KR101375404B1 - Ｘ선 촬상 방법 및 ｘ선 촬상 시스템 - Google Patents

Abstract

X선상을 광상으로 변환하는 신틸레이터 및 신틸레이터에서 생성된 광상을 검출하여 X선 관찰 화상을 취득하는 촬상 소자를 포함하는 X선 촬상 장치(10)와, 제1 노이즈 화상 성분을 포함하는 제1 X선 관찰 화상과, 제2 노이즈 화상 성분을 포함하는 제2 X선 관찰 화상 사이에서 감산 처리를 행하여, 노이즈 화상을 생성하는 제1 감산기(25)와, 노이즈 화상에 대하여 문턱값 처리를 행하여, 제1 노이즈 화상 성분을 추출하는 문턱값 처리 회로(26)와, 제1 X선 관찰 화상으로부터, 추출된 제1 노이즈 화상 성분을 감산함으로써 노이즈 제거 화상을 생성하는 제2 감산기(27)를 구비하여 X선 촬상 시스템(1A)을 구성한다. 이에 의해, X선 관찰 화상을 노이즈 화상 성분의 영향이 저감된 상태에서 바람직하게 취득하는 것이 가능한 X선 촬상 방법 및 X선 촬상 시스템이 실현된다.

Description

Ｘ선 촬상 방법 및 Ｘ선 촬상 시스템{X-RAY IMAGING METHOD AND X-RAY IMAGING SYSTEM}

본 발명은 X선 촬상(撮像) 장치에 입사한 X선상(線像)에 대응되는 X선 관찰 화상을 취득하는 X선 촬상 방법 및 X선 촬상 시스템에 관한 것이다.

최근 의료용의 X선 촬상 장치 등에 있어서, 신틸레이터와, CCD 등의 촬상 소자를 조합한 X선 촬상 장치의 이용이 진척되고 있다. 이와 같은 촬상 장치에서, 입사한 X선은 신틸레이터에 있어서 X선량에 대응되는 소정 파장의 신틸레이션 광(예를 들어 가시광)으로 변환된다. 그리고, 이 신틸레이션 광에 의한 광상(光像)이 촬상 소자에서 검출되는 것에 의해 X선상에 대응되는 X선 관찰 화상이 취득된다(예를 들어 특허 문헌 1: 일본 특개 2001-330678호 공보 참조).

특허 문헌 1: 일본 특개 2001-330678호 공보

특허 문헌 2: 일본 특공평 8-33922호 공보

신틸레이터와 촬상 소자를 조합한 상기 구성의 X선 촬상 장치에서는, 입사한 X선상 중에서 일부(예를 들어 10% 정도)의 X선이 신틸레이션 광으로 변환되지 않고 신틸레이터를 투과하여 촬상 소자에 의해 직접 검출되는 경우가 있다. 이와 같은 투과 X선은 촬상 소자로부터 출력되는 X선 관찰 화상에 있어서 휘점(輝点) 노이즈 로서 나타난다. 이 휘점 노이즈에 의한 노이즈 화상 성분은 일반적으로 신틸레이션 광으로 변환된 X선에 의한 화상 성분에 비해 높은 신호 출력을 가지고, 취득되는 X선 관찰 화상의 화질이 열화(劣化)되는 원인으로 된다.

이에 대해, 특허 문헌 2: 일본 특공평 8-33922호 공보에는 리커시브 필터(recursive filter)와, 메디안 필터(median filter) 등의 평활화 필터를 이용하여 화상 중의 노이즈 성분을 저감하는 것이 기재되어 있다. 그러나 리커시브 필터를 이용하는 방법에서는 동일 피사체에 대하여 취득된 다수의 X선 관찰 화상을 적당한 가중치를 부여하여 가산함으로써 노이즈 화상 성분의 영향을 저감시키기 때문에, 다수의 화상을 취득하기 위해 필요한 촬영 시간이 길어지고, 또 피사체의 움직임 등에 의한 잔상(殘像)이 발생하는 등의 문제가 발생한다. 또, 피사체에 대한 X선 피폭량이 증대한다고 하는 문제도 있다. 또, 평활화 필터를 이용하는 방법에서는, 평활화에 의해 피사체의 화상 자체에 윤곽의 흐려짐(blurring)이 발생하여 해상도의 저하를 피할 수 없다.

본 발명은 이상의 문제점을 해결하기 위해 이루어진 것이고, 입사한 X선상에 대응되는 X선 관찰 화상을, 노이즈 화상 성분의 영향이 저감된 상태에서 바람직하게 취득하는 것이 가능한 X선 촬상 방법 및 X선 촬상 시스템을 제공하는 것을 목적으로 한다.

이와 같은 목적을 달성하기 위해, 본 발명에 의한 X선 촬상 방법은, (1) 일방의 면이 X선 입사면으로 되어 있고, 입사한 X선에 따라 신틸레이션 광을 발생시켜 X선상을 광상으로 변환하는 신틸레이터와, 신틸레이터의 타방의 면에 대해 마련되고, 신틸레이터에서 생성된 광상을 검출하여 신틸레이터에 입사된 X선상에 대응되는 X선 관찰 화상을 취득하는 촬상 소자를 포함하는 X선 촬상 장치를 이용하고, (2) X선 촬상 장치에 의해, 신틸레이터에서 광상으로 변환된 X선상에 대응되는 화상 성분 및 촬상 소자에 직접 입사한 X선에 의한 제1 노이즈 화상 성분을 포함하는 제1 X선 관찰 화상을 취득하는 제1 화상 취득 단계와; (3) 제1 노이즈 화상 성분과는 다른 제2 노이즈 화상 성분을 포함하는 제2 X선 관찰 화상을 취득하는 제2 화상 취득 단계와; (4) 제1 X선 관찰 화상과 제2 X선 관찰 화상 사이에서 감산 처리를 행하여, 노이즈 화상 성분이 추출된 노이즈 화상을 생성하는 감산 처리 단계와; (5) 노이즈 화상에 대하여 문턱값 처리를 행하여, 노이즈 화상 성분 중에서 제1 노이즈 화상 성분을 추출하는 문턱값 처리 단계와; (6) 제1 노이즈 화상 성분을 포함하는 제1 X선 관찰 화상으로부터, 문턱값 처리 단계에서 추출된 제1 노이즈 화상 성분을 감산함으로써, 제1 노이즈 화상 성분이 제거된 노이즈 제거 화상을 생성하는 노이즈 제거 단계를 구비하는 것을 특징으로 한다.

또, 본 발명에 의한 X선 촬상 시스템은, (a) 일방의 면이 X선 입사면으로 되어 있고, 입사한 X선에 따라 신틸레이션 광을 발생시켜 X선상을 광상으로 변환하는 신틸레이터와, 신틸레이터의 타방의 면에 대해 마련되고, 신틸레이터에서 생성된 광상을 검출하여 신틸레이터에 입사된 X선상에 대응되는 X선 관찰 화상을 취득하는 촬상 소자를 포함하는 X선 촬상 장치와; (b) X선 촬상 장치에 의해, 신틸레이터에서 광상으로 변환된 X선상에 대응되는 화상 성분 및 촬상 소자에 직접 입사한 X선에 의한 제1 노이즈 화상 성분을 포함하여 취득된 제1 X선 관찰 화상과, 제1 노이즈 화상 성분과는 다른 제2 노이즈 화상 성분을 포함하여 취득된 제2 X선 관찰 화상 사이에서 감산 처리를 행하여, 노이즈 화상 성분이 추출된 노이즈 화상을 생성하는 감산 처리 수단과; (c) 노이즈 화상에 대해 문턱값 처리를 행하여, 노이즈 화상 성분 중에서 제1 노이즈 화상 성분을 추출하는 문턱값 처리 수단과; (d) 제1 노이즈 화상 성분을 포함하는 제1 X선 관찰 화상으로부터, 문턱값 처리 수단에서 추출된 제1 노이즈 화상 성분을 감산함으로써, 제1 노이즈 화상 성분이 제거된 노이즈 제거 화상을 생성하는 노이즈 제거 수단을 구비하는 것을 특징으로 한다.

상기한 X선 촬상 방법 및 X선 촬상 시스템에 있어서는, 예를 들어 피사체를 통과한 X선 등에 의한 촬상 대상의 X선상에 대해, 노이즈 화상 성분에 관한 조건이 서로 다른 제1, 제2 X선 관찰 화상을 취득한다. 이 때, 이들 화상 사이에서는, 신틸레이터에서 광상으로 변환된 X선상에 대응되는 화상 성분은 기본적으로 일치하고 있고 감산에 의해 상쇄되지만, 노이즈 화상 성분에 대해서는 화상에 따라 발생 위치나 분포 등이 다르다.

따라서, 이들 제1, 제2 X선 관찰 화상 사이에서 감산 처리를 행하고, 추가로 적당한 문턱값 처리를 행함으로써, 제1 X선 관찰 화상에 포함되는 노이즈 화상 성분만을 선택적으로 추출할 수 있다. 그리고, 이 추출된 노이즈 화상 성분을 원래의 X선 관찰 화상으로부터 감산함으로써, 촬상 소자에 직접 입사한 X선에 의한 노이즈 화상 성분의 영향이 저감된 화상을 적절하고 효율적으로 취득하는 것이 가능하게 된다.

본 발명의 X선 촬상 방법 및 X선 촬상 시스템에 의하면, 촬상 대상의 X선상에 대해, 노이즈 화상 성분에 관한 조건이 서로 다른 제1, 제2 X선 관찰 화상을 취득하고, 이들 제1, 제2 X선 관찰 화상 사이에서 감산 처리를 행하고, 추가로 적당한 문턱값 처리를 행함으로써 노이즈 화상 성분을 추출하고, X선 관찰 화상의 노이즈 제거를 행하는 것에 의해, 입사한 X선상에 대응되는 X선 관찰 화상을, 노이즈 화상 성분의 영향이 저감된 상태에서 바람직하게 취득하는 것이 가능하게 된다.

도 1은 X선 촬상 시스템의 제1 실시 형태의 구성을 나타내는 블록도이다.

도 2는 X선 촬상 시스템에 이용되는 X선 촬상 장치의 구성을 나타내는 측면도이다.

도 3은 X선 촬상 방법의 제1 실시 형태에 대해 나타내는 플로차트이다.

도 4는 X선 관찰 화상의 노이즈 제거 방법에 대해 나타내는 모식도이다.

도 5는 X선 관찰 화상의 노이즈 제거 방법에 대해 나타내는 모식도이다.

도 6은 X선 관찰 화상(a) 및 노이즈 제거 화상(b)의 예를 나타내는 도면이다.

도 7은 도 1에 나타낸 X선 촬상 시스템의 구체적인 이용 방법의 일례를 나타내는 도면이다.

도 8은 X선 촬상 시스템의 제2 실시 형태의 구성을 나타내는 블록도이다.

도 9는 X선 촬상 방법의 제2 실시 형태에 대해 나타내는 플로차트이다.

도 10은 X선 관찰 화상의 노이즈 제거 방법에 대해 나타내는 모식도이다.

도 11은 X선 관찰 화상의 노이즈 제거 방법에 대해 나타내는 모식도이다.

도 12는 X선 관찰 화상(a), 평활화 화상(b) 및 노이즈 제거 화상(c)의 예를 나타내는 도면이다.

<부호의 설명>

1A, 1BㆍㆍㆍX선 촬상 시스템, 10ㆍㆍㆍX선 촬상 장치, 11ㆍㆍㆍ신틸레이터, 11a·ㆍㆍㆍX선 입사면, 12ㆍㆍㆍFOP, 13ㆍㆍㆍ촬상 소자, 15ㆍㆍㆍADC, 20ㆍㆍㆍ신호 처리부, 21ㆍㆍㆍ제1 메모리, 22ㆍㆍㆍ제2 메모리, 23ㆍㆍㆍ평활화 필터, 25ㆍㆍㆍ제1 감산기, 26ㆍㆍㆍ문턱값 처리 회로, 27ㆍㆍㆍ제2 감산기, 30ㆍㆍㆍ기억부, Sㆍㆍㆍ피사체, 50ㆍㆍㆍX선원(線源).

이하, 도면과 함께 본 발명에 의한 X선 촬상 방법 및 X선 촬상 시스템의 바람직한 실시 형태에 대하여 상세하게 설명한다. 또한, 도면의 설명에 있어서 동일 요소에는 동일 부호를 부여하고 중복되는 설명을 생략한다. 또, 도면의 치수 비율은 설명의 것과 반드시 일치하고 있지 않다.

도 1은 본 발명에 의한 X선 촬상 시스템의 제1 실시 형태의 구성을 나타내는 블록도이다. 또, 도 2는 X선 촬상 시스템에 이용되는 X선 촬상 장치의 구성을 개략적으로 나타내는 측면도이다. 본 실시 형태에 의한 X선 촬상 시스템(1A)은 X선 촬상 장치(10)와 ADC(A/D 컨버터; 15)와 신호 처리부(20)와 기억부(30)를 구비하고 있다. 또, 도 1에 있어서는 X선원(50)으로부터의 X선을 피사체(S)에 조사하고, 피사체(S)를 통과한 X선에 의해 생성된 X선상을 X선 촬상 시스템(1A)에 의한 촬상 대 상으로 한 예를 나타내고 있다.

X선 촬상 장치(10)는 입사한 X선상에 대응되는 X선 관찰 화상을 취득하기 위한 화상 취득 수단이고, 도 2에 나타낸 바와 같이 신틸레이터(11)와 화이버 광학 플레이트(FOP; 12)와 촬상 소자(13)를 가지고 있다. 신틸레이터(11)는 소정의 신틸레이션 재료에 의해 평판 형상으로 형성되어 있고, 그 일방의 면(11a)이 X선상을 입사시키기 위한 X선 입사면으로 되어 있다. 이 신틸레이터(11)에 있어서, X선 입사면(11a)으로부터 입사된 X선에 따라 신틸레이션 광이 발생되고, 이에 따라 촬상 대상의 X선상이 광상으로 변환된다.

신틸레이터(11)의 타방의 면(11b)에 대해, X선상의 입사 방향의 하류측에 촬상 소자(13)가 마련되어 있다. 촬상 소자(13)는 신틸레이터(11)에서 생성된 광상을 검출하여, 신틸레이터(11)에 입사된 X선상에 대응되는 X선 관찰 화상을 취득한다. 또, 취득된 X선 관찰 화상의 데이터는 아날로그 화상 신호로서 촬상 소자(13)로부터 출력된다. 이와 같은 촬상 소자(13)로는, 예를 들어 직사각형 평판 형상의 실리콘 기판 상에 CCD를 형성하여 촬상부로 한, 2차원 화상 취득 가능한 촬상 소자를 이용할 수 있다.

또, 도 2에 나타낸 구성예에 있어서는 신틸레이터(11)와 촬상 소자(13) 사이에 추가로 FOP(12)가 마련되어 있다. 이 FOP(12)는, 도 2에 모식적으로 나타낸 바와 같이, 다수의 광화이버(12a)를 다발로 함으로써 광상을 전달 가능하게 형성된 광학 소자이고, 입사 X선상에 대응하여 신틸레이터(11)에서 생성된 신틸레이션 광에 의한 광상을 촬상 소자(13)에 유도하는 화이버 광학 부재로서 기능한다.

X선 촬상 장치(10)의 촬상 소자(13)로부터 출력된 X선 관찰 화상의 아날로그 화상 신호는, 도 1에 나타낸 바와 같이, ADC(15)에 의해 디지털 화상 신호로 변환된 후에 신호 처리부(20)에 입력된다. 신호 처리부(20)는 X선 촬상 장치(10)에 의해 취득된 X선 관찰 화상에 대하여 노이즈 제거 처리 등의 소정의 화상 처리를 행하는 신호 처리 수단이다. 또, 이 신호 처리부(20)에 의해 처리된 X선 관찰 화상 등의 화상 데이터는 필요에 따라 기억부(30)에 기억된다. 또, 이 화상 데이터에 대해서는, 필요에 따라 외부로의 출력, 표시 장치로의 표시, 인쇄, 외부 처리 장치로의 송신, 외부 기억 장치로의 기억 등의 처리가 행해진다.

본 실시 형태에 있어서, 신호 처리부(20)에서의 X선 관찰 화상에 대한 노이즈 제거 처리는, X선 촬상 장치(10)에 의해 취득된 제1 X선 관찰 화상과, 제1 X선 관찰 화상과는 다른 시각(제1 X선 관찰 화상보다 전 또는 후의 시각)에 연속하여 취득된 제2 X선 관찰 화상을 이용하여 행해진다. 도 1에 나타낸 신호 처리부(20)는 이와 같은 노이즈 제거 방법에 대응하여 제1 메모리(21), 제2 메모리(22), 제1 감산기(25), 문턱값 처리 회로(26) 및 제2 감산기(27)를 가지고 구성되어 있다.

제1 메모리(21) 및 제2 메모리(22)는 각각 X선 촬상 장치(10)에서 취득된 X선 관찰 화상의 화상 데이터를 기억 가능하게 구성되어 있다. 제1 감산기(25)는 제1 메모리(21)로부터의 입력 화상 신호를 신호 A, 제2 메모리(22)로부터의 입력 화상 신호를 신호 B로 하여, A-B의 감산 처리를 행하는 감산 처리 수단이다. 또, 문턱값 처리 회로(26)는 제1 감산기(25)로부터 출력된 감산 화상 신호 A-B에 대해 소정의 문턱값 처리를 행하는 문턱값 처리 수단이다. 또, 제2 감산기(27)는 제1 메모 리(21)로부터의 입력 화상 신호를 신호 A, 문턱값 처리 회로(26)로부터의 입력 화상 신호를 신호 B로 하여, A-B의 감산 처리를 행함으로써 노이즈 제거를 행하는 노이즈 제거 수단이다. 또한, 여기서는 설명상 복수의 메모리를 이용하는 구성예를 설명하였으나, X선 관찰 화상은 반드시 다른 메모리에 보존할 필요는 없으며, 예를 들어 하드디스크 등의 단일 외부 기억 장치에 보존하여 동양(同樣)의 처리를 행하는 구성으로 해도 된다.

도 1에 나타낸 X선 촬상 시스템(1A)에 있어서 X선 관찰 화상의 노이즈 제거 방법에 대해 도 3을 참조하여 설명한다. 도 3은 본 발명에 의한 X선 촬상 방법의 일 실시 형태에 대해 나타낸 플로차트이다. 또, 도 4, 도 5는 도 3에 나타낸 X선 촬상 방법에서의 노이즈 제거 방법에 대해 나타낸 모식도이다.

여기서, X선 촬상 장치(10)에 의해 취득되는 X선 관찰 화상에 있어서는, 도 2에 모식적으로 나타낸 바와 같이, 입사 X선(A1)이 신틸레이터(11)에 의해 신틸레이션 광(B1)으로 변환되고, 이 신틸레이션 광(B1)이 촬상 소자(13)에서 검출되는 화상 성분과, 입사 X선(A2)이 신틸레이터(11)를 투과하여 촬상 소자(13)에 의해 직접 검출되는 노이즈 화상 성분이 포함되어 있다. 여기서, 전자의 화상 성분은 신틸레이터(11)에서 광상으로 변환된 입사 X선상에 대응되는 화상 성분, 즉 촬상 대상에 대응되는 화상 성분이다. 이하의 설명에 있어서는, 이 촬상 대상에 대응되는 화상 성분을 상기의 「노이즈 화상 성분」에 대해 「시그널 화상 성분」으로 한다.

도 3에 나타낸 X선 촬상 방법에서는 우선 피사체(S; 도 1 참조)에 대하여 X선원(50)으로부터의 X선을 조사하여(단계 S11), X선 촬상 장치(10)에 의해 제1 X선 관찰 화상(P11)을 취득하고, 신호 처리부(20)의 제1 메모리(21)에 화상 데이터를 격납한다(S12, 제1 화상 취득 단계). 이 제1 화상(P11)은, 도 4(a)에 나타낸 바와 같이, 피사체(S)의 상에 대응되는 시그널 화상 성분(P11s)과, 촬상 소자(13)에 직접 입사한 X선에 의한 제1 노이즈 화상 성분(P11n)을 포함하고 있다. 또, 이 노이즈 화상 성분(P11n)은 화상(P11)상에 띄엄띄엄 휘점 노이즈로서 분포하고 있다.

제1 X선 관찰 화상(P11)의 취득이 종료되면, 재차 피사체(S)에 대해 X선원(50)으로부터의 X선을 조사하여(S13), X선 촬상 장치(10)에 의해 제2 X선 관찰 화상(P12)을 취득하고, 신호 처리부(20)의 제2 메모리(22)에 화상 데이터를 격납한다(S14, 제2 화상 취득 단계). 이 제2 화상(P12)은, 도 4(b)에 나타낸 바와 같이, 피사체(S)의 상에 대응되는 시그널 화상 성분(P12s)과, 직접 입사 X선에 의한 제2 노이즈 화상 성분(P12n)을 포함하고 있다. 여기서, 화상(P11, P12)은 다른 시각에 취득된 화상이기 때문에, 화상(P12)에 포함되는 제2 노이즈 화상 성분(P12n)은 화상(P11)에 포함되는 제1 노이즈 화상 성분(P11n)과는 통상 그 노이즈 발생 위치 등이 다르다. 또, 피사체(S)의 상에 대응되는 시그널 화상 성분(P11s, P12s)은 화상(P11, P12) 사이에 거의 일치하고 있다.

이어서, 제1 감산기(25)는 메모리(21)에 기억된 제1 화상(P11)과 메모리(22)에 기억된 제2 화상(P12) 사이에서 P11-P12의 감산 처리를 행한다(S15, 감산 처리 단계). 이 때, 화상(P11, P12)에 포함되는 시그널 화상 성분(P11s, P12s)은 촬상 사이의 데이터 편차 등을 제외하고 감산에 의해 상쇄된다. 이에 따라, 화상 1 - 화상 2의 노이즈 화상 성분이 추출된 노이즈 화상(P13)이 생성된다. 또, 이 노이즈 화상(P13)에서, 도 5(a)에 나타낸 바와 같이, 제1 노이즈 화상 성분(P11n)은 정(正)의 휘도값을 가지는 화상 성분(도면 중, 백화소로 나타냄)이 되는 한편, 제2 노이즈 화상 성분(P12n)은 부(負)의 휘도값을 가지는 화상 성분(흑화소로 나타냄)이 된다.

이와 같은 노이즈 화상(P13)에서의 각 화소의 휘도값에 대하여, 정의 적당한 휘도값을 노이즈 화상 성분을 변별하기 위한 문턱값으로 설정하고, 문턱값 처리 회로(26)에 있어서 문턱값 처리를 행한다(S16, 문턱값 처리 단계). 이에 의해, 도 5(b)에 나타낸 바와 같이, 노이즈 화상(P13) 중에서 부의 휘도값을 가지는 제2 노이즈 화상 성분(P12n), 및 촬상마다 휘도값의 편차 등만을 포함하는 화상 성분이 제외되고, 정의 휘도값을 가지는 제1 노이즈 화상 성분(P11n)이 선택적으로 추출된 화상(P14)이 생성된다.

계속해서, 제2 감산기(27)는 시그널 화상 성분(P11s) 및 제1 노이즈 화상 성분(P11n)을 포함하는 제1 X선 관찰 화상(P11; 도 4(a))으로부터, 문턱값 처리 회로(26)에서 추출된 제1 노이즈 화상 성분(P11n; 도 5(b))을 감산한다. 이에 의해, 도 5(c)에 나타낸 바와 같이, 제1 X선 관찰 화상(P11)으로부터 노이즈 화상 성분(P11n)이 제거된 노이즈 제거 화상(P15)을 얻을 수 있다(S17, 노이즈 제거 단계).

본 실시 형태에 의한 X선 촬상 방법 및 X선 촬상 시스템의 효과에 대하여 설명한다.

도 1 ~ 도 5에 나타낸 X선 촬상 방법 및 X선 촬상 시스템(1A)에 있어서는, 피사체(S)를 통과한 X선에 의한 촬상 대상의 X선상에 대해, 노이즈 화상 성분에 관한 조건이 서로 다른 제1, 제2 X선 관찰 화상(P11, P12)을 취득한다. 이 때, 이들 화상 사이에서는, 신틸레이터(11)에서 광상으로 변환된 X선상에 대응되는 화상 성분은 기본적으로 위치, 강도 등이 일치하고 있고, 감산에 의해 상쇄된다. 한편, 촬상 소자(13)에서 X선이 직접 검출되는 것에 기인하는 휘점 노이즈 등의 노이즈 화상 성분에 대해서는 제1 화상(P11)과 제2 화상(P12)에서 발생 위치나 분포 등이 다르다.

따라서, 이들 제1, 제2 X선 관찰 화상(P11, P12) 사이에서 감산기(25)에 의해 감산 처리를 행하고, 추가로 문턱값 처리 회로(26)에 있어서 적당한 문턱값 처리를 행함으로써, 제1 X선 관찰 화상(P11)에 포함되는 노이즈 화상 성분(P11n)만을 선택적으로 추출할 수 있다. 그리고, 이 추출된 노이즈 화상 성분(P11n)을 원래의 X선 관찰 화상(P11)으로부터 감산기(27)에 의해 감산하는 것에 의해, 촬상 소자(13)에 직접 입사한 X선에 의한 노이즈 화상 성분의 영향이 저감된 노이즈 제거 화상을 적절하고 효율적으로 취득하는 것이 가능하게 된다.

또, 본 실시 형태에서는, 제1 X선 관찰 화상(P11)으로부터의 노이즈 제거에 이용되는 제2 X선 관찰 화상(P12)의 구체적인 취득 방법으로서, X선 촬상 장치(10)에 의해 신틸레이터(11)에서 광상으로 변환된 X선상에 대응되는 화상 성분 및 촬상 소자(13)에 직접 입사한 X선에 의한 제2 노이즈 화상 성분을 포함하는 제2 X선 관찰 화상(P12)을 취득하는 방법을 이용하고 있다. 이에 의해, 상기 방법에 따른 X선 관찰 화상으로부터의 노이즈 제거를 바람직하게 실현할 수 있다.

이와 같은 구성에서는 X선 관찰 화상을 거의 동조건에서 연속해서 2매 취득하면 충분하기 때문에, 짧은 촬영 시간에 효율적으로 화상 취득을 행하는 것이 가능하다. 또, 최종적인 노이즈 제거 화상에 있어서 얻어지는 시그널 화상 성분(P11s)은 평활화 처리 등의 화상 처리가 행해진 것이 아니다. 따라서, 원래의 X선 관찰 화상에 대해 화상 처리에 의한 해상도의 저하 등을 일으키는 일은 없다.

또, 도 2에 나타낸 구성예에서는, X선 관찰 화상을 취득하는 X선 촬상 장치(10)에 있어서 신틸레이터(11)와 촬상 소자(13) 사이에 마련되고, 신틸레이터(11)에서 생성된 광상을 촬상 소자(13)로 안내하는 화이버 광학 부재인 FOP(12)를 가지는 구성을 이용하고 있다. 이 경우, 신틸레이터(11)와 촬상 소자(13) 사이에 개재되는 FOP(12)가 X선 실드로서 기능하는 것에 의해, 촬상 소자(13)에 직접 입사하는 X선의 X선량이 저감된다. 따라서, 상기 방법에 따른 노이즈 제거의 화상 처리와 함께, X선 관찰 화상에서 노이즈 화상 성분의 영향을 더욱 저감시키는 것이 가능하게 된다. 단, 이와 같은 화이버 광학 부재에 대해서는 불필요하면 마련하지 않는 구성으로 해도 된다.

도 6은 X선 촬상 장치(10)에 의해 취득되는 X선 관찰 화상(a) 및 X선 관찰 화상으로부터 노이즈 화상 성분이 제거된 노이즈 제거 화상(b)의 예를 나타내는 도면이다. 여기서, 이들 화상(a), (b)은 X선 촬상 장치(10)에 X선을 조사하여 취득된 X선 관찰 화상을 나타내고 있다.

도 6의 화상(a)에 나타낸 바와 같이, X선 촬상 장치(10)에 의해 취득되는 X선 관찰 화상에서는 노이즈 화상 성분인 흰 휘점 노이즈가 화상 상에 띄엄띄엄 분 포하고 있다. 이에 비해, 상기한 방법으로 노이즈 제거 처리를 행한 화상(b)에서는 휘점 노이즈가 제거되어 그 화질이 향상되어 있음을 알 수 있다. 휘점 노이즈에 의한 노이즈 화상 성분은 일반적으로 높은 신호 출력을 가지기 때문에, 촬상 소자의 노이즈 레벨이나 시그널 화상 성분의 발광량의 편차 등에 가려지는 일 없이, 상기 방법에 따라 명확하게 변별, 제거하는 것이 가능하다.

도 7은 도 1에 나타낸 X선 촬상 시스템의 구체적인 이용 방법의 일례를 나타내는 도면이다. 이 이용예에서는 피사체(S)가 되는 피험자의 구강 내에 X선 촬상 장치(10)를 배치하고, X선원(50)으로부터 X선 촬상 장치(10)를 향해 X선을 조사한다. 이 때, X선 촬상 장치(10)에서는 X선원(50)측에 신틸레이터(11)의 X선 입사면(11a)이 배치된다.

X선원(50)으로부터 발해진 X선은 피험자의 구강 내로 입사할 때에, 치아, 잇몸 등에 의해 일부가 흡수되는 것에 의해 피사체(S)의 상에 대응되는 X선상이 형성된다. 그리고, 이 X선상이 X선 촬상 장치(10)에 입사하여 X선 관찰 화상이 취득된다. 취득된 X선 관찰 화상의 화상 데이터는 출력 케이블(55), ADC(15) 및 신호 처리부(20)를 포함하는 장치(58) 및 USB 케이블(59)에 의해 외부의 처리 장치(56)에 전송된다. 또, 처리 장치(56)는 전송된 화상 정보의 축적, 보존, 또는 표시 장치(57)로의 화상 표시 등을 행한다. 또, 도 1에 나타낸 구성의 X선 촬상 시스템(1A)에 있어서는, 노이즈 제거 처리 등을 행하는 신호 처리부(20)에 대해서는, 도 7에 나타낸 바와 같이, X선 촬상 장치(10)와 외부의 처리 장치(56)를 접속하는 케이블의 도중에 별도 장치(58)로서 설치되어 있으나, X선 촬상 장치(10)에 부속되 어 설치되는 구성, 외부의 처리 장치(56)에 부속되어 설치되는 구성, 또는 외부의 처리 장치(56)에 있어서 소프트웨어적으로 실현되는 구성을 이용해도 된다.

본 발명에 의한 X선 촬상 방법, 및 X선 촬상 시스템의 제2 실시 형태에 대하여 설명한다.

도 8은 X선 촬상 시스템의 제2 실시 형태의 구성을 나타내는 블록도이다. 본 실시 형태에 의한 X선 촬상 시스템(1B)은 X선 촬상 장치(10)와 신호 처리부(20)와 기억부(30)를 구비하고 있다. 이들 중, 신호 처리부(20)를 제외한 각 부의 구성에 대해서는 도 1에 나타낸 실시 형태와 동양이다.

본 실시 형태에 있어서, 신호 처리부(20)에서의 X선 관찰 화상에 대한 노이즈 제거 처리는 X선 촬상 장치(10)에 의해 취득된 제1 X선 관찰 화상과 제1 X선 관찰 화상에 대해 평활화 처리를 행함으로써 취득된 제2 X선 관찰 화상을 이용하여 행해진다. 도 8에 나타낸 신호 처리부(20)는 이와 같은 노이즈 제거 방법에 대응하여, 평활화 필터(23), 제1 감산기(25), 문턱값 처리 회로(26) 및 제2 감산기(27)를 가지고 구성되어 있다.

평활화 필터(23)는, 예를 들어 메디안 필터 등의 필터 회로로 이루어지고, X선 촬상 장치(10)에서 취득된 X선 관찰 화상의 화상 데이터에 대해 평활화 처리를 행하여 평활화 화상을 생성한다. 제1 감산기(25)는 ADC(15)로부터 직접 입력되는 X선 관찰 화상의 입력 화상 신호를 신호 A, 평활화 필터(23)로부터의 입력 화상 신호를 신호 B로 하여, A-B의 감산 처리를 행하는 감산 처리 수단이다. 또, 문턱값 처리 회로(26)는 제1 감산기(25)로부터 출력된 감산 화상 신호 A-B에 대해 소정의 문턱값 처리를 행하는 문턱값 처리 수단이다. 또, 제2 감산기(27)는 X선 관찰 화상의 직접 입력 화상 신호를 신호 A, 문턱값 처리 회로(26)로부터의 입력 화상 신호를 신호 B로 하여, A-B의 감산 처리를 행함으로써 노이즈 제거를 행하는 노이즈 제거 수단이다.

도 8에 나타낸 X선 촬상 시스템(1B)에 있어서 X선 관찰 화상의 노이즈 제거 방법에 대해 도 9를 참조하여 설명한다. 도 9는 X선 촬상 방법의 제2 실시 형태에 대해 나타내는 플로차트이다. 또, 도 10, 도 11은 도 9에 나타낸 X선 촬상 방법에서의 노이즈 제거 방법에 대하여 나타내는 모식도이다.

도 9에 나타낸 X선 촬상 방법에서는, 우선 피사체(S; 도 8 참조)에 대해 X선원(50)으로부터의 X선을 조사하고(단계 S21), X선 촬상 장치(10)에 의해 제1 X선 관찰 화상(P21)을 취득한다(S22, 제1 화상 취득 단계). 이 제1 화상(P21)은 도 10(a)에 나타낸 바와 같이, 피사체(S)의 상에 대응되는 시그널 화상 성분(P21s)과, 촬상 소자(13)에 직접 입사한 X선에 의한 제1 노이즈 화상 성분(P21n)을 포함하고 있다. 또, 이 노이즈 화상 성분(P21n)은 화상(P21)상에 띄엄띄엄 휘점 노이즈로서 분포하고 있다.

제1 X선 관찰 화상(P21)의 취득이 종료하면, 평활화 필터(23)는 상기와 같이 취득된 제1 X선 관찰 화상(P21)에 대해 평활화 처리를 행함으로써, 평활화 화상인 제2 X선 관찰 화상(P22)을 취득한다(S23, 제2 화상 취득 단계). 이 제2 화상(P22)은 도 10(b)에 나타낸 바와 같이, 제1 화상(P21)에서의 화상 성분(P21s)에 대응되는 시그널 화상 성분(P22s)과, 평활화 처리에서 시그널 화상 성분의 윤곽에 흐려짐 이 발생하는 것에 의한 노이즈 화상 성분(P22n)을 포함하고 있다. 또, 이 때 제1 화상(P21)에서 휘점 노이즈 형상의 노이즈 화상 성분(P21n)에 대해서는 평활화에 의해 제거된다.

이어서, 제1 감산기(25)는 제1 화상(P21)과, 평활화 필터(23)에서 평활화된 제2 화상(P22) 사이에서 P21-P22의 감산 처리를 행한다(S24, 감산 처리 단계). 이 때, 화상(P21, P22)에 포함되는 시그널 화상 성분(P21s, P22s)은 촬상 사이에서의 데이터 편차 및 평활화 처리에 의한 윤곽 흐려짐 등을 제외하고 감산에 의해 상쇄된다. 이에 의해, 화상 1-화상 2의 노이즈 화상 성분이 추출된 노이즈 화상(P23)이 생성된다. 또, 이 노이즈 화상(P23)에서는, 도 11(a)에 나타낸 바와 같이, 제1 노이즈 화상 성분(P21n)은 정의 휘도값을 가지는 화상 성분(도면 중, 백화소로 나타냄)이 되는 한편, 제2 노이즈 화상 성분(P22n)은 주로 부의 휘도값을 가지는 화상 성분(흑화소로 나타냄)이 된다.

이와 같은 노이즈 화상(P23)에서의 각 화소의 휘도값에 대해, 정의 적당한 휘도값을 노이즈 화상 성분을 변별하기 위한 문턱값으로 설정하고, 문턱값 처리 회로(26)에 있어서 문턱값 처리를 행한다(S25, 문턱값 처리 단계). 이에 의해, 도 11(b)에 나타낸 바와 같이, 노이즈 화상(P23) 중에서 부의 휘도값을 가지는 제2 노이즈 화상 성분(P22n) 및 촬상마다 휘도값의 편차 등만을 포함한 화상 성분이 제외되고, 정의 휘도값을 가지는 제1 노이즈 화상 성분(P21n)이 선택적으로 추출된 화상(P24)이 생성된다.

계속해서, 제2 감산기(27)는 시그널 화상 성분(P21s) 및 제1 노이즈 화상 성 분(P21n)을 포함하는 제1 X선 관찰 화상(P21; 도 10(a))으로부터, 문턱값 처리 회로(26)에서 추출된 제1 노이즈 화상 성분(P21n; 도 11(b))을 감산한다. 이에 의해, 도 11(c)에 나타낸 바와 같이, 제1 X선 관찰 화상(P21)으로부터 노이즈 화상 성분(P21n)이 제거된 노이즈 제거 화상(P25)을 얻을 수 있다(S26, 노이즈 제거 단계).

본 실시 형태에 의한 X선 촬상 방법 및 X선 촬상 시스템의 효과에 대하여 설명한다.

도 8 ~ 도 11에 나타낸 X선 촬상 방법 및 X선 촬상 시스템(1B)에 있어서는, 촬상 대상인 X선상에 대해 노이즈 화상 성분에 관한 조건이 서로 다른 제1, 제2 X선 관찰 화상(P21, P22)을 취득한다. 그리고, 이들 제1, 제2 X선 관찰 화상(P21, P22) 사이에 감산 처리를 행하고, 더욱 적당한 문턱값 처리를 행함으로써, 제1 X선 관찰 화상(P21)에 포함되는 노이즈 화상 성분(P21n)만을 선택적으로 추출하고, 이 추출된 노이즈 화상 성분(P21n)을 원래의 X선 관찰 화상(P21)으로부터 감산한다. 이에 의해, 도 1에 나타낸 실시 형태와 동양으로, 촬상 소자(13)에 직접 입사한 X선에 의한 노이즈 화상 성분의 영향이 저감된 노이즈 제거 화상을 적절하고 효율적으로 취득하는 것이 가능하게 된다.

또, 본 실시 형태에서는, 제1 X선 관찰 화상(P21)으로부터의 노이즈 제거에 이용되는 제2 X선 관찰 화상(P22)의 구체적인 취득 방법으로서, 제1 X선 관찰 화상(P21)에 대해 평활화 처리를 행함으로써, 제2 X선 관찰 화상(P22)이 되는 평활화 화상을 취득하는 방법을 이용하고 있다. 이와 같은 방법에 의해서도, 상기 방법에 의한 X선 관찰 화상으로부터의 노이즈 제거를 바람직하게 실현할 수 있다.

이와 같은 구성에서는, X선 관찰 화상을 1매 취득하고, 그 화상에 대해 화상 처리를 행함으로써 노이즈 제거를 행하고 있기 때문에, 짧은 촬영 시간에 효율적으로 화상 취득을 행하는 것이 가능하다. 또, 최종적인 노이즈 제거 화상에 있어서 얻어지는 시그널 화상 성분(P21s)은 평활화 처리 등의 화상 처리가 행해진 것이 아니다. 따라서, 원래의 X선 관찰 화상에 대해 화상 처리에 의한 해상도의 저하 등을 일으키는 일은 없다.

도 12는 X선 관찰 화상(a), 평활화 화상(b) 및 X선 관찰 화상으로부터 노이즈 화상 성분이 제거된 노이즈 제거 화상(c)의 예를 나타내는 도면이다.

도 12의 화상(a)에 나타낸 바와 같이, X선 촬상 장치(10)에 의해 취득되는 X선 관찰 화상에서는 노이즈 화상 성분인 흰 휘점 노이즈가 화상 상에 띄엄띄엄 분포하고 있다. 한편, 이 X선 관찰 화상에 대해 평활화 처리를 행한 화상(b)에서는 상기와 같이 띄엄띄엄 분포하는 휘점 노이즈가 평활화에 의해 제거되어 있다. 또, 이 화상(b)에서는 본래의 화상 성분에도 약간의 윤곽 흐려짐이 발행하고 있다. 이에 비해, 상기한 방법으로 노이즈 제거 처리를 행한 화상(c)에서는 휘점 노이즈가 제거되어 그 화질이 향상되어 있음을 알 수 있다. 또, 이 화상(c)에서는 평활화 처리 전의 화상(a)을 원화상으로 하여 노이즈 제거 처리를 행하고 있기 때문에 화상의 해상도는 저하되지 않았다.

본 발명에 의한 X선 촬상 방법 및 X선 촬상 시스템은 상기 실시 형태 및 구성예에 한정되지 않고 여러 가지 변형이 가능하다. 예를 들어 상기 실시 형태에서 는 정의 휘도값을 가지는 제1 노이즈 화상 성분(P11n)과 부의 휘도값을 가지는 제2 노이즈 화상 성분(P12n)을 포함하는 노이즈 화상(P13; 도 5 참조)에 대해, 정의 문턱값을 적용하여 제1 노이즈 화상 성분을 추출하고 있으나, 이와 같은 방법에 한정되지 않고, 제1, 제2 X선 관찰 화상에 대한 감산 처리의 구체적인 방법 등에 따라, 예를 들어 부의 문턱값을 적용하여 노이즈 화상 성분을 추출하는 방법을 이용해도 된다. 또, 노이즈 제거 처리 등을 행하는 신호 처리부(20)에 대해서, 도 7에 나타낸 구성예에서는 X선 촬상 장치(10)와 외부의 처리 장치(56)를 접속하는 케이블의 도중에 별도 장치(58)로서 설치되어 있으나, 상술한 바와 같이, X선 촬상 장치(10)에 부속되어 설치되는 구성, 외부의 처리 장치(56)에 부속되어 설치되는 구성, 또는 외부의 처리 장치(56)에 있어서 소프트웨어적으로 실현되는 구성을 이용해도 된다.

또, 상기 실시 형태에서는, X선 관찰 화상을 취득하기 위한 X선 촬상 장치(10)에 있어서, 신틸레이터(11)와 촬상 소자(13) 사이에 FOP(12)를 마련하고 있으나, FOP(12)를 마련하지 않는 구성의 X선 촬상 장치(10)를 이용한 경우에 있어서도 상기한 노이즈 제거 방법을 동양으로 적용하는 것이 가능하다.

여기서, 상기한 X선 촬상 방법에서는, (1) 일방의 면이 X선 입사면으로 되어 있고, 입사한 X선에 따라 신틸레이션 광을 발생시켜 X선상을 광상으로 변환하는 신틸레이터와, 신틸레이터의 타방의 면에 대해 마련되고, 신틸레이터에서 생성된 광상을 검출하여 신틸레이터에 입사된 X선상에 대응되는 X선 관찰 화상을 취득하는 촬상 소자를 포함하는 X선 촬상 장치를 이용하고, (2) X선 촬상 장치에 의해, 신틸 레이터에서 광상으로 변환된 X선상에 대응되는 화상 성분 및 촬상 소자에 직접 입사한 X선에 의한 제1 노이즈 화상 성분을 포함하는 제1 X선 관찰 화상을 취득하는 제1 화상 취득 단계와; (3) 제1 노이즈 화상 성분과는 다른 제2 노이즈 화상 성분을 포함하는 제2 X선 관찰 화상을 취득하는 제2 화상 취득 단계와; (4) 제1 X선 관찰 화상과 제2 X선 관찰 화상 사이에 감산 처리를 행하여, 노이즈 화상 성분이 추출된 노이즈 화상을 생성하는 감산 처리 단계와; (5) 노이즈 화상에 대해 문턱값 처리를 행하여, 노이즈 화상 성분 중에서 제1 노이즈 화상 성분을 추출하는 문턱값 처리 단계와; (6) 제1 노이즈 화상 성분을 포함하는 제1 X선 관찰 화상으로부터 문턱값 처리 단계에서 추출된 제1 노이즈 화상 성분을 감산함으로써, 제1 노이즈 화상 성분이 제거된 노이즈 제거 화상을 생성하는 노이즈 제거 단계를 구비하는 구성을 이용하고 있다.

또, 상기한 X선 촬상 시스템에서는, (a) 일방의 면이 X선 입사면으로 되어 있고, 입사한 X선에 따라 신틸레이션 광을 발생시켜 X선상을 광상으로 변환하는 신틸레이터와, 신틸레이터의 타방의 면에 대해 마련되고, 신틸레이터에서 생성된 광상을 검출하여 신틸레이터에 입사된 X선상에 대응되는 X선 관찰 화상을 취득하는 촬상 소자를 포함하는 X선 촬상 장치와; (b) X선 촬상 장치에 의해, 신틸레이터에서 광상으로 변환된 X선상에 대응되는 화상 성분 및 촬상 소자에 직접 입사한 X선에 의한 제1 노이즈 화상 성분을 포함하여 취득된 제1 X선 관찰 화상과, 제1 노이즈 화상 성분과는 다른 제2 노이즈 화상 성분을 포함하여 취득된 제2 X선 관찰 화상 사이에서 감산 처리를 행하여, 노이즈 화상 성분이 추출된 노이즈 화상을 생성 하는 감산 처리 수단과; (c) 노이즈 화상에 대해 문턱값 처리를 행하여, 노이즈 화상 성분 중에서 제1 노이즈 화상 성분을 추출하는 문턱값 처리 수단과; (d) 제1 노이즈 화상 성분을 포함하는 제1 X선 관찰 화상으로부터 문턱값 처리 수단에서 추출된 제1 노이즈 화상 성분을 감산함으로써, 제1 노이즈 화상 성분이 제거된 노이즈 제거 화상을 생성하는 노이즈 제거 수단을 구비하는 구성을 이용하고 있다.

여기서, 제1 X선 관찰 화상으로부터의 노이즈 제거에 이용되는 제2 X선 관찰 화상의 구체적인 취득 방법에 대해서는, X선 촬상 방법은 제2 화상 취득 단계에 있어서, X선 촬상 장치에 의해, 신틸레이터에서 광상으로 변환된 X선상에 대응되는 화상 성분 및 촬상 소자에 직접 입사한 X선에 의한 제2 노이즈 화상 성분을 포함하는 제2 X선 관찰 화상을 취득하는 것이 바람직하다.

동양으로, X선 촬상 시스템은 감산 처리 수단에 있어서 제2 X선 관찰 화상으로서, X선 촬상 장치에 의해, 신틸레이터에서 광상으로 변환된 X선상에 대응되는 화상 성분 및 촬상 소자에 직접 입사한 X선에 의한 제2 노이즈 화상 성분을 포함하여 취득된 X선 관찰 화상을 이용하는 것이 바람직하다.

또는, X선 촬상 방법은 제2 화상 취득 단계에 있어서 제1 화상 취득 단계에서 취득된 제1 X선 관찰 화상에 대해 평활화 처리를 행함으로써, 제2 X선 관찰 화상을 취득하는 것이 바람직하다.

동양으로, X선 촬상 시스템은 감산 처리 수단에 있어서 제2 X선 관찰 화상으로서, 제1 X선 관찰 화상에 대해 평활화 처리를 행함으로써 취득된 X선 관찰 화상을 이용하는 것이 바람직하다.

또, X선 관찰 화상의 취득에 이용되는 X선 촬상 장치에 대해서는 신틸레이터와 촬상 소자 사이에 마련되어 신틸레이터에서 생성된 광상을 촬상 소자로 안내하는 화이버 광학 부재를 가지는 것이 바람직하다. 이 경우, 신틸레이터와 촬상 소자 사이에 개재되는 화이버 광학 부재에 의해 촬상 소자에 직접 입사하는 X선의 X선량이 저감된다. 이에 의해, 상기한 노이즈 제거의 화상 처리와 함께, X선 관찰 화상에서 노이즈 화상 성분의 영향을 더욱 저감하는 것이 가능하게 된다.

본 발명은 입사한 X선상에 대응되는 X선 관찰 화상을, 노이즈 화상 성분의 영향이 저감된 상태에서 바람직하게 취득하는 것이 가능한 X선 촬상 방법 및 X선 촬상 시스템으로서 이용 가능하다.

Claims (8)

1. 일방의 면이 X선 입사면으로 되어 있고, 입사한 X선에 따라 신틸레이션 광을 발생시켜 X선상(線像)을 광상(光像)으로 변환하는 신틸레이터와, 상기 신틸레이터의 타방의 면에 대해 마련되고, 상기 신틸레이터에서 생성된 상기 광상을 검출하여 상기 신틸레이터에 입사된 상기 X선상에 대응되는 X선 관찰 화상을 취득하는 촬상(撮像) 소자를 포함하고, 피사체를 통과한 X선에 의하여 생성된 상기 X선상을 촬상 대상으로 하는 X선 촬상 장치를 이용하고,

   상기 X선 촬상 장치에 의해, 상기 신틸레이터에서 상기 광상으로 변환된 상기 피사체의 상기 X선상에 대응되는 화상 성분 및 상기 촬상 소자에 직접 입사한 X선에 의한 제1 노이즈 화상 성분을 포함하는 제1 X선 관찰 화상을 취득하는 제1 화상 취득 단계와,

   상기 제1 노이즈 화상 성분과는 다른 제2 노이즈 화상 성분을 포함하는 제2 X선 관찰 화상을 취득하는 제2 화상 취득 단계와,

   상기 제1 X선 관찰 화상과 상기 제2 X선 관찰 화상 사이에서 감산 처리를 행하여, 노이즈 화상 성분이 추출된 노이즈 화상을 생성하는 감산 처리 단계와,

   상기 노이즈 화상에 대해 문턱값 처리를 행하여, 상기 노이즈 화상 성분 중에서 상기 제1 노이즈 화상 성분을 추출하는 문턱값 처리 단계와,

   상기 제1 노이즈 화상 성분을 포함하는 상기 제1 X선 관찰 화상으로부터, 상기 문턱값 처리 단계에서 추출된 상기 제1 노이즈 화상 성분을 감산함으로써, 상기 제1 노이즈 화상 성분이 제거된 노이즈 제거 화상을 생성하는 노이즈 제거 단계를 구비하고,

   상기 제1 화상 취득 단계에 있어서, 상기 피사체에 대하여 X선원으로부터의 X선을 조사하여 상기 제1 X선 관찰 화상을 취득함과 아울러,

   상기 제2 화상 취득 단계에 있어서, 상기 피사체에 대하여 상기 X선원으로부터의 X선을 조사하여, 상기 X선 촬상 장치에 의해, 상기 신틸레이터에서 상기 광상으로 변환된 상기 피사체의 상기 X선상에 대응하는 화상 성분 및 상기 촬상 소자에 직접 입사한 X선에 의한 상기 제2 노이즈 화상 성분을 포함하는 상기 제2 X선 관찰 화상을 취득하는 것을 특징으로 하는 X선 촬상 방법.
2. 청구항 1에 있어서,

   상기 X선 촬상 장치는, 상기 신틸레이터와 상기 촬상 소자 사이에 마련되고, 상기 신틸레이터에서 생성된 상기 광상을 상기 촬상 소자로 안내하는 화이버 광학 부재를 가지는 것을 특징으로 하는 X선 촬상 방법.
3. 일방의 면이 X선 입사면으로 되어 있고, 입사한 X선에 따라 신틸레이션 광을 발생시켜 X선상을 광상으로 변환하는 신틸레이터와, 상기 신틸레이터의 타방의 면에 대해 마련되고, 상기 신틸레이터에서 생성된 상기 광상을 검출하여 상기 신틸레이터에 입사된 상기 X선상에 대응되는 X선 관찰 화상을 취득하는 촬상 소자를 포함하고, 피사체를 통과한 X선에 의하여 생성된 상기 X선상을 촬상 대상으로 하는 X선 촬상 장치와,

   상기 X선 촬상 장치에 의해, 상기 신틸레이터에서 상기 광상으로 변환된 상기 피사체의 상기 X선상에 대응되는 화상 성분 및 상기 촬상 소자에 직접 입사한 X선에 의한 제1 노이즈 화상 성분을 포함하여 취득된 제1 X선 관찰 화상과, 상기 제1 노이즈 화상 성분과는 다른 제2 노이즈 화상 성분을 포함하여 취득된 제2 X선 관찰 화상 사이에서 감산 처리를 행하여, 노이즈 화상 성분이 추출된 노이즈 화상을 생성하는 감산 처리 수단과,

   상기 노이즈 화상에 대해 문턱값 처리를 행하여, 상기 노이즈 화상 성분 중에서 상기 제1 노이즈 화상 성분을 추출하는 문턱값 처리 수단과,

   상기 제1 노이즈 화상 성분을 포함하는 상기 제1 X선 관찰 화상으로부터, 상기 문턱값 처리 수단에서 추출된 상기 제1 노이즈 화상 성분을 감산함으로써, 상기 제1 노이즈 화상 성분이 제거된 노이즈 제거 화상을 생성하는 노이즈 제거 수단을 구비하고,

   상기 감산 처리 수단에 있어서 상기 제1 X선 관찰 화상으로서, 상기 피사체에 대하여 X선원으로부터의 X선을 조사하여 취득된 X선 관찰 화상을 이용함과 아울러,

   상기 감산 처리 수단에 있어서 상기 제2 X선 관찰 화상으로서, 상기 피사체에 대하여 상기 X선원으로부터의 X선을 조사하여, 상기 X선 촬상 장치에 의해, 상기 신틸레이터에서 상기 광상으로 변환된 상기 피사체의 상기 X선상에 대응하는 화상 성분 및 상기 촬상 소자에 직접 입사한 X선에 의한 상기 제2 노이즈 화상 성분을 포함하여 취득된 X선 관찰 화상을 이용하는 것을 특징으로 하는 X선 촬상 시스템.
4. 청구항 3에 있어서,

   상기 X선 촬상 장치는, 상기 신틸레이터와 상기 촬상 소자 사이에 마련되고, 상기 신틸레이터에서 생성된 상기 광상을 상기 촬상 소자로 안내하는 화이버 광학 부재를 가지는 것을 특징으로 하는 X선 촬상 시스템.
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