KR101338183B1 - 웨이퍼 보관용기 세정장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 웨이퍼 보관용기 세정장치에 관한 것으로서, 클리닝챔버에 자외선을 조사하는 램프의 수명단축과 손상을 방지할 수 있고, 이로써, 제품의 품질 향상을 도모할 수 있도록 하는 것을 목적으로 한다.
이러한 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 클리닝챔버와, 클리닝챔버에 설치되는 로터와, 웨이퍼 보관용기를 지지시킬 수 있도록 로터에 설치되는 다수의 용기홀더와, 용기홀더에 지지된 웨이퍼 보관용기에 세정액을 분사하는 세정액 분사노즐 및, 클리닝챔버에 적외선을 조사하는 램프유닛을 포함하며, 램프유닛은, 클리닝챔버에 설치되는 램프와, 램프의 외주면 둘레에 간격을 두고 설치되는 투명튜브를 포함하는 웨이퍼 보관용기 세정장치에 있어서, 클리닝챔버의 내부에 건조가스를 공급함과 동시에 공급된 건조가스를 가열하는 건조가스 공급 및 가열유닛을 더 포함하며, 건조가스 공급 및 가열유닛은, 건조가스를 공급하는 건조가스 공급원과; 건조가스 공급원의 건조가스를 투명튜브와 램프 사이부분으로 직접 도입시켜 램프의 열에 의해 가열되게 하는 건조가스 도입관과; 투명튜브와 램프 사이부분으로 도입되면서 가열된 건조가스를 클리닝챔버의 내부로 토출할 수 있도록 투명튜브에 형성되는 다수의 토출구멍들을 구비한다.

Description

웨이퍼 보관용기 세정장치{CLEANER FOR WAFER CONTAINER}
본 발명은 웨이퍼 보관용기 세정장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 클리닝챔버에 자외선을 조사하는 램프의 수명단축과 손상을 방지할 수 있고, 이로써, 제품의 품질 향상을 도모할 수 있는 웨이퍼 보관용기 세정장치에 관한 것이다.
반도체 웨이퍼를 보관 및 운반할 때에는 별도의 보관용기(FOUP:Front Opening Unified Pod) 내에 수납시키는 것이 보통이다.
웨이퍼를 보관 및 운반하기 위한 보관용기(이하, "웨이퍼 보관용기"라 칭함)는, 용기본체와 용기커버로 구성된다.
용기본체는, 웨이퍼를 수납시킬 수 있는 수납실을 구비한다. 용기커버는 용기본체의 수납실을 덮어서 밀폐한다. 따라서, 수납실로 유입되는 이물질을 차단한다.
한편, 이러한 웨이퍼 보관용기는, 고정밀도의 웨이퍼를 보관하므로, 높은 청정도를 유지해야 한다.
웨이퍼 보관용기를 높은 청정도로 유지하기 위해서는, 웨이퍼 보관용기를 주기적으로 세정해주어야 한다. 이러한 웨이퍼 보관용기의 세정은, 별도의 세정장치를 통해 시행된다.
웨이퍼 보관용기 세정장치의 일례로서, 본 출원인이 출원하여 등록받은 바 있는 한국특허등록 제1022014호가 있다.
이 기술은, 도 1에 도시된 바와 같이, 클리닝챔버(1a)를 갖는 케이스(1)와, 케이스(1)의 클리닝챔버(1a)에 회전가능하게 설치되는 로터(3)와, 웨이퍼 보관용기(5)의 용기본체(5a)와 용기커버(5b)를 함께 지지시킬 수 있도록 로터(3)에 설치되는 다수의 용기홀더(7) 및, 용기홀더(7)에 지지된 웨이퍼 보관용기(5)에 세정액을 분사하는 세정액 분사노즐(9)을 포함한다.
이러한 세정장치는, 세정이 필요한 웨이퍼 보관용기(5)의 용기본체(5a)와 용기커버(5b)를 용기홀더(7)에 지지시킨 다음, 장치를 온(ON)시킨다. 그러면, 세정액 분사노즐(9)로부터 세정액이 분사되면서 웨이퍼 보관용기(5)의 용기본체(5a)와 용기커버(5b)를 세정한다.
한편, 세정장치는, 클리닝챔버(1a)의 내부에 적외선을 조사하는 램프유닛(10)과, 클리닝챔버(1a)의 내부에 건조가스를 분사하는 건조가스 분사유닛(20) 및, 건조가스 분사유닛(20)에서 분사된 건조가스를 가열하는 가열수단(30)을 더 구비한다.
램프유닛(10)은, 클리닝챔버(1a)의 네 모서리부분에 설치되는 것으로, 도 2와 도 3에 도시된 바와 같이, 램프 지지대(12)와, 램프 지지대(12)에 수직하게 설치되는 램프(14)와, 램프(14)의 외주면 둘레에 설치되는 투명튜브(16) 및, 투명튜브(16) 전체를 덮어서 보호하는 램프커버(18)를 포함한다.
이러한 램프유닛(10)은, 클리닝챔버(1a)의 내부에 적외선을 조사하여 클리닝챔버(1a)의 내부온도를 상승시킨다. 따라서, 웨이퍼 보관용기(5)의 세정효율과 건조효율을 높인다.
건조가스 분사유닛(20)은, 건조가스를 공급하는 건조가스 공급원(22)과, 건조가스 공급원(22)의 건조가스를 클리닝챔버(1a)의 내부로 이송하는 이송라인(24)과, 이송라인(24)으로 이송된 건조가스를 클리닝챔버(1a)의 내부로 분사하는 분사노즐(26)을 구비한다.
분사노즐(26)은, 다수의 분사구멍(26a)들을 구비하는 것으로, 램프유닛(10)의 램프 지지대(12)에 설치된다. 특히, 투명튜브(16)의 배후(背後)부분을 따라 설치되며, 이렇게 설치된 분사노즐(26)은, 도 3에 도시된 바와 같이, 클리닝챔버(1a)의 내부로 건조가스를 분사한다. 따라서, 웨이퍼 보관용기(5)의 건조효율을 높인다.
가열수단(30)은, 분사노즐(26)로부터 토출된 건조가스를 램프유닛(10)의 램프(14)와 투명튜브(16) 사이로 도입시키는 도입구멍(32)들과, 램프(14)와 투명튜브(16)사이로 도입된 건조가스를 클리닝챔버(1a)의 내부로 토출하는 토출구멍(34)들을 포함한다.
이러한 가열수단(30)은, 건조가스 분사유닛(20)에서 토출된 건조가스가 램프(14)와 투명튜브(16)사이로 도입되면서 가열되게 하고, 가열된 건조가스가 토출구멍(34)을 통해 클리닝챔버(1a)로 토출되게 한다. 따라서, 가열된 건조가스가 웨이퍼 보관용기(5)를 효율좋게 건조할 수 있도록 한다.
그런데, 이러한 종래의 세정장치는, 건조가스 분사유닛(20)의 분사노즐(26)과 가열수단(30)의 도입구멍(32)이 서로 이격되어 있는 구조이므로, 분사노즐(26)의 건조가스가 도입구멍(32)으로 도입되는 과정에서 각종 이물질이 함께 도입된다는 단점이 있다.
특히, 클리닝챔버(1a)의 내부에 존재하는 세정액 입자가 도입구멍(32)으로 도입된다는 단점이 있고, 이러한 단점 때문에 되는 램프(14)와 투명튜브(16)사이로 세정액이 유입된다는 문제점이 있으며, 이러한 문제점 때문에 램프(14)의 승온작용이 저하되거나 또는 램프(14)의 수명이 단축되거나 또는 램프(14)가 손상되거나 파손된다는 결점이 지적되고 있다.
본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 그 목적은, 램프와 투명튜브 사이로의 세정액 유입을 원천적으로 차단할 수 있도록 구성함으로써, 세정액 유입으로 인한 램프의 승온저하현상과 수명단축현상 및, 램프의 손상과 파손을 방지할 수 있는 웨이퍼 보관용기 세정장치를 제공하는 데 있다.
이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 웨이퍼 보관용기 세정장치는, 클리닝챔버와, 상기 클리닝챔버에 설치되는 로터와, 웨이퍼 보관용기를 지지시킬 수 있도록 상기 로터에 설치되는 다수의 용기홀더와, 상기 용기홀더에 지지된 상기 웨이퍼 보관용기에 세정액을 분사하는 세정액 분사노즐 및, 상기 클리닝챔버에 적외선을 조사하는 램프유닛을 포함하며, 상기 램프유닛은, 상기 클리닝챔버에 설치되는 램프와, 상기 램프의 외주면 둘레에 간격을 두고 설치되는 투명튜브를 포함하는 웨이퍼 보관용기 세정장치에 있어서, 상기 클리닝챔버의 내부에 건조가스를 공급함과 동시에 공급된 건조가스를 가열하는 건조가스 공급 및 가열유닛을 더 포함하며, 상기 건조가스 공급 및 가열유닛은, 건조가스를 공급하는 건조가스 공급원과; 건조가스 공급원의 건조가스를 상기 투명튜브와 램프 사이부분으로 직접 도입시켜 상기 램프의 열에 의해 가열되게 하는 건조가스 도입관과; 상기 투명튜브와 램프 사이부분으로 도입되면서 가열된 상기 건조가스를 클리닝챔버의 내부로 토출할 수 있도록 상기 투명튜브에 형성되는 다수의 토출구멍들을 포함하는 것을 특징으로 한다.
바람직하게는, 상기 건조가스 도입관은, 일측부분이 상기 건조가스 공급원과 이송라인에 의해 연결되고, 타측부분이 상기 투명튜브의 내부와 직접 연통되게 연결되는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 웨이퍼 보관용기 세정장치에 의하면, 건조가스를 투명튜브와 램프 사이로 직접 도입시키면서 클리닝챔버에 공급하는 구조이므로, 건조가스가 투명튜브와 램프 사이로 도입되는 과정에서 발생되는 이물질 유입 현상이 원천적으로 차단되는 효과가 있다.
또한, 건조가스가 투명튜브와 램프 사이로 도입되는 과정에서 발생되는 이물질 유입 현상이 원천적으로 차단되는 구조이므로, 이물질 유입으로 인한 램프의 승온저하현상과 수명단축현상 및, 램프의 손상과 파손을 방지할 수 있다. 그 결과, 제품의 품질 향상을 도모할 수 있는 효과가 있다.
도 1은 종래의 웨이퍼 보관용기 세척장치를 나타내는 평단면도,
도 2는 종래의 웨이퍼 보관용기 세척장치를 나타내는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ선 단면도,
도 3은 종래의 웨이퍼 보관용기 세척장치를 나타내는 도 2의 Ⅲ-Ⅲ선 단면도,
도 4는 본 발명에 따른 웨이퍼 보관용기 세척장치의 특징부인 건조가스 공급 및 가열유닛을 나타내는 측단면도,
도 5는 본 발명에 따른 웨이퍼 보관용기 세척장치의 특징부인 건조가스 공급 및 가열유닛을 상세하게 나타내는 도 4의 Ⅴ-Ⅴ선 단면도이다.
이하, 본 발명에 따른 웨이퍼 보관용기 세정장치의 바람직한 실시예를 첨부된 도면에 의거하여 상세하게 설명한다.
먼저, 본 발명에 따른 웨이퍼 보관용기 세정장치의 특징부를 살펴보기에 앞서, 도 1과 도 4와 도 5를 참조하여 웨이퍼 보관용기 세정장치의 구성에 대해 간략하게 살펴본다.
먼저, 도 1을 참조하면, 웨이퍼 보관용기 세척장치는, 케이스(1)를 구비하며, 케이스(1)의 내부에는 클리닝챔버(1a)가 형성되어 있다.
그리고 케이스(1)의 클리닝챔버(1a)에는, 로터(3)가 설치되며, 로터(3)의 주변에는 다수의 세정액 분사노즐(9)들이 설치된다.
로터(3)는, 수직축선을 중심으로 회전가능하게 설치되며, 그 외면에는 웨이퍼 보관용기(5)의 용기본체(5a)와 용기커버(5b)를 함께 지지시킬 수 있는 다수의 용기홀더(7)들이 설치된다.
이러한 로터(3)는, 세정 과정 시에, 수직축선을 중심으로 회전운동하면서 둘레에 설치된 용기홀더(7)들을 회전시킨다. 따라서, 세정액 분사노즐(9)에서 분사된 세정액이 웨이퍼 보관용기(5)에 골고루 도포될 수 있게 한다. 이로써, 웨이퍼 보관용기(5)의 세정효율을 높인다.
세정액 분사노즐(9)들은, 유체펌프(도시하지 않음)로부터 공급된 세정액을 용기홀더(7)에 지지된 웨이퍼 보관용기(5)의 용기본체(5a)와 용기커버(5b)에 세정액을 분사한다. 따라서, 웨이퍼 보관용기(5)의 용기본체(5a)와 용기커버(5b)를 세정한다.
그리고 웨이퍼 보관용기 세척장치는, 클리닝챔버(1a)의 내부에 적외선을 조사하는 램프유닛(10)을 구비하다.
램프유닛(10)은, 클리닝챔버(1a)의 네 모서리부분에 설치되는 것으로, 도 4와 도 5에 도시된 바와 같이, 램프 지지대(12)와, 램프 지지대(12)에 수직하게 설치되는 램프(14)와, 램프(14)의 외주면 둘레에 설치되는 투명튜브(16) 및, 투명튜브(16) 전체를 덮어서 보호하는 램프커버(18)를 포함한다.
이러한 램프유닛(10)은, 클리닝챔버(1a)의 내부에 적외선을 조사하여 클리닝챔버(1a)의 내부온도를 상승시킨다. 따라서, 웨이퍼 보관용기(5)의 세정효율과 건조효율을 높인다.
다음으로, 본 발명에 따른 웨이퍼 보관용기 세정장치의 특징부를 도 4와 도 5를 참조하여 상세하게 살펴본다.
먼저, 본 발명의 세정장치는, 클리닝챔버(1a)의 내부에 건조가스를 공급함과 동시에 공급된 건조가스를 가열하는 건조가스 공급 및 가열유닛(50)을 더 구비한다.
건조가스 공급 및 가열유닛(50)은, 건조가스를 공급하는 건조가스 공급원(52)과, 건조가스 공급원(52)의 건조가스를 클리닝챔버(1a)측으로 이송하는 이송라인(54)과, 이송라인(54)으로 이송된 건조가스를 투명튜브(16)와 램프(14) 사이부분14a)으로 도입시키는 건조가스 도입관(56) 및, 투명튜브(16)와 램프(14) 사이부분(14a)으로 도입된 건조가스를 클리닝챔버(1a)의 내부로 토출하는 다수의 토출구멍(58)들을 포함한다.
건조가스 공급원(52)은, 예를 들어, 에어펌프로 구성되며, 이렇게 구성된 건조가스 공급원(52)은 일정한 압력의 건조가스를 공급한다.
건조가스 도입관(56)은, 일측부분(56a)이 이송라인(54)과 연결되고 타측부분(56b)이 투명튜브(16)와 연결된다. 특히, 타측부분(56b)은 투명튜브(16)의 내부와 직접 연통되게 연결된다.
따라서, 이송라인(54)을 따라 이송된 건조가스를 투명튜브(16)의 내부로 직접 도입시킨다. 특히, 투명튜브(16)와 램프(14) 사이부분(14a)으로 도입시킨다. 이로써, 투명튜브(16)의 내부로 도입된 건조가스가 램프(14)에 의해 가열될 수 있게 한다.
토출구멍(58)들은, 투명튜브(16)에 형성되며, 램프(14)에 의해 가열된 높은 온도의 건조가스를 클리닝챔버(1a)의 내부로 토출한다. 따라서, 클리닝챔버(1a)로 토출된 고온의 건조가스가 클리닝챔버(1a)의 내부를 효율좋게 승온시킬 수 있게 한다. 그 결과, 웨이퍼 보관용기(5)의 건조효율을 상승시킨다.
여기서, 토출구멍(58)들은, 클리닝챔버(1a)의 내측부분을 향하도록 형성되며, 투명튜브(16)의 길이방향을 따라 2열로 형성된다. 그리고 2열로 형성된 원주방향의 토출구멍(58)들은, 서로에 대해 약 60∼120°각도의 범위를 이루며 형성된다.
한편, 램프(14)에 의해 가열된 건조가스는, 램프(14)의 열을 빼앗는 역할도 한다. 따라서, 램프(14)를 냉각시키기도 한다. 이로써, 램프(14)의 고장을 방지하고, 수명을 연장시키는 역할도 한다.
또한, 투명튜브(16)의 토출구멍(58)으로부터 토출되는 건조가스는, 클리닝챔버(1a)로부터 토출구멍(58)으로 역도입되는 수분을 차단하기도 한다. 따라서, 수분의 유입에 따른 투명튜브(16)와 램프(14)의 손상을 방지하기도 한다.
이 밖에도, 이송라인(54)을 따라 이송된 건조가스는, 건조가스 도입관(56)을 통해 투명튜브(16)와 램프(14) 사이부분(14a)으로 직접 도입된다. 따라서, 건조가스가 투명튜브(16)와 램프(14) 사이부분(14a)으로 도입되는 과정에서 발생되는 이물질 유입 현상이 원천적으로 차단된다.
이로써, 이물질 유입으로 인한 램프(14)의 승온저하현상과 수명단축현상 및, 램프(14)의 손상과 파손을 방지할 수 있다. 그 결과, 제품의 품질 향상을 도모할 수 있다.
이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시적으로 설명하였으나, 본 발명의 권리범위는 이와 같은 특정 실시예에만 한정되는 것은 아니며, 특허청구범위에 기재된 범주내에서 적절하게 변경 가능한 것이다.
1: 케이스(Case) 3: 클리닝챔버(Cleaning Chamber)
3: 로터(Rotor) 5: 웨이퍼 보관용기
5a: 용기본체 5b: 용기커버
7: 용기홀더(Holder) 10: 램프유닛(Lamp Unit)
12: 램프 지지대 14: 램프(Lamp)
14a: 투명튜브와 램프의 사이부분 16: 투명튜브(Tube)
18: 램프커버(Lamp Cover) 50: 건조가스 공급 및 가열유닛
52: 건조가스 공급원 54: 이송라인
56: 건조가스 도입관 58: 토출구멍

Claims (4)

  1. 클리닝챔버(1a)와, 상기 클리닝챔버(1a)에 설치되는 로터(22)와, 웨이퍼 보관용기(20)를 지지시킬 수 있도록 상기 로터(22)에 설치되는 다수의 용기홀더(24)와, 상기 용기홀더(24)에 지지된 상기 웨이퍼 보관용기(20)에 세정액을 분사하는 세정액 분사노즐(26)과, 상기 클리닝챔버(1a)에 설치되는 램프(14)와 상기 램프(14)의 외주면 둘레에 간격을 두고 설치되는 투명튜브(16)로 이루어져 클리닝챔버(1a)에 적외선을 조사하는 램프유닛(10)과, 건조가스 공급원(52)으로부터 투명튜브(16)에 형성된 다수의 토출구멍(58)들을 통해 상기 클리닝챔버(1a)의 내부에 건조가스를 공급함과 동시에 공급된 건조가스를 가열하는 건조가스 공급 및 가열유닛(50)을 포함하는 웨이퍼 보관용기 세정장치에 있어서,
    상기 건조가스 공급 및 가열유닛(50)은,
    건조가스 공급원(52)의 건조가스를 상기 투명튜브(16)와 램프(14) 사이부분(14a)으로 직접 도입시켜 상기 램프(14)의 열에 의해 가열되게 하는 건조가스 도입관(56)을 더 포함하고,
    상기 건조가스 도입관(56)은,
    일측부분(56a)이 램프유닛(10)의 외부에서 건조가스 이송라인(54)과 연결되고, 타측부분(56b)이 램프유닛(10)의 내부에서 상기 투명튜브(16)와 직접 연통되도록 상기 투명튜브(16)의 하부에 일체형으로 형성되어, 건조가스 공급원(52)으로부터의 건조가스가 상기 투명튜브(16)의 내부로 직접 공급되도록 하여 램프(14)와 투명튜브(16) 사이로 세정액 및 이물질의 유입을 방지하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 보관용기 세정장치.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 삭제
KR1020120016413A 2012-02-17 2012-02-17 웨이퍼 보관용기 세정장치 KR101338183B1 (ko)

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