KR101342359B1 - 너트의 내측 표면처리 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 너트의 내경 표면처리 방법 및 너트의 내경 표면처리 장치에 관한 것으로, 특히 반도체 장비 중 고순도 특수 가스 라인 밸브 부품 등에 사용되는 너트의 내경 표면처리 방법 및 너트의 내경 표면처리 장치에 관한 것이다.
본 발명에 따른 너트의 내경 표면처리 방법은, 스테인리스강 재질의 너트를 가공하는 제1 단계; 스테인리스강 활성화 전처리와, 니켈 스트라이크 전처리를 통하여 너트의 표면을 활성화하는 제2 단계; 전해도금조에서, 너트의 내경이 상하 방향을 향하도록 배치하고 너트를 음극에 연결한 후, 너트의 내경 빈 공간에 상하 방향으로 양극을 배치하고, 표면 도금액을 너트 내경의 상측에서 하측 또는 너트 내경의 하측에서 상측으로 순환시켜 전해도금하는 제3 단계; 및 너트의 외경을 버핑하는 제4 단계를 포함한다.
본 발명의 너트의 내경 표면처리 방법 및 너트의 내경 표면처리 장치는, 전해도금조의 구성을 개선하여 너트의 도금 균일성을 향상시킬 수 있으며, 기포 발생에 의한 불량 방지를 도모할 수 있는 효과가 있다.

Description

너트의 내측 표면처리 방법{SURFACE TREATMENT METHOD FOR NUT BORE}
본 발명은 너트의 내경 표면처리 방법 및 너트의 내경 표면처리 장치에 관한 것으로, 특히 반도체 장비 중 고순도 특수 가스 라인 밸브 부품 등에 사용되는 너트의 내경 표면처리 방법 및 너트의 내경 표면처리 장치에 관한 것이다.
반도체 설비 중 고순도 특수가스 라인에 사용되는 배관 연결 부품인 너트(Female Nut)가 적용되는 배관 라인 내부에 사용되는 고순도 특수 가스는 소량만 외부로 유출되어도 인체에 유해한 유독 가스로 그 위험성이 매우 높다. 따라서 너트 체결시 파생될 수 있는 슬라이드성 향상을 위해 내경의 밀착성 및 피막 균일성이 우수한 은도금 표면 처리가 요구되고 있는 실정이다. 은의 경우 연성이 매우 우수한 금속으로 너트 체결시 나사 요철 가공된 소재의 마찰력을 줄여 반복 체결시 발생하는 불량을 줄여 슬라이드성 및 내구성을 향상시킬 수 있다.
이와 같이, 너트의 불량 체결은 가스 누출에 따른 다수의 인명 손상과 연관이 있기 때문에 고가의 은도금 적용이 가능한 고부가 가치의 표면 처리 분야라고 할 수 있으나, 가격 경쟁력 및 불필요한 손실 예방을 위한 내경만 표면 처리가 요구되고 있다.
도 1은 종래의 너트의 내경 표면처리 장치를 나타낸 도면이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 종래의 너트의 내경 표면처리 장치는, 시안화은 도금액을 수용하는 전해도금조(10)와, 은판으로 구성되는 양극(11)과, 너트(N)를 지지하는 너트 지그(12)와, 너트 지그(12)에 연결되는 음극(13)으로 구성되어, 너트의 내경에 은 도금을 하고 있다.
하지만, 종래의 경우 너트 내부 코너 부위는 극간 거리가 멀어 도금 피막층이 거의 생성되지 않아, 너트 내경의 도금 두께 불균일의 문제가 있으며, 전기 도금시 기포 발생으로 인한 도금 불량의 문제가 있다. 또한, 너트의 소재인 스테인리스강의 부동태에 의한 도금 피막층 밀착성 부족으로, 배관 부품 체결전 초음파 세척시 도금층이 박리되는 현상이 발생하는 문제점이 있다. 또한, 은 소재의 사용으로 가격 경쟁력이 저하되는 문제점이 있다.
대한민국 공개특허공보 제10-2001-0081410호(2001년08월29일) 대한민국 공개특허공보 제10-2008-0104093호(2008년12월01일)
본 발명은 상기의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 너트의 도금 균일성을 향상시킬 수 있는 너트의 내경 표면처리 방법 및 너트의 내경 표면처리 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
또한, 본 발명은 너트의 도금 밀착성을 향상시킬 수 있는 너트의 내경 표면처리 방법 및 너트의 내경 표면처리 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
또한, 본 발명은 고가의 은을 대체할 수 있으며 상술한 도금 특성, 예컨대 연성(경도), 도금 균일성을 도모할 수 있는 너트의 내경 표면처리 방법 및 너트의 내경 표면처리 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제들은 이상에서 언급한 과제로 제한되지 않으며, 여기에 언급되지 않은 본 발명이 해결하고자 하는 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 발명에 따른 너트의 내경 표면처리 방법은, 스테인리스강 재질의 너트를 가공하는 제1 단계; 스테인리스강 활성화 전처리와, 니켈 스트라이크 전처리를 통하여 너트의 표면을 활성화하는 제2 단계; 전해도금조에서, 너트의 내경이 상하 방향을 향하도록 배치하고 너트를 음극에 연결한 후, 너트의 내경 빈 공간에 상하 방향으로 양극을 배치하고, 표면 도금액을 너트 내경의 상측에서 하측 또는 너트 내경의 하측에서 상측으로 순환시켜 전해도금하는 제3 단계; 및 너트의 외경을 버핑하는 제4 단계를 포함한다.
또한, 본 발명의 제2 단계에서는, 스테인리스강 활성화 전처리액이, 질산 200ml/L 내지 500ml/L와, 불산 30ml/L 내지 80ml/L를 포함하며, 온도 50℃ 내지 60℃, 처리시간 30초 내지 60초에서 스테인리스강 활성화 전처리를 한 후 수세하고, 니켈 스트라이크 전처리액이, 설파민산 니켈, 황산니켈 또는 염화니켈의 0.5M 내지 3.0M의 니켈 공급원과, 황산 또는 염산의 1.0M 내지 6.0M의 완충제를 포함하며, 전류밀도 1A/dm2 내지 10A/dm2, 전류공급 (+)로 60초 내지 120초 (-)로 60초 내지 120초, 온도 20℃ 내지 50℃에서 니켈 스트라이크 전처리하는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 제3 단계에서는, 표면 도금액이 은 도금액인 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 제3 단계에서는, 표면 도금액이 구리 주석 합금 도금액인 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명은, 구리 주석 합금 도금액이, 황산주석 또는 염화주석의 0.1M 내지 0.3M의 주석 공급원과, 황산구리 또는 염화구리의 0.05M 내지 0.4M의 구리 공급원과, 황산 50g/L 내지 150g/L의 전도성향상 첨가제와, DL-메타오닌, 구연산 또는 타르타르산 중 어느 하나의 50g/L 내지 150g/L의 균일성향상 첨가제를 포함하며, 전류밀도 1A/dm2 내지 30A/dm2, 온도 30℃ 내지 40℃에서 전해 도금하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 너트의 내경 표면처리 장치는, 표면 도금액을 수용하는 전해도금조; 전해도금조 상에 마련되며, 너트의 내경이 상하 방향을 향하도록 위치시키는 너트 지그; 너트에 연결되는 음극; 너트의 내경 빈 공간에 상하 방향으로 배치되는 양극; 음극과 양극에 각각 연결되어 전원을 공급하는 전원공급원; 및 표면 도금액이 너트 내경의 상측에서 하측 또는 너트 내경의 하측에서 상측으로 순환하도록, 전해도금조의 표면 도금액을 너트 지그에 공급하는 여과기 펌프를 포함한다.
상기 과제의 해결 수단에 의해, 본 발명의 너트의 내경 표면처리 방법 및 너트의 내경 표면처리 장치는, 전해도금조의 구성을 개선하여 너트의 도금 균일성을 향상시킬 수 있으며, 기포 발생에 의한 불량 방지를 도모할 수 있는 효과가 있다.
또한, 본 발명의 너트의 내경 표면처리 방법 및 너트의 내경 표면처리 장치는, 스테인리스강 활성화 전처리와, 니켈 스트라이크 전처리를 통하여, 너트의 도금 밀착성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
또한, 본 발명은 구리 주석 합금을 이용하는 한편, 각종 첨가제를 포함시킴으로써, 고가의 은을 대체할 수 있으며 상술한 도금 특성, 예컨대 연성(경도), 도금 균일성을 도모할 수 있는 효과가 있다.
도 1은 종래의 너트의 내경 표면처리 장치를 나타낸 도면이다.
도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 너트의 내경 표면처리 방법을 설명하기 위한 플로차트이다.
도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 너트의 내경 표면처리 장치를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 너트의 내경 표면처리 장치의 다른예를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 5는 본 발명의 제2 실시예에 따른 너트의 내경 표면처리 방법을 설명하기 위한 플로차트이다.
이상과 같은 본 발명에 대한 해결하고자 하는 과제, 과제의 해결 수단, 발명의 효과를 포함한 구체적인 사항들은 다음에 기재할 실시예 및 도면들에 포함되어 있다. 본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명을 보다 상세히 설명하기로 한다.
<제1 실시예>
도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 너트의 내경 표면처리 방법을 설명하기 위한 플로차트이다.
도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제1 실시예에 따른 너트의 내경 표면처리 방법은, 다음의 단계에 따라 이루어진다.
먼저, 제1 단계(S110)에서는, 스테인리스강 재질의 너트를 가공한다. 구체적으로, 스테인리스강 부재로 내부가 관통되는 암너트(Female Nut) 형상의 너트를 제작하고, 탈지하고 수세한다.
다음으로, 제2 단계(S120)에서는, 스테인리스강 활성화 전처리와, 니켈 스트라이크(Ni strike) 전처리를 통하여 너트의 표면을 활성화한다. 구체적으로, 스테인리스강 활성화 전처리는 산화층을 제거하여 표면개질을 개선하는 공정으로, 스테인리스강 활성화 전처리액이, 질산 200ml/L 내지 500ml/L와, 불산 30ml/L 내지 80ml/L를 포함하며, 온도 50℃ 내지 60℃, 처리시간 30초 내지 60초에서 스테인리스강 활성화 전처리를 행하고 수세한다. 이때, 불산의 함량이나 온도가 기준보다 낮을 시에는 표면 활성화 되지 않아 밀착성이 나빠지고, 불산의 농도 및 온도가 높고, 처리 시간이 길어 지면 외관의 표면 광택이 나빠지므로, 상기의 농도 및 온도를 유지하는 것이 중요하다.
또한, 니켈 스트라이크 전처리는 얇은 피막 형성으로 이후 도금층의 점착성을 향상시키는 공정으로, 니켈 스트라이크 전처리액이, 설파민산 니켈, 황산니켈 또는 염화니켈의 0.5M 내지 3.0M의 니켈 공급원과, 황산 또는 염산의 1.0M 내지 6.0M의 완충제를 포함하며, 전류밀도 1A/dm2 내지 10A/dm2, 전류공급 (+)로 60초 내지 120초 (-)로 60초 내지 120초, 온도 20℃ 내지 50℃에서 니켈 스트라이크 전처리를 행하고 수세한다.
이와 같이, 너트 표면에 도금을 하기 위해 안정적인 표면 개질이 필요하며, 제2 단계(S120)를 통하여, 표면 밀착성을 향상시키는 표면 활성화 처리를 통한 도금 밀착성을 향상시킴으로써, 제품 사용시 발생할 수 있는 박리 문제를 해결할 수 있다.
다음으로, 제3 단계(S130)에서는 전해도금조에서, 너트의 내경이 상하 방향을 향하도록 배치하고 너트를 음극에 연결한 후, 너트의 내경 빈 공간에 상하 방향으로 양극을 배치하고, 은 도금액의 표면 도금액을 너트 내경의 상측에서 하측 또는 너트 내경의 하측에서 상측으로 순환시켜 전해도금한다. 이때, 은 도금액은 시안화은 도금액을 사용하도록 하며, 도금 후 너트는 수세하도록 한다. 제3 단계(S130)의 전해도금을 위한 본 발명의 제1 실시예에 따른 너트의 내경 표면처리 장치에 관한 보다 상세한 설명은 다음의 도 3 및 도 4를 통해 후술하기로 한다.
도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 너트의 내경 표면처리 장치를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제1 실시예에 따른 너트의 내경 표면처리 장치는, 표면 도금액인 은 도금액을 수용하는 전해도금조(110)와, 전해도금조(110) 상에 마련되며, 너트(N)의 내경이 상하 방향을 향하도록 위치시키는 너트 지그(120)와, 너트(N)에 연결되는 음극(130)과, 너트(N)의 내경 빈 공간에 상하 방향으로 배치되는 양극(140)과, 음극(130)과 양극(140)에 각각 연결되어 전원을 공급하는 전원공급원(150)과 은 도금액이 너트(N) 내경의 상측에서 하측으로 순환하도록 전해도금조(110)의 은 도금액을 너트 지그(120)에 공급하는 여과기 펌프(160)를 포함한다.
참고로, 도 3에서 너트(N)는 총 4개가 수평하게 배치되며, 음극(130)은 이들 각각에 연결되지만, 도 3에서는 너트(N)에 너트 지그(120)가 체결된 구조 및 형상을 나타내기 위해 우측 2개의 너트(N)에 연결되는 음극(130)은 삭제하였다. 다음 도 4에서도 마찬가지이다.
이와 같은 구성에 의해, 너트(N) 내경에서 음극(130)과 양극(140)의 극간 거리의 편차 문제를 개선하여 은 도금층이 균일하게 형성된다. 또한, 너트(N)의 내경 빈 공간이 상하 방향으로 배치되기 때문에, 전기 도금시 발생되는 기포는 너트(N) 내경에 부착 없이 상방으로 이동하여, 기포 발생으로 인한 도금 불량의 문제를 해결할 수 있다.
도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 너트의 내경 표면처리 장치의 다른예를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제1 실시예에 따른 다른 구조의 너트의 내경 표면처리 장치는, 표면 도금액인 은 도금액을 수용하는 전해도금조(210)와, 전해도금조(210) 상에 마련되며, 너트(N)의 내경이 상하 방향을 향하도록 위치시키는 너트 지그(220)와, 너트(N)에 연결되는 음극(230)과, 너트(N)의 내경 빈 공간에 상하 방향으로 배치되는 양극(240)과, 음극(230)과 양극(240)에 각각 연결되어 전원을 공급하는 전원공급원(250)과 은 도금액이 너트(N) 내경의 하측에서 상측으로 순환하도록 전해도금조(210)의 은 도금액을 너트 지그(220)에 공급하는 여과기 펌프(260)를 포함한다.
이와 같은 구성에 의해, 은 도금층을 균일하게 형성하며, 기포 발생으로 인한 도금 불량의 문제를 해결할 수 있을 뿐만 아니라, 너트 지그(220)에서 은 도금액을 하측으로부터 천천히 채워서 상측으로 넘치게 하는 순환 방식으로 너트 지그(220)에서 은 도금액을 충분히 공급하여 도금 효율을 향상시킬 수 있다.
다음으로, 제4 단계(S140)에서는 너트의 외경을 버핑(buffing)하여, 도금시 외경에 부착된 잔존 은 도금층을 제거하고 외경의 광택을 도모한다. 이후, 건조와 포장을 통해 너트 완제품을 완성한다. 덧붙여, 버핑 공정의 전후에는 은 도금층의 변색 방지 공정을 더 포함함으로써, 외관상 광택 효과와 변색방지를 도모할 수 있다.
<제2 실시예>
도 5는 본 발명의 제2 실시예에 따른 너트의 내경 표면처리 방법을 설명하기 위한 플로차트이다.
도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제2 실시예에 따른 너트의 내경 표면처리 방법은, 도 2를 통해 상술한 본 발명의 제1 실시예에 따른 너트의 내경 표면처리 방법의 제1 단계(S110), 제2 단계(S120) 및 제4 단계(S140)와 동일 또는 유사하므로, 이에 관한 상세한 설명은 생략하기로 한다.
또한, 본 발명의 제2 실시예에 따른 너트의 내경 표면처리 방법은, 제3 단계(S230)에서 도 3의 너트의 내경 표면처리 장치 또는 도 4의 너트의 내경 표면처리 장치 중 어느 하나를 사용하여, 전해도금조에서 너트의 내경이 상하 방향을 향하도록 배치하고 너트를 음극에 연결한 후, 너트의 내경 빈 공간에 상하 방향으로 양극을 배치하고, 구리 주석 합금 도금액의 표면 도금액을 너트 내경의 상측에서 하측 또는 너트 내경의 하측에서 상측으로 순환시켜 전해도금한다.
이때, 본 발명의 제2 실시예에서는, 표면 도금액을 은 도금액 대신 구리 주석 합금 도금액을 사용한다. 구체적으로, 구리 주석 합금 도금액이, 황산주석 또는 염화주석의 0.1M 내지 0.3M의 주석 공급원과, 황산구리 또는 염화구리의 0.05M 내지 0.4M의 구리 공급원과, 황산 50g/L 내지 150g/L의 전도성향상 첨가제와, DL-메타오닌, 구연산 또는 타르타르산 중 어느 하나의 50g/L 내지 150g/L의 균일성향상 첨가제를 포함하며, 전류밀도 1A/dm2 내지 30A/dm2, 온도 30℃ 내지 40℃에서 전해 도금하도록 한다.
이는, 전류 밀도 편차 없는 우수한 2원계 합금 도금으로 도금 밀착성 및 도금 균일성이 우수한 도금층을 형성하는 구리 주석 합금 전해 도금 방법으로, 특히 안정적인 첨가제 공급을 통한 전류 밀도 편차에 따른 도금두께 편차를 최소화하여 도금 두께 균일성을 일정하게 유지할 수 있다. 즉, 구리 주석 합금 도금을 위한 구리 공급원 및 주석 공급원과, 전도성 향상을 위한 전도성향상 첨가제와, 도금 균일성을 향상하는 균일성향상 첨가제를 포함시킨다.
다음의 표 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 은 도금 너트와, 본 발명의 제2 실시예에 따른 구리 주석 합금 도금 너트의 주요 특성을 측정하여 나타낸 것이다. 이와 같이, 반도체 장비 중 고순도 특수 가스 라인 밸브 부품 등에 사용되는 너트에서 중요하게 작용하는 경도(연성 측정을 위함), 두께 균일성, 열 전도도, 전기 전도도 등이 구리 주석 합금 도금 너트의 경우에도 은 도금 너트와 유사하게 나타남을 확인할 수 있다.
구분 경도(Hv) 두께균일성
(㎛)		 열 전도도
(W/mK)		 전기 전도도
(mhos/m)
제1 실시예 25~50 15%이내 419 6.3107
제2 실시예 40~60 5%이내 330 5.4107
이와 같이, 상술한 본 발명의 기술적 구성은 본 발명이 속하는 기술분야의 당업자가 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.
그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해되어야 하고, 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타나며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
10, 110, 210 : 전해도금조
11, 140, 240 : 양극
12, 120, 220 : 너트 지그
13, 130, 230 : 음극
150, 250 : 전원공급원
160, 260 : 여과기 펌프
N : 너트

Claims (6)

  1. 스테인리스강 재질의 너트를 가공하는 제1 단계;
    스테인리스강 활성화 전처리와, 니켈 스트라이크 전처리를 통하여 상기 너트의 표면을 활성화하는 제2 단계;
    전해도금조에서, 내부가 관통되는 상기 너트의 관통홀의 일단을 상측에 위치시키고 상기 너트의 관통홀의 타단을 하측에 위치시켜, 상기 너트의 내측 표면이 상하 방향을 향하도록 배치하고 상기 너트를 음극에 연결한 후, 상기 너트의 내측 빈 공간에 상하 방향으로 양극을 배치하고, 표면 도금액을 상기 너트 내측 표면의 상측에서 하측 또는 상기 너트 내측 표면의 하측에서 상측으로 순환시켜 전해도금하는 제3 단계; 및
    상기 너트의 외측 표면을 버핑하는 제4 단계;
    를 포함하며,
    상기 제2 단계에서는,
    스테인리스강 활성화 전처리액이, 질산 200ml/L 내지 500ml/L와, 불산 30ml/L 내지 80ml/L를 포함하며, 온도 50℃ 내지 60℃, 처리시간 30초 내지 60초에서 상기 스테인리스강 활성화 전처리를 한 후 수세하고,
    니켈 스트라이크 전처리액이, 설파민산 니켈, 황산니켈 또는 염화니켈의 0.5M 내지 3.0M의 니켈 공급원과, 황산 또는 염산의 1.0M 내지 6.0M의 완충제를 포함하며, 전류밀도 1A/dm2 내지 10A/dm2, 전류공급 (+)로 60초 내지 120초 (-)로 60초 내지 120초, 온도 20℃ 내지 50℃에서 상기 니켈 스트라이크 전처리하는 것을 특징으로 하는 너트의 내측 표면처리 방법.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서,
    상기 제3 단계에서는,
    상기 표면 도금액이 은 도금액인 것을 특징으로 하는 너트의 내측 표면처리 방법.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 제3 단계에서는,
    상기 표면 도금액이 구리 주석 합금 도금액인 것을 특징으로 하는 너트의 내측 표면처리 방법.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 구리 주석 합금 도금액이, 황산주석 또는 염화주석의 0.1M 내지 0.3M의 주석 공급원과, 황산구리 또는 염화구리의 0.05M 내지 0.4M의 구리 공급원과, 황산 50g/L 내지 150g/L의 전도성향상 첨가제와, DL-메타오닌, 구연산 또는 타르타르산 중 어느 하나의 50g/L 내지 150g/L의 균일성향상 첨가제를 포함하며,
    전류밀도 1A/dm2 내지 30A/dm2, 온도 30℃ 내지 40℃에서 전해 도금하는 것을 특징으로 하는 너트의 내측 표면처리 방법.
  6. 삭제
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2005350697A (ja) * 2004-06-08 2005-12-22 Kida Seiko Kk 袋状ワークの電解めっき方法および電解めっき装置
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005350698A (ja) 2004-06-08 2005-12-22 Kida Seiko Kk 袋状ワークの電解めっき方法、電解めっき装置、および電解めっき用保持具
JP2005350697A (ja) * 2004-06-08 2005-12-22 Kida Seiko Kk 袋状ワークの電解めっき方法および電解めっき装置
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