KR101365821B1 - Repair apparatus and method for Liquid crystal display - Google Patents

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Abstract

액정 표시 장치용 기판 상의 결함을 리페어하는 경우, 각 결함의 위치에 따라 광학계의 렌즈를 이동시키지 않고 리페어 작업 시간을 단축시키기 위한 액정 표시 장치용 리페어 장치 및 방법이 개시된다. 액정 표시 장치용 리페어 장치는, 레이저광을 출사하는 광학부, 광학부의 하부에 기판이 안착되도록 구비되며, X축 및 Y축 방향으로 이동이 가능한 이동 스테이지, 광학부로부터 출사되는 레이저광의 진행 방향을 가변시켜서 기판 상에 조사되도록 하는 마이크로미러 어레이, 및 마이크로미러 어레이의 회전 각도를 제어하는 마이크로미러 제어기를 포함한다. When repairing a defect on a liquid crystal display substrate, a repair apparatus and method for a liquid crystal display device for shortening a repair operation time without moving a lens of an optical system according to the position of each defect are disclosed. The repair apparatus for a liquid crystal display device includes an optical unit for emitting a laser beam and a substrate disposed under the optical unit, the movable stage capable of moving in the X and Y axis directions, and a traveling direction of the laser beam emitted from the optical unit. And a micromirror array for varying and irradiating onto the substrate, and a micromirror controller for controlling the rotation angle of the micromirror array.

액정 표시 장치, 리페어, 마이크로미러, 회전 Liquid Crystal Display, Repair, Micromirror, Rotation

Description

액정 표시 장치용 리페어 장치 및 방법 {Repair apparatus and method for Liquid crystal display}Repair apparatus and method for a liquid crystal display device {Repair apparatus and method for Liquid crystal display}

도 1은 종래의 리페어 장치에 대한 개략적인 구성도이다. 1 is a schematic configuration diagram of a conventional repair apparatus.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 액정 표시 장치용 리페어 장치를 개략적으로 도시한 구성도이다. 2 is a block diagram schematically illustrating a repair apparatus for a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 3은 본 발명의 실시예에 따른 액정 표시 장치용 리페어 장치의 내부 구성을 도시한 도면이다. 3 is a diagram illustrating an internal configuration of a repair apparatus for a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 4는 본 발명의 실시예에 따른 액정 표시 장치용 리페어 장치를 이용한 리페어 방법을 설명하기 위한 동작 흐름도이다.4 is a flowchart illustrating a repair method using a repair apparatus for a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 5 내지 도 7은 도 4에 도시된 리페어 방법에서 결함 위치에 따라 리페어하는 방법을 설명하기 위한 모식도이다. 5 to 7 are schematic views for explaining a method for repairing according to a defect position in the repair method shown in FIG. 4.

(도면의 주요부분에 대한 부호의 설명)DESCRIPTION OF THE REFERENCE NUMERALS (S)

110: 리페어 장치 111: 레이저 발생부110: repair device 111: laser generating unit

112: 입사 렌즈 유닛 113: 광 파이버112: incident lens unit 113: optical fiber

114: 콜리메이터 115: 슬릿 유닛114: collimator 115: slit unit

116: 경통부 117: 대물 렌즈116: barrel portion 117: objective lens

120: 이동 스테이지 130: 마이크로미러 어레이120: movement stage 130: micromirror array

131, 132, 13n: 복수 개의 로드 140: 마이크로미러 제어기131, 132, 13n: multiple load 140: micromirror controller

150: 기판150: substrate

M1, M2, M3, Mn: 복수 개의 마이크로미러M1, M2, M3, Mn: Multiple Micromirrors

본 발명은 액정 표시 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 액정 표시 장치의 검사 공정에서 사용되는 액정 표시 장치용 리페어 장치 및 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly, to a repair apparatus and method for a liquid crystal display device used in an inspection step of the liquid crystal display device.

일반적으로, 액정 표시 장치(Liquid Crystal Display; LCD)는 상부의 투명 절연 기판과 하부의 투명 절연 기판 사이에 이방성 유전율을 갖는 액정 물질을 주입해 놓고, 액정 물질에 형성되는 전계의 세기를 조정하여 액정 물질의 분자 배열을 변경시킴으로써, 투명 절연 기판에 투과되는 빛의 양을 조절하여 원하는 화상을 표시하는 표시 장치이다.In general, a liquid crystal display (LCD) injects a liquid crystal material having anisotropic dielectric constant between an upper transparent insulating substrate and a lower transparent insulating substrate, and adjusts the strength of an electric field formed in the liquid crystal material to adjust the liquid crystal. By changing the molecular arrangement of the material, a display device for displaying a desired image by controlling the amount of light transmitted through the transparent insulating substrate.

이러한 액정 표시 장치는 세부적으로 영상을 표시하는 액정 패널과, 액정 패널의 하부에 설치되어 액정 패널로 빛을 방출하는 백라이트 유닛(back light unit), 및 백라이트 유닛과 액정 패널을 결합하여 보호하는 커버(cover)로 구성된다. Such a liquid crystal display includes a liquid crystal panel that displays an image in detail, a back light unit disposed under the liquid crystal panel to emit light to the liquid crystal panel, and a cover that combines and protects the backlight unit and the liquid crystal panel ( cover).

그리고, 액정 패널은 구동 회로부를 포함하는 어레이 기판, 컬러필터 기판, 및 어레이 기판과 컬러필터 기판 사이에 형성된 액정층으로 이루어지며, 어레이 기판은 복수 개의 화소 영역을 정의하는 게이트 라인과 데이터 라인, 게이트 라인과 데이터 라인의 교차 영역에 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor: TFT)가 마련된다. The liquid crystal panel includes an array substrate including a driving circuit unit, a color filter substrate, and a liquid crystal layer formed between the array substrate and the color filter substrate, and the array substrate includes gate lines, data lines, and gates defining a plurality of pixel regions. Thin film transistors (TFTs) are provided at the intersections of the lines and the data lines.

이와 같이 구성되는 액정 표시 장치는 여러 포토 공정을 통해 제조되는데, 이 경우 포토레지스트(Photo Resist)의 뭉침 등으로 인해 기판 상에 돌기가 형성되거나, 또는 어레이 기판의 메탈 라인(즉, 게이트 라인과 데이터 라인, 공통 전극 라인 등)에 단선 또는 단락 등으로 인해 선 결함이 발생되는 경우가 많다.The liquid crystal display device configured as described above is manufactured through various photo processes. In this case, protrusions are formed on the substrate due to agglomeration of photoresist, or metal lines (ie, gate lines and data) of the array substrate. Line defects are often caused by disconnection or short circuit in the line, common electrode line, etc.).

따라서, 이를 리페어(repair)할 수 있는 리페어 공정이 필요하다. Therefore, there is a need for a repair process that can repair it.

리페어 공정에서 사용되는 리페어 장치는, 구동 방식에 따라 열적 방식과 전기적 방식, 테이프 방식, 레이저 방식으로 구분된다. The repair apparatus used in the repair process is classified into a thermal method, an electrical method, a tape method, and a laser method according to the driving method.

이 중, 테이프 방식은 연마 테이프(tape)를 이용하여 기판 상의 결함을 물리적 마찰에 의해 제거하는 방법이고, 레이저 방식은 레이저를 이용하여 기판 상의 결함을 제거하는 방법이다. 레이저 방식은 리페어의 정확도나 효율면에 있어 다른 방식에 비해 우수하므로 최근 많이 사용되고 있다. Among these, the tape method is a method of removing defects on a substrate by physical friction using an abrasive tape, and the laser method is a method of removing defects on a substrate using a laser. The laser method has been used recently because it is superior to other methods in terms of repair accuracy and efficiency.

이하, 레이저 방식을 이용한 종래의 리페어 장치에 대해 상세히 설명하기로 한다. Hereinafter, a conventional repair apparatus using a laser method will be described in detail.

도 1은 종래의 리페어 장치에 대한 개략적인 구성도이다.1 is a schematic configuration diagram of a conventional repair apparatus.

도시된 바와 같이, 종래의 리페어 장치는 크게, 레이저광을 출사하기 위한 광학부(10)와, 광학부(10)의 하부에 구비되어 슬라이딩 방식으로 이동 가능한 스테이지(20)를 포함한다.As shown in the drawing, a conventional repair apparatus largely includes an optical unit 10 for emitting a laser light, and a stage 20 provided below the optical unit 10 and movable in a sliding manner.

이와 같이 구성되는 종래의 리페어 장치를 사용하여 기판(25)의 불량을 리페어하는 방법을 설명하면 다음과 같다. A method of repairing a defect of the substrate 25 by using a conventional repair apparatus configured as described above is as follows.

먼저, 결함이 있는 기판(25)을 스테이지(20)의 상면에 안착 및 고정시킨다.First, the defective substrate 25 is seated and fixed on the upper surface of the stage 20.

이어, 스테이지(20)를 이동시켜, 스테이지(20)에 놓인 기판(25)이 광학부(10)의 렌즈(10a)와 마주보도록 정렬한다. 즉, 광학부(10)의 렌즈(10a)가 기판(25)의 결함 부위에 대응되는 위치에 위치되도록 정렬한다. Next, the stage 20 is moved to align the substrate 25 placed on the stage 20 to face the lens 10a of the optical unit 10. That is, the lens 10a of the optical unit 10 is aligned so as to be positioned at a position corresponding to a defective portion of the substrate 25.

다음으로, 광학부(10)의 렌즈(10a)를 통하여 기판(25) 상의 결함 부위에 레이저광을 출사함으로써 결함을 제거한다. Next, the laser beam is emitted to the defect site on the substrate 25 through the lens 10a of the optical unit 10 to remove the defect.

그런데, 종래의 리페어 장치는 리페어 동작시 각 결함 위치에 따라 광학부(10)의 렌즈(10a)를 이동시켜야 하는 단점이 있다. However, the conventional repair apparatus has a disadvantage in that the lens 10a of the optical unit 10 must be moved according to each defect position during the repair operation.

특히, 최근 들어 대형화의 추세에 따르면 대형 텔레비전 등과 같이 패널의 크기가 커질수록 패널 내 결함이 발생될 우려가 높은데, 이러한 경우 종래의 리페어 장치와 같이 각 결함의 위치에 따라 렌즈를 이동시킨 후 제거하는 방식을 이용하는 경우에는, 렌즈 이동 시간에 따른 리페어 작업 시간이 지연되는 문제점이 있다. In particular, recently, as the size of a panel increases, such as a large television, there is a high possibility that a defect in the panel may occur. In this case, the lens may be removed after moving the lens according to the position of each defect as in the conventional repair apparatus. In the case of using the system, the repair operation time according to the lens shift time is delayed.

이로 인하여, 리페어 작업 시간을 단축시키고자 리페어 장치를 여러 개 구비하여 기판 상의 결함을 동시에 리페어하도록 하였으나, 복수 개의 장비를 구비함에 따라 비용이 증가하게 되는 문제점이 있다. For this reason, in order to shorten the repair work time, a plurality of repair apparatuses are provided to repair defects on the substrate at the same time, but there is a problem in that the cost increases as a plurality of equipments are provided.

따라서, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 액정 표시 장치용 기판 상의 결함을 리페어하는 경우, 각 결함의 위치에 따라 광학계의 렌즈를 이동시키지 않고도 레이저광의 진행 방향을 가변시킴으로써 기판 상의 결함을 모두 리페어할 수 있는 액정 표시 장치용 리페어 장치 및 방법을 제공하고자 하는 것이다.Therefore, the technical problem to be solved by the present invention is to repair all defects on the substrate by changing the direction of laser light without moving the lens of the optical system according to the position of each defect when repairing the defects on the substrate for the liquid crystal display device. It is an object of the present invention to provide a repair apparatus and method for a liquid crystal display.

또한, 본 발명이 이루고자 하는 다른 기술적 과제는, 렌즈가 정지된 상태에서도 기판 상의 결함들을 모두 리페어함으로써 렌즈 이동 시간에 따른 리페어 작업 시간을 단축시킬 수 있는 액정 표시 장치용 리페어 장치 및 방법을 제공하고자 하는 것이다.In addition, another technical problem to be achieved by the present invention is to provide a repair apparatus and method for a liquid crystal display device that can reduce the repair operation time according to the lens shift time by repairing all defects on the substrate even when the lens is stopped. will be.

본 발명이 이루고자 하는 또 다른 기술적 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.Further technical problems to be achieved by the present invention are not limited to the above-mentioned technical problems, and other technical problems not mentioned above are clearly understood by those skilled in the art from the following description. It can be understood.

상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 따른 액정 표시 장치용 리페어 장치는, 레이저광을 출사하는 광학부, 상기 광학부의 하부에 기판이 안착되도록 구비되며, X축 및 Y축 방향으로 이동이 가능한 이동 스테이지, 상기 광학부로부터 출사되는 레이저광의 진행 방향을 가변시켜서 상기 기판 상에 조사되도록 하는 마이크로미러 어레이, 및 상기 마이크로미러 어레이의 회전 각도를 제어하는 마이크로미러 제어기를 포함한다. According to an aspect of the present invention, a repair apparatus for a liquid crystal display device includes an optical unit for emitting a laser beam and a substrate mounted on a lower portion of the optical unit, and movable in the X and Y axis directions. And a stage, a micromirror array configured to vary the traveling direction of the laser light emitted from the optical unit to be irradiated onto the substrate, and a micromirror controller which controls a rotation angle of the micromirror array.

여기서, 상기 마이크로미러 어레이는, 복수 개의 마이크로미러와, 상기 복수 개의 마이크로미러를 각각 지지하는 동시에 상기 마이크로미러 제어기의 제어에 따라 회전되는 복수 개의 로드를 포함한다. Here, the micromirror array includes a plurality of micromirrors and a plurality of rods which respectively support the plurality of micromirrors and rotate under the control of the micromirror controller.

또한, 본 발명에 따른 액정 표시 장치용 리페어 장치는, 상기 이동 스테이지의 이동을 제어하는 스테이지 제어기를 추가로 포함할 수 있다. In addition, the repair apparatus for a liquid crystal display according to the present invention may further include a stage controller for controlling the movement of the moving stage.

이때, 상기 스테이지 제어기는 상기 마이크로미러 제어기와 일체형으로 구현되는 것을 특징으로 한다. In this case, the stage controller is characterized in that it is implemented integrally with the micromirror controller.

한편, 상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 따른 액정 표시 장치의 리페어 방법은, (a) 이동 스테이지 상에 리페어할 기판을 안착시킨 후, 로딩하는 단계, (b) 상기 기판 상의 결함 위치를 확인하는 단계, (c) 상기 기판 상에서 리페어할 기준 위치를 선정하는 단계, (d) 상기 기준 위치로 광학계의 렌즈를 이동하는 단계, (e) 상기 기준 위치에서 상기 기판 상의 결함 위치별 마이크로미러 어레이의 각도를 각기 조정하는 단계, 및 (f) 상기 기판으로 레이저를 조사하여 결함을 제거하는 단계를 포함한다. On the other hand, the repair method of the liquid crystal display according to the present invention for achieving the above technical problem, (a) mounting the substrate to be repaired on the moving stage, then loading, (b) confirming the defect position on the substrate (C) selecting a reference position to be repaired on the substrate, (d) moving a lens of an optical system to the reference position, (e) determining a micromirror array for each defect position on the substrate at the reference position Adjusting the angles individually, and (f) irradiating a laser to the substrate to remove the defects.

여기서, 상기 (f) 단계 이후, 상기 기판 상에 다른 결함이 잔존하는 경우, 상기 (e) 단계 및 (f) 단계를 반복 수행할 수 있다. Here, after the step (f), if other defects remain on the substrate, the steps (e) and (f) may be repeated.

여기서, 상기 (b) 단계는, 외부 검사기로부터 상기 기판 상의 결함 위치를 모두 수신하는 단계를 포함할 수 있다. Here, step (b) may include receiving all of the defect positions on the substrate from an external inspector.

여기서, 상기 (c) 내지 (e) 단계의 기준 위치는, 상기 기판 상의 결함 위치를 기준으로 중앙이 되는 지점인 것을 특징으로 한다. Here, the reference position of the steps (c) to (e) is characterized in that the centered point with respect to the defect position on the substrate.

여기서, 상기 (e) 단계는, (e-1) 상기 기판 상의 결함 중 어느 하나의 결함에 대한 위치를 수신하는 단계, 및 (e-2) 상기 수신한 결함 위치에 레이저광이 조사되도록 상기 기준 위치를 기준으로 하여 상기 마이크로미러 어레이를 회전시키는 단계를 포함한다. Here, the step (e), (e-1) receiving the position of any one of the defects on the substrate, and (e-2) the reference so that the laser light is irradiated to the received defect position Rotating the micromirror array based on position.

기타 실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다. 본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.The details of other embodiments are included in the detailed description and drawings. Advantages and features of the present invention and methods for achieving them will be apparent with reference to the embodiments described below in detail with the accompanying drawings. Like reference numerals refer to like elements throughout.

이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 액정 표시 장치용 리페어 장치 및 방법에 대하여 상세히 설명한다. Hereinafter, a repair apparatus and method for a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명의 실시예에서는, 액정 표시 장치용 리페어 장치에서 레이저광의 경로 중에 레이저광의 진행 방향을 수정할 수 있는 마이크로미러(micro mirror)를 장착하여, 광학계의 렌즈가 정지된 상태에서도 기판 상의 결함들을 동시에 리페어(repair)할 수 있도록 구성한다. In an embodiment of the present invention, a repair apparatus for a liquid crystal display device includes a micro mirror capable of correcting a direction in which a laser beam travels in a path of the laser light, thereby simultaneously repairing defects on a substrate even when the lens of the optical system is stopped. Configure it for repair.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 액정 표시 장치용 리페어 장치를 개략적으로 도시한 구성도이고, 도 3은 본 발명의 실시예에 따른 액정 표시 장치용 리페어 장치의 내부 구성을 도시한 도면이다. 2 is a configuration diagram schematically illustrating a repair apparatus for a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a diagram illustrating an internal configuration of a repair apparatus for a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.

먼저 도 2를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 액정 표시 장치용 리페어 장치는, 크게, 광학부(110)와 이동 스테이지(120), 마이크로미러 어레이(130), 마 이크로미러 제어기(140)를 포함한다. 그리고, 이동 스테이지(120)의 이동을 제어하는 스테이지 제어기(도시하지 않음)를 추가로 포함할 수 있다. First, referring to FIG. 2, a repair apparatus for a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention includes an optical unit 110, a moving stage 120, a micromirror array 130, and a micromirror controller 140. It includes. In addition, a stage controller (not shown) for controlling the movement of the movement stage 120 may be further included.

광학부(110)는 레이저광을 출사하기 위한 장치로서, 빛의 반사나 굴절을 이용하여 물체의 상(像)을 만들거나 빛 에너지를 전달하도록 반사경, 렌즈, 프리즘 등으로 구성된다. The optical unit 110 is a device for emitting a laser light, and is composed of a reflector, a lens, a prism or the like to make an image of an object by using reflection or refraction of light or to transmit light energy.

세부적으로 살펴보면, 도 3에 도시된 것처럼, 레이저광을 발생시키는 레이저광 발생부(111), 레이저광 발생부(111)에서 발생된 레이저광을 입사시키기 위한 입사 렌즈 유닛(112), 입사된 레이저광을 일정 방향으로 평행하게 진행시키는 콜리메이터(collimater: 114), 입사 렌즈 유닛(112)으로부터 입사된 레이저광을 콜리메이터(114)로 전송하기 위한 광 파이버(113), 콜리메이터(114)로부터 나오는 레이저광의 방향 및 양의 정도를 조절하기 위한 슬릿 유닛(115), 레이저광을 통과시키는 경통부(116), 경통부(116)의 하단에 위치되어 물체의 상을 맺게 하는 대물 렌즈(117)를 포함한다. In detail, as shown in FIG. 3, the laser light generator 111 generating the laser light, the incident lens unit 112 for incident the laser light generated by the laser light generator 111, and the incident laser light. The collimator 114 for advancing the light in parallel in a predetermined direction, the optical fiber 113 for transmitting the laser light incident from the incident lens unit 112 to the collimator 114, and the laser light emitted from the collimator 114. It includes a slit unit 115 for adjusting the direction and the amount, the barrel portion 116 for passing the laser light, the objective lens 117 is located at the lower end of the barrel portion 116 to form an image of the object.

이러한 구성은 일 예로 도시된 바에 한정되지는 않는다. This configuration is not limited to the example shown.

다시 도 2를 참조하면, 이동 스테이지(120)는 광학부(110)의 하부에 배치되며, 상면에 액정 표시 장치용 기판(150)이 안착 및 고정되도록 구비된다. 그리고, X축 및 Y축 방향으로 이동이 가능하다. Referring back to FIG. 2, the moving stage 120 is disposed under the optical unit 110, and the liquid crystal display substrate 150 is mounted on and fixed to an upper surface thereof. In addition, it is possible to move in the X-axis and Y-axis directions.

여기서, 액정 표시 장치용 기판(150)은 액정 표시 장치의 제조 공정을 통해 결함이 발생된 불량 기판에 해당된다. Here, the liquid crystal display substrate 150 corresponds to a defective substrate having a defect generated through the manufacturing process of the liquid crystal display.

결함은 액정 표시 장치의 메탈 라인(즉, 게이트 라인과 데이터 라인, 공통 전극 라인 등)에 단선 또는 단락으로 인한 선 결함, 포토 공정시 포토레지스트(Photo Resist)의 떨어짐, 뭉침 현상으로 인한 돌기 등일 수 있다. The defects may be line defects due to disconnections or short circuits on metal lines (ie, gate lines, data lines, common electrode lines, etc.) of the liquid crystal display, photoresist falling during the photo process, and protrusions due to aggregation. have.

마이크로미러 어레이(130)는 광학부(110)로부터 출사되는 레이저광의 진행 방향을 가변시켜서 레이저광이 기판(150) 상의 결함 부위에 조사되도록 한다. The micromirror array 130 changes the traveling direction of the laser light emitted from the optical unit 110 so that the laser light is irradiated to the defect site on the substrate 150.

마이크로미러 제어기(140)는 마이크로미러 어레이(130)와 연결되어 마이크로미러 어레이(130)의 회전 각도를 개별적으로 각각 제어한다. 또한, 마이크로미러 제어기(140)는 마이크로미러들간 간격을 조절할 수 있다. The micromirror controller 140 is connected to the micromirror array 130 to individually control the rotation angle of the micromirror array 130. In addition, the micromirror controller 140 may adjust the spacing between the micromirrors.

이를 위한 마이크로미러 어레이(130)는 세부적으로, 복수 개의 마이크로미러(M1 내지 Mn)와 복수 개의 로드(131 내지 13n)를 포함한다. The micromirror array 130 for this includes in detail, a plurality of micromirrors M1 to Mn and a plurality of rods 131 to 13n.

복수 개의 마이크로미러(M1 내지 Mn)는 광학부(110)의 대물 렌즈(117)를 통해 출사되는 레이저광을 반사시킴으로써 레이저광의 진행 방향을 가변시키는 역할을 한다. The plurality of micromirrors M1 to Mn reflect the laser light emitted through the objective lens 117 of the optical unit 110 to change the traveling direction of the laser light.

또한, 복수 개의 마이크로미러(M1 내지 Mn)는 도시된 바와 같이 상하로 배치되는 광학부(110)와 이동 스테이지(120) 사이의 공간에 위치될 수 있으며, 레이저광의 진행 방향을 가변시킬 수 있도록 적어도 2개 이상 마련된다. In addition, the plurality of micromirrors M1 to Mn may be located in a space between the optical unit 110 and the moving stage 120 disposed up and down as shown in the drawing, and may change at least a direction in which the laser beam travels. Two or more are provided.

도 2 및 도 3에서는 3개의 마이크로미러만 도시하였으나, 패널의 크기 및 레이저광의 감도(intensity) 정도에 따라 도시된 바에 한정되지 않고, 복수 개로 구비될 수 있다.Although only three micromirrors are illustrated in FIGS. 2 and 3, the present invention is not limited to the size according to the size of the panel and the intensity of the laser light, and may be provided in plurality.

복수 개의 로드(131 내지 131n)는 복수 개의 마이크로미러(M1 내지 Mn) 각각을 지지하는 동시에 마이크로미러 제어기(140)의 제어에 따라 각 마이크로미러(M1 내지 Mn)를 회전시킨다. The plurality of rods 131 to 131n support each of the plurality of micromirrors M1 to Mn and rotate the micromirrors M1 to Mn under the control of the micromirror controller 140.

즉, 복수 개의 로드(131 내지 13n)는 마이크로미러 제어기(140)와 전기적으로 연결됨과 아울러, 회전축으로부터 회전 가능하게 구비되어, 마이크로미러 제어기(140)를 통해 소정 각도로 회전된다. 이로써 지지하고 있는 각 마이크로미러(M1 내지 Mn)의 회전 각도를 조절하게 된다. That is, the plurality of rods 131 to 13n are electrically connected to the micromirror controller 140 and provided to be rotatable from the rotation shaft, and are rotated at a predetermined angle through the micromirror controller 140. This adjusts the rotation angle of each of the supported micromirrors M1 to Mn.

스테이지 제어기(도시하지 않음)는 이동 스테이지(120) 상에 안착된 기판(150)을 리페어할 영역으로 이동시키기 위해 이동 스테이지(120)의 이동을 제어한다. A stage controller (not shown) controls the movement of the movement stage 120 to move the substrate 150 seated on the movement stage 120 to the area to be repaired.

이러한 스테이지 제어기는 마이크로미러 제어기(140)와 별도로 구비될 수 있음은 물론이고, 마이크로미러 제어기(140)와 일체화로 구현될 수도 있다. Such a stage controller may be provided separately from the micromirror controller 140 as well as may be integrally implemented with the micromirror controller 140.

이와 같이 구성되는 본 발명의 실시예에 따른 액정 표시 장치용 리페어 장치는, 광학부(110)에 복수 개의 마이크로미러(M1 내지 Mn)들이 배열된 마이크로미러 어레이(130)를 장착하고, 복수 개의 마이크로미러(M1 내지 Mn)들의 각도를 조정하여 레이저광의 경로를 가변시킴으로써 광학부(110)의 이동없이 기판(150) 상의 결함을 수정한다. The repair apparatus for a liquid crystal display according to the exemplary embodiment of the present invention configured as described above includes a micromirror array 130 in which a plurality of micromirrors M1 to Mn are arranged in the optical unit 110, and a plurality of micromirrors. By adjusting the angles of the mirrors M1 to Mn to change the path of the laser light, defects on the substrate 150 are corrected without moving the optical unit 110.

이하, 본 발명의 실시예에 따른 액정 표시 장치의 리페어 방법을 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a repair method of the liquid crystal display according to the exemplary embodiment of the present invention will be described in detail.

도 4는 본 발명의 실시예에 따른 액정 표시 장치의 리페어 방법을 설명하기 위한 동작 흐름도이다. 4 is a flowchart illustrating a repairing method of a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 4를 도 2와 연계하여 설명하면, 처음 단계에서, 결함이 있는 기판(150)을 이동 스페이지(120)의 상면에 안착 및 고정시킨 다음, 이동 스테이지(120)를 X축 및 Y축 방향으로 이동시켜 리페어할 영역에 로딩한다(S1). Referring to FIG. 4 in conjunction with FIG. 2, in the first step, the defective substrate 150 is seated and fixed on the upper surface of the movement step 120, and then the movement stage 120 is moved in the X-axis and Y-axis directions. In operation S1, the controller 510 loads the memory to the area to be repaired.

이러한 단계 전에, 검사 공정에서 외부의 자동광학검사(Automated Optical Inspection: AOI) 장비를 통해 기판(150) 상의 결함 위치를 검출해야 한다. Prior to this step, the defect location on the substrate 150 must be detected by an external Automated Optical Inspection (AOI) device in the inspection process.

로딩 후, 광학부(110)의 대물 렌즈(117)가 기판(150)의 결함 부위에 대응되는 위치에 위치되도록 정렬하고, 기판(150)의 결함 위치를 정확하게 확인한다(S2).After loading, the objective lens 117 of the optical unit 110 is aligned so as to be positioned at a position corresponding to the defect portion of the substrate 150, and the defect position of the substrate 150 is accurately identified (S2).

이때, 외부의 자동광학검사기로부터 검출된 기판(150) 상의 결함 위치를 모두 수신하여, 기판(150) 상의 모든 결함 위치를 파악한다. At this time, all the defect positions on the substrate 150 detected by the external auto optical inspector are received, and all the defect positions on the substrate 150 are identified.

이후, 기판(150) 상에서 리페어할 기준 위치를 선정하고, 기준 위치로 광학부(110)를 이동시킨다(S3). Thereafter, the reference position to be repaired is selected on the substrate 150, and the optical unit 110 is moved to the reference position (S3).

기준 위치는 레이저광이 반사 또는 굴절에 의해 기판(150) 상의 모든 결함 위치에 조사될 수 있는 기준점이다. The reference position is a reference point at which the laser light can be irradiated to all the defect positions on the substrate 150 by reflection or refraction.

예컨대, 기판(150) 상의 모든 결함 위치에 대하여 중앙이 되는 지점을 기준 위치로 선정할 수 있다. For example, a point that becomes the center of all the defect positions on the substrate 150 may be selected as the reference position.

이후, 기준 위치에서 기판(150) 상의 결함 위치에 따라 마이크로미러 어레이(130)를 회전시킨다(S4). Thereafter, the micromirror array 130 is rotated according to the defect position on the substrate 150 at the reference position (S4).

즉, 기판(150) 상의 결함 중 리페어하고자 하는 어느 하나의 결함의 위치를 수신하고, 기준 위치로부터 리페어하고자 하는 결함 위치에 레이저광이 조사되도록 마이크로미러 어레이(130)를 회전시킨다. That is, the position of any one of the defects to be repaired among the defects on the substrate 150 is received, and the micromirror array 130 is rotated so that the laser beam is irradiated to the defect position to be repaired from the reference position.

이때, 마이크로미러 어레이(130)를 이루는 복수 개의 마이크로미러(M1 내지 Mn)는 기준 위치에 따라 회전 각도가 달라질 것이다. In this case, the rotation angles of the plurality of micromirrors M1 to Mn constituting the micromirror array 130 may vary depending on the reference position.

또한, 복수 개의 마이크로미러(M1 내지 Mn)의 회전 동작은 각각을 지지하는 복수 개의 로드(131 내지 13n)와, 로드(131 내지 13n)의 회전 각도를 제어하는 마이크로미러 제어기(140)를 통해 조절할 수 있다. In addition, the rotation operation of the plurality of micromirrors M1 to Mn is controlled by the plurality of rods 131 to 13n supporting each of the micromirrors and the micromirror controller 140 that controls the rotation angles of the rods 131 to 13n. Can be.

이후, 광학부(110)를 통해 레이저광을 조사하여 기판(150) 상의 결함을 각각 제거한다(S5, S6). Thereafter, laser light is irradiated through the optical unit 110 to remove defects on the substrate 150, respectively (S5 and S6).

특히, 광학부(110)를 통해 출사되는 레이저광은 기판(150)으로 조사되기 전, 마이크로미러 어레이(130)를 통해 반사되어 진행 방향이 가변된 상태로 기판(150)에 조사되는데, 조사되는 부위에 결함이 위치되어 있기 때문에 광학부(110)의 이동없이도 결함을 제거할 수 있다. In particular, the laser light emitted through the optical unit 110 is reflected by the micromirror array 130 before being irradiated onto the substrate 150 and irradiated onto the substrate 150 in a state where the traveling direction is changed. Since the defect is located at the site, the defect can be removed without moving the optical unit 110.

이후, 리페어를 계속 수행할 것인지를 판단하여, 기판(150) 상에 다른 결함이 잔존하는 경우에는 이전 S4 단계로 리턴하여 리페어 동작을 수행하고, 기판(150) 상에 다른 결함이 잔존하지 않는 경우에는 리페어 동작을 종료한다(S7). Subsequently, if it is determined whether the repair is to be continued, if other defects remain on the substrate 150, the process returns to the previous step S4 to perform a repair operation, and when other defects do not remain on the substrate 150. The repair operation ends at step S7.

이전 S4 단계로 리턴하는 경우에는, 앞서 설명한 바와 같이 기판(150) 상의 다른 결함 위치를 수신하고, 수신한 결함 위치에 따라 마이크로미러 어레이(130)의 회전 각도를 조절한 다음, 기판(150) 상에 레이저광을 조사하여 결함을 제거하는 동작을 반복 수행한다. In the case of returning to the previous step S4, as described above, another defect position on the substrate 150 is received, and the angle of rotation of the micromirror array 130 is adjusted according to the received defect position, and then on the substrate 150. The laser beam is irradiated to remove the defect.

이와 같이 반복 수행하는 리페어 동작을 예로 들어 설명하면 다음과 같다. As described above, a repair operation that is repeatedly performed as an example will be described.

도 5 내지 도 7은 도 4에 도시된 리페어 방법에서 결함 위치에 따라 리페어하는 방법을 설명하기 위한 모식도로서, 하나의 기판(150) 상에 제1 결함(A), 제2 결함(B) 및 제3 결함(C)이 있다고 가정하고, 제1 결함(A), 제2 결함(B) 및 제3 결함(C)을 광학부의 이동없이 순차적으로 리페어하는 과정을 도시하고 있다. 5 to 7 are schematic diagrams for explaining a method of repairing according to a defect position in the repair method illustrated in FIG. 4, wherein the first defect A, the second defect B, and the second defect B are disposed on one substrate 150. Assuming that there is a third defect C, a process of sequentially repairing the first defect A, the second defect B, and the third defect C without moving the optical unit is illustrated.

여기서, 제1 결함(A)이 있는 위치를 기준 위치로 선정하여 먼저 A결함부터 리페어하기로 가정한다. Here, it is assumed that the position where the first defect A is present is selected as the reference position to repair the defect A first.

먼저, 도 5에 도시된 것처럼, 광학부(110)를 제1 결함(A)의 기준 위치로 이동시킨 후, 광학부(110)로부터 출사되는 레이저광(L1)이 제1 결함(A)에 조사되도록 마이크로미러 어레이(130)를 회전시킨다. First, as shown in FIG. 5, after moving the optical unit 110 to the reference position of the first defect A, the laser light L1 emitted from the optical unit 110 is applied to the first defect A. FIG. Rotate the micromirror array 130 to be irradiated.

광학부(110)의 대물 렌즈(117)가 기판(150)의 제1 결함(A) 부위에 대응되는 위치에 위치되도록 정렬하면, 광학부(110)로부터 수직으로 조사되는 레이저광(L1)은 진행 방향을 변경할 필요가 없으므로 마이크로미러 어레이(130)를 기판(150)으로부터 수직이 되게 회전시킨다. When the objective lens 117 of the optical unit 110 is aligned to be positioned at a position corresponding to a portion of the first defect A of the substrate 150, the laser light L1 irradiated vertically from the optical unit 110 is Since the traveling direction does not need to be changed, the micromirror array 130 is rotated perpendicularly from the substrate 150.

이 후, 레이저광(L1)을 제1 결함(A) 부위에 조사하여 제1 결함(A)을 제거한다. Thereafter, the laser beam L1 is irradiated to the first defect A portion to remove the first defect A. FIG.

다음으로, 도 6에 도시된 것처럼, 기준 위치에서 광학부(110)의 이동없이 제2 결함(B)을 리페어하도록 한다. Next, as illustrated in FIG. 6, the second defect B may be repaired without moving the optical unit 110 at the reference position.

즉, 광학부(110)에서 출사되는 레이저광이 기준 위치에서 제2 결함(B)의 위치로 조사되도록 마이크로미러 어레이(130)를 회전시킨다. That is, the micromirror array 130 is rotated so that the laser light emitted from the optical unit 110 is irradiated to the position of the second defect B from the reference position.

이때, 마이크로미러 어레이(130)를 이루는 복수 개의 마이크로미러(M1 내지 M3)를 개별적으로 조정하여, 적어도 제2 결함(B)과 근접해 있는 마이크로미러(M1, M2)들은 회전시키도록 한다. In this case, the plurality of micromirrors M1 to M3 constituting the micromirror array 130 are individually adjusted to rotate the micromirrors M1 and M2 that are close to at least the second defect B. FIG.

이 후, 레이저광을 조사하면, 광학부(110)에서 출사되는 레이저광(L2)은 마이크로미러 어레이(130) 측으로 입사되어 두 번째 마이크로미러(M2)에 의해 반사되고, 반사된 레이저광(L2)은 다시 첫 번째 마이크로미러(M1)에 의해 반사되어, 기준 위치로부터 좌측으로 진행 방향이 가변된 상태로 기판(150) 상에 조사된다. Thereafter, when the laser light is irradiated, the laser light L2 emitted from the optical unit 110 is incident to the micromirror array 130, is reflected by the second micromirror M2, and the reflected laser light L2. ) Is again reflected by the first micromirror M1 and irradiated onto the substrate 150 with the traveling direction varying from the reference position to the left.

따라서, 기판(150) 상의 제2 결함(B)을 제거할 수 있다. Therefore, the second defect B on the substrate 150 can be removed.

마지막으로, 도 7에 도시된 것처럼, 기판(150) 상의 제3 결함(C)을 리페어하고자, 마이크로미러 어레이(130)의 회전 각도를 다시 조절한다. Finally, as shown in FIG. 7, in order to repair the third defect C on the substrate 150, the rotation angle of the micromirror array 130 is adjusted again.

이에 따르면, 광학부(110)에서 출사되는 레이저광(L3)이 두 번째 마이크로미러(M2)와 세 번째 마이크로미러(M3)에 의해 반사되어, 기준 위치로부터 우측으로 즉, 제3 결함(C)의 위치로 가변되어 조사되기 때문에 기판(150) 상의 제3 결함(C) 또한 제거할 수 있다. According to this, the laser light L3 emitted from the optical unit 110 is reflected by the second micromirror M2 and the third micromirror M3, which is to the right from the reference position, that is, the third defect C The third defect C on the substrate 150 may also be removed because the radiation is varied and irradiated to the position of.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be practical exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, You will understand.

따라서, 이상에서 기술한 실시예들은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이므로, 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 하며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. Therefore, it should be understood that the above-described embodiments are provided so that those skilled in the art can fully understand the scope of the present invention. Therefore, it should be understood that the embodiments are to be considered in all respects as illustrative and not restrictive, The invention is only defined by the scope of the claims.

상기한 바와 같이 이루어진 본 발명에 따른 액정 표시 장치용 리페어 장치는, 광학부에 레이저광을 반사시키는 마이크로미러(micro mirror)를 장착하고 마이크로미러의 각도 조정으로 레이저광의 진행 방향을 가변시킴으로써 광학부의 이동없이 기판 상의 결함을 모두 리페어할 수 있다. The repair apparatus for a liquid crystal display device according to the present invention made as described above includes a micromirror for reflecting a laser beam in an optical unit, and moving the optical unit by varying the traveling direction of the laser beam by adjusting the angle of the micromirror. All defects on the substrate can be repaired without.

따라서, 리페어 동작시 광학계의 렌즈가 정지된 상태에서도 기판 상의 결함들을 모두 리페어할 수 있으므로 렌즈 이동 시간에 따른 리페어 작업 시간을 단축시킬 수 있다. Therefore, since the defects on the substrate can be repaired even when the lens of the optical system is stopped during the repair operation, the repair operation time according to the lens shift time can be shortened.

더욱이, 장비 구비에 따른 비용을 절감할 수 있으며, 생산 효율을 향상시킬 수 있는 효과가 있다. In addition, it is possible to reduce the cost of the equipment provided, there is an effect that can improve the production efficiency.

Claims (9)

레이저광을 출사하는 광학부; An optical unit emitting laser light; 상기 광학부의 하부에 기판이 안착되도록 구비되며, X축 및 Y축 방향으로 이동이 가능한 이동 스테이지; A moving stage provided on the lower portion of the optical unit to move in the X-axis and Y-axis directions; 복수 개의 마이크로미러를 포함하고, 상기 광학부와 상기 이동 스테이지 사이에 배치되어 상기 광학부로부터 출사되는 상기 레이저광의 진행 방향을 가변시켜서 상기 기판 상에 조사되도록 하는 마이크로미러 어레이; 및A micromirror array including a plurality of micromirrors, the micromirror array disposed between the optical unit and the moving stage to vary the traveling direction of the laser light emitted from the optical unit to be irradiated onto the substrate; And 상기 기판 상의 결함 중 리페어하고자 하는 어느 하나의 결함의 위치를 수신하고, 기준 위치로부터 리페어하고자 하는 결함 위치에 상기 레이저광이 조사되도록 상기 복수 개의 마이크로미러를 회전시키는 마이크로미러 제어기를 포함하고,A micromirror controller for receiving the position of any one of the defects on the substrate to be repaired, and rotating the plurality of micromirrors to irradiate the laser light to a defect position to be repaired from a reference position; 상기 기준 위치는 상기 레이저광이 상기 복수 개의 마이크로미러의 반사 또는 굴절에 의해 상기 기판 상의 모든 결함 위치에 조사될 수 있는 기준점인 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치용 리페어 장치.And the reference position is a reference point at which the laser light can be irradiated to all defect positions on the substrate by reflection or refraction of the plurality of micromirrors. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 마이크로미러 어레이는,The micromirror array, 상기 복수 개의 마이크로미러를 각각 지지하는 동시에 상기 마이크로미러 제어기의 제어에 따라 회전되는 복수 개의 로드를 포함하는 액정 표시 장치용 리페어 장치. And a plurality of rods each supporting the plurality of micromirrors and rotating under the control of the micromirror controller. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 이동 스테이지의 이동을 제어하는 스테이지 마이크로미러 제어기를 추가로 포함하는 액정 표시 장치용 리페어 장치.And a stage micromirror controller for controlling movement of the moving stage. 제3항에 있어서, The method of claim 3, 상기 스테이지 마이크로미러 제어기는 상기 마이크로미러 제어기와 일체형으로 구현되는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치용 리페어 장치. And the stage micromirror controller is integrated with the micromirror controller. (a) 이동 스테이지 상에 리페어할 기판을 안착시킨 후, 로딩하는 단계; (a) placing a substrate to be repaired on the moving stage and then loading it; (b) 상기 기판 상의 결함 위치를 확인하는 단계;(b) identifying a defect location on the substrate; (c) 상기 기판 상에서 리페어할 기준 위치를 선정하는 단계;(c) selecting a reference position to repair on the substrate; (d) 상기 기준 위치로 광학계의 렌즈를 이동하는 단계;(d) moving the lens of the optical system to the reference position; (e) 상기 기준 위치에서 상기 기판 상의 결함 위치별 마이크로미러 어레이의 각도를 각기 조정하는 단계; 및 (e) individually adjusting the angle of the micromirror array for each defect position on the substrate at the reference position; And (f) 상기 기판으로 레이저광을 조사하여 결함을 제거하는 단계를 포함하고,(f) irradiating a laser beam onto the substrate to remove the defect, 상기 (c) 내지 (e) 단계의 기준 위치는 상기 레이저광이 상기 마이크로미러 어레이의 반사 또는 굴절에 의해 상기 기판 상의 모든 결함 위치에 조사될 수 있는 기준점인 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치의 리페어 방법.The reference position of the steps (c) to (e) is a reference point at which the laser light can be irradiated to all defect positions on the substrate by reflection or refraction of the micromirror array. . 제5항에 있어서, The method of claim 5, 상기 (f) 단계 이후, 상기 기판 상에 다른 결함이 잔존하는 경우, 상기 (e) 단계 및 (f) 단계를 반복 수행하는 액정 표시 장치의 리페어 방법. After the step (f), if another defect remains on the substrate, the steps (e) and (f) are repeated. 제5항에 있어서,The method of claim 5, 상기 (b) 단계는, 외부 검사기로부터 상기 기판 상의 결함 위치를 모두 수신하는 단계를 포함하는 액정 표시 장치의 리페어 방법.The repairing method of the liquid crystal display device may include receiving all of the defect positions on the substrate from an external inspector. 제5항에 있어서,The method of claim 5, 상기 기준 위치는 상기 기판 상의 모든 결함 위치를 기준으로 중앙이 되는 지점인 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치의 리페어 방법.And the reference position is a point which is centered with respect to all defect positions on the substrate. 제5항에 있어서, 상기 (e) 단계는, The method of claim 5, wherein step (e) (e-1) 상기 기판 상의 결함 중 어느 하나의 결함에 대한 위치를 수신하는 단계; 및(e-1) receiving a position for any one of the defects on the substrate; And (e-2) 상기 수신한 결함 위치에 레이저광이 조사되도록 상기 기준 위치를 기준으로 하여 상기 마이크로미러 어레이를 회전시키는 단계 (e-2) rotating the micromirror array based on the reference position so that a laser beam is irradiated to the received defect position 를 포함하는 액정 표시 장치의 리페어 방법. Repair method of a liquid crystal display comprising a.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10020234B2 (en) 2015-11-10 2018-07-10 Samsung Electronics Co., Ltd. Method of inspecting device using first measurement and second measurement lights
WO2019103299A1 (en) * 2017-11-23 2019-05-31 주식회사 프로텍 Laser apparatus for printed electronics system and operating method thereof

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105892108A (en) * 2016-04-22 2016-08-24 深圳市卓茂科技有限公司 Semi-automatic liquid crystal screen repairing machine

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19990010264A (en) * 1997-07-16 1999-02-18 윤종용 Laser scattering wafer inspection equipment
KR20050109131A (en) * 2004-05-14 2005-11-17 삼성전자주식회사 Apparatus and method for repairing a metal bump of stack type semiconductor devices
KR20060095337A (en) * 2005-02-28 2006-08-31 엘지전자 주식회사 Repair system of flat panel display using micro mirror array and method thereof

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19990010264A (en) * 1997-07-16 1999-02-18 윤종용 Laser scattering wafer inspection equipment
KR20050109131A (en) * 2004-05-14 2005-11-17 삼성전자주식회사 Apparatus and method for repairing a metal bump of stack type semiconductor devices
KR20060095337A (en) * 2005-02-28 2006-08-31 엘지전자 주식회사 Repair system of flat panel display using micro mirror array and method thereof

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10020234B2 (en) 2015-11-10 2018-07-10 Samsung Electronics Co., Ltd. Method of inspecting device using first measurement and second measurement lights
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