JP2015064525A - Drawing apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、対象物に光を照射してパターンの描画を行う描画装置に関する。 The present invention relates to a drawing apparatus that draws a pattern by irradiating an object with light.
従来より、空間変調された光をステージ上の対象物に照射し、当該光の照射領域を対象物上にて走査することによりパターンを描画する描画装置が知られている。このような描画装置では、光源の劣化、空間光変調デバイスの特性劣化、光学系の透過率低下、異物の付着等に起因して、対象物上における光量が低下することがある。そこで、このような描画装置では、描画ヘッドからの光量を、ステージ近傍に設けられた光量センサにて検出することが行われている。 2. Description of the Related Art Conventionally, there is known a drawing apparatus that draws a pattern by irradiating an object on a stage with spatially modulated light and scanning the irradiation area of the light on the object. In such a drawing apparatus, the amount of light on the object may decrease due to deterioration of the light source, characteristic deterioration of the spatial light modulation device, reduction in the transmittance of the optical system, adhesion of foreign matter, and the like. Therefore, in such a drawing apparatus, the light amount from the drawing head is detected by a light amount sensor provided in the vicinity of the stage.
例えば、特許文献1のレーザ描画装置では、音響光学変調器とポリゴンミラーとの間に第1の光量モニタが設けられ、描画ステージ上に第2の光量モニタが設けられる。当該レーザ描画装置では、光学部品の特性劣化や異物の付着等に起因して第1の光量モニタの光学特性が変化したとしても、第2の光量モニタにより検出された光量に基づいて、第1の光量モニタの光量検出精度が校正される。
For example, in the laser drawing apparatus of
特許文献2の露光描画装置では、光源からの光を分離するアパーチャ部材と空間光変調手段との間に第1光量センサが設けられ、被露光体テーブル上に第2光量センサが設けられる。当該露光描画装置では、第1光量センサからの出力と第2光量センサからの出力とに基づいて、アパーチャ部材から被露光体に至る状況が判断される。 In the exposure drawing apparatus of Patent Document 2, a first light quantity sensor is provided between an aperture member that separates light from a light source and a spatial light modulation means, and a second light quantity sensor is provided on an exposed object table. In the exposure drawing apparatus, based on the output from the first light quantity sensor and the output from the second light quantity sensor, the situation from the aperture member to the object to be exposed is determined.
特許文献3の露光装置では、光源の光量を測定する第1光量センサが光源の近傍に設けられ、光学素子を経由した光量を測定する第2光量センサが基板の周辺に設けられる。当該露光装置では、第1光量センサからの出力に基づいて光源の寿命期間が判定される。第1光量センサからの出力により光源が寿命期間内であると判定されると、第2光量センサからの出力に基づいて、光学素子の特性の良否が判定される。 In the exposure apparatus of Patent Document 3, a first light amount sensor that measures the light amount of a light source is provided in the vicinity of the light source, and a second light amount sensor that measures the light amount via an optical element is provided around the substrate. In the exposure apparatus, the lifetime of the light source is determined based on the output from the first light quantity sensor. When the output from the first light quantity sensor determines that the light source is within the lifetime, the quality of the optical element is determined based on the output from the second light quantity sensor.
ところで、特許文献1のレーザ描画装置では、第2の光量モニタの光学特性が劣化した場合、第1の光量モニタの光量検出精度を精度良く校正することは難しい。また、特許文献2および特許文献3の露光装置においても、第1光量センサおよび第2光量センサのいずれかに光学特性の劣化等が発生した場合、第1光量センサからの出力と第2光量センサからの出力とに基づく検査精度が低下するおそれがある。
By the way, in the laser drawing apparatus of
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、描画ヘッドの劣化要因を精度良く検出することを目的としている。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to accurately detect a deterioration factor of a drawing head.
請求項1に記載の発明は、対象物に光を照射してパターンの描画を行う描画装置であって、対象物に空間変調された光を照射する描画ヘッドと、前記対象物を保持するとともに前記描画ヘッドに対して相対的に移動することにより前記描画ヘッドからの光の照射領域を前記対象物上にて走査する保持部と、前記描画ヘッドの検査を行う検査部とを備え、前記描画ヘッドが、光を出射する光源と、空間光変調デバイスと、前記光源からの光を前記空間光変調デバイスへと導く照明光学系と、前記空間光変調デバイスにて空間変調された光を前記保持部へと導く投影光学系とを備え、前記検査部が、前記描画ヘッドに対して相対的に定められた描画光量測定位置に位置する際に前記投影光学系からの光を受光する光量センサと、前記光量センサを前記描画光量測定位置と予め定められた中間光量測定位置との間で移動するセンサ移動機構と、前記光源から前記空間光変調デバイスに至る光路上に挿入されて前記光源から前記空間光変調デバイスへと向かう光の少なくとも一部を取り込む採光ヘッドと、前記採光ヘッドにて取り込まれた光を前記中間光量測定位置に位置する前記光量センサへと導く測定光学系と、前記採光ヘッドを前記光路上に挿入し、また、前記光路上から離脱させる採光ヘッド移動機構とを備える。
The invention according to
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の描画装置であって、前記光量センサが前記保持部に設けられ、前記投影光学系の先端から前記光量センサの受光面に至る距離が、前記投影光学系の前記先端から前記対象物の表面に至る距離に等しく、前記センサ移動機構が、前記保持部を前記描画ヘッドに対して相対的に移動する。
Invention of Claim 2 is the drawing apparatus of
請求項3に記載の発明は、請求項1または2に記載の描画装置であって、前記照明光学系がインテグレータを備え、前記採光ヘッドが、前記インテグレータから前記空間光変調デバイスに至る光路上に挿入される。 A third aspect of the present invention is the drawing apparatus according to the first or second aspect, wherein the illumination optical system includes an integrator, and the lighting head is disposed on an optical path from the integrator to the spatial light modulation device. Inserted.
請求項4に記載の発明は、請求項1ないし3のいずれかに記載の描画装置であって、前記光源から出射される光が紫外光である。
The invention according to
請求項5に記載の発明は、請求項1ないし4のいずれかに記載の描画装置であって、前記空間光変調デバイスが、向きが変更可能な多数の微小鏡面を平面に配列した光学素子である。 A fifth aspect of the present invention is the drawing apparatus according to any one of the first to fourth aspects, wherein the spatial light modulation device is an optical element in which a number of micromirror surfaces whose directions can be changed are arranged in a plane. is there.
請求項6に記載の発明は、請求項1ないし5のいずれかに記載の描画装置であって、前記光量センサにて受光される前記測定光学系からの光の光量が、前記光量センサにて受光される前記投影光学系からの光の光量の10%以上100%以下である。 A sixth aspect of the present invention is the drawing apparatus according to any one of the first to fifth aspects, wherein a light amount of light from the measurement optical system received by the light amount sensor is determined by the light amount sensor. The amount of light received from the projection optical system is 10% or more and 100% or less.
請求項7に記載の発明は、請求項1ないし6のいずれかに記載の描画装置であって、前記検査部が、前記光量センサにて受光される前記測定光学系からの光の光量と、前記光量センサにて受光される前記投影光学系からの光の光量とに基づいて、前記描画ヘッドの異常を検出する異常検出部をさらに備える。
Invention of Claim 7 is the drawing apparatus in any one of
請求項8に記載の発明は、請求項7に記載の描画装置であって、前記検査部が、前記光量センサにより受光される前記測定光学系からの光の光量と、前記光源に供給される電流または電力とに基づいて、前記描画ヘッドの異常を検出するもう1つの異常検出部をさらに備える。 The invention according to claim 8 is the drawing apparatus according to claim 7, wherein the inspection unit is supplied to the light amount of the light from the measurement optical system received by the light amount sensor and the light source. The apparatus further includes another abnormality detection unit that detects abnormality of the drawing head based on current or power.
請求項9に記載の発明は、請求項1ないし8のいずれかに記載の描画装置であって、前記描画ヘッドと同様の構造を有する他の描画ヘッドをさらに備え、前記検査部が、前記他の描画ヘッドにおいて、光源から空間光変調デバイスに至る光路上に挿入されて前記光源から前記空間光変調デバイスへと向かう光の少なくとも一部を取り込む他の採光ヘッドと、前記他の採光ヘッドにて取り込まれた光を前記中間光量測定位置に位置する前記光量センサへと導く他の測定光学系とをさらに備え、前記光量センサが、前記センサ移動機構により前記他の描画ヘッドに対して相対的に定められた他の描画光量測定位置へと移動し、前記他の描画光量測定位置に位置する際に前記他の描画ヘッドの投影光学系からの光を受光する。 A ninth aspect of the present invention is the drawing apparatus according to any one of the first to eighth aspects, further comprising another drawing head having the same structure as the drawing head, wherein the inspection unit includes the other In the other drawing head, the other lighting head that takes in at least a part of the light that is inserted on the optical path from the light source to the spatial light modulation device and travels from the light source to the spatial light modulation device. Another measurement optical system that guides the captured light to the light amount sensor positioned at the intermediate light amount measurement position, and the light amount sensor is relative to the other drawing head by the sensor moving mechanism. It moves to another predetermined drawing light quantity measurement position and receives light from the projection optical system of the other drawing head when it is located at the other drawing light quantity measurement position.
請求項10に記載の発明は、請求項9に記載の描画装置であって、前記描画光量測定位置、前記他の描画光量測定位置、および、前記中間光量測定位置が直線上に配置される。 A tenth aspect of the present invention is the drawing apparatus according to the ninth aspect, wherein the drawing light quantity measurement position, the other drawing light quantity measurement position, and the intermediate light quantity measurement position are arranged on a straight line.
本発明では、描画ヘッドの劣化要因を精度良く検出することができる。 In the present invention, the deterioration factor of the drawing head can be accurately detected.
図1は、本発明の一の実施の形態に係る描画装置1の構成を示す正面図である。描画装置1は、空間変調された略ビーム状の光を対象物上の感光材料に照射し、当該光の照射領域を対象物上にて走査することによりパターンの描画を行う直接描画装置(いわゆる、直描装置)である。図1に示す例では、対象物は、プリント配線基板(以下、単に「基板9」という。)である。基板9では、銅層上に感光材料により形成されたレジスト膜が設けられる。描画装置1では、基板9のレジスト膜に回路パターンが描画される。
FIG. 1 is a front view showing a configuration of a
描画装置1は、ステージ21と、移動機構22と、描画部3と、検査部4とを備える。描画部3は、X方向に配列される複数の描画ヘッド31を備える。複数の描画ヘッド31は、互いに同様の構造を有する。検査部4は、検査ヘッド41と、複数の採光ヘッド42と、複数のバンドルファイバ43と、光量センサ44と、採光ヘッド移動機構45とを備える。検査ヘッド41は、複数の描画ヘッド31の(+X)側に配置される。光量センサ44はステージ21上に設けられる。図1に示す例では、3つの描画ヘッド31の上方(すなわち、(+Z)側)に、3つの採光ヘッド42がそれぞれ配置される。検査部4は、複数の採光ヘッド42を利用し、複数の描画ヘッド31の検査を行う。
The
ステージ21は、基板9を下側から保持する保持部である。移動機構22は、基板9をステージ21と共に複数の描画ヘッド31および検査ヘッド41に対して相対的に移動する。移動機構22は、ステージ21をX方向に垂直なY方向に移動する第1移動機構23と、ステージ21をX方向に移動する第2移動機構24とを備える。以下の説明では、X方向およびY方向をそれぞれ「副走査方向」および「主走査方向」とも呼ぶ。なお、移動機構22により、基板9がステージ21と共に水平面内にて回転可能とされてもよい。
The
描画装置1では、描画部3の複数の描画ヘッド31から空間変調された光を基板9の(+X)側の表面である上面91上に照射しつつ、第1移動機構により基板9を主走査方向に移動することにより、複数の描画ヘッド31からの光の照射領域が基板9上にて走査される。続いて、第2移動機構24により基板9が副走査方向に所定の距離だけ移動し、再び、空間変調された光を基板9上に照射しつつ基板9を主走査方向に移動する。描画装置1では、このように、基板9の主走査方向への移動、および、副走査方向への移動が繰り返されることにより、基板9に対する回路パターンの描画が行われる。
In the
図2は、描画部3の3つの描画ヘッド31のうち最も(+X)側の描画ヘッド31と、検査ヘッド41とを示す斜視図である。図2では、描画ヘッド31および検査ヘッド41の内部構造の理解を容易にするために、描画ヘッド31および検査ヘッド41のハウジングを破線にて描き、ハウジング内部の構成を実線にて描く。
FIG. 2 is a perspective view showing the most (+ X) drawing
描画ヘッド31は、光源32と、照明光学系33と、空間光変調デバイス34と、投影光学系35とを備える。光源32は、光を出射する。光源32から出射される光は、例えば、紫外光である。光源32として、例えば、LED(Light Emitting Diode)が利用される。照明光学系33は、光源32からの光を空間光変調デバイス34へと導く。照明光学系33は、例えば、インテグレータ331と、レンズ332と、ミラー333とを備える。インテグレータ331は、光源32からの光の照度分布の均一性を向上する。インテグレータ331としては、例えば、石英ロッドが利用される。
The drawing
空間光変調デバイス34としては、例えば、それぞれの向きが個別に変更可能な多数の微小鏡面を平面に配列した光学素子であるDMD(デジタル・マイクロミラー・デバイス)が利用される。図3は、空間光変調デバイス34を示す図である。空間光変調デバイス34は、シリコン基板341上に設けられた微小鏡面群342を備える。微小鏡面群342では、多数の微小鏡面343が2次元に配列される(すなわち、互いに垂直な2方向に配列される)。実際の微小鏡面群342は、図3に示すよりも多数の微小鏡面343を含む。空間光変調デバイス34では、各微小鏡面343に対応するメモリセルに書き込まれたデータに従って、各微小鏡面343が静電作用によりシリコン基板341の表面に対して所定の角度だけ傾く。そして、所定のON状態に対応する姿勢にある微小鏡面343からの反射光のみにより形成される光(すなわち、空間変調された光)が、図2に示す投影光学系35へと導かれる。
As the spatial
空間光変調デバイス34にて空間変調された光は、投影光学系35によりステージ21上の基板9(図1参照)へと導かれる。投影光学系35からの光は、空間光変調デバイス34の微小鏡面群342(図3参照)に対して光学的に共役な基板9上の照射領域へと照射される。
The light spatially modulated by the spatial
図2に示すように、検査部4の採光ヘッド42は、検査対象である描画ヘッド31の光源32から空間光変調デバイス34に至る光路上に挿入される。採光ヘッド42は、当該光路上にて、光源32から空間光変調デバイス34へと向かう光の少なくとも一部を取り込む。図2に示す例では、採光ヘッド42は、インテグレータ331から空間光変調デバイス34に至る光路上に挿入される。具体的には、採光ヘッド42はインテグレータ331の直後、すなわち、インテグレータ331とレンズ332との間に挿入される。他の採光ヘッド42も同様に、他の描画ヘッド31において光源32から空間光変調デバイス34に至る光路上に挿入され、光源32から空間光変調デバイス34へと向かう光の少なくとも一部を取り込む。図1に示す描画装置1では、他の採光ヘッド42も、他の描画ヘッド31のインテグレータ331から空間光変調デバイス34に至る光路上に挿入される。
As shown in FIG. 2, the
複数のバンドルファイバ43は、複数の採光ヘッド42をそれぞれ検査ヘッド41に接続する。バンドルファイバ43は、素線である細い光ファイバが数百から数千本束ねられたものである。図2では、3本のバンドルファイバ43のうち2本のバンドルファイバ43については、その一部のみを図示する。
The plurality of
検査ヘッド41は、検査ヘッド41のハウジングに固定されたインテグレータ(例えば、石英ロッド)やレンズ等を備える。採光ヘッド42にて取り込まれた光は、採光ヘッド42に接続されたバンドルファイバ43を介して検査ヘッド41へと導かれ、検査ヘッド41にて照度分布の均一性が向上されて光量センサ44へと導かれる。検査ヘッド41および図2に全体を示すバンドルファイバ43は、当該バンドルファイバ43が接続された採光ヘッド42にて取り込まれた光を、光量センサ44へと導く測定光学系である。また、当該検査ヘッド41および他のバンドルファイバ43は、他のバンドルファイバ43が接続された他の採光ヘッド42にて取り込まれた光を、光量センサ44へと導く他の測定光学系である。検査ヘッド41は、複数の測定光学系により共有される。
The
図1に示すように、採光ヘッド移動機構45は、複数の採光ヘッド42を複数の描画ヘッド31に対して相対的に移動する。図1に示す例では、採光ヘッド移動機構45により、複数の採光ヘッド42が上下方向(すなわち、Z方向)に同時に移動する。これにより、複数の採光ヘッド42が、図2に示すように複数の描画ヘッド31の光路上にそれぞれ挿入され、また、当該光路上からそれぞれ離脱する。図2では、光路上から離脱した位置における採光ヘッド42を二点鎖線にて描く。図2では、採光ヘッド移動機構45の図示を省略する。採光ヘッド移動機構45としては、例えば、エアシリンダが利用される。
As shown in FIG. 1, the lighting
上述のように、光量センサ44はステージ21上に配置される。図1に示すように、光量センサ44の受光面441は、ステージ21上に保持された基板9の上面91と、Z方向に関しておよそ同じ位置に位置する。描画装置1では、移動機構22によりステージ21がX方向およびY方向に移動することにより、光量センサ44もX方向およびY方向に移動する。
As described above, the
検査部4は、描画部3の描画ヘッド31の異常を検出するヘッド異常検出部をさらに備える。図4は、ヘッド異常検出部46の機能を示すブロック図である。ヘッド異常検出部46は、各種演算処理を行うCPU、基本プログラムを記憶するROM、および、各種情報を記憶するRAM等をバスラインに接続した一般的なコンピュータシステムの構成となっている。ヘッド異常検出部46は、異常検出部461と、もう1つの異常検出部462とを備える。以下の説明では、異常検出部461,462を区別するために、それぞれ「第1異常検出部461」および「第2異常検出部462」と呼ぶ。図4では、ヘッド異常検出部46に接続される描画装置1の他の構成も併せて示す。
The
次に、描画装置1における複数の描画ヘッド31の検査の流れについて、図5を参照しつつ説明する。描画装置1では、まず、移動機構22によりステージ21が移動され、図6に示すように、光量センサ44が、最も(+X)側の描画ヘッド31の真下(すなわち、(−Z)側)に位置する(ステップS11)。以下の説明では、図6に示す光量センサ44の位置を「描画光量測定位置」という。描画光量測定位置は、最も(+X)側に位置する描画ヘッド31に対して相対的に定められた位置である。
Next, the flow of inspection of a plurality of drawing heads 31 in the
光量センサ44が描画光量測定位置に位置すると、図2に示す最も(+X)側の描画ヘッド31の光源32が点灯され、光源32からの光が照明光学系33、空間光変調デバイス34および投影光学系35を介して、図6に示す描画光量測定位置に位置する光量センサ44へと導かれる。光量センサ44では、投影光学系35からの光が受光され、当該光の光量が取得される(ステップS12)。以下の説明では、描画光量測定位置に位置する光量センサ44により受光される投影光学系35からの光の光量(すなわち、照度)を「描画光量」という。描画ヘッド31では、描画光量が所定の目標光量(例えば、基板9にパターンを描画する際の光量)に等しくなるように、光源32に供給される電流が調整される。
When the
図6中の最も(+X)側の描画ヘッド31の描画光量が取得されると、第2移動機構24により光量センサ44がステージ21と共に(−X)方向へと移動し、3つの描画ヘッド31のうち中央の描画ヘッド31の真下に位置する。換言すれば、光量センサ44は、次の描画ヘッド31の描画光量測定位置に位置する(ステップS13,S11)。光量センサ44が次の描画光量測定位置に位置すると、中央の描画ヘッド31の光源32が点灯され、当該描画ヘッド31の投影光学系35からの光が光量センサ44により受光され、当該光の光量である描画光量が取得される(ステップS12)。そして、描画光量が上述の目標光量に等しくなるように、光源32に供給される電流が調整される。
When the drawing light amount of the most (+ X) drawing
描画装置1では、複数の描画ヘッド31に対応する複数の描画光量測定位置へと光量センサ44が順次移動し、複数の描画ヘッド31の描画光量が順次取得され、描画光量が目標光量に等しくなるように、光源32に供給される電流が調整される(ステップS11〜S13)。複数の描画ヘッド31のそれぞれの描画光量は、光量センサ44から図4に示すヘッド異常検出部46の第1異常検出部461へと送られる。第1異常検出部461に送られる複数の描画ヘッド31の描画光量は、目標光量におよそ等しい。
In the
複数の描画ヘッド31の描画光量が取得されると、第2移動機構24により光量センサ44が(+X)方向へと移動し、図1および図2に示すように、検査ヘッド41の真下(すなわち、(−Z)側)に位置する(ステップS14)。以下の説明では、図1および図2に示す光量センサ44の位置を「中間光量測定位置」という。中間光量測定位置は、検査ヘッド41に対して予め定められた相対位置である。
When the drawing light amounts of the plurality of drawing heads 31 are acquired, the
描画装置1では、中間光量測定位置、および、複数の描画ヘッド31にそれぞれ対応する複数の描画光量測定位置は、X方向に平行な略直線上に配置される。第2移動機構24は、ステージ21を検査ヘッド41および複数の描画ヘッド31に対してX方向に相対的に移動することにより、光量センサ44を中間光量測定位置と複数の描画光量測定位置との間で移動するセンサ移動機構である。
In the
光量センサ44が中間光量測定位置に位置すると、採光ヘッド移動機構45により各採光ヘッド42が下降し、図2に実線にて示すように、対応する描画ヘッド31の光路上に挿入される(ステップS15)。そして、複数の描画ヘッド31のうち1つの描画ヘッド31において光源32が点灯され、他の描画ヘッド31では光源32が消灯される。例えば、最も(+X)側の描画ヘッド31の光源32のみが点灯され、他の描画ヘッド31の光源32は消灯される。そして、光源32が点灯された描画ヘッド31の光路上に挿入された採光ヘッド42により、当該光源32からの光の一部が取り込まれる。採光ヘッド42により取り込まれた光は、当該採光ヘッド42に対応する測定光学系(すなわち、当該採光ヘッド42に接続されたバンドルファイバ43および検査ヘッド41)により、中間光量測定位置に位置する光量センサ44へと導かれ、当該光量センサ44により受光される。以下の説明では、中間光量測定位置に位置する光量センサ44により受光される測定光学系からの光の光量(すなわち、照度)を「中間光量」という。
When the
最も(+X)側の描画ヘッド31の中間光量が取得されると、3つの描画ヘッド31のうち中央の描画ヘッド31の光源32が点灯され、他の描画ヘッド31の光源32は消灯される。そして、上記と同様に、中央の描画ヘッド31の光路上に挿入された中央の採光ヘッド42により、当該描画ヘッド31の光源32からの光の一部が取り込まれる。採光ヘッド42により取り込まれた光は、当該採光ヘッド42に対応する測定光学系により、中間光量測定位置に位置する光量センサ44へと導かれる。測定光学系からの光は光量センサ44により受光され、これにより中央の描画ヘッド31の中間光量が取得される。
When the intermediate light amount of the most (+ X) drawing
描画装置1では、複数の描画ヘッド31のそれぞれについて、上記の手順にて、中間光量が順次取得される(ステップS16)。複数の描画ヘッド31について中間光量が順次取得される間、光量センサ44は中間光量測定位置から移動しない。複数の描画ヘッド31のそれぞれの中間光量は、図4に示すヘッド異常検出部46の第1異常検出部461および第2異常検出部462へと送られる。各描画ヘッド31の中間光量は描画光量以下である。各描画ヘッド31において、中間光量は、例えば、描画光量の10%以上100%以下である。なお、複数の描画ヘッド31の中間光量は、必ずしも互いに等しい必要はない。
In the
各描画ヘッド31の中間光量の取得が終了すると、採光ヘッド移動機構45により複数の採光ヘッド42が上昇し、複数の描画ヘッド31の光路上から離脱する(ステップS17)。そして、ヘッド異常検出部46の第1異常検出部461により、各描画ヘッド31の中間光量と描画光量とに基づいて、各描画ヘッド31の異常が検出される。具体的には、まず、光量センサ44からの出力に基づいて、描画ヘッド31の描画光量の中間光量に対する割合(以下、「測定光量割合」という。)が、第1異常検出部461により求められる。第1異常検出部461には、描画ヘッド31が正常な状態における測定光量割合である基準光量割合が予め記憶されている。
When the acquisition of the intermediate light amount of each drawing
第1異常検出部461では、測定光量割合が基準光量割合よりも小さくなると、描画ヘッド31における採光ヘッド42の挿入位置よりも後の構成に、経年劣化や異物の付着等に起因する光学特性の劣化が生じていると判定される。採光ヘッド42の挿入位置よりも後の構成とは、投影光学系35、および、当該挿入位置と投影光学系35との間の構成である。図2に示す例では、照明光学系33のレンズ332およびミラー333、空間光変調デバイス34、並びに、投影光学系35である。第1異常検出部461では、測定光量割合が基準光量割合よりも所定の値(例えば、基準光量割合の10%)以上小さくなると、描画ヘッド31の採光ヘッド42の挿入位置よりも後の構成における光学特性の異常が検出される。第1異常検出部461により検出される描画ヘッド31の異常は、主に、光を空間変調させるために頻繁に駆動される空間光変調デバイス34の異常である。第1異常検出部461により検出された描画ヘッド31の異常は、モニタへの表示や警告音等の通知手段により作業者に通知される。
In the first
ヘッド異常検出部46では、また、第2異常検出部462により、各描画ヘッド31の中間光量と、各描画ヘッド31の光源32に供給される電流とに基づいて、各描画ヘッド31の異常が検出される(ステップS18)。具体的には、まず、光量センサ44からの出力に基づいて、中間光量と理想光量との比較が行われる。理想光量としては、電流および時間を変数とした理想劣化関数が予め定められている。中間光量を測定する際には、光源32に供給される電流は一定値であるため、理想光量は時間を変数とした関数となる。中間光量も、同様に、時間を変数とした関数にて表し、理想光量に対する中間光量の割合が求められる。そして、当該割合が所定の値(例えば、10%)未満となると、描画ヘッド31の採光ヘッド42の挿入位置よりも手前の構成のうち、光源32を除く構成(すなわち、照明光学系33)における光学特性の異常が検出される。第2異常検出部462により検出された異常は、モニタへの表示や警告音等の通知手段により作業者に通知される。なお、中間光量と理想光量との比較は、描画光量が目標光量に等しくなるように光源32に供給される電流が調整されていない状態で行われてもよい。
In the head
また、第2異常検出部462では、描画光量が目標光量に等しくなるように調整された後の電流値(光源32に供給される電流)と、光源32に係る最大定格電流とが比較される。そして、光源32に供給される電流が、最大定格電流を基準として、ある程度以上大きい場合、光源32の異常が検出され、モニタへの表示や警告音等の通知手段により作業者に通知される。光源32の異常の通知は、例えば、光源32に供給される電流の大きさに基づいて、「サービスコール」および「要交換」の2段階に分けられてもよい。
In addition, the second
以上に説明したように、描画装置1の検査部4は、描画光量測定位置に位置する際に描画ヘッド31の投影光学系35からの光を受光する光量センサ44と、光量センサ44を描画光量測定位置と中間光量測定位置との間で移動する第2移動機構24と、描画ヘッド31の光路上に挿入されて光源32から空間光変調デバイス34へと向かう光の少なくとも一部を取り込む採光ヘッド42と、採光ヘッド42にて取り込まれた光を中間光量測定位置に位置する光量センサ44へと導く測定光学系(すなわち、バンドルファイバ43および検査ヘッド41)と、採光ヘッド42を上記光路上に挿入し、また、当該光路上から離脱させる採光ヘッド移動機構45とを備える。
As described above, the
このように、描画装置1では、描画ヘッド31の投影光学系35からの光の光量と、描画ヘッド31の光源32と空間光変調デバイス34との間から取り出された光の光量とが、同一の光量センサ44にて取得されて比較される。したがって、仮に、光量センサ44の光学特性が変化した場合であっても、当該光学特性の変化は、上述の光量の比較に対して大きな影響を与えない。このため、描画ヘッド31において、採光ヘッド42の挿入位置の前後いずれにて光学特性の劣化が生じているかを精度良く検出することができる。換言すれば、描画装置1では、描画ヘッド31の劣化要因を精度良く検出することができる。
Thus, in the
また、採光ヘッド移動機構45により採光ヘッド42の移動を行うことができるため、描画装置1のハウジング(図示省略)を開放することなく、描画ヘッド31の検査を行うことができる。その結果、ハウジングの開放に伴う描画装置1内の汚染を低減することができる。
Further, since the
上述のように、描画装置1では、中間光量および描画光量に基づいて描画ヘッド31の異常を検出する第1異常検出部461を備える。これにより、描画ヘッド31において、採光ヘッド42の挿入位置よりも後の構成における異常(特に、空間光変調デバイス34の異常)を自動的に検出することができる。また、描画装置1では、中間光量と光源32に供給される電流とに基づいて描画ヘッド31の異常を検出する第2異常検出部462を備える。これにより、描画ヘッド31において、採光ヘッド42の挿入位置よりも手前の構成における異常を自動的に検出することができる。
As described above, the
描画装置1では、光量センサ44がステージ21に設けられ、第2移動機構24がステージ21を描画ヘッド31に対して相対的に移動することにより、光量センサ44が中間光量測定位置と描画光量測定位置との間で移動する。これにより、描画装置1の構成を簡素化することができる。
In the
また、上述のように、光量センサ44の受光面441は基板9の上面91と上下方向に関しておよそ同じ位置に位置する。すなわち、各描画ヘッド31の投影光学系35の先端から描画光量測定位置に位置する光量センサ44の受光面441に至る上下方向の距離は、投影光学系35の先端から基板9の上面91に至る上下方向の距離におよそ等しい。したがって、光量センサ44により取得される各描画ヘッド31の描画光量は、基板9への描画の際に各描画ヘッド31の投影光学系35から基板9の上面91に照射される光の光量におよそ等しい。このため、基板9にパターンを描画する際の基板9上の光量を、描画光量測定位置に位置する光量センサ44により容易に測定することができる。そして、描画光量測定位置にて光量センサ44により取得される描画光量を目標光量に調整することにより、描画ヘッド31からの光の基板9上における光量を所望の光量に容易に調整することができる。
Further, as described above, the
描画装置1では、描画ヘッド31の照明光学系33がインテグレータ331を備え、検査部4の採光ヘッド42が、インテグレータ331から空間光変調デバイス34に至る光路上に挿入される。すなわち、採光ヘッド42は、インテグレータ331により均一性が向上された光に挿入される。このため、採光ヘッド42の挿入位置が描画ヘッド31の光軸に垂直な方向に多少ずれた場合であっても、採光ヘッド42により取り込まれて光量センサ44により受光される光の光量の変化が抑制される。これにより、検査部4による描画ヘッド31の検査精度を向上することができる。
In the
上述のように、各描画ヘッド31では、光源32から出射される光が紫外光である。このため、照明光学系33、空間光変調デバイス34および投影光学系35の各構成の劣化が比較的早くなる。したがって、描画ヘッド31の劣化要因を精度良く検出することができる描画装置1の上記構造は、光源から出射される光が紫外光である描画装置に特に適している。
As described above, in each drawing
描画装置1では、上述のように、光量センサ44にて受光される中間光量が描画光量の10%以上100%以下である。このように、中間光量を適切な光量範囲とすることにより、描画ヘッド31の検査を精度良く行うことができる。また、検査部4は、中間光量が描画光量の10%以上100%以下となる光量範囲において、描画装置1とは投影光学系35の倍率が異なる他の描画装置に適用することができる。換言すれば、検査部4は、投影光学系35の倍率が互いに異なる複数種類の描画装置にそれぞれ適用することができる。
In the
上述のように、描画部3に複数の描画ヘッド31が設けられ、検査部4が、各描画ヘッド31に対応する採光ヘッド42および測定光学系を備える。そして、複数の測定光学系が検査ヘッド41を共有し、各採光ヘッド42にて取り込まれた光が、中間光量測定位置に位置する光量センサ44へと導かれる。これにより、検査部4の構造を簡素化することができる。また、複数の描画ヘッド31の中間光量を、光量センサ44を移動させることなく取得することができるため、複数の描画ヘッド31の検査に要する時間を短縮することもできる。さらには、中間光量測定位置および複数の描画光量測定位置が直線上に配置されるため、複数の描画ヘッド31を検査する際に、光量センサ44の移動を簡素化することができる。
As described above, the drawing unit 3 is provided with a plurality of drawing heads 31, and the
描画装置1では、様々な変更が可能である。
In the
例えば、光量センサ44は、必ずしもステージ21上に設けられる必要はなく、ステージ21から独立して設けられてもよい。また、ステージ21を相対移動する移動機構22から独立して光量センサ44を移動するセンサ移動機構が、描画装置1に設けられてもよい。
For example, the
検査部4では、複数の描画ヘッド31と同数の複数の検査ヘッド41が設けられてもよい。各検査ヘッド41は、例えば、対応する描画ヘッド31の(+X)側において、当該描画ヘッド31に対して相対的に定められた位置に配置される。すなわち、複数の描画ヘッド31と複数の検査ヘッド41とが、X方向において交互に配置される。そして、光量センサ44がX方向に移動しつつ、各描画ヘッド31の描画光量および中間光量が順次取得される。これにより、描画ヘッド31と検査ヘッド41との複数の組み合わせにおいて、描画ヘッド31と検査ヘッド41とを接続するバンドルファイバ43の長さをおよそ同じとすることができる。
In the
描画装置1では、光量センサ44は描画ヘッド31および検査ヘッド41に対して相対的に移動すればよい。例えば、光量センサ44が移動することなく、描画ヘッド31および検査ヘッド41が光量センサ44の上方にてX方向に移動してもよい。この場合、検査ヘッド41が光量センサ44の真上に位置する状態が、光量センサ44が中間光量測定位置に位置する状態である。また、描画ヘッド31が光量センサ44の真上に位置する状態が、光量センサ44が描画光量測定位置に位置する状態である。
In the
採光ヘッド42は、必ずしもインテグレータ331の直後に挿入される必要はなく、インテグレータ331から空間光変調デバイス34に至る光路上に挿入されるのであればよい。ただし、上述のように、採光ヘッド42をインテグレータ331の直後に挿入することにより、採光ヘッド42の挿入位置が描画ヘッド31の光軸に垂直な方向に多少ずれた場合であっても、採光ヘッド42により取り込まれて光量センサ44により受光される光の光量の変化が抑制される。その結果、検査部4による描画ヘッド31の検査精度を向上することができる。
The
採光ヘッド42は、光源32から空間光変調デバイス34に至る光路上に挿入されるのであれば、必ずしも、インテグレータ331から空間光変調デバイス34に至る光路上に挿入される必要はない。この場合であっても、上述のように、描画ヘッド31の劣化要因を精度良く検出することができる。
If the
複数の採光ヘッド42は、必ずしも同時に上下方向に移動する必要はない。例えば、各採光ヘッド42に採光ヘッド移動機構45が設けられ、複数の採光ヘッド42が互いに独立して上下方向に移動してもよい。換言すれば、各採光ヘッド42の光路への挿入および離脱は、他の採光ヘッド42から独立して行われてもよい。
The plurality of daylighting heads 42 are not necessarily required to move in the vertical direction at the same time. For example, each
検査部4では、複数の描画ヘッド31に対して1つの採光ヘッド42のみが設けられてもよい。この場合、採光ヘッド42をX方向に移動して測定対象の描画ヘッド31の真上に位置させ、採光ヘッド42を下降させることにより、当該描画ヘッド31の光路上に採光ヘッド42が挿入される。
In the
光源32はLEDには限定されず、例えば、LD(Laser Diode)や高圧水銀灯等が光源32として利用されてもよい。光源32として高圧水銀灯が用いられる場合、描画ヘッド31では、光源32に供給される電力が調整される。そして、ステップS18において、第2異常検出部462により、各描画ヘッド31の中間光量と、各描画ヘッド31の光源32に供給される電力とに基づいて、各描画ヘッド31の異常が検出される。描画装置1では、ヘッド異常検出部46による描画ヘッド31の異常の自動検出に代えて、光量センサ44から出力される中間光量および描画光量、並びに、光源32に供給される電流または電力に基づいて、作業者が描画ヘッド31の異常を検出してもよい。
The
各描画ヘッド31では、DMDに代えて、例えばGLV(グレーチング・ライト・バルブ)(登録商標)が空間光変調デバイス34として設けられてもよい。描画部3には、1つの描画ヘッド31のみが設けられてもよい。
In each drawing
描画装置1において描画が行われる基板9は、必ずしもプリント配線基板には限定されない。描画装置1では、例えば、半導体基板、液晶表示装置やプラズマ表示装置等のフラットパネル表示装置用のガラス基板、フォトマスク用のガラス基板、太陽電池パネル用の基板等に対する回路パターンの描画が行われてもよい。
The board 9 on which drawing is performed in the
上記実施の形態および各変形例における構成は、相互に矛盾しない限り適宜組み合わされてよい。 The configurations in the above-described embodiments and modifications may be combined as appropriate as long as they do not contradict each other.
1 描画装置
4 検査部
9 基板
21 ステージ
22 移動機構
23 第1移動機構
24 第2移動機構
31 描画ヘッド
32 光源
33 照明光学系
34 空間光変調デバイス
35 投影光学系
41 検査ヘッド
42 採光ヘッド
43 バンドルファイバ
44 光量センサ
45 採光ヘッド移動機構
91 上面
331 インテグレータ
343 微小鏡面
441 受光面
461 第1異常検出部
462 第2異常検出部
S11〜S18 ステップ
DESCRIPTION OF
Claims (10)
対象物に空間変調された光を照射する描画ヘッドと、
前記対象物を保持するとともに前記描画ヘッドに対して相対的に移動することにより前記描画ヘッドからの光の照射領域を前記対象物上にて走査する保持部と、
前記描画ヘッドの検査を行う検査部と、
を備え、
前記描画ヘッドが、
光を出射する光源と、
空間光変調デバイスと、
前記光源からの光を前記空間光変調デバイスへと導く照明光学系と、
前記空間光変調デバイスにて空間変調された光を前記保持部へと導く投影光学系と、
を備え、
前記検査部が、
前記描画ヘッドに対して相対的に定められた描画光量測定位置に位置する際に前記投影光学系からの光を受光する光量センサと、
前記光量センサを前記描画光量測定位置と予め定められた中間光量測定位置との間で移動するセンサ移動機構と、
前記光源から前記空間光変調デバイスに至る光路上に挿入されて前記光源から前記空間光変調デバイスへと向かう光の少なくとも一部を取り込む採光ヘッドと、
前記採光ヘッドにて取り込まれた光を前記中間光量測定位置に位置する前記光量センサへと導く測定光学系と、
前記採光ヘッドを前記光路上に挿入し、また、前記光路上から離脱させる採光ヘッド移動機構と、
を備えることを特徴とする描画装置。 A drawing apparatus that draws a pattern by irradiating a target with light,
A drawing head for irradiating the object with spatially modulated light;
A holding unit that holds the object and scans the irradiation area of the light from the drawing head on the object by moving relative to the drawing head;
An inspection unit for inspecting the drawing head;
With
The drawing head is
A light source that emits light;
A spatial light modulation device;
An illumination optical system for guiding light from the light source to the spatial light modulation device;
A projection optical system for guiding light spatially modulated by the spatial light modulation device to the holding unit;
With
The inspection unit is
A light quantity sensor that receives light from the projection optical system when positioned at a drawing light quantity measurement position determined relative to the drawing head;
A sensor moving mechanism that moves the light quantity sensor between the drawing light quantity measurement position and a predetermined intermediate light quantity measurement position;
A daylighting head that is inserted on an optical path from the light source to the spatial light modulation device and captures at least a part of the light from the light source toward the spatial light modulation device;
A measurement optical system that guides light captured by the daylighting head to the light quantity sensor located at the intermediate light quantity measurement position;
A daylighting head moving mechanism for inserting the daylighting head into the optical path and detaching the daylighting head from the optical path;
A drawing apparatus comprising:
前記光量センサが前記保持部に設けられ、
前記投影光学系の先端から前記光量センサの受光面に至る距離が、前記投影光学系の前記先端から前記対象物の表面に至る距離に等しく、
前記センサ移動機構が、前記保持部を前記描画ヘッドに対して相対的に移動することを特徴とする描画装置。 The drawing apparatus according to claim 1,
The light amount sensor is provided in the holding unit;
The distance from the tip of the projection optical system to the light receiving surface of the light quantity sensor is equal to the distance from the tip of the projection optical system to the surface of the object,
The drawing apparatus, wherein the sensor moving mechanism moves the holding unit relative to the drawing head.
前記照明光学系がインテグレータを備え、
前記採光ヘッドが、前記インテグレータから前記空間光変調デバイスに至る光路上に挿入されることを特徴とする描画装置。 The drawing apparatus according to claim 1 or 2,
The illumination optical system includes an integrator,
The drawing apparatus, wherein the daylighting head is inserted on an optical path from the integrator to the spatial light modulation device.
前記光源から出射される光が紫外光であることを特徴とする描画装置。 The drawing apparatus according to any one of claims 1 to 3,
The drawing apparatus, wherein the light emitted from the light source is ultraviolet light.
前記空間光変調デバイスが、向きが変更可能な多数の微小鏡面を平面に配列した光学素子であることを特徴とする描画装置。 The drawing apparatus according to any one of claims 1 to 4,
The drawing apparatus, wherein the spatial light modulation device is an optical element in which a number of micromirror surfaces whose directions can be changed are arranged in a plane.
前記光量センサにて受光される前記測定光学系からの光の光量が、前記光量センサにて受光される前記投影光学系からの光の光量の10%以上100%以下であることを特徴とする描画装置。 A drawing apparatus according to any one of claims 1 to 5,
The amount of light from the measurement optical system received by the light amount sensor is 10% to 100% of the amount of light from the projection optical system received by the light amount sensor. Drawing device.
前記検査部が、前記光量センサにて受光される前記測定光学系からの光の光量と、前記光量センサにて受光される前記投影光学系からの光の光量とに基づいて、前記描画ヘッドの異常を検出する異常検出部をさらに備えることを特徴とする描画装置。 The drawing apparatus according to any one of claims 1 to 6,
Based on the light amount of the light from the measurement optical system received by the light amount sensor and the light amount of the light from the projection optical system received by the light amount sensor, the inspection unit A drawing apparatus, further comprising an abnormality detection unit for detecting an abnormality.
前記検査部が、前記光量センサにより受光される前記測定光学系からの光の光量と、前記光源に供給される電流または電力とに基づいて、前記描画ヘッドの異常を検出するもう1つの異常検出部をさらに備えることを特徴とする描画装置。 The drawing apparatus according to claim 7,
Another abnormality detection in which the inspection unit detects an abnormality of the drawing head based on a light amount of light from the measurement optical system received by the light amount sensor and a current or power supplied to the light source. The drawing apparatus further comprising a unit.
前記描画ヘッドと同様の構造を有する他の描画ヘッドをさらに備え、
前記検査部が、
前記他の描画ヘッドにおいて、光源から空間光変調デバイスに至る光路上に挿入されて前記光源から前記空間光変調デバイスへと向かう光の少なくとも一部を取り込む他の採光ヘッドと、
前記他の採光ヘッドにて取り込まれた光を前記中間光量測定位置に位置する前記光量センサへと導く他の測定光学系と、
をさらに備え、
前記光量センサが、前記センサ移動機構により前記他の描画ヘッドに対して相対的に定められた他の描画光量測定位置へと移動し、前記他の描画光量測定位置に位置する際に前記他の描画ヘッドの投影光学系からの光を受光することを特徴とする描画装置。 A drawing apparatus according to any one of claims 1 to 8,
Further comprising another drawing head having the same structure as the drawing head,
The inspection unit is
In the other drawing head, another daylighting head that is inserted on an optical path from the light source to the spatial light modulation device and captures at least part of the light traveling from the light source to the spatial light modulation device;
Another measurement optical system that guides the light captured by the other daylighting head to the light quantity sensor located at the intermediate light quantity measurement position;
Further comprising
When the light quantity sensor moves to another drawing light quantity measurement position determined relative to the other drawing head by the sensor moving mechanism and is positioned at the other drawing light quantity measurement position, the other light quantity sensor A drawing apparatus for receiving light from a projection optical system of a drawing head.
前記描画光量測定位置、前記他の描画光量測定位置、および、前記中間光量測定位置が直線上に配置されることを特徴とする描画装置。 The drawing apparatus according to claim 9,
The drawing apparatus, wherein the drawing light quantity measurement position, the other drawing light quantity measurement position, and the intermediate light quantity measurement position are arranged on a straight line.
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