KR101346105B1 - 폐슬러리에 포함된 고형분 및 오일 분리방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 폐슬러리에 포함된 고형분 및 오일 분리방법에 관한 것으로서, 고형분과 액체로 구성된 폐슬러리를 원심분리기를 이용하여 원심분리하여 고형분의 함량을 3 ∼ 8 질량％로 낮춘 제1폐슬러리를 얻는 제1단계와; 고형분의 함량이 3 ∼ 8 질량％인 상기 제1폐슬러리를 혼합조에 수용하는 제2단계; 상기 혼합조에 수용된 제1폐슬러리에 물을 추가하여 제2폐슬러리를 생성하는 제3단계; 상기 제2폐슬러리를 정해진 온도가 되도록 가열하는 제4단계; 상기 제4단계에서 제2폐슬러리가 정해진 온도가 되면, 상기 제2폐슬러리에 NaOH 또는 KOH를 투입하여 상기 제2폐슬러리에 포함되어있는 수㎚ ∼ 1㎛의 입도크기를 가진 미분형태의 고형분과 반응시켜서 고형분을 응집 및 부유시키는 제5단계; 및 상기 응집 및 부유된 고형분을 제거하여 오일을 회수하는 제6단계;를 포함하여 이루어진다.
본 발명에 따르면 원심분리기로 더 이상 분리가 어려운 미분을 포함하는 웨이퍼 제조 공정에서 발생하는 폐슬러지에서 고형분과 오일을 분리하는 것이 가능하고, 상기 미분이 0.1 질량％ 이하로 포함된 품질 좋은 오일을 회수하는 것이 가능하다. 또한 증류방식으로 오일을 회수하는 기술에 비해 수율이 2배 이상이고, 공정시간이 절반 이하로 줄며, 공정비용은 30％수준으로 줄어들어 효율 및 비용절감을 극대화할 수 있다.

Description

폐슬러리에 포함된 고형분 및 오일 분리방법{Method for Separating Solid Content and Oil Comprised in Used Slurry}
본 발명은 실리콘 반도체 웨이퍼 제조 기술에 관한 것이며, 더욱 상세히는 실리콘 반도체 웨이퍼를 제조하는 과정 중에 회수되는 폐슬러리에 포함된 고형분 및 오일을 분리하는 방법에 관한 것이다.
일반적으로, 실리콘 반도체 웨이퍼는 실리콘(Si) 원료를 퍼니스(furnace) 내에 투입한 후 단결정 혹은 다결정 성장을 통하여 고순도의 실리콘 잉곳 형태로 만든 다음 이 실리콘 잉곳을 규격에 맞게 와이어 소(Wire Saw)를 이용하여 절단하고 그 표면의 이물질을 제거함으로써 제조한다.
상기 실리콘 잉곳을 와이어 소로 절단할 때에는 화학적 연마와 기계적 연마를 동시에 수행하여 웨이퍼의 평탄도를 높이기 위해 그 절단부위에 연마재와 절삭유 등의 혼합물로 된 슬러리를 공급하며, 상기 연마재로는 실리콘카바이드(SiC)가 주로 사용되고 상기 절삭유로는 디에틸렌글리콜(DEG; Diethylene glycol)에 첨가제(예컨대, 계면활성제, 분산제 등)를 혼합한 DEG 절삭유나, 폴리에틸렌글리콜(PEG; Polyethylene glycol)에 첨가제(예컨대, 계면활성제, 분산제 등)를 혼합한 PEG 절삭유가 주로 사용된다.
또한 상기 실리콘 잉곳의 절삭과정에서 사용되는 와이어 소는 정해진 두께가 있기 때문에, 실리콘 잉곳의 상당량이 절삭과정 동안에 절삭분으로 발생된다.
상기와 같이 실리콘 반도체 웨이퍼 절단작업 또는 연마작업 중에 사용된 슬러리는 폐슬러리로 회수되며, 이 폐슬러리는 연마재, 절삭유, 실리콘 분말이나 와이어 소 분말과 같은 절삭분 등을 포함한다.
상기와 같이 회수된 폐슬러리는 시멘트로 고형화되어 매립되거나, 혹은 원심분리에 의한 방법으로 그 내용물 중 일부가 추출되어 재활용되고, 오일 역시 회수되어 재활용된다.
하지만 종래의 공지된 방식(예컨대, 필터방식, 증류방식 등)을 이용하여 오일에서 고형분을 추출하여 제거하는 방법은 고에너지가 소요되는 고가의 시설이 필요할 뿐 아니라, 폐슬러리에 포함된 미분(수㎚ ∼ 1㎛의 입도 크기를 가진 고형분)까지 분리하기가 어려웠다.
대한민국 등록특허 10-1047377 (2011.07.01. 등록) 대한민국 등록특허 10-1047383 (2011.07.01. 등록)
본 발명은 상기한 바와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명의 목적은 실리콘 반도체 웨이퍼 제조 공정에서 발생하는 폐슬러리를 고액분리하여 분리된 제1폐슬러리에 물을 첨가하여 가열한 후 고형분과 오일로 분리하되, 화학적인 반응을 통해 오일 내부에 포함된 미분까지도 저비용으로 분리하여, 보다 좋은 품질의 오일을 얻을 수 있는 폐슬러리에 포함된 고형분 및 오일 분리방법을 제공하는 것이다.
상기한 바와 같은 본 발명의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 폐슬러리에 포함된 고형분 및 오일 분리방법은, 10 ∼ 30 질량％의 고형분과 70 ∼ 90 질량％의 액체로 구성된 폐슬러리를 원심분리기를 이용하여 원심분리하여 고형분의 함량을 3 ∼ 8 질량％로 낮춘 제1폐슬러리를 얻는 제1단계와; 고형분의 함량이 3 ∼ 8 질량％인 상기 제1폐슬러리를 혼합조에 수용하는 제2단계; 상기 혼합조에 수용된 제1폐슬러리에 물을 추가시키고 교반하여 제2폐슬러리를 생성하는 제3단계; 상기 제2폐슬러리를 정해진 온도가 되도록 가열하는 제4단계; 상기 제4단계에서 제2폐슬러리가 정해진 온도가 되면, 상기 제2폐슬러리에 NaOH 또는 KOH를 투입하고 교반하여 상기 제2폐슬러리에 포함되어있는 수㎚ ∼ 1㎛의 입도크기를 가진 미분형태의 고형분과 반응시켜서 고형분을 응집 및 부유시키는 제5단계; 및 상기 응집 및 부유된 고형분을 제거하여 오일을 회수하는 제6단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 폐슬러리에 포함된 고형분 및 오일 분리방법에 있어서, 상기 제3단계 완료 후 제4단계 전에 혼합조 내측 상부에, 응집 및 부유된 고형분을 제거하기 위한 그물망을 배치하는 단계를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 폐슬러리에 포함된 고형분 및 오일 분리방법에 있어서, 상기 제1단계에서 원심분리는 3500 ∼ 4500rpm, 40 ∼ 55℃에서 이루어지는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 폐슬러리에 포함된 고형분 및 오일 분리방법에 있어서, 상기 제3단계에서 제2폐슬러리의 물의 함량이 3 ∼ 30 질량％가 되도록 물을 추가하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 폐슬러리에 포함된 고형분 및 오일 분리방법에 있어서, 상기 제4단계는 상기 제2폐슬러리를 25 ∼ 65℃로 가열하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 폐슬러리에 포함된 고형분 및 오일 분리방법에 있어서, 상기 제5단계는 제2폐슬러리에 NaOH를 질량비 100 : 0.3 ∼ 3 투입하거나, 또는 제2폐슬러리에 KOH를 질량비 100 : 0.3 ∼ 3 투입하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따르면 원심분리기로 더 이상 분리가 어려운 미분(수㎚ ∼ 1㎛의 입도 크기를 가진 고형분)을 포함하는 웨이퍼 제조 공정에서 발생하는 폐슬러지에서 고형분과 오일을 분리하는 것이 가능하고, 상기 미분이 0.1 질량％ 이하로 포함된 고순도의 품질 좋은 오일을 회수하는 것이 가능하다.
또한 증류방식으로 오일을 회수하는 기술에 비해 수율이 2배 이상이고, 공정시간이 절반 이하로 줄며, 공정비용은 30％수준으로 줄어들어 효율 및 비용절감을 극대화할 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예를 나타낸 블록도.
이하, 본 발명의 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 더욱 상세하게 설명한다.
본 발명에 따른 폐슬러리에 포함된 고형분 및 오일 분리방법은 실리콘 반도체 웨이퍼 제조 공정 중에 발생하는 폐슬러리를 고형분과 오일로 분리하기 위한 것으로, 상기 폐슬러리는 통상적으로 고형분 10 ∼ 30 질량％와 액체 70 ∼ 90 질량％ 포함되어 있으나 정해진 것은 아니다.
그리고 상기 고형분은 실리콘 반도체 웨이퍼를 절삭 또는 연마하는 과정에서 절삭재의 종류에 따라 실리콘카바이드(SiC), 실리콘(Si), 실리카(SiO2), 기타 금속(Metal)류 등이 포함되어 있으며, 상기 오일은 수용성 오일로 DEG 절삭유, PEG 절삭유, PG 절삭유 등이 단독 또는 혼합사용되고 계면활성제, 분산제, 소포제 등의 첨가제가 포함될 수 있다.
도 1을 참조하면 10 ∼ 30 질량％의 고형분과 70 ∼ 90 질량％의 액체로 구성된 폐슬러리를 원심분리기를 이용하여 원심분리하여 고형분의 함량을 3 ∼ 8 질량％로 낮춘 제1폐슬러리를 얻는 제1단계(S10)와; 고형분의 함량이 3 ∼ 8 질량％인 상기 제1폐슬러리를 혼합조에 수용하는 제2단계(S20); 상기 혼합조에 수용된 제1폐슬러리에 물을 추가시키고 교반하여 제2폐슬러리를 생성하는 제3단계(S30); 상기 제2폐슬러리를 정해진 온도가 되도록 가열하는 제4단계(S40); 상기 제4단계(S40)에서 제2폐슬러리가 정해진 온도가 되면, 상기 제2폐슬러리에 NaOH 또는 KOH를 투입하고 교반하여 상기 제2폐슬러리에 포함되어있는 수㎚ ∼ 1㎛의 입도크기를 가진 미분형태의 고형분과 반응시켜서 응집 및 부유시키는 제5단계(S50); 및 상기 응집 및 부유된 고형분을 제거하여 오일을 회수하는 제6단계(S60);를 포함하여 이루어진다.
상기 제1단계(S10)에서는 원심분리기를 이용하여 폐슬러리를 고형분과 액체로 고액분리 하는 것이지만, 폐슬러리의 특성상 완벽하게 고형분과 액체로 분리되지는 않고 액체에 미분(예컨대, 수㎚ ∼ 1㎛의 입도 크기를 가진 고형분)형태의 고형분이 포함되어 있는 현탁액(suspension)으로 형성되기 마련이다.
상기 제1단계(S10)에서 원심분리는 3500 ∼ 4500rpm, 40 ∼ 55℃에서 이루어지는 것이 바람직하다. 또한 상기 원심분리는 시간당 처리하는 폐슬러리의 양을 특별히 한정하지 않는다.
상기 원심분리가 3500rpm 미만이면 고형분이 침전되기 어렵고, 4500rpm을 초과하면 3500 ∼ 4500rpm에서 원심분리하는 것보다 고형분을 제거하는 상승효과가 적다. 또한 40℃ 미만에서 원심분리가 실시되면 상기 폐슬러리의 점도가 높아 원심분리의 효율이 낮아지고, 55℃를 초과한 상태에서 원심분리가 실시되면 원심분리의 효율성은 40 ∼ 55℃에서 실시되는 것만큼의 효율을 보이지 않는다.
참고로 상기 제1단계(S10)에서 폐슬러리는 보관기간, 폐슬러리 온도 등 회수 당시의 상태에 따라 점도가 다르며, 점도가 높을수록 원심분리의 효율은 낮아진다.
제2단계(S20)는 상기 제1단계(S10)에서 분리된 제1폐슬러리를 혼합조에 수용한다.
제3단계(S30)는 상기 제2단계(S20)에서 상기 혼합조에 수용된 제1폐슬러리에 물을 추가시켜 제2폐슬러리를 생성한다.
상기 제3단계(S30) 완료 후 제4단계(S40) 전에 혼합조 내측 상부의 정해진 깊이에 그물망을 배치하는 단계를 더 포함할 수도 있으며, 상기 그물망은 그물코가 1 ∼ 5 ㎝인 사각형상의 철선으로 형성되는 것이 바람직하지만, 상기 그물망의 형상이나 재질은 상기한 바에 한정하지는 않는다.
또한 상기 그물망은 제5단계(S50)에서 부유되어 응집된 고형분을 제거하기 위한 것이고, 상기 응집된 고형분은 도구를 이용하여 제거가 가능하지만, 상기 응집된 고형분을 제거하는 과정에서 그물망을 사용함으로써 상기 응집된 고형분의 부스러기가 오일에 다시 섞일 수 있는 상황을 방지하며 상기 고형분을 좀 더 용이하게 제거할 수 있다.
제4단계(S40)는 상기 제2폐슬러리를 정해진 온도(바람직하게는 25 ∼ 65℃)가 되도록 가열한다.
제5단계는 상기 제4단계(S40)에서 제2폐슬러리가 정해진 온도(바람직하게는 25 ∼ 65℃)가 되면, 상기 제2폐슬러리에 NaOH 또는 KOH를 투입한다. 상기 NaOH 또는 KOH는 비산화성 알칼리 융제(Non-oxidation Alkaline Flux)이고 수화물 융제이다.
상기 NaOH 또는 KOH가 투입됨으로써 오일 내부에 미분 형태(예컨대, 수㎚ ∼ 1㎛의 입도 크기를 가진 고형분)로 존재하는 고형분(예컨대, Si와 SiO2 등)이 반응하여 용해되며, 오일에 포함되어 있는 수용성 오일의 성분(예컨대, DEG 절삭유 등)이 결합제 역할을 하여 응집되는 것이다.
[화학식 1]
SiO2 + 2NaOH → Na2SiO3 + H2O
SiO2 + 2KOH → K2SiO3 + H2O
상기 화학식은 본 발명의 제2폐슬러리에 NaOH 또는 KOH를 투입함하여 SiO2와 반응하는 일반적인 반응식을 나타낸 것으로, 고형분이 SiO2외인 경우에도 상기 화학식 외의 공지된 화학식에 따라 반응이 일어난다.
물론 생성된 상기 Na2SiO3와 K2SiO3는 각각 고체분말형태이고, 또한 결합제 역할을 하는 수용성 오일에 의해 다공성을 지닌 물질로 응집되며, 상기 다공성을 지닌 물질은 부유하여 상기 그물망에 응집하게 되는 것이다.
상기 NaOH 또는 KOH가 투입되어 SiO2와 반응하면서 유증기가 발생하는데, 상기 유증기는 오일미스트크리너를 통해 포집하고, 상기 오일미스트크리너는 시중에 공개되어 있는 제품들 중에서 어느 하나를 사용할 수 있으며 특별히 한정하지 않는다.
제6단계(S60)는 상기 제5단계(S50)에서 반응하여 부유되고 응집된 고형분을 제거하며, 상기 혼합조의 하부에 형성된 드레인 밸브를 통해 오일을 회수한다.
한편 상기 5단계(S50)의 화학식 1을 참조하면 물(H2O)이 생성되는데, 종래에 공지된 기술(예컨대, 증발시키는 방법 등)로 물의 제거가 가능하고 본 발명에서 그 방법을 한정하는 것은 아니다.
상기에 언급한 본 발명에 사용되는 원심분리기는 하기와 같이 원심효과(G) 값을 변화시킴으로써 분리효율을 극대화할 수 있다.
예컨대, 원심력장에서의 고체 입자의 침강 속도는 하기의 수학식 1로 나타낸다.
[수학식 1]
Figure 112012031790603-pat00001
여기서, Vc(m/sec)는 원심력장에서의 고체 입자의 침강 속도이고, G는 원심효과, p1(kg/m3)은 고체 입자의 비중이고, p2(kg/m3)는 액체 입자의 비중이고, d(m)는 고체 입자가 침강하는 한계 입자경이고, μ(kg/m·sec)는 점성 계수이고, g(m/sec2)는 중력 가속도를 나타낸다.
[수학식 2]
Figure 112012031790603-pat00002
여기서, G는 원심효과이고, r(m)은 등속 원운동을 하고 있는 물체의 회전 반경이고, ω(rad/s)는 각속도이고, N(rpm)은 등속 원운동을 하고 있는 물체의 회전수를 나타낸다.
상기 수학식 1에서 알 수 있듯이, 원심분리기의 원심력장에서 고체 입자의 침강속도를 높이기 위해서는 점성계수값을 낮게 해줘야 한다. 따라서, 점성도를 기준으로 조절함으로써, 상기한 폐슬러리나 오일에 대해서 분리효율을 일정하게 조절할 수 있다. 그러나, 기존 온도 제어방식의 경우 폐슬러리나 오일의 비중 값 변화에 능동적으로 대처할 수 없어 분리 효율이 일정하지 않을 수 있다. 따라서, 상기한 바와 같은 본 발명의 점도 제어 방식을 통해 이를 개선할 수 있다. 본 발명의 점도 제어 방식의 경우, 폐슬러리나 오일 내에 함유된 성분의 양에 관계없이 최적의 점도 환경을 만들어 원심분리기의 분리능력을 향상시킬 수 있다.
또한, 상기 폐슬러리나 절삭유의 비중의 차이에 따라 상기 수학식 2에 나타낸 바와 같은 원심효과 G 값을 변화시킴으로써 원심분리기의 분리효율을 극대화할 수 있다.
이러한 사실에 기초하여 본 발명자가 실험한 결과, 상기 폐슬러리 원심분리기는 폐슬러리의 비중 값에 따라 200∼350 G의 범위에서 원심효과(G) 값을 변화시킴으로써 분리효율을 극대화할 수 있으며, 상기 원심분리기는 오일의 비중 값에 따라 1500∼2500 G의 범위에서 원심효과(G) 값을 변화시킴으로써 분리효율을 극대화할 수 있음을 확인할 수 있었다.
이상에서 설명한 본 발명에 따른 폐슬러리에 포함된 고형분 및 오일 분리방법을 실시하기 위한 실시예에 불과한 것으로서, 본 발명은 상기한 실시예에 한정되지 않고, 이하 특허청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양하게 변경하여 실시할 수 있는 범위까지 본 발명의 기술적 정신이 있다고 할 것이다.

Claims (6)

10 ∼ 30 질량％의 고형분과 70 ∼ 90 질량％의 액체로 구성된 폐슬러리를 원심분리기를 이용하여 원심분리하여 고형분의 함량을 3 ∼ 8 질량％로 낮춘 제1폐슬러리를 얻는 제1단계(S10)와;
고형분의 함량이 3 ∼ 8 질량％인 상기 제1폐슬러리를 혼합조에 수용하는 제2단계(S20);
상기 혼합조에 수용된 제1폐슬러리에 물을 추가시키고 교반하여 제2폐슬러리를 생성하는 제3단계(S30);
상기 제2폐슬러리를 정해진 온도가 되도록 가열하는 제4단계(S40);
상기 제4단계(S40에서 제2폐슬러리가 정해진 온도가 되면, 상기 제2폐슬러리에 NaOH 또는 KOH를 투입하고 교반하여 상기 제2폐슬러리에 포함되어있는 수㎚ ∼ 1㎛의 입도크기를 가진 미분형태의 고형분과 반응시켜서 고형분을 응집 및 부유시키는 제5단계(S50); 및
상기 응집 및 부유된 고형분을 제거하여 오일을 회수하는 제6단계(S60);
를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 폐슬러리에 포함된 고형분 및 오일 분리방법.
제 1 항에 있어서, 상기 제3단계(S30) 완료 후 제4단계(S40) 전에 혼합조 내측 상부에, 응집 및 부유된 고형분을 제거하기 위한 그물망을 배치하는 단계를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 폐슬러리에 포함된 고형분 및 오일 분리방법.
제 1 항에 있어서, 상기 제1단계(S10)에서 원심분리는 3500 ∼ 4500rpm, 40 ∼ 55℃에서 이루어지는 것을 특징으로 하는 폐슬러리에 포함된 고형분 및 오일 분리방법.
제 1 항에 있어서, 상기 제3단계(S30)에서 제2폐슬러리의 물의 함량이 3 ∼ 30 질량％가 되도록 물을 추가하는 것을 특징으로 하는 폐슬러리에 포함된 고형분 및 오일 분리방법.
제 1 항에 있어서, 상기 제4단계(S40)는 상기 제2폐슬러리를 25 ∼ 65℃로 가열하는 것을 특징으로 하는 폐슬러리에 포함된 고형분 및 오일 분리방법.
제 1 항에 있어서, 상기 제5단계(S50)는 제2폐슬러리에 NaOH를 질량비 100 : 0.3 ∼ 3 투입하거나, 또는 제2폐슬러리에 KOH를 질량비 100 : 0.3 ∼ 3 투입하는 것을 특징으로 하는 폐슬러리에 포함된 고형분 및 오일 분리방법.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101597161B1 (ko) * 2014-09-05 2016-02-24 주식회사 씨에스이엔지 제철용 승열체 제조방법

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001276522A (ja) 2000-03-30 2001-10-09 Ebara Corp 廃液処理システム
KR100947465B1 (ko) 2008-02-28 2010-03-17 케미시스 주식회사 폐슬러리 재생 방법 및 장치

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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