KR101372036B1 - 노광용 기준 마크를 형성하는 장치 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 노광용 기준 마크를 형성하는 장치와 방법, 및 표시 패널용 기판의 제조 방법에 관한 것으로, 장치는 노광할 막이 형성되어 있는 글라스가 상부에 놓여지는 스테이지(Stage)와; 노광용 기준 마크가 형성되도록, 상기 스테이지 상부의 글라스를 통하여 패턴된 광을 상기 노광할 막에 조사하는 복수개의 광원부들로 구성된다.
그러므로, 본 발명은 복수개의 노광 마크를 하나의 장치에서 신속히 형성할 수 있는 효과가 있다.
또한, 본 발명은 노광용 기준 마크들을 인식하면서, 대면적 글라스 상부에 있는 노광할 영역들을 순차적으로 노광할 수 있으므로, 노광 오차를 줄일 수 있어 노광의 신뢰성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
노광, 기준마크, 형성, 레이저광, 글라스
Description
도 1a와 1b는 종래 기술에 따른 노광 방법을 설명하기 위한 개념도
도 2는 종래 기술에 따른 노광 방법으로 노광된 상태를 도시한 개략적인 평면도
도 3은 본 발명에 따른 노광용 기준 마크를 형성하는 장치의 개략적인 단면도
도 4a 내지 4c는 본 발명에 따른 노광용 기준 마크를 형성하는 장치에서 마크를 형성하는 방법을 설명하기 위한 개략적인 단면도
도 5는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 노광용 기준 마크를 형성하는 장치에서 기준 마크가 형성되는 방법을 상세하게 설명하기 위한 개략적인 단면도
도 6은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 노광용 기준 마크를 형성하는 장치의 개략적인 단면도
도 7은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 노광용 기준 마크를 형성하는 장치에서 기준 마크가 형성되는 방법을 상세하게 설명하기 위한 개략적인 단면도
도 8a와 8b는 본 발명에 따라 기준 마크가 형성된 상태를 도시한 개략적인 단면도 및 평면도
도 9는 본 발명에 따라 노광용 기준 마크가 형성된 상태를 도시한 개략적인 평면도
도 10은 본 발명에 따라 표시 패널용 기판의 제조 방법을 설명하는 흐름도
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
100 : 스테이지 110 : 진공홀
120 : 관통홀 200 : 광원부
210,260 : 레이저 광원 220,270 : 빔 확대기(Beam expander)
230,280 : 마스크 235 : 빔 가이드
281 : 조명부 282 : CCD 카메라
290 : 프로젝션 광학부 291 : 대물 렌즈
300 : 리프트핀(Lift pin) 400 : 글라스
410 : 노광할 막 411 : 기준마크
500 : 로딩암(Loading arm)
본 발명은 노광용 기준 마크를 형성하는 장치에 관한 것이다.
최근, 정보화 사회로 시대가 급발전함에 따라 박형화, 경량화, 저 소비전력화 등의 우수한 특성을 갖는 평판 표시(Flat panel display) 패널의 필요성이 대두되었다.
이러한 필요성에 의하여 LCD(Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display Panel), ELD(Electroluminescent Display), VFD(Vacuum Fluorescent Display) 등과 같은 화상 표시 패널이 개발되었다.
이 중 액정표시(Liquid Crystal Display, LCD) 패널은 해상도, 컬러표시, 화질 등에서 우수하여 노트북이나 데스크탑 모니터, 최근에는 TV용으로도 활발하게 적용되고 있다.
한편, 모기판 글라스는 소비자의 요구에 따라 대형화되면서 다양한 공정 설비가 개발되어지고 있으며, 신공법을 이용한 설비들이 개발되고 있다.
특히, 노광 장비는 각 표시 패널에서 패턴을 형성하기 위한 핵심적인 장비이며, 조명장치의 광을 입사받아 포토마스크의 패턴을 투과하여 노광시킬 막에 결상시켜 노광시키는 기능을 수행한다.
이때, 첫번째 패턴을 형성할 경우에는 모기판 글라스상에 아무런 마크를 형 성할 수 없는 상태이므로 모기판 글라스 외부에 설치된 기구의 도움을 받아 노광을 실시하게 된다.
도 1a와 1b는 종래 기술에 따른 노광 방법을 설명하기 위한 개념도로서, 도 1a와 같이, 모기판 글라스(10) 상부에 노광할 막(11)이 형성되어 있고, 상기 노광할 막(11)을 복수개의 노광할 영역들(31,32,33)로 분할하여 정의하고, 상기 노광할 영역들(31,32,33)을 순차적으로 프로젝션 노출(Projection exposuring) 시스템(20)에서 노광한다.
즉, 상기 모기판 글라스(10)가 대면적이기 때문에, 모기판 글라스(10) 상부의 노광할 막(11)은 복수개의 노광할 영역들(31,32,33)로 분할하여 노광하는 것이다.
이때, 도 1a에 도시된 바와 같이, 레이저 인터페로미터(Interferometer)들(41,42)로 상기 노광할 영역들(31,32,33)의 X와 Y축의 위치를 측정하면서 노광한다.
도 2는 종래 기술에 따른 노광 방법으로 노광된 상태를 도시한 개략적인 평면도로서, 전술된 바와 같이, 종래 기술의 노광 장치에서는 절대적인 기준없이 레이저 인터페로미터에서 측정된 노광할 영역들의 X와 Y축 위치값을 참조하여 노광하였기 때문에, 실제의 위치 간격 오차 및 반복 위치 공차가 누적되어, 정확한 위치정보가 관리되지 않았다.
그러므로, 이러한 오차들로 인하여, 도 2에 도시된 바와 같이, 노광할 영역들 사이의 간격들(a1,a2,a3,a4)이 균일하지 않게 되고, 노광된 영역(31a,32a,33a)이 불규칙하게 배열되어 노광 불량 및 이것으로 인한 제품의 불량을 초래하게 되는 문제점이 있었다.
본 발명은 상기한 바와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 복수개의 노광 마크를 하나의 장치에서 신속히 형성할 수 있는 노광용 기준 마크를 형성하는 장치를 제공하는 데 목적이 있다.
본 발명의 다른 목적은 노광용 기준 마크들을 인식하면서, 대면적 글라스 상부에 있는 노광할 영역들을 순차적으로 노광할 수 있으므로, 노광 오차를 줄일 수 있어 노광의 신뢰성을 향상시킬 수 있는 노광용 기준 마크를 형성하는 장치와 방법, 및 표시 패널용 기판의 제조 방법을 제공하는 데 있다.
상기한 본 발명의 목적들을 달성하기 위한 바람직한 제 1 양태(樣態)는,
노광할 막이 형성되어 있는 글라스가 상부에 놓여지는 스테이지(Stage)와;
노광용 기준 마크가 형성되도록, 상기 스테이지 상부의 글라스를 통하여 패턴된 광을 상기 노광할 막에 조사하는 복수개의 광원부들로 구성된 노광용 기준 마크를 형성하는 장치가 제공된다.
상기한 본 발명의 목적들을 달성하기 위한 바람직한 제 2 양태(樣態)는,
레이저광원에서 레이저광을 출사하는 단계와;
상기 레이저광원에서 출사된 레이저빔을 빔 확대기에서 레이저빔의 직경을 확장하는 단계와;
상기 빔 확대기에서 확장된 레이저빔을 마스크에 투과시켜 패턴된 레이저광으로 형성하는 단계와;
상기 패턴된 레이저광으로 글라스 상부에 있는 노광할 막의 일부를 제거하여 노광용 기준 마크를 형성하는 단계로 이루어진 노광용 기준 마크를 형성하는 방법이 제공된다.
상기한 본 발명의 목적들을 달성하기 위한 바람직한 제 3 양태(樣態)는,
레이저광원에서 레이저빔을 출사하는 단계와;
상기 레이저광원에서 출사된 레이저빔의 직경을 빔 확대기에서 확장하는 단계와;
상기 빔 확대기에서 확장된 레이저빔을 마스크에 투과시켜 패턴된 레이저광으로 형성하는 단계와;
상기 패턴된 레이저광을 프로젝션 광학부에서 축소 투영시키는 단계와;
상기 프로젝션 광학부에서 축소 투영된 레이저광을 대물렌즈에 통과시키고,상기 대물렌즈에 통과된 레이저광으로 노광할 막의 일부를 제거하여, 상기 노광할 막에 노광용 기준 마크를 형성하는 단계로 이루어진 노광용 기준 마크를 형성하는 방법이 제공된다.
상기한 본 발명의 목적들을 달성하기 위한 바람직한 제 4 양태(樣態)는,
로딩암(Loading arm) 상부에 노광할 막이 형성되어 있는 글라스를 올려놓고, 상기 로딩암으로 상기 글라스를 이송하여 스테이지 상부에 위치시키는 단계와;
상기 스테이지에 설치된 복수개의 리프트 핀(Lift pin)들을 상승시켜 상기 글라스를 지지하는 단계와;
상기 로딩암을 상기 스테이지 외부로 빼내고, 상기 복수개의 리프트 핀(Lift pin)들이 하강하여 상기 글라스를 상기 스테이지 상부에 올려놓는 단계와;
복수개의 광원부들에서 패턴된 레이저광을 상기 글라스를 통하여 상기 노광할 막에 조사하여 노광용 기준 마크를 형성하는 단계로 이루어진 노광용 기준 마크를 형성하는 방법이 제공된다.
상기한 본 발명의 목적들을 달성하기 위한 바람직한 제 5 양태(樣態)는,
표시 패널용 투명 기판 상부에 노광용 막을 형성하는 단계와;
상기 노광용 막에 복수개의 노광용 기준 마크들을 형성하는 단계와;
상기 노광용 기준 마크들을 순차적으로 인식하면서, 상기 노광용 막을 노광하는 단계를 포함하여 구성된 표시 패널용 기판의 제조 방법이 제공된다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하면 다음 과 같다.
도 3은 본 발명에 따른 노광용 기준 마크를 형성하는 장치의 개략적인 단면도로서, 노광할 막이 형성되어 있는 글라스가 상부에 놓여지는 스테이지(Stage)(100)와; 노광용 기준 마크가 형성되도록, 상기 스테이지(100) 상부의 글라스를 통하여 패턴된 광을 상기 노광할 막에 조사하는 복수개의 광원부들(200)과; 상기 글라스를 상승 및 하강시키도록 상기 스테이지(100)에 설치된 복수개의 리프트 핀(Lift pin)들(300)로 구성된다.
여기서, 상기 스테이지(100) 상부면에는 진공펌프(미도시)와 연결된 복수개의 진공홀들(110)이 형성되어 있는 것이 바람직하다.
즉, 상기 복수개의 진공홀들(110)은 상기 글라스가 스테이지(100) 상부에 놓여지면, 상기 글라스를 진공흡착하여 상기 글라스가 상기 스테이지(100)에 밀착 고정시킨다.
그리고, 상기 스테이지(100)는 온도 변화를 최소화할 있는 화강석(Granite)로 형성하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 광원부들(200)은 패턴된 레이저광을 조사하는 광원부들인 것이 바람직하다.
따라서, 본 발명의 노광용 기준 마크를 형성하는 장치는 상기 스테이지(100) 상부에 노광할 막이 형성되어 있는 글라스를 올려놓고, 상기 복수개의 광원부들(200)에서 조사된 패턴된 광으로 상기 노광할 막에 기준 마크를 형성하는 것이다.
그리고, 상기 복수개의 리프트 핀(Lift pin)들(300)은 상기 스테이지(100) 상부에 글라스를 안전하게 올려놓을 수 있도록 설치된 것이다.
따라서, 본 발명은 복수개의 노광 마크를 하나의 장치에서 신속히 형성할 수 있는 장점이 있다.
도 4a 내지 4c는 본 발명에 따른 노광용 기준 마크를 형성하는 장치에서 마크를 형성하는 방법을 설명하기 위한 개략적인 단면도로서, 모기판 글라스상에 최초로 노광용 기준 마크를 형성하게 되는 공정을 설명한 것이다.
먼저, 로딩암(Loading arm)(500) 상부에 노광할 막(410)이 형성되어 있는 글라스(400)를 올려놓고, 상기 로딩암(500)으로 상기 글라스(400)를 이송하여 스테이지(100) 상부에 위치시킨다.(도 4a)
그 후, 상기 스테이지(100)에 설치된 복수개의 리프트 핀(Lift pin)들(300)을 상승시켜 상기 글라스(400)를 지지한다.(도 4b)
연이어, 상기 로딩암(500)은 상기 스테이지(100) 외부로 빠져나가고, 상기 복수개의 리프트 핀(Lift pin)들(300)이 하강하여 상기 글라스(400)를 상기 스테이지(100) 상부에 올려놓는다.
그 다음, 복수개의 광원부들(200)에서 패턴된 레이저광을 상기 글라스를 통하여 상기 노광할 막에 조사하여 노광용 기준 마크를 형성한다.(도 4c)
여기서, 상기 노광용 기준 마크를 형성하는 공정은, 상기 노광할 막에 상기 패턴된 레이저광이 조사될 때, 상기 노광할 막에서 기화되는 가스를 흡입부에서 흡 입하는 공정이 더 구비된 것이 바람직하다.
도 5는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 노광용 기준 마크를 형성하는 장치에서 기준 마크가 형성되는 방법을 상세하게 설명하기 위한 개략적인 단면도로서, 전술된 광원부는 레이저광원(210)과; 상기 레이저광원(210)에서 출사된 레이저빔의 직경을 확장하는 빔 확대기(Beam expander)(220)와; 상기 빔 확대기(220)에서 출사된 광을 패턴된 레이저광으로 투과시키는 마스크(230)로 구성된다.
그리고, 스테이지(100)에는 복수개의 관통홀들(120)이 형성되어 있고, 복수개의 관통홀들(120) 각각에는 광원부의 패턴된 레이저광이 출사되도록 구성되어 있다.
즉, 상기 마스크(230)를 투과한 패턴된 레이저광은 관통홀(120)을 통과하고 글라스(100)를 투과하여 노광할 막(410)에 도달하여 노광용 기준 마크를 형성할 수 있게 된다.
이렇게 구성된 노광용 기준 마크를 형성하는 장치는 상기 레이저광원(210)에서 레이저광을 출사하고, 상기 레이저광원(210)에서 출사된 레이저빔은 빔 확대기(220)으로 입사되어 레이저빔의 직경이 확장된다.
그 후, 상기 빔 확대기(220)에서 출사된 레이저빔은 상기 마스크(230)를 투과하면서 패턴된 레이저광이 되고, 상기 패턴된 레이저광으로 글라스 상부에 있는 노광할 막(410)의 일부를 제거함으로써, 상기 노광할 막(410)에 노광용 기준 마크가 형성된다.
여기서, 상기 레이저빔의 에너지를 받은 상기 노광할 막(410) 영역은 기화되어 제거되는 것이다.
그리고, 상기 레이저광원(210)의 레이저빔이 마스크(230)에 정확히 도달되도록, 상기 레이저광원(210)과 상기 빔 확대기(220)를 정렬할 수 있는 스테이지가 더 구비되는 것이 바람직하다.
또한, 상기 빔 확대기(220)와 상기 마스크(230) 사이에는 빔 가이드(235)를 더 구비시켜, 상기 빔 가이드(235)로 하여금 상기 마스크(230)를 지지하도록 하는 것이다.
도 6은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 노광용 기준 마크를 형성하는 장치의 개략적인 단면도로서, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 노광용 기준 마크를 형성하는 장치는, 노광할 막(410)이 형성되어 있는 글라스(400)가 상부에 놓여지는 스테이지(Stage)(100)와; 노광용 기준 마크가 형성되도록, 상기 스테이지(100) 상부의 글라스(400)를 통하여 패턴된 레이저광을 상기 노광할 막(410)에 조사하는 복수개의 광원부들(250)과; 상기 글라스(400)를 상승 및 하강시키도록 상기 스테이지(100)에 설치된 복수개의 리프트 핀(Lift pin)들(300)과; 상기 노광할 막(410)에 상기 패턴된 레이저광이 조사될 때, 상기 노광할 막(410)에서 기화되는 가스를 흡입하는 흡입부(600)로 구성된다.
그러므로, 제 2 실시예의 장치는 레이저광이 상기 노광할 막(410)에 조사되면, 레이저광이 조사된 노광할 막(410) 영역이 기화되어 가스가 생성되고, 이 가스를 상기 흡입부(600)에서 흡입함으로써, 오염을 방지할 수 있는 것이다.
여기서, 상기 노광할 막(410)은 블랙 매트릭스막 또는 포토레지스트막이 바람직하다.
이때, 상기 블랙 매트릭스막에 레이저광이 조사되면, 블랙 매트릭스가 기화되어 가스가 생성된다.
도 7은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 노광용 기준 마크를 형성하는 장치에서 기준 마크가 형성되는 방법을 상세하게 설명하기 위한 개략적인 단면도로서, 광원부는 레이저광원(260)과; 상기 레이저광원(260)에서 출사된 레이저빔의 직경을 확장하는 빔 확대기(Beam expander)(270)와; 상기 빔 확대기(270)에서 출사된 레이저광을 패턴된 레이저광으로 투과시키는 마스크(280)와; 상기 마스크(280)에서 투과되어진, 패턴된 레이저광을 축소 투영시키는 프로젝션 광학부(290)와; 상기 프로젝션 광학부(290)에서 축소 투영된 레이저광을 입사받아, 노광할 막(410)에 상(像)을 맺도록 하는 대물렌즈(291)로 구성된다.
이러한, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 노광용 기준 마크를 형성하는 장치는 상기 레이저광원(260)에서 레이저빔을 출사하고, 상기 레이저광원(260)에서 출사된 레이저빔의 직경을 상기 빔 확대기(270)에서 확장하고, 상기 빔 확대기(270)에서 출사된 광을 상기 마스크(280)에서 패턴된 레이저광으로 투과시킨다.
그 후, 상기 마스크(280)에서 투과되어진, 패턴된 레이저광을 상기 프로젝션 광학부(290)에서 축소 투영시키고, 상기 프로젝션 광학부(290)에서 축소 투영된 레이저광을 대물렌즈(291)에서 입사받아, 노광할 막(410)에 상(像)을 맺혀 노광할 막(410)의 일부를 제거함으로써, 상기 노광할 막(410)에 노광용 기준 마크를 형성한다.
그리고, 상기 마스크(280)의 위치를 조정하는 위치 조정 장치가 더 구비된 것이 바람직하다.
여기서, 상기 위치 조정 장치는 상기 빔 확대기(270)와 프로젝션 광학부(290) 사이에, 상기 마스크(280)가 광학적으로 잘 정렬되도록, 상기 마스크(280)의 위치를 조정하는 장치이다.
또한, 상기 광원부에는, 상기 프로젝션 광학부(290)에 축소 투영된 이미지를 조명하는 조명부(281)와; 상기 조명된 이미지를 촬영하는 CCD(Charge coupled device) 카메라(282)가 더 구비되어 있는 것이 바람직하다.
상기 조명부(281)와 CCD 카메라(282)는 상기 프로젝션 광학부(290)에 패턴된 레이저광이 원하는 크기로 축소 투영되었는지를 도 7의 모니터(295)로 관찰할 수 있는 장치이다.
도 8a와 8b는 본 발명에 따라 기준 마크가 형성된 상태를 도시한 개략적인 단면도 및 평면도로서, 글라스(400) 상부에는 노광할 막(410)이 형성되어 있고, 이 노광할 막(410)에는 노광할 막(410)의 일부가 제거되어 노광용 기준 마크(411)가 형성되어 있다.(도 8a)
이 노광용 기준 마크(411)로 도 8b에는, 십자형 패턴이 도시되었지만, 이 패턴의 형상은 자유롭게 설계할 수 있는 것이다.
도 9는 본 발명에 따라 노광용 기준 마크가 형성된 상태를 도시한 개략적인 평면도로서, 글라스(400) 상부에 있는 노광할 막은 복수개의 노광할 영역들(421,422,423)로 분할되어 있고, 각 노광할 영역들(421,422,423)에는 노광용 기준 마크들(411)이 형성되어 있다.
이 노광용 기준 마크들(411)을 인식하면, 노광할 영역들(421,422,423) 사이의 간격이 일정하게 되어 노광 오차를 줄일 수 있는 것이다.
그러므로, 본 발명은 노광용 기준 마크들(411)을 인식하면서, 노광할 영역들(421,422,423)을 순차적으로 노광할 수 있으므로, 노광 오차를 줄일 수 있어 노광의 신뢰성을 향상시킬 수 있는 것이다.
도 10은 본 발명에 따라 표시 패널용 기판의 제조 방법을 설명하는 흐름도로서, 먼저, 표시 패널용 투명 기판 상부에 최초 패턴 노광용 막을 형성한다.(S10단계)
여기서, 상기 투명 기판은 액정 디스플레이 패널을 제조하기 위한 것이 바람직하다.
그 후, 상기 최초 패턴 노광용 막에 복수개의 노광용 기준 마크들을 형성한다.(S20단계)
연이어, 상기 노광용 기준 마크들을 순차적으로 인식하면서, 상기 노광용 막을 노광한다.(S30단계)
여기서, 상기 노광용 막은 복수개의 노광할 영역들로 분할되어 있고, 상기 복수개의 노광할 영역들 각각에 상기 노광용 기준 마크를 형성하고, 상기 노광용 기준 마크들이 인식된 순서로, 상기 노광할 영역들을 순차적으로 노광하는 것이 바람직하다.
표시 패널용 기판의 제조방법을 액정표시장치를 예를 들어, 상세히 설명하면 다음과 같다.
모기판에서 여러 면의 패널을 취하는 다면취 공정은 액정표시장치의 제조공정에서는 현재 일반적인 것이며, 각각의 패널은 순차적으로 별도의 노광으로 각 패턴이 형성된다.
일반적으로 제조 공정의 중간에 형성되는 패턴은 선행된 공정에서 형성된 패턴을 기준으로 만들어진 노광용 기준 마크가 존재하기 때문에 상기 기준 마크를 적용하여, 공정이 진행되며, 최초 패턴이 형성되는 경우에는 본 발명의 공정을 사용하게 되는 것이다.
예를 들면, TFT-LCD의 하판 공정에서의 게이트 전극 패턴 형성공정이나, 상판공정에서의 블랙 매트릭스 패턴 형성공정 같은 것이다. 이후 공정은 위에서 언급하였듯이 이 최초 패턴 노광용 막에 형성된 기준 마크를 적용하여 진행하면 된다. 또한, 상기 최초 패턴 노광용막에 형성된 기준마크는 이후 노광공정에 영향을 최소화하기 위하여 표시기판의 비 유효영역에 형성하는 것이 바람직하다.
따라서, 이 기준마크는 최종 절단공정에서 잘려나가게 되고, 최종 제품화된 표시장치에서는 보이지 않게 된다.
이상 상술한 바와 같이, 본 발명은 복수개의 노광 마크를 하나의 장치에서 신속히 형성할 수 있는 효과가 있다.
또한, 본 발명은 최초 패턴 형성시 노광용 기준 마크들을 인식하면서, 대면적 글라스 상부에 있는 노광할 영역들을 순차적으로 노광할 수 있으므로, 노광 오차를 줄일 수 있어 노광의 신뢰성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
본 발명은 구체적인 예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.
Claims (19)
- 노광할 막이 형성되어 있는 글라스가 상부에 놓여지는 스테이지(Stage)와;노광용 기준 마크가 형성되도록, 상기 스테이지 상부의 글라스를 통하여 패턴된 광을 상기 노광할 막에 조사하는 복수개의 광원부들로 구성되고,상기 광원부는 레이저 광원과;상기 레이저 광원에서 출사된 레이저빔의 직경을 확장하는 빔 확대기(Beam expander)와;상기 빔 확대기에서 출사된 레이저광을 패턴된 레이저광으로 투과시키는 마스크; 및상기 빔 확대기를 통과한 상기 레이저 광을 상기 마스크로 향하도록 하는 빔 가이드를 포함하고,상기 빔 가이드는 상기 마스크를 지지하도록 구성된 노광용 기준 마크를 형성하는 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 글라스를 상승 및 하강시키도록 상기 스테이지에 설치된 복수개의 리프트 핀(Lift pin)들이 더 구비된 것을 특징으로 하는 노광용 기준 마크를 형성하는 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 광원부들에서 조사되는 광은 레이저광인 것을 특징으로 하는 노광용 기준 마크를 형성하는 장치.
- 제 3 항에 있어서,상기 노광할 막에 상기 패턴된 레이저광이 조사될 때, 상기 노광할 막에서 기화되는 가스를 흡입하는 흡입부가 더 구비되어 있는 것을 특징으로 하는 노광용 기준 마크를 형성하는 장치.
- 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 스테이지 상부면에는,진공펌프와 연결된 복수개의 진공홀들이 더 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 노광용 기준 마크를 형성하는 장치.
- 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 스테이지는,화강석(Granite)으로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 노광용 기준 마크를 형성하는 장치.
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Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020070005510A KR101372036B1 (ko) | 2007-01-18 | 2007-01-18 | 노광용 기준 마크를 형성하는 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020070005510A KR101372036B1 (ko) | 2007-01-18 | 2007-01-18 | 노광용 기준 마크를 형성하는 장치 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20080068170A KR20080068170A (ko) | 2008-07-23 |
KR101372036B1 true KR101372036B1 (ko) | 2014-03-10 |
Family
ID=39822039
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020070005510A KR101372036B1 (ko) | 2007-01-18 | 2007-01-18 | 노광용 기준 마크를 형성하는 장치 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101372036B1 (ko) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6465591B2 (ja) * | 2014-08-27 | 2019-02-06 | 株式会社オーク製作所 | 描画装置 |
KR102012297B1 (ko) * | 2017-09-07 | 2019-08-20 | (주)에이치피케이 | 멀티빔 스캐너 시스템을 이용한 패턴 형성방법 |
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-
2007
- 2007-01-18 KR KR1020070005510A patent/KR101372036B1/ko active IP Right Grant
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20080068170A (ko) | 2008-07-23 |
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