KR101336727B1 - 기판 건조 장치 - Google Patents

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KR101336727B1
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Abstract

본 발명의 실시예에 따른 기판 건조 장치는, 건조 대상물인 기판이 로딩되는 스핀척이 회전 가능하게 장착되고, 스핀척의 상부에는 스핀척에 로딩된 기판을 향해 이소프로필 알코올(IPA, Iso-propyl Alcohol )을 분사하는 분사부가 장착되는 건조 챔버; 건조 챔버로 이소프로필 알코올을 공급하기 위한 IPA 탱크와, 이소프로필 알코올을 설정된 온도로 가열하는 메인 히터를 구비하는 IPA 공급 유닛; 및 IPA 탱크로부터 상기 건조 챔버로 이소프로필 알코올이 이동하는 경로를 형성하는 IPA 이동부;를 포함하며, IPA 이동부는, 분사부의 측부에 위치하도록 IPA 이동부에 장착되며, IPA 이동부를 따라 이동하는 이소프로필 알코올을 재가열하는 재가열 히터;를 포함할 수 있다. 본 발명의 실시예에 따르면, 이소프로필 알코올을 설정된 온도로 메인 히터에 의해 가열한 후 분사부에 인접하게 장착되는 재가열 히터에서 이소프로필 알코올을 재가열함으로써 기판 건조에 적합한 온도를 갖는 이소프로필 알코올을 건조 챔버에 배치된 기판으로 공급할 수 있다.

Description

기판 건조 장치{Apparatus to dry substrate}
기판 건조 장치가 개시된다. 보다 상세하게는, 이소프로필 알코올을 설정된 온도로 메인 히터에 의해 가열한 후 분사부에 인접하게 장착되는 재가열 히터에서 이소프로필 알코올을 재가열함으로써 기판 건조에 적합한 온도를 갖는 이소프로필 알코올을 건조 챔버에 배치된 기판으로 공급할 수 있는 기판 건조 장치가 개시된다.
일반적으로 반도체 소자를 제조하기 위해서는, 리소그래피(lithography), 증착 및 에칭(etching) 등의 여러 공정을 반복적으로 수행한다. 이러한 공정들을 거치는 동안 기판, 예를 들면 실리콘 재질의 웨이퍼 상에는 파티클(particle), 금속 불순물, 유기물 등이 잔존하게 된다.
이와 같은 오염 물질은 제품의 수율 및 신뢰성에 악영향을 미치기 때문에 반도체 제조 공정에서는 기판에 잔존된 오염 물질을 제거하기 위한 세정 공정이 수행되고, 세정 공정 후에는 기판에 대한 건조 공정이 수행된다.
종래 알려진 건조 방식으로는 스핀 건조 방식, 이소프로필 알코올(IPA, Iso-propyl Alcohol)에 의한 마란고니 효과(Marangoni effect)을 이용한 건조 방식 등이 있다.
이 중 스핀 건조 방식에 대해 개략적으로 설명하면, 건조 대상물인 기판을 제자리에서 회전하는 스핀척에 올린 후 회전시키고, 이때 기판의 표면에 이소프로필 알코올을 분사한 후 질소 가스(N2)를 분사함으로써 기판에 대한 건조 작업을 실행한다.
그런데, 이러한 건조 방식이 적용되는 종래의 기판 건조 장치에 있어서는, 기판을 건조시키는 이소프로필 알코올이 소정의 이동 라인을 따라 이송된 후 기판에 분사되는데, 이 때 이동 중 이소프로필 알코올의 온도가 적정 온도를 유지하지 못함으로써 기판 건조의 신뢰성이 저하될 수 있다.
부연 설명하면, 이소프로필 알코올이 끓는점과 인접한 온도, 예를 들면 75℃ 정도의 온도로 기판에 공급되어야 기판 건조 작업이 신뢰성 있게 진행될 수 있는데, 종래에는 이송 과정 중 이소프로필 알코올의 온도가 저하됨으로써 기판의 건조 작업이 신뢰성 있게 진행되지 않는 한계가 있었다.
본 발명의 실시예에 따른 목적은, 이소프로필 알코올을 설정된 온도로 메인 히터에 의해 가열한 후 분사부에 인접하게 장착되는 재가열 히터에서 이소프로필 알코올을 재가열함으로써 기판 건조에 적합한 온도를 갖는 이소프로필 알코올을 건조 챔버에 배치된 기판으로 공급할 수 있는 기판 건조 장치를 제공하는 것이다.
또한 본 발명의 실시예에 따른 다른 목적은, 분사부와 IPA 탱크가 재순환 라인에 의해 연결됨으로써 가령 설정된 온도보다 낮은 이소프로필 알코올이 분사부로 공급되는 경우 분사부를 통해 기판으로 분사하지 않고 재순환 라인을 통해 재순환할 수 있어 기판 건조의 신뢰성을 향상시킬 수 있는 기판 건조 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 실시예에 따른 기판 건조 장치는, 건조 대상물인 기판이 로딩되는 스핀척이 회전 가능하게 장착되고, 상기 스핀척의 상부에는 상기 스핀척에 로딩된 상기 기판을 향해 이소프로필 알코올(IPA, Iso-propyl Alcohol )을 분사하는 분사부가 장착되는 건조 챔버; 상기 건조 챔버로 이소프로필 알코올을 공급하기 위한 IPA 탱크와, 상기 이소프로필 알코올을 설정된 온도로 가열하는 메인 히터를 구비하는 IPA 공급 유닛; 및 상기 IPA 탱크로부터 상기 건조 챔버로 상기 이소프로필 알코올이 이동하는 경로를 형성하는 IPA 이동부;를 포함하며, 상기 IPA 이동부는, 상기 분사부의 측부에 위치하도록 상기 IPA 이동부에 장착되며, 상기 IPA 이동부를 따라 이동하는 상기 이소프로필 알코올을 재가열하는 재가열 히터;를 포함할 수 있으며, 이러한 구성에 의해서, 이소프로필 알코올을 설정된 온도로 메인 히터에 의해 가열한 후 분사부에 인접하게 장착되는 재가열 히터에서 이소프로필 알코올을 재가열함으로써 기판 건조에 적합한 온도를 갖는 이소프로필 알코올을 건조 챔버에 배치된 기판으로 공급할 수 있다.
상기 IPA 공급 유닛은, 상기 IPA 탱크 및 상기 메인 히터가 내장되며, 상기 IPA 이동부의 일부분을 내장하는 공급 박스; 및 상기 공급 박스 내에서 상기 IPA 이동부에 장착되어 상기 IPA 탱크로부터 상기 이소프로필 알코올을 펌핑시키는 펌프를 더 포함할 수 있다.
상기 IPA 공급 유닛은, 상기 공급 박스 내에서 상기 IPA 이동부에 장착되어 상기 메인 히터를 지난 상기 이소프로필 알코올로부터 이물질을 여과시키는 필터를 더 포함할 수 있다.
상기 IPA 이동부에는, 상기 IPA 이동부를 따라 이동하는 상기 이소프로필 알코올의 유량을 측정하는 유량계, 상기 이소프로필 알코올의 유량을 조절하는 니들 밸브 및 상기 이소프로필 알코올의 온도를 측정하는 적어도 하나의 온도계가 장착될 수 있다.
상기 적어도 하나의 온도계는 복수 계의 온도계이며, 상기 메인 히터를 지난 상기 IPA 이동부 및 상기 온도 보상 챔버와 상기 분사 노즐의 사이에 배치될 수 있다.
상기 IPA 탱크와 연결된 상기 IPA 이동부는 분기되어 각각의 상기 건조 챔버로 상기 IPA 이소프로필 알코올을 공급할 수 있다.
상기 분사 노즐과 상기 IPA 탱크를 연결하는 재순환 라인을 더 포함하며, 상기 이소프로필 알코올의 측정 온도가 미리 설정된 온도보다 높은 경우 상기 분사부를 통해 상기 기판으로 상기 이소프로필 알코올이 분사되고, 상기 이소프로필 알코올의 온도가 미리 설정된 온도보다 낮은 경우 상기 이소프로필 알코올은 상기 재순환 라인에 의해 상기 IPA 탱크로 재순환될 수 있으며, 이로 인해, 분사부와 IPA 탱크가 재순환 라인에 의해 연결됨으로써 가령 설정된 온도보다 낮은 이소프로필 알코올이 분사부로 공급되는 경우 분사부를 통해 기판으로 분사하지 않고 재순환 라인을 통해 재순환할 수 있어 기판 건조의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 이소프로필 알코올을 설정된 온도로 메인 히터에 의해 가열한 후 분사부에 인접하게 장착되는 재가열 히터에서 이소프로필 알코올을 재가열함으로써 기판 건조에 적합한 온도를 갖는 이소프로필 알코올을 건조 챔버에 배치된 기판으로 공급할 수 있다.
또한 본 발명의 실시예에 따르면, 분사부와 IPA 탱크가 재순환 라인에 의해 연결됨으로써 가령 설정된 온도보다 낮은 이소프로필 알코올이 분사부로 공급되는 경우 분사부를 통해 기판으로 분사하지 않고 재순환 라인을 통해 재순환할 수 있어 기판 건조의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 건조 장치의 개략적인 구성을 도시한 도면이다.
도 2는 도 1에 도시된 건조 챔버의 내부 구성을 개략적으로 도시한 도면이다.
이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 구성 및 적용에 관하여 상세히 설명한다. 이하의 설명은 특허 청구 가능한 본 발명의 여러 태양(aspects) 중 하나이며, 하기의 기술(description)은 본 발명에 대한 상세한 기술(detailed description)의 일부를 이룬다.
다만, 본 발명을 설명함에 있어서, 공지된 기능 혹은 구성에 관한 구체적인 설명은 본 발명의 요지를 명료하게 하기 위하여 생략하기로 한다.
이하에서 상술되는 기판은, 웨이퍼(Wafer), 엘씨디(LCD, Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display Panel)와 같은 다른 평판디스플레이(Flat Panel Display) 중 어느 하나일 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 건조 장치의 개략적인 구성을 도시한 도면이고, 도 2는 도 1에 도시된 건조 챔버의 내부 구성을 개략적으로 도시한 도면이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 건조 장치(100)는, 기판(W)에 대한 건조 공간을 형성하며 이소프로필 알코올 분사를 위한 분사부(120)가 구비되는 건조 챔버(110)와, 건조 챔버(110)로 이소프로필 알코올을 공급하기 위한 IPA 탱크(131)를 갖는 IPA 공급 유닛(130)과, IPA 탱크(131)로부터 건조 챔버(110)로 이소프로필 알코올이 이동하는 경로를 형성하는 IPA 이동부(150)와, 분사부(120)에 인접한 IPA 이동부(150)에 장착되어 이소프로필 알코올의 온도를 재가열하는 재가열 히터(140)를 포함할 수 있다.
이러한 구성에 의해서, IPA 탱크(131) 내의 이소프로필 알코올을 기판(W)을 건조시키기 적합한 온도를 유지한 상태로 IPA 이동부(150)를 통해 이동시켜 기판(W)으로 제공할 수 있으며, 따라서 건조 챔버(110) 내에서 기판(W)의 건조 공정이 원활하게 이루어질 수 있다.
각각의 구성에 대해 설명하면, 먼저, 건조 챔버(110)는, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 건조 공간을 형성하기 위해 예를 들면 원통 형상으로 마련될 수 있다. 다만, 건조 챔버(110)의 형상은 이에 한정되는 것은 아니며 기판(W)의 종류에 따라 다른 형상으로 마련될 수 있음은 당연하다.
도 2를 참조하면, 건조 챔버(110)의 하부 영역에는 기판(W)이 안착되는 스핀척(111)이 회전 가능하게 장착되고, 상부에는 이소프로필 알코올을 분사하는 분사부(120)가 장착된다. 스핀척(111)은 상면에 기판(W)을 로딩한 상태로 회전 가능하며, 이에 따라 분사부(120)를 통해 분사된 이소프로필 알코올이 기판(W)의 전면으로 공급될 수 있다.
또한 건조 챔버(110)의 내부 공간에는 스핀척(111)을 감싸도록 마련되는 회수부(115)가 구비될 수 있다. 이러한 회수부(115)는 기판(W)의 건조 공정 시 공급되는 약액(예를 들면, 이소프로필 알코올)이 개별적으로 회수되는 복수 개의 회수컵을 구비할 수 있다. 복수 개의 회수컵은 높이 방향으로 형성되며, 복수 개의 회수컵에 대한 스핀척(111)의 상대적인 높이를 조절함으로써 기판(W)에 대한 건조 공정 시 발생되는 약액을 각각의 회수컵으로 보낼 수 있다.
한편, 이러한 건조 챔버(110) 내에 배치되는 기판(W)으로 이소프로필 알코올을 공급하기 위해, 도 1에 도시된 것처럼, 이소프로필 알코올을 저장 및 공급하는 IPA 공급 유닛(130)과, 이송 라인을 형성하는 IPA 이동부(150)를 더 포함하는데, 이하에서는 이들 구성에 대해 구체적으로 설명하기로 한다.
먼저, 본 실시예의 IPA 공급 유닛(130)은, 도 1에 개략적으로 도시된 바와 같이, 외관을 형성하는 공급 박스(130a)와, 공급 박스(130a) 내에 마련되어 IPA 이동부(150a)로 이소프로필 알코올을 공급하는 IPA 탱크(131)와, IPA 이동부(150a)에 장착되어 IPA 탱크(131)에 있는 이소프로필 알코올을 IPA 이동부(150a)로 펌핑하는 펌프(133)와, IPA 이동부(150a)에 장착되어 IPA 이동부(150a)를 따라 이동하는 이소프로필 알코올을 가열하는 메인 히터(132)와, 이소프로필 알코올에 함유된 이물질을 여과시키기는 필터(134)와, IPA 이동부(150a)를 따라 이동하는 이소프로필 알코올의 양을 측정하는 유량계(135) 및 유량을 조절하는 니들 밸브(136)를 포함할 수 있다.
아울러, IPA 공급 유닛(130)은, IPA 이동부(150a)의 중간중간에 장착되어 각 영역을 통과하는 이소프로필 알코올의 온도를 측정하는 온도계(137, 138)들을 포함할 수 있다.
공급 박스(130a)는, 도 1에 도시된 것처럼, 다수의 구성이 내장되는 공간을 형성함으로써 내부에 장착되는 구성을 보호하는 역할을 한다. 이러한 공급 박스(130a) 내에 뜨거운 이소프로필 알코올이 이동하는 IPA 이동부(150a)의 일부 구간 및 메인 히터(132) 등이 장착되므로, 공급 박스(130a)는 외부로의 열 차단을 위한 단열재 등을 구비할 수 있다.
메인 히터(132)는, 이소프로필 알코올을 고온, 예를 들면 이소프로필 알코올의 끓는점(82℃)에 근접한 온도, 예를 들면 70 내지 80℃로 가열한다. 이러한 메인 히터(132)에 대해서 IPA 이동부(150a)는 권선 형태로 결합될 수 있으며 따라서 권선된 IPA 이동부(150a)를 따라 이동하는 이소프로필 알코올에 대한 가열 시간을 늘릴 수 있어 이소프로필 알코올을 끓는점에 가까운 온도로 가열할 수 있다. 메인 히터(132)는 전류 인가량에 따라 열 발생 정도가 조절되는 코일 타입으로 마련될 수 있다. 다만, 이에 한정되는 것은 아니며, 이소프로필 알코올을 끓는점에 근접한 온도로 안전하게 가열할 수 있다면 다른 종류의 히터가 적용될 수 있음은 당연하다.
이러한 메인 히터(132)에는, 도 1에 도시된 바와 같이, 온도계(138)가 장착될 수 있으며, 따라서 메인 히터(132)에 의해 이소프로필 알코올이 제대로 가열되고 있는지를 확인할 수 있다. 아울러 메인 히터(132)에 인접한 IPA 이동부(150a)의 구간에도 온도계(137)가 장착 가능하며 따라서 이소프로필 알코올의 온도 측정의 정확성을 높일 수 있다.
한편, 메인 히터(132)를 지난 IPA 이동부(150a)의 일 구간에는, 도 1에 도시된 것처럼, 필터(134)가 장착되며, 따라서 여과 작업에 의해 순도 높은 이소프로필 알코올을 기판(W)에 공급할 수 있다.
필터(134)를 통과한 이소프로필 알코올은 유량계(135)에 의해 유량 측정된 후, 니들 밸브(136)를 통해 유량의 속도를 적절하게 조절할 수 있다.
다만, 도 1에는 도시하지 않았지만, 필터(134)와 유량계(135)를 연결하는 IPA 이동부(150a)는 분기 구조를 가질 수 있다. 즉, 도 1에서는 하나의 IPA 공급 유닛(130)에 대해 하나의 건조 챔버(110)가 대응되는 경우에 대해서 도시하였으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 하나의 IPA 공급 유닛(130)에 대해 복수 개의 건조 챔버(110)가 결합될 수 있다. 이를 위해 IPA 이동부(150)는 예를 들면 필터(134)와 유량계(135)를 연결하는 부분에서 다수의 이동부로 분기될 수 있다.
한편, 본 실시예의 분사부(120)에 인접한 IPA 이동부(150)에는, 도 1에 도시된 바와 같이, 재가열 히터(140)가 장착된다. 이러한 재가열 히터(140)는, 분사부(120)에 의해 이소프로필 알코올이 분사되기 전에 다시 이소프로필 알코올의 온도를 끓는점에 가까운 온도로 재가열함으로써 기판(W) 건조 공정에 적당한 온도를 갖는 이소프로필 알코올이 분사부(120)를 통해 분사될 수 있도록 한다.
이러한 재가열 히터(140)에는, IPA 이동부(150)가 권선 구조로 배치되며, 따라서 이소프로필 알코올의 가열 구간을 늘릴 수 있어 이소프로필 알코올을 원하는 온도까지 가열할 수 있다. 이러한 재가열 히터(140) 역시 전술한 바와 같이 전류 인가량에 따라 열 발생 정도가 조절되는 코일 타입으로 마련될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
재가열 히터(140)에도 역시 온도계(141)가 장착될 수 있으며, 따라서 재가열 히터(140)에 의한 이소프로필 알코올 가열 여부를 확인할 수 있다. 아울러 재가열 히터(140)에 인접한 IPA 이동부(150)의 구간에도 온도계(142)가 장착 가능하며 따라서 이소프로필 알코올의 온도 측정의 정확성을 높일 수 있다.
한편, 본 실시예의 분사부(120)는, 도 1에 도시된 바와 같이 3웨이 밸브 구조를 가질 수 있다. 이러한 분사부(120)는, IPA 이동부(150)와 연결되는 연결 부분(122)과, 연결 부분(122)과 연결되며 건조 챔버(110) 내의 기판(W)으로 이소프로필 알코올을 분사하는 분사 노즐(121)을 포함할 수 있다.
다만, 분사부(120)로 이송된 이소프로필 알코올은 바로 분사 노즐(121)을 통해 건조 챔버(110) 내로 분사되거나, 분사부(120)의 연결 부분(122)과 IPA 탱크(131)를 연결하는 재순환 라인(160)을 통해 IPA 탱크(131)로 재순환될 수 있는데, 이는 분사부(120) 내에 장착되는 온도계(125)의 온도 정보를 통해 결정될 수 있다.
즉, 분사부(120) 내에 장착된 온도계(125)를 통해 이소프로필 알코올의 온도가 설정된 온도보다 높은 값으로 측정되는 경우 분사 노즐(121)을 통해 이소프로필 알코올이 기판(W)으로 분사될 수 있지만, 반대로 이소프로필 알코올의 온도가 설정된 온도보다 낮은 값으로 측정되는 경우 이소프로필 알코올은 분사 노즐(121)로 전달되지 않고 연결 부분(122) 및 재순환 라인(160)을 통해 IPA 탱크(131)로 재순환될 수 있다.
이처럼, 본 실시예의 기판 건조 장치(100)는 이소프로필 알코올의 온도 유지를 위해서 재가열 구조를 가질 뿐만 아니라 재순환 구조를 가짐으로써 기판(W)을 건조시키기에 적합한 온도의 이소프로필 알코올만을 기판(W)으로 공급할 수 있으며 따라서 기판(W) 건조의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.
이와 같이, 본 발명의 일 실시예에 의하면, 이소프로필 알코올을 설정된 온도로 메인 히터(132)에 의해 가열한 후 분사부(120)에 인접하게 장착되는 재가열 히터(140)에서 이소프로필 알코올을 재가열함으로써 기판(W) 건조에 적합한 온도를 갖는 이소프로필 알코올을 건조 챔버(110)에 배치된 기판(W)으로 공급할 수 있는 장점이 있다.
아울러, 분사부(120)와 IPA 탱크(131)가 재순환 라인에 의해 연결됨으로써 가령 설정된 온도보다 낮은 이소프로필 알코올이 분사부(120)로 공급되는 경우 분사부(120)를 통해 기판(W)으로 분사하지 않고 재순환 라인을 통해 재순환할 수 있어 기판(W) 건조의 신뢰성을 향상시킬 수 있는 장점도 있다.
한편, 본 발명은 기재된 실시예에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 다양하게 수정 및 변형할 수 있음은 이 기술의 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명하다. 따라서 그러한 수정예 또는 변형예들은 본 발명의 특허청구범위에 속한다 하여야 할 것이다.
100 : 기판 건조 장치 110 : 건조 챔버
120 : 분사부 130 : IPA 공급 유닛
131 : IPA 탱크 132 : 메인 히터
140 : 재가열 히터 150 : IPA 이동부
160 : 재순환 라인

Claims (7)

  1. 건조 대상물인 기판이 로딩되는 스핀척이 회전 가능하게 장착되고, 상기 스핀척의 상부에는 상기 스핀척에 로딩된 상기 기판을 향해 이소프로필 알코올(IPA, Iso-propyl Alcohol )을 분사하는 분사부가 장착되는 건조 챔버;
    상기 건조 챔버로 이소프로필 알코올을 공급하기 위한 IPA 탱크와, 상기 이소프로필 알코올을 설정된 온도로 가열하는 메인 히터를 구비하는 IPA 공급 유닛; 및
    상기 IPA 탱크로부터 상기 건조 챔버로 상기 이소프로필 알코올이 이동하는 경로를 형성하는 IPA 이동부;
    를 포함하며,
    상기 IPA 이동부는,
    상기 분사부의 측부에 위치하도록 상기 IPA 이동부에 장착되며, 상기 IPA 이동부를 따라 이동하는 상기 이소프로필 알코올을 재가열하는 재가열 히터;
    를 포함하며,
    상기 이소프로필 알코올은 상기 IPA 이동부에 장착된 펌프에 의해 펌핑되는 기판 건조 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 IPA 공급 유닛은,
    상기 IPA 탱크 및 상기 메인 히터가 내장되며, 상기 IPA 이동부의 일부분을 내장하는 공급 박스를 더 포함하며,
    상기 펌프는 상기 공급 박스 내에서 상기 IPA 이동부에 장착되는 기판 건조 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 IPA 공급 유닛은,
    상기 공급 박스 내에서 상기 IPA 이동부에 장착되어 상기 메인 히터를 지난 상기 이소프로필 알코올로부터 이물질을 여과시키는 필터를 더 포함하는 기판 건조 장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 IPA 이동부에는, 상기 IPA 이동부를 따라 이동하는 상기 이소프로필 알코올의 유량을 측정하는 유량계, 상기 이소프로필 알코올의 유량을 조절하는 니들 밸브 및 상기 이소프로필 알코올의 온도를 측정하는 적어도 하나의 온도계가 장착되는 기판 건조 장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 적어도 하나의 온도계는 복수 계의 온도계이며, 상기 메인 히터를 지난 상기 IPA 이동부 및 상기 온도 보상 챔버와 상기 분사 노즐의 사이에 배치되는 기판 건조 장치.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 IPA 탱크와 연결된 상기 IPA 이동부는 분기되어 각각의 상기 건조 챔버로 상기 IPA 이소프로필 알코올을 공급하는 기판 건조 장치.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 분사 노즐과 상기 IPA 탱크를 연결하는 재순환 라인을 더 포함하며,
    상기 이소프로필 알코올의 측정 온도가 미리 설정된 온도보다 높은 경우 상기 분사부를 통해 상기 기판으로 상기 이소프로필 알코올이 분사되고,
    상기 이소프로필 알코올의 온도가 미리 설정된 온도보다 낮은 경우 상기 이소프로필 알코올은 상기 재순환 라인에 의해 상기 IPA 탱크로 재순환되는 기판 건조 장치.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR100786700B1 (ko) * 2006-07-14 2007-12-21 삼성전자주식회사 건조 방법 및 이를 수행하기 위한 장치
KR20080062723A (ko) * 2006-12-29 2008-07-03 주식회사 하이닉스반도체 웨이퍼 건조장치 및 이를 이용한 웨이퍼의 건조방법
KR101092193B1 (ko) * 2010-07-19 2011-12-13 주식회사 케이씨텍 기판 건조용 노즐 유닛 및 그를 구비한 기판 건조 장치

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100786700B1 (ko) * 2006-07-14 2007-12-21 삼성전자주식회사 건조 방법 및 이를 수행하기 위한 장치
KR20080062723A (ko) * 2006-12-29 2008-07-03 주식회사 하이닉스반도체 웨이퍼 건조장치 및 이를 이용한 웨이퍼의 건조방법
KR101092193B1 (ko) * 2010-07-19 2011-12-13 주식회사 케이씨텍 기판 건조용 노즐 유닛 및 그를 구비한 기판 건조 장치

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