KR101341662B1 - Method for error minimum of between led chip inspection equipment and equipment - Google Patents

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KR101341662B1 KR1020130105183A KR20130105183A KR101341662B1 KR 101341662 B1 KR101341662 B1 KR 101341662B1 KR 1020130105183 A KR1020130105183 A KR 1020130105183A KR 20130105183 A KR20130105183 A KR 20130105183A KR 101341662 B1 KR101341662 B1 KR 101341662B1
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이태형
이민형
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(주)아이엠에스나노텍
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Abstract

The present invention relates to a method for minimizing an error between LED chip visual inspection equipment. The present invention: measures the image focus position error, image pixel size error, image uniformity error, and image color error of the multiple pieces of inspection equipment which inspect the fault of LED chip appearance by using a standard specimen; improves reliability between the multiple pieces of inspection equipment because error can be minimized between the multiple pieces of inspection equipment by compensating an obtained image by applying the measured inspection errors; and enables the efficiency improvement of an inspection work and the convenient management of the inspection equipment because unnecessary works which are caused by error are unnecessary to be done. [Reference numerals] (31) Prepare a standard specimen;(32) Measure the inspection error of multiple pieces of inspection equipment by using the standard specimen;(33) Apply a measured image focus position error to the multiple pieces of inspection equipment;(34) Obtain an LED chip image by using the applied focus position error;(35) Inspect all pixels of the obtained image by correcting an image uniformity error and an image color error;(36) Correct a pixel size by applying an image pixel size inspection error to the inspected image;(AA) Start;(BB) End

Description

엘이디 칩 외관 검사장비 간의 오차 최소화 방법{METHOD FOR ERROR MINIMUM OF BETWEEN LED CHIP INSPECTION EQUIPMENT AND EQUIPMENT}Minimizing error between LED chip inspection equipment {METHOD FOR ERROR MINIMUM OF BETWEEN LED CHIP INSPECTION EQUIPMENT AND EQUIPMENT}

본 발명은 엘이디 칩 외관 검사장비 간의 오차 최소화 방법에 관한 것으로, 상세하게는 엘이디 칩 외관의 결함을 검사하는 동일한 다수의 검사장비들 간의 검사 오차를 최소화하여 보다 정확하게 결함을 검사해 낼 수 있도록 한 엘이디 칩 외관 검사장비 간의 오차 최소화 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for minimizing the error between the LED chip inspection equipment, and in particular, to minimize the inspection error between a plurality of the same inspection equipment for inspecting the defect of the LED chip LED to check the defect more accurately The present invention relates to a method for minimizing errors between chip appearance inspection equipment.

일반적으로 엘이디 칩 외관 검사 장비는 엘이디 칩의 외관에 발생하는 오염, 이물, 스크래치 등의 결함을 영상으로 검출하되, 검출된 영상의 결함을 크기 및 색상으로 엘이디 칩의 양,불을 판단하는 장비로서, 상기 장비로 엘이디 칩 외관의 결함을 검사할 때, 양산 라인에서 많은 량의 칩을 검사하기 위해 적어도 다수의 장비를 이용하여 엘이디 칩 외관을 검사하게 된다.In general, the LED chip inspection equipment detects defects such as contamination, foreign matter, scratches, etc. occurring on the exterior of the LED chip as an image, and determines the amount and fire of the LED chip based on the size and color of the detected image defect. When the defects of the exterior of the LED chip are inspected by the above equipment, the exterior of the LED chip is inspected using at least a plurality of equipment to inspect a large amount of chips in a mass production line.

이렇게 적어도 두 개 이상의 장비들로 외관 검사를 수행하는 검사장비들은 도 1에 도시한 바와 같이, 유리검사대(1), 상기 유리검사대(1)의 하부를 조사하는 하부조명(2), 상기 유리검사대(1)의 상부와 측부에서 조사하는 측부조명(3), 상부조명(4), 렌즈(5), 카메라(6)로 이루어지는 광학계로 구성하여 상기 광학계로 획득된 영상을 레서피로 검사하게 된다.As shown in FIG. 1, inspection apparatuses for performing appearance inspection with at least two or more equipments may include a glass inspection table 1, a lower light 2 for irradiating a lower portion of the glass inspection table 1, and the glass inspection table. The image obtained by the optical system is inspected by a recipe consisting of an optical system consisting of side lighting (3), upper lighting (4), a lens (5), and a camera (6) irradiated from the top and the side of (1).

이와 같이 검사장비들로 엘이디 칩의 외관을 검사할 때, 상기 장비들 간에 각각 장착되어 있는 광학계들 사이에는 각각의 미세한 오차가 존재하게 되고, 이 오차들은 각각의 장비들 간에 검사 결과에 차이를 발생시킨다.As such, when inspecting the appearance of the LED chip with the inspection equipments, there is a slight error between the optical systems mounted between the equipments, and these errors cause a difference in the test results between the respective equipments. Let's do it.

여기서, 상기 광학계의 오차는 상기 각각의 장비에 사용되는 카메라(6)의 경우에 감도, 색상, 균일성등의 오차를 가지게 되고, 상기 렌즈(5)는 배율, 왜곡, 색상, 균일성의 오차를 가지게 되며, 상기 조명(2)(3)(4)은 밝기, 색상, 균일성의 오차를 가지게 되고, 기타 초점 위치의 오차를 가지게 되는데, 이들의 오차들은 상기 광학계의 자체는 물론 장비들에 장착하는 과정에서 존재하게 된다.Here, the error of the optical system has an error such as sensitivity, color, uniformity in the case of the camera 6 used in the respective equipment, the lens 5 is the error of magnification, distortion, color, uniformity The illumination (2) (3) (4) will have errors of brightness, color, uniformity, and other errors of focal position, these errors of which are mounted on the equipment as well as the optical system itself. It exists in the process.

이렇게 오차가 존재하는 장비들은 기준 레서피(recipe)에 의해 엘이디 칩 외관 검사를 수행하게 된다.These error-prone devices perform the LED chip visual inspection by a reference recipe.

그러나, 상기 장비들 간에는 각각의 장비마다 존재하는 광학계의 오차에 의해 기준 레서피로 검사를 진행하더라도 하나의 영상에 대하여 각기 다른 크기와 색상과 밝기로 검사되는 오류를 발생하게 되어, 결국 검사장비들 간에 동일한 시료에 대해 다른 검사 결과를 나타나게 되어 검사 신뢰성 저하는 물론, 오류에 의한 불량 판정으로 인해 재검사를 하여야 하는 번거로움 및 작업 능률을 저하시키게 되는 문제점을 가지게 되었다.However, even if the equipment is inspected with the reference recipe due to the error of the optical system existing in each equipment, an error that is inspected with different sizes, colors, and brightness of one image is generated. Since different test results are displayed on the same sample, the test reliability is deteriorated, and the problem of deteriorating the work efficiency and the work of re-inspection due to a bad judgment due to an error is caused.

그래서 종래에는 오차가 존재하는 검사장비들에 대하여 작업자가 검사에 맞게 레서피를 일일이 수정하는 방법으로 검사를 진행해 오고 있는 실정이고, 이로 인하여 동일한 검사장비라 하더라도 각각의 서로 다른 레서피로 검사를 수행되는 복잡한 문제점을 가지게 되고, 이로 인한 장비마다 서로 다른 레서피의 존재로 검사장비의 관리에 어려운 문제점을 가지게 되었다.So, conventionally, the inspection equipment has been inspected by the operator to modify the recipe for each inspection equipment that has errors. Therefore, even the same inspection equipment has a complicated problem of performing the inspection with each different recipe. Due to this, there is a problem in the management of the inspection equipment due to the presence of different recipes for each equipment.

또한 등록특허공보 제10-589850호(명칭:오버 레이 검사장치의 오차 보정방법)에 의하면, 스테이지 위에 실제 웨이퍼가 아닌 별도의 측정패턴을 형성하고 장치 셋업(setup) 시, 초기 측정값을 측정하여 기록해 놓았다가 주기적으로 검사장치가 자동으로 상기 측정패턴에 대하여 초기측정값과의 차이를 비교해 그 차이가 발생시 그 차이를 검사장비의 상태 변화량으로 인식하여 검사장치의 모든 레서피를 보정함으로써 오차를 보정하도록 하였다.In addition, according to Patent Publication No. 10-589850 (name: error correction method of the overlay inspection apparatus), by forming a separate measurement pattern on the stage rather than the actual wafer, by measuring the initial measurement value at the time of device setup (setup) Record and periodically, the inspection device automatically compares the difference with the initial measurement value for the measurement pattern, and if the difference occurs, recognizes the difference as the state change amount of the inspection equipment and corrects all errors of the inspection device by correcting the error. It was.

따라서 상기 오차 보정방법은 주기적으로 검사장치의 상태 변동에 따른 오차를 측정하여 측정된 오차로 검사장치의 모든 레서피를 보정하는 것이어서, 결국 검사장치마다 모든 레서피가 다르게 되어 상기 검사장치를 관리하는데 어려움을 갖게 되는 문제점을 여전히 가지게 되었다.Therefore, the error correction method is to calibrate all the recipes of the inspection apparatus with the measured error by periodically measuring the error according to the state variation of the inspection apparatus, so that every recipe is different for each inspection apparatus, so that it is difficult to manage the inspection apparatus. I still have the problem.

상기 문제점을 해결하고자 하는 본 발명의 과제는 기준 레서피로 엘이디 칩 외관을 검사하는 다수의 검사장비들의 광학계 오차들을 측정하고, 다수의 검사장비들로 엘이디 칩 검사시 각각의 장비마다 측정된 오차를 적용하여 검사하고 보정함으로써 다수의 검사장비들 간에 검사 오차를 최소화하면서 검사할 수 있도록 하는데 있다.An object of the present invention to solve the above problems is to measure the optical system errors of a plurality of inspection equipment for inspecting the appearance of the LED chip as a reference recipe, and apply the error measured for each equipment when the LED chip inspection with a plurality of inspection equipment By inspecting and calibrating, it is possible to inspect with a minimum number of inspection errors.

상기 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 다른 과제는 다수의 검사장비들의 관리를 간편화하는데 있다. Another object of the present invention for solving the above problems is to simplify the management of a plurality of inspection equipment.

상기 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 또 다른 과제는 다수의 검사장비들 간에 검사 오차를 최소화함으로써, 검사장비들의 신뢰성 향상은 물론 불필요한 검사작업을 줄여 작업능률을 향상하는데 있다.Another object of the present invention for solving the above problems is to minimize the inspection error between a plurality of inspection equipment, to improve the work efficiency by reducing the unnecessary inspection work as well as the reliability of the inspection equipment.

상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 수단은 검사장비의 영상 오차 측정을 위한 기준시편을 준비하는 단계; 상기 단계에서 준비된 기준 시편으로 다수의 검사장비들의 영상 초점위치, 영상 픽셀 크기, 영상 균일성, 영상 색상에 대한 검사 오차를 각각 측정하는 단계; 상기 단계에서 측정된 영상 초점위치 오차를 다수의 검사 장비에 적용하는 단계; 상기 단계에서 적용된 검사 오차로 검사하고자 하는 엘이디 칩의 영상을 획득하는 단계; 상기 단계에서 획득된 영상의 모든 픽셀에 대해 상기 측정된 영상 균일성 오차와 영상 색상 검사 오차를 각각 적용하여 영상을 검사하는 단계; 상기 단계에서 검사된 영상에 상기 영상 픽셀 크기 검사 오차를 적용하여 픽셀 크기를 보정하는 단계를 포함하고,
상기 다수의 검사장비들의 영상 균일성 검사 오차 측정은 검사장비의 상부조명을 기준시편의 사각판 모양에 조사하여 렌즈를 통해 카메라로 획득된 영상의 평균 밝기를 확인하고 상기 확인된 영상 밝기에 대해 평균영상을 생성하여 색상 균일성 오차를 측정하는 것을 특징으로 한다.
Means for solving the above problems are the steps of preparing a reference specimen for measuring the image error of the inspection equipment; Measuring inspection errors of the image focal position, image pixel size, image uniformity, and image color of the plurality of inspection apparatuses with the reference specimen prepared in the step; Applying the image focal position error measured in the step to a plurality of inspection equipment; Acquiring an image of the LED chip to be inspected by the inspection error applied in the step; Inspecting the image by applying the measured image uniformity error and the image color inspection error to all pixels of the image acquired in the step; Correcting the pixel size by applying the image pixel size check error to the image checked in the step;
Image uniformity test error measurement of the plurality of inspection equipment is to check the average brightness of the image obtained by the camera through the lens by irradiating the upper illumination of the inspection equipment to the square plate shape of the reference specimen and the average of the confirmed image brightness It is characterized by measuring the color uniformity error by generating an image.

상기 본 발명의 수단에서 기준시편은 유리재질로 사각형의 평판으로 중앙을 가로와 세로로 가로질러 4 등분된 사각형을 형성하되, 4 등분된 사각형의 대각선 방향에 크롬을 도금하여 사각 모양을 형성하고, 상기 크롬이 도금되지 않은 대각선 방향의 사각모양에는 소정 크기의 사각으로 크롬을 가로와 세로 방향으로 교호로 도금하여 바둑판 모양으로 형성한 것을 특징으로 한다.In the means of the present invention, the reference specimen is formed of a quadrilateral quadrilateral cross vertically horizontally and vertically with a flat plate of glass material, and forms a square shape by plating chromium in the diagonal direction of the quadrilateral quadrangle, The diagonal shape in which the chromium is not plated has a diagonal shape in which a chrome is plated alternately in a horizontal and vertical direction by a square having a predetermined size.

상기 본 발명의 수단에서 다수의 검사장비들의 영상초점위치 검사오차 측정은 검사장비들의 하부조명을 기준시편의 소정 크기의 사각형으로 크롬 도금된 바둑판 모양에 조사하여 렌즈를 통해 카메라로 획득되는 영상에 대해 밝기 콘트라스트가 최대이고 선명도가 최대로 되는 조명 레벨로 초점위치를 측정하는 것을 특징으로 한다.The image focus position inspection error measurement of a plurality of inspection equipment in the means of the present invention is irradiated to the chrome-plated checkerboard shape of a square of a predetermined size of the reference specimen to the image obtained by the camera through the lens The focus position is measured at an illumination level where the brightness contrast is maximum and the sharpness is maximum.

상기 본 발명의 수단에서 다수의 검사장비들의 영상 픽셀 크기 검사 오차 측정은 검사장비들의 하부조명을 기준시편의 소정 크기의 사각형으로 크롬 도금된 바둑판 모양에 조사하여 렌즈를 통해 카메라로 획득된 영상에서 픽셀의 크기를 계산하여 영상 픽셀 크기 오차를 측정하는 것을 특징으로 한다.In the means of the present invention, the image pixel size inspection error measurement of a plurality of inspection equipment is a pixel in the image obtained by the camera through the lens by irradiating the lower illumination of the inspection equipment to the chrome plated checkerboard shape into a square of a predetermined size of the reference specimen The image pixel size error is measured by calculating the size of.

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상기 본 발명의 수단에서 다수의 검사장비들의 영상 색상 검사 오차 측정은 검사장비들의 상부조명을 기준 시편의 크롬이 도금된 사각판 모양에 조사하여 렌즈를 통해 카메라로 영상을 획득하고 획득된 영상의 평균영상을 생성하며 생성된 평균영상의 R,G,B 각 플레인에 대해 색상 보정값을 산출하여 색상 오차를 측정하는 것을 특징으로 한다.In the means of the present invention, the image color inspection error measurement of a plurality of inspection equipment is obtained by the camera through a lens by illuminating the upper illumination of the inspection equipment to the chrome plated square plate shape of the reference specimen and the average of the obtained image The method generates an image and calculates a color correction value for each of R, G, and B planes of the generated average image to measure color errors.

상기 과제 해결에 따른 본 발명의 효과는 엘이디 칩 외관의 결함을 검사하는 다수의 검사장비들을 기준 시편을 이용하여 상기 다수의 검사장비들의 영상 초점위치 오차, 영상 픽셀 크기 오차, 영상 균일성 오차, 영상 색상 오차를 측정하고, 이측정된 검사 오차를 적용하여 획득된 영상을 보정 함으로써, 상기 다수의 검사 장비들 간에 오차를 최소화할 수 있게 되어 상기 검사장비들 간에 신뢰성 향상과 오차로 인한 불필요한 작업을 하지 않아도 되므로 검사작업의 능률 향상 및 나아가서는 검사장비들의 관리를 간편화할 수 있는 효과를 제공하게 되는 것이다.The effect of the present invention according to the problem is that the image focus position error, image pixel size error, image uniformity error, image uniformity of the plurality of inspection equipment by using a plurality of inspection equipment for inspecting defects of the LED chip appearance By measuring the color error and correcting the obtained image by applying the measured inspection error, it is possible to minimize the error between the plurality of inspection equipment to improve the reliability between the inspection equipment and unnecessary work due to the error Since there is no need to improve the efficiency of the inspection work and further simplify the management of the inspection equipment will be provided.

도 1은 종래 엘이디 칩 외관 검사장비의 개략도
도 2는 본 발명 엘이디 칩 외관 검사장비의 설치 상태도
도 3은 본 발명 엘이디 칩 외관 검사장비 간의 오차 최소화 방법의 플로우 챠트.
도 4는 본 발명 엘이디 칩 외관 검사장비의 이용되는 기준 시편 예시도
도 5는 본 발명 엘이디 칩 외관 검사장비 간의 영상 초점위치 오차와 영상 픽셀 크기 오차 측정 플로우챠트
도 6은 본 발명 엘이디 칩 외관 검사장비 간의 영상 균일성 오차와 영상 색상 오차 측정 플로우챠트
1 is a schematic diagram of a conventional LED chip inspection equipment
2 is an installation state diagram of the present invention LED chip inspection equipment
Figure 3 is a flow chart of the error minimization method between the present invention LED chip inspection equipment.
Figure 4 is an illustration of the reference specimen used in the present invention LED chip inspection equipment
5 is a flowchart illustrating an image focal position error and an image pixel size error measurement between the LED chip visual inspection equipment of the present invention;
6 is an image uniformity error and image color error measurement flowchart between the present invention LED chip inspection equipment

이하 첨부되는 도면에 의거 본 발명을 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명이 적용되는 엘이디 칩 외관 검사장비의 설치 상태도이다.Figure 2 is an installation state diagram of the LED chip appearance inspection equipment to which the present invention is applied.

도 2에 도시한 바와 같이, 엘이디 칩 외관 검사 장비는 기준 검사장비(10)와 상기 기준 검사장비(10)와 동일 레서피로 엘이디 칩 외관을 검사하는 댜수의 상대 검사장비들(11n)로 구성된다.As shown in FIG. 2, the LED chip inspection equipment includes a reference inspection equipment 10 and a number of relative inspection equipments 11n for inspecting the LED chip appearance with the same recipe as the reference inspection equipment 10. .

그러므로 상기 기준 검사장비(10)와 다수의 상대 검사장비들(11n)은 각각 엘이디 칩 외관의 검사를 진행하되, 진행 중에 획득된 영상은 후술하는 기준 검사장비(10)와 다수의 상대 검사장비들(11n)에서 측정된 영상 오차로 보정하여 검사를 진행하게 된다.Therefore, the reference inspection equipment 10 and the plurality of relative inspection equipment (11n), respectively, the inspection of the LED chip appearance, while the image obtained during the reference inspection equipment 10 and a plurality of relative inspection equipment to be described later Inspection is performed by correcting with the image error measured in (11n).

도 3은 본 발명 엘이디 칩 외관 검사장비 간의 오차 최소화 방법의 플로우 챠트이고, 도 4는 본 발명 엘이디 칩 외관 검사장비의 이용되는 기준 시편 예시도이며, 도 5는 본 발명 엘이디 칩 외관 검사장비 간의 영상 초점위치 오차와 영상 픽셀 크기 오차 측정 플로우챠트이고, 도 6은 본 발명 엘이디 칩 외관 검사장비 간의 영상 균일성 오차와 영상 색상 오차 측정 플로우챠트 이다.Figure 3 is a flow chart of the method of minimizing the error between the LED chip inspection equipment of the present invention, Figure 4 is an illustration of the reference specimen used in the LED chip inspection equipment of the present invention, Figure 5 is an image between the LED chip inspection equipment of the present invention Focus position error and image pixel size error measurement flowchart, Figure 6 is an image uniformity error and image color error measurement flowchart between the LED chip appearance inspection equipment of the present invention.

도 3에 도시한 바와 같이, 검사장비의 영상 오차 측정을 위한 기준시편(20)을 준비하는 단계(31); 상기 단계(31)에서 준비된 기준 시편(20)으로 다수의 검사장비(10)(11n)들의 영상 초점위치, 영상 픽셀 크기, 영상 균일성, 영상 색상에 대한 검사 오차를 각각 측정하는 단계(32); 상기 단계(32)에서 측정된 영상 초점위치 오차를 다수의 검사 장비(10)(11n)에 적용하는 단계(33), 상기 단계(33)에서 적용된 검사 오차로 검사하고자 하는 엘이디 칩의 영상을 획득하는 단계(34); 상기 단계(34)에서 획득된 영상의 모든 픽셀에 대해 상기 측정된 영상 균일성 오차와 영상 색상 검사 오차를 각각 적용하여 영상을 검사하는 단계(35); 상기 단계(35)에서 검사된 영상에 상기 영상 픽셀 크기 검사 오차를 적용하여 픽셀 크기를 보정하는 단계(36)를 포함하게 된다.As shown in Figure 3, the step (31) of preparing a reference specimen 20 for measuring the image error of the inspection equipment; Measuring the inspection error for the image focus position, image pixel size, image uniformity, image color of the plurality of inspection equipment (10) (11n) with the reference specimen 20 prepared in step 31, respectively (32) ; Applying the image focal position error measured in the step 32 to the plurality of inspection equipment 10 (11n) (33), to obtain an image of the LED chip to be inspected by the inspection error applied in the step 33 Step 34; Inspecting (35) the image by applying the measured image uniformity error and the image color inspection error to all pixels of the image obtained in the step (34); And correcting the pixel size by applying the image pixel size test error to the image examined in the step 35.

상기 기준시편(20)은 엘이디 칩 외관의 결함을 검사하는 기준 검사장비(1)와 다수의 상대 검사장비(2n)에 대해 레서피를 이용하여 하부조명(2),측부조명(3), 상부조명(4), 렌즈(5), 카메라(6)로 이루어지는 광학계의 검사오차를 측정하게 된다.The reference specimen 20 is a lower illumination (2), side illumination (3), upper illumination by using a recipe for the reference inspection equipment (1) and a plurality of relative inspection equipment (2n) for inspecting defects of the LED chip appearance (4) The inspection error of the optical system consisting of the lens 5 and the camera 6 is measured.

상기 기준시편(20)은 도 4에 도시한 바와 같이, 유리재질로 사각형의 평판으로 형성되고, 상기 평판의 중앙을 가로와 세로로 가로질러 4 등분된 사각형을 형성하되, 4 등분된 사각형의 대각선 방향에는 크롬(Cr)을 도금하여 사각형 모양을 형성하고, 상기 크롬(Cr)이 도금되지 않은 대각선 방향에는 소정 크기의 사각으로 크롬(Cr)을 가로와 세로 방향으로 교호로 도금하여 바둑판 모양으로 형성하여 준비하게 된다(단계31).As shown in FIG. 4, the reference specimen 20 is formed of a rectangular flat plate made of glass, and forms a quadrangular quadrangular cross between the center and the horizontal of the flat plate. Direction to form a rectangular shape by plating chromium (Cr), and in the diagonal direction in which the chromium (Cr) is not plated, form a checkered plate by alternately plating chromium (Cr) horizontally and vertically in a square of a predetermined size. To prepare (step 31).

이렇게 준비된 기준 시편(20)은 큰 사각모양과 격자모양 각각에 상기 기준 검사 장치(10)와 상기 다수의 상대 검사장비(11n)의 하부조명(2),측부조명(3),상부조명(4)을 각각 조사하여 기준 시편(20)의 사각형모양과 바둑판모양에 맺혀진 광원을 렌즈(5), 컬러카메라(6)로 영상을 획득하고, 상기 획득된 영상으로 기준 검사장비(10)와 다수의 상대 검사장비(11n)에 대해 검사 오차를 측정하게 된다.Thus prepared reference specimen 20 has a large square shape and grid shape, respectively, the lower illumination (2), side illumination (3), upper illumination (4) of the reference inspection device 10 and the plurality of relative inspection equipment (11n) ), Respectively, to obtain images of the light source formed in the square shape and the checkerboard shape of the reference specimen 20 with the lens 5 and the color camera 6, and the reference inspection equipment 10 and a plurality of images. The inspection error is measured for the relative inspection equipment 11n.

이때 상기 검사 오차는 기준 검사장비(10)와 다수의 상대 검사장비(11n)에 대해 영상 초점위치, 영상 픽셀 크기, 영상 균일성, 영상 색상에 대한 오차를 검사하게 되며, 상기 오차의 검사에서 영상의 균일성과 영상의 색상에 대한 검사 오차는 상기 기준 시편(20)의 사각형 모양에 조사된 광원의 영상으로 오차 검사를 측정하게 되고, 상기 영상의 픽셀 크기와 영상의 초점 위치에 대한 검사 오차는 상기 기준 시편(20)의 바둑판 모양에 조사되는 광원의 영상으로 검사 오차를 측정하게 된다(단계32).At this time, the inspection error is to check the error of the image focusing position, image pixel size, image uniformity, image color with respect to the reference inspection equipment 10 and a plurality of relative inspection equipment (11n), the image in the inspection of the error The inspection error for the uniformity of the image and the color of the image is measured by the image of the light source irradiated to the square shape of the reference specimen 20, the inspection error for the pixel size of the image and the focal position of the image is An inspection error is measured by an image of a light source irradiated to the checkerboard shape of the reference specimen 20 (step 32).

즉 상기 기준 검사장비(10)와 다수의 상대 검사장비(11n)들의 영상 초점위치 오차 측정은 도 5에 도시한 바와 같이, 기준 검사장비(10)와 다수의 상대 검사장비(11n)들의 하부조명(2)을 기준 시편(20)의 소정 크기의 사각으로 크롬 도금된 바둑판 모양에 조사하여 렌즈(5)를 통해 카메라(6)로 획득되는 영상으로 측정하되, 이때 기준 시편(20)에 조사된 영상을 통해 조사된 부분과 조사되지 않은 부분과의 밝기를 대조하여 하부조명(2)의 밝기 콘트라스트가 최대되는 조명레벨을 탐색한다(단계51).That is, as shown in FIG. 5, the image focus position error measurement of the reference inspection device 10 and the plurality of relative inspection devices 11n is performed by lower illumination of the reference inspection device 10 and the plurality of relative inspection devices 11n. (2) is measured by an image obtained by the camera 6 through the lens 5 by irradiating a checkered plate chrome plated into a square of a predetermined size of the reference specimen 20, wherein the reference specimen 20 In operation 51, the brightness level of the lower illumination 2 is maximized by comparing the brightness between the irradiated portion and the non-irradiated portion through the image.

여기서 상기 조명레벨은 0에서 최대 1000 레벨까지 조절하면서 하부조명(2)의 밝기 콘트라스트가 최대되는 조명레벨을 탐색하며 상기 조명의 선명도가 최대로 되는 조명레벨을 초점위치로 탐색하고(단계52), 상기 탐색된 초점위치 오차를 이전 초점위치와 비교하여 현재 초점위치를 확인하게 된다(단계53). Here, the illumination level is adjusted from 0 to a maximum of 1000 levels, searching for an illumination level at which the brightness contrast of the lower light 2 is maximized, and searching for an illumination level at which the sharpness of the illumination is maximized to a focus position (step 52). The detected focus position error is compared with the previous focus position to identify the current focus position (step 53).

이때 상기 조명레벨과 초점위치는 기준 시편(20)의 소정 크기의 사각형으로 크롬 도금된 부분과 도금이 되지 않은 사각형에 맺혀진 광의 밝고 어두움으로 최대 조명레벨과 초점위치를 확인하게 된다.At this time, the illumination level and the focal position are to determine the maximum illumination level and the focal position by the light and dark of the light formed in the chrome plated portion and the non-plated square with a square of a predetermined size of the reference specimen 20.

상기 최대 조명레벨과 초점위치의 탐색과 확인이 완료되면, 상기 영상에 대해 기준 시편(20)의 소정 크기의 사각형으로 크롬 도금된 바둑판 모양에 조사되어렌즈를 통해 카메라로 획득된 영상에서 픽셀의 크기를 계산하게 되는데, 이때 픽셀의 크기는 상기 기준 시편(20) 상에 소정 크기의 각각의 사각형의 크기를 찾아서 픽셀크기를 계산한다. When the search and confirmation of the maximum illumination level and the focus position is completed, the size of the pixel in the image obtained by the camera through the lens is irradiated to the chrome plated checkerboard shape with a square of a predetermined size of the reference specimen 20 for the image In this case, the pixel size is calculated by finding the size of each quadrangle of a predetermined size on the reference specimen 20.

즉 상기 픽셀의 크기는 기준시편(20)의 소정 사각에 맺혀진 영상을 사각형 에 해당하는 픽셀의 크기를 나누어 픽셀 크기의 오차를 계산하게 된다(단계54). 상기계산된 기준 초점위치의 오차와 픽셀 크기 오차를 측정하여 놓게 된다(단계55).That is, the pixel size is calculated by dividing the size of the pixel corresponding to the rectangle by dividing the image formed on the predetermined rectangle of the reference specimen 20 (step 54). The error of the calculated reference focal position and the pixel size error are measured (step 55).

그리고 상기 기준 검사장비(10)와 다수의 상대 검사장비(11n)들의 영상 균일성 오차와 영상 색상 오차 측정은 도 6에 도시한 바와 같이, 상기 기준 검사장비(10)와 다수의 상대 검사장비(11n)들의 상부조명(4)을 기준 시편(20)의 크롬이 도금된 사각형 모양에 조사하여 렌즈를 통해 카메라로 획득된 영상을 획득하고(단계61), 이 획득된 영상의 평균 밝기를 확인한다(단계62). As shown in FIG. 6, the image uniformity error and the image color error of the reference inspection device 10 and the plurality of relative inspection devices 11n are measured by the reference inspection device 10 and the plurality of relative inspection devices. 11n) is irradiated to the chrome-plated square shape of the reference specimen 20 of the upper light 4 of the reference specimen 20 to obtain an image obtained by the camera through the lens (step 61), and confirms the average brightness of the obtained image. (Step 62).

여기서 영상의 밝기는 0 에서 255 단계로 조절되며, 여기서 밝기 수준은 80%를 기준 밝기로 설정하여 상기 기준 밝기에 맞도록 상기 상부조명(3)을 조정해 가면서 밝기를 확인하되, 이때 밝기는 64회를 누적하여 누적된 밝기의 평균값으로 평균 영상을 생성하게 된다(단계63). Here, the brightness of the image is adjusted in 0 to 255 steps, where the brightness level is set to 80% as the reference brightness and the brightness is checked while adjusting the upper light (3) to match the reference brightness, but the brightness is 64 The average image is generated by accumulating the times and using the average value of the accumulated brightness (step 63).

이어서 상기 생성된 평균 영상의 색상(R,G,B) 플레인에 대하여 색상 보정값을 계산하게 되는데, 이때 색상(R,G,B) 보정은 모든 픽셀에 대하여 밝기 기준값을 현재 밝기값으로 나눈 값으로 색상 보정값을 계산한다(단계64), Subsequently, a color correction value is calculated for the color (R, G, B) plane of the generated average image, where color (R, G, B) correction is a value obtained by dividing the brightness reference value by the current brightness value for all pixels. Calculate the color correction value (step 64),

상기와 같이 기준 검사장비(10)와 다수의 상대 검사장비(11n)들에 대하여 광학계의 검사 오차 값을 계산하여 측정하고 저장한 상태에서, 상기 기준 검사장비(10)와 다수의 상대 검사장비(11n)들에 검사하고자 하는 엘이디 칩을 올려놓고, 도 3에 도시한 바와 같이, 상기 기준 검사장비(10)와 다수의 상대 검사장비(11n)들에 이미 각각 계산되고 측정되며, 도 5에 도시한 바와 같이, 측정된 영상 초점위치 오차를 적용하여(단계33) 상기 적용된 초점위치 오차로 엘이디 칩의 영상을 획득하게 된다(단계34).As described above, in the state of calculating, measuring, and storing an inspection error value of an optical system with respect to the reference inspection device 10 and the plurality of relative inspection devices 11n, the reference inspection device 10 and the plurality of relative inspection devices ( 11n) put the LED chip to be tested, and as shown in FIG. 3, the reference inspection equipment 10 and the plurality of relative inspection equipment 11n are already calculated and measured, respectively, and shown in FIG. As described above, by applying the measured image focal position error (step 33), an image of the LED chip is obtained using the applied focal position error (step 34).

그리고 상기 획득된 영상은 모든 픽셀에 대해 상기 기준 검사장비(10)와 다수의 상대 검사장비(11n)들에서 각각 계산되고 측정되며 도 6에 도시한 바와 같이, 측정된 영상 균일성 오차와 영상 색상의 검사 오차를 각각 적용하여 상기 엘이디 칩 영상을 검사하고(단계35), 상기 검사된 엘이디 칩 영상은 도 5에 도시한 바와 같이 상기 기준 검사장비(10)와 다수의 상대 검사장비(11n)들에 각각 계산되고 측정된 영상 픽셀 크기 검사 오차를 적용하여 상기 엘이디 칩의 영상 픽셀 크기를 보정하게 된다(단계36). The obtained image is calculated and measured at each of the reference inspection equipment 10 and the plurality of relative inspection equipments 11n for all pixels, and as shown in FIG. 6, the measured image uniformity error and image color. The LED chip image is inspected by applying an inspection error of each (step 35), and the tested LED chip image is the reference inspection equipment 10 and the plurality of relative inspection equipment 11n as shown in FIG. The calculated image pixel size check error is applied to the LED chip to correct the image pixel size of the LED chip (step 36).

그러므로 각각의 검사 오차를 갖는 상기 기준 검사장비(10)와 다수의 상대 검사장비(11n) 들은 사전에 계산되고 측정된 검사 오차 값을 적용하여 엘이디 칩을 검사하게 되므로, 상기 검사장비들 간에 검사 오차를 최소화하면서 검사가 이루어지게 되어 검사 장비의 신뢰성을 주게 됨은 물론, 검사 오차로 인한 검사 장비들 각각의 레서피를 바꾸지 않고도 되는 검사장비들 간에 동일 기준 레서피의 사용으로 검사장비의 관리를 편리하게 할 수 있게 되는 것이다.Therefore, the reference inspection equipment 10 and the plurality of relative inspection equipments 11n having respective inspection errors inspect the LED chip by applying the previously calculated and measured inspection error values, so that the inspection errors between the inspection equipments. The inspection is performed while minimizing the number, which gives reliability of the inspection equipment and makes it easier to manage the inspection equipment by using the same standard recipe among the inspection equipment without changing the recipe of each inspection equipment due to the inspection error. Will be.

또한 본 발명은 엘이디 칩 외관을 검사하는 장비에 적용하여 설명하였으나, 이에 한정하지 않고 조명, 렌즈, 카메라로 구성되는 광학계를 이용하여 반도체 웨이퍼 또는 형광 필름 등의 외관을 검사하는 모든 검사 장비에 적용할 수 있음을 밝혀 둔다. In addition, the present invention has been described by applying to the equipment for inspecting the appearance of the LED chip, but is not limited to this is applicable to all inspection equipment for inspecting the appearance of the semiconductor wafer or fluorescent film using the optical system consisting of illumination, lens, camera. Let's find out.

10; 기준 검사 장비 11n; 상대 검사 장비10; Standard inspection equipment 11n; Relative inspection equipment

Claims (6)

검사장비의 영상 오차 측정을 위한 기준 시편을 준비하는 단계;
상기 단계에서 준비된 기준 시편으로 다수의 검사장비들의 영상 초점위치, 영상 픽셀 크기, 영상 균일성, 영상 색상에 대한 검사 오차를 각각 측정하는 단계;
상기 단계에서 측정된 영상 초점위치 오차를 다수의 검사 장비에 적용하는 단계;
상기 단계에서 적용된 검사 오차로 검사하고자 하는 엘이디 칩의 영상을 획득하는 단계;
상기 단계에서 획득된 영상의 모든 픽셀에 대해 상기 측정된 영상 균일성 오차와 영상 색상 검사 오차를 각각 적용하여 영상을 검사하는 단계; 및
상기 단계에서 검사된 영상에 상기 영상 픽셀 크기 검사 오차를 적용하여 픽셀 크기를 보정하는 단계를 포함하고,
상기 다수의 검사장비들의 영상 균일성 검사 오차 측정은 검사장비의 상부조명을 기준시편의 사각판 모양에 조사하여 렌즈를 통해 카메라로 획득된 영상의 평균 밝기를 확인하고 상기 확인된 영상 밝기에 대해 평균영상을 생성하여 색상 균일성 오차를 측정하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 엘이디 칩 외관 검사장비 간의 오차 최소화 방법.
Preparing a reference specimen for measuring an image error of an inspection device;
Measuring inspection errors of the image focal position, image pixel size, image uniformity, and image color of the plurality of inspection apparatuses with the reference specimen prepared in the step;
Applying the image focal position error measured in the step to a plurality of inspection equipment;
Acquiring an image of the LED chip to be inspected by the inspection error applied in the step;
Inspecting the image by applying the measured image uniformity error and the image color inspection error to all pixels of the image acquired in the step; And
Correcting the pixel size by applying the image pixel size check error to the image checked in the step;
Image uniformity test error measurement of the plurality of inspection equipment is to check the average brightness of the image obtained by the camera through the lens by irradiating the upper illumination of the inspection equipment to the square plate shape of the reference specimen and the average of the confirmed image brightness Method for minimizing the error between the LED chip inspection equipment, characterized in that it comprises generating an image to measure the color uniformity error.
제 1 항에 있어서,
상기 기준시편은 유리재질로 사각형의 평판으로 중앙을 가로와 세로로 가로질러 4 등분된 사각형을 형성하되, 4 등분된 사각형의 대각선 방향에 크롬을 도금하여 사각 모양을 형성하고, 상기 크롬이 도금되지 않은 대각선 방향에는 소정 크기의 사각으로 크롬을 가로와 세로 방향으로 교호로 도금하여 바둑판 모양을 형성한 것을 특징으로 하는 엘이디 칩 외관 검사장비 간의 오차 최소화 방법.
The method of claim 1,
The reference specimen is made of glass and forms a quadrilateral quadrilateral cross vertically and horizontally with a rectangular flat plate, and forms a square shape by plating chromium in a diagonal direction of the quadrilateral quadrangle, and the chromium is not plated. The method of minimizing the error between the LED chip inspection equipment, characterized in that by forming a checkerboard shape by alternately plating chrome in a horizontal and vertical direction with a square of a predetermined size in the diagonal direction.
제 1 항에 있어서,
상기 다수의 검사장비들의 영상 초점위치 검사 오차 측정은,
상기 검사장비들의 하부조명을 기준시편의 소정 크기의 사각으로 크롬 도금된 바둑판 모양에 조사하여 렌즈를 통해 카메라로 획득되는 영상에 대해 밝기 콘트라스트가 최대이고 선명도가 최대로 되는 조명 레벨로 초점위치를 탐색하여 영상 초점위치 오차를 측정하는 것을 특징으로 하는 엘이디 칩 외관 검사장비 간의 오차 최소화 방법.
The method of claim 1,
Image focus position inspection error measurement of the plurality of inspection equipment,
Irradiating the lower lights of the inspection equipments to a chrome plated checkerboard with a square of a predetermined size of the reference specimen to search for a focus position with an illumination level that maximizes brightness contrast and maximizes clarity for an image obtained by a camera through a lens. Method of minimizing the error between the LED chip external inspection equipment, characterized in that for measuring the image focus position error.
제 1 항에 있어서,
상기 다수의 검사장비들의 영상 픽셀 크기 오차 측정은,
검사장비들의 하부조명을 기준시편의 200㎛ 크기의 사각형으로 크롬 도금된 바둑판 모양에 조사하여 렌즈를 통해 카메라로 획득된 영상에서 픽셀의 크기를 계산하여 영상 픽셀 크기 오차를 측정하는 것을 특징으로 하는 엘이디 칩 외관 검사장비 간의 오차 최소화 방법.
The method of claim 1,
Image pixel size error measurement of the plurality of inspection equipment,
LED is characterized by measuring the pixel size error by calculating the size of the pixel in the image acquired by the camera through the lens by irradiating the lower illumination of the inspection equipment into the square of 200㎛ size of the reference specimen Minimizing error between chip appearance inspection equipment.
삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 다수의 검사장비들의 영상 색상 검사 오차 측정은
검사장비들의 상부조명을 기준 시편의 크롬이 도금된 사각판 모양에 조사하여 렌즈를 통해 카메라로 영상을 획득하고 획득된 영상의 평균영상을 생성하며 생성된 평균영상의 R,G,B 각 플레인에 대해 색상 보정값을 계산하고 이 보정값으로 영상 색상 오차를 측정하는 것을 특징으로 하는 엘이디 칩 외관 검사장비 간의 오차 최소화 방법.
The method of claim 1,
Image color inspection error measurement of the plurality of inspection equipment
The upper illumination of the inspection equipment is irradiated to the chrome plated square plate shape of the reference specimen to acquire an image through a lens, generate an average image of the acquired image, and apply it to each plane of the average image generated The method for minimizing the error between LED chip inspection equipment, characterized in that for calculating the color correction value for the image and measuring the image color error with this correction value.
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