KR101364179B1 - 화학플랜트용 열교환기 클리닝 방법 및 장치 - Google Patents

화학플랜트용 열교환기 클리닝 방법 및 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR101364179B1
KR101364179B1 KR1020130062393A KR20130062393A KR101364179B1 KR 101364179 B1 KR101364179 B1 KR 101364179B1 KR 1020130062393 A KR1020130062393 A KR 1020130062393A KR 20130062393 A KR20130062393 A KR 20130062393A KR 101364179 B1 KR101364179 B1 KR 101364179B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
heating
main housing
heat exchanger
unit
cleaning
Prior art date
Application number
KR1020130062393A
Other languages
English (en)
Inventor
선종철
Original Assignee
(주)썬켐
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)썬켐 filed Critical (주)썬켐
Priority to KR1020130062393A priority Critical patent/KR101364179B1/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101364179B1 publication Critical patent/KR101364179B1/ko

Links

Images

Classifications

    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F28—HEAT EXCHANGE IN GENERAL
    • F28G—CLEANING OF INTERNAL OR EXTERNAL SURFACES OF HEAT-EXCHANGE OR HEAT-TRANSFER CONDUITS, e.g. WATER TUBES OR BOILERS
    • F28G9/00—Cleaning by flushing or washing, e.g. with chemical solvents

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Production Of Liquid Hydrocarbon Mixture For Refining Petroleum (AREA)

Abstract

본 발명은 화학플랜트용 열교환기 클리닝 방법에 관한 것으로서, 처리대상 열교환기를 메인 하우징 내에 수납시키는 단계와, 메인 하우징 내에 질소가스를 공급하여 질소분위기에서 메인 하우징을 가열하여 열교환기에 부착된 오염물질을 열분해에 의해 제거하는 단계와, 열교환기를 세정액으로 세정하는 단계를 포함한다. 이러한 화학플랜트용 열교환기 클리닝 방법 및 장치에 의하면, 열처리법에 의한 열분해에 의해 열교환기의 외부 및 내부에 고착된 석유화합물의 잔유물을 제거할 수 있고, 질소 투입에 의해 가열과정에서의 위험발생이 억제되며, 산세정에 의한 산화스케일을 제거할 수 있어 원형 형태로 복원되게 이물질을 제거할 수 있는 장점을 제공한다.

Description

화학플랜트용 열교환기 클리닝 방법 및 장치{method of cleaning heat exchanger and apparatus thereof}
본 발명은 화학플랜트용 열교환기 클리닝 방법 및 장치에 관한 것으로서, 상세하게는 열교환기의 외부 및 내부에 부착된 오염물질의 제거효율을 높일 수 있는 화학플랜트용 열교환기 클리닝 방법 및 장치에 관한 것이다.
일반적으로 석유화학 플랜트의 제품생산 공정은 납사(나프타)를 주원료로 하여 각종 첨가물질을 합성하여 제품화하며 공정중의 온도 관리는 매우 중요하기 때문에 열교환기가 필수적으로 적용된다.
이러한 열교환기는 시간의 경과에 따라 열교환기의 외부 표면에는 오염물질이 열화 고착되고, 파이프 내면에는 열교환 유체의 종류에 따라 무기성 스케일, 녹 또는 유기성 물질이 부착된다.
이러한 열교환기의 내부 및 외부에 부착되는 오염물질은 열교환 효율을 저하시키기 때문에 주기적으로 부착된 오염물질을 제거해야 한다.
이러한 열교환기의 파이프 내부에 대한 세척방식으로서 국내 등록특허 제10-0225984호에는 세정 브러시를 이용하여 열교환기를 세정하는 장치가 개시되어 있다.
이러한 열교환기의 내부 세정에 대한 방식은 다양하게 제안되고 있으나, 열교환기 외부에 부착된 고착물은 단순히 고압수로 처리하는 방식을 적용하고 있어 오염물질을 완벽하게 제거하기 어려운 문제점이 있다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 개선하기 위하여 창안된 것으로서, 화학플랜트용 열교환기의 외부 및 내부에 고착된 이물질을 열분해와 세정액 처리에 의해 제거할 수 있는 화학플랜트용 열교환기 클리닝 방법 및 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
상기의 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 화학플랜트용 열교환기 클리닝 방법은 가. 처리대상 열교환기를 메인 하우징 내에 수납시키는 단계와; 나. 상기 메인 하우징 내에 질소가스를 공급하여 질소분위기에서 상기 메인 하우징을 가열하여 상기 열교환기에 부착된 오염물질을 열분해에 의해 제거하는 단계와; 다. 상기 열교환기를 세정액으로 세정하는 단계;를 포함한다.
바람직하게는 상기 나 단계는 550 내지 650℃로 설정된 목표온도까지 승온시키고, 상기 목표온도에 도달하면 1 내지 2시간 동안 목표온도를 유지시킨 다음 냉각한다.
또한, 상기 나 단계에서 시간당 50 내지 100℃로 설정된 승온속도로 상기 목표온도까지 승온시킨다.
더욱 바람직하게는 상기 다 단계는 다-1. 상기 메인 하우징 내로 상기 세정액을 투입하고, 설정된 시간 이후에 상기 세정액을 상기 메인 하우징으로부터 회수하는 단계와; 다-2. 상기 메인 하우징에 세척수를 투입하고, 설정된 시간 이후에 상기 세척수를 회수하는 단계;를 포함한다.
또한, 상기의 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 화학플랜트용 열교환기 클리닝 장치는 처리대상 열교환기를 수용할 수 있는 수용공간을 갖는 메인 하우징과; 상기 메인 하우징을 내부에 수용하며 상기 메인 하우징을 외부에서 가열할 수 있는 가열공간을 갖는 가열하우징과; 상기 가열 하우징의 가열공간 내를 가열하는 가열부와; 상기 메인 하우징 내로 공정 가스를 공급하는 가스 공급부와; 상기 메인 하우징 내부에서 상기 가열하우징 외부까지 연통되게 배관되어 상기 메인하우징에서 가열에 의해 발생되는 가열 가스를 배출하는 배출관과; 상기 배출관과 접속되어 상기 배출관을 통해 유입된 가스를 냉각하는 냉각부와; 상기 냉각부를 거쳐 유입된 오염물질을 정화처리하여 배출하는 정화 처리부;를 구비한다.
바람직하게는 상기 메인 하우징 내부로 상기 열교환기 내부를 화학적 세정처리에 의해 세척할 수 있는 세정액을 공급 및 회수 할 수 있도록 된 세정액 공급부;를 더 구비한다.
또한, 상기 가스 공급부는 상기 공정가스를 상기 가열하우징 외부까지 유입하는 유입관부분과, 상기 유입관 부분으로부터 연장되어 상기 가열하우징 내에 굴곡되게 배관되어 유입된 공정가스를 상기 가열하우징내에서의 가열에 의해 예열하는 예열관부분과, 상기 예열관부분으로부터 상기 메인 하우징 내부까지 연장된 토출관부분으로 된 메인 공급관과; 상기 메인 공급관을 통해 질소가스를 공급할 수 있도록 된 질소공급부와; 상기 메인 공급관을 통해 산소 또는 공기를 공급할 수 있도록 된 공기 공급기;를 구비한다.
또한, 상기 정화 처리부는 상기 냉각부를 거친 오염물질에 포함된 산성가스와 수용성가스를 반응수용액을 분무하여 흡수하는 스크러버와; 상기 스크러버를 거쳐 유입된 오염물질을 연소처리하는 연소부;을 구비하는 것이 바람직하다.
더욱 바람직하게는 상기 배출관을 통해 배출되는 기체에 포함된 산소농도를 검출하는 산소감지센서와; 상기 산소감지센서로부터 출력되는 산소농도정보를 이용하여 상기 메인 하우징에 산소가 잔류하지 않을 때까지 상기 질소가스가 상기 메인 하우징에 공급되도록 상기 가스 공급부를 제어하면서 상기 가열부의 가열온도를 설정된 승온패턴에 따라 조정되게 상기 가열부를 제어하며, 상기 가열부의 감온모드 또는 가열중지시에는 상기 메인 하우징에 공기 또는 산소가 공급되게 상기 공기공급기를 제어하는 제어부;를 구비한다.
본 발명에 따른 화학플랜트용 열교환기 클리닝 방법 및 장치에 의하면, 열교환기의 외부 및 내부에 고착된 이물질을 열분해와 화학적 세정에 의해 제거효율을 높일 수 있다.
도 1은 본 발명에 따른 화학플랜트용 열교환기 클리닝 장치를 나타내 보인 도면이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하면서 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 화학플랜트용 열교환기 클리닝 방법 및 장치를 더욱 상세하게 설명한다.
먼저, 본 발명에 따른 열교환기 클리닝 방법은 처리대상 열교환기를 메인 하우징 내에 수납시키고, 메인 하우징 내에 질소가스를 공급하여 질소분위기에서 메인 하우징을 가열하여 열교환기에 부착된 오염물질을 열분해에 의해 제거한다.
여기서, 가열은 550 내지 650℃로 설정된 목표온도까지 승온시키고, 목표온도에 도달하면 1 내지 2시간 동안 목표온도를 유지시킨 다음 냉각하는 과정을 거친다.
또한, 승온시 시간당 50 내지 100℃로 설정된 승온속도로 목표온도까지 승온시키는 것이 바람직하다.
이러한 열분해 공정 열처리법에 의한 열분해에 의해 열교환기의 외부 및 내부에 고착된 석유화합물의 잔유물을 제거할 수 있고, 질소 투입에 의해 가열과정에서의 폭발위험이 억제된다.
이후, 열교환기를 세정액으로 세정하는 과정을 거친다.
세정과정은 메인 하우징 내로 세정액을 투입하고, 설정된 시간 이후에 세정액을 메인 하우징으로부터 회수한 후, 메인 하우징에 세척수를 투입하고, 설정된 시간 이후에 세척수를 회수하는 과정을 거치는 것이 바람직하다.
이하에서는 도 1을 참조하여 이러한 클리닝 방법을 수행할 수 있도록 된 클리닝 장치를 통해 더욱 상세하게 설명한다.
도 1은 본 발명에 따른 화학플랜트용 열교환기 클리닝 장치를 나타내 보인 도면이다.
도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 화학플랜트용 열교환기 클리닝 장치(100)는 메인 하우징(110), 가열 하우징(120), 가열부(130), 가스공급부, 배출관(161), 냉각부(165), 정화처리부(180)를 구비한다.
메인 하우징(110)은 처리대상 열교환기(200)를 수용할 수 있는 수용공간(113)을 갖는 구조로 되어 있다.
메인 하우징(110)은 열분해 공정시 적용되는 가열온도와 산세정액에 공통으로 견딜수 있는 스텐레스 316 재질로 형성하는 것이 바람직하다.
메인 하우징(110)은 상부가 개방되어 열교환기(200)를 내부에 수용할 수 있는 수용공간(113)을 형성하는 하부 메인 하우징(110a)과, 하부 메인하우징(110a)의 상부를 폐쇄할 수 있게 하부 메인 하우징(110a)과 분리된 상부 메인 하우징(110b)으로 형성되어 있다.
여기서 상부 메인 하우징(110b)은 후술되는 가열 하우징(120)의 상부 덮개(120b)의 내부 하측에 일체로 형성되어 있다.
가열 하우징(120)은 메인 하우징(110)을 내부에 수용하며 메인 하우징(110)을 외부에서 가열할 수 있는 가열공간(123)을 갖게 형성되어 있다.
가열하우징(120)은 상부가 개방되어 메인 하우징(110)을 내부에 수용할 수 있는 가열공간(123)을 형성하는 하부 가열 하우징(120a)과, 하부 가열하우징(120a)의 상부를 폐쇄할 수 있게 하부 하부가열 하우징(120a)과 분리된 상부 가열 하우징(120b)으로 형성되어 있다.
하부 가열 하우징(120a)의 내부 바닥면에서 일정높이로 하부 메인하우징(110)을 이격되게 지지할 수 있는 지지체(125)가 형성되어 있다.
참조부호 127은 가열 하우징(120)의 내벽에 결합된 단열층으로 세라믹단열소재로 형성하면 된다.
가열부(130)는 가열 하우징(120)의 가열공간(123) 내를 가열한다.
가열부(130)는 가열 하우징(120) 외부에 장착된 가열 본체(131)와, 가열본체(131)로부터 가열공간(123) 내로 연장되어 공급된 연료를 연소시켜 가열 하우징 내부를 가열하는 연소관(132)으로 되어 있다.
도시된 예와 다르게 가열부(130)는 전기열선에 의한 히팅방식 등 다른 가열방식이 적용될 수 있음은 물론이다.
가열부(130)는 후술되는 제어부(191)에 의해 구동이 제어된다.
가스공급부는 메인 하우징(110)의 수용공간(113) 내로 공정 가스를 공급할 수 있도록 되어 있다.
가스 공급부는 메인 공급관(151), 질소공급부 및 공기 공급기(157)를 구비한다.
질소공급부는 메인 공급관(151)을 통해 질소가스를 공급할 수 있도록 되어 있고, 액화 질소가 저장된 질소탱크(153)와, 질소탱크(153)에서 메인 공급관(151)으로 이어지는 질소공급 경로상에 설치되어 액화질소를 기화하는 기화기(154)가 적용되었다.
여기서 질소공급부에 의해 메인 하우징(110) 내부로 공급되는 불활성가스인 질소가스는 메인 하우징(110) 내부에서 열처리 과정에서 배출되는 가스에 의한 발화 또는 폭발을 방지하기 위해 메인 하우징(110) 내로 공급하기 위한 것이다.
메인공급관(151)은 기화기(154)로부터 가열하우징(120) 외부까지 연장된 유입관부분(151a)과, 유입관 부분(151a)으로부터 연장되어 가열하우징(120)의 가열공간(123) 내에 'U'자 형태로 굴곡되게 배관되어 유입된 공정가스를 가열공간(123)내에서의 가열에 의해 예열하는 예열관부분(151b)과, 예열관부분(151b)으로부터 메인 하우징(110) 내부까지 연장된 토출관부분(151c)을 갖는 구조로 되어 있다.
예열관부분(151b)은 'U'자 형태 이외의 다양한 형태로 가스의 체류시간을 확보할 수 있는 구조로 형성될 수 있음은 물론이다.
공기 공급기(157)는 메인 공급관(151)의 유입관 부분(151a)과 접속된 분기관을 통해 공기를 공급할 수 있도록 되어 있다.
배출관(161)은 메인 하우징(110) 내부에서 가열하우징(120) 외부까지 연통되게 배관되어 메인하우징(110)에서 가열에 의해 발생되는 가열 가스를 배출할 수 있도록 되어 있다.
드레인관(163)은 메인 하우징(110)의 바닥면으로부터 가열 하우징(120) 하부를 통해 외부까지 연장되게 설치되어 메인 하우징(110) 내에 잔류하는 제거대상 오염액을 수거통(164)을 통해 수거할 수 있도록 되어 있다.
참조부호 101은 드레인관(163)을 개폐하는 밸브이다.
냉각부(165)는 배출관(161)과 접속되어 배출관(161)을 통해 유입된 가스를 냉각하며, 공냉식 또는 수냉식 등 다양한 방식으로 형성될 수 있다.
정화처리부(180)는 냉각부(165)를 거쳐 유입된 오염물질을 정화처리하여 배출한다.
정화 처리부(180)는 스크러버(182)와 연소부(185)로 되어 있다.
스크러버(182)는 냉각부(165)를 거친 오염물질에 포함된 산성가스와 수용성가스를 반응수용액 예를 들면 알칼리 수용액을 분무하여 흡수 및 중화처리한다.
스크러버(182)는 저수조(183)에 저수된 반응 수용액을 노즐(184)을 통해 분사할 수 있도록 되어 있다.
연소부(185)는 스크러버를 통과한 오염물질 즉, 기체를 850℃ 이상 바람직하게는 850 내지 900℃의 고온으로 기체를 직화방식의 연소에 의해 유해가스를 제거할 수 있도록 되어 있다.
정화처리부(180)는 스크러버(182)와 연소부(185) 대신 유해가스를 활성탄에 의해 필터링할 수 있도록 된 활성탄 흡착탑으로 대체될 수 있다.
한편, 세정액 공급부는 메인 하우징(110) 내부로 열교환기(200) 내부를 화학적 세정처리에 의해 세척할 수 있는 세정액을 공급 및 회수 할 수 있도록 되어 있다.
세정액 공급부는 산성의 세정액이 저수된 제1저장조(171)와, 산성의 세정액을 중화할 수 있는 중화용수 또는 세척수가 저장된 제2저장조(173)가 마련되어 있고, 제1저장조(171)와 제2저장조(172)는 메인 하우징(110) 내부로 연장된 세정액 공급관(174)을 통해 공급대상액을 공급 및 회수 할 수 있도록 배관되어 있다.
적용되는 열교환기(200)가 스테인레스 스틸재질인 경우 제1저장조(170)에 수수용되는 세정액은 탄화물, 무기성 스케일제거 및 부동태화처리를 위해 스테인레스 산처리용액을 적용하고, 카본 스틸재질인 경우 인히비터가 포함된 카본스틸용 탈청제를 적용한다.
또한, 열교환기(200)가 카본스틸소재인 경우 중화 방청제를 세척수로 적용한다.
참조부호 175 및 176은 세정액 공급관(174) 방향으로 펌핑하는 펌핑 펌프이고, 참조부호 177 및 178은 세정액 공급관(175)으로부터 제1저장조(171)와 제2저장조(173) 방향으로 회수할 수 있게 펌핑하는 회수 펌수이다.
산소감지센서(193)는 배출관(161)으로부터 정화처리부(180)로 이어지는 배관상에 설치되어 배출되는 기체에 포함된 산소농도를 검출하여 제어부(191)에 제공한다.
제어부(191)는 산소감지센서(193)로부터 출력되는 산소농도정보를 이용하여 가열부(130)의 가동 이전에 메인 하우징(110)에 산소가 잔류하지 않을 때까지 질소가스가 메인 하우징(110)에 공급되도록 가스 공급부를 제어하면서 가열부(130)의 가열온도를 설정된 승온패턴에 따라 조정되게 가열부(130)를 제어하며, 가열부(130)의 가열에 의한 열분해 과정이 끝나면, 메인 하우징(110)에 공기가 공급되게 공기공급기(157)를 제어한다. 이와는 다르게, 가열부(130)에 의한 열분해 과정이 끝나도 계속해서 질소를 공급할 수도 있다.
입력부(195)는 세정 조건, 가동시작 등 지원되는 조건을 설정할 수 있도록 되어 있다.
표시부(196)는 제어부(191)에 제어되어 표시정보를 표시한다.
온도센서(198)는 가열하우징 내부의 가열온도를 검출하여 제어부(191)에 제공한다.
이하에서는 이러한 열교환기 클리닝 장치(100)의 열교환기 클리닝 과정을 설명한다.
먼저, 메인 하우징(110) 내에 처리대상 열교환기(200)를 수납하고, 가스공급부로부터 메인 하우징(110)내로 질소가스를 공급한다.
즉, 메인 하우징(110) 내에 열교환기(200)를 수납시킨 다음 메인하우징(110) 및 가열 하우징(120)이 폐쇄되게 처리한 다음 입력부(195)로부터 가동시작 입력신호가 수신되면, 질소탱크(153)에 저장된 액화질소가 기화기(154)를 거쳐 메인 공급관(151)을 통해 공급되게 제어한다.
이러한 질소공급과정을 통해 제어부(191)는 산소감지센서(193)를 통해 제공되는 정보를 이용하여 배출관(161)을 통해 배출되는 가스 내에 산소가 검출되지 않을 때까지 대기한 후 산소가 검출되지 않으면, 가열부(130)를 가동되게 제어하여 설정된 승온패턴에 따라 승온하면서 목표온도까지 가열한다.
또한, 목표온도를 설정된 유지시간동안 유지한 후, 감온한다.
여기서, 가열 승온패턴은 승온속도를 시간당 120℃ 미만, 바람직하게는 시간당 50 내지 100℃ 범위내에서 설정된 승온속도에 따라 550 내지 650℃ 범위내에서 설정된 목표 온도에 도달할 때까지 승온시키고, 목표온도에 도달하면 목표온도를 1시간 내지 2시간 유지하는 등온유지구간과, 등온유지구간 이후에 서서히 냉각되는 감온모드를 수행하도록 설정되는 것이 바람직하다.
여기서 감온모드는 감온속도가 시간당 180℃ 이상 감온되지 않게 설정하는 것이 바람직하다.
한편, 가열부(130)의 가동에 의해 승온시 메인 하우징(110) 내에 생성되는 액상의 열분해물은 드레인관(163)을 통해 배출되도록 밸브(101)를 개방시킨다.
또한, 공정시작과 동시에 정화처리부(180)를 가동하여 오염가스를 처리하고, 이후, 가열부(130)의 가동에 의한 열분해 공정이 끝나면, 제1저장조(171)에 저수된 세정액을 메인 하우징(110)에 공급하여 세정하고, 세정액을 다시 회수한 후 제2저장조(173)에 저수된 세척수를 메인 하우징(110)에 공급하고, 회수하도록 제어부(191)에 의해 수행된다. 이후 메인 하우징(110)을 분리하여, 열교환기(200)를 필요시 고압수로 세척한 후 건조시키면 된다.
여기서, 가열부(130)의 가열에 의한 열분해 공정 이후 질소 대신 공기 또는 산소를 메인 하우징(110) 공급하면, 열교환기(200) 표면에 가열과정에 의해 생성된 얇은 탄화물 막을 회분상태로 치환할 수 있고, 이 경우 후속공정인 세정액 처리과정에서 박리효율을 높일 수 있다.
110: 메인 하우징 120: 가열 하우징
130: 가열부 161: 배출관
165: 냉각부 180: 정화처리부

Claims (9)

  1. 가. 처리대상 열교환기를 메인 하우징 내에 수납시키는 단계와;
    나. 상기 메인 하우징 내에 질소가스를 공급하여 질소분위기에서 상기 메인 하우징을 가열하여 상기 열교환기에 부착된 오염물질을 열분해에 의해 제거하는 단계와;
    다. 상기 열교환기를 세정액으로 세정하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 화학플랜트용 열교환기의 클리닝 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 나 단계는 550 내지 650℃로 설정된 목표온도까지 승온시키고, 상기 목표온도에 도달하면 1 내지 2시간 동안 목표온도를 유지시킨 다음 냉각하는 것을 특징으로 하는 화학플랜트용 열교환기의 클리닝 방법.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 나 단계에서 시간당 50 내지 100℃로 설정된 승온속도로 상기 목표온도까지 승온시키는 것을 특징으로 하는 화학플랜트용 열교환기의 클리닝 방법.
  4. 제1항에 있어서, 상기 다 단계는
    다-1. 상기 메인 하우징 내로 상기 세정액을 투입하고, 설정된 시간 이후에 상기 세정액을 상기 메인 하우징으로부터 회수하는 단계와;
    다-2. 상기 메인 하우징에 세척수를 투입하고, 설정된 시간 이후에 상기 세척수를 회수하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 화학플랜트용 열교환기의 클리닝 방법.
  5. 처리대상 열교환기를 수용할 수 있는 수용공간을 갖는 메인 하우징과;
    상기 메인 하우징을 내부에 수용하며 상기 메인 하우징을 외부에서 가열할 수 있는 가열공간을 갖는 가열하우징과;
    상기 가열 하우징의 가열공간 내를 가열하는 가열부와;
    상기 메인 하우징 내로 공정 가스를 공급하는 가스 공급부와;
    상기 메인 하우징 내부에서 상기 가열하우징 외부까지 연통되게 배관되어 상기 메인하우징에서 가열에 의해 발생되는 가열 가스를 배출하는 배출관과;
    상기 배출관과 접속되어 상기 배출관을 통해 유입된 가스를 냉각하는 냉각부와;
    상기 냉각부를 거쳐 유입된 오염물질을 정화처리하여 배출하는 정화 처리부;를 구비하는 것을 특징으로 하는 화학플랜트용 열교환기 클리닝 장치.
  6. 제5항에 있어서, 상기 메인 하우징 내부로 상기 열교환기 내부를 화학적 세정처리에 의해 세척할 수 있는 세정액을 공급 및 회수 할 수 있도록 된 세정액 공급부;를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 화학플랜트용 열교환기 클리닝 장치.
  7. 제6항에 있어서, 상기 가스 공급부는
    상기 공정가스를 상기 가열하우징 외부까지 유입하는 유입관부분과, 상기 유입관 부분으로부터 연장되어 상기 가열하우징 내에 굴곡되게 배관되어 유입된 공정가스를 상기 가열하우징내에서의 가열에 의해 예열하는 예열관부분과, 상기 예열관부분으로부터 상기 메인 하우징 내부까지 연장된 토출관부분으로 된 메인 공급관과;
    상기 메인 공급관을 통해 질소가스를 공급할 수 있도록 된 질소공급부와;
    상기 메인 공급관을 통해 산소 또는 공기를 공급할 수 있도록 된 공기 공급기;를 구비하는 것을 특징으로 하는 화학플랜트용 열교환기 클리닝 장치.
  8. 제7항에 있어서, 상기 정화 처리부는
    상기 냉각부를 거친 오염물질에 포함된 산성가스와 수용성가스를 반응수용액을 분무하여 흡수하는 스크러버와;
    상기 스크러버를 거쳐 유입된 오염물질을 연소처리하는 연소부;을 구비하는 것을 특징으로 하는 화학플랜트용 열교환기 클리닝 장치.
  9. 제8항에 있어서, 상기 배출관을 통해 배출되는 기체에 포함된 산소농도를 검출하는 산소감지센서와;
    상기 산소감지센서로부터 출력되는 산소농도정보를 이용하여 상기 메인 하우징에 산소가 잔류하지 않을 때까지 상기 질소가스가 상기 메인 하우징에 공급되도록 상기 가스 공급부를 제어하면서 상기 가열부의 가열온도를 설정된 승온패턴에 따라 조정되게 상기 가열부를 제어하며, 상기 가열부의 감온모드 또는 가열중지시에는 상기 메인 하우징에 공기 또는 산소가 공급되게 상기 공기공급기를 제어하는 제어부;를 구비하는 것을 특징으로 하는 화학플랜트용 열교환기 클리닝 장치.
KR1020130062393A 2013-05-31 2013-05-31 화학플랜트용 열교환기 클리닝 방법 및 장치 KR101364179B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020130062393A KR101364179B1 (ko) 2013-05-31 2013-05-31 화학플랜트용 열교환기 클리닝 방법 및 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020130062393A KR101364179B1 (ko) 2013-05-31 2013-05-31 화학플랜트용 열교환기 클리닝 방법 및 장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR101364179B1 true KR101364179B1 (ko) 2014-02-18

Family

ID=50271284

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020130062393A KR101364179B1 (ko) 2013-05-31 2013-05-31 화학플랜트용 열교환기 클리닝 방법 및 장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101364179B1 (ko)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1114296A (ja) * 1997-06-20 1999-01-22 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The プレート式熱交換器の清浄方法
JP2005521021A (ja) * 2002-03-15 2005-07-14 アンスティテュ フランセ デュ ペトロール 熱交換器内のカーボン沈着物の少なくとも部分的な除去のための方法
KR20100048213A (ko) * 2008-10-30 2010-05-11 김재용 가스 스크러버

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1114296A (ja) * 1997-06-20 1999-01-22 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The プレート式熱交換器の清浄方法
JP2005521021A (ja) * 2002-03-15 2005-07-14 アンスティテュ フランセ デュ ペトロール 熱交換器内のカーボン沈着物の少なくとも部分的な除去のための方法
KR20100048213A (ko) * 2008-10-30 2010-05-11 김재용 가스 스크러버

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100766749B1 (ko) 과불화화합물 가스를 포함하는 대용량 배기가스 처리방법및 그 처리장치
JP5946097B2 (ja) Ｃｌａｕｓプラントにおいて液体硫黄を凝縮、分離および貯留する装置および方法
TW200727325A (en) Method of treating a gas stream
RU2004116274A (ru) Способ и установка для обработки отходящих газов, содержащих углеводороды
KR101936548B1 (ko) 폐액 재생장치
SI1953130T1 (sl) Postopek in naprava za ravnanje s surovimi plini, ki vsebujejo metan in ogljikov dioksid, zlasti bioplinom, za pridobivanje metana
EP2361668B1 (en) Apparatus for purifying industrial exhaust gas
CN109205728A (zh) 一种活性炭吸附溶于水中有机物以及吸附饱和后活性炭原位脱附再生的工艺以及设备
KR101364179B1 (ko) 화학플랜트용 열교환기 클리닝 방법 및 장치
CN203470007U (zh) Scr脱硝系统催化剂再生设备
MXPA00010425A (es) Proceso para desclorar y desincrustar aceite.
JP2017124345A (ja) 排ガス除害装置
US20110206582A1 (en) Gas scrubbing apparatus and gas scrubbing method
JP2012508099A (ja) タンクの洗浄方法
KR100328632B1 (ko) 복합 가스 스크러버 시스템
KR101224725B1 (ko) 방사성 액체폐기물 처리방법 및 장치
KR101758108B1 (ko) 촉매식 폐가스 처리 장치 및 방법
EA201990829A1 (ru) Способ и установка для термического устранения зловонных выбросов от очистной установки с рекуперацией энергии от указанного устранения
KR101246352B1 (ko) 기상용 활성탄 재생장치
KR100664805B1 (ko) 가스 스크러버의 폐가스 처리장치 및 방법
JP6414470B2 (ja) 水処理装置
KR101113957B1 (ko) 과불화물 처리장치
KR101415375B1 (ko) 가스정화장치
JP5793786B2 (ja) 被処理物加熱加圧システム
JP6443142B2 (ja) 担持型水素添加触媒の取り出し方法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
A302 Request for accelerated examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
LAPS Lapse due to unpaid annual fee