KR101374792B1

KR101374792B1 - 와이퍼레스 마스크 세척장치

Info

Publication number: KR101374792B1
Application number: KR1020120083666A
Authority: KR
Inventors: 이규재
Original assignee: 세일리코 주식회사
Priority date: 2012-07-31
Filing date: 2012-07-31
Publication date: 2014-03-17
Also published as: KR20140017169A; WO2014021575A1

Abstract

본 발명은 와이퍼레스 마스크 세척장치에 관한 것으로서, 세척 대상의 마스크(mask) 상에 잔류 경화된 솔더 페이스트의 점성을 약화시키기 위해 상기 마스크의 일면에 세정액을 도포하는 브러시를 구비하는 세정액 도포 유닛; 상기 세정액 도포 유닛에 이웃하게 배치되며, 상기 세정액이 도포된 상기 솔더 페이스트를 진공으로 흡착하는 진공흡착 유닛; 및 상기 진공흡착 유닛 쪽으로 부착되는 상기 솔더 페이스트의 세정을 위하여 상기 진공흡착 유닛의 일 영역으로 세정액을 분사하는 세정액 분사 유닛을 포함한다.

Description

와이퍼레스 마스크 세척장치{Wiperless mask cleaner}

본 발명은, 와이퍼레스 마스크 세척장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 마스크의 홀들 사이에 있는 잔류 경화된 솔더 페이스트를 효율적으로 제거하면서 마스크를 깨끗하게 세척할 수 있어 인쇄 품질의 향상을 도모할 수 있을 뿐만 아니라 종래 와이퍼의 사용으로 인한 유지·관리비의 증가나 환경오염 유발 문제를 효과적으로 해결할 수 있는 와이퍼레스 마스크 세척장치에 관한 것이다.

도 1 내지 도 4는 각각 일반적인 솔더 인쇄 공정을 단계적으로 도시한 도면들이다.

이들 도면을 참조하면, 우선 도 1처럼 기판(PCB) 상에 다수의 홀(1a, open)이 형성된 마스크(1)를 배치한 후, 스퀴즈(2)를 이용하여 솔더 페이스트(solder paste)을 인쇄한다.

마스크(1)는 도 5처럼 마스크 프레임(10)의 스텐실(11) 안쪽에 배치되어 다수의 홀(1a)을 통해 솔더 페이스트를 스퀴즈(2)를 이용하여 기판 상으로 밀어내기 위해 사용되는 것이다.

도 2처럼 스퀴즈(2)를 이용하여 마스크(1)를 통해 솔더 페이스트를 기판으로 밀어내면서 인쇄 공정을 진행하게 되며, 인쇄가 완료되면 도 3처럼 기판을 이송시킨다.

이때, 도 3의 확대 부분처럼 마스크(1)의 홀(1a)들 영역에는 솔더 내 함유된 플럭스(flux) 등의 점성물질이 잔류된 현상이 나타날 수 있는데, 마스크(1)를 연속사용하기 위해서는 점성에 의해 잔류 경화된 솔더 페이스트(A)를 제거하기 위해 마스크(1)를 세척해야 한다.

만약, 마스크(1)의 세척이 제대로 이루어지지 않거나 마스크(1)를 미세척한 상태에서 도 4처럼 마스크(1)를 기판에 밀착시켜 다시 사용할 경우, 점성에 의해 잔류 경화된 솔더 페이스트(A)로 인해 도 4의 확대된 부분처럼 다양한 문제가 발생될 수 있다.

예컨대, 도 4의 B 영역처럼 틈새가 발생되어 인쇄 번짐 현상이 발생될 수 있으며, 이에 따라 인쇄 시 과납 현상(C)을 유발할 수 있고, 증착에 의하여 홀 막힘 현상(D)이 발생되거나 인쇄 시 납량 부족 현상(E)이 발생될 수 있으며, 경우에 따라서는 회로 쇼트 현상(F)이 발생될 수도 있다.

이와 같은 현상(A~F)이 발생되는 것을 방지하기 위해서는 앞서 기술한 것처럼 인쇄 시 사용되었던 마스크(1)를 세척해야 하는데, 도 5는 종래기술에 따른 솔더 마스크 세척장치의 동작을 도시한 구성도이다.

이 도면을 참조하면, 종래기술에 따른 솔더 마스크 세척장치는 인쇄 시 사용되었던 마스크(1)를 세척하기 위해 롤 와이퍼(20, roll wiper)를 사용하고 있다. 즉 종래기술의 경우에는 섬유로 된 와이퍼가 롤에 감겨 있는 롤 와이퍼(20)가 사용되는데, 와이퍼가 마스크(1)의 배면에 접촉되도록 한 상태에서 회전시켜 점성에 의해 잔류 경화된 솔더 페이스트(A)를 닦아내는 방식으로 제거하고 있다. 사용이 완료된 와이퍼는 회수 롤(21)에 회수되어 폐기되며, 솔더 마스크 세척장치는 업/다운 장치(30)에 의해 업/다운 이동되면서 마스크(1)의 세척 작업을 진행한다.

그런데, 이와 같이 섬유형 와이퍼를 활용하여 마스크(1)를 세척하는 종래기술의 경우, 납 성분이 들어 있는 와이퍼를 폐기함으로써 환경오염을 유발시키게 되며, 와이퍼를 다 쓰면 새로 장착하여야 하므로 유지 관리비가 많이 소요되는 문제점을 발생시킨다.

뿐만 아니라 종래기술의 경우, 와이퍼가 마스크(1)의 배면만을 닦다 보니 마스크(1)의 홀(1a)들 사이에 있는 잔류 경화된 솔더 페이스트(A)를 충분히 제거하지 못하여 세척 불량을 유발시키게 됨으로써, 전술한 인쇄 번짐 현상(B), 인쇄 시 과납 현상(C), 홀 막힘 현상(D) 및 회로 쇼트 현상(F) 등을 발생시키는 문제점이 있다.

대한민국특허청 출원번호 제10-1995-0050699호

본 발명의 목적은, 마스크의 홀들 사이에 있는 잔류 경화된 솔더 페이스트를 효율적으로 제거하면서 마스크를 깨끗하게 세척할 수 있어 인쇄 품질의 향상을 도모할 수 있을 뿐만 아니라 종래 와이퍼의 사용으로 인한 유지·관리비의 증가나 환경오염 유발 문제를 효과적으로 해결할 수 있는 와이퍼레스 마스크 세척장치를 제공하는 것이다.

상기 목적은, 세척 대상의 마스크(mask) 상에 잔류 경화된 솔더 페이스트의 점성을 약화시키기 위해 상기 마스크의 일면에 세정액을 도포하는 브러시를 구비하는 세정액 도포 유닛; 상기 세정액 도포 유닛에 이웃하게 배치되며, 상기 세정액이 도포된 상기 솔더 페이스트를 진공으로 흡착하는 진공흡착 유닛; 및 상기 진공흡착 유닛 쪽으로 부착되는 상기 솔더 페이스트의 세정을 위하여 상기 진공흡착 유닛의 일 영역으로 세정액을 분사하는 세정액 분사 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 와이퍼레스 마스크 세척장치에 의해 달성된다.

상기 세정액 도포 유닛은, 상기 브러시가 회전 가능하게 결합되는 브러시 샤프트; 상기 브러시 샤프트와 연결되어 상기 브러시 샤프트를 회전시키는 샤프트 회전부; 및 상기 브러시가 부분적으로 노출되도록 상기 브러시 샤프트가 수용되며, 내부에 상기 세정액이 충전되는 세정액 용기를 포함할 수 있다.

상기 세정액 도포 유닛은, 상기 세정액 용기로 상기 세정액을 공급하는 세정액 공급 노즐; 및 상기 세정액 공급 노즐에 이웃하게 배치되며, 사용이 완료된 세정액을 배수시키는 세정액 배수 노즐을 더 포함할 수 있다.

상기 샤프트 회전부는, 상기 마스크의 배면에 접촉지지되어 회전되는 접촉 롤러; 상기 접촉 롤러에 결합되는 구동 풀리; 상기 브러시 샤프트에 결합되는 종동 풀리; 및 상기 구동 풀리와 상기 종동 풀리를 연결하는 벨트를 포함할 수 있다.

상기 진공흡착 유닛은, 상기 솔더 페이스트가 흡착되며, 상기 세정액 분사 유닛을 향해 선택적으로 회전되는 흡착 블록; 및 상기 흡착 블록에 이웃하게 배치되되 상기 흡착 블록과의 사이에 진공흡입공간을 형성하는 흡입 가이드블록을 포함할 수 있다.

상기 진공흡착 유닛은, 상기 흡착 블록이 고정되는 바아 고정블록; 상기 바아 고정블록과 함께 상기 흡착 블록을 지지하는 바아 서포트; 및 상기 흡착 블록의 임의 회전을 방지시키는 회전방지 락 가이드를 더 포함할 수 있다.

상기 세정액 분사 유닛은 일측에 세정액 분사 슬릿 또는 다수의 분사홀이 형성되는 세정액 분사 파이프(pipe)일 수 있다.

상기 세정액 도포 유닛과 상기 세정액 분사 유닛으로부터 배수되는 세정액을 침전여과시키는 세정액 침전여과 유닛을 더 포함할 수 있다.

본 발명에 따르면, 마스크의 홀들 사이에 있는 잔류 경화된 솔더 페이스트를 효율적으로 제거하면서 마스크를 깨끗하게 세척할 수 있어 인쇄 품질의 향상을 도모할 수 있을 뿐만 아니라 종래 와이퍼의 사용으로 인한 유지·관리비의 증가나 환경오염 유발 문제를 효과적으로 해결할 수 있는 효과가 있다.

도 1 내지 도 4는 각각 일반적인 솔더 인쇄 공정을 단계적으로 도시한 도면들,
도 5는 종래기술에 따른 솔더 마스크 세척장치의 동작을 도시한 구성도,
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 와이퍼레스 마스크 세척장치의 동작을 도시한 구성도,
도 7은 도 6의 요부 확대도,
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 와이퍼레스 마스크 세척장치의 전체 동작 구상도,
도 9는 도 8의 요부 확대 이미지,
도 10은 브러시 유닛의 구조 설명을 위한 도면,
도 11은 진공흡착 유닛의 구조 설명을 위한 도면,
도 12는 세정 유닛의 개략적인 사시도이다.

이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명한다.

도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 와이퍼레스 마스크 세척장치의 동작을 도시한 구성도, 도 7은 도 6의 요부 확대도, 도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 와이퍼레스 마스크 세척장치의 전체 동작 구상도, 도 9는 도 8의 요부 확대 이미지, 도 10은 브러시 유닛의 구조 설명을 위한 도면, 도 11은 진공흡착 유닛의 구조 설명을 위한 도면, 그리고 도 12는 세정 유닛의 개략적인 사시도이다.

이들 도면을 참조하면, 본 실시예에 따른 와이퍼레스 마스크 세척장치는, 세정액 도포 유닛(110), 진공흡착 유닛(120), 세정액 분사 유닛(130), 그리고 세정액 침전여과 유닛(140)을 포함한다.

본 실시예에 따른 와이퍼레스 마스크 세척장치는 도 6의 화살표 방향과 같은 궤적을 따라 이동하면서 마스크(1)의 세척 작업을 진행할 수 있다.

특히, 본 실시예에 따른 와이퍼레스 마스크 세척장치는 기존의 인쇄장치의 이송장치에 장착되어 사용될 수 있는데, 경우에 따라서는 기존의 인쇄장치와 별개로 독립적으로 사용될 수도 있을 것이다.

세정액 도포 유닛(110)은 세척 대상의 마스크(1) 상에 잔류 경화된 솔더 페이스트(A, 도 3 참조)의 점성을 약화시키기 위해 마스크(1)의 일면에 세정액을 도포하는 역할을 한다. 본 실시예의 와이퍼레스 마스크 세척장치가 도 6처럼 마스크(1)의 하부 영역에 배치되기 때문에 세정액 도포 유닛(110)은 마스크(1)의 배면을 향해 세정액을 도포할 수 있다.

마스크 세척을 위해 세정액을 가장 먼저 도포함으로써, 마스크(1) 상에 잔류 경화된 솔더 페이스트(A, 도 3 참조)의 점성을 약화시켜 마스크(1)의 홀(1a, 도 3 참조) 영역에 딱딱하게 붙어 있는 솔더 페이스트(A, 도 3 참조)가 세정액에 의하여 불려질 수 있게 됨으로써, 후속의 세척 작업에서 솔더 페이스트가 용이하게 제거될 수 있게 된다.

주로 도 10을 참조하면, 세정액 도포 유닛(110)은 브러시(111)와, 브러시(111)가 회전 가능하게 결합되는 브러시 샤프트(112)와, 브러시 샤프트(112)와 연결되어 브러시 샤프트(112)를 회전시키는 샤프트 회전부(113)와, 브러시(111)가 부분적으로 노출되도록 브러시 샤프트(112)가 수용되며, 내부에 세정액이 충전되는 세정액 용기(114)를 포함한다.

브러시(111)는 마스크(1)로 세정액을 도포, 즉 묻히는 역할을 담당한다. 오염되거나 손상된 것을 교체할 수 있도록 브러시(111)는 브러시 샤프트(112)에 착탈 가능하게 결합된다. 본 실시예의 경우, 하나의 브러시(111)가 적용되고 있지만 브러시(111)는 여러 개 일 수 있다.

브러시 샤프트(112)는 샤프트 회전부(113)에 의해 회전되면서 브러시(111)를 마스크(1)의 배면에서 회전시킨다.

이러한 브러시 샤프트(112)는 브러시 고정블록(115)에 회전 가능하게 결합된다. 브러시 고정블록(115)의 하부에는 너클 샤프트(116)가 실린더 너클 조인트(117)에 결합된다. 너클 조인트(117)의 하부에는 에어 실린더(118)가 마련되어 장치를 본 실시예의 세정장치를 업/다운 구동시킨다. 에어 실린더(118)는 베이스 플레이트(B/P) 상에 고정된다.

브러시 샤프트(112)에는 원활한 회전을 위한 수단으로서 베어링(112a)과 부싱(112b)이 결합된다. 그리고 브러시 샤프트(112)에는 압축스프링(112c)이 결합된다. 압축스프링(112c)은 브러시 샤프트(112)를 브러시(111) 측으로 탄성 가압함으로써 브러시(111)와 브러시 샤프트(112) 간의 결합이 해제되는 현상을 저지시킬 있을 뿐만 아니라 브러시(111)의 착탈도 가능하게 한다.

샤프트 회전부(113)는 마스크(1)의 배면에 접촉지지되어 회전되는 접촉 롤러(113a)와, 접촉 롤러(113a)에 결합되는 구동 풀리(113b)와, 브러시 샤프트(112)에 결합되는 종동 풀리(113c)와, 구동 풀리(113b)와 종동 풀리(113c)를 연결하는 벨트(113d)를 포함한다. 본 실시예에서 벨트(113d)는 원형 벨트로 적용될 수 있다. 접촉 롤러(113a)는 마스크(1)와의 마찰력에 의하여 회전하는 것으로, 마찰력이 있으면서 마스크(1)에 손상을 주지 않는 재질이면 족하며, 본 실시예에서는 우레탄 재질로 적용된다.

세정액 용기(114)는 브러시(111)가 부분적으로 노출되도록 브러시 샤프트(112)가 수용되는 용기이다. 도 9처럼 세정액 용기(114)의 상부에 덮개(미도시)가 배치될 수 있는데, 브러시(111)는 덮개를 통해 부분적으로 노출될 수 있다.

이러한 세정액 용기(114)의 중앙 영역에는 세정액 용기(114)로 세정액을 공급하는 세정액 공급 노즐(119a)이 마련되며, 그 양측으로 사용이 완료된 세정액을 배수시키는 세정액 배수 노즐(119b)이 마련된다. 사용한 세정액은 솔더가 많이 들어 있기 때문에 세정액 배수 노즐(119b)의 단부는 세정액 침전여과 유닛(140)에 연결되어 사용이 완료된 세정액은 세정액 침전여과 유닛(140)으로 보내진다.

이에, 인쇄장치의 이송장치에 의해 전체 모듈이 이송됨에 따라 접촉 롤러(113a)가 마스크(1)의 배면에 접촉지지되어 회전되고, 이러한 회전력이 구동 풀리(113b), 벨트(113d), 종동 풀리(113c) 및 브러시 샤프트(112)로 전달됨에 따라 브러시(111)가 회전되면서 마스크(1)의 배면에 세정액을 묻힐 수 있다.

진공흡착 유닛(120)은 세정액 도포 유닛(110)에 이웃하게 배치되며, 세정액이 도포된 솔더 페이스트(A)를 진공으로 흡착하는 역할을 한다.

이러한 진공흡착 유닛(120)은 도 11에 도시된 바와 같이, 우레탄과 같은 탄성이 있는 재질로 제작되며, 세정액 분사 유닛(130)을 향해 선택적으로 회전되는 흡착 블록(121)과, 흡착 블록(121)에 이웃하게 배치되되 흡착 블록(121)과의 사이에 진공흡입공간(G)을 형성하는 흡입 가이드블록(122)을 포함한다.

도 11에 도시된 바와 같이, 진공흡착 유닛(120)의 흡착 블록(121)은 실선에서 점선으로 회전될 수 있는데, 세정액이 도포된 솔더 페이스트(A)를 진공으로 흡착할 때에는 실선에 배치되고, 흡착 블록(121)을 세정할 때에는 점선에 배치된다.

흡착 블록(121)의 회전은 도 9에 도시된 모터(M)가 담당한다. 본 실시예에서 흡착 블록(121)은 마스크(1)에 손상을 주지 않도록 우레탄 재질로 제작된다.

이러한 흡착 블록(121)은 바아 고정블록(123)과 바아 서포트(124) 사이에서 지지될 수 있다. 바아 서포트(124)의 주변에는 흡착 블록(121)의 임의 회전을 저지시키는 회전방지 락 가이드(125)가 배치된다.

이에 따라 진공흡착 유닛(120)은 세정액 도포 유닛(110)이 세정액을 도포하고 지나가면 그 뒤를 따라가면서 진공흡입공간(G)을 통해 진공펌프(미도시)에서 발생된 진공흡입력을 가함으로써 마스크(1)로부터 솔더 페이스트를 흡입하면서 흡입된 솔더 페이스트를 흡착 블록(121)에 흡착시키게 된다.

흡착 블록(121)은 길다란 사각 바형으로 형성되어 일측 모서리가 마스크(1)에 접촉하도록 경사 배치되며, 흡착된 솔더 페이스트는 진공흡입공간(G)을 형성하는 흡착 블록(121)의 일측면 상으로 축적되면서, 진공 흡입 후에도 마스크 배면에 잔류될 수 있는 솔더 페이스트를 마스크(1)에 접촉된 흡착 블록(121)의 일측 모서리가 밀어내면서 닦아낼 수 있어 마스크의 세척 효율을 높일 수 있다.

세정액 분사 유닛(130)은 진공흡착 유닛(120) 쪽으로 부착되는 솔더 페이스트(A)의 세정을 위하여, 즉 흡착 블록(121)에 부착되는 솔더 페이스트(A)의 세정을 위하여 흡착 블록(121)으로 세정액을 분사하는 역할을 한다.

이러한 세정액 분사 유닛(130)은 도 12a, 12b처럼 그 일측에 세정액 분사 슬릿(131) 또는 분사홀(131')이 형성되는 세정액 분사 파이프(pipe)로 적용될 수 있으며, 도 11처럼 흡착 블록(121)이 점선 영역에 배치될 때, 세정액 분사 슬릿(131) 또는 분사홀들(131')을 통해 세정액이 강한 압력으로 분사되어 흡착 블록(121)에 흡착된 솔더 페이스트(A)를 세정하게 된다.

세정액 침전여과 유닛(140)은 세정액 도포 유닛(110)과 세정액 분사 유닛(130)으로부터 배수되는 세정액을 침전여과시켜 재활용하기 위한 수단이다. 세정액 침전여과 유닛(140)을 예시한 도 13을 참조하면, 세정액 도포 유닛(110)과 세정액 분사 유닛(130)으로부터 회수된 세정액은 침전조(141)에서 침전된 후 세정액 저장조(142)의 세정액과 혼합밸브(143)에 의하여 혼합된 후 펌프(144)를 거쳐 세정액 용기(114)와 세정액 분사 유닛(130)으로 제공될 수 있다. 따라서 환경에 유해한 납 성분은 세정액 침전여과 유닛(140)의 침전조(141)에서 침전되어 별도로 제거 후 재활용되는 것이 가능하게 되어 환경오염 유발 가능성을 없앨 수 있게 된다.

이러한 구성을 갖는 와이퍼레스 마스크 세척장치의 작용에 대해 설명한다.

인쇄장치의 이송장치에 의해 전체 모듈이 이송됨에 따라 접촉 롤러(113a)가 마스크(1)의 배면에 접촉지지되어 회전된다.

이와 같은 접촉 롤러(113a)의 회전력이 구동 풀리(113b), 벨트(113d), 종동 풀리(113c) 및 브러시 샤프트(112)로 전달됨에 따라 브러시(111)가 회전되면서 마스크(1)의 배면에 세정액을 묻힐 수 있다.

마스크(1)의 배면에 세정액이 묻으면 진공흡착 유닛(120)의 흡착 블록(121)이 도 11의 실선처럼 회전되어 세정액이 도포된 솔더 페이스트(A)를 진공으로 흡입하면서, 흡입된 솔더 페이스트(A)를 흡착 블록(121)에 흡착시킨다.

솔더 페이스트(A)의 흡착 과정이 완료되면 진공흡착 유닛(120)의 흡착 블록(121)이 도 11의 점선처럼 세정액 분사 유닛(130) 쪽으로 회전되며, 이후에 세정액 분사 슬릿(131) 또는 분사홀들(131')을 통해 세정액이 강한 압력으로 분사됨으로써 흡착 블록(121)에 흡착된 솔더 페이스트(A)가 세정된다.

한편, 세정액 도포 유닛(110)과 세정액 분사 유닛(130)으로부터 배수되는 세정액은 세정액 침전여과 유닛(140)에 의해 침전여과되며, 재활용된 세정액은 추가로 제공되는 세정액과 더불어 펌프에 의해 세정액 용기(114)와 세정액 분사 유닛(130)으로 제공된다.

이와 같이, 본 실시예에 따르면, 마스크(1)의 홀(1a)들 사이에 있는 잔류 경화된 솔더 페이스트(A)를 효율적으로 제거하면서 마스크(1)를 깨끗하게 세척할 수 있어 도 4에 도시된 것처럼 인쇄 번짐 현상(B), 인쇄 시 과납 현상(C), 홀 막힘 현상(D) 및 회로 쇼트 현상(E) 등의 발생을 차단하여 인쇄 품질 향상을 도모할 수 있을 뿐만 아니라 종래 와이퍼의 사용으로 인한 유지·관리비의 증가나 환경오염 유발 문제를 효과적으로 해결할 수 있게 된다.

이와 같이 본 발명은 기재된 실시예에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 다양하게 수정 및 변형할 수 있음은 이 기술의 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명하다. 따라서 그러한 수정예 또는 변형예들은 본 발명의 특허청구범위에 속한다 하여야 할 것이다.

1 : 마스크 1a : 홀
110 : 세정액 도포 유닛 111 : 브러시
112 : 브러시 샤프트 113 : 샤프트 회전부
113a : 접촉 롤러 113b : 구동 풀리
113b : 종동 풀리 113d : 벨트
114 : 세정액 용기 119a : 세정액 공급 노즐
119b : 세정액 배수 노즐 120 : 진공흡착 유닛
121 : 흡착 블록 122 : 흡입 가이드블록
123 : 바아 고정블록 124 : 바아 서포트
125 : 회전방지 락 가이드 130 : 세정액 분사 유닛
131 : 세정액 분사 슬릿 140 : 세정액 침전여과 유닛

Claims

세척 대상의 마스크(mask) 상에 잔류 경화된 솔더 페이스트의 점성을 약화시키기 위해 상기 마스크의 일면에 세정액을 도포하는 브러시를 구비하는 세정액 도포 유닛;
상기 세정액 도포 유닛에 이웃하게 배치되며, 상기 세정액이 도포된 상기 솔더 페이스트를 진공으로 흡착하는 진공흡착 유닛;
상기 진공흡착 유닛 쪽으로 부착되는 상기 솔더 페이스트의 세정을 위하여 상기 진공흡착 유닛의 일 영역으로 세정액을 분사하는 세정액 분사 유닛을 포함하며,
상기 진공흡착 유닛은,
상기 솔더 페이스트가 흡착되며, 상기 세정액 분사 유닛을 향해 선택적으로 회전되는 흡착 블록; 및
상기 흡착 블록에 이웃하게 배치되되 상기 흡착 블록과의 사이에 진공흡입공간을 형성하는 흡입 가이드블록을 포함하는 것을 특징으로 하는 와이퍼레스 마스크 세척장치.
제1항에 있어서,
상기 세정액 도포 유닛은,
상기 브러시가 회전 가능하게 결합되는 브러시 샤프트;
상기 브러시 샤프트와 연결되어 상기 브러시 샤프트를 회전시키는 샤프트 회전부; 및
상기 브러시가 부분적으로 노출되도록 상기 브러시 샤프트가 수용되며, 내부에 상기 세정액이 충전되는 세정액 용기를 포함하는 것을 특징으로 하는 와이퍼레스 마스크 세척장치.
제2항에 있어서,
상기 세정액 도포 유닛은,
상기 세정액 용기로 상기 세정액을 공급하는 세정액 공급 노즐; 및
상기 세정액 공급 노즐에 이웃하게 배치되며, 사용이 완료된 세정액을 배수시키는 세정액 배수 노즐을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 와이퍼레스 마스크 세척장치.
제2항에 있어서,
상기 샤프트 회전부는,
상기 마스크의 배면에 접촉지지되어 회전되는 접촉 롤러;
상기 접촉 롤러에 결합되는 구동 풀리;
상기 브러시 샤프트에 결합되는 종동 풀리; 및
상기 구동 풀리와 상기 종동 풀리를 연결하는 벨트를 포함하는 것을 특징으로 하는 와이퍼레스 마스크 세척장치.
삭제
제1항에 있어서,
상기 진공흡착 유닛은,
상기 흡착 블록이 고정되는 바아 고정블록;
상기 바아 고정블록과 함께 상기 흡착 블록을 지지하는 바아 서포트; 및
상기 흡착 블록의 임의 회전을 방지시키는 회전방지 락 가이드를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 와이퍼레스 마스크 세척장치.
제1항에 있어서,
상기 세정액 분사 유닛은 일측에 세정액 분사 슬릿 또는 다수의 분사홀이 형성되는 세정액 분사 파이프(pipe)인 것을 특징으로 하는 와이퍼레스 마스크 세척장치.
제1항에 있어서,
상기 세정액 도포 유닛과 상기 세정액 분사 유닛으로부터 배수되는 세정액을 침전여과시키는 세정액 침전여과 유닛을 더 포함하는 특징으로 하는 와이퍼레스 마스크 세척장치.