트 배스와 접하는 지점에서도 운동 중 일 수 있게 하는 것이 바람직하다. 보다 상세하게는 상기 유입 수단은 내화 물질의 경사판을 포함할 수 있으며, 상기 경사판은 용융 금속이 배스 내로 주입되기 전에 주입될 용융 금속이 경사판 위를 먼저 이동하도록 상기 플로트 배스에서 끝난다. 특히, 상기 디바이스는 상기 배스로부터 유입된 금속에 공급되고 상기 유입된 금속을 상기 유리의 최상류 지점으로 되돌리며 상기 배스의 종축 상에 위치하는 적어도 하나의 파이프를 포함한다. 이는 또한 상기 배스의 하단부에 용융 금속을 꺼내어 상기 파이프에 연결시키는 적어도 하나의 범람 시스템을 포함할 수 있다. 상기 범람 시스템은 상기 배스에 밀접결합되며 방수로에 의해 연결된 탱크일 수 있으며, 상기 파이프는 배스의 외부에 위치한다. 상기 금속은 상기 플로트 장치의 종축 상에 대해 대칭하는 방법으로 인발 및 재유입되는 것이 바람직하다.

본 발명은 (편평한) 유리세라믹 시트에 관한 것으로, 상기 시트는 75cm 이상, 심지어는 80cm 이상, 및 심지어 100cm 이상 및 심지어는 200cm 이상의 큰 치수(너비 혹은 길이)를 가지며, 일반적으로 600cm 미만이다. 특히, 상기 시트는 3mm, 및 심지어는 2.5mm, 심지어는 2mm 보다 얇을 수 있으며, 일반적으로 0.8mm 보다는 두껍다.

임의의 유리세라믹 전구체 유리의 타입은 본 발명에 따라 작업 될 수 있으며, 이는 1.5중량% 및 심지어는 1.6중량%의 ZnO를 포함한다.

특히, 유리세라믹 제조에 관해 기재된 본 발명은 또한 비 유리세라믹 타입의 유리에도 적용된다는 점은 분명하게 이해된다. 또한, 상기 플로트 배스 상의 금속이 플로트 배스의 헤드에서의 재유입과는 무관하게 재순환될 수 있다는 것이 잘 이해된다. 이 상기 용융 금속의 재순환(일반적으로 주석 기재)은 특히 유리세라믹을 위한 유리 및 결정화에 민감한 다른 유리들의 제조와 관련하여 기술되어 있으나, 어떤 유리를 제조하든지 간에, 상기 재순환 방법은 결정화를 방지하는 것 이외의 다른 이점들로부터 이득을 취하기 위해, 모든 플로트 챔버에 적용될 수 있다.

상기에서 상세히 설명한 바와 같이 본 발명은 편평한 플로트 유리, 특히 편평한 유리세라믹의 제조에 사용된다.

Claims (30)

1. 플로트 장치의 용융 금속 배스 상에서 용융 유리의 연속 플로트(continuous floating)로 구성된 편평한 유리의 제조 방법에 있어서,

   상기 유리는 용융 금속상에 용융 상태로 주입되어 상기 장치 내에서 임의의 정지점(stationary point) 없이 상기 금속 배스 상을 이동하는 리본을 성형시키는 것을 특징으로 하는 편평한 유리의 제조 방법.
2. 제 1항에 있어서, 상기 용융 금속 배스 상에서 플로트하는 유리는 유리 세라믹 전구체 유리인 것을 특징으로 하는 편평한 유리의 제조 방법.
3. 제 1항에 있어서, 상기 용융 금속은 용융 유리의 이동 수용 구역을 형성하도록 상기 플로트 장치 내에 주입되는 것을 특징으로 하는 편평한 유리의 제조 방법.
4. 삭제
5. 제 1항에 있어서, 상기 용융 금속은 상기 배스의 종축상에 위치하는 최상류 플로트 지점에 주입되는 것을 특징으로 하는 편평한 유리의 제조 방법.
6. 제 1항에 있어서, 상기 용융 금속은 상기 배스의 종축상에 위치하는 최상류의 유리의 플로트 지점에 연속해서 주입되는 것을 특징으로 하는 편평한 유리의 제조 방법.
7. 제 3항, 제 5항, 또는 제 6항 중 어느 한 항에 있어서, 주입된 용융 금속은 최하류에 위치한 동일한 배스의 유출 지점(tapping point)으로부터 부분적으로 생성되는 것을 특징으로 하는 편평한 유리의 제조 방법.
8. 제 7항에 있어서, 상기 주입된 용융 금속의 흐름은, 한편으로는 상기 배스의 종축상에 위치된 최상류 플로트 지점을 공급하고, 또한 다른 한편으로는 상기 배스의 종축상에 위치된 최상류 플로트 지점과 유출 지점 사이에 위치한 적어도 하나의 다른 재주입 지점을 공급하도록 분리되는 것을 특징으로 하는 편평한 유리의 제조 방법.
9. 제 1항에 있어서, 상기 주입된 용융 금속은 재주입 전에 재가열되는 것을 특징으로 하는 편평한 유리의 제조 방법.
10. 제 1항에 있어서, 상기 용융 금속은 플로트 배스의 측면부로부터 종축에 대해 대칭하는 방식으로 유출되는 것을 특징으로 하는 편평한 유리의 제조 방법.
11. 제 1항에 있어서, 상기 용융 금속은 제로 속도를 갖는 상기 배스의 측면에서 종축에 대해 대칭하는 방식으로 부분적으로 재주입되는 것을 특징으로 하는 편평한 유리의 제조 방법.
12. 편평한 유리 세라믹을 제조하는 방법으로서,

    편평한 유리를 제조하는 제 1항 또는 제 2항의 방법을 포함하며, 상기 편평한 유리세라믹을 제조하는 세라믹화 공정을 수행하는, 편평한 유리 세라믹의 제조 방법.
13. 제 1항 또는 제2항에 있어서, 상기 유리가 주입되는 위치에서, 동점도(dynamic viscosity)는 3 내지 4.5 푸아즈인 것을 특징으로 하는 편평한 유리의 제조 방법.
14. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 유리가 주입되는 위치에서, 온도는 1300 내지 1450℃ 인 것을 특징으로 하는 평평한 유리의 제조방법.
15. 제 1항 또는 제 2항의 제조 방법에 따라 플로트 유리의 리본을 제조하기 위한 용융 유리를 성형하는 디바이스로서, 유리 인발 영역이 뒤따르는 용융 유리 주입 영역을 포함하고, 상기 유리 인발 영역을 따라 리본이 플로트 배스 상에서 이동하는, 용융 유리를 성형하는 디바이스에 있어서,

    상기 디바이스는 배스의 종축 상에 위치하는 플로트 유리의 최상류 지점에서 용융 금속을 주입하는 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 용융 유리를 성형하는 디바이스.
16. 제 15항에 있어서, 상기 주입 수단은 용융 금속이 금속 배스와 접하는 지점에서 움직이도록 구성되는 것을 특징으로 하는 용융 유리를 성형하는 디바이스.
17. 제 15항에 있어서, 내화 물질의 경사판을 포함하며, 상기 경사판은, 주입될 용융 금속이 배스 내로 주입되기 전에 먼저 상기 경사판 위를 이동하도록, 금속 배스에서 끝나는 것을 특징으로 하는 용융유리를 성형하는 디바이스.
18. 제 17항에 있어서, 상기 배스로부터 유출된 금속을 공급받아 유리의 최상류 지점에 상기 유출된 금속을 되돌려 보내고, 상기 배스의 종축 상에 위치하는 적어도 하나의 파이프를 포함하는 것을 특징으로 하는 용융 유리를 성형하는 디바이스.
19. 제 18항에 있어서, 용융 금속을 유출하기 위하여 상기 배스의 최하류단부에 위치하고, 상기 파이프에 연결된 적어도 하나의 범람 시스템(overflow system)을 포함하는 것을 특징으로 하는 용융 유리를 성형하는 디바이스.
20. 제 19항에 있어서, 상기 범람 시스템은 상기 배스에 밀접결합(close-coupled)되고 방수로(spillway)에 의해 연결된 탱크이며, 파이프는 배스의 외부에 존재하는 것을 특징으로 하는 용융유리를 성형하는 디바이스.
21. 제 18항에 있어서, 상기 금속은 상기 플로트 장치의 종축에 대해 대칭하는 방법으로 인발 및 재주입되는 것을 특징으로 하는 용융 유리를 성형하는 디바이스.
22. 삭제
23. 제 1항 또는 제 2항의 방법에 의해 제조되는 유리 세라믹 플레이트로서,

    75cm 보다 큰 하나 이상의 치수를 갖는, 유리 세라믹 플레이트.
24. 제 23항에 있어서, 80cm 보다 큰 하나 이상의 치수를 갖는, 유리 세라믹 플레이트.
25. 제 24항에 있어서, 200cm 보다 큰 하나 이상의 치수를 갖는, 유리 세라믹 플레이트.
26. 제 23항에 있어서, 두께가 3mm 미만인, 유리 세라믹 플레이트.
27. 제 26항에 있어서, 두께가 2.5mm 미만인, 유리 세라믹 플레이트.
28. 제 27항에 있어서, 두께가 2mm 미만인, 유리 세라믹 플레이트.
29. 제 23항에 있어서, 1.5중량% 이상의 ZnO를 포함하는 것을 특징으로 하는 유리 세라믹 플레이트.
30. 제 29항에 있어서, 1.6중량% 이상의 ZnO를 포함하는 것을 특징으로 하는 유리 세라믹 플레이트.

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