KR101342171B1 - Substrate inspection apparatus and substrate inspection method - Google Patents

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KR101342171B1
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토시오 카이다
무네히로 야마시타
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니혼덴산리드가부시키가이샤
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Abstract

과제assignment

액정 디스플레이나 플라즈마 디스플레이용의 전극판에 이용되는 유리 기판과 같은 기판의 배선을 검사하는 기판 검사 장치 및 기판 검사 방법의 제공.Providing the board | substrate test | inspection apparatus and board | substrate test | inspection method which test wiring of board | substrates, such as a glass substrate used for the electrode plate for liquid crystal displays or a plasma display.

해결 수단Solution

검사 대상이 되는 하나의 배선 패턴에 물리적으로 비접촉으로 배치됨과 함께 해당 배선 패턴에 인가되는 신호를 검출하는 신호 검출 수단과, 검사 대상의 배선 패턴의 일단부에서 물리적으로 비접촉으로 배치되는 제 1 전극부와, 검사 대상의 배선 패턴의 타단부에서 물리적으로 비접촉으로 배치되는 제 2 전극부와, 제 1 배선 패턴의 제 1 베이스부와 물리적으로 접촉하여 배치되는 제 3 전극부와, 제 2 배선 패턴의 제 2 베이스부와 물리적으로 접촉하여 배치되는 제 4 전극부와, 각 전극부에 소정 주기를 갖는 기준 신호를 공급하는 급전 수단과, 신호 검출 수단에 의해 검출되는 검출 신호로부터 해당 검출 신호의 위상을 산출하는 검사 신호 산출 수단과, 검사 신호 산출 수단이 산출한 검출 신호의 위상을 기초로, 검사 대상의 배선 패턴의 도통의 검사를 판단하는 도통 검사부와, 검사 신호 산출 수단이 산출한 검출 신호의 위상을 기초로, 검사 대상의 배선 패턴의 단락의 검사를 판단하는 단락 검사부를 갖는 것을 특징으로 한다.Signal detection means for physically contacting one wiring pattern to be inspected and detecting a signal applied to the wiring pattern, and a first electrode part physically contactlessly disposed at one end of the wiring pattern to be inspected. A second electrode portion which is physically non-contacted at the other end of the wiring pattern to be inspected, a third electrode portion which is arranged in physical contact with the first base portion of the first wiring pattern, and a second wiring pattern of The phase of the detection signal is determined from a fourth electrode portion which is arranged in physical contact with the second base portion, a power supply means for supplying a reference signal having a predetermined period to each electrode portion, and a detection signal detected by the signal detection means. On the basis of the phase of the detection signal calculated by the inspection signal calculating means and the inspection signal calculating means, the inspection of the conduction of the wiring pattern of the inspection object is performed. A conduction inspection section for judging and a short circuit inspection section for judging inspection of a short circuit of a wiring pattern to be inspected based on the phase of a detection signal calculated by the inspection signal calculation means.

기판 검사 장치, 기판 검사 방법 Board inspection apparatus, board inspection method

Description

기판 검사 장치 및 기판 검사 방법{SUBSTRATE INSPECTION APPARATUS AND SUBSTRATE INSPECTION METHOD}Substrate inspection device and substrate inspection method {SUBSTRATE INSPECTION APPARATUS AND SUBSTRATE INSPECTION METHOD}

도 1은 본 발명의 기판 검사 장치에서 검사 대상이 되는 피검사 기판의 개략 평면도.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The schematic plan view of the board | substrate to test which is a test | inspection object in the board | substrate inspection apparatus of this invention.

도 2는 본 발명에 관한 한 실시 형태의 기판 검사 장치와 기판과의 관계를 도시하는 개략 블록도.2 is a schematic block diagram showing a relationship between a substrate inspection device and a substrate according to the embodiment of the present invention.

도 3은 기판과 이 기판에 배치되는 기판 검사 장치와 신호의 송수신을 도시하는 개략도.3 is a schematic diagram showing transmission and reception of a signal with a substrate and a substrate inspection apparatus disposed on the substrate.

도 4는 도 3에서 도시된 기판과 기판 검사 장치의 전기적인 위치 관계를 도시하는 개략도.4 is a schematic diagram showing the electrical positional relationship between the substrate and the substrate inspection apparatus shown in FIG. 3;

도 5는 본 발명에 관한 한 실시 형태의 검사 신호 산출 수단이 갖는 기능을 도시하는 블록 선도.5 is a block diagram showing a function of the test signal calculating means of the embodiment according to the present invention;

도 6은 양품시에 있어서의 배선 패턴으로부터의 제 1 결과 내지 제 5 결과를 도시하는 도면Fig. 6 is a diagram showing the first to fifth results from the wiring pattern in the case of a non-defective product.

도 7은 제 1 배선 패턴이 도통 불량을 일으키고 있는 경우를 도시하는 도면.FIG. 7 is a diagram illustrating a case where the first wiring pattern is causing a poor conduction. FIG.

도 8은 제 2 배선 패턴이 도통 불량을 일으키고 있는 경우를 도시하는 도면.FIG. 8 is a diagram illustrating a case where the second wiring pattern is causing a poor conduction. FIG.

도 9는 제 3 배선 패턴이 도통 불량을 일으키고 있는 경우를 도시하는 도면.Fig. 9 is a diagram showing a case where the third wiring pattern is causing a poor conduction.

도 10은 제 1 배선 패턴과 제 2 배선 패턴이 단락하고 있는 경우를 도시하는 도면.10 is a diagram illustrating a case where a first wiring pattern and a second wiring pattern are short-circuited.

도 11은 제 2 배선 패턴과 제 3 배선 패턴이 단락하고 있는 경우를 도시하는 도면.11 is a diagram illustrating a case where a second wiring pattern and a third wiring pattern are short-circuited.

도 12는 동위상 검파와 90도 위상 검파를 행한 경우의 신호 출력의 개략을 도시하는 도면.Fig. 12 is a diagram showing an outline of signal output when in-phase detection and 90-degree phase detection are performed.

도 13은 본 발명에 관한 한 실시 형태의 기판 검사 장치를 실시한 경우의 플로우 차트.The flowchart in the case of implementing the board | substrate inspection apparatus of one Embodiment which concerns on this invention.

도 14는 플라즈마 디스플레이 패널의 구조의 개략을 도시하는 사시도.14 is a perspective view illustrating an outline of a structure of a plasma display panel.

(도면의 주요부분에 대한 부호의 설명)DESCRIPTION OF THE REFERENCE NUMERALS (S)

1 : 기판 검사 장치1: substrate inspection device

2 : 신호 검출 수단2: signal detection means

21 : 제 1 측정부21: first measuring unit

22 : 제 2 측정부22: second measuring unit

3 : 검사 신호 산출 수단3: inspection signal calculation means

4 : 급전 수단4: power supply means

41 : 제 1 급전 수단41: first feeding means

42 : 제 2 급전 수단42: second power supply means

43 : 제 3 급전 수단43: third feed means

44 : 제 4 급전 수단44: fourth feeding means

45 : 제 5 급전 수단45: fifth feeding means

51 : 제 1 전극부51: first electrode portion

52 : 제 2 전극부52: second electrode portion

53 : 제 3 전극부53: third electrode portion

54 : 제 4 전극부54: fourth electrode portion

61 : 도통 검사부61: conduction inspection unit

62 : 단락 검사부62: short circuit check

8 : 배선 패턴8: wiring pattern

기술 분야Technical field

본 발명은, 기판 검사 장치 및 기판 검사 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는, 예를 들면, 액정 디스플레이나 플라즈마 디스플레이용의 전극판에 이용되는 유리 기판과 같은 기판의 배선을 검사하는 기판 검사 장치 및 기판 검사 방법에 관한 것이다.This invention relates to a board | substrate test | inspection apparatus and a board | substrate test | inspection method, More specifically, For example, the board | substrate test | inspection apparatus which examines wiring of board | substrates, such as a glass substrate used for the electrode plate for liquid crystal displays and a plasma display, and It relates to a substrate inspection method.

배경 기술Background technology

종래, 프린트 배선 기판, 플라즈마 디스플레이 패널이나 액정 패널용의 유리 기판 등에 형성되는 배선 패턴의 미세(微細)화에 수반하여, 배선 패턴과 검사용 프로브를 물리적으로 이간한 상태에서 검사를 행하거나, 절연막으로 검사용 프로브의 전극 표면을 덮거나 함에 의해, 미세한 배선 패턴에 흠집이 생기지 않도록 한 비접촉의 검사용 프로브를 이용하여 배선 패턴의 도통(導通)을 검사하는 기판 검사 장치가 알려져 있다(예를 들면, 특허 문헌 1 참조).BACKGROUND ART Conventionally, with the miniaturization of wiring patterns formed on printed wiring boards, plasma display panels, glass substrates for liquid crystal panels, inspection is performed while physically separating the wiring patterns and the inspection probes, or the insulating film The board | substrate test | inspection apparatus which inspects the conduction of a wiring pattern using the non-contact inspection probe which prevents a damage to a fine wiring pattern by covering the electrode surface of an inspection probe with this is known (for example, , Patent Document 1).

상술한 기판 검사 장치에서는, 검사용 프로브로서 절연막으로 덮인 전극을 2개 이용하고, 이 한쪽의 전극을 검사 대상의 배선 패턴의 일단부에 대향하도록 배치하고, 다른쪽의 전극을 당해 배선 패턴의 타단부에 대향하도록 배치하고, 이 전극을 덮는 절연막을 끼우고 서로 대향하는 전극과 배선 패턴에 의해 형성된 콘덴서의 성분에 의해, 전극과 배선 패턴을 정전(靜電) 결합시키도록 하고 있다. 그리고, 한쪽의 전극으로부터 그 배선 패턴에 검사용 신호를 주입함과 함께, 다른쪽의 전극으로부터 그 배선 패턴의 타단부에서 신호를 검출함에 의해, 그 검출한 신호의 레벨에 의거하여 배선 패턴의 도통을 검사하도록 되어 있다.In the above-described substrate inspection apparatus, two electrodes covered with an insulating film are used as inspection probes, and one electrode is disposed so as to face one end of the wiring pattern to be inspected, and the other electrode is placed on the other end of the wiring pattern. It arrange | positions so that it may face an edge part, the electrode and wiring pattern are electrostatically couple | bonded by the component of the capacitor | condenser formed by the electrode and wiring pattern which mutually oppose the insulating film which covers this electrode. Then, the test signal is injected from the one electrode to the wiring pattern, and the signal is detected at the other end of the wiring pattern from the other electrode, thereby conducting the wiring pattern based on the detected signal level. It is supposed to check.

또한, 기판의 한 예인 플라즈마 디스플레이 패널의 구조를 이하에 나타낸다. 도 14는 플라즈마 디스플레이 패널의 구조의 개략을 도시하는 사시도이다. 도 14에 도시하는 플라즈마 디스플레이 패널은, 전면판(901)과 배면판(902)을 구비하고 있다. 그리고, 전면판(901)은, 예를 들면, 유리 기재(903)의 표면에, ITO(Indium Tin Oxide)막(904)과 은(銀) 등의 피막에 의해 형성된 버스 전극(905)을 갖는 배선(909)이 형성된 유리 기판에 의해 구성되어 있다. 이와 같이 구성된 전면판(901)에 있어서, 배선(909)은, 양품(良品)에서는 수Ω 정도의 저항치를 나타낸다. 한편, 배선(909)의 버스 전극(905)만이 단선된 경우, 단선 개소는 ITO막(904)만에 의해 도통하고, 100Ω 내지 10MΩ 정도의 중간 레벨의 저항치를 나타낸다.Moreover, the structure of the plasma display panel which is an example of a board | substrate is shown below. 14 is a perspective view showing an outline of the structure of the plasma display panel. The plasma display panel shown in FIG. 14 includes a front plate 901 and a back plate 902. The front plate 901 has, for example, a bus electrode 905 formed on the surface of the glass substrate 903 by an ITO (Indium Tin Oxide) film 904 and a film such as silver. It is comprised by the glass substrate in which the wiring 909 was formed. In the front plate 901 configured as described above, the wiring 909 exhibits a resistance value of about several Ω in a good product. On the other hand, when only the bus electrode 905 of the wiring 909 is disconnected, the disconnection point is conducted only by the ITO film 904 and exhibits an intermediate level resistance value of about 100 to 10 MΩ.

상술한 바와 같은 기판 검사 장치는, 서로 대향하는 전극과 배선 패턴에 의해 형성되는 콘덴서의 정전 용량을 통하여 배선 패턴에 검사용 신호를 주입 및 검출하기 때문에, 검출되는 신호 레벨은, 배선 패턴과 전극에 의해 형성되는 콘덴서의 용량에 의해 변화하고, 배선 패턴과 전극과의 거리나, 배선 패턴과 주위 사이에 생긴 부유(浮遊) 용량 등의 오차 요인에 의한 영향을 받아서, 검출되는 신호 레벨이 흐트러지기 쉬운 성질이 있다. 그 때문에, 이와 같은 기판 검사 장치를 이용하여 전면판(901)과 같은 기판을 검사한 경우에, 버스 전극(905)만이 단선된 경우와 같이 중간 레벨의 저항치가 생기는 불량이 생기고 있으면, 버스 전극(905)의 단선에 의한 검출 신호 레벨의 저하와, 흐트러짐에 의한 신호 레벨의 저하를 판별한 것이 곤란하기 때문에, 중간 레벨의 저항치를 갖는 불량을 검출하는 것이 곤란하다는 불편한 점이 있다.Since the substrate inspection apparatus as described above injects and detects an inspection signal into the wiring pattern through the capacitance of the capacitor formed by the electrodes and the wiring pattern facing each other, the detected signal level is determined by the wiring pattern and the electrode. Is changed depending on the capacitance of the capacitor formed and is influenced by error factors such as the distance between the wiring pattern and the electrode and the stray capacitance generated between the wiring pattern and the periphery, so that the detected signal level tends to be disturbed. There is a nature. For this reason, when a substrate such as the front plate 901 is inspected using such a substrate inspection apparatus, if a defect in which the intermediate level resistance value is generated occurs as in the case where only the bus electrode 905 is disconnected, the bus electrode ( Since it is difficult to discriminate the detection signal level due to the disconnection of 905 and the signal level due to the disturbance, it is inconvenient that it is difficult to detect the defect having the intermediate level resistance value.

이와 같은 문제점을 해결하기 위해, 특허 문헌 2에는, 배선의 한쪽 단에 그 배선과 전기적으로 비접촉으로 대향 배치되는 급전 프로브 및 검출 프로브가 배치되고, 배선의 다른쪽 단에 그 배선과 전기적으로 비접촉으로 대향 배치되는 급전 프로브가 배치되는 장치가 제안되어 있다.In order to solve such a problem, patent document 2 arrange | positions the feed probe and the detection probe which are arrange | positioned at the one end of a wiring electrically non-contactingly with the wiring, and are electrically non-contact with the wiring at the other end of a wiring. An apparatus in which opposed feeding probes are arranged has been proposed.

이 장치에서는, 급전 프로브에 1MHz의 정현파 검사 신호를 인가하고, 검출 프로브에 생긴 전압을 검출하고, 이 검출된 전압의 위상에 의거하여 배선의 양부(良否) 판정을 행하는 것이다. 이와 같은 장치에 의해, 배선과 검사용 프로브 사이에서의 거리 변화의 영향을 적게 할 수 있고, 상기 문제를 해결하는 것이 가능하였다.In this apparatus, a 1 MHz sine wave test signal is applied to a power supply probe, the voltage generated by the detection probe is detected, and the quality of the wiring is determined based on the detected phase of the voltage. By such an apparatus, the influence of the distance change between the wiring and the inspection probe can be reduced, and it is possible to solve the above problem.

그러나, 근년에 들어, 더한층 기판의 배선 패턴의 미세화가 진행됨에 따라, 특허 문헌 2에 기재되는 기판 검사 장치에서는, 단락 검사를 행하는 경우에 오작동이 생기는 경우가 발생하고 있다. 이것은, 기판의 배선 패턴의 미세화에 의해, 배선 패턴 자체의 폭이 가늘어짐과 함께 배선 패턴끼리의 간격이 좁아져서, 급전용 프로브나 검출용 프로브가 소망하는 배선 패턴에 대해, 급전 또는 검출을 행하는 것이 어려운 문제를 갖고 있다.However, in recent years, as the wiring pattern of a board | substrate progresses further, in the board | substrate inspection apparatus described in patent document 2, the malfunction arises when the short circuit test | inspection is performed. As the wiring pattern of the substrate becomes finer, the width of the wiring pattern itself becomes narrower and the interval between the wiring patterns becomes narrower, so that the feeding or detecting of the wiring pattern desired by the power feeding probe or the detection probe is performed. Has a difficult problem.

이 때문에, 미세화가 진행된 기판이라도 정확하게 배선 패턴의 도통이나 단락 등의 검사를 행할 수가 있는 기판 검사 장치가 필요하게 되어 있다.For this reason, even if the board | substrate with which refinement | miniaturization was advanced, the board | substrate test | inspection apparatus which can test the conduction of a wiring pattern, a short circuit, etc. correctly is needed.

또한, 이 특허 문헌 2에 기재되는 기판 검사 장치에서는, 배선 패턴의 도통과, 배선 패턴 사이의 단락을 각각 다른 검사 전극을 마련함에 의해, 다른 검사 공정에서 검출하기 때문에, 필요한 검사 시간이 길어지거나, 복잡한 구성을 필요로 하는 문제점을 갖고 있다.Moreover, in the board | substrate test | inspection apparatus described in this patent document 2, since the test | inspection electrode which detects the conduction of a wiring pattern and the short circuit between wiring patterns, respectively is detected by another test process, the required test time becomes long, There is a problem that requires a complicated configuration.

특허 문헌 1 : 일본 특개평11-133090호 공보Patent Document 1: Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-133090

특허 문헌 2 : 일본 특개2005-241614호 공보Patent Document 2: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-241614

본 발명은, 이와 같은 실정을 감안하여 이루어진 것으로, 미세한 배선 패턴을 복수 갖는 기판이라도, 정확하게 배선 패턴의 도통이나 배선 패턴 사이의 단락을 검사할 수 있음과 함께, 도통 검사 및 단락 검사를 동시에 검사할 수 있는 기판 검사 장치 및 방법을 제공한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of such a situation, and even when a substrate having a plurality of fine wiring patterns can be accurately inspected for conduction of wiring patterns and short circuits between wiring patterns, conduction inspection and short circuit inspection can be simultaneously checked. Provided are a substrate inspection apparatus and method.

과제를 해결하기 위한 수단Means for solving the problem

청구항 제 1항에 기재된 발명은, 제 1 선형상부(線狀部)와 해당 제 1 선형상부의 일단(一端)으로부터 연장 설치되는 제 1 베이스부(基部)를 갖는 제 1 배선 패턴과, 제 2 선형상부와 해당 제 2 선형상부의 일단으로부터 연장 설치되는 제 2 베이스부를 갖음과 함께, 상기 제 1 배선 패턴과 대향 위치에 배치되는 제 2 배선 패턴과, 상기 제 1 및 제 2 배선 패턴 사이에 배치되는 차광 기능을 갖는 제 3 배선 패턴이 복수 형성된 기판을 검사하는 기판 검사 장치로서, 검사 대상이 되는 하나의 배선 패턴에 물리적으로 비접촉으로 배치됨과 함께 해당 배선 패턴에 인가되는 신호를 검출하는 신호 검출 수단과, 상기 검사 대상의 배선 패턴의 일단부에서 물리적으로 비접촉으로 배치되는 제 1 전극부와, 상기 검사 대상의 배선 패턴의 타단부에서 물리적으로 비접촉으로 배치되는 제 2 전극부와, 상기 제 1 배선 패턴의 제 1 베이스부와 물리적으로 접촉하여 배치되는 제 3 전극부와, 상기 제 2 배선 패턴의 제 2 베이스부와 물리적으로 접촉하여 배치되는 제 4 전극부와, 상기 각 전극부에 소정 주기를 갖는 기준 신호를 공급하는 급전 수단과, 상기 신호 검출 수단에 의해 검출되는 검출 신호로부터 해당 검출 신호의 위상을 산출하는 검사 신호 산출 수단과, 상기 검사 신호 산출 수단이 산출한 상기 검출 신호의 위상을 기초로, 상기 검사 대상의 배선 패턴의 도통의 검사를 판단하는 도통 검사부와, 상기 검사 신호 산출 수단이 산출한 상기 검출 신호의 위상을 기초로, 상기 검사 대상의 배선 패턴의 단락의 검사를 판단하는 단락 검사부를 갖는 것을 특징으로 하는 기판 검사 장치를 제공한다.The invention according to claim 1 has a first wiring pattern having a first linear portion, a first base portion extending from one end of the first linear portion, and a second one. It has a 2nd base part extended from the one end of a linear upper part and the said 2nd linear upper part, and is arrange | positioned between the 2nd wiring pattern arrange | positioned in the opposing position with the said 1st wiring pattern, and the said 1st and 2nd wiring pattern. A substrate inspection apparatus for inspecting a substrate on which a plurality of third wiring patterns having a light shielding function to be formed are formed, the apparatus comprising: signal detection means for physically non-contacting to one wiring pattern to be inspected and detecting a signal applied to the wiring pattern And a first electrode portion that is physically non-contacted at one end of the wiring pattern to be inspected, and physically non-contacted at the other end of the wiring pattern to be inspected. A second electrode portion disposed, a third electrode portion disposed in physical contact with the first base portion of the first wiring pattern, and a fourth electrode disposed in physical contact with the second base portion of the second wiring pattern A power supply means for supplying an electrode portion, a reference signal having a predetermined period to each electrode portion, inspection signal calculation means for calculating a phase of the detection signal from the detection signal detected by the signal detection means, and the inspection signal On the basis of the phase of the detection signal calculated by the calculation means, on the basis of the phase of the detection signal calculated by the inspection signal calculation means; The board | substrate test | inspection apparatus provided with the short circuit test part which judges the test | inspection of the short circuit of the target wiring pattern.

청구항 제 2항에 기재된 발명은, 상기 신호 검출 수단은, 상기 검사 대상이 되는 하나의 배선 패턴의 일단부에서 물리적으로 비접촉으로 배치되는 제 1 측정부와, 해당 1개의 배선 패턴의 타단부에서 물리적으로 비접촉으로 배치되는 제 2 측정부를 갖는 것을 특징으로 하는 청구항 제 1항에 기재된 기판 검사 장치를 제공한다.The invention according to claim 2, wherein the signal detecting means is physically disposed at one end of one wiring pattern to be inspected at a non-contact physically and at the other end of the one wiring pattern. It provides the board | substrate inspection apparatus of Claim 1 which has a 2nd measuring part arrange | positioned noncontact.

청구항 제 3항에 기재된 발명은, 상기 급전 수단은, 상기 제 1 및 제 2 전극부에 소정 주기를 갖는 제 1 기준 신호를 공급하는 제 1 급전 수단과, 상기 제 1 및 제 4 전극부에 소정 주기를 갖는 제 2 기준 신호를 공급하는 제 2 급전 수단과, 상기 제 2 및 제 3 전극부에 소정 주기를 갖는 제 3 기준 신호를 공급하는 제 3 급전 수단과, 상기 제 1 및 제 2 전극부와, 상기 제 3 및 제 4 전극부에 소정 주기를 갖는 제 4 기준 신호를 공급하는 제 4 급전 수단과, 상기 제 3 및 제 4 전극부에 소정 주기를 갖는 제 5 기준 신호를 공급하는 제 5 급전 수단을 갖는 것을 특징으로 하는 청구항 제 1항에 기재된 기판 검사 장치를 제공한다.The invention according to claim 3, wherein the power supply means includes first power supply means for supplying a first reference signal having a predetermined period to the first and second electrode parts, and the first and fourth electrode parts. Second power supply means for supplying a second reference signal having a cycle, third power supply means for supplying a third reference signal having a predetermined cycle to the second and third electrode portions, and the first and second electrode portions And fourth feeding means for supplying a fourth reference signal having a predetermined period to the third and fourth electrode parts, and a fifth supplying fifth reference signal having a predetermined period to the third and fourth electrode parts. It provides the board | substrate inspection apparatus of Claim 1 which has a power supply means.

청구항 제 4항에 기재된 발명은, 상기 도통 검사부는, 상기 제 1 전극부 및 상기 제 2 전극부를 통하여 기준 신호를 인가하고, 상기 신호 검출 수단에 의해 검출한 검출 신호를 이용하는 것을 특징으로 하는 청구항 제 1항에 기재된 기판 검사 장치를 제공한다.The invention according to claim 4, wherein the conduction inspection unit applies a reference signal through the first electrode portion and the second electrode portion, and uses a detection signal detected by the signal detection means. The board | substrate inspection apparatus of Claim 1 is provided.

청구항 제 5항에 기재된 발명은, 상기 도통 검사부는, 상기 검출 신호와 상기 기준 신호의 위상차에 의해 도통의 양부를 판단하는 것을 특징으로 하는 청구항 제 4항에 기재된 기판 검사 장치를 제공한다.The invention according to claim 5, wherein the conduction inspection unit determines whether the conduction is successful based on a phase difference between the detection signal and the reference signal.

청구항 제 6항에 기재된 발명은, 상기 단락 검사부는, 상기 제 1 전극부와 상기 제 4 전극부 및/또는 상기 제 2 전극부와 상기 제 3 전극부를 통하여 기준 신호를 인가하고, 상기 신호 검출 수단에 의해 검출한 검출 신호를 이용하는 것을 특징으로 하는 청구항 제 1항에 기재된 기판 검사 장치를 제공한다.The invention according to claim 6, wherein the short-circuit inspection section applies a reference signal through the first electrode section and the fourth electrode section and / or the second electrode section and the third electrode section, and the signal detecting means. It provides the board | substrate inspection apparatus of Claim 1 using the detection signal detected by the above.

청구항 제 7항에 기재된 발명은, 상기 단락 검사부는, 상기 2개의 검출 신호와 상기 2개의 기준 신호의 위상차를 각각 이용하여, 단락의 양부를 판단하는 것을 특징으로 하는 청구항 제 6항에 기재된 기판 검사 장치를 제공한다.The invention according to claim 7, wherein the short-circuit inspection unit determines whether the short circuit is successful by using the phase difference between the two detection signals and the two reference signals, respectively. Provide a device.

청구항 제 8항에 기재된 발명은, 상기 급전 수단이, 상기 제 3 및 제 4 전극부에 소정 주기를 갖는 제 5 기준 신호를 공급하는 제 5 급전 수단을 가지며, 상기 검사 신호 산출 수단이, 상기 제 5 기준 신호를 기초로 하여, 적어도 2개의 위상이 다른 검파를 산출하고, 상기 도통 검사부 및 상기 단락 검사부가, 상기 2개의 검파의 결과를 기초로, 도통 및 단락을 판정하는 것을 특징으로 하는 청구항 제 1항에 기재된 기판 검사 장치를 제공한다.The invention according to claim 8, wherein the power supply means has fifth power supply means for supplying a fifth reference signal having a predetermined period to the third and fourth electrode portions, and the inspection signal calculation means includes the fifth power supply means. Claims characterized in that on the basis of the five reference signals, at least two phases of different detections are calculated, and the conduction inspection section and the short-circuit inspection section determine conduction and short circuits based on the results of the two detections. The board | substrate inspection apparatus of Claim 1 is provided.

청구항 제 9항에 기재된 발명은, 제 1 선형상부와 해당 제 1 선형상부의 일단으로부터 연장 설치되는 제 1 베이스부를 갖는 제 1 배선 패턴과, 제 2 선형상부와 해당 제 2 선형상부의 일단으로부터 연장 설치되는 제 2 베이스부를 갖음과 함께, 상기 제 1 배선 패턴과 대향 위치에 배치되는 제 2 배선 패턴과, 상기 제 1 및 제 2 배선 패턴 사이에 배치되는 차광 기능을 갖는 제 3 배선 패턴이 복수 형성된 기판을 검사하는 기판 검사 방법으로서, 검사 대상의 배선 패턴의 일단부에서 물리적으로 비접촉으로 배치되는 제 1 전극부와, 상기 검사 대상의 배선 패턴의 타단부 에서 물리적으로 비접촉으로 배치되는 제 2 전극부와, 상기 제 1 배선 패턴의 제 1 베이스부와 물리적으로 접촉하여 배치되는 제 3 전극부와, 상기 제 2 배선 패턴의 제 2 베이스부와 물리적으로 접촉하여 배치되는 제 4 전극부를 배치하고, 상기 소정의 전극부 사이에 소정 주기를 갖는 기준 신호를 공급하고, 상기 배선 패턴에 인가되는 검출 신호를 검출하고, 검출되는 상기 검출 신호로부터 해당 검출 신호의 위상을 산출하고, 상기 검출 신호의 위상을 기초로, 상기 검사 대상의 배선 패턴의 도통의 검사를 판단함과 함께 단락의 검사를 판단하는 것을 특징으로 하는 기판 검사 방법을 제공한다. 이들의 발명을 제공함에 의해, 상기 과제를 모두 해결한다.The invention according to claim 9 extends from a first wiring pattern having a first linear upper portion and a first base portion extending from one end of the first linear upper portion, and a second linear upper portion and one end of the second linear upper portion. In addition to having a second base portion provided, a plurality of second wiring patterns disposed at positions opposite to the first wiring pattern, and a plurality of third wiring patterns having a light shielding function disposed between the first and second wiring patterns are formed. A substrate inspection method for inspecting a substrate, comprising: a first electrode portion that is physically non-contacted at one end of a wiring pattern to be inspected, and a second electrode portion that is physically non-contacted at the other end of the wiring pattern to be inspected And a third electrode portion disposed in physical contact with the first base portion of the first wiring pattern, and physically with a second base portion of the second wiring pattern. Arranging a fourth electrode portion arranged in contact with each other, supplying a reference signal having a predetermined period between the predetermined electrode portions, detecting a detection signal applied to the wiring pattern, and detecting the detection signal from the detected detection signal. The board | substrate test | inspection method is computed, based on the phase of the said detection signal, the test | inspection of the conduction of the wiring pattern of the said test | inspection object is carried out, and the test | inspection of a short circuit is provided. By providing these inventions, all the above problems are solved.

발명을 실시하기Carrying out the invention 위한 최선의 형태 Best form for

본 발명을 실시하기 위한 최선의 형태를 설명한다.BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The best mode for carrying out the present invention will be described.

우선, 본 발명에서 검사 대상이 되는 기판의 구성의 한 예에 관해 설명한다.First, an example of the structure of the board | substrate used as an inspection object in this invention is demonstrated.

도 1은, 본 발명의 기판 검사 장치에서 검사 대상이 되는 피검사 기판의 개략 평면도이다.1 is a schematic plan view of an inspected substrate to be inspected in the substrate inspection apparatus of the present invention.

이 도 1에서 도시되는 기판은, 예를 들면, 플라즈마 디스플레이 패널의 전면판으로서 이용되는 유리 기판이다.1 is a glass substrate used as a front plate of a plasma display panel, for example.

이 기판이 갖는 배선 패턴(8)은, 제 1 배선 패턴(81), 제 2 배선 패턴(82), 제 3 배선 패턴(83)이 복수 형성되어 있다.As for the wiring pattern 8 which this board | substrate has, the 1st wiring pattern 81, the 2nd wiring pattern 82, and the 3rd wiring pattern 83 are formed in multiple numbers.

이 제 1 배선 패턴(81)은, 제 1 선형상부(811)와 제 1 베이스부(812)를 갖고 있다. 제 1 선형상부(811)는 직선으로 형성된다. 이 제 1 선형상부(811)는, 은(銀) 등으로 작성되는 플라즈마 디스플레이의 버스 전극에 상당한다. 이 제 1 선형상 부(811)의 한쪽의 측에는, ITO(Indium Tin Oxide) 등에 의해 형성된 제 1 투명 전극(813)이 형성되어 있다.This first wiring pattern 81 has a first linear portion 811 and a first base portion 812. The first linear upper portion 811 is formed in a straight line. This first linear upper portion 811 corresponds to a bus electrode of a plasma display made of silver or the like. On one side of the first linear portion 811, a first transparent electrode 813 formed of indium tin oxide (ITO) or the like is formed.

제 1 베이스부(812)는, 제 1 선형상부(811)의 일단으로부터 연장 설치하여 형성되어 있고, 이른바, TAB(Tape Automated Bonding)로서 기능한다.The first base portion 812 extends from one end of the first linear upper portion 811 and is formed as a so-called tape automated bonding (TAB).

제 2 배선 패턴(82)은 제 2 선형상부(821)와 제 2 베이스부(822)를 갖고 있다. 제 2 선형상부(821)는 직선으로 형성된다. 이 제 2 선형상부(821)는, 제 1 선형상부(811)와 마찬가지로 은 등으로 작성되는 플라즈마 디스플레이의 버스 전극에 상당한다. 이 제 2 선형상부(821)는, 제 1 선형상부(811)와 평행하게 되도록 배치되어 있다. 이 제 2 선형상부(821)의 한쪽의 측에는, ITO(Indium Tin Oxide) 등에 의해 제 2 투명 전극(823)이 형성되어 있다. 이 제 2 투명 전극(823)은, 제 2 선형상부(821)와 제 1 선형상부(811)가 평행하게 되도록 배치되어 있기 때문에, 제 1 투명 전극(813)과 평행하게 되도록 배치되게 된다.The second wiring pattern 82 has a second linear top portion 821 and a second base portion 822. The second linear upper portion 821 is formed in a straight line. The second linear top portion 821 corresponds to the bus electrode of the plasma display made of silver or the like similarly to the first linear top portion 811. The second linear top portion 821 is disposed to be parallel to the first linear top portion 811. On one side of the second linear upper portion 821, a second transparent electrode 823 is formed of indium tin oxide (ITO) or the like. Since this 2nd transparent electrode 823 is arrange | positioned so that the 2nd linear top part 821 and the 1st linear top part 811 may be parallel, it will be arrange | positioned so that it may become parallel with the 1st transparent electrode 813. FIG.

제 2 베이스부(822)는, 제 1 베이스부(812)와 마찬가지로 제 2 선형상부(821)의 일단으로부터 연장 설치하여 형성되어 있고, 이른바, TAB(Tape Automated Bonding)로서 기능한다.Similarly to the first base portion 812, the second base portion 822 extends from one end of the second linear upper portion 821, and functions as a so-called tape automated bonding (TAB).

이 제 2 베이스부(822)는, 도 1에서 도시되는 바와 같이, 제 1 베이스부(812)가 배치되는 측부와 반대측(도면의 우측)으로 연장 설치된다. 이 때문에, 제 1 배선 패턴(81)과 제 2 배선 패턴(82)은, 제 1 선형상부(811)(또는 제 1 투명 전극(813))와 제 2 선형상부(821)(또는 제 2 투명 전극(823))가 서로 마주 보고 평행하게 배치된다.As shown in FIG. 1, this second base portion 822 extends to the side (right side of the drawing) opposite to the side where the first base portion 812 is disposed. For this reason, the 1st wiring pattern 81 and the 2nd wiring pattern 82 are the 1st linear upper part 811 (or 1st transparent electrode 813), and the 2nd linear upper part 821 (or 2nd transparent). Electrodes 823 are disposed in parallel with each other.

또한, 제 1 투명 전극(813)과 제 2 투명 전극(823)은, 각각 마주 보도록 제 1 선형상부(811)와 제 2 선형상부(821)의 내측에 배치되고 1조(組)의 투명 전극 쌍으로서 형성된다.In addition, the first transparent electrode 813 and the second transparent electrode 823 are disposed inside the first linear upper portion 811 and the second linear upper portion 821 so as to face each other, and a pair of transparent electrodes are disposed. It is formed as a pair.

또한, 도 1에서는, 제 1 배선 패턴(81)의 제 1 베이스부(812)가 지면(紙面) 좌측에 배치되고, 제 2 배선 패턴(82)의 제 2 베이스부(822)가 지면 우측에 배치되어 있다.In addition, in FIG. 1, the 1st base part 812 of the 1st wiring pattern 81 is arrange | positioned at the left side of the paper, and the 2nd base part 822 of the 2nd wiring pattern 82 is located at the right side of the paper. It is arranged.

제 3 배선 패턴(83)은, 제 1 선형상부(811) 및 제 2 선형상부(821)와 평행하게 배치되는 선형상의 패턴이고 차광(遮光) 기능을 갖고 있다. 이 제 3 배선 패턴(83)은, 플라즈마 디스플레이의 블랙 스트라이프에 상당한다.The third wiring pattern 83 is a linear pattern arranged in parallel with the first linear upper portion 811 and the second linear upper portion 821, and has a light shielding function. This third wiring pattern 83 corresponds to the black stripe of the plasma display.

이 제 3 배선 패턴(83)은, 제 1 및 제 2 배선 패턴과 달리, 물리적으로 독립하여 형성되어 있고, 기판 표면상의 다른 배선 패턴에 물리적으로 접속하고 있지 않다. 이 제 3 배선 패턴(83)은, 1조의 투명 전극부를 구획하는 위치에 배치되어 있고, 도 1에서는, 사선으로 나타남과 함께 5개의 투명 전극부를 4개의 제 3 배선 패턴(83)으로 구획하고 있다.Unlike the first and second wiring patterns, the third wiring pattern 83 is physically formed independently and is not physically connected to other wiring patterns on the substrate surface. The third wiring pattern 83 is disposed at a position for partitioning a set of transparent electrode portions. In FIG. 1, five transparent electrode portions are divided into four third wiring patterns 83 while being indicated by diagonal lines. .

배선 패턴(8)은, 상기한 바와 같이, 제 1 내지 제 3 배선 패턴(81, 82, 83)이 복수 병설되어 형성되어 있다.As described above, the wiring pattern 8 is formed by forming a plurality of first to third wiring patterns 81, 82, and 83 in parallel.

다음에, 본 발명에 관한 기판 검사 장치(1)의 구성에 관해 설명한다.Next, the structure of the board | substrate inspection apparatus 1 which concerns on this invention is demonstrated.

도 2는 본 발명에 관한 한 실시 형태의 기판 검사 장치와 기판과의 관계를 도시하는 개략 블록도이고, 도 3은 기판과 이 기판에 배치된 기판 검사 장치와 신호의 송수신을 도시하는 개략도이고, 도 4는 도 3에서 도시된 기판과 기판 검사 장 치의 전기적인 위치 관계를 도시하는 개략도이다. 이 도 4에서는 배선 패턴을 사선으로 나타내고 있다. 도 4에서는, 부호 100은 유리 기판을 나타내고, 부호 11은 기판 검사 장치(1)가 갖는 기판을 재치하기 위한 재치대를 나타내고 있다.FIG. 2 is a schematic block diagram showing the relationship between the substrate inspection apparatus and the substrate according to the embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a schematic diagram showing transmission and reception of signals with the substrate and the substrate inspection apparatus disposed on the substrate, 4 is a schematic diagram showing the electrical positional relationship between the substrate and the substrate inspection device shown in FIG. In FIG. 4, the wiring pattern is shown by the oblique line. In FIG. 4, the code | symbol 100 has shown the glass substrate, and the code | symbol 11 has shown the mounting table for mounting the board | substrate which the board | substrate inspection apparatus 1 has.

본 발명에 관한 한 실시 형태의 기판 검사 장치(1)는, 신호 검출 수단(2), 검사 신호 산출 수단(3), 급전 수단(4), 전극부(5), 제어 수단(6), 표시 수단(7)을 갖고 있다.The board | substrate test | inspection apparatus 1 of one Embodiment which concerns on this invention is the signal detection means 2, the test signal calculation means 3, the power supply means 4, the electrode part 5, the control means 6, a display. It has a means (7).

본 발명의 기본 원리는, 검사 대상이 되는 배선 패턴에 도통 검사를 위한 신호와 단락 검사를 위한 교류 신호를 인가하고, 배선 패턴으로부터 검출된 신호를 기초로, 인가한 신호와의 위상의 변화를 산출(검파)함에 의해, 배선 패턴의 도통 및 단락을 판단하는 것이다.The basic principle of the present invention is to apply a signal for conduction inspection and an AC signal for short circuit inspection to a wiring pattern to be inspected, and calculate a change in phase with an applied signal based on a signal detected from the wiring pattern. By (detecting), the conduction and short circuit of a wiring pattern are judged.

또한, 첨부한 도면에서는, 설명을 위해 배선 패턴을 필요한 최소한의 배선 패턴 수로 나타내고 있지만, 실제로는 다수의 배선이 형성되고, 그들의 배선을 순차적으로 선택하여 검사가 행하여지게 된다. 또한, 본 명세서에서 표현되는 검사 대상의 배선 패턴이란, 제 1 내지 제 3 배선 패턴의 어느 1개의 배선 패턴을 지시하고 있다. 특히 도통 검사의 대상이 되는 배선 패턴은, 상기한 설명의 제 1 선형상부(811), 제 2 선형상부(821) 또는 제 3 배선 패턴(83)의 어느 하나의 부분으로 된다.In addition, although the wiring pattern is shown by the minimum number of wiring patterns required for description in the accompanying drawing, many wiring is actually formed and the inspection is performed by selecting these wirings sequentially. In addition, the wiring pattern of the test object represented by this specification has indicated any one wiring pattern of a 1st-3rd wiring pattern. In particular, the wiring pattern to be subjected to the conduction inspection is a portion of the first linear upper portion 811, the second linear upper portion 821, or the third wiring pattern 83 in the above description.

신호 검출 수단(2)은, 검사 대상이 되는 배선 패턴을 흐르는 신호를 검출한다.The signal detection means 2 detects the signal which flows through the wiring pattern used as a test object.

이 신호 검출 수단(2)은, 제 1 측정부(21), 제 2 측정부(22), 제 1 신호 측 정부(23), 제 2 신호 측정부(24), 제 3 신호 측정부(25)를 갖고서 이루어진다. 이 제 1 측정부(21)는, 도 4에서 도시되는 바와 같이, 배선 패턴의 일단부에 대해, 소정 간격을 가지며, 비접촉으로 대향하도록 배치된다. 이 때문에, 이 제 1 측정부(21)는, 배선 패턴에 대해 정전 용량(C1)을 형성하게 된다. 이 정전 용량(C1)을 통하여 신호를 신호 측정부(23)에 전달한다.The signal detecting means 2 includes a first measuring unit 21, a second measuring unit 22, a first signal side unit 23, a second signal measuring unit 24, and a third signal measuring unit 25. Is done with). As shown in FIG. 4, this 1st measuring part 21 has a predetermined space | interval with respect to one end of a wiring pattern, and is arrange | positioned so that it may oppose noncontact. For this reason, this 1st measuring part 21 forms the capacitance C1 with respect to a wiring pattern. The signal is transmitted to the signal measuring unit 23 through the capacitance C1.

또한, 이 소정 간격은, 0.1 내지 0.5㎜로 설정되는 것이 바람직하다. 이 소정 간격은, 제 1 측정부(21)가 하나의 배선 패턴과 정전 용량(C1)을 형성하여야 하기 때문에, 상기 범위로 설정되는 것이 바람직하다. 또한, 배선 패턴으로부터의 전계(電界)는, 배선 패턴으로부터 약 30도의 퍼짐을 갖고서 확산되어 있기 때문에, 제 1 측정부(21)가 인접한 배선 패턴의 전계의 영향을 받지 않는 소정 간격(높이)을 갖을 필요가 있다.In addition, it is preferable that this predetermined space | interval is set to 0.1-0.5 mm. This predetermined interval is preferably set in the above range because the first measuring unit 21 must form one wiring pattern and the capacitance C1. In addition, since the electric field from the wiring pattern is diffused with a spread of about 30 degrees from the wiring pattern, the first measuring unit 21 has a predetermined interval (height) not affected by the electric field of the adjacent wiring pattern. You need to have

제 2 측정부(22)는, 도 4에서 도시되는 바와 같이, 배선 패턴의 타단부에서, 소정 간격을 갖음에 의해, 비접촉으로 배치된다. 이 때문에, 이 제 2 측정부(22)는, 제 1 측정부(21)와 마찬가지로 배선 패턴에 대해 정전 용량(C2)을 형성하게 된다. 이 정전 용량(C2)을 이용하여 신호를 신호 측정부(23)에 전달한다.As shown in FIG. 4, the 2nd measuring part 22 is arrange | positioned noncontact by having a predetermined space | interval at the other end part of a wiring pattern. For this reason, this 2nd measuring part 22 forms the capacitance C2 with respect to a wiring pattern similarly to the 1st measuring part 21. FIG. The capacitance is transmitted to the signal measuring unit 23 using the capacitance C2.

또한, 이 소정 간격은, 제 1 측정부(21)와 마찬가지로 0.1 내지 0.5㎜로 설정되는 것이 바람직하다. In addition, it is preferable that this predetermined space | interval is set to 0.1-0.5 mm similarly to the 1st measuring part 21.

이 제 2 측정부(22)가 배치되는 위치는, 특별히 한정되지 않고, 제 1 측정부(21)만을 배치할 수도 있고, 제 1 측정부(21)가 배치되는 위치와 반대측의 위치에 배치할 수도 있다.The position where this 2nd measuring part 22 is arrange | positioned is not specifically limited, Only the 1st measuring part 21 can also be arrange | positioned, and can be arrange | positioned in the position on the opposite side to the position where the 1st measuring part 21 is arrange | positioned. It may be.

제 1 및 제 2 측정부(21, 22)는, 급전 패드를 이용할 수가 있고, 도 3에서는 평면으로 보아 원형의 형상을 갖고 있지만 특별히 한정되지 않고, 검사 신호를 확실하게 측정할 수 있으면 좋다.The 1st and 2nd measuring parts 21 and 22 can use a power feeding pad, and although it has a circular shape in plan view in FIG. 3, it is not specifically limited, What is necessary is just to be able to measure a test signal reliably.

이들 제 1 및 제 2 측정부(21, 22)는, 도 3에서 도시되는 바와 같이, 복수의 배선 패턴에 개략 직교하는(도 3의 화살표의 방향) 방향으로 소정 속도로 이동한다.As shown in FIG. 3, these 1st and 2nd measuring parts 21 and 22 move at a predetermined speed in the direction which is substantially orthogonal to the some wiring pattern (direction of the arrow of FIG. 3).

이 때문에, 제 1 및 제 2 측정부(21, 22)는, 소정 간격으로 배선 패턴의 신호를 검출할 수 있고, 복수의 배선 패턴으로부터 연속하여 신호를 검출할 수 있다.For this reason, the 1st and 2nd measuring parts 21 and 22 can detect the signal of a wiring pattern at predetermined intervals, and can detect a signal continuously from a some wiring pattern.

또한, 제 1 측정부(21) 및 제 2 측정부(22)가 측정하는 신호의 크기를 증폭하는 앰프를 마련하여도 상관없다.Moreover, you may provide the amplifier which amplifies the magnitude | size of the signal which the 1st measuring part 21 and the 2nd measuring part 22 measure.

제 1 내지 제 3 신호 측정부(23, 24, 25)는, 제 1 측정부(21)와 제 2 측정부(22)로부터의 신호를 측정한다. 이들의 신호 측정부는 교류 전압계가 이용된다.The first to third signal measuring units 23, 24 and 25 measure the signals from the first measuring unit 21 and the second measuring unit 22. An AC voltmeter is used for these signal measuring parts.

신호 측정부(23)는, 제 1 측정부(21) 및 제 2 측정부(22)로부터의 신호를 검출한다. 이 신호 측정부(23)가 검출한 신호는, 후술하는 검사 신호 산출 수단(3)에 송신된다.The signal measuring unit 23 detects signals from the first measuring unit 21 and the second measuring unit 22. The signal detected by the signal measuring unit 23 is transmitted to the test signal calculating means 3 described later.

제 2 신호 측정부(24) 및 제 3 신호 측정부(25)는, 기준 전위를 설정하기 위해 접지되어 있고, 각각 기준 전위로부터의 배선 패턴의 전위를 측정할 수 있다.The 2nd signal measuring part 24 and the 3rd signal measuring part 25 are grounded in order to set the reference electric potential, and can respectively measure the electric potential of the wiring pattern from a reference electric potential.

본 설명에서는, 편의상 3개의 신호 측정부를 마련하고 있지만, 배선 패턴의 전위를 측정할 수 있으면 수는 한정되지 않는다.In the present description, three signal measuring units are provided for convenience, but the number is not limited as long as the potential of the wiring pattern can be measured.

이 신호 검출 수단(2)의 양 측정부는, 유리 기판(100)상의 자신의 위치를 특 정하기 위한 위치 결정부(도시 생략)를 갖고 있는 것이 바람직하다. 이 위치 결정부를 갖음에 의해, 후술하는 도통 및/또는 단락 검사를 행한 경우에, 불량이 검출된 때에 어느 배선 패턴으로부터 불량이 검출되었는지를 특정할 수 있기 때문이다.It is preferable that the quantity measuring part of this signal detection means 2 has a positioning part (not shown) for specifying the position of itself on the glass substrate 100. As shown in FIG. This is because by having this positioning section, when conduction and / or short-circuit inspection described later can be specified, from which wiring pattern the defect was detected when the defect was detected.

이 위치 결정부는, 속도계나 전류 측정계를 이용하여 x-y의 이동 거리를 산출함에 의해 상기 기능을 갖을 수가 있지만, 제 1 및 제 2 측정부(21, 22)의 위치를 결정할 수 있는 기능이라면 특별히 한정되지 않는다.Although this positioning part can have the said function by calculating the moving distance of xy using a speedometer or a current measuring system, if it is a function which can determine the position of the 1st and 2nd measuring parts 21 and 22, it will not specifically limit. Do not.

전극부(5)는, 소망하는 하나 또는 복수의 배선 패턴에 대해 신호를 인가(공급)하기 위해 이용된다. 이 전극부(5)는, 제 1 전극부(51), 제 2 전극부(52), 제 3 전극부(53), 제 4 전극부(54)를 구비한다.The electrode portion 5 is used to apply (supply) a signal to one or more desired wiring patterns. This electrode part 5 is equipped with the 1st electrode part 51, the 2nd electrode part 52, the 3rd electrode part 53, and the 4th electrode part 54. As shown in FIG.

제 1 전극부(51)는, 검사 대상의 배선 패턴의 일단부에서, 소정 간격을 갖고서 물리적으로 비접촉으로 배치된다. 도 3에서는, 배선 패턴(제 1 선형상부(811) 및 제 2 선형상부(821))의 좌측단 근방에 배치된다. 이 제 1 전극부(51)는, 제 1 측정부(21)보다도 내측에 배치되어 있다.The 1st electrode part 51 is arrange | positioned at the one end part of the wiring pattern to test | inspection at physically non-contact at predetermined intervals. In FIG. 3, it is arrange | positioned in the vicinity of the left end of the wiring pattern (1st linear top part 811 and 2nd linear top part 821). This 1st electrode part 51 is arrange | positioned inside the 1st measuring part 21. As shown in FIG.

이 제 1 전극부(51)가 배선 패턴에 신호를 공급하는 경우는, 상기한 바와 같이, 제 1 전극부(51)와 배선 패턴이 소정 간격을 갖고서 배치되는 것으로 되기 때문에, 배선 패턴에 대해 정전 용량을 형성하게 된다. 이 정전 용량을 통하여 신호를 인가한다. 이 소정 간격은, 0.1 내지 0.5㎜로 설정된다.When the first electrode portion 51 supplies a signal to the wiring pattern, as described above, since the first electrode portion 51 and the wiring pattern are arranged at a predetermined interval, an electrostatic discharge is caused to the wiring pattern. It will form a capacity. The signal is applied through this capacitance. This predetermined interval is set to 0.1 to 0.5 mm.

제 1 전극부(51)는, 적어도 검사 대상이 되는 배선 패턴과 이 배선 패턴에 인접하게 되는 2개의 배선 패턴을 대향하도록 형성된다. 이와 같이 형성됨에 의해, 검사 대상이 되는 배선 패턴의 도통과, 이 배선 패턴이 인접하는 2개의 배선 패턴 (예를 들면, 도 3에서는 상하의 옆의 위치에 배치되는 배선 패턴)과의 단락 검사를 행할 수가 있기 때문이다.The first electrode portion 51 is formed so as to oppose at least the wiring pattern to be inspected and two wiring patterns adjacent to the wiring pattern. By forming in this way, the short circuit test | inspection of the conduction of the wiring pattern used as a test object, and two wiring patterns which this wiring pattern adjoins (for example, the wiring pattern arrange | positioned in the upper and lower side positions in FIG. 3) can be performed. Because there is a number.

또한, 도 3에서는, 병설된 복수의 배선 패턴 전부에 대해, 신호를 인가할 수 있도록 병설 방향에 대해 개략 직각 방향으로 교차하도록 배치되어 있다.In addition, in FIG. 3, it arrange | positions so that it may cross in a substantially perpendicular direction with respect to a parallel direction so that a signal can be applied to all the multiple wiring patterns provided in parallel.

이 제 1 전극부(51)는, 후술하는 소정의 급전 수단의 신호를 배선 패턴에 인가한다. 도 3에서는, 제 1 전극부(51)에 의해, 제 2 급전 수단(42), 제 3 급전 수단(43) 및 제 4 급전 수단(44)으로부터의 신호를 공급하고 있다.The first electrode part 51 applies a signal of a predetermined power supply means described later to the wiring pattern. In FIG. 3, the signal from the second power supply means 42, the third power supply means 43, and the fourth power supply means 44 is supplied by the first electrode portion 51.

또한, 이 제 1 전극부(51)는 도 3에서 하나의 부재로부터 형성되어 있지만, 각 급전 수단에 응하는 수만큼 마련하여도 상관없다.In addition, although this 1st electrode part 51 is formed from one member in FIG. 3, you may provide as many as the number corresponding to each power supply means.

또한, 이 제 1 전극부(51)가 배선 패턴에 대해 정전 용량(Ca)을 형성하게 된다.In addition, the first electrode portion 51 forms the capacitance Ca with respect to the wiring pattern.

제 2 전극부(52)는, 제 1 전극부(51)와 개략 같은 구성을 갖고 있고, 제 1 전극부(51)와 검사 기판에 대해 선대칭이 되는 위치(도 3 참조)에 배치된다.The 2nd electrode part 52 has a structure substantially the same as the 1st electrode part 51, and is arrange | positioned in the position (refer FIG. 3) which is linearly symmetrical with respect to the 1st electrode part 51 and an inspection board | substrate.

이 제 2 전극부(52)는, 제 1 급전 수단(41), 제 2 급전 수단(42) 및 제 4 급전 수단(44)으로부터의 신호를 배선 패턴에 인가한다. The second electrode portion 52 applies a signal from the first power feeding means 41, the second power feeding means 42, and the fourth power feeding means 44 to the wiring pattern.

또한, 이 제 2 전극부(52)가 배선 패턴에 대해 정전 용량(Cb)을 형성하게 된다.In addition, the second electrode portion 52 forms the capacitance Cb with respect to the wiring pattern.

제 3 전극부(53)는, 제 1 배선 패턴(81)의 제 1 베이스부(812)와 물리적으로 접촉하여 배치된다. 이 제 3 전극부(53)는, 제 1 급전 수단(41), 제 4 급전 수단(44) 및 제 5 급전 수단(45)으로부터의 신호를 인가한다. 제 3 전극부(53)는, 배 선 패턴과 물리적으로 접촉하고 있고, 직접 신호를 인가하게 된다.The third electrode portion 53 is disposed in physical contact with the first base portion 812 of the first wiring pattern 81. The third electrode portion 53 applies a signal from the first power feeding means 41, the fourth power feeding means 44, and the fifth power feeding means 45. The third electrode portion 53 is in physical contact with the wiring pattern and directly applies a signal.

제 4 전극부(54)는, 제 2 배선 패턴(82)의 제 2 베이스부(822)와 물리적으로 접촉하여 배치된다. 이 제 4 전극부(54)는, 제 3 급전 수단(43), 제 4 급전 수단(44) 및 제 5 급전 수단(45)으로부터의 신호를 인가한다. 제 4 전극부(54)는, 배선 패턴과 물리적으로 접촉하고 있고, 직접 신호를 인가하게 된다. 이들의 제 3 전극부(53)나 제 4 전극부(54)는, 도 3에서 도시되는 바와 같이, 모든 제 1 배선 패턴(81)의 제 1 베이스부(812)와, 제 2 배선 패턴(82)의 제 2 베이스부(822)를 각각 접속하고 있게 된다.The fourth electrode portion 54 is disposed in physical contact with the second base portion 822 of the second wiring pattern 82. The fourth electrode portion 54 applies signals from the third power feeding means 43, the fourth power feeding means 44, and the fifth power feeding means 45. The fourth electrode portion 54 is in physical contact with the wiring pattern and directly applies a signal. These 3rd electrode part 53 and the 4th electrode part 54 are the 1st base part 812 of all the 1st wiring patterns 81, and the 2nd wiring pattern (as shown in FIG. 3). The second base portions 822 of 82 are respectively connected.

제 3 전극부(53)와 제 4 전극부(54)는, 제 1 베이스부(812)와 제 2 베이스부(822)를 각각 접속하기 위해, 대향 위치에 배치된다.The third electrode portion 53 and the fourth electrode portion 54 are disposed at opposing positions so as to connect the first base portion 812 and the second base portion 822, respectively.

급전 수단(4)은, 검사 대상이 되는 배선 패턴에 검사용의 신호(전류나 전압)를 공급한다. 본 발명의 기판 검사 장치(1)는, 일정 주기를 갖는 복수의 신호를 배선 패턴에 인가함에 의해, 배선 패턴상에 도시되는 신호 레벨(출력)을 검출함에 의해, 검사 대상이 되는 배선 패턴의 도통 및 단락을 검사하는 것이다.The power supply means 4 supplies a signal (current or voltage) for inspection to the wiring pattern to be inspected. The board | substrate test | inspection apparatus 1 of this invention detects the signal level (output) shown on a wiring pattern by applying the some signal which has a fixed period to a wiring pattern, and the conduction of the wiring pattern used as a test object is carried out. And short circuits.

이 급전 수단(4)은, 상기 제 1 내지 제 4 전극부(51, 52, 53, 54)에 의해, 각 제 1 내지 제 5 급전 수단(41 내지 45)의 신호를 공급한다.This power supply means 4 supplies the signal of each of the 1st-5th power supply means 41-45 by the said 1st-4th electrode part 51, 52, 53, 54. As shown in FIG.

이 급전 수단(4)은, 하나의 전원을 이용하여 선택되는 전극부 사이에 신호를 공급하도록 배치하여도 좋지만, 복수의 전원을 이용함에 의해 각 전극 사이에 동시에 신호를 공급한다. Although the power supply means 4 may be arrange | positioned so that a signal may be supplied between the electrode parts selected using one power supply, it uses a plurality of power supplies, and supplies a signal simultaneously between each electrode.

도 3에 도시되는 본 실시 형태에서는, 급전 수단(4)이, 제 1 급전 수단(41), 제 2 급전 수단(42), 제 3 급전 수단(43), 제 4 급전 수단(44) 및 제 5 급전 수단(45)을 구비하여 이루어진다.In this embodiment shown in FIG. 3, the power supply means 4 includes the first power supply means 41, the second power supply means 42, the third power supply means 43, the fourth power supply means 44, and the first power supply means 4. 5 power supply means 45 is provided.

제 1 급전 수단(41)은, 제 2 및 제 3 전극부(52, 53)에 소정 주기를 갖는 제 1 기준 신호(f1)를 공급한다. 이 때문에, 제 1 급전 수단(41)은, 도 3에서 도시되는 바와 같이, 제 3 전극부(53)와 제 2 전극부(52)와 직렬로 접속되도록 배치된다.The first power supply means 41 supplies the first and second reference signals f1 having a predetermined period to the second and third electrode portions 52 and 53. For this reason, the 1st power supply means 41 is arrange | positioned so that it may be connected in series with the 3rd electrode part 53 and the 2nd electrode part 52, as shown in FIG.

제 2 급전 수단(42)은, 제 1 및 제 2 전극부(51, 52)에 소정 주기를 갖는 제 2 기준 신호(f2)를 공급한다. 이 때문에, 제 2 급전 수단(42)은, 도 3에서 도시되는 바와 같이, 제 1 전극부(51)와 제 2 전극부(52) 사이에 직렬로 접속되도록 배치된다.The second power supply means 42 supplies the second reference signal f2 having a predetermined period to the first and second electrode portions 51 and 52. For this reason, the 2nd power supply means 42 is arrange | positioned so that it may be connected in series between the 1st electrode part 51 and the 2nd electrode part 52, as shown in FIG.

제 3 급전 수단(43)은, 제 1 및 제 4 전극부(51, 54)에 소정 주기를 갖는 제 3 기준 신호(f3)를 공급한다. 이 때문에, 제 2 급전 수단(42)은, 도 3에서 도시되는 바와 같이, 제 1 전극부(51)와 제 4 전극부(54) 사이에 직렬로 접속되도록 배치된다.The third power supply means 43 supplies the third reference signal f3 having a predetermined period to the first and fourth electrode portions 51 and 54. For this reason, the 2nd power supply means 42 is arrange | positioned so that it may be connected in series between the 1st electrode part 51 and the 4th electrode part 54, as shown in FIG.

제 4 급전 수단(44)은, 제 1 전극부(51), 제 2 전극부(52), 제 3 전극부(53) 및 제 4 전극부(54)에 소정 주기를 갖는 제 4 기준 신호(f4)를 공급한다. 이 때문에, 제 4 급전 수단(44)은, 제 1 전극부(51) 및 제 2 전극부(52)를 한쪽의 단자로 하고, 제 3 전극부(53) 및 제 4 전극부(54)를 다른쪽의 단자로 하여, 이 단자 사이를 직렬로 접속되도록 배치된다.The fourth power supply means 44 includes a fourth reference signal having a predetermined period in the first electrode portion 51, the second electrode portion 52, the third electrode portion 53, and the fourth electrode portion 54 ( f4). For this reason, the 4th power supply means 44 makes the 1st electrode part 51 and the 2nd electrode part 52 into one terminal, and sets the 3rd electrode part 53 and the 4th electrode part 54 to one terminal. As another terminal, it arrange | positions so that these terminals may be connected in series.

제 5 급전 수단(45)은, 제 3 전극부(53)와 제 4 전극부(54)에 소정 주기를 갖는 제 5 기준 신호(f5)를 공급한다. 이 때문에, 제 5 급전 수단(45)은, 도 3에서 도시되는 바와 같이, 제 3 전극부(53)와 제 4 전극부(54) 사이에 직렬로 접속되도록 배치된다.The fifth power supply means 45 supplies the fifth reference signal f5 having a predetermined period to the third electrode portion 53 and the fourth electrode portion 54. For this reason, the 5th power supply means 45 is arrange | positioned so that it may be connected in series between the 3rd electrode part 53 and the 4th electrode part 54, as shown in FIG.

제 1 급전 수단(41) 내지 제 5 급전 수단(45)이 각각 갖는 제 1 기준 신호(f1) 내지 제 5 기준 신호(f5)는, 각각 상위한 주파수의 정현파의 신호를 이용한다. 예를 들면, 이들의 기준 신호는, 후술하는 검사 신호 산출 수단(3)에서 신호를 이용하는 경우에, 각각의 신호를 추출함에 의해, 소정 개소의 도통 또는 단락을 검사할 수 있다.The first reference signals f1 to the fifth reference signals f5 of the first power feeding means 41 to the fifth power feeding means 45 each use signals of sinusoids of higher frequencies. For example, when these signals are used by the test signal calculation means 3 described later, the conduction or short circuit at a predetermined point can be checked by extracting each signal.

도 3에서 도시되어 있는 제 1 급전 수단(41) 내지 제 5 급전 수단(45)은, 각각 교류 신호를 인가하는 2개의 급전부를 갖고 있는 것이 바람직하다. 2개의 급전부는, 180도 위상이 상위하도록 설정된다. 또한, 이들의 급전부는, 검사 대상이 되는 배선 패턴에 대해 같은 임피던스가 부하되도록 출력 레벨을 조정할 수 있다.It is preferable that the 1st power supply means 41 thru | or 5th power supply means 45 shown in FIG. 3 have two power supply parts which respectively apply an alternating current signal. The two power feeding units are set to be 180 degrees out of phase. In addition, these feeders can adjust the output level so that the same impedance is loaded with respect to the wiring pattern to be inspected.

검사 신호 산출 수단(3)은, 후술하는 제어 수단(6)에 있어서 처리되는 도통 검사 및 단락 검사를 위한 신호를 산출한다.The inspection signal calculation means 3 calculates a signal for the conduction inspection and the short circuit inspection processed by the control means 6 described later.

검사 신호 산출 수단(3)은, 신호 수신부(31)와 위상 산출부(32)를 갖고서 이루어진다.The test signal calculating means 3 has a signal receiving unit 31 and a phase calculating unit 32.

이 신호 수신부(31)는, 제 1 내지 제 5 급전 수단(41, 42, 43, 44, 45)으로부터의 기준 신호와 신호 검출 수단(2)에 의해 검출된 신호를 수신한다.The signal receiver 31 receives the reference signal from the first to fifth power feeding means 41, 42, 43, 44, 45 and the signal detected by the signal detecting means 2.

신호 수신부(31)는, 수신한 이들의 신호를 위상 산출부(32)에 송신한다.The signal receiver 31 transmits these received signals to the phase calculator 32.

위상 산출부(32)는, 제 1 위상 산출부(32a), 제 2 위상 산출부(32b), 제 3 위상 산출부(32c), 제 4 위상 산출부(32d)와 제 5 위상 산출부(32e)를 갖고 있다. 이들의 각 위상 산출부는, 각각의 수신한 신호를 기초로 위상 검파를 행하고, 소정의 부위의 도통 또는 단락의 검사를 행하기 위한 결과를 얻는다.The phase calculator 32 includes a first phase calculator 32a, a second phase calculator 32b, a third phase calculator 32c, a fourth phase calculator 32d and a fifth phase calculator ( 32e). Each of these phase calculators performs phase detection based on the respective received signals, and obtains a result for conducting or inspecting a short circuit of a predetermined site.

제 1 위상 산출부(32a)는, 신호 검출 수단(2)의 측정치로부터 제 1 기준 신호(f1)를 기초로, 위상 검파를 행한다. 제 1 위상 산출부(32a)의 이 위상 검파의 결과(제 1 결과)를, 제어 수단(6)에 송신한다.The first phase calculation unit 32a performs phase detection based on the first reference signal f1 from the measured value of the signal detection means 2. The result (first result) of this phase detection of the first phase calculator 32a is transmitted to the control means 6.

제 2 위상 산출부(32b)는, 신호 검출 수단(2)의 측정치로부터 제 2 기준 신호(f2)를 기초로, 위상 검파를 행한다. 제 2 위상 산출부(32b)의 이 위상 검파의 결과(제 2 결과)를, 제어 수단(6)에 송신한다.The second phase calculator 32b performs phase detection based on the second reference signal f2 from the measured value of the signal detection means 2. The result (second result) of this phase detection of the second phase calculator 32b is transmitted to the control means 6.

제 3 위상 산출부(32c)는, 신호 검출 수단(2)의 측정치로부터 제 1 기준 신호(f3)를 기초로, 위상 검파를 행한다. 제 3 위상 산출부(32c)의 이 위상 검파의 결과(제 3 결과)를, 제어 수단(6)에 송신한다.The third phase calculation unit 32c performs phase detection based on the first reference signal f3 from the measured value of the signal detection means 2. The result (third result) of this phase detection of the third phase calculator 32c is transmitted to the control means 6.

제 4 위상 산출부(32d)는, 신호 검출 수단(2)의 측정치로부터 제 2 기준 신호(f4)를 기초로, 위상 검파를 행한다. 제 4 위상 산출부(32d)의 이 위상 검파의 결과(제 4 결과)를, 제어 수단(6)에 송신한다.The fourth phase calculation unit 32d performs phase detection based on the second reference signal f4 from the measured value of the signal detection means 2. The result (fourth result) of this phase detection of the fourth phase calculating section 32d is transmitted to the control means 6.

제 5 위상 산출부(32e)는, 신호 검출 수단(2)의 측정치로부터 제 1 기준 신호(f5)를 기초로, 위상 검파를 행한다. 제 5 위상 산출부(32e)의 이 위상 검파의 결과(제 5 결과)를, 제어 수단(6)에 송신한다.The fifth phase calculation unit 32e performs phase detection based on the first reference signal f5 from the measured value of the signal detection means 2. The result (fifth result) of this phase detection of the fifth phase calculation section 32e is transmitted to the control means 6.

이들 각 위상 산출부는, 검사 대상의 배선 패턴에 인가되는 기준 신호를 기초로, 측정치로부터 위상 검파를 행함에 의해, 대상의 배선 패턴에 인가되어 있는 신호 레벨을 파악할 수 있다.Each of these phase calculators can grasp the signal level applied to the target wiring pattern by performing phase detection from the measured value based on the reference signal applied to the wiring pattern to be inspected.

제어 수단(6)은, 검사 신호 산출 수단(3)으로부터 산출된 결과를 기초로, 배선 패턴의 도통 및 단락을 검사한다.The control means 6 checks the conduction and short circuit of a wiring pattern based on the result computed from the test signal calculation means 3.

이 제어 수단(6)은, 상기 제 1 내지 제 5 결과를 기초로, 배선 패턴의 도통 검사를 행하는 도통 검사부(61)와, 배선 패턴의 단락 검사를 행하는 단락 검사부(62)를 갖고 있다.This control means 6 has the conduction | inspection inspection part 61 which performs the conduction | conduction test of a wiring pattern, and the short circuit inspection part 62 which performs the short circuit inspection of a wiring pattern based on the said 1st-5th result.

이들의 도통 검사부(61)와 단락 검사부(62)의 기본 원리는, 제 1 결과 내지 제 5 결과를 기초로, 배선 패턴의 위치를 특정하고, 그 특정된 배선 패턴이 도통 또는 단락하지 않는지의 확인을 행한다.The basic principle of these conduction inspection part 61 and the short circuit inspection part 62 specifies the position of a wiring pattern based on a 1st result-a 5th result, and confirms that the specified wiring pattern does not conduct or short-circuit. Is done.

도통 검사부(61)와 단락 검사부(62)의 구체적인 동작을, 도 6을 이용하여 설명한다. 도 6은, 양품시에 있어서의 배선 패턴으로부터의 제 1 결과 내지 제 5 결과를 도시하고 있다. The concrete operation | movement of the conduction | inspection inspection part 61 and the short circuit inspection part 62 is demonstrated using FIG. FIG. 6 shows the first to fifth results from the wiring pattern in the case of good quality.

도 6에서 도시되는 f1 내지 f5는, 제 1 기준 신호(f1) 내지 제 5 기준 신호(f5)를 기초로, 각 위상 산출부에 의해 산출된 제 1 내지 제 5 결과를 나타내고 있다.The f1-f5 shown in FIG. 6 have shown the 1st-5th result computed by each phase calculating part based on the 1st reference signal f1-the 5th reference signal f5.

또한, 본 발명의 도통 검사부(61)와 단락 검사부(62)는, 제 1 결과 내지 제 5 결과의 어느 하나의 결과를 이용하여 배선 패턴의 위치 결정을 행하는지에 의해, 그 결과가 이용되는 쪽의 순번이 변경된다.In addition, the conduction test | inspection part 61 and the short circuit test | inspection part 62 of this invention use the result of which of the 1st thru | or 5th result to position wiring pattern, and the result of which the result is used. The sequence number is changed.

제 5 결과를 배선 패턴의 위치 결정에 이용하는 경우를 설명한다.The case where the fifth result is used for positioning of the wiring pattern will be described.

도통 검사부(61)는, 제 5 결과에 의해, 배선 패턴의 위치를 특정한다. 도 6에서는, 제 5 결과로부터 소정치보다 높은 장소(미리 설정된 임계치보다도 높은 장 소. 도 6에서 도시되는 둥근표시의 장소)가, 제 1 배선 패턴(81)의 장소가 된다.The conduction | inspection inspection part 61 specifies the position of a wiring pattern by the 5th result. In FIG. 6, the place higher than the predetermined value (the place higher than the preset threshold. The place of round display shown in FIG. 6) becomes the place of the first wiring pattern 81 from the fifth result.

다음에, 제 1 배선 패턴(81)의 위치가 결정되면, 제 1 결과를 검증한다. 이때, 이 특정되는 장소의 값이, 제 1 결과로부터 소정치(미리 설정된 임계치)보다도 낮으면 도통하고 있다고 판단한다. 한편으로, 이 특정한 장소의 제 1 결과의 값이 소정치보다도 높은 값이면 도통하고 있지 않는(불량)다고 판단한다.Next, when the position of the first wiring pattern 81 is determined, the first result is verified. At this time, if the value of this specific place is lower than predetermined value (preset threshold value) from a 1st result, it is judged that it is conducting. On the other hand, if the value of the 1st result of this specific place is higher than predetermined value, it will be judged that it is not conducting (bad).

다음에, 도통 검사부(61)는, 제 5 결과로부터 소정치보다도 낮은 장소(미리 설정된 임계치보다도 낮은 장소. 도 6에서 도시되는 사각표시의 장소)가, 제 2 배선 패턴(82)의 장소가 된다.Next, in the conduction inspection unit 61, a place lower than a predetermined value (a place lower than a preset threshold. A place indicated by a square shown in Fig. 6) becomes a place of the second wiring pattern 82 from the fifth result. .

다음에, 제 2 배선 패턴(82)의 위치가 결정되면, 제 3 결과의 상태를 검증한다. 이때, 이 특정되는 장소의 값이, 제 3 결과로부터 소정치(미리 설정된 임계치)보다도 낮으면 도통하고 있다고 판단한다. 한편으로, 이 특정한 장소의 제 3 결과의 값이 소정치보다도 높은 값이면 도통하고 있지 않는(불량)다고 판단한다.Next, when the position of the second wiring pattern 82 is determined, the state of the third result is verified. At this time, if the value of this specific place is lower than predetermined value (preset threshold value) from a 3rd result, it is judged that it is conducting. On the other hand, if the value of the 3rd result of this specific place is higher than predetermined value, it will be judged that it is not conducting (poor).

다음에, 단락 검사부(62)는, 제 4 결과를 기초로, 제 1 배선 패턴(81)과 제 2 배선 패턴(82)의 단락을 판단한다. 이 경우, 단락 검사부(62)는, 상기한 바와 같은 특정되는 제 1 배선 패턴(81)의 2개의 위치 사이에, 이 제 4 결과의 소정치보다도 높은 값(도 6에서 도시되는 삼각표시의 장소)이 존재하고 있으면, 단락하고 있지 않다고 판단한다. 한편으로, 높은 값이 존재하지 않는 경우에는, 제 1 배선 패턴(81) 또는 제 2 배선 패턴(82)이 제 3 배선 패턴(83)과 단락하고 있다고 판단한다.Next, the short circuit inspection part 62 determines the short circuit of the 1st wiring pattern 81 and the 2nd wiring pattern 82 based on a 4th result. In this case, the short-circuit inspection unit 62 has a value higher than the predetermined value of the fourth result between the two positions of the first wiring pattern 81 specified above (the place of the triangular display shown in FIG. 6). If there exists), it is judged that there is no short circuit. On the other hand, when a high value does not exist, it is determined that the first wiring pattern 81 or the second wiring pattern 82 is short-circuited with the third wiring pattern 83.

또한, 이 경우, 제 5 결과의 2개의 둥근표시 사이에, 제 4 결과의 삼각표시 가 존재하고 있는 것으로 되어, 제 3 배선 패턴은 단락하고 있지 않다고 판단한다.In this case, the triangular display of the fourth result is present between the two rounded displays of the fifth result, and it is determined that the third wiring pattern is not short-circuited.

그리고, 도통 검사부(61)는, 제 4 결과로부터 소정치보다도 높은 장소를 특정한 후에, 이 장소에 응하는 제 2 결과를 검증한다.And the conduction | inspection test part 61 verifies the 2nd result corresponding to this place, after specifying the place higher than a predetermined value from a 4th result.

이때, 제 2 결과가 소정치보다도 작은 경우에는, 제 3 배선 패턴(83)은 도통하고 있다고 판단한다.At this time, when the second result is smaller than the predetermined value, it is determined that the third wiring pattern 83 is conducting.

이와 같이, 제 1 결과 내지 제 2 결과를 기초로 하여, 제 1 배선 패턴(81) 내지 제 3 배선 패턴(83)의 도통과 단락을 판단할 수 있다.In this way, the conduction and short circuit of the first wiring patterns 81 to the third wiring pattern 83 can be determined based on the first to second results.

또한, 상기한 제 1 내지 제 5 결과를 이용하는 순서는, 한 실시 형태에 지나지 않는다.In addition, the order which uses said 1st thru | or 5th result is only one embodiment.

다음에, 배선 패턴에 불량이 존재하는 경우를 설명한다.Next, the case where a defect exists in a wiring pattern is demonstrated.

도 7은, 제 1 배선 패턴이 도통 불량을 일으키고 있는 경우를 도시한다.FIG. 7 shows the case where the first wiring pattern is causing poor conductive.

이 경우, 도통 검사부(61)가, 제 5 결과로부터, 소정치보다도 높은 값을 나타내는 장소를, 제 1 배선 패턴(81)의 위치(둥근표시)로서 결정하고, 그 위치에서의 제 1 결과를 검증한다. 이때, 도통 불량의 제 1 배선 패턴(81)은, 제 1 결과가 소정치보다도 높은 값이 되어, 도통 불량이 발생하고 있는 것이 검출된다.In this case, the conduction inspection unit 61 determines, as the position (rounded display) of the first wiring pattern 81, the place showing the value higher than the predetermined value from the fifth result, and displays the first result at the position. Verify. At this time, as for the 1st wiring pattern 81 of the poor conduction, a 1st result becomes a value higher than predetermined value, and it is detected that a conduction defect has generate | occur | produced.

도 8은, 제 2 배선 패턴이 도통 불량을 일으키고 있는 경우를 도시한다.8 illustrates a case where the second wiring pattern is causing poor conduction.

이 경우, 도통 검사부(61)가, 제 5 결과로부터, 소정치보다도 낮은 값을 나타내는 장소를 제 2 배선 패턴(82)의 위치(사각표시)로서 결정하고, 그 위치에서의 제 3 결과를 검증한다. 이때, 도통 불량의 제 2 배선 패턴(82)은, 제 3 결과가 소정치보다도 높은 값이 되고, 도통 불량이 발생하고 있는 것이 검출된다.In this case, the conduction inspection unit 61 determines, as the position (square display) of the second wiring pattern 82, the place showing the value lower than the predetermined value from the fifth result, and verifies the third result at the position. do. At this time, as for the 2nd wiring pattern 82 of poor conduction, the 3rd result becomes a value higher than predetermined value, and it is detected that a conduction defect has generate | occur | produced.

도 9는 제 3 배선 패턴이 도통 불량을 일으키고 있는 경우를 도시한다.Fig. 9 shows a case where the third wiring pattern is causing poor conduction.

이 경우, 도통 검사부(61)가, 제 4 결과로부터, 제 3 배선 패턴(83)의 위치를 특정하고, 그 위치에서의 제 2 결과를 검증한다. 이때, 도통 불량의 제 3 배선 패턴(83)은, 제 2 결과가 소정치보다도 낮은 값이 되어, 도통 불량이 발생하고 있는 것이 검출된다.In this case, the conduction inspection unit 61 specifies the position of the third wiring pattern 83 from the fourth result and verifies the second result at that position. At this time, as for the 3rd wiring pattern 83 of the poor conduction, a 2nd result becomes a value lower than a predetermined value, and it is detected that a conduction defect has generate | occur | produced.

도 10은, 제 1 배선 패턴과 제 2 배선 패턴이 단락하고 있는 경우를 도시한다.10 shows a case where the first wiring pattern and the second wiring pattern are short-circuited.

이 경우, 단락 검사부(62)는, 제 5 결과에 의한 2개의 제 1 배선 패턴(81)(또는 제 2 배선 패턴(82)) 사이에 2개의 제 3 배선 패턴(83)이 존재하는 것이 검출된다. 이때, 제 1 배선 패턴(81)과 제 2 배선 패턴(82)이 단락하고 있기 때문에, 제 5 결과에 신호가 출력되지 않는 상태가 있고, 단락이 발생하고 있는 것이 검출된다.In this case, the short circuit inspection part 62 detects that two 3rd wiring patterns 83 exist between two 1st wiring patterns 81 (or 2nd wiring patterns 82) by a 5th result. do. At this time, since the 1st wiring pattern 81 and the 2nd wiring pattern 82 are short-circuited, there exists a state in which a signal is not output to 5th result, and it is detected that a short circuit has generate | occur | produced.

도 11은, 제 2 배선 패턴과 제 3 배선 패턴이 단락하고 있는 경우를 도시한다.11 illustrates a case where the second wiring pattern and the third wiring pattern are short-circuited.

이 경우, 단락 검사부(62)는, 제 4 결과와 제 5 결과에 의해, 2개의 제 1 배선 패턴(81)(또는 제 2 배선 패턴(82)) 사이에 제 3 배선 패턴(83)이 존재한 것을 나타내는 제 4 결과가 나타나지 않는 것을 알 수 있다. 이때, 제 3 배선 패턴이 단락하고 있는 상태인 것이 검출된다.In this case, the short circuit inspection part 62 has the 3rd wiring pattern 83 between two 1st wiring patterns 81 (or the 2nd wiring pattern 82) by a 4th result and a 5th result. It can be seen that a fourth result indicating that one did not appear. At this time, it is detected that the third wiring pattern is short-circuited.

또한, 제 3 배선 패턴(83)이, 제 1 배선 패턴(81) 또는 제 2 배선 패턴(82)의 어느것과 단락하고 있어도, 단락을 검출할 수 있다.Moreover, even if the 3rd wiring pattern 83 has a short circuit with either the 1st wiring pattern 81 or the 2nd wiring pattern 82, a short circuit can be detected.

다음에, 제 1 배선 패턴(81)과 제 2 배선 패턴(82)의 도통 및 단락의 판단을, 제 5 기준 신호를 이용하여 행한 다른 실시 형태를 설명한다.Next, another embodiment in which the conduction and short circuit of the first wiring pattern 81 and the second wiring pattern 82 are determined using the fifth reference signal will be described.

제 1 배선 패턴(81)과 제 2 배선 패턴(82)은, 평행하게 배치됨과 함께, 제 1 배선 패턴(81)이 제 3 전극부(53)에 물리적으로 접속되고, 제 2 배선 패턴(82)이 제 4 전극부(54)에 물리적으로 접속되어 있다.While the first wiring pattern 81 and the second wiring pattern 82 are arranged in parallel, the first wiring pattern 81 is physically connected to the third electrode portion 53, and the second wiring pattern 82 is provided. ) Is physically connected to the fourth electrode portion 54.

신호 검사 수단(2)에 의해 측정된 신호를, 검사 신호 산출 수단(3)에서, 제 5 기준 신호를 기초로, 동위상(同位相) 검파한 제 1 신호와 90도 위상 검파한 제 2 신호를 산출한다. 도 12에는, 동위상 검파한 제 1 신호(A)와 90도 위상 검파한 제 2 신호(B)를 행한 경우의 신호 출력의 개략을 도시한다.On the basis of the fifth reference signal, the signal measured by the signal inspecting means 2, the first signal detected in phase with the fifth reference signal, and the second signal 90 degrees phase detected. Calculate Fig. 12 shows an outline of the signal output when the first signal A in phase detection and the second signal B in phase detection of 90 degrees are performed.

이 도 12에서 도시되는 바와 같이, 제 1 배선 패턴(81)과 제 2 배선 패턴(82)에, 도통 불량 및 단락 불량이 존재하지 않는 경우에는, 개략 같은 파형의 반복이 표시되게 되는데, 도 12중의 (1)의 개소에서는, 정상적인 제 1 신호와 제 2 신호에 비하여, 제 1 신호와 제 2 신호와 함께 변화가 발생하고 있다. 이것은, 제 1 배선 패턴(81)이 도통 불량을 일으키고 있는 것이 이해된다.As shown in FIG. 12, when no conduction defect and short circuit defect exist in the first wiring pattern 81 and the second wiring pattern 82, a repetition of the same waveform is displayed. In the location (1), a change occurs with the first signal and the second signal as compared with the normal first signal and the second signal. This is understood that the first wiring pattern 81 is causing poor conduction.

또한, 도 12중의 (2)나 (3)의 개소에서는, 제 1 신호가 정상적인 제 1 신호에 비하여 큰 변화가 발생하고, 제 2 신호가 정상적인 제 2 신호에 비하여 다소의 변화가 발생하고 있다. 이것은, 제 1 배선 패턴(81)과 제 2 배선 패턴(82)이 단락 불량을 일으키고 있는 것이 이해된다.In addition, in the locations (2) and (3) in FIG. 12, a large change occurs in the first signal as compared with the normal first signal, and some change occurs as compared with the second signal in which the second signal is normal. It is understood that the first wiring pattern 81 and the second wiring pattern 82 cause short circuit failure.

또한, 도 12중의 (4)의 개소에서는, 제 1 신호가 정상적인 제 1 신호보다도 크게 돌출하도록 변화하고 있다. 이것은, 제 1 배선 패턴(81)이 도통 불량을 일으 키고 있는 것이 이해된다.In addition, in the position of (4) in FIG. 12, it changes so that a 1st signal may protrude larger than a normal 1st signal. This is understood that the first wiring pattern 81 causes a poor conduction.

이와 같이, 신호 검출 수단(2)에 의해 검출된 신호를, 검사 신호 산출 수단(3)에서, 제 5 기준 신호를 기초로, 동위상 검파와 90도 위상 검파함에 의해 얻어지는 2개의 신호를 이용하여, 제 1 배선 패턴(81) 또는 제 2 배선 패턴(82)의 도통 및 단락을 검사할 수 있다.In this way, the signal detected by the signal detecting means 2 is obtained by using the two signals obtained by the in-phase detection and the 90 degree phase detection on the basis of the fifth reference signal in the inspection signal calculating means 3. The conduction and short circuit of the first wiring pattern 81 or the second wiring pattern 82 can be inspected.

표시 수단(7)은, 처리 수단(6)에서 처리된 결과를 표시한다. 이 표시 수단(7)은, 이른바 액정 디스플레이 등의 표시 장치를 이용할 수 있다. 이상이 본 발명에 관한 한 실시 형태의 기판 검사 장치(1)의 구성의 설명이다.The display means 7 displays the result processed by the processing means 6. This display means 7 can use display apparatuses, such as what is called a liquid crystal display. The above is description of the structure of the board | substrate inspection apparatus 1 of one Embodiment which concerns on this invention.

다음에 본 발명에 관한 한 실시 형태의 기판 검사 장치(1)의 동작에 관해 설명한다.Next, operation | movement of the board | substrate inspection apparatus 1 of one Embodiment which concerns on this invention is demonstrated.

도 13은, 본 발명에 관한 한 실시 형태의 기판 검사 장치를 실시한 경우의 플로우 차트를 도시한다.FIG. 13 shows a flowchart in the case where the substrate inspection apparatus of the embodiment according to the present invention is implemented.

우선, 기판 검사 장치(1)의 재치대(11)에 유리 기판(100)을 재치하여, 이 기판(100)의 검사를 행할 수 있도록 준비한다(S1).First, the glass substrate 100 is placed on the mounting table 11 of the substrate inspection apparatus 1, and the substrate 100 is prepared to be inspected (S1).

이때, 기판(100)에는, 제 1 배선 패턴(81) 내지 제 3 배선 패턴(83)으로 이루어지는 배선 패턴(8)이 형성되어 있고, 이 배선 패턴(8)의 형상이나 배치 간격에 관한 정보가 기억 장치에 기억된다. 이와 같은 정보가 기억 장치에 기억되기 때문에, 신호 검출 수단(2)에 의한 검출되는 검출 신호가 어느 배선 패턴으로부터 검출된 검사 신호인지를 특정할 수 있다.At this time, the wiring pattern 8 which consists of the 1st wiring pattern 81 thru | or the 3rd wiring pattern 83 is formed in the board | substrate 100, and the information about the shape and arrangement | positioning interval of this wiring pattern 8 Are stored in memory. Since such information is stored in the storage device, it is possible to specify whether the detection signal detected by the signal detection means 2 is the inspection signal detected from which wiring pattern.

기판(100)이 준비되면, 제 1 급전 수단(41) 내지 제 5 급전 수단(45)이 인가 하는 기준 신호가 설정된다.When the substrate 100 is prepared, a reference signal applied by the first power feeding means 41 to the fifth power feeding means 45 is set.

검사 준비가 완료되면, 신호 검출 수단(2)이 배선 패턴(8)의 소정의 위치를 이동한다(S2).When the test preparation is completed, the signal detecting means 2 moves the predetermined position of the wiring pattern 8 (S2).

이때, 신호 검출 수단(2)은 각 배선 패턴상에 인가되는 검출 신호를 연속적으로 검출하고, 신호 측정부(23)(또는 신호 측정부(24, 25))에 의해 측정된 검사 신호가 검사 신호 산출 수단(3)에 보내진다.At this time, the signal detecting means 2 continuously detects a detection signal applied on each wiring pattern, and the test signal measured by the signal measuring unit 23 (or the signal measuring units 24 and 25) is a test signal. It is sent to the calculation means 3.

검사 신호 산출 수단(3)은, 신호 검출 수단(2)으로부터의 검출 신호를 수신하고, 도통 검사 및 단락 검사에 이용되는 검출 신호를 산출한다(S3).The inspection signal calculation means 3 receives the detection signal from the signal detection means 2, and calculates the detection signal used for a continuity test and a short circuit test (S3).

이때, 각 위상 산출부에 의해, 상기한 바와 같이, 도통 및 단락에 필요하게 되는 검사 신호가 검파에 의해 산출된다.At this time, the inspection signals required for conduction and short-circuit are calculated by detection by each phase calculating section as described above.

검사 신호 산출 수단(3)은, 이들의 검사 신호를 제어 수단(6)의 도통 검사부(61)와 단락 검사부(62)에 송신한다.The inspection signal calculation means 3 transmits these inspection signals to the conduction inspection part 61 and the short circuit inspection part 62 of the control means 6.

도통 검사부(61)는, 상기한 설명과 같은 방법에 의해, 제 1 배선 패턴(81) 내지 제 3 배선 패턴(83)의 도통의 검사를 행한다(S4).The conduction | inspection test part 61 performs the test | inspection of the conduction of the 1st wiring pattern 81 thru | or the 3rd wiring pattern 83 by the method similar to the above-mentioned description (S4).

단락 검사부(62)는, 상기한 설명과 같은 방법에 의해, 제 1 배선 패턴(81) 내지 제 3 배선 패턴(83)의 단락의 검사를 행한다(S5).The short circuit inspection part 62 inspects the short circuit of the 1st wiring pattern 81 thru | or the 3rd wiring pattern 83 by the method similar to the above-mentioned description (S5).

이들의 검사부의 결과에 따라 피검사 기판이, 양품인지 불량품인지 판단한다(S6).Based on the results of these inspection units, it is determined whether the inspected substrate is a good product or a defective product (S6).

표시 수단(7)은, 제어 수단(6)으로부터의 판단 결과를 표시한다(S7).The display means 7 displays the determination result from the control means 6 (S7).

산업상 이용가능성Industrial availability

본 발명에 관한 기판 검사 장치 및 기판 검사 방법은, 유리 기판으로 한하지 않고, 프린트 배선 기판, 플렉시블 기판, 다층 배선 기판 및 반도체 패키지용의 필름 캐리어 등의 여러가지의 기판에 적용할 수 있고, 특히, 복수의 선형상의 배선 패턴이 병설됨과 함께, 물리적으로 독립하여 배치되는 배선 패턴을 갖는 경우에 효과적으로 사용할 수 있다.The board | substrate test | inspection apparatus and board | substrate test | inspection method which concern on this invention are applicable to various board | substrates, such as not only a glass substrate but a printed wiring board, a flexible board | substrate, a multilayer wiring board, and a film carrier for semiconductor packages, Especially, A plurality of linear wiring patterns can be provided in parallel, and can be effectively used when the wiring patterns are physically arranged independently.

청구항 제 1항에 기재된 발명에 의하면, 제 1 선형상부와 해당 제 1 선형상부의 일단으로부터 연장 설치되는 제 1 베이스부를 갖는 제 1 배선 패턴과, 제 2 선형상부와 해당 제 2 선형상부의 일단으로부터 연장 설치되는 제 2 베이스부를 갖음과 함께, 상기 제 1 배선 패턴과 대향 위치에 배치되는 제 2 배선 패턴과, 상기 제 1 및 제 2 배선 패턴 사이에 배치되는 차광 기능을 갖는 제 3 배선 패턴이 복수 형성된 기판을 검사하는 기판 검사 장치로서, 검사 대상이 되는 하나의 배선 패턴에 물리적으로 비접촉으로 배치됨과 함께 해당 배선 패턴에 인가되는 신호를 검출하는 신호 검출 수단과, 상기 검사 대상의 배선 패턴의 일단부에서 물리적으로 비접촉으로 배치되는 제 1 전극부와, 상기 검사 대상의 배선 패턴의 타단부에서 물리적으로 비접촉으로 배치되는 제 2 전극부와, 상기 제 1 배선 패턴의 제 1 베이스부와 물리적으로 접촉하여 배치되는 제 3 전극부와, 상기 제 2 배선 패턴의 제 2 베이스부와 물리적으로 접촉하여 배치되는 제 4 전극부와, 상기 각 전극부에 소정 주기를 갖는 기준 신호를 공급하는 급전 수단과, 상기 신호 검출 수단에 의해 검출되는 검출 신호로부터 해당 검출 신호의 위상을 산출하는 검사 신호 산출 수단과, 상 기 검사 신호 산출 수단이 산출한 상기 검출 신호의 위상을 기초로, 상기 검사 대상의 배선 패턴의 도통의 검사를 판단하는 도통 검사부와, 상기 검사 신호 산출 수단이 산출한 상기 검출 신호의 위상을 기초로, 상기 검사 대상의 배선 패턴의 단락의 검사를 판단하는 단락 검사부를 갖기 때문에, 기판의 손상을 최소한으로 하여, 배선 패턴의 도통 및 단락의 검사를, 검사 대상이 되는 배선 패턴으로부터 검출되는 검출 신호의 위상을 이용함으로써 판단할 수 있다. According to the invention as claimed in claim 1, the first wiring pattern has a first linear portion and a first base portion extending from one end of the first linear portion, and from a second linear upper portion and one end of the second linear upper portion. A plurality of second wiring patterns having an extended second base portion and disposed at an opposite position to the first wiring pattern, and a third wiring pattern having a light shielding function disposed between the first and second wiring patterns are provided. A substrate inspection apparatus for inspecting a formed substrate, the apparatus comprising: signal detection means for physically contacting one wiring pattern to be inspected and detecting a signal applied to the wiring pattern, and one end of the wiring pattern to be inspected A first electrode portion that is physically contactlessly disposed at the second electrode; and a second physically disposed contactlessly at the other end of the wiring pattern to be inspected. A second electrode portion, a third electrode portion disposed in physical contact with the first base portion of the first wiring pattern, and a fourth electrode portion disposed in physical contact with the second base portion of the second wiring pattern; Power supply means for supplying a reference signal having a predetermined period to each electrode unit, inspection signal calculation means for calculating a phase of the detection signal from the detection signal detected by the signal detection means, and the inspection signal calculation means. On the basis of the calculated phase of the detected signal, a conduction inspection unit that determines the conduction of the conduction of the wiring pattern of the inspection object, and the inspection object based on the phase of the detection signal calculated by the inspection signal calculation means. Since it has a short circuit inspection part which judges the test | inspection of the short circuit of a wiring pattern, the inspection object carries out the test of the conduction of a wiring pattern and the test of a short circuit, minimizing damage to a board | substrate. It may be determined by using the phase of the detection signal detected from the wiring pattern.

이 때문에, 정확하고 또한 신속한 검사를 행할 수가 있음과 함께, 제 1 내지 제 4 전극부의 조합에 의해 도통 및 단락 검사를 위한 검출 신호(검사 신호)를 검출할 수 있다.For this reason, it is possible to perform an accurate and quick inspection, and to detect a detection signal (inspection signal) for conduction and short circuit inspection by the combination of the first to fourth electrode portions.

청구항 제 2항에 기재된 발명에 의하면, 상기 신호 검출 수단은, 상기 검사 대상이 되는 하나의 배선 패턴의 일단부에서 물리적으로 비접촉으로 배치되는 제 1 측정부와, 해당 1개의 배선 패턴의 타단부에서 물리적으로 비접촉으로 배치되는 제 2 측정부를 갖기 때문에, 검사 대상이 되는 배선 패턴에 접촉하는 일 없이, 안정된 신호를 검출할 수 있다.According to the invention as set forth in claim 2, the signal detecting means includes: a first measuring unit which is physically arranged in contact with one end of one wiring pattern to be inspected, and the other end of the one wiring pattern; Since it has a 2nd measuring part physically arrange | positioned non-contactingly, a stable signal can be detected without contacting the wiring pattern used as a test object.

청구항 제 3항에 기재된 발명에 의하면, 상기 급전 수단은, 상기 제 1 및 제 2 전극부에 소정 주기를 갖는 제 1 기준 신호를 공급하는 제 1 급전 수단과, 상기 제 1 및 제 4 전극부에 소정 주기를 갖는 제 2 기준 신호를 공급하는 제 2 급전 수단과, 상기 제 2 및 제 3 전극부에 소정 주기를 갖는 제 3 기준 신호를 공급하는 제 3 급전 수단과, 상기 제 1 및 제 2 전극부와, 상기 제 3 및 제 4 전극부에 소정 주기를 갖는 제 4 기준 신호를 공급하는 제 4 급전 수단과, 상기 제 3 및 제 4 전 극부에 소정 주기를 갖는 제 5 기준 신호를 공급하는 제 5 급전 수단을 갖기 때문에, 각 전극 사이에 기준 신호를 공급하는 급전 수단이 마련되기 때문에, 배선 패턴에 도통 및 단락에 관한 검사 신호를 동시에 인가할 수 있다. According to the invention according to claim 3, the power supply means includes first power supply means for supplying a first reference signal having a predetermined period to the first and second electrode parts, and the first and fourth electrode parts. Second power supply means for supplying a second reference signal having a predetermined period, third power supply means for supplying a third reference signal having a predetermined period to the second and third electrode portions, and the first and second electrodes. A fourth power supply means for supplying a fourth reference signal having a predetermined period to the third and fourth electrode portions, and a fifth reference signal having a predetermined period to the third and fourth electrodes. Since there are five power feeding means, power supply means for supplying a reference signal is provided between the electrodes, so that a test signal regarding conduction and short circuit can be simultaneously applied to the wiring pattern.

이 때문에, 본 기판 검사 장치는 도통 및 단락 검사를 패럴렐 처리(동시 처리)하는 것이 가능해진다.For this reason, this board | substrate test | inspection apparatus becomes possible to parallel-process (simultaneous process) conduction and a short circuit test | inspection.

청구항 제 4항에 기재된 발명에 의하면, 상기 도통 검사부는, 상기 제 1 전극부 및 상기 제 2 전극부를 통하여 기준 신호를 인가하고, 상기 신호 검출 수단에 의해 검출한 검출 신호를 이용하기 때문에, 검사 대상의 배선 패턴의 영향밖에 받지 않는 기준 신호를 이용할 수 있다. According to the invention as set forth in claim 4, the conduction inspection section applies a reference signal through the first electrode section and the second electrode section and uses a detection signal detected by the signal detection means. A reference signal can be used that is only affected by the wiring pattern.

이 때문에, 본 기판 검사 장치는, 정확한 검사를 행할 수가 있다.For this reason, this board | substrate inspection apparatus can perform an accurate inspection.

청구항 제 5항에 기재된 발명에 의하면, 상기 도통 검사부는, 상기 검출 신호와 상기 기준 신호의 위상차에 의해 도통의 양부를 판단하기 때문에, 용이하고 또한 정확하게 위상차에 의해 도통 상태를 판단할 수 있다.According to the invention of claim 5, since the conduction inspection unit determines the conduction of the conduction by the phase difference between the detection signal and the reference signal, the conduction state can be easily and accurately determined by the phase difference.

청구항 제 6항에 기재된 발명에 의하면, 상기 단락 검사부는, 상기 제 1 전극부와 상기 제 4 전극부 및/또는 상기 제 2 전극부와 상기 제 3 전극부를 통하여 기준 신호를 인가하고, 상기 신호 검출 수단에 의해 검출한 검출 신호를 이용하기 때문에, 2개의 기준 신호를 이용할 수 있어서, 배선 패턴의 단락이 인접하는 어느 개소에서 일어나고 있는지를 판단할 수 있다.According to the invention according to claim 6, the short-circuit inspection section applies a reference signal through the first electrode section and the fourth electrode section and / or the second electrode section and the third electrode section, and detects the signal. Since the detection signal detected by the means is used, two reference signals can be used, so that it is possible to determine at which places the short circuit of the wiring pattern occurs.

청구항 제 7항에 기재된 발명에 의하면, 상기 단락 검사부는, 상기 2개의 검출 신호와 상기 2개의 기준 신호의 위상차를 각각 이용하여, 단락의 양부를 판단하 기 때문에, 용이하고 또한 정확하게 위상차에 의해 단락 상태를 판단할 수 있다.According to the invention according to claim 7, the short-circuit inspection unit determines whether the short circuit is successful by using the phase difference between the two detection signals and the two reference signals, respectively. The state can be determined.

청구항 제 8항에 기재된 발명에 의하면, 제 5 기준 신호를 적어도 2개의 위상이 다른 검파를 행하고, 2개의 신호를 산출하여, 그들의 신호로부터 도통 및 단락을 검출할 수 있기 때문에, 효율 좋게 게다가 급전 수단을 적게 하여 도통 및 단락의 검출을 행할 수가 있다.According to the invention as claimed in claim 8, since the fifth reference signal can be detected at least two phases different from each other, two signals can be calculated, and conduction and short circuit can be detected from those signals. The conduction and the short circuit can be detected with a smaller number.

청구항 제 9항에 기재된 발명에 의하면, 제 1 선형상부와 해당 제 1 선형상부의 일단으로부터 연장 설치되는 제 1 베이스부를 갖는 제 1 배선 패턴과, 제 2 선형상부와 해당 제 2 선형상부의 일단으로부터 연장 설치되는 제 2 베이스부를 갖음과 함께, 상기 제 1 배선 패턴과 대향 위치에 배치되는 제 2 배선 패턴과, 상기 제 1 및 제 2 배선 패턴 사이에 배치되는 차광 기능을 갖는 제 3 배선 패턴이 복수 형성된 기판을 검사하는 기판 검사 방법으로서, 검사 대상의 배선 패턴의 일단부에서 물리적으로 비접촉으로 배치되는 제 1 전극부와, 상기 검사 대상의 배선 패턴의 타단부에서 물리적으로 비접촉으로 배치되는 제 2 전극부와, 상기 제 1 배선 패턴의 제 1 베이스부와 물리적으로 접촉하여 배치되는 제 3 전극부와, 상기 제 2 배선 패턴의 제 2 베이스부와 물리적으로 접촉하여 배치되는 제 4 전극부를 배치하고, 상기 소정의 전극부 사이에 소정 주기를 갖는 기준 신호를 공급하고, 상기 배선 패턴에 인가되는 검출 신호를 검출하고, 검출된 상기 검출 신호로부터 해당 검출 신호의 위상을 산출하고, 상기 검출 신호의 위상을 기초로, 상기 검사 대상의 배선 패턴의 도통의 검사를 판단함과 함께 단락의 검사를 판단하기 때문에, 기판의 손상을 최소한으로 하여, 배선 패턴의 도통 및 단락의 검사를, 검사 대상이 되는 배선 패턴으로부터 검출되는 검출 신호의 위상을 이용함으로써 판단할 수 있다.According to the invention of claim 9, a first wiring pattern having a first linear portion and a first base portion extending from one end of the first linear portion, and from one end of the second linear portion and the second linear portion, A plurality of second wiring patterns having an extended second base portion and disposed at an opposite position to the first wiring pattern, and a third wiring pattern having a light shielding function disposed between the first and second wiring patterns are provided. A substrate inspection method for inspecting a formed substrate, comprising: a first electrode portion that is physically non-contacted at one end of a wiring pattern to be inspected, and a second electrode that is physically non-contacted at the other end of the wiring pattern to be inspected A third electrode portion disposed in physical contact with the first base portion of the first wiring pattern, and a second base portion of the second wiring pattern. A fourth electrode portion disposed in contact with each other, a reference signal having a predetermined period is supplied between the predetermined electrode portions, a detection signal applied to the wiring pattern is detected, and the detection signal is detected from the detected detection signal. The phase of the detection signal is calculated, and the inspection of the conduction of the wiring pattern to be inspected is judged based on the phase of the detection signal, and the inspection of the short circuit is judged. And the inspection of a short circuit can be judged by using the phase of the detection signal detected from the wiring pattern used as a test object.

이 때문에, 정확하고 또한 신속한 검사를 행할 수가 있음과 함께, 제 1 내지 제 4 전극부의 조합에 의해 도통 및 단락 검사를 위한 검출 신호(검사 신호)를 검출할 수 있다.For this reason, it is possible to perform an accurate and quick inspection, and to detect a detection signal (inspection signal) for conduction and short circuit inspection by the combination of the first to fourth electrode portions.

Claims (9)

제 1 선형상부와 상기 제 1 선형상부의 일단부터 연장 설치되는 제 1 베이스부를 갖는 제 1 배선 패턴과, 제 2 선형상부와 상기 제 2 선형상부의 일단부터 연장 설치되는 제 2 베이스부를 갖음과 함께, 상기 제 1 배선 패턴과 대향 위치에 배치되는 제 2 배선 패턴과, 상기 제 1 및 제 2 배선 패턴 사이에 하나 걸러서 배치되고, 다른 배선 패턴과 접속되는 일 없이 독립하여 형성되고, 차광 기능을 갖는 제 3 배선 패턴이 복수 형성된 기판을 검사하는 기판 검사 장치로서,And a first wiring pattern having a first linear portion and a first base portion extending from one end of the first linear portion, and a second base portion extending from one end of the second linear portion and the second linear portion. And alternately arranged between the first wiring pattern and the second wiring pattern, the second wiring pattern being disposed opposite to the first wiring pattern, and the first wiring pattern and the second wiring pattern, and independently of each other wiring pattern. A substrate inspection apparatus for inspecting a substrate on which a plurality of third wiring patterns are formed, 복수의 배선 패턴들에 직교하는 방향으로 이동됨과 함께 검사 대상이 되는 하나의 배선 패턴에 물리적으로 비접촉으로 배치되고, 배선 패턴들에 인가되는 신호를 검출하는 신호 검출 수단과,Signal detection means for moving in a direction orthogonal to the plurality of wiring patterns and being physically non-contacted to one wiring pattern to be inspected and detecting a signal applied to the wiring patterns; 상기 검사 대상의 배선 패턴의 일단부에서 물리적으로 비접촉으로 배치되는 제 1 전극부와,A first electrode portion which is physically arranged in contact with one end of the wiring pattern to be inspected; 상기 검사 대상의 배선 패턴의 타단부에서 물리적으로 비접촉으로 배치되는 제 2 전극부와,A second electrode portion physically arranged in contact with the other end of the wiring pattern to be inspected; 상기 제 1 배선 패턴의 제 1 베이스부와 물리적으로 접촉하여 배치되는 제 3 전극부와,A third electrode part disposed in physical contact with the first base part of the first wiring pattern; 상기 제 2 배선 패턴의 제 2 베이스부와 물리적으로 접촉하여 배치되는 제4 전극부와,A fourth electrode portion disposed in physical contact with the second base portion of the second wiring pattern; 상기 각 전극부에 검사 기준 신호를 공급하는 급전 수단과,Feeding means for supplying an inspection reference signal to each of the electrode portions; 상기 신호 검출 수단에 의해 검출되는 검출 신호로부터 상기 검출 신호의 위상을 산출하는 검사 신호 산출 수단과,Inspection signal calculation means for calculating a phase of the detection signal from the detection signal detected by the signal detection means; 상기 검사 신호 산출 수단의 산출 결과를 기초로, 상기 검사 대상의 배선 패턴의 도통의 검사를 판단하는 도통 검사부와,A conduction inspection unit that judges inspection of conduction of a wiring pattern of the inspection object based on a calculation result of the inspection signal calculation means; 상기 검사 신호 산출 수단의 산출 결과를 기초로, 상기 검사 대상의 배선 패턴의 단락의 검사를 판단하는 단락 검사부를 가지며,On the basis of the calculation result of the said inspection signal calculation means, it has a short circuit inspection part which judges the inspection of the short circuit of the wiring pattern of the said inspection object, 상기 급전 수단은,The power supply means, 상기 제 3 전극부와 상기 제4 전극부와의 사이에 소정 주기를 갖는 제 1 검사 기준 신호를 공급하는 제 1 신호 공급 수단과,First signal supply means for supplying a first inspection reference signal having a predetermined period between the third electrode portion and the fourth electrode portion; 상기 제 1 및 제 2 전극부와, 상기 제 3 및 제4 전극부와의 사이에, 상기 제 1 검사 기준 신호와 상위한 주기를 갖는 제 2 검사 기준 신호를 공급하는 제 2 신호 공급 수단을 가지며,And a second signal supply means for supplying a second inspection reference signal having a period different from the first inspection reference signal between the first and second electrode portions and the third and fourth electrode portions. , 상기 검사 신호 산출 수단은,The inspection signal calculation means, 상기 신호 검출 수단에 의해 검출되는 검출 신호에 대해 상기 제 1 검사 기준 신호에 의거한 위상 검파를 행하는 제 1 검파 수단과,First detection means for performing phase detection on the basis of the first inspection reference signal with respect to the detection signal detected by the signal detection means; 상기 신호 검출 수단에 의해 검출되는 검출 신호에 대해 상기 제 2 검사 기준 신호에 의거한 위상 검파를 행하는 제 2 검파 수단을 가지며,And second detection means for performing phase detection on the detection signal detected by the signal detection means based on the second inspection reference signal, 상기 도통 검사부는, 상기 신호 검출 수단의 이동에 수반하여 생기는 상기 제 1 검파 수단의 위상 검파의 결과의 변화에 의거하여, 상기 제 1 검파 수단의 위상 검파의 결과가 소정치 보다도 높은 장소를 상기 제 1 배선 패턴의 장소로서 특정하고,The conduction inspection section selects a place where the result of phase detection of the first detection means is higher than a predetermined value based on a change in the result of phase detection of the first detection means caused by the movement of the signal detection means. We identify as place of 1 wiring pattern, 상기 단락 검사부는, 상기 신호 검출 수단의 이동에 수반하여 생기는 상기 제 2 검파 수단의 위상 검파의 결과의 변화에 의거하여, 상기 도통 검사부에 의해 특정된 이웃하는 2개의 상기 제 1 배선 패턴의 장소의 사이에서, 상기 제 2 검파 수단의 위상 검파의 결과에 소정치 보다도 높은 장소가 존재하지 않는 경우에, 그 2개의 제 1 배선 패턴의 사이에 있는 상기 제 3 배선 패턴이 상기 제 1 또는 제 2 배선 패턴과 단락하고 있다고 판정하는 것을 특징으로 하는 기판 검사 장치.The short-circuit inspection section is configured to determine the location of two adjacent first wiring patterns specified by the conduction inspection section on the basis of a change in the result of phase detection of the second detection means caused by the movement of the signal detection means. In the case where there is no place higher than a predetermined value as a result of phase detection of the second detection means, the third wiring pattern between the two first wiring patterns is the first or second wiring. It is judged that it is short-circuited with a pattern, The board | substrate inspection apparatus characterized by the above-mentioned. 제 1항에 있어서,The method according to claim 1, 상기 단락 검사부는, 또한, 상기 신호 검출 수단의 이동에 수반하여 생기는 상기 제 2 검파 수단의 위상 검파의 결과의 변화에 의거하여, 상기 도통 검사부에 의해 특정된 이웃하는 2개의 상기 제 1 배선 패턴의 장소의 사이에서, 상기 제 2 검파 수단의 위상 검파의 결과에 소정치 보다도 높은 장소가 2개 존재하는 경우에, 그 2개의 높은 장소의 사이에 있는 상기 제 1 배선 패턴과 상기 제 2 배선 패턴이 단락하고 있다고 판정하는 것을 특징으로 하는 기판 검사 장치.The short-circuit inspection section is further configured to determine whether two adjacent first wiring patterns specified by the conduction inspection section are changed based on a change in the result of phase detection of the second detection means that occurs with the movement of the signal detection means. Between two places, when two places higher than a predetermined value exist as a result of phase detection of the second detection means, the first wiring pattern and the second wiring pattern between the two high places are It determines with short circuit, The board | substrate inspection apparatus characterized by the above-mentioned. 제 1 선형상부와 상기 제 1 선형상부의 일단부터 연장 설치되는 제 1 베이스부를 갖는 제 1 배선 패턴과, 제 2 선형상부와 상기 제 2 선형상부의 일단부터 연장 설치되는 제 2 베이스부를 갖음과 함께, 상기 제 1 배선 패턴과 대향 위치에 배치되는 제 2 배선 패턴과, 상기 제 1 및 제 2 배선 패턴 사이에 하나 걸러서 배치되고, 다른 배선 패턴과 접속되는 일 없이 독립하여 형성되고, 차광 기능을 갖는 제 3 배선 패턴이 복수 형성된 기판을 검사하는 기판 검사 장치로서,And a first wiring pattern having a first linear portion and a first base portion extending from one end of the first linear portion, and a second base portion extending from one end of the second linear portion and the second linear portion. And alternately arranged between the first wiring pattern and the second wiring pattern, the second wiring pattern being disposed opposite to the first wiring pattern, and the first wiring pattern and the second wiring pattern, and independently of each other wiring pattern. A substrate inspection apparatus for inspecting a substrate on which a plurality of third wiring patterns are formed, 복수의 배선 패턴들에 직교하는 방향으로 이동됨과 함께 검사 대상이 되는 하나의 배선 패턴에 물리적으로 비접촉으로 배치되고, 배선 패턴들에 인가되는 신호를 검출하는 신호 검출 수단과,Signal detection means for moving in a direction orthogonal to the plurality of wiring patterns and being physically non-contacted to one wiring pattern to be inspected and detecting a signal applied to the wiring patterns; 상기 검사 대상의 배선 패턴의 일단부에서 물리적으로 비접촉으로 배치되는 제 1 전극부와,A first electrode portion which is physically arranged in contact with one end of the wiring pattern to be inspected; 상기 검사 대상의 배선 패턴의 타단부에서 물리적으로 비접촉으로 배치되는 제 2 전극부와,A second electrode portion physically arranged in contact with the other end of the wiring pattern to be inspected; 상기 제 1 배선 패턴의 제 1 베이스부와 물리적으로 접촉하여 배치되는 제 3 전극부와,A third electrode part disposed in physical contact with the first base part of the first wiring pattern; 상기 제 2 배선 패턴의 제 2 베이스부와 물리적으로 접촉하여 배치되는 제4 전극부와,A fourth electrode portion disposed in physical contact with the second base portion of the second wiring pattern; 상기 각 전극부에 검사 기준 신호를 공급하는 급전 수단과,Feeding means for supplying an inspection reference signal to each of the electrode portions; 상기 신호 검출 수단에 의해 검출되는 검출 신호로부터 상기 검출 신호의 위상을 산출하는 검사 신호 산출 수단과,Inspection signal calculation means for calculating a phase of the detection signal from the detection signal detected by the signal detection means; 상기 검사 신호 산출 수단의 산출 결과를 기초로, 상기 검사 대상의 배선 패턴의 도통의 검사를 판단하는 도통 검사부와,A conduction inspection unit that judges inspection of conduction of a wiring pattern of the inspection object based on a calculation result of the inspection signal calculation means; 상기 검사 신호 산출 수단의 산출 결과를 기초로, 상기 검사 대상의 배선 패턴의 단락의 검사를 판단하는 단락 검사부를 가지며,On the basis of the calculation result of the said inspection signal calculation means, it has a short circuit inspection part which judges the inspection of the short circuit of the wiring pattern of the said inspection object, 상기 급전 수단은,The power supply means, 상기 제 3 전극부와 상기 제4 전극부와의 사이에 소정 주기를 갖는 제 1 검사 기준 신호를 공급하는 제 1 신호 공급 수단과,First signal supply means for supplying a first inspection reference signal having a predetermined period between the third electrode portion and the fourth electrode portion; 상기 제 1 및 제 2 전극부와, 상기 제 3 및 제4 전극부와의 사이에, 상기 제 1 검사 기준 신호와 상위한 주기를 갖는 제 2 검사 기준 신호를 공급하는 제 2 신호 공급 수단을 가지며,And a second signal supply means for supplying a second inspection reference signal having a period different from the first inspection reference signal between the first and second electrode portions and the third and fourth electrode portions. , 상기 검사 신호 산출 수단은,The inspection signal calculation means, 상기 신호 검출 수단에 의해 검출되는 검출 신호에 대해 상기 제 1 검사 기준 신호에 의거한 위상 검파를 행하는 제 1 검파 수단과,First detection means for performing phase detection on the basis of the first inspection reference signal with respect to the detection signal detected by the signal detection means; 상기 신호 검출 수단에 의해 검출되는 검출 신호에 대해 상기 제 2 검사 기준 신호에 의거한 위상 검파를 행하는 제 2 검파 수단을 가지며,And second detection means for performing phase detection on the detection signal detected by the signal detection means based on the second inspection reference signal, 상기 도통 검사부는, 상기 신호 검출 수단의 이동에 수반하여 생기는 상기 제 1 검파 수단의 위상 검파의 결과의 변화에 의거하여, 상기 제 1 검파 수단의 위상 검파의 결과가 소정치 보다도 높은 장소를 상기 제 1 배선 패턴의 장소로서 특정하고,The conduction inspection section selects a place where the result of phase detection of the first detection means is higher than a predetermined value based on a change in the result of phase detection of the first detection means caused by the movement of the signal detection means. We identify as place of 1 wiring pattern, 상기 단락 검사부는, 상기 신호 검출 수단의 이동에 수반하여 생기는 상기 제 2 검파 수단의 위상 검파의 결과의 변화에 의거하여, 상기 도통 검사부에 의해 특정된 이웃하는 2개의 상기 제 1 배선 패턴의 장소의 사이에서, 상기 제 2 검파 수단의 위상 검파의 결과에 소정치 보다도 높은 장소가 2개 존재하는 경우에, 그 2개의 높은 장소의 사이에 있는 상기 제 1 배선 패턴과 상기 제 2 배선 패턴이 단락하고 있다고 판정하는 것을 특징으로 하는 기판 검사 장치.The short-circuit inspection section is configured to determine the location of two adjacent first wiring patterns specified by the conduction inspection section on the basis of a change in the result of phase detection of the second detection means caused by the movement of the signal detection means. In the case where there are two places higher than a predetermined value as a result of phase detection of the second detection means, the first wiring pattern and the second wiring pattern between the two high places are short-circuited. The board | substrate inspection apparatus characterized by the above-mentioned. 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서,4. The method according to any one of claims 1 to 3, 상기 신호 검출 수단은, 상기 검사 대상이 되는 하나의 배선 패턴의 일단부에서 물리적으로 비접촉으로 배치되는 제 1 측정부와, 그 하나의 배선 패턴의 타단부에서 물리적으로 비접촉으로 배치되는 제 2 측정부를 갖는 것을 특징으로 하는 기판 검사 장치.The signal detecting means includes a first measuring unit which is physically contactless at one end of one wiring pattern to be inspected, and a second measuring unit which is physically contactless at another end of the one wiring pattern. It has a board | substrate inspection apparatus characterized by the above-mentioned. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제 1 선형상부와 상기 제 1 선형상부의 일단부터 연장 설치되는 제 1 베이스부를 갖는 제 1 배선 패턴과, 제 2 선형상부와 상기 제 2 선형상부의 일단부터 연장 설치되는 제 2 베이스부를 갖음과 함께, 상기 제 1 배선 패턴과 대향 위치에 배치되는 제 2 배선 패턴과, 상기 제 1 및 제 2 배선 패턴 사이에 하나 걸러서 배치되고, 다른 배선 패턴과 접속되는 일 없이 독립하여 형성되고, 차광 기능을 갖는 제 3 배선 패턴이 복수 형성된 기판을 검사하는 기판 검사 방법으로서,And a first wiring pattern having a first linear portion and a first base portion extending from one end of the first linear portion, and a second base portion extending from one end of the second linear portion and the second linear portion. And alternately arranged between the first wiring pattern and the second wiring pattern, the second wiring pattern being disposed opposite to the first wiring pattern, and the first wiring pattern and the second wiring pattern, and independently of each other wiring pattern. A substrate inspection method for inspecting a substrate on which a plurality of third wiring patterns are formed, 검사 대상의 배선 패턴의 일단부에서 물리적으로 비접촉으로 배치되는 제 1 전극부와, 상기 검사 대상의 배선 패턴의 타단부에서 물리적으로 비접촉으로 배치되는 제 2 전극부와, 상기 제 1 배선 패턴의 제 1 베이스부와 물리적으로 접촉하여 배치되는 제 3 전극부와, 상기 제 2 배선 패턴의 제 2 베이스부와 물리적으로 접촉하여 배치되는 제4 전극부를 배치하고,A first electrode portion that is physically non-contacted at one end of the wiring pattern to be inspected, a second electrode portion which is physically non-contacted at the other end of the wiring pattern to be inspected, and a first of the first wiring pattern A third electrode part disposed in physical contact with the first base part and a fourth electrode part disposed in physical contact with the second base part of the second wiring pattern; 상기 제 3 전극부와 상기 제4 전극부와의 사이에 소정 주기를 갖는 제 1 검사 기준 신호를 공급함과 함께, 상기 제 1 및 제 2 전극부와, 상기 제 3 및 제4 전극부와의 사이에, 상기 제 1 검사 기준 신호와 상위한 주기를 갖는 제 2 검사 기준 신호를 공급하고,A first inspection reference signal having a predetermined period is supplied between the third electrode portion and the fourth electrode portion, and between the first and second electrode portions and the third and fourth electrode portions. Supply a second inspection reference signal having a period different from the first inspection reference signal to 검사 대상이 되는 하나의 배선 패턴에 물리적으로 비접촉으로 배치되는 신호 검출 수단을 복수의 배선 패턴들에 직교하는 방향으로 이동시키면서, 그 신호 검출 수단에 의해 배선 패턴들에 인가되는 신호를 검출하고,Detecting a signal applied to the wiring patterns by the signal detecting means while moving the signal detecting means physically contactlessly disposed on one wiring pattern to be inspected in the direction orthogonal to the plurality of wiring patterns, 상기 신호 검출 수단에 의해 검출되는 검출 신호에 대해 상기 제 1 검사 기준 신호에 의거한 위상 검파를 행함과 함께, 상기 신호 검출 수단에 의해 검출되는 검출 신호에 대해 상기 제 2 검사 기준 신호에 의거한 위상 검파를 행하고,Phase detection based on the first inspection reference signal is performed on the detection signal detected by the signal detection means, and phase based on the second inspection reference signal with respect to the detection signal detected by the signal detection means. To detect, 상기 신호 검출 수단의 이동에 수반하여 생기는 상기 제 1 검사 기준 신호에 의거한 위상 검파의 결과의 변화에 의거하여, 상기 제 1 검사 기준 신호에 의거한 위상 검파의 결과가 소정치 보다도 높은 장소를 상기 제 1 배선 패턴의 장소로서 특정하고,The place where the result of phase detection based on the first inspection reference signal is higher than a predetermined value based on the change of the result of phase detection based on the first inspection reference signal generated with the movement of the signal detecting means. It is specified as a place of a 1st wiring pattern, 상기 신호 검출 수단의 이동에 수반하여 생기는 상기 제 2 검사 기준 신호에 의거한 위상 검파의 결과의 변화에 의거하여, 상기 제 1 검사 기준 신호에 의거한 위상 검파의 결과의 변화에 의거하여 특정된 이웃하는 2개의 상기 제 1 배선 패턴의 장소의 사이에서, 상기 제 2 검사 기준 신호에 의거한 위상 검파의 결과에 소정치 보다도 높은 장소가 존재하지 않는 경우에, 그 2개의 제 1 배선 패턴의 사이에 있는 상기 제 3 배선 패턴이 상기 제 1 또는 제 2 배선 패턴과 단락하고 있다고 판정하는 것을 특징으로 하는 기판 검사 방법.A neighbor specified based on a change in the result of phase detection based on the first inspection reference signal based on a change in the result of phase detection based on the second inspection reference signal generated with the movement of the signal detecting means If no place higher than a predetermined value exists as a result of phase detection based on the second inspection reference signal between the two places of the first wiring pattern, the space between the two first wiring patterns. It is judged that the said 3rd wiring pattern is short-circuited with the said 1st or 2nd wiring pattern, The board | substrate inspection method characterized by the above-mentioned. 제 1 선형상부와 상기 제 1 선형상부의 일단부터 연장 설치되는 제 1 베이스부를 갖는 제 1 배선 패턴과, 제 2 선형상부와 상기 제 2 선형상부의 일단부터 연장 설치되는 제 2 베이스부를 갖음과 함께, 상기 제 1 배선 패턴과 대향 위치에 배치되는 제 2 배선 패턴과, 상기 제 1 및 제 2 배선 패턴 사이에 하나 걸러서 배치되고, 다른 배선 패턴과 접속되는 일 없이 독립하여 형성되고, 차광 기능을 갖는 제 3 배선 패턴이 복수 형성된 기판을 검사하는 기판 검사 방법으로서,And a first wiring pattern having a first linear portion and a first base portion extending from one end of the first linear portion, and a second base portion extending from one end of the second linear portion and the second linear portion. And alternately arranged between the first wiring pattern and the second wiring pattern, the second wiring pattern being disposed opposite to the first wiring pattern, and the first wiring pattern and the second wiring pattern, and independently of each other wiring pattern. A substrate inspection method for inspecting a substrate on which a plurality of third wiring patterns are formed, 검사 대상의 배선 패턴의 일단부에서 물리적으로 비접촉으로 배치되는 제 1 전극부와, 상기 검사 대상의 배선 패턴의 타단부에서 물리적으로 비접촉으로 배치되는 제 2 전극부와, 상기 제 1 배선 패턴의 제 1 베이스부와 물리적으로 접촉하여 배치되는 제 3 전극부와, 상기 제 2 배선 패턴의 제 2 베이스부와 물리적으로 접촉하여 배치되는 제4 전극부를 배치하고,A first electrode portion that is physically non-contacted at one end of the wiring pattern to be inspected, a second electrode portion which is physically non-contacted at the other end of the wiring pattern to be inspected, and a first of the first wiring pattern A third electrode part disposed in physical contact with the first base part and a fourth electrode part disposed in physical contact with the second base part of the second wiring pattern; 상기 제 3 전극부와 상기 제4 전극부와의 사이에 소정 주기를 갖는 제 1 검사 기준 신호를 공급함과 함께, 상기 제 1 및 제 2 전극부와, 상기 제 3 및 제4 전극부와의 사이에, 상기 제 1 검사 기준 신호와 상위한 주기를 갖는 제 2 검사 기준 신호를 공급하고,A first inspection reference signal having a predetermined period is supplied between the third electrode portion and the fourth electrode portion, and between the first and second electrode portions and the third and fourth electrode portions. Supply a second inspection reference signal having a period different from the first inspection reference signal to 검사 대상이 되는 1개의 배선 패턴에 물리적으로 비접촉으로 배치되는 신호 검출 수단을 복수의 배선 패턴들에 직교하는 방향으로 이동시키면서, 그 신호 검출 수단에 의해 배선 패턴들에 인가되는 신호를 검출하고,Detecting a signal applied to the wiring patterns by the signal detecting means while moving the signal detecting means physically contactlessly disposed on one wiring pattern to be inspected in the direction orthogonal to the plurality of wiring patterns, 상기 신호 검출 수단에 의해 검출되는 검출 신호에 대해 상기 제 1 검사 기준 신호에 의거한 위상 검파를 행함과 함께, 상기 신호 검출 수단에 의해 검출되는 검출 신호에 대해 상기 제 2 검사 기준 신호에 의거한 위상 검파를 행하고,Phase detection based on the first inspection reference signal is performed on the detection signal detected by the signal detection means, and phase based on the second inspection reference signal with respect to the detection signal detected by the signal detection means. To detect, 상기 신호 검출 수단의 이동에 수반하여 생기는 상기 제 1 검사 기준 신호에 의거한 위상 검파의 결과의 변화에 의거하여, 상기 제 1 검사 기준 신호에 의거한 위상 검파의 결과가 소정치 보다도 높은 장소를 상기 제 1 배선 패턴의 장소로서 특정하고,The place where the result of phase detection based on the first inspection reference signal is higher than a predetermined value based on the change of the result of phase detection based on the first inspection reference signal generated with the movement of the signal detecting means. It is specified as a place of a 1st wiring pattern, 상기 신호 검출 수단의 이동에 수반하여 생기는 상기 제 2 검사 기준 신호에 의거한 위상 검파의 결과의 변화에 의거하여, 상기 제 1 검사 기준 신호에 의거한 위상 검파의 결과의 변화에 의거하여 특정된 이웃하는 2개의 상기 제 1 배선 패턴의 장소의 사이에서, 상기 제 2 검사 기준 신호에 의거한 위상 검파의 결과에 소정치 보다도 높은 장소가 2개 존재하는 경우에, 그 2개의 높은 장소의 사이에 있는 상기 제 1 배선 패턴과 상기 제 2 배선 패턴이 단락하고 있다고 판정하는 것을 특징으로 하는 기판 검사 방법.A neighbor specified based on a change in the result of phase detection based on the first inspection reference signal based on a change in the result of phase detection based on the second inspection reference signal generated with the movement of the signal detecting means When two places higher than a predetermined value exist as a result of the phase detection based on the said 2nd test reference signal between two places of the said 1st wiring pattern, It is determined that the first wiring pattern and the second wiring pattern are short-circuited.
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