KR101402437B1 - 박막 시트 회로 인쇄용 전도성 페이스트에 적용 가능한 은코팅 판형 구리분말의 제조방법 - Google Patents
박막 시트 회로 인쇄용 전도성 페이스트에 적용 가능한 은코팅 판형 구리분말의 제조방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR101402437B1 KR101402437B1 KR1020130122721A KR20130122721A KR101402437B1 KR 101402437 B1 KR101402437 B1 KR 101402437B1 KR 1020130122721 A KR1020130122721 A KR 1020130122721A KR 20130122721 A KR20130122721 A KR 20130122721A KR 101402437 B1 KR101402437 B1 KR 101402437B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- silver
- copper powder
- powder
- conductive paste
- plating
- Prior art date
Links
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 95
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 72
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 55
- 239000004332 silver Substances 0.000 title claims abstract description 55
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 30
- 239000012528 membrane Substances 0.000 title claims description 5
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 32
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims abstract description 19
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 19
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims abstract description 18
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims abstract description 18
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 17
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 16
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 claims abstract description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 16
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 7
- WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N (E)-8-Octadecenoic acid Natural products CCCCCCCCCC=CCCCCCCC(O)=O WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 20:1omega9c fatty acid Natural products CCCCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 9-Heptadecensaeure Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N Oleic acid Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000005642 Oleic acid Substances 0.000 claims description 6
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 claims description 6
- QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N isooleic acid Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCCC(O)=O QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N oleic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N 0.000 claims description 6
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 claims description 6
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 4
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 4
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000011324 bead Substances 0.000 claims description 4
- 235000021313 oleic acid Nutrition 0.000 claims description 4
- 230000001788 irregular Effects 0.000 claims description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 3
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 claims description 2
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 claims description 2
- 239000008236 heating water Substances 0.000 claims description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 claims description 2
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 claims description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- NHPBNQZEXDUUIO-UHFFFAOYSA-N [Ag+].[Ag+].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O Chemical compound [Ag+].[Ag+].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O NHPBNQZEXDUUIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 claims 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 abstract description 21
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 abstract description 20
- 239000010409 thin film Substances 0.000 abstract description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract 1
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 7
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000011231 conductive filler Substances 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 238000001238 wet grinding Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F1/00—Metallic powder; Treatment of metallic powder, e.g. to facilitate working or to improve properties
- B22F1/17—Metallic particles coated with metal
-
- B22F1/0007—
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F9/00—Making metallic powder or suspensions thereof
- B22F9/02—Making metallic powder or suspensions thereof using physical processes
- B22F9/04—Making metallic powder or suspensions thereof using physical processes starting from solid material, e.g. by crushing, grinding or milling
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/1601—Process or apparatus
- C23C18/1633—Process of electroless plating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/31—Coating with metals
- C23C18/42—Coating with noble metals
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/09—Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
- H05K1/092—Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F2301/00—Metallic composition of the powder or its coating
- B22F2301/10—Copper
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F2301/00—Metallic composition of the powder or its coating
- B22F2301/25—Noble metals, i.e. Ag Au, Ir, Os, Pd, Pt, Rh, Ru
- B22F2301/255—Silver or gold
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Conductive Materials (AREA)
- Powder Metallurgy (AREA)
Abstract
본 발명은 박막 시트 회로 인쇄용 전도성 페이스트에 적용 가능한 은코팅 판형 구리분말의 제조에 관한 것으로, 부정형(不定形)의 구리분말로 제조한 판형 구리분말을 은(Ag)코팅한 후, 표면코팅처리를 하여 박막 시트 회로 인쇄용 전도성 페이스트에 적용 가능한 은코팅 판형 구리분말의 제조방법에 관한 것이다.
본 발명의 박막 시트 회로 인쇄용 전도성 페이스트에 적용 가능한 은코팅 판형 구리분말의 제조방법은 부정형(不定形)의 구리분말 원료를 가공하여 판형 구리분말(coopper flake powder)을 제조하는 제 1단계, 여과장치를 이용하여 상기 판형 구리분말을 여과 및 건조하는 제 2단계, 상기 제 2단계를 거친 판형 구리분말에 은(Ag)을 무전해 도금법으로 도금하여 은코팅 판형 구리분말을 제조하는 제 3단계, 상기 은코팅 판형 구리분말을 표면코팅처리 하는 제 4단계, 표면코팅처리된 상기 은코팅 판형 구리분말을 여과 및 건조하는 제 5단계를 포함함에 기술적 특징이 있다.
본 발명의 박막 시트 회로 인쇄용 전도성 페이스트에 적용 가능한 은코팅 판형 구리분말의 제조방법은 부정형(不定形)의 구리분말 원료를 가공하여 판형 구리분말(coopper flake powder)을 제조하는 제 1단계, 여과장치를 이용하여 상기 판형 구리분말을 여과 및 건조하는 제 2단계, 상기 제 2단계를 거친 판형 구리분말에 은(Ag)을 무전해 도금법으로 도금하여 은코팅 판형 구리분말을 제조하는 제 3단계, 상기 은코팅 판형 구리분말을 표면코팅처리 하는 제 4단계, 표면코팅처리된 상기 은코팅 판형 구리분말을 여과 및 건조하는 제 5단계를 포함함에 기술적 특징이 있다.
Description
본 발명은 박막 시트 회로 인쇄용 전도성 페이스트에 적용 가능한 은코팅 판형 구리분말의 제조에 관한 것으로, 부정형(不定形)의 구리분말로 제조한 판형 구리분말을 은(Ag)코팅한 후, 표면코팅처리를 하여 박막 시트 회로 인쇄용 전도성 페이스트에 적용 가능한 은코팅 판형 구리분말의 제조방법에 관한 것이다.
본 발명은 박막 시트 회로 인쇄용 전도성 페이스트의 전기전도 충진제로 사용되는 금속분말의 제조밥법에 관한 것이다.
최근 가전기기 디자인의 다양화로 인해 생산성이 우수한 박막 스위치 적용의 폭이 넓어지고 그 사용량도 증가하고 있다. 그리고, 박막 시트 회로 인쇄용 전도성 페이스트의 소모량 또한 증가하고 있다.
전도성 페이스트의 전기전도 충진제(filler)로는 종래 은, 구리 등의 금속 분말이 사용되고 있다. 하지만, 고가의 전도성 분말인 고순도 은(Ag)분말의 경우 전기전도성은 우수하나 제조 원가가 높은 단점이 있다.
한국등록특허 제1236245호는 고가의 전도성 분말인 은(Ag)분말을 대신하여 구리분말을 판형으로 제조하여 사용하지만, 구리분말의 경우 은(Ag)분말과 비교하여 밀도는 유사하나 전기전도성이 낮은 단점이 있다.
상기와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 본 발명은 판형 은분말(silver flake power)과 유사한 물성(밀도, 전기전도특성)을 가진 전기전도 충진제(filler)를 제조하기 위한 목적이 있다.
또한, 박막 시트 회로 인쇄용 전도성 페이스트의 원가를 절감하기 위한 또다른 목적이 있다.
본 발명의 상기 목적은 박막 시트 회로 인쇄용 전도성 페이스트에 사용가능한 은코팅 판형 구리분말의 제조방법에 있어서,
부정형(不定形)의 구리분말 원료를 가공하여, 판형 구리분말(coopper flake powder)을 제조하는 제 1단계, 여과장치를 이용하여 상기 판형 구리분말을 여과 및 건조하는 제 2단계, 상기 제 2단계를 거친 판형 구리분말에 은(Ag)을 무전해 도금법으로 도금하여 은코팅 판형 구리분말을 제조하는 제 3단계, 상기 은코팅 판형 구리분말을 표면코팅처리 하는 제 4단계, 표면코팅처리된 상기 은코팅 판형 구리분말을 여과 및 건조하는 제 5단계에 의해 달성된다.
따라서, 본 발명의 박막 시트 회로 인쇄용 전도성 페이스트에 적용 가능한 은코팅 판형 구리분말의 제조방법은 판형 은분말(Silver Flake power)의 특성과 유사한 은코팅 판형 구리분말을 제조함으로써, 현재 회로 인쇄용 전도성 페이스트로 사용되고 있는 판형 은분말을 대체하여 원가를 절감하는 효과가 있다.
도 1은 본 발명에 따른 은코팅 판형 구리분말의 제조방법,
도 2는 본 발명에 따른 가공 전후의 구리분말의 모습,
도 3은 본 발명에 따른 은코팅 판형 구리분말을 전도성 페이스트의 충진제로 사용한 박막 시트 회로이다.
도 2는 본 발명에 따른 가공 전후의 구리분말의 모습,
도 3은 본 발명에 따른 은코팅 판형 구리분말을 전도성 페이스트의 충진제로 사용한 박막 시트 회로이다.
본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.
따라서, 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일 실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.
도 1은 본 발명에 따른 은코팅 판형 구리분말의 제조방법이다. 도 1에 도시된 바와 같이, 박막 시트(Membrane sheet) 회로(100) 인쇄용 전도성 페이스트에 사용가능한 은코팅 판형 구리분말의 제조방법은 부정형(不定形)의 판형 구리분말을 은(Ag)코팅한 후, 표면코팅처리를 하여 박막 시트 회로 인쇄용 전도성 페이스트에 적용 가능한 전도성 충진제를 만들게 된다.
본 발명에 따른 은코팅 판형 구리분말은 전기전도성이 우수한 고가의 판형 은분말(silver flake powder)을 대체하기 때문에, 판형 은분말과 유사한 밀도와 전기전도특성을 지녀야 한다.
종래에 사용되던 판형 은분말의 형상은 판형 타입(Flake type)으로, 가공 밀도(tap density)는 2.0 ~ 2.5g/㎤, 입자의 크기(particle size)는 d50 3.0 ~ 10㎛, 두께(Thickness)는 0.5㎛이하로 형성되어 있다.
상기와 같은 특성의 판형 은분말과 같은 물성을 만들기 위해, 구리분말을 판형(Flake)화 하는 작업을 진행해야 한다. 구리분말의 경우 은분말과 밀도가 다르기 때문에 판형 구리분말의 두께를 판형 은분말과 같은 두께로 제작하여서는 안되고, 판형 은분말 보다 두껍게 제작해야 한다.
또한, 일반적으로 판형 은분말 또는 판형 구리분말 등의 판형(Flake)형상 분말의 원료는 환원석출법이나 Atomize법, 증착법 등으로 제조된 구형 또는 그와 유사한 표면을 갖는 분말을 사용하게 되는데, 이와 같은 분말로 가공된 판형 구리분말은 두께는 판형 은분말과 유사하게 제조가 가능하지만 밀도가 낮아져 판형 은분말을 대체하기에는 작업성, 흐름성 및 전기전도성이 매우 불량하게 된다.
본 발명에서는 상기와 같은 물성의 변화를 감안하여 입자의 크기는 d50 2 ~ 5microns, 가공 밀도는 1.0 ~ 5.0g/㎤의 부정형(不定形)의 구리 원료를 사용하며, 보다 바람직하게는 가공 밀도 1.5 ~ 3.5g/㎤이 될 수 있다.
구체적인 박막 시트 회로 인쇄용 전도성 페이스트에 사용가능한 은코팅 판형 구리분말의 제조방법은, 부정형의 구리분말 원료를 가공하여 판형 구리분말을 제조하는 제 1단계(S100), 제조한 판형 구리분말을 여과장치를 이용하여 여과 및 건조하는 제 2단계(S200), 여과 및 건조를 마친 판형 구리분말에 은을 무전해 도금법으로 도금하여 은코팅 판형 구리분말을 제조하는 제 3단계(S300), 그리고 은코팅 판형 구리분말을 표면코팅하는 제 4단계(S400) 및 표면코팅처리된 은코팅 판형 구리분말을 여과 및 건조하는 제 5단계(S500)로 이루어진다.
(1) 판형 구리분말의 제조(Cu powder의 Flake화)
상기에서 설명한 바와 같이, 판형 은분말과 유사한 물성을 가지기 위해서, 구리원료의 밀도는 1.0 ~ 5.0g/㎤인 것을 사용하며, 1.5 ~ 3.5g/㎤가 가장 바람직하다. 판형 구리분말을 제조하는 방법은 혼합기를 이용하여 구리분말을 유기용매와 혼합하는 제 1과정과 밀링기를 이용하여 유기용매와 혼합된 구리분말을 부정형 형태의 판형 구리분말로 제조하는 제 2과정으로 이루어진다. 그리고, 제1 과정에서는 건식 및 습식 방법을 사용할 수 있다.
본 발명에서는 습식 밀링을 사용하였으며, 용매는 유기용매인 메탄올을 적용하였다. 유기용매를 이용하면, 원료의 가공 중 필요에 따라 표면코팅이 가능하고, 원료의 가공 후 보관시 용매와 분리하는 시간을 줄이고 단시간에 건조가 가능하며 장기간 보관도 가능하다. 밀링기는 어트리션 밀(attrition mill)이 사용된다.
구리 원료 1㎏을 기준으로, 용매 1,000 ~ 5,000㎖ 사용이 가능하며, 최적의 분산 조건과 제조 원가 등을 고려하면, 1,800 ~ 3,500㎖가 가장 바람직하다. 그리고, 혼합기의 RPM은 100 ~ 10,000rpm으로 설정이 가능하며, 원재료의 가공성을 고려하면 1,000 ~ 4,000rpm이 가장 바람직하다.
또한, 혼합기의 흐름 속도(folw rate)는 10 ~ 1,000cc/min으로 설정이 가능하며, 200 ~ 500cc/min이 가장 바람직하다.
그리고, 밀링기의 비드볼(bead ball) 직경은 0.3 ~ 5㎜에서 가능하며, 0.5 ~ 2㎜로 선정하는 것이 가장 바람직하다.
마지막으로, 구리원료 분말의 판형(Flake)화 가공 횟수는 0.5 ~ 5회이며, 상기에서 설명한 판형 은분말과 같은 밀도를 구현하기 위해서는 판형 은분말 보다 두꺼워야 하기 때문에 1회는 5 ~ 6분으로 설정하는 것이 가장 바람직하다.
(2) 여과 및 건조
구리원료의 판형(Fake)화 작업 종료 후 다양한 여과장치(진공여과기, 원심 분리기, 가열식 수분증발기 등)를 이용하여 구리원료를 선택적으로 분리 및 건조하게 된다. 건조 온도는 20 ~ 80℃의 범위에서 가능하며, 가장 바람직하게는 50 ~ 75℃가 될 수 있다.
(3) 은코팅 판형 구리분말의 제조
상기 공정을 통해 제조된 판형 구리분말에 은(Ag)을 무전해 도금법으로 도금하여 은코팅 판형 구리분말을 제조하게 된다. 도금하는 은(Ag)의 함량은 5.0 ~ 30.0%가 바람직하며, 도금 방법은 질산은 도금, 시안은도금, Non-Cyanide 도금, 증착 도금 등 다양한 방법이 있으며, 작업자의 의지에 따라 선택적으로 적용이 가능하다. 그리고, 도금이 완료되면 순수를 이용하여 세척을 하게 된다.
(4)은코팅 판형 구리분말의 표면코팅처리
은코팅 판형 구리분말의 표면코팅처리는 은코팅 판형 구리분말을 수지와 배합하고 인쇄하는 과정에서 필요한 분산성과 부착성 및 액의 안정성을 개선하기 위해 이루어 진다. 표면코팅제로서의 적용 가능한 첨가제로는 올레산(oleic acid), 스테아르산(stearic acid), 아디프산(adipic acid) 또는 말레산(maleic acid)과 각종 커플링제(coupling agent) 등이 있으며, 이 중에서 올레산(oleic acid)과 스테아르산(stearic acid)이 가장 바람직하다.
올레산(oleic acid)의 코팅량은 은코팅 판형 구리분말의 중량(g) 대비 0.01 ~ 5.0wt%에서 선택적으로 코팅이 가능하며, 가장 바람직하게는 0.1 ~ 2.0wt%이다.
스테아르산(stearic acid)의 코팅량은 은코팅 판형 구리분말의 중량(g) 대비, 0.01 ~ 5.0wt%에서 선택적으로 코팅이 가능하며, 가장 바람직하게는 0.1 ~ 1.5wt%이다.
(5) 여과 및 건조
작업 종료 후 다양한 여과장치(진공여과기, 원심 분리기, 가열식 수분증발기 등)를 이용하여 분리 및 건조하게 된다. 건조 온도는 20 ~ 80℃의 범위에서 가능하며, 가장 바람직하게는 50 ~ 75℃가 될 수 있다.
실시예)
구리분말의 판형(Flake)화를 위한 작업으로 Basket-Mill type의 Milling 기계를 이용하며, 스테인레스 반응용기에 Particle size : d50 4㎛, 밀도(Tap Density) 1.0 ~ 3.0g/㎤의 부정형(不定形)의 구리원료와 메탄올 3,000㎖를 넣고 교반기를 이용하여 구리분말을 분산 시킨다. Blade가 있는 Basket-Mill 내부에 0.1 ~ 1.5Φ Ceramic bead를 충진하고 3,000rpm으로 회전시킨 후 분산되어 있는 구리분말 페이스트를 Basket-Mill 내부로 넣어서 Milling 가공을 한다.
1회 Milling이 완료 된 후 파우더와 용매를 꺼내고, 여과장치를 이용하여 파우더를 분리하고 건조를 진행한다. 이때 건조온도는 50 ~ 75℃에서 2시간을 진행하게 된다.
건조 후 파우더를 계량하여, Milling한 구리분말의 은코팅 공정을 진행하여 은코팅 판형 구리분말을 제조후, Stearic Acid 0.1 ~ 1.5wt%, Oleic Acid 0.1 ~ 2.0wt%를 유기용매에 희석하여 메탄올 800㎖에 은코팅 판형 구리분말을 넣어 교반기로 분산을 한 후, 메탄올에 희석한 표면코팅제를 넣고, 10 ~ 25분간 교반 및 표면코팅을 진행한다. 이후 여과장치를 이용하여 파우더를 분리한 후, 건조 온도 50 ~ 75℃에서 2시간 건조를 진행하여 Membrane sheet 회로(100) 인쇄용 전도성 페이스트에 적용 가능한 은코팅 판형 구리분말을 제조하게 된다.
도 2는 본 발명에 따른 가공 전후의 구리분말의 모습이며, 도 3은 본 발명에 따른 은코팅 판형 구리분말을 전도성 페이스트의 충진제로 사용한 Membrane sheet 회로이다.
도 2에 도시된 (a) 구리원료 분말의 가공전, (b) 구리원료 분말의 가공후 사진에서와 같이 구리원료 분말을 가공하고 나면, 가공하기 전과 비교하여 구리분말이 판형 형태를 가지게 된다.
또한, 도 3에 도시된 것과 같이, 본 발명에 따른 은코팅 판형 구리분말을 전도성 페이스트의 충진제로 사용할 경우, 종래에 사용되던 판형 은분말과 같은 효과를 낼 수 있는 박막 시트 회로(100)를 제작할 수 있다.
본 발명은 이상에서 살펴본 바와 같이 바람직한 실시예를 들어 도시하고 설명하였으나, 상기한 실시예에 한정되지 아니하며 본 발명의 정신을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변경과 수정이 가능할 것이다.
100 : 박막 시트 회로
Claims (9)
- 박막(membrane) 시트 회로 인쇄용 전도성 페이스트에 사용가능한 은코팅 판형 구리분말의 제조방법에 있어서,
부정형(不定形)의 구리분말 원료를 가공하여, 판형 구리분말(coopper flake powder)을 제조하는 제 1단계;
여과장치를 이용하여 상기 판형 구리분말을 여과 및 건조하는 제 2단계;
상기 제 2단계를 거친 판형 구리분말에 은(Ag)을 무전해 도금법으로 도금하여 은코팅 판형 구리분말을 제조하는 제 3단계;
상기 은코팅 판형 구리분말을 표면코팅처리 하는 제 4단계;
표면코팅처리된 상기 은코팅 판형 구리분말을 여과 및 건조하는 제 5단계
로 이루어지되, 상기 제 1단계의 상기 판형 구리분말을 제조하는 방법은
혼합기를 이용하여 구리분말을 유기용매와 혼합하는 제 1과정;
어트리션 밀(attrition mill)을 이용하여 유기용매와 혼합된 상기 구리분말을 부정형 형태의 판형 구리분말로 제조하는 제 2과정
으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 박막 시트 회로 인쇄용 전도성 페이스트에 적용 가능한 은코팅 판형 구리분말의 제조방법.
- 삭제
- 제 1항에 있어서,
상기 혼합기의 RPM은 100 ~ 10,000rpm으로 설정하며, 흐름 속도(folw rate)는 10 ~ 1,000cc/min으로 설정하는 것을 특징으로 하는 박막 시트 회로 인쇄용 전도성 페이스트에 적용 가능한 은코팅 판형 구리분말의 제조방법.
- 제 1항에 있어서,
상기 어트리션 밀에 포함된 비드볼(bead ball) 직경은 0.3 ~ 5mm이며, 가공 횟수는 0.5 ~ 5회이며, 1회는 5 ~ 6분인 것을 특징으로 하는 박막 시트 회로 인쇄용 전도성 페이스트에 적용 가능한 은코팅 판형 구리분말의 제조방법.
- 제 1항에 있어서,
상기 여과장치는 진공여과기, 원심분리기 또는 가열식 수분증발기 중 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 박막 시트 회로 인쇄용 전도성 페이스트에 적용 가능한 은코팅 판형 구리분말의 제조방법.
- 제 1항에 있어서,
상기 제 3단계에서 도금하는 상기 은(Ag)의 함량은 5 ~ 30%이며, 도금 방법은 질산은도금, 시안은도금, Non-Cyanide 도금 또는 증착도금 중 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 박막 시트 회로 인쇄용 전도성 페이스트에 적용 가능한 은코팅 판형 구리분말의 제조방법.
- 제 1항에 있어서,
상기 제 4단계에서 상기 표면코팅처리는 첨가제를 사용하며, 상기 첨가제는 올레산(oleic acid), 스테아르산(stearic acid), 아디프산(adipic acid) 또는 말레산(maleic acid) 중 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 박막 시트 회로 인쇄용 전도성 페이스트에 적용 가능한 은코팅 판형 구리분말의 제조방법.
- 제 7항에 있어서,
상기 표면코팅처리에 사용되는 상기 첨가제는 상기 은코팅 판형 구리분말의 중량(g) 대비 0.01 ~ 5.0wt%인 것을 특징으로 하는 박막 시트 회로 인쇄용 전도성 페이스트에 적용 가능한 은코팅 판형 구리분말의 제조방법.
- 제 1항에 있어서,
상기 제 5단계의 건조 온도는 20 ~ 80℃인 것을 특징으로 하는 박막 시트 회로 인쇄용 전도성 페이스트에 적용 가능한 은코팅 판형 구리분말의 제조방법.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020130122721A KR101402437B1 (ko) | 2013-10-15 | 2013-10-15 | 박막 시트 회로 인쇄용 전도성 페이스트에 적용 가능한 은코팅 판형 구리분말의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020130122721A KR101402437B1 (ko) | 2013-10-15 | 2013-10-15 | 박막 시트 회로 인쇄용 전도성 페이스트에 적용 가능한 은코팅 판형 구리분말의 제조방법 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR101402437B1 true KR101402437B1 (ko) | 2014-06-03 |
Family
ID=51131503
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020130122721A KR101402437B1 (ko) | 2013-10-15 | 2013-10-15 | 박막 시트 회로 인쇄용 전도성 페이스트에 적용 가능한 은코팅 판형 구리분말의 제조방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101402437B1 (ko) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20200049348A (ko) * | 2018-10-31 | 2020-05-08 | (주)마잘 | 도전성 페이스트용 은 코팅 분말의 표면 처리 방법 |
WO2023287222A1 (ko) * | 2021-07-16 | 2023-01-19 | 엑시노 주식회사 | 저밀도 판상형 도전성 분말의 제조방법 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006161081A (ja) | 2004-12-03 | 2006-06-22 | Dowa Mining Co Ltd | 銀被覆銅粉およびその製造方法並びに導電ペースト |
JP2010174311A (ja) * | 2009-01-28 | 2010-08-12 | Nippon Mining & Metals Co Ltd | 銀メッキ銅微粉及び銀メッキ銅微粉を用いて製造した導電ペースト並びに銀メッキ銅微粉の製造方法 |
KR20110060285A (ko) * | 2009-11-30 | 2011-06-08 | 주식회사 지오션 | 은 코팅 구리 플레이크 분말의 제조방법 및 이의 제조방법에 의해 제조된 은 코팅 구리 플레이크 분말 |
-
2013
- 2013-10-15 KR KR1020130122721A patent/KR101402437B1/ko not_active IP Right Cessation
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006161081A (ja) | 2004-12-03 | 2006-06-22 | Dowa Mining Co Ltd | 銀被覆銅粉およびその製造方法並びに導電ペースト |
JP2010174311A (ja) * | 2009-01-28 | 2010-08-12 | Nippon Mining & Metals Co Ltd | 銀メッキ銅微粉及び銀メッキ銅微粉を用いて製造した導電ペースト並びに銀メッキ銅微粉の製造方法 |
KR20110060285A (ko) * | 2009-11-30 | 2011-06-08 | 주식회사 지오션 | 은 코팅 구리 플레이크 분말의 제조방법 및 이의 제조방법에 의해 제조된 은 코팅 구리 플레이크 분말 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20200049348A (ko) * | 2018-10-31 | 2020-05-08 | (주)마잘 | 도전성 페이스트용 은 코팅 분말의 표면 처리 방법 |
KR102197711B1 (ko) | 2018-10-31 | 2021-01-04 | (주)마잘 | 도전성 페이스트용 은 코팅 분말의 표면 처리 방법 |
WO2023287222A1 (ko) * | 2021-07-16 | 2023-01-19 | 엑시노 주식회사 | 저밀도 판상형 도전성 분말의 제조방법 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5631910B2 (ja) | 銀被覆銅粉 | |
JP5394084B2 (ja) | 銀メッキ銅微粉及び銀メッキ銅微粉を用いて製造した導電ペースト並びに銀メッキ銅微粉の製造方法 | |
JPWO2008059789A1 (ja) | 銀メッキ銅微粉及び銀メッキ銅微粉を用いて製造した導電ペースト並びに銀メッキ銅微粉の製造方法 | |
WO2007040195A1 (ja) | 微粒銀粒子付着銀銅複合粉及びその微粒銀粒子付着銀銅複合粉製造方法 | |
JP5631841B2 (ja) | 銀被覆銅粉 | |
CN106604794A (zh) | 银包覆铜粉及使用银包覆铜粉的导电膏、导电涂料、导电片 | |
WO2015198671A1 (ja) | 銅粉及びそれを用いた銅ペースト、導電性塗料、導電性シート | |
WO2016185628A1 (ja) | 銀コート銅粉及びそれを用いた銅ペースト、導電性塗料、導電性シート、並びに銀コート銅粉の製造方法 | |
CN103624267A (zh) | 一种连续法制备银粉的方法 | |
CN108326293B (zh) | 银包镍粉的生产方法 | |
WO2016013426A1 (ja) | 金属微粒子分散液及び金属被膜 | |
CN108367927A (zh) | 银被覆石墨粒子、银被覆石墨混合粉及其制造方法和导电浆料 | |
WO2016151858A1 (ja) | 銅粉及びそれを用いた銅ペースト、導電性塗料、導電性シート | |
JP6982688B2 (ja) | 表面処理された銀粉末及びその製造方法 | |
JP7288133B1 (ja) | 銀粉及び銀粉の製造方法ならびに導電性ペースト | |
CN110315090A (zh) | 一种高温烧结型导电浆料用金粉及其制备方法 | |
KR101402437B1 (ko) | 박막 시트 회로 인쇄용 전도성 페이스트에 적용 가능한 은코팅 판형 구리분말의 제조방법 | |
CN108962425A (zh) | 一种石墨烯导电浆料的制备方法 | |
JP2016139598A (ja) | 銀コート銅粉、及びそれを用いた銅ペースト、導電性塗料、導電性シート | |
CN107020374A (zh) | 一种Ti3SiC2/Cu复合导电粉体的制备方法 | |
KR101335493B1 (ko) | 전기적 특성이 우수한 판상 은 페이스트 및 그 제조 방법 | |
CN104575668B (zh) | 一种耐磨纳米导电银浆 | |
CN114700490A (zh) | 一种镍包石墨复合颗粒的制备方法及其在电磁屏蔽领域的应用 | |
JP2007188845A (ja) | 導電性粉末、導電性ペーストおよび電気回路 | |
JP6659712B2 (ja) | 導電材用粉末、導電材用インク及び導電性ペースト並びに導電材用粉末の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
A302 | Request for accelerated examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |