JP3098915B2 - Method and device for repairing liquid crystal display device - Google Patents

Method and device for repairing liquid crystal display device

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JP3098915B2
JP3098915B2 JP15501694A JP15501694A JP3098915B2 JP 3098915 B2 JP3098915 B2 JP 3098915B2 JP 15501694 A JP15501694 A JP 15501694A JP 15501694 A JP15501694 A JP 15501694A JP 3098915 B2 JP3098915 B2 JP 3098915B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、TFT(薄膜トランジ
スタ)素子などのスイッチング素子を複数個設けてアク
ティブマトリスク駆動を行う液晶表示装置においてスイ
ッチング素子に起因して生じる表示不良を修正する液晶
表示装置の修正方法および修正装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device in which a plurality of switching elements such as TFT (thin film transistor) elements are provided and active matrix driving is performed to correct display defects caused by the switching elements. And a correction device.

【0002】[0002]

【従来の技術】TFT素子などのスイッチング素子を複
数個設けたアクティブマトリスク駆動型の液晶表示装置
では、製品の良品率を向上するために、作成した液晶表
示装置に対して表示不良を起こしている絵素があるか否
かが検査され、あった場合にはその絵素のスイッチング
素子に対して修正が施される。
2. Description of the Related Art In an active matrix drive type liquid crystal display device provided with a plurality of switching elements such as TFT elements, in order to improve the yield rate of products, display defects occur in the liquid crystal display device produced. It is checked whether there is a picture element or not, and if so, the switching element of that picture element is corrected.

【0003】図13は、複数のTFT素子104が設け
られた従来の液晶表示装置の一方基板部材101を示す
平面図である。液晶表示装置は一対の基板部材間に液晶
層を介在して構成され、一対の基板部材のうちの一方基
板部材101は、透光性基板102と、当該透光性基板
102の液晶層側に形成される絵素電極103と、TF
T素子104と、ゲートバスライン105a〜105e
と、ソースバスライン106a〜106cと、これらの
部材を覆って形成される図示しない配向膜とを含んで構
成される。
FIG. 13 is a plan view showing one substrate member 101 of a conventional liquid crystal display device provided with a plurality of TFT elements 104. The liquid crystal display device has a structure in which a liquid crystal layer is interposed between a pair of substrate members. One of the pair of substrate members 101 has a light-transmitting substrate 102 and a liquid crystal layer side of the light-transmitting substrate 102. The picture element electrode 103 to be formed and TF
T element 104 and gate bus lines 105a to 105e
And source bus lines 106a to 106c, and an alignment film (not shown) formed to cover these members.

【0004】透光性基板102の一方表面には、互いに
平行な複数のゲートバスライン105a〜105e(以
下、総称するときには「ゲートバスライン105」とい
う)が形成され、さらに前記ゲートバスライン105と
は直交する方向に複数のソースバスライン106a〜1
06c(以下、総称するときには「ソースバスライン1
06」という)が形成される。ゲートバスライン105
とソースバスライン106とは互いに絶縁性を保持して
形成され、ゲートおよびソースバスライン105,10
6によって形成される矩形状の領域には、マトリクス状
に配置される絵素電極103が形成される。絵素電極1
03とゲートおよびソースバスライン105,106と
は、TFT素子104を介して接続される。絵素電極1
03、TFT素子104、ゲートバスライン105およ
びソースバスライン106が形成された透光性基板10
2の一方表面には、形成された部材を覆って、表面に配
向処理が施された配向膜が形成される。
A plurality of gate bus lines 105 a to 105 e (hereinafter, collectively referred to as “gate bus lines 105”) which are parallel to each other are formed on one surface of the light-transmitting substrate 102. Represent a plurality of source bus lines 106a-1
06c (hereinafter, collectively referred to as “source bus line 1
06 ”). Gate bus line 105
And source bus line 106 are formed while maintaining insulation from each other, and gate and source bus lines 105 and 10 are formed.
The picture element electrodes 103 arranged in a matrix are formed in the rectangular area formed by 6. Picture element electrode 1
03 is connected to the gate and source bus lines 105 and 106 via the TFT element 104. Picture element electrode 1
03, a translucent substrate 10 on which a TFT element 104, a gate bus line 105 and a source bus line 106 are formed
On one surface of 2, an alignment film having an alignment treatment applied to the surface is formed so as to cover the formed member.

【0005】このような一方基板部材101が貼合わせ
られる他方基板部材は、透光性基板と、当該透光性基板
の液晶層側に形成されるカラーフィルタと、対向電極
と、これらの部材を覆って形成される配向膜とを含んで
構成される。
The other substrate member on which the one substrate member 101 is bonded is a light-transmitting substrate, a color filter formed on the liquid crystal layer side of the light-transmitting substrate, a counter electrode, and these members. And an alignment film formed so as to cover.

【0006】作成された液晶表示装置に対して、表示不
良を起こしている絵素があるか否かの検査、いわゆる欠
陥検査が行われた後、欠陥絵素のスイッチング素子に対
して修正が施される。この修正方法としては、欠陥絵素
のスイッチング素子が所定の修正領域に配置されたかど
うかを操作者が目視で確認しながら行う方法と、欠陥絵
素のスイッチング素子が所定の修正領域に配置されるよ
う、液晶表示装置が載置されるステージの駆動を自動的
に制御する方法とがある。前者の場合、操作者が確認し
ながら行うので、欠陥絵素のスイッチング素子の修正を
確実に行うことができるけれども、操作者に依存する作
業が多いとともに、修正に時間がかかるという不都合が
生じる。このため、後者のようにステージの駆動を制御
して、自動的に欠陥絵素のスイッチング素子を所定の修
正領域に配置する方法が採用される。
[0006] An inspection is performed on the produced liquid crystal display device to determine whether there is a picture element causing a display defect, that is, a so-called defect inspection, and then the switching element of the defective picture element is corrected. Is done. As this correction method, a method of visually confirming whether or not the switching element of the defective picture element is arranged in the predetermined correction area while the operator visually confirms the switching element of the defective picture element is arranged in the predetermined correction area. As described above, there is a method of automatically controlling the driving of the stage on which the liquid crystal display device is mounted. In the former case, since the operator performs the confirmation while confirming, the switching element of the defective picture element can be surely corrected. However, there are many operations depending on the operator, and there is a disadvantage that the correction takes time. For this reason, a method of controlling the driving of the stage and automatically arranging the switching element of the defective picture element in a predetermined correction area as in the latter case is adopted.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】前述したステージの駆
動を自動的に制御する方法においては、所定の修正領域
に配置されたスイッチング素子に対して、配置されたス
イッチング素子が修正すべきスイッチング素子であるか
否かの判断を行わずに直ちに修正が実施される。このた
め、前記修正領域に修正すべきでないスイッチング素子
が配置された場合であっても、当該スイッチング素子に
修正が施されることとなり、液晶表示装置の表示不良絵
素を増加してしまうこととなる。
In the above-described method of automatically controlling the driving of the stage, the switching elements arranged in a predetermined correction area are replaced by the switching elements to be corrected. The correction is performed immediately without determining whether there is any. For this reason, even when a switching element that should not be corrected is arranged in the correction area, the switching element is corrected, and the number of defective display pixels of the liquid crystal display device increases. Become.

【0008】液晶表示装置が載置されるステージは、液
晶表示装置表面に平行な、たとえば互いに直交する2方
向に移動し、この2方向に移動させるために2つのステ
ージ駆動手段が設けられる。前記駆動手段によるステー
ジの移動には、ステージを移動させるための機械的構造
によって絶対的な誤差が生じる。前述したような表示不
良絵素を増加させるという不都合は、前記誤差が生じた
場合であっても、修正すべきスイッチング素子が所定の
修正領域内に配置される場合には生じないけれども、前
記誤差が生じた場合に、修正すべきスイッチング素子が
所定の修正領域から外れてしまう場合に生じる。前記誤
差はステージの移動距離が長くなるにつれて大きくなる
ので、修正すべきスイッチング素子が複数個あり、当該
スイッチング素子間の距離が比較的長い場合において前
記不都合が生じやすい。
[0008] The stage on which the liquid crystal display device is mounted moves in two directions parallel to the surface of the liquid crystal display device, for example, orthogonal to each other. Two stage driving means are provided for moving in these two directions. When the stage is moved by the driving unit, an absolute error occurs due to a mechanical structure for moving the stage. The inconvenience of increasing the number of defective display pixels as described above does not occur when the switching element to be corrected is arranged in a predetermined correction area, even if the error occurs. Occurs when the switching element to be corrected deviates from a predetermined correction area. Since the error increases as the moving distance of the stage increases, the inconvenience is likely to occur when there are a plurality of switching elements to be corrected and the distance between the switching elements is relatively long.

【0009】また、ステージの移動精度を向上させよう
とする(たとえば100mmのステージ移動に対する誤
差を±1μm以下にしようとする)と、修正装置をクリ
ーンルームなどの埃などが極めて少ない清潔な環境内に
配置して、さらに機械系統の滑り性を高めるために定期
的に潤滑油などを塗布し、また埃の除去を行うなどのメ
ンテナンスが必要となる。このようなメンテナンスはス
テージの移動精度を高精度に保持するために頻繁に行わ
なければならず、煩わしいとともに生産性を低下させる
こととなる。
Further, if the movement accuracy of the stage is to be improved (for example, the error with respect to the movement of the stage of 100 mm is to be set to ± 1 μm or less), the correction device must be installed in a clean environment such as a clean room where dust and the like are extremely small. In order to further improve the slipperiness of the mechanical system, maintenance is required, such as periodically applying lubricating oil and removing dust. Such maintenance must be performed frequently in order to maintain the movement accuracy of the stage with high accuracy, which is bothersome and reduces productivity.

【0010】さらに、ステージの移動時において生じる
誤差を補正するために、用いられるステージにおける移
動量とずれ量との関係を調査し、得られた関係に基づい
て、移動量の補正を行うことも可能であるけれども、調
査に手間がかかるとともに、移動量とずれ量との関係が
埃などによって経時的に変化すると、再び調査し直さな
ければならず、確実に欠陥スイッチング素子の修正を行
うことは困難である。
Further, in order to correct an error generated when the stage is moved, the relationship between the amount of movement and the amount of displacement in the stage to be used is investigated, and the amount of movement is corrected based on the obtained relationship. Although possible, it takes time and effort to investigate, and if the relationship between the amount of movement and the amount of displacement changes over time due to dust, etc., it must be investigated again, and it is not possible to reliably repair the defective switching element. Have difficulty.

【0011】本発明の目的は、複数のスイッチング素子
を識別することができる液晶表示装置を用いて容易にか
つ確実に欠陥スイッチング素子の修正を行うことができ
る液晶表示装置の修正方法および修正装置を提供するこ
とである。
An object of the present invention is to provide a method and a device for repairing a defective liquid crystal display device which can easily and reliably repair a defective switching device using a liquid crystal display device capable of distinguishing a plurality of switching elements. To provide.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明は、一対の透光性
基板間に液晶層が介在され、前記一対の透光性基板のう
ちのいずれか一方透光性基板は、当該一方透光性基板の
液晶層側に、マトリクス状に配列される複数の絵素電極
と、前記複数の絵素電極に与えられる表示信号が印加さ
れる縦方向電極配線および横方向電極配線と、複数の絵
素電極に個別的に設けられて、前記表示信号を供給/遮
断する複数のスイッチング素子と、前記複数の絵素電
極、電極配線および複数のスイッチング素子を覆う配向
膜とを少なくとも有し、他方透光性基板は、当該他方透
光性基板の液晶層側に、前記複数の絵素電極に対向する
対向電極と、前記対向電極を覆う配向膜とを少なくとも
有する液晶表示装置の修正方法において、縦方向および
横方向電極配線のうちのいずれか一方の電極配線には、
各スイッチング素子付近の電極配線の幅方向の両側を狭
く加工し、この狭く加工した部分の有無または狭く加工
した部分の長さに基づいて、スイッチング素子を識別す
る第1識別情報が設けられ、他方の電極配線には、各ス
イッチング素子付近の電極配線の幅方向の一方側を狭く
加工し、この狭く加工した部分の有無または狭く加工し
た部分の数に基づいて、スイッチング素子を識別する第
2識別情報が設けられ、前記第1識別情報は3種類あ
り、この3種類の第1識別情報が、一方の電極配線に同
じ順で繰返し配置され、前記第2識別情報は3種類あ
り、この3種類の第2識別情報が、他方の電極配線に同
じ順で繰返し配置され、スイッチング素子付近に形成さ
れる第1および第2識別情報の9種類の組合わせに基づ
いて各スイッチング素子が隣接するスイッチング素子か
ら識別される液晶表示装置を準備し、予め前記液晶表示
装置の欠陥検査を行って、欠陥スイッチング素子と当該
スイッチング素子の第1および第2識別情報とを検出
し、前記液晶表示装置を、当該液晶表示装置表面と平行
に移動するステージ上に載置し、少なくとも1つのスイ
ッチング素子と第1および第2識別情報とを含む大きさ
に選ばれる画像認識領域に、前記欠陥検査によって検出
された欠陥スイッチング素子と当該スイッチング素子の
第1および第2識別情報とが含まれるように前記ステー
ジを移動して、前記画像認識領域の画像認識を行い、前
記画像認識によって得られた第1および第2識別情報
と、欠陥検査によって検出された欠陥スイッチング素子
の第1および第2識別情報とが一致している場合には、
前記画像認識領域のスイッチング素子に対してレーザ光
を照射して当該スイッチング素子の修正を行い、一致し
ていない場合には、欠陥スイッチング素子の第1および
第2識別情報、画像認識によって得られた第1および第
2識別情報、ならびに予め記憶される第1および第2識
別情報の配置順に基づいて判断される方向に、前記方向
に平行な画像認識領域長さ分だけ前記ステージを移動す
ることを特徴とする液晶表示装置の修正方法である。
According to the present invention, a liquid crystal layer is interposed between a pair of light-transmitting substrates, and one of the pair of light-transmitting substrates is provided with one of the light-transmitting substrates. A plurality of picture element electrodes arranged in a matrix on the liquid crystal layer side of the conductive substrate; a vertical electrode wiring and a horizontal electrode wiring to which a display signal given to the plurality of picture element electrodes is applied; A plurality of switching elements individually provided on the pixel electrodes for supplying / cutting the display signal; and an alignment film covering the plurality of pixel electrodes, the electrode wirings, and the plurality of switching elements. In the method for repairing a liquid crystal display device, the optical substrate includes, on the liquid crystal layer side of the other light-transmitting substrate, at least a counter electrode facing the plurality of pixel electrodes, and an alignment film covering the counter electrode. Directional and lateral electrode wiring The one of the electrodes wires,
First identification information for identifying a switching element is provided based on the presence or absence of the narrowed portion or the length of the narrowed portion, by narrowing both sides in the width direction of the electrode wiring near each switching element. In the electrode wiring of (2), one side in the width direction of the electrode wiring near each switching element is narrowed, and the second identification for identifying the switching element is performed based on the presence or absence of the narrowed portion or the number of the narrowed portion. Information is provided, and there are three types of the first identification information. These three types of first identification information are repeatedly arranged in one electrode wiring in the same order, and there are three types of the second identification information. Are repeatedly arranged in the same order on the other electrode wiring, and each switching element is determined based on nine combinations of the first and second identification information formed near the switching element. Prepares a liquid crystal display device identified from adjacent switching elements, conducts a defect inspection of the liquid crystal display device in advance, detects a defective switching element and first and second identification information of the switching element, and A display device is mounted on a stage that moves in parallel with the surface of the liquid crystal display device, and the defect inspection is performed on an image recognition area selected to have a size including at least one switching element and first and second identification information. Moving the stage so as to include the defective switching element detected by the first and second identification information of the switching element, perform image recognition of the image recognition area, and obtain a second image obtained by the image recognition. The first and second identification information matches the first and second identification information of the defective switching element detected by the defect inspection. The case,
The switching element in the image recognition area is irradiated with laser light to correct the switching element, and when they do not match, the first and second identification information of the defective switching element, obtained by image recognition. Moving the stage in a direction determined based on the arrangement order of the first and second identification information and the first and second identification information stored in advance by an image recognition area length parallel to the direction. This is a method for correcting a liquid crystal display device, which is a feature.

【0013】また本発明は、一対の透光性基板間に液晶
層が介在され、前記一対の透光性基板のうちのいずれか
一方透光性基板は、当該一方透光性基板の液晶層側に、
マトリクス状に配列される複数の絵素電極と、前記複数
の絵素電極に与えられる表示信号が印加される縦方向電
極配線および横方向電極配線と、複数の絵素電極に個別
的に設けられて、前記表示信号を供給/遮断する複数の
スイッチング素子と、前記複数の絵素電極、電極配線お
よび複数のスイッチング素子を覆う配向膜とを少なくと
も有し、他方透光性基板は、当該他方透光性基板の液晶
層側に、前記複数の絵素電極に対向する対向電極と、前
記対向電極を覆う配向膜とを少なくとも有する液晶表示
装置の修正装置において、縦方向および横方向電極配線
のうちのいずれか一方の電極配線には、各スイッチング
素子付近の電極配線の幅方向の両側を狭く加工し、この
狭く加工した部分の有無または狭く加工した部分の長さ
に基づいて、スイッチング素子を識別する第1識別情報
が設けられ、他方の電極配線には、各スイッチング素子
付近の電極配線の幅方向の一方側を狭く加工し、この狭
く加工した部分の有無または狭く加工した部分の数に基
づいて、スイッチング素子を識別する第2識別情報が設
けられ、前記の第1識別情報は3種類あり、この3種類
の第1識別情報が、一方の電極配線に同じ順で繰返し配
置され、前記の第2識別情報は3種類あり、この3種類
の第2識別情報が、他方の電極配線に同じ順で繰返し配
置され、スイッチング素子付近に形成される第1および
第2識別情報の9種類の組合わせに基づいて各スイッチ
ング素子が隣接するスイッチング素子から識別される液
晶表示装置が載置され、当該液晶表示装置表面と平行に
移動するステージと、前記液晶表示装置に対して予め行
われた欠陥検査によって検出された欠陥スイッチング素
子と、当該スイッチング素子の第1および第2識別情報
とが記憶される記憶手段と、前記ステージ上に載置され
た液晶表示装置の、少なくとも1つのスイッチング素子
分のスイッチング素子と第1および第2識別情報とを含
む大きさに選ばれる画像認識領域の画像を読み取って画
像認識を行う画像処理手段と、前記画像認識領域のスイ
ッチング素子に対してレーザ光を照射して、当該スイッ
チング素子の修正を行う修正手段と、前記画像認識によ
って得られた第1および第2識別情報と前記記憶手段に
記憶された第1および第2識別情報とが一致していない
ときに、欠陥スイッチング素子の第1および第2識別情
報、画像認識によって得られた第1および第2識別情
報、ならびに予め記憶される第1および第2識別情報の
配置順に基づいて判断される方向に、前記方向に平行な
画像認識領域長さ分だけ前記ステージを移動させる制御
手段とを含むことを特徴とする液晶表示装置の修正装置
である。
Further, according to the present invention, a liquid crystal layer is interposed between a pair of light transmitting substrates, and one of the pair of light transmitting substrates is a liquid crystal layer of the one light transmitting substrate. Beside
A plurality of picture element electrodes arranged in a matrix; a vertical electrode wiring and a horizontal electrode wiring to which a display signal given to the plurality of picture element electrodes is applied; and a plurality of picture element electrodes individually provided for the plurality of picture element electrodes. A plurality of switching elements for supplying / cutting off the display signal, and an alignment film covering the plurality of picture element electrodes, the electrode wirings, and the plurality of switching elements. In a liquid crystal display device repairing apparatus having at least a counter electrode facing the plurality of picture element electrodes and an alignment film covering the counter electrode on the liquid crystal layer side of the optical substrate, the vertical and horizontal electrode wirings In either one of the electrode wirings, the width of both sides in the width direction of the electrode wiring near each switching element is narrowed, and a switch is formed based on the presence or absence of the narrowed portion or the length of the narrowed portion. The first identification information for identifying the switching element is provided, and the other electrode wiring is formed by narrowing one side in the width direction of the electrode wiring near each switching element, and the presence or absence of the narrowly processed portion or the narrowly processed portion Based on the number of the switching elements, there are provided three types of the first identification information, and the three types of the first identification information are repeatedly arranged in one electrode wiring in the same order. There are three types of the second identification information, and the three types of the second identification information are repeatedly arranged in the same order on the other electrode wiring, and the first and the second identification information formed near the switching element. A stage on which a liquid crystal display device in which each switching element is identified from an adjacent switching element based on nine combinations is mounted, and which moves in parallel with the surface of the liquid crystal display device; Storage means for storing a defective switching element detected by a defect inspection performed in advance on a device, first and second identification information of the switching element, and a liquid crystal display device mounted on the stage Image processing means for performing image recognition by reading an image of an image recognition area selected to have a size including at least one switching element and first and second identification information, and switching of the image recognition area Correction means for irradiating the element with laser light to correct the switching element; first and second identification information obtained by the image recognition; and first and second identification information stored in the storage means. When the information does not match, the first and second identification information of the defective switching element, the first and second identification information obtained by image recognition And control means for moving the stage by an image recognition area length parallel to the direction in a direction determined based on the arrangement order of the first and second identification information stored in advance. This is a correction device for a liquid crystal display device.

【0014】[0014]

【0015】[0015]

【0016】[0016]

【0017】[0017]

【作用】本発明に従えば、複数のスイッチング素子が設
けられた液晶表示装置は、前記スイッチング素子を識別
する識別情報が各スイッチング素子の周辺に付されてい
る。前記液晶表示装置は、一対の透光性基板間に液晶層
が介在され、前記一対の透光性基板のうちのいずれか一
方透光性基板は、その液晶層側に、複数の絵素電極と、
電極配線と、複数のスイッチング素子と、配向膜とを少
なくとも有する。複数の絵素電極はマトリクス状に配列
され、スイッチング素子は当該絵素電極に個別的に設け
られる。スイッチング素子は、電極配線に印加される表
示信号を前記絵素電極に供給/遮断する。配向膜は、複
数の絵素電極、電極配線および複数のスイッチング素子
を覆っている。他方透光性基板は、その液晶層側に、対
向電極と配向膜とを少なくとも有する。対向電極は前記
複数の絵素電極に対向する電極であり、配向膜は対向電
極を覆っている。
According to the present invention, in a liquid crystal display device provided with a plurality of switching elements, identification information for identifying the switching elements is provided around each switching element. In the liquid crystal display device, a liquid crystal layer is interposed between a pair of light-transmitting substrates, and one of the pair of light-transmitting substrates has a plurality of pixel electrodes on its liquid crystal layer side. When,
It has at least an electrode wiring, a plurality of switching elements, and an alignment film. The plurality of pixel electrodes are arranged in a matrix, and the switching elements are individually provided for the pixel electrodes. The switching element supplies / blocks a display signal applied to the electrode wiring to / from the picture element electrode. The alignment film covers the plurality of pixel electrodes, the electrode wiring, and the plurality of switching elements. On the other hand, the light-transmitting substrate has at least a counter electrode and an alignment film on the liquid crystal layer side. The counter electrode is an electrode facing the plurality of pixel electrodes, and the alignment film covers the counter electrode.

【0018】前記識別情報によって複数個あるスイッチ
ング素子を識別することが可能であり、スイッチング素
子に起因する表示不良が発生していたときに欠陥スイッ
チング素子に対して施される修正時において、前記識別
情報によって修正すべきスイッチング素子であるか否か
を判断することで、修正を確実に行うことが可能とな
る。このような識別情報は、たとえば前記電極配線の幅
を変えることによって付されている。また好ましくは、
前記識別情報は少なくとも3種類であり、隣接する識別
情報の種類が互いに異なるようにして付される。したが
って、少なくとも隣接する3つのスイッチング素子を識
別することができる。
It is possible to identify a plurality of switching elements by the identification information, and to carry out the identification at the time of repair performed on a defective switching element when a display failure caused by the switching element has occurred. By determining whether or not the switching element is to be corrected based on the information, the correction can be reliably performed. Such identification information is given by, for example, changing the width of the electrode wiring. Also preferably,
There are at least three types of identification information, and the types of adjacent identification information are different from each other. Therefore, at least three adjacent switching elements can be identified.

【0019】さらに本発明に従えば、前述したような液
晶表示装置が準備され、当該液晶表示装置に対して予め
欠陥検査が行われ、欠陥スイッチング素子の位置と当該
スイッチング素子の識別情報とが検出される。このよう
な液晶表示装置を当該液晶表示装置表面と平行に移動す
るステージ上に載置し、所定の画像認識領域に、欠陥検
査によって検出された欠陥スイッチング素子と識別情報
とが含まれるように、前記ステージを移動して、前記画
像認識領域の画像認識を行う。前記画像認識領域とは、
少なくとも1つのスイッチング素子分のスイッチング素
子と識別情報とを含む大きさに選ばれる領域である。前
記画像認識によって得られた識別情報と、欠陥検査によ
って検出された識別情報とが一致している場合には、画
像認識領域のスイッチング素子に対してレーザ光を照射
して、当該スイッチング素子の修正を行う。また一致し
ていない場合には、予め記憶される全スイッチング素子
の識別情報に基づいて判断される方向に、前記方向に平
行な画像認識領域長さ分だけステージを移動する。
Further, according to the present invention, the liquid crystal display device as described above is prepared, a defect inspection is performed on the liquid crystal display device in advance, and the position of the defective switching element and the identification information of the switching element are detected. Is done. Such a liquid crystal display device is mounted on a stage that moves in parallel with the surface of the liquid crystal display device, and a predetermined image recognition area includes a defect switching element and identification information detected by a defect inspection, The stage is moved to perform image recognition of the image recognition area. The image recognition area,
This is an area selected to have a size that includes switching elements for at least one switching element and identification information. When the identification information obtained by the image recognition matches the identification information detected by the defect inspection, the switching element in the image recognition area is irradiated with laser light to correct the switching element. I do. If they do not match, the stage is moved in the direction determined based on the identification information of all the switching elements stored in advance by the length of the image recognition area parallel to the direction.

【0020】本発明は、ステージを移動したときの絶対
誤差が、1つのスイッチング素子にかかわる領域以内で
ある場合に適用される。識別情報が一致していない場合
にステージが移動する方向とは、欠陥検査によって検出
された識別情報が前記画像認識領域に配置される方向で
ある。したがって、ステージを移動させることによって
前記画像認識領域に修正すべきスイッチング素子が配置
される。なお、画像認識領域には、2以上のスイッチン
グ素子および2以上の識別情報が含まれないような大き
さに選ぶことによって、1つのスイッチング素子のみを
特定することができる。また、少なくとも3種類の識別
情報が設けられ、隣接する識別情報の種類が互いに異な
るように設けられた液晶表示装置を用いることによっ
て、識別情報が一致していない場合のステージの移動方
向を判断することが可能である。
The present invention is applied when the absolute error when the stage is moved is within the area related to one switching element. The direction in which the stage moves when the identification information does not match is the direction in which the identification information detected by the defect inspection is arranged in the image recognition area. Therefore, a switching element to be corrected is arranged in the image recognition area by moving the stage. It should be noted that only one switching element can be specified by selecting a size that does not include two or more switching elements and two or more identification information in the image recognition area. In addition, by using a liquid crystal display device provided with at least three types of identification information and types of adjacent identification information different from each other, the moving direction of the stage when the identification information does not match is determined. It is possible.

【0021】したがって、ステージの移動精度が低くて
も、識別情報が一致しない場合には、画像認識領域のス
イッチング素子に対して修正は実施されず、修正すべき
スイッチング素子と識別情報とが画像認識領域に含まれ
るようにステージが移動する。このため、スイッチング
素子の修正を容易にかつ確実に行うことが可能となる。
Therefore, if the identification information does not match even if the stage movement accuracy is low, the switching elements in the image recognition area are not corrected, and the switching elements to be corrected and the identification information are image-recognized. The stage moves so as to be included in the area. For this reason, it is possible to easily and reliably correct the switching element.

【0022】さらにまた本発明に従えば、前述したよう
な修正方法を実現するために、液晶表示装置の修正装置
は、前記液晶表示装置が載置されるステージと、欠陥検
査によって検出された欠陥スイッチング素子の位置と当
該スイッチング素子の識別情報とが記憶される記憶手段
と、前記画像認識領域の画像を読取って画像認識を行う
画像処理手段と、前記画像認識領域のスイッチング素子
に対してレーザ光を照射して、当該スイッチング素子の
修正を行う修正手段と、識別情報が一致していなかった
ときに、前述したようにステージを移動させる制御手段
とを含んで構成される。
Still further, according to the present invention, in order to realize the above-described repair method, the repair device for the liquid crystal display device includes a stage on which the liquid crystal display device is mounted, and a defect detected by the defect inspection. Storage means for storing the position of the switching element and identification information of the switching element; image processing means for reading an image in the image recognition area to perform image recognition; and laser light for the switching element in the image recognition area To correct the switching element, and control means for moving the stage as described above when the identification information does not match.

【0023】[0023]

【実施例】図1は、本発明の一実施例である液晶表示装
置1の構成を示す断面図である。また、図2は前記液晶
表示装置1を構成する一方基板部材10を示す平面図で
ある。液晶表示装置1は、一対の基板部材10,11間
に液晶層12を介在して構成される。一対の基板部材1
0,11のうちの一方基板部材10は、透光性基板2
と、当該透光性基板2の液晶層側に配置される絵素電極
3と、TFT素子4と、配向膜5と、ゲートバスライン
14a〜14dとソースバスライン15a〜15dとを
含んで構成される。他方基板部材11は、透光性基板6
と、当該透光性基板6の液晶層側に配置されるカラーフ
ィルタ7と、対向電極8と、配向膜9とを含んで構成さ
れる。
FIG. 1 is a sectional view showing the structure of a liquid crystal display device 1 according to one embodiment of the present invention. FIG. 2 is a plan view showing one substrate member 10 constituting the liquid crystal display device 1. The liquid crystal display device 1 is configured with a liquid crystal layer 12 interposed between a pair of substrate members 10 and 11. A pair of substrate members 1
One of the substrate members 10 is a transparent substrate 2.
And a pixel electrode 3 disposed on the liquid crystal layer side of the translucent substrate 2, a TFT element 4, an alignment film 5, gate bus lines 14a to 14d, and source bus lines 15a to 15d. Is done. On the other hand, the substrate member 11 is
And a color filter 7 disposed on the liquid crystal layer side of the translucent substrate 6, a counter electrode 8, and an alignment film 9.

【0024】たとえばガラスで実現される透光性基板2
の一方表面2aには、図2に示されるように、互いに平
行な複数のゲートバスライン14a〜14d(以下、総
称するときには「ゲートバスライン14」という)が形
成され、さらに前記ゲートバスライン14とは直交する
方向に複数のソースバスライン15a〜15d(以下、
総称するときには「ソースバスライン15」という)が
形成される。ゲートバスライン14とソースバスライン
15とは互いに絶縁性を保持して形成され、ゲートおよ
びソースバスライン14,15によって形成される矩形
状の領域には、たとえばITO(インジウム錫酸化物)
などの透明電極から成る絵素電極3が形成される。
Transparent substrate 2 realized by, for example, glass
As shown in FIG. 2, a plurality of gate bus lines 14 a to 14 d (hereinafter, collectively referred to as “gate bus lines 14”) are formed on one surface 2 a of the gate bus line 14. And a plurality of source bus lines 15a to 15d (hereinafter, referred to as
When collectively referred to as “source bus line 15”). The gate bus line 14 and the source bus line 15 are formed while maintaining insulation from each other. In a rectangular region formed by the gate and source bus lines 14 and 15, for example, ITO (indium tin oxide) is formed.
The picture element electrode 3 made of a transparent electrode such as the above is formed.

【0025】絵素電極3は、マトリクス状に配置され
る。絵素電極3と前記ゲートバスライン14およびソー
スバスライン15とはスイッチング素子であるTFT素
子4を介して接続される。絵素電極3、TFT素子4、
ゲートバスライン14およびソースバスライン15が形
成された透光性基板2の一方表面2aには、形成された
部材を覆って、たとえばポリイミド樹脂で実現される配
向膜5が形成される。配向膜5の表面には、たとえばラ
ビング処理などの配向処理が実施されている。このよう
にして一方基板部材10が構成される。
The picture element electrodes 3 are arranged in a matrix. The picture element electrode 3 is connected to the gate bus line 14 and the source bus line 15 via a TFT element 4 as a switching element. Picture element electrode 3, TFT element 4,
On one surface 2a of the translucent substrate 2 on which the gate bus lines 14 and the source bus lines 15 are formed, an alignment film 5 made of, for example, a polyimide resin is formed so as to cover the formed members. An alignment process such as a rubbing process is performed on the surface of the alignment film 5. Thus, one-sided substrate member 10 is configured.

【0026】たとえば前記透光性基板2と同様のガラス
で実現される透光性基板6の一方表面6aには、カラー
フィルタ7が形成される。カラーフィルタ7は、複数の
絵素電極3に対応して形成される赤色(R)フィルタ、
緑色(G)フィルタおよび青色(B)フィルタを含んで
構成される。カラーフィルタ7が形成された透光性基板
6の一方表面6aには、形成されたカラーフィルタ7を
覆って、たとえばITOなどの透明電極から成る対向電
極8が全面に形成される。対向電極8の表面には、前記
配向膜5と同様にして配向膜9が形成される。このよう
にして他方基板部材11が構成される。
For example, a color filter 7 is formed on one surface 6a of a light-transmitting substrate 6 made of the same glass as the light-transmitting substrate 2. The color filter 7 is a red (R) filter formed corresponding to the plurality of picture element electrodes 3,
It comprises a green (G) filter and a blue (B) filter. On one surface 6a of the light transmitting substrate 6 on which the color filter 7 is formed, an opposing electrode 8 made of a transparent electrode such as ITO is formed on the entire surface so as to cover the formed color filter 7. An alignment film 9 is formed on the surface of the counter electrode 8 in the same manner as the alignment film 5. Thus, the other substrate member 11 is configured.

【0027】前記一対の基板部材10,11は、互いの
配向膜5,9が対向するようにして配置され、所定の間
隔をあけてその周縁部が接着剤13で接着される。な
お、このとき、液晶材料を注入する注入孔をあけて基板
部材10,11が接着される。前記注入孔から基板部材
10,11および接着剤13によって形成される空間に
液晶材料が注入されて、一対の基板部材10,11間に
挟持される液晶層12が形成される。液晶材料の注入が
終了すると、前記注入孔は封止される。前記液晶材料と
しては、たとえばネマティック液晶材料が用いられる。
The pair of substrate members 10 and 11 are arranged such that the alignment films 5 and 9 are opposed to each other, and their peripheral edges are bonded with an adhesive 13 at a predetermined interval. At this time, the substrate members 10 and 11 are bonded to each other with an injection hole for injecting a liquid crystal material. A liquid crystal material is injected from the injection hole into a space formed by the substrate members 10 and 11 and the adhesive 13 to form a liquid crystal layer 12 sandwiched between the pair of substrate members 10 and 11. When the injection of the liquid crystal material is completed, the injection hole is sealed. As the liquid crystal material, for example, a nematic liquid crystal material is used.

【0028】本発明において注目すべきは、各絵素に対
応して設けられるTFT素子4を識別する識別情報が各
TFT素子4の周辺に付されていることである。以下、
識別情報である識別パターン16〜21を前記ゲートお
よびソースバスライン14,15にそれぞれ形成した例
について図2を参照して説明する。ゲートバスライン1
4には、3種類の識別パターン16〜18が形成されて
いる。識別パターン16は、ゲートバスライン14の幅
を狭くしたものである。識別パターン17としては、本
実施例では識別パターンを設けないことによって他の2
種類の識別パターン16,18と区別している。識別パ
ターン18は、ゲートバスライン14の幅を狭くしたも
のであり、ゲートバスライン14の長手方向に平行な識
別パターンの長さが前記識別パターン16よりも短い。
ゲートバスライン14には、識別パターン16〜18が
この順番で繰返し設けられている。
It should be noted that in the present invention, identification information for identifying the TFT elements 4 provided corresponding to each picture element is added to the periphery of each TFT element 4. Less than,
An example in which identification patterns 16 to 21 as identification information are respectively formed on the gate and source bus lines 14 and 15 will be described with reference to FIG. Gate bus line 1
4, three types of identification patterns 16 to 18 are formed. The identification pattern 16 is obtained by reducing the width of the gate bus line 14. As the identification pattern 17, in this embodiment, the other two patterns are provided by not providing the identification pattern.
It is distinguished from the type identification patterns 16 and 18. The identification pattern 18 is obtained by reducing the width of the gate bus line 14, and the length of the identification pattern parallel to the longitudinal direction of the gate bus line 14 is shorter than the identification pattern 16.
The identification patterns 16 to 18 are repeatedly provided on the gate bus line 14 in this order.

【0029】本実施例では、識別パターン17としての
配線の加工を行っていないけれども、配線の加工を行う
例も本発明の範囲に属するものであり、識別パターン1
6と識別パターン17との間隔L1、識別パターン17
と識別パターン18との間隔L2、および識別パターン
18と識別パターン16との間隔L3は、共に等しい長
さに選ばれる。
In this embodiment, although the wiring as the identification pattern 17 is not processed, an example in which the wiring is processed also belongs to the scope of the present invention.
L1 between pattern 6 and identification pattern 17, identification pattern 17
The spacing L2 between the identification pattern 18 and the identification pattern 18 and the spacing L3 between the identification pattern 18 and the identification pattern 16 are selected to have the same length.

【0030】ソースバスライン15には、3種類の識別
パターン19〜21が形成されている。識別パターン1
9は、ソースバスライン15の幅を1ケ所だけ狭くした
ものであり、識別パターン20は2カ所、識別パターン
21は3カ所それぞれ幅を狭くしたものである。ソース
バスライン15には識別パターン19〜21がこの順番
で繰返し設けられている。識別パターン19と識別パタ
ーン20との間隔S1、識別パターン20と識別パター
ン21との間隔S2および識別パターン21と識別パタ
ーン19との間隔S3は、共に等しい長さに選ばれる。
On the source bus line 15, three types of identification patterns 19 to 21 are formed. Identification pattern 1
Reference numeral 9 denotes a case where the width of the source bus line 15 is narrowed by one place, the identification pattern 20 is narrowed at two places, and the identification pattern 21 is narrowed at three places. Identification patterns 19 to 21 are repeatedly provided in the source bus line 15 in this order. The interval S1 between the identification patterns 19 and 20, the interval S2 between the identification patterns 20 and 21, and the interval S3 between the identification patterns 21 and 19 are all set to the same length.

【0031】このような識別パターン16〜21は、た
とえばゲートバスライン14およびソースバスライン1
5の形成時において用いられるマスクに上述したような
形状のパターンを設けておくことによって、ゲートおよ
びソースバスライン14,15の形成とともに作成する
ことができる。なお、本実施例では識別パターン16,
18は配線の幅方向の両端部を加工することによって設
け、識別パターン19〜21は配線の幅方向の一方端部
のみを加工することによって設けることによって識別パ
ターンを区別している。
Such identification patterns 16 to 21 correspond to, for example, gate bus line 14 and source bus line 1
By providing a pattern having the above-described shape on a mask used for forming the gate 5, the mask 5 can be formed together with the formation of the gate and source bus lines 14 and 15. In this embodiment, the identification patterns 16 and
Reference numeral 18 is provided by processing both ends in the width direction of the wiring, and identification patterns 19 to 21 are provided by processing only one end in the width direction of the wiring to distinguish the identification patterns.

【0032】図3は、前記一方基板部材10の1つのT
FT素子4に係る領域を拡大して示す平面図である。図
3紙面上において上下方向の1つのTFT素子4に係る
領域の長さ、すなわち隣接するソースバスライン15間
の間隔に1本のソースバスライン15の幅を加えた長さ
は、P1に選ばれる。また、図3紙面上において左右方
向の1つのTFT素子4に係る領域の長さ、すなわち隣
接するゲートバスライン14間の間隔に1本のゲートバ
スライン14の幅を加えた長さは、P2に選ばれる。し
たがって、1つのTFT素子4に係る領域はP1×P2
で表される。また、P1=L1=L2=L3となり、P
2=S1=S2=S3となる。
FIG. 3 is a view showing one T of the one substrate member 10.
FIG. 4 is an enlarged plan view showing a region related to the FT element 4. The length of the region of one TFT element 4 in the vertical direction on the paper of FIG. 3, that is, the length obtained by adding the width of one source bus line 15 to the interval between adjacent source bus lines 15 is selected as P1. It is. In addition, the length of a region related to one TFT element 4 in the horizontal direction on the paper of FIG. 3, that is, the length obtained by adding the width of one gate bus line 14 to the interval between adjacent gate bus lines 14 is P2 Is chosen. Therefore, the area related to one TFT element 4 is P1 × P2
It is represented by Also, P1 = L1 = L2 = L3, and P
2 = S1 = S2 = S3.

【0033】図4は、前記一方基板部材10のTFT素
子4を拡大して示す平面図である。TFT素子4は、前
記ゲートバスライン14と接続されるゲート電極22
と、前記ソースバスライン15と接続されるソース電極
23と、前記絵素電極3と接続されるドレイン電極24
とを含んで構成される。TFT素子4の修正は、パネル
作成時において不良素子して形成されたTFT素子4に
よる表示不良をなくすために実施される。
FIG. 4 is an enlarged plan view showing the TFT element 4 of the one substrate member 10. The TFT element 4 includes a gate electrode 22 connected to the gate bus line 14.
A source electrode 23 connected to the source bus line 15, and a drain electrode 24 connected to the pixel electrode 3.
It is comprised including. The correction of the TFT element 4 is performed in order to eliminate a display defect due to the TFT element 4 formed as a defective element at the time of panel production.

【0034】たとえば、図示されるようなレーザ光照射
部25にレーザ光が照射されて、ドレイン電極24とゲ
ート電極22とが接続される。また、レーザ光照射部2
6にレーザ光が照射されて、ソース電極23とゲート電
極22とが接続される。さらに、レーザ光照射部27に
レーザ光が照射されて、この部分でゲート電極22とゲ
ートバスライン14とが切断される。これによって、孤
立したゲート電極22の部分を介してソースバスライン
15のソース電極23と絵素電極3とが直接に接続され
る。したがって、TFT素子4は、ゲートバスライン1
4に送られるゲート信号にかかわらず常にオン状態とな
り、ソースバスライン15に送られるソース信号が常に
絵素電極3に与えられる。
For example, a laser beam is irradiated to a laser beam irradiating section 25 as shown in the figure, and the drain electrode 24 and the gate electrode 22 are connected. In addition, the laser beam irradiation unit 2
6 is irradiated with laser light, and the source electrode 23 and the gate electrode 22 are connected. Further, the laser beam is irradiated to the laser beam irradiation section 27, and the gate electrode 22 and the gate bus line 14 are cut at this portion. As a result, the source electrode 23 of the source bus line 15 and the pixel electrode 3 are directly connected via the isolated gate electrode 22. Therefore, the TFT element 4 is connected to the gate bus line 1
4 is always turned on irrespective of the gate signal sent to the pixel electrode 4, and the source signal sent to the source bus line 15 is always given to the picture element electrode 3.

【0035】以下、このような欠陥TFT素子の修正を
行うことができる液晶表示装置の修正装置31および修
正方法について説明する。なお、欠陥TFT素子の修正
を行うにあたり、予め欠陥検査が行われる。すなわち、
作成した液晶表示装置1のすべての絵素電極3と対向電
極8との間に所定の電圧を印加して、基板部材10,1
1間の液晶分子が基板部材表面に対して垂直となるよう
に配向させることによって、液晶層12に入射した光を
透過させてすべての絵素を点灯させ、点灯していない絵
素があるか否かが判断される。点灯していない絵素があ
った場合、当該絵素に対応したTFT素子に欠陥がある
ものと判断する。このようにして欠陥検査を行い、欠陥
を有するTFT素子の特定および当該TFT素子の識別
パターンの検出が行われる。なお、欠陥検査用のステー
ジの上に液晶表示装置1を予め定める基準位置に位置合
わせして配置し、たとえば表示手段の表示画面に表示さ
れる液晶表示装置1を見ながら操作手段を用いて欠陥を
有するTFT素子を指示することによって、指示した座
標位置に基づいて、全てのTFT素子の中の欠陥TFT
素子の位置を特定することができる。
Hereinafter, a repairing device 31 and a repairing method for a liquid crystal display device capable of repairing such a defective TFT element will be described. In repairing the defective TFT element, a defect inspection is performed in advance. That is,
A predetermined voltage is applied between all the pixel electrodes 3 and the counter electrode 8 of the prepared liquid crystal display device 1 so that the substrate members 10, 1
By orienting the liquid crystal molecules between them so as to be perpendicular to the surface of the substrate member, the light incident on the liquid crystal layer 12 is transmitted so that all the picture elements are turned on. It is determined whether or not. If there is a non-lighted picture element, it is determined that the TFT element corresponding to the picture element has a defect. In this way, the defect inspection is performed, the TFT element having the defect is specified, and the identification pattern of the TFT element is detected. The liquid crystal display device 1 is positioned on a defect inspection stage so as to be aligned with a predetermined reference position. For example, while viewing the liquid crystal display device 1 displayed on the display screen of the display device, the defect is detected using the operation device. The defective TFT in all the TFT elements is designated based on the designated coordinate position by designating the TFT element having
The position of the element can be specified.

【0036】図5は、本発明に基づく修正装置31の概
略的構成を示す正面図である。また、図6は、前記修正
装置31の電気的構成を示すブロック図である。修正装
置31は、ステージ32、複数の支柱33、基台34,
35、レーザ光源36、光軸調整手段37、対物レンズ
38、焦点調整手段39、接眼レンズ40、反射板4
1、画像読取手段42、画像処理装置43、制御手段4
4、レーザ光源用電源45、表示手段46、操作手段4
7およびステージ駆動手段48を含んで構成される。
FIG. 5 is a front view showing a schematic configuration of the correction device 31 according to the present invention. FIG. 6 is a block diagram showing an electrical configuration of the correction device 31. As shown in FIG. The correction device 31 includes a stage 32, a plurality of columns 33, a base 34,
35, laser light source 36, optical axis adjusting means 37, objective lens 38, focus adjusting means 39, eyepiece 40, reflector 4
1, image reading means 42, image processing device 43, control means 4
4, power supply 45 for laser light source, display means 46, operation means 4
7 and the stage driving means 48.

【0037】前述した液晶表示装置1が載置されるステ
ージ32は、複数の支柱33によって水平に保持される
基台34に固定され、当該ステージ32は、ステージ駆
動手段48によってステージ32に載置される液晶表示
装置1の表面に平行に移動する。たとえば、互いに直交
する2方向に移動する。ステージ32の上方であって、
ステージ32が固定された基台34と平行にかつ間隔を
あけて設けられる基台35上には、レーザ光源36、光
軸調整手段37、対物レンズ38、焦点調整手段39、
接眼レンズ40、反射板41および画像読取手段42が
固定される。
The stage 32 on which the liquid crystal display device 1 is mounted is fixed to a base 34 held horizontally by a plurality of columns 33, and the stage 32 is mounted on the stage 32 by stage driving means 48. The liquid crystal display device 1 moves parallel to the surface of the liquid crystal display device 1. For example, they move in two directions orthogonal to each other. Above the stage 32,
A laser light source 36, an optical axis adjusting unit 37, an objective lens 38, a focus adjusting unit 39, and a base 35 provided in parallel with and spaced from a base 34 to which the stage 32 is fixed.
The eyepiece 40, the reflector 41 and the image reading means 42 are fixed.

【0038】ステージ32と対向して配置されるレーザ
光源36との間のレーザ光の光軸上には、ステージ32
側から順番に対物レンズ38および光軸調整手段37が
配置される。前記レーザ光源36からのレーザ光によっ
てステージ32上に載置される液晶表示装置1の欠陥T
FT素子の修正が行われる。光軸調整手段37は、レー
ザ光の照射時における光軸の微調整を行う。対物レンズ
38としては、倍率の異なる複数個のレンズの中から所
望の倍率のレンズが適宜選択される。ステージ32の前
記レーザ光の光軸を含む所定の領域は光を透過すること
ができ、ステージ32の下方からの光は対物レンズ38
を透過し、さらに図示しない半透鏡で屈折して接眼レン
ズ40に入射する。また、半透鏡で屈折して反射板41
で反射して、たとえばCCD(電荷結合素子)カメラで
実現される画像読取手段42に入射する。焦点調整手段
39は、前記画像読取手段42で画像を読取る際の焦点
合わせを行う。
On the optical axis of the laser light between the stage 32 and the laser light source 36 disposed opposite thereto, the stage 32
The objective lens 38 and the optical axis adjusting means 37 are arranged in order from the side. The defect T of the liquid crystal display device 1 mounted on the stage 32 by the laser light from the laser light source 36
The correction of the FT element is performed. The optical axis adjusting means 37 performs fine adjustment of the optical axis at the time of laser beam irradiation. As the objective lens 38, a lens having a desired magnification is appropriately selected from a plurality of lenses having different magnifications. A predetermined area of the stage 32 including the optical axis of the laser light can transmit light, and light from below the stage 32 is transmitted through the objective lens 38.
, And refracted by a semi-transparent mirror (not shown) to enter the eyepiece 40. Also, the light is refracted by a semi-transparent mirror and the reflection plate 41
And is incident on an image reading means 42 realized by, for example, a CCD (charge coupled device) camera. The focus adjusting unit 39 performs focusing when the image reading unit 42 reads an image.

【0039】また、前記基台35上には、画像処理装置
43、制御手段44、レーザ光源用電源45、表示手段
46および操作手段48が載置される。画像処理装置4
3は、前記画像読取手段42で読取った画像データを2
値化処理し、読取った画像データを電気的な処理が容易
なデータに変換する。制御手段44は、たとえばCPU
(中央演算処理装置)、RAM(ランダムアクセスメモ
リ)およびROM(リードオンリメモリ)を含んで構成
され、液晶表示装置1に対して予め行われた欠陥検査に
よって検出されたデータおよび画像読取手段42によっ
て読取られて画像処理装置43で処理されたデータに基
づいて、レーザ光源36およびステージ駆動手段48を
制御する。また、修正装置31全体の動作を制御する。
さらに、ROMには全識別パターンデータが記憶され
る。レーザ光源用電源45は、前記レーザ光源36に、
レーザ光照射用の電源電圧を供給する。表示手段46に
は、前記画像読取手段42で読取られた画像または画像
読取手段42で読取られて画像処理装置43で処理され
た画像が表示される。このような表示手段46は、たと
えばCRT(陰極線管)で実現される。操作手段47か
らは、操作者によって、修正操作の開始および終了の指
示、または画像処理操作時の各種指示などが行われる。
On the base 35, an image processing device 43, a control means 44, a power supply 45 for a laser light source, a display means 46 and an operation means 48 are mounted. Image processing device 4
Reference numeral 3 denotes image data read by the image reading means 42
It converts the read image data into data that can be easily processed electrically. The control means 44 is, for example, a CPU
(Central processing unit), a RAM (random access memory) and a ROM (read only memory). The laser light source 36 and the stage driving unit 48 are controlled based on the data read and processed by the image processing device 43. Further, it controls the operation of the entire correction device 31.
Further, the ROM stores all identification pattern data. The laser light source power supply 45 supplies the laser light source 36 with:
A power supply voltage for laser light irradiation is supplied. The display unit 46 displays an image read by the image reading unit 42 or an image read by the image reading unit 42 and processed by the image processing device 43. Such a display means 46 is realized by, for example, a CRT (cathode ray tube). From the operation unit 47, instructions such as start and end of the correction operation or various instructions at the time of the image processing operation are performed by the operator.

【0040】図7は、本発明に基づく液晶表示装置の修
正方法を示すフローチャートである。また図8は修正す
べき欠陥TFT素子4aを示す平面図である。さらに図
9は認識領域51を示す平面図である。さらに図10
は、前記認識領域51の大きさを説明するための図であ
る。まず、予め行われた欠陥検査によって検出されたデ
ータ、すなわち欠陥TFT素子の位置データおよび当該
TFT素子の識別パターンデータが制御手段44のRA
Mに記憶される。これは、たとえば操作者によって操作
手段47から入力される。1枚の液晶表示装置において
欠陥TFT素子が複数個あるときには、全ての欠陥に対
応するデータが入力される。また、たとえば欠陥検査装
置の制御手段と修正装置31の制御手段44とを共用し
て用いることによって、上述したような操作者によるデ
ータ入力を行う必要がなくなり、利便性が向上する。
FIG. 7 is a flowchart showing a method for correcting a liquid crystal display device according to the present invention. FIG. 8 is a plan view showing a defective TFT element 4a to be corrected. FIG. 9 is a plan view showing the recognition area 51. Further, FIG.
FIG. 4 is a diagram for explaining the size of the recognition area 51. First, data detected by a previously performed defect inspection, that is, position data of a defective TFT element and identification pattern data of the TFT element are stored in the RA of the control means 44.
M. This is input from the operating means 47 by the operator, for example. When there are a plurality of defective TFT elements in one liquid crystal display device, data corresponding to all the defects is input. Further, for example, by using the control means of the defect inspection apparatus and the control means 44 of the correction apparatus 31 in common, it is not necessary to perform data input by the operator as described above, and the convenience is improved.

【0041】ステップa1では、修正が行われるべき液
晶表示装置1が、前記ステージ32上に載置される。こ
のとき液晶表示装置1は予め定める基準位置に位置合わ
せして配置される。ステップa2では、ステージ32の
水平方向の傾き補正が行われる。ステップa3では、欠
陥TFT素子に対する修正が全て終了したか否かが判断
される。終了した場合は修正操作を終える。終了してい
ない場合はステップa4に移る。
In step a1, the liquid crystal display device 1 to be corrected is mounted on the stage 32. At this time, the liquid crystal display device 1 is placed in alignment with a predetermined reference position. In step a2, the horizontal inclination of the stage 32 is corrected. In step a3, it is determined whether or not all corrections for the defective TFT element have been completed. If it has been completed, the correction operation ends. If not completed, the process proceeds to step a4.

【0042】ステップa4では、制御手段44のRAM
に記憶された位置データが読出される。たとえば、図8
に示されるTFT素子4aに欠陥が生じていた場合、当
該TFT素子4aが接続される絵素電極3a(斜線を付
して示す)によって形成される絵素が欠陥絵素となる。
たとえば図8紙面上において右方向にX軸を設定し、下
方向にY軸を設定すると、(2,2)という位置データ
が読出される。
At step a4, the RAM of the control means 44
Is read out. For example, FIG.
In the case where a defect has occurred in the TFT element 4a shown in (1), the picture element formed by the picture element electrode 3a (shown by oblique lines) to which the TFT element 4a is connected is a defective picture element.
For example, when the X-axis is set rightward and the Y-axis is set downward on the page of FIG. 8, the position data (2, 2) is read.

【0043】ステップa5では、読出された位置データ
に基づいて、図9に示される認識領域51に修正すべき
TFT素子4aと、当該TFT素子4aの識別データ1
7a,20aとが配置されるように、ステージ32が移
動する。認識領域51とは、前記画像読取手段42によ
って読取られ、画像処理装置43によって画像処理され
る領域であり、レーザ光の光軸上に設定される領域であ
る。この認識領域51の大きさは、少なくとも1つのT
FT素子分のTFT素子4と識別情報とを含む大きさで
あるT1×T2に選ばれる。図9紙面上における上下方
向(Y軸方向)の長さT1は前記長さP1以下に選ば
れ、左右方向(X軸方向)の長さT2は前記長さP2以
下に選ばれる。これによって認識領域51には1つのT
FT素子4と対応した識別情報とのみが配置され、TF
T素子4を特定することができる。
In step a5, based on the read position data, the TFT element 4a to be corrected in the recognition area 51 shown in FIG. 9 and the identification data 1 of the TFT element 4a
The stage 32 moves so that 7a and 20a are arranged. The recognition area 51 is an area read by the image reading means 42 and subjected to image processing by the image processing device 43, and is an area set on the optical axis of the laser light. The size of the recognition area 51 is at least one T
The size is selected to be T1 × T2 which is the size including the TFT elements 4 for the FT elements and the identification information. The length T1 in the vertical direction (Y-axis direction) on the plane of FIG. 9 is selected to be equal to or less than the length P1, and the length T2 in the left-right direction (X-axis direction) is selected to be equal to or less than the length P2. As a result, one T
Only the identification information corresponding to the FT element 4 is arranged,
The T element 4 can be specified.

【0044】また、認識領域51の最小の大きさは、次
のようにして選ばれる。すなわち、前記長さT1の最小
の長さは、図10に示されるように、ゲートバスライン
14に形成される識別パターン16〜18の、ゲートバ
スライン14の長手方向に対して平行な方向の長さをa
とし、識別パターン間長さL1(L2,L3)から長さ
aを引いた残りの長さを二等分した長さをbとすると、
a+bとなる。同様に、ソースバスライン15に形成さ
れる識別パターン19〜21の、ソースバスライン15
の長手方向に対して平行な方向の長さをaとし、前記識
別パターン間長さS1(S2,S3)から長さaを引い
た残りの長さを二等分した長さをbとすると、a+bと
なる。
The minimum size of the recognition area 51 is selected as follows. That is, as shown in FIG. 10, the minimum length of the length T1 is the length of the identification patterns 16 to 18 formed on the gate bus line 14 in the direction parallel to the longitudinal direction of the gate bus line 14. Length is a
And the length obtained by subtracting the length a from the inter-identification pattern length L1 (L2, L3) is bisected as b,
a + b. Similarly, the source bus line 15 of the identification patterns 19 to 21 formed on the source bus line 15
Let a be the length in the direction parallel to the longitudinal direction of b, and let b be the remaining length obtained by subtracting the length a from the inter-identification pattern length S1 (S2, S3). , A + b.

【0045】ステップa6では、前記認識領域51の画
像が画像読取手段42によって読取られ、画像処理装置
43によって画像処理される。ステップa7では、RA
Mに記憶された識別パターンデータと、前記ステップa
6で画像処理することによって得られた識別パターンデ
ータとが一致しているか否かが判断される。一致してい
た場合はステップa8に移り、認識領域51内のTFT
素子4aに対してレーザ光を照射して、当該TFT素子
4aの修正が行われる。修正が終了すると、前記ステッ
プa3に戻る。一致していなかった場合は、ステップa
9に移り、後述するようにしてステージ32を再度移動
するための移動方向が判断される。ステップa9の動作
が終了すると、前記ステップa5に戻り、判断された方
向に平行な認識領域51のY軸方向長さT1またはX軸
方向長さT2だけステージ32が移動する。
In step a6, the image in the recognition area 51 is read by the image reading means 42 and processed by the image processing device 43. In step a7, RA
M and the identification pattern data stored in step a.
It is determined whether the identification pattern data obtained by performing the image processing in step 6 matches. If they match, the process proceeds to step a8, where the TFT in the recognition area 51
By irradiating the element 4a with a laser beam, the TFT element 4a is modified. Upon completion of the correction, the process returns to step a3. If not, step a
Then, as described later, the moving direction for moving the stage 32 again is determined. When the operation in step a9 ends, the process returns to step a5, and the stage 32 moves by the length T1 in the Y-axis direction or the length T2 in the X-axis direction of the recognition area 51 parallel to the determined direction.

【0046】図11および図12は、識別パターンが一
致していなかった場合の動作を説明するための平面図で
ある。たとえば、図11に示されるように座標(3,
2)のTFT素子4bと識別パターン17a,21aと
が認識領域51に配置されたとすると、RAMに記憶さ
れた識別パターンデータは、識別パターン17a,20
aで示される形状のデータであることから、前記ステッ
プa7での判断結果が一致しなくなる。このためステッ
プa9では、制御手段44のROMに予め記憶される全
識別パターンデータに基づいて、識別パターン20aと
識別パターン21aとの位置関係が判断される。この場
合、X軸方向にずれていると判断する。ステップa5で
は、ステージ32がX軸方向に前述した認識領域51の
X軸方向の長さ+T2分だけ移動する。これによって、
修正すべきTFT素子4aと当該TFT素子4aの識別
パターン17a,20aとが含まれる領域51aが認識
領域51に配置される。
FIGS. 11 and 12 are plan views for explaining the operation when the identification patterns do not match. For example, as shown in FIG.
Assuming that the TFT element 4b and the identification patterns 17a and 21a in 2) are arranged in the recognition area 51, the identification pattern data stored in the RAM is the identification patterns 17a and 20a.
Since the data has the shape indicated by a, the determination result in step a7 does not match. Therefore, in step a9, the positional relationship between the identification pattern 20a and the identification pattern 21a is determined based on all the identification pattern data stored in the ROM of the control means 44 in advance. In this case, it is determined that there is a shift in the X-axis direction. In step a5, the stage 32 moves in the X-axis direction by the length of the above-described recognition area 51 in the X-axis direction + T2. by this,
An area 51 a including the TFT element 4 a to be corrected and the identification patterns 17 a and 20 a of the TFT element 4 a is arranged in the recognition area 51.

【0047】また、図12に示されるように、座標
(2,3)のTFT素子4cと識別パターン18a,2
0aとが認識領域51に配置されたとすると、RAMに
記憶された識別パターンデータは17a,20aで示さ
れる形状のデータであることから、前記ステップa7で
の判断結果が一致しなくなる。このためステップa9で
は、制御手段44のROMに予め記憶される全識別パタ
ーンデータに基づいて、識別パターン17aと識別パタ
ーン18aとの位置関係が判断される。この場合、Y軸
方向にずれていると判断する。ステップa5では、ステ
ージ32がY軸方向に前述した認識領域51のY軸方向
の長さ+T1分だけ移動する。これによって修正すべき
TFT素子4aと当該TFT素子4aの識別パターン1
7a,20aとが含まれる領域51aが認識領域51に
配置される。
Further, as shown in FIG. 12, the TFT element 4c at the coordinates (2, 3) and the identification patterns 18a, 2
If 0a is located in the recognition area 51, the identification pattern data stored in the RAM is data of the shape indicated by 17a and 20a, and the determination result in step a7 does not match. Therefore, in step a9, the positional relationship between the identification pattern 17a and the identification pattern 18a is determined based on all the identification pattern data stored in the ROM of the control means 44 in advance. In this case, it is determined that there is a shift in the Y-axis direction. In step a5, the stage 32 moves in the Y-axis direction by the length of the above-described recognition area 51 in the Y-axis direction + T1. Thus, the TFT element 4a to be corrected and the identification pattern 1 of the TFT element 4a
An area 51 a including 7 a and 20 a is arranged in the recognition area 51.

【0048】ステージ32を移動したときに生じる絶対
誤差は、ステージ32の移動距離が長くなるにつれて大
きくなるので、修正すべきTFT素子が複数個あり、T
FT素子間の距離が比較的長い場合において、識別パタ
ーンが一致しなくなる割合が高くなる。この場合、上述
のようにして再度ステージ32を移動させることによっ
て、認識領域51に修正すべきTFT素子を配置するこ
とができる。なお、再度ステージ32を移動する場合の
ステージ32の移動距離は、認識領域51によって決ま
る長さであり、比較的短い。このため、移動時に生じる
絶対誤差も小さくなり、認識領域51に修正すべきでな
いTFT素子が配置されることはない。
The absolute error that occurs when moving the stage 32 increases as the moving distance of the stage 32 increases.
When the distance between the FT elements is relatively long, the rate at which the identification patterns do not match increases. In this case, by moving the stage 32 again as described above, the TFT element to be corrected can be arranged in the recognition area 51. The moving distance of the stage 32 when the stage 32 is moved again is a length determined by the recognition area 51 and is relatively short. For this reason, the absolute error generated at the time of movement is reduced, and the TFT element that should not be corrected is not arranged in the recognition area 51.

【0049】以上のようにTFT素子4を識別する識別
パターン16〜21が形成された液晶表示装置1を用い
ることによって、TFT素子4の修正時において、所定
の認識領域51に含まれるTFT素子4が修正すべき素
子であるか否かを判断することができるとともに、修正
すべきTFT素子4を認識領域51に配置するためのス
テージ32の移動方向を判断することができる。したが
って、TFT素子4の修正を確実に行うことができる。
このような方法で修正を行うことによって、従来技術の
ように極めて清潔な環境内に修正装置を配置することな
く、また頻繁なメンテナンスを必要とせずに、すなわち
手間と費用とを費やしてステージの移動精度をさらに向
上させることなく、確実に修正することができる。ま
た、ステージの移動量とずれ量との関係を調査すること
なく、容易に修正することができる。
By using the liquid crystal display device 1 in which the identification patterns 16 to 21 for identifying the TFT elements 4 are formed as described above, the TFT elements 4 included in the predetermined recognition area 51 are Can be determined whether or not is a device to be corrected, and the moving direction of the stage 32 for arranging the TFT device 4 to be corrected in the recognition area 51 can be determined. Therefore, the TFT element 4 can be surely corrected.
By performing the correction in this manner, the stage can be mounted without placing the correction device in a very clean environment as in the prior art and without requiring frequent maintenance, that is, at the expense of labor and cost. Correction can be made reliably without further improving the movement accuracy. Further, the correction can be easily made without investigating the relationship between the movement amount of the stage and the shift amount.

【0050】なお本実施例では、識別パターンとしてゲ
ートバスライン14に3種類、ソースバスライン15に
3種類の識別パターンをそれぞれ形成したけれども、3
種類以上であってもよく、隣接する識別パターンの種類
が互いに異なるように配置されていれば、上述したのと
同様の効果を得ることが可能である。
In this embodiment, three types of identification patterns are formed on the gate bus line 14 and three types of identification patterns are formed on the source bus line 15 as identification patterns.
The same effect as described above can be obtained as long as the types of adjacent identification patterns are different from each other.

【0051】なお、本実施例は修正装置31のステージ
32を移動したときの絶対誤差が、X軸方向にP2以下
であり、Y軸方向にP1以下である場合に適用されるも
のである。
The present embodiment is applied when the absolute error when the stage 32 of the correction device 31 is moved is P2 or less in the X-axis direction and P1 or less in the Y-axis direction.

【0052】[0052]

【0053】[0053]

【0054】なお、上述した実施例では、カラー表示を
行う液晶表示装置の例について説明したけれども、白黒
表示を行う液晶表示装置であっても同様の識別パターン
を形成することによって、同様の効果を得ることができ
る。
In the above-described embodiment, an example of a liquid crystal display device for performing color display has been described. However, even in a liquid crystal display device for performing black and white display, similar effects can be obtained by forming similar identification patterns. Obtainable.

【0055】[0055]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、複数のス
イッチング素子を有する液晶表示装置は、識別情報がス
イッチング素子の周辺に付され、当該識別情報によって
スイッチング素子を識別することができる。識別情報
は、たとえばスイッチング素子の周辺の電極配線に付さ
れる。また好ましくは、識別情報は少なくとも3種類で
あり、隣接する識別情報の種類が互いに異なるように付
される。このため、少なくとも隣接する3つのスイッチ
ング素子を識別することができる。
As described above, according to the present invention, in a liquid crystal display device having a plurality of switching elements, identification information is provided around the switching elements, and the switching elements can be identified by the identification information. The identification information is attached to, for example, electrode wiring around the switching element. Also preferably, there are at least three types of identification information, and the types of adjacent identification information are different from each other. Therefore, at least three adjacent switching elements can be identified.

【0056】また本発明によれば、識別情報を有する液
晶表示装置の修正時において、画像認識領域のスイッチ
ング素子が修正すべきスイッチング素子であるか否かが
前記識別情報によって判断されるとともに、修正すべき
スイッチング素子でなかったときには、隣接するスイッ
チング素子の識別情報から液晶表示装置が載置されるス
テージの移動方向が判断される。また、判断された方向
に平行な画像認識領域の長さ分だけステージが移動す
る。このようにステージを移動することによって画像認
識領域には修正すべきスイッチング素子と当該スイッチ
ング素子の識別情報とが配置される。したがって、スイ
ッチング素子の修正を容易にかつ確実に行うことができ
る。
Further, according to the present invention, when the liquid crystal display device having the identification information is corrected, whether or not the switching element in the image recognition area is the switching element to be corrected is determined based on the identification information. If the switching element is not the one to be switched, the moving direction of the stage on which the liquid crystal display device is mounted is determined from the identification information of the adjacent switching element. Also, the stage moves by the length of the image recognition area parallel to the determined direction. By moving the stage in this manner, a switching element to be corrected and identification information of the switching element are arranged in the image recognition area. Therefore, the switching element can be easily and reliably corrected.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例である液晶表示装置1の構成
を示す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a liquid crystal display device 1 according to an embodiment of the present invention.

【図2】前記液晶表示装置1を構成する一方基板部材1
0を示す平面図である。
FIG. 2 shows one substrate member 1 constituting the liquid crystal display device 1.
FIG.

【図3】前記一方基板部材10の1つのTFT素子4に
係る領域を拡大して示す平面図である。
FIG. 3 is an enlarged plan view showing a region relating to one TFT element 4 of the one substrate member 10;

【図4】前記一方基板部材10のTFT素子4を拡大し
て示す平面図である。
FIG. 4 is an enlarged plan view showing the TFT element 4 of the one-sided substrate member 10;

【図5】本発明に基づく液晶表示装置の修正装置31の
概略的構成を示す正面図である。
FIG. 5 is a front view showing a schematic configuration of a correction device 31 of the liquid crystal display device according to the present invention.

【図6】前記液晶表示装置の修正装置31の電気的構成
を示すブロック図である。
FIG. 6 is a block diagram showing an electrical configuration of the correction device 31 of the liquid crystal display device.

【図7】本発明に基づく液晶表示装置の修正方法を示す
フローチャートである。
FIG. 7 is a flowchart illustrating a method of correcting a liquid crystal display device according to the present invention.

【図8】修正すべき欠陥TFT素子4aを示す平面図で
ある。
FIG. 8 is a plan view showing a defective TFT element 4a to be corrected.

【図9】認識領域51を示す平面図である。FIG. 9 is a plan view showing a recognition area 51.

【図10】前記認識領域51の大きさを説明するための
図である。
FIG. 10 is a diagram for explaining the size of the recognition area 51;

【図11】識別パターンが一致していなかった場合の動
作を説明するための平面図である。
FIG. 11 is a plan view for explaining an operation when the identification patterns do not match.

【図12】識別パターンが一致していなかった場合の動
作を説明するための平面図である。
FIG. 12 is a plan view for explaining an operation when the identification patterns do not match.

【図13】複数のTFT素子104が設けられた従来の
液晶表示装置の一方基板部材101を示す平面図であ
る。
FIG. 13 is a plan view showing one substrate member 101 of a conventional liquid crystal display device provided with a plurality of TFT elements 104.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 液晶表示装置 2,6 透光性基板 3 絵素電極 4 TFT素子 5,9 配向膜 8 対向電極 12 液晶層 14 ゲートバスライン 15 ソースバスライン 16〜21 識別パターン 22 ゲート電極 23 ソース電極 24 ドレイン電極 25〜27 レーザ照射部 31 修正装置 32 ステージ 36 レーザ光源 37 光軸調整手段 42 画像読取手段 43 画像処理装置 44 制御手段 45 レーザ光源用電源 46 表示手段 47 操作手段 48 ステージ駆動手段 51 認識領域 Reference Signs List 1 liquid crystal display device 2, 6 translucent substrate 3 picture element electrode 4 TFT element 5, 9 alignment film 8 counter electrode 12 liquid crystal layer 14 gate bus line 15 source bus line 16 to 21 identification pattern 22 gate electrode 23 source electrode 24 drain Electrodes 25 to 27 Laser irradiation unit 31 Correction device 32 Stage 36 Laser light source 37 Optical axis adjustment unit 42 Image reading unit 43 Image processing unit 44 Control unit 45 Power supply for laser light source 46 Display unit 47 Operation unit 48 Stage driving unit 51 Recognition area

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02F 1/1368 G02F 1/13 101 G02F 1/1343 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) G02F 1/1368 G02F 1/13 101 G02F 1/1343

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 一対の透光性基板間に液晶層が介在さ
れ、 前記一対の透光性基板のうちのいずれか一方透光性基板
は、当該一方透光性基板の液晶層側に、マトリクス状に
配列される複数の絵素電極と、前記複数の絵素電極に与
えられる表示信号が印加される縦方向電極配線および横
方向電極配線と、複数の絵素電極に個別的に設けられ
て、前記表示信号を供給/遮断する複数のスイッチング
素子と、前記複数の絵素電極、電極配線および複数のス
イッチング素子を覆う配向膜とを少なくとも有し、 他方透光性基板は、当該他方透光性基板の液晶層側に、
前記複数の絵素電極に対向する対向電極と、前記対向電
極を覆う配向膜とを少なくとも有する液晶表示装置の修
正方法において、 縦方向および横方向電極配線のうちのいずれか一方の電
極配線には、各スイッチング素子付近の電極配線の幅方
向の両側を狭く加工し、この狭く加工した部分の有無ま
たは狭く加工した部分の長さに基づいて、スイッチング
素子を識別する第1識別情報が設けられ、 他方の電極配線には、各スイッチング素子付近の電極配
線の幅方向の一方側を狭く加工し、この狭く加工した部
分の有無または狭く加工した部分の数に基づいて、スイ
ッチング素子を識別する第2識別情報が設けられ、 前記第1識別情報は3種類あり、この3種類の第1識別
情報が、一方の電極配線に同じ順で繰返し配置され、 前記第2識別情報は3種類あり、この3種類の第2識別
情報が、他方の電極配線に同じ順で繰返し配置され、 スイッチング素子付近に形成される第1および第2識別
情報の9種類の組合わせに基づいて各スイッチング素子
が隣接するスイッチング素子から識別される液晶表示装
置を準備し、 予め前記液晶表示装置の欠陥検査を行って、欠陥スイッ
チング素子と当該スイッチング素子の第1および第2識
別情報とを検出し、 前記液晶表示装置を、当該液晶表示装置表面と平行に移
動するステージ上に載置し、 少なくとも1つのスイッチング素子と第1および第2識
別情報とを含む大きさに選ばれる画像認識領域に、前記
欠陥検査によって検出された欠陥スイッチング素子と当
該スイッチング素子の第1および第2識別情報とが含ま
れるように前記ステージを移動して、前記画像認識領域
の画像認識を行い、 前記画像認識によって得られた第1および第2識別情報
と、欠陥検査によって検出された欠陥スイッチング素子
の第1および第2識別情報とが一致している場合には、
前記画像認識領域のスイッチング素子に対してレーザ光
を照射して当該スイッチング素子の修正を行い、 一致していない場合には、欠陥スイッチング素子の第1
および第2識別情報、画像認識によって得られた第1お
よび第2識別情報、ならびに予め記憶される第1および
第2識別情報の配置順に基づいて判断される方向に、前
記方向に平行な画像認識領域長さ分だけ前記ステージを
移動することを特徴とする液晶表示装置の修正方法。
1. A liquid crystal layer is interposed between a pair of light-transmitting substrates, and one of the pair of light-transmitting substrates is provided on the liquid crystal layer side of the one light-transmitting substrate. A plurality of picture element electrodes arranged in a matrix; a vertical electrode wiring and a horizontal electrode wiring to which a display signal given to the plurality of picture element electrodes is applied; and a plurality of picture element electrodes individually provided for the plurality of picture element electrodes. And a plurality of switching elements for supplying / cutting off the display signal, and at least an orientation film covering the plurality of picture element electrodes, the electrode wiring, and the plurality of switching elements. On the liquid crystal layer side of the optical substrate,
In a method for repairing a liquid crystal display device having at least a counter electrode facing the plurality of picture element electrodes and an alignment film covering the counter electrode, one of the vertical and horizontal electrode wirings may be The first identification information for identifying the switching element is provided based on the presence or absence of the narrowed portion or the length of the narrowed portion, by narrowing both sides in the width direction of the electrode wiring near each switching element, On the other electrode wiring, one side in the width direction of the electrode wiring in the vicinity of each switching element is narrowed, and the second element for identifying the switching element is determined based on the presence or absence of the narrowed part or the number of the narrowed part. Identification information is provided; there are three types of the first identification information, and the three types of the first identification information are repeatedly arranged in one electrode wiring in the same order; Are three types, and these three types of second identification information are repeatedly arranged in the same order on the other electrode wiring, based on nine types of combinations of the first and second identification information formed near the switching element. A liquid crystal display device in which each switching element is identified from an adjacent switching element is prepared, and a defect inspection of the liquid crystal display device is performed in advance to detect a defective switching element and first and second identification information of the switching element. Placing the liquid crystal display device on a stage that moves in parallel with the surface of the liquid crystal display device, and in an image recognition area selected to have a size including at least one switching element and first and second identification information; The stage is moved to include the defective switching element detected by the defect inspection and the first and second identification information of the switching element. The first and second identification information obtained by the image recognition and the first and second identification information of the defect switching element detected by the defect inspection are compared with each other. If you have
The switching elements in the image recognition area are irradiated with laser light to correct the switching elements, and if they do not match, the first of the defective switching elements
Image recognition parallel to the direction determined based on the arrangement order of the first and second identification information, the first and second identification information obtained by the image recognition, and the pre-stored first and second identification information. A method of repairing a liquid crystal display device, wherein the stage is moved by an area length.
【請求項2】 一対の透光性基板間に液晶層が介在さ
れ、 前記一対の透光性基板のうちのいずれか一方透光性基板
は、当該一方透光性基板の液晶層側に、マトリクス状に
配列される複数の絵素電極と、前記複数の絵素電極に与
えられる表示信号が印加される縦方向電極配線および横
方向電極配線と、複数の絵素電極に個別的に設けられ
て、前記表示信号を供給/遮断する複数のスイッチング
素子と、前記複数の絵素電極、電極配線および複数のス
イッチング素子を覆う配向膜とを少なくとも有し、 他方透光性基板は、当該他方透光性基板の液晶層側に、
前記複数の絵素電極に対向する対向電極と、前記対向電
極を覆う配向膜とを少なくとも有する液晶表示装置の修
正装置において、 縦方向および横方向電極配線のうちのいずれか一方の電
極配線には、各スイッチング素子付近の電極配線の幅方
向の両側を狭く加工し、この狭く加工した部分の有無ま
たは狭く加工した部分の長さに基づいて、スイッチング
素子を識別する第1識別情報が設けられ、 他方の電極配線には、各スイッチング素子付近の電極配
線の幅方向の一方側を狭く加工し、この狭く加工した部
分の有無または狭く加工した部分の数に基づいて、スイ
ッチング素子を識別する第2識別情報が設けられ、 前記の第1識別情報は3種類あり、この3種類の第1識
別情報が、一方の電極配線に同じ順で繰返し配置され、 前記の第2識別情報は3種類あり、この3種類の第2識
別情報が、他方の電極配線に同じ順で繰返し配置され、 スイッチング素子付近に形成される第1および第2識別
情報の9種類の組合わせに基づいて各スイッチング素子
が隣接するスイッチング素子から識別される液晶表示装
置が載置され、当該液晶表示装置表面と平行に移動する
ステージと、 前記液晶表示装置に対して予め行われた欠陥検査によっ
て検出された欠陥スイッチング素子と、当該スイッチン
グ素子の第1および第2識別情報とが記憶される記憶手
段と、 前記ステージ上に載置された液晶表示装置の、少なくと
も1つのスイッチング素子分のスイッチング素子と第1
および第2識別情報とを含む大きさに選ばれる画像認識
領域の画像を読み取って画像認識を行う画像処理手段
と、 前記画像認識領域のスイッチング素子に対してレーザ光
を照射して、当該スイッチング素子の修正を行う修正手
段と、 前記画像認識によって得られた第1および第2識別情報
と前記記憶手段に記憶された第1および第2識別情報と
が一致していないときに、欠陥スイッチング素子の第1
および第2識別情報、画像認識によって得られた第1お
よび第2識別情報、ならびに予め記憶される第1および
第2識別情報の配置順に基づいて判断される方向に、前
記方向に平行な画像認識領域長さ分だけ前記ステージを
移動させる制御手段とを含むことを特徴とする液晶表示
装置の修正装置。
2. A liquid crystal layer is interposed between a pair of light-transmitting substrates, and one of the pair of light-transmitting substrates is provided on the liquid crystal layer side of the one light-transmitting substrate. A plurality of picture element electrodes arranged in a matrix; a vertical electrode wiring and a horizontal electrode wiring to which a display signal given to the plurality of picture element electrodes is applied; and a plurality of picture element electrodes individually provided for the plurality of picture element electrodes. And a plurality of switching elements for supplying / cutting off the display signal, and at least an orientation film covering the plurality of picture element electrodes, the electrode wiring, and the plurality of switching elements. On the liquid crystal layer side of the optical substrate,
In a correction device for a liquid crystal display device having at least an opposing electrode facing the plurality of picture element electrodes and an alignment film covering the opposing electrode, one of the vertical and horizontal electrode wirings may have The first identification information for identifying the switching element is provided based on the presence or absence of the narrowed portion or the length of the narrowed portion, by narrowing both sides in the width direction of the electrode wiring near each switching element, On the other electrode wiring, one side in the width direction of the electrode wiring in the vicinity of each switching element is narrowed, and the second element for identifying the switching element is determined based on the presence or absence of the narrowed part or the number of the narrowed part. Identification information is provided. There are three types of the first identification information, and the three types of first identification information are repeatedly arranged in one electrode wiring in the same order. There are three types of information, and these three types of second identification information are repeatedly arranged in the same order on the other electrode wiring, based on nine types of combinations of the first and second identification information formed near the switching element. A liquid crystal display device in which each switching element is identified from an adjacent switching element is mounted, and a stage that moves in parallel with the surface of the liquid crystal display device is detected by a defect inspection performed on the liquid crystal display device in advance. Defective switching element, storage means for storing first and second identification information of the switching element, and a switching element for at least one switching element of the liquid crystal display device mounted on the stage. 1
Image processing means for reading an image in an image recognition area selected to have a size including the second identification information and performing image recognition; and irradiating a switching element in the image recognition area with a laser beam, Correcting means for correcting the defective switching element when the first and second identification information obtained by the image recognition do not match the first and second identification information stored in the storage means. First
Image recognition parallel to the direction determined based on the arrangement order of the first and second identification information, the first and second identification information obtained by the image recognition, and the pre-stored first and second identification information. Control means for moving the stage by an area length.
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