KR101321407B1 - Structure of air knife type of dry cleaner - Google Patents

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KR101321407B1
KR101321407B1 KR1020120050355A KR20120050355A KR101321407B1 KR 101321407 B1 KR101321407 B1 KR 101321407B1 KR 1020120050355 A KR1020120050355 A KR 1020120050355A KR 20120050355 A KR20120050355 A KR 20120050355A KR 101321407 B1 KR101321407 B1 KR 101321407B1
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air knife
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황창배
김은주
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김은주
황창배
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Abstract

PURPOSE: A structure of an air knife type dry cleaner is provided to improve performance over 50% in comparison with existing performance by removing foreign particles of 10-15 μm. CONSTITUTION: Air knives (11a,11b) are separated from each other at regular intervals on a substrate. The air knives guide the flow of air. Dust collection hoods (12a,12b) are installed on the substrate. The dust collection hoods collect the air guided by the air knives. An air gap is formed in the air knife.

Description

공기 나이프 방식의 건식 세정기 구조{Structure of Air Knife Type of Dry Cleaner}Structure of Air Knife Type of Dry Cleaner

본 발명은 공기 나이프 방식의 건식 세정기 구조에 관한 것이고, 구체적으로 공기가 분사되는 방향과 집진이 되는 방향을 일치시키면서 진공을 형성하여 유리와 같은 기판 위에 존재하는 비-점착성 이물질을 제거하는 건식 세정기 구조에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a dry knife structure of an air knife type, and more specifically, to a vacuum cleaner while matching a direction in which air is injected with a dust collecting method, to form a vacuum to remove non-stick foreign substances present on a substrate such as glass. It is about.

반도체 기판 또는 엘시디 기판의 제조 과정에서 표면에 존재하는 미세 입자 또는 이물질은 제품 전체의 불량을 발생시킬 수 있다. 그러므로 반도체 제품, 엘시디와 같은 표시 장치 또는 카메라 모듈의 제조 과정에서 표면에 존재하는 이물질에 해당하는 입자가 제거될 필요가 있다. Fine particles or foreign substances present on the surface during the manufacturing process of the semiconductor substrate or the LCD substrate may cause defects of the whole product. Therefore, it is necessary to remove particles corresponding to foreign substances present on the surface during manufacturing of a display device such as a semiconductor product, an LCD, or a camera module.

유리와 같은 기판의 이물질을 제거하기 위한 선행기술로 특허등록번호 제0710685호 ‘기판수납용기용 건식세정장치’가 있다. 상기 선행기술은 기판수납용기용 건식세정장치에 관한 것으로 기판수납용기의 본체와 덮개를 서로 다른 경로로 투입 및 이송하는 로딩부, 상기 기판수납용기의 본체와 덮개의 내부 전체에 대하여 각각 드라이아이스입자를 분사하여 세정하는 세정부 및 상기 세정부에서 세정이 완료된 상기 기판수납용기의 본체와 덮개를 서로 다른 경로로 각각 반출 및 이송하는 언로딩부를 포함하는 기판 수납용기용 건식세정장치에 대하여 개시한다. As a prior art for removing foreign substances on a substrate such as glass, there is a patent registration No. 0710685 'dry cleaning device for a substrate storage container'. The prior art relates to a dry cleaning apparatus for a substrate storage container, wherein a loading portion for inputting and transporting the body and the cover of the substrate storage container to different paths, and dry ice particles for the entire interior of the body and the cover of the substrate storage container, respectively. Disclosed is a dry cleaning apparatus for a substrate storage container including a cleaning unit for spraying and cleaning the substrate, and an unloading unit for carrying out and transporting the main body and the lid of the substrate storage container, each of which has been cleaned by the cleaning unit, in different paths.

건식 기판 세정장치에 관련된 다른 선행기술로 특허공개번호 제2010-0015049호 ‘건식 기판 세정장치’는 가압공기를 공급하는 블로워와, 상기 블로워의 하부에서 상기 가압공기에 진동을 가하는 진동발생부와, 상기 진동발생부의 하부측에서 진동하는 가압공기를 기판에 분사하는 분사구를 구비하되, 그 가압공기를 보다 더 가압함과 아울러 온도를 낮추어 분사하는 분사부와, 상기 분사부의 양측면에서 상기 분사부를 통해 분사된 가압공기와 이물을 흡입하는 한 쌍의 흡입구를 구비하는 흡입부와, 상기 흡입부의 양측면에 위치하여 상기 기판이 정전기로 대전되는 것을 방지하는 이오나이저를 포함하는 건식 기판 세정 장치에 대하여 개시하고 있다. In another prior art related to a dry substrate cleaning apparatus, Patent Publication No. 2010-0015049 "Dry substrate cleaning apparatus" is a blower for supplying pressurized air, and a vibration generating unit for applying vibration to the pressurized air from the lower part of the blower; An injection hole for injecting pressurized air vibrating from the lower side of the vibration generating part onto a substrate, and further pressurizing the pressurized air and lowering the temperature to inject the sprayed part, and spraying the sprayed part from both sides of the injection part; Disclosed is a dry substrate cleaning apparatus including a suction unit having a pair of suction ports for suctioning the pressurized air and foreign substances, and an ionizer located at both sides of the suction unit to prevent the substrate from being charged with static electricity. .

기판의 먼지를 제거하기 위한 다른 선행기술로 특허공개번호 제2011-0123175호 ‘건식 기판 세정 시스템’이 있다. 자외선 및 초음파를 이용하여 기판 표면의 무기물 및 유기물을 친환경적이면서도 효과적으로 제거할 수 있는 건식 기판 세정 시스템에 관한 것으로 외부로부터 기판을 로딩하는 로딩부, 로딩부에 인접하게 설치되며 로딩부에서 전달되는 기판에 적외선을 조사하여 가열하는 히팅부, 히팅부에 인접하게 설치되며 히팅부에서 전달되는 기판에 자외선을 조사하여 유기성 파티클을 제거하는 자외선 세정부, 자외선 세정부에 인접하게 설치되며 자외선 세정부에서 전달되는 기판에 초음파를 조사하여 무기성 파티클을 제거하는 초음파 세정부 및 초음파 세정부에 인접하여 설치되며 초음파 세정부에서 전달되는 기판을 외부로 언로딩하는 언로딩부를 포함하는 건식 기판 세정 시스템에 대하여 개시하고 있다. Another prior art for removing substrate dust is Patent Publication No. 2011-0123175, “Dry Substrate Cleaning System”. The present invention relates to a dry substrate cleaning system that can remove inorganic and organic substances on the surface of a substrate using ultraviolet rays and ultrasonic waves in an eco-friendly and effective manner, and includes a loading unit for loading the substrate from the outside and a substrate installed adjacent to the loading unit and transferred to the substrate. Heating unit for heating by irradiation with infrared rays, installed near the heating unit, UV cleaning unit for removing organic particles by irradiating ultraviolet rays to the substrate transmitted from the heating unit, installed adjacent to the UV cleaning unit and transmitted from the UV cleaning unit Disclosed is a dry substrate cleaning system including an ultrasonic cleaning unit for removing inorganic particles by irradiating ultrasonic waves to a substrate and an unloading unit installed adjacent to the ultrasonic cleaning unit and unloading the substrate transferred from the ultrasonic cleaning unit to the outside. have.

상기 선행기술 또는 공지된 기술은 공기 또는 초음파 형태의 고압 공기가 이물질이 존재하는 기판의 표면을 향하여 분사되어 기판으로부터 이물질을 분리시킨다. 이후 분리된 이물질은 공기와 함께 집진 장치로 유입될 될 수 있다. The prior art or the known technique injects high pressure air in the form of air or ultrasonic waves towards the surface of the substrate where the foreign matter is present to separate the foreign matter from the substrate. Then, the separated foreign matter may be introduced into the dust collector together with the air.

선행기술은 공기를 직접 기판에 분사시키는 방식을 사용하므로 기류가 집진 장치로 흘러 들어갈 수 있고 이로 인하여 강한 집진 성능이 요구된다는 문제점을 가진다. 또한 공기가 제트 노즐을 통하여 분사가 되므로 제트 노즐의 구조에 따라 데드 존(dead zone)이 생길 수 있다는 단점을 가진다. 또한 미세 입자의 제거가 어렵다는 단점을 가진다. The prior art has a problem that the air flow can flow into the dust collecting device because the air is injected directly to the substrate, which requires a strong dust collecting performance. In addition, since air is injected through the jet nozzle, a dead zone may occur according to the structure of the jet nozzle. It also has the disadvantage that the removal of fine particles is difficult.

본 발명은 선행기술이 가진 이와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로 아래와 같은 목적을 가진다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems of the prior art and has the following objectives.

본 발명의 목적은 공기의 분사 방향이 집진 방향과 동일한 방향이 되면서 고속의 진공이 형성되어 기판의 이물질이 제거될 수 있도록 하는 공기 나이프 방식의 건식 세정기 구조를 제공하는 것이다. An object of the present invention is to provide an air knife type dry cleaner structure in which the high-speed vacuum is formed while the spraying direction of the air becomes the same direction as the dust collecting direction so that foreign substances on the substrate can be removed.

본 발명의 적절한 실시 형태에 따르면, 세정기 구조는 기판 위에 일정 간격만큼 이격되어 설치되어 공기의 흐름을 유도할 수 있는 공기 나이프; 기판의 위쪽에 설치되어 공기 나이프에 의하여 유도된 공기가 수집되는 집진 후드; 및 공기 나이프에 형성된 공기 갭을 포함하고, 상기 공기 갭을 통하여 배출되는 공기는 공기 나이프의 표면을 따라 흘러 집진 후드로 유도되는 기류를 형성하면서 기판과 공기 나이프 사이에 진공 상태를 형성한다.According to a preferred embodiment of the present invention, the scrubber structure includes: an air knife installed on the substrate at a predetermined interval to induce air flow; A dust collecting hood installed above the substrate to collect air induced by the air knife; And an air gap formed in the air knife, wherein the air discharged through the air gap forms a vacuum state between the substrate and the air knife while forming an airflow that flows along the surface of the air knife and is led to the collected hood.

본 발명의 다른 적절한 실시 형태에 따르면, 기판의 대전을 방지하는 이오나이저(ionizer)를 더 포함한다. According to another suitable embodiment of the present invention, it further comprises an ionizer which prevents charging of the substrate.

본 발명의 또 다른 적절한 실시 형태에 따르면, 집진 후드는 측벽 및 바닥 면을 포함하고, 상기 바닥 면의 앞쪽에 돌출 벽이 형성된다. According to another suitable embodiment of the present invention, the dust collecting hood comprises a side wall and a bottom face, and protruding walls are formed in front of the bottom face.

본 발명에 따른 세정기는 일반적인 방법으로 10~15 ㎛ 이상의 입자의 크기가 되는 이물질의 제거가 가능하도록 하여 공지된 세정기에 비하여 50 % 이상의 향상된 성능이 나타나도록 한다는 이점을 가진다. 그리고 예를 들어 초음파를 적용되는 경우 10 ㎛ 미만의 직경을 가지는 입자의 제거가 가능하도록 한다는 장점을 가진다. 또한 본 발명에 따른 세정기는 집진 장치의 외부에 대한 기류의 흐름이 차단되어 높은 집진 능력이 요구되지 않는다는 장점을 가진다. 추가로 본 발명에 따른 세정기는 진공 형성에 의하여 이물질이 제거되므로 기판이 받는 충격을 감소시킬 수 있고 표면 전체에 걸쳐 균일한 이물질 제거 효과가 발생되도록 한다는 장점을 가진다. 아울러 본 발명에 따른 세정기는 표면 장력이 큰 미세 입자가 기판으로부터 쉽게 분리가 되도록 한다는 이점을 가진다. The scrubber according to the present invention has the advantage of enabling the removal of foreign matters having the size of particles of 10-15 µm or more in a general manner so that 50% or more of the scrubber can be improved in performance compared to known scrubbers. And, for example, when the ultrasonic wave is applied, it is possible to remove particles having a diameter of less than 10 μm. In addition, the scrubber according to the present invention has the advantage that the flow of air to the outside of the dust collecting device is blocked so that a high dust collecting capacity is not required. In addition, the scrubber according to the present invention has the advantage that the foreign matter is removed by vacuum formation, thereby reducing the impact received by the substrate and generating a uniform foreign material removal effect over the entire surface. In addition, the cleaner according to the present invention has the advantage that the fine particles having a large surface tension can be easily separated from the substrate.

도 1a는 본 발명에 따른 건조 세정기 구조의 실시 예를 개략적으로 도시한 것이다.
도 1b는 본 발명에 따른 세정기 구조에 대한 실시 예를 나타낸 것으로 비교를 위하여 (가)는 본 발명에 따른 에어 나이프 방식의 건조 세정기 구조의 실시 예를 (나)는 공지의 제트 노즐 방식의 공지의 건조 세정기 구조를 각각 도시한 것이다.
도 2는 본 발명에 따른 건조 세정기 구조에 적용될 수 있는 집진 후드의 실시 예를 도시한 것이다.
도 3a 내지 3d는 본 발명에 따른 세정기 구조에서 세정이 이루어지는 과정에 대한 사진을 제시한 것이다.
1A schematically illustrates an embodiment of a dry scrubber structure according to the present invention.
Figure 1b shows an embodiment of the structure of the scrubber according to the present invention (a) is an embodiment of the air knife type dry scrubber structure according to the present invention (b) is known in the known jet nozzle method Each dry scrubber structure is shown.
2 illustrates an embodiment of a dust collecting hood that can be applied to a dry cleaner structure according to the present invention.
3A to 3D show photographs of a process of cleaning in the cleaner structure according to the present invention.

아래에서 본 발명은 첨부된 도면에 제시된 실시 예를 참조하여 상세하게 설명이 되지만 실시 예는 본 발명의 명확한 이해를 위한 것으로 본 발명은 이에 제한되지 않는다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the embodiments shown in the accompanying drawings, but the present invention is not limited thereto.

아래의 설명에서 진공 상태란 대기압 보다 낮은 압력을 의미하거나 또는 10 ~ 20 ㎛의 직경을 가지는 입자의 표면 장력보다 큰 힘을 발생시키는 기류의 흐름에 의하여 발생되는 압력 차가 생기는 두 지점에서 낮은 압력을 가지는 지점의 압력을 의미한다. In the description below, the vacuum state means a pressure lower than atmospheric pressure or has a low pressure at two points where there is a pressure difference generated by the flow of airflow which generates a force greater than the surface tension of particles having a diameter of 10 to 20 μm. Means the pressure at the point.

도 1a는 본 발명에 따른 건조 세정기 구조의 실시 예를 개략적으로 도시한 것이다.1A schematically illustrates an embodiment of a dry scrubber structure according to the present invention.

도 1b는 본 발명에 따른 세정기 구조에 대한 실시 예를 나타낸 것으로 비교를 위하여 (가)는 본 발명에 따른 에어 나이프 방식의 건조 세정기 구조의 실시 예를 (나)는 공지의 제트 노즐 방식의 공지의 건조 세정기 구조를 각각 도시한 것이다. Figure 1b shows an embodiment of the structure of the scrubber according to the present invention (a) is an embodiment of the air knife type dry scrubber structure according to the present invention (b) is known in the known jet nozzle method Each dry scrubber structure is shown.

도 1a 및 도 1b를 참조하면, 본 발명에 따른 건식 세정기 구조는 기판(G) 위에 일정 간격만큼 이격되어 설치되어 공기의 흐름을 유도할 수 있는 공기 나이프(11); 기판(G)의 위쪽에 설치되어 공기 나이프(11)에 의하여 유도된 공기가 수집되는 집진 후드(12); 및 공기 나이프(11)에 형성된 공기 갭(111)을 포함하고, 상기 공기 갭(111)을 통하여 배출되는 공기는 공기 나이프(11)의 표면을 따라 흘러 집진 후드(12)로 유도되는 기류를 형성하면서 기판(G)과 공기 나이프(11) 사이에 진공 상태를 형성한다. 1A and 1B, a dry cleaner structure according to the present invention includes an air knife 11 spaced apart by a predetermined interval on a substrate G to induce air flow; A dust collecting hood 12 installed above the substrate G to collect air guided by the air knife 11; And an air gap 111 formed in the air knife 11, and the air discharged through the air gap 111 forms an air flow that flows along the surface of the air knife 11 and is led to the collected hood 12. While a vacuum state is formed between the substrate G and the air knife 11.

기판(G)은 예를 들어 유리 기판, 실리콘 기판, 디스플레이 기판, 카메라 렌즈 또는 웨이퍼 기판과 같이 표면 세정이 요구되는 전기 및 전자 산업의 임의의 기판이 될 수 있다. 기판(G)은 평판 형상이 될 수 있고 적절한 프레임(F)에 의하여 고정되고 그리고 필요에 따라 이송 장치에 의하여 이송될 수 있다. Substrate G can be any substrate in the electrical and electronics industry where surface cleaning is desired, such as, for example, glass substrates, silicon substrates, display substrates, camera lenses or wafer substrates. The substrate G can be shaped like a plate and fixed by an appropriate frame F and can be conveyed by a conveying device as necessary.

공기 나이프(11a, 11b)는 하우징(H1, H2)에 수용되어 기판(G)의 상하에 각각 설치될 수 있지만 필요에 따라 어느 한쪽 방향에 설치될 수 있다. 하우징(H1, H2)에 공기 나이프(11a, 11b)에 일정 압력을 가지는 공기를 제공하기 위한 예를 들어 링 기류 장치(Ring Blower)와 같은 기류 장치가 설치될 수 있다. 링 기류 장치에서 공급된 기류는 공기 나이프(11a, 11b)를 통하여 기판(G)의 상부를 통과하여 집진 후드(12a, 12b)로 전달될 수 있다. The air knives 11a and 11b are accommodated in the housings H1 and H2 and may be installed above and below the substrate G, but may be installed in either direction as necessary. An air flow device such as a ring blower, for example, for providing air having a constant pressure to the air knives 11a and 11b in the housings H1 and H2 may be installed. The airflow supplied from the ring airflow device may be passed through the upper portion of the substrate G through the air knives 11a and 11b to the dust collection hoods 12a and 12b.

공기 나이프(11a, 11b)는 기판(G)의 위쪽 및 아래쪽에 대칭이 되도록 설치될 수 있고 공기 나이프(11a, 11b)로부터 배출되는 공기는 공기 나이프(11a, 11b)의 둘레 면을 따라 흘러 집진 후드(12a, 12b)로 기판(G) 표면의 이물질과 함께 유입될 수 있다. 이와 같은 공기의 흐름은 아래에서 다시 설명이 된다. The air knifes 11a and 11b may be installed symmetrically above and below the substrate G, and the air discharged from the air knifes 11a and 11b flows along the circumferential surfaces of the air knifes 11a and 11b. The hood 12a and 12b may be introduced together with the foreign matter on the surface of the substrate G. This flow of air is described again below.

하우징(H1, H2)에 설치되는 이오나이저(13a, 13b)는 기판(G)이 대전되는 것을 방지하기 위한 것이다. 이오나이저(13a, 13b)는 다양한 위치에 설치될 수 있고 이 분야에서 공지된 임의의 형태가 될 수 있다. The ionizers 13a and 13b provided in the housings H1 and H2 are for preventing the substrate G from being charged. Ionizers 13a and 13b may be installed at various locations and may be of any type known in the art.

도 1b의 (가)를 참조하면, 기판(G)으로부터 일정 간격을 두고 세정기 구조가 설치될 수 있다. 공기 나이프(11)의 공기 갭(111)을 통하여 흘러나오는 공기는 공기 나이프(11)의 둘레 면을 따라 화살표(A)로 표시된 기류를 형성하면서 집진 후드(12)로 흘러 들어갈 수 있다. 기류의 흐름에 수직이 되는 방향을 기준으로 기판(G)과 공기 나이프(11) 사이의 제1 간격(D1)은 집진 후드(12) 사이의 마주보는 제2 간격(D2)에 비하여 작고 이로 인하여 제1 단면적이 제2 단면적에 비하여 작게 된다. 이로 인하여 기판(G)과 공기 나이프(11) 또는 기판(G)과 집진 후드(12)의 아래쪽 사이에 진공 상태 또는 낮은 기압 상태가 되는 진공 상태 영역(V)이 형성될 수 있다. 그리고 이로 인하여 기판(G) 위쪽에 있는 입자 또는 이물질은 화살표(B)로 표시된 방향을 따라 기류와 함께 집진 후드(12)로 흘러 들어오게 된다. Referring to (a) of FIG. 1B, a cleaner structure may be installed at a predetermined distance from the substrate G. Air flowing out through the air gap 111 of the air knife 11 may flow into the dust collection hood 12 while forming an air flow indicated by an arrow A along the circumferential surface of the air knife 11. The first distance D1 between the substrate G and the air knife 11 relative to the direction perpendicular to the flow of airflow is smaller than the opposite second distance D2 between the dust collecting hood 12 and thus The first cross-sectional area is smaller than the second cross-sectional area. As a result, a vacuum state region V in a vacuum state or a low air pressure state may be formed between the substrate G and the air knife 11 or between the substrate G and the bottom of the dust collecting hood 12. As a result, particles or foreign substances on the substrate G flow into the dust collection hood 12 together with the airflow along the direction indicated by the arrow B. FIG.

도 1b의 (나)에 도시된 공지의 세정기 구조를 참조하면, 공기 노즐(1)로부터 일정 수준의 압력을 가진 공기가 기판(G)으로 분사가 되면 화살표(A)로 표시된 방향을 따른 기류가 형성될 수 있다. 분사 노즐(1)로부터 분산가 되는 공기의 압력으로 인하여 기판(G) 위에 존재하는 입자 또는 이물질이 분리될 수 있고 기류와 이물질은 기판의 표면을 따라 흐르게 된다. 그리고 집진 후드(2)가 이물질을 포함하는 기류를 흡입하는 것에 의하여 화살표(B)로 표시된 방향을 따라 공기와 이물질이 집진 후드(2)의 내부로 유입될 수 있다. 다른 한편으로 이물질을 포함하는 기류는 표면을 따라 흐르고 집진 후드(2)로 이물질을 포함하는 공기를 유입시키기 위하여 집진 후드(2)는 충분히 높은 압력을 가져야 한다.Referring to the well-known scrubber structure shown in (b) of FIG. 1B, when air having a predetermined level of pressure is injected from the air nozzle 1 to the substrate G, the airflow along the direction indicated by the arrow A is Can be formed. Due to the pressure of air dispersed from the spray nozzle 1, particles or foreign substances present on the substrate G may be separated, and airflow and foreign substances flow along the surface of the substrate. In addition, air and foreign matter may flow into the dust collecting hood 2 in the direction indicated by the arrow B by the dust collecting hood 2 sucking the airflow including the foreign matter. On the other hand, the airflow containing the foreign matter flows along the surface and the dust collecting hood 2 must have a sufficiently high pressure to introduce the air containing the foreign matter into the dust collecting hood 2.

도 1b의 (가)를 참조하면, 본 발명에 따른 세정기 구조에서 기류는 공기 나이프(11)의 둘레 면을 따라 흐르게 되므로 기류 자체가 기판(G)으로부터 집진 후드(12)로 흐르게 된다. 그러므로 집진 후드(12)는 기류의 흐름을 유도할 수 있을 정도의 압력만을 가지는 것으로 충분하다. Referring to (a) of FIG. 1B, in the cleaner structure according to the present invention, the airflow flows along the circumferential surface of the air knife 11 so that the airflow itself flows from the substrate G to the dust collection hood 12. Therefore, it is sufficient that the dust collection hood 12 has only a pressure enough to induce the flow of airflow.

도 1b의 (가)에 도시된 본 발명에 따른 세정기 구조와 도 1b의 (나)에 도시된 공지된 세정기 구조의 차이를 대비하면 아래와 같다.In contrast to the difference between the scrubber structure according to the present invention shown in (a) of Figure 1b and the known scrubber structure shown in (b) of Figure 1b is as follows.

가. 본 발명에 따른 세정기 구조 end. Scrubber structure according to the present invention

(i) 이격 거리가 크지 않은 작은 틈 사이로 고속의 공기가 흘러가면서 이로 인하여 형성된 진공을 이용하여 기판(G) 위의 이물질이 제거된다. (i) The high speed air flows between the small gaps of which the separation distance is not large, and the foreign matter on the substrate G is removed by using the vacuum formed thereby.

(ii) 공기의 분사 방향과 집진 방향이 일치하므로 집진 능력이 향상된다. (ii) Since the spray direction of the air coincides with the dust collecting direction, the dust collecting ability is improved.

(iii) 공기 나이프(11)가 기판(G)에 평행한 방향으로 설치되어 기판(G) 전체에 걸쳐 균일한 세정이 가능하다. (iii) The air knife 11 is provided in the direction parallel to the board | substrate G, and uniform washing | cleaning is possible over the board | substrate G whole.

(iv) 5 내지 15 ㎛ 이상의 직경을 가지는 이물질의 제거가 가능하다. (iv) It is possible to remove foreign substances having a diameter of 5 to 15 µm or more.

나. 공지 기술에 따른 세정기 구조 I. Scrubber structure according to the known art

(i) 공기가 이물질에 직접 분사되어 기판(G)의 이물질이 제거되는 구조를 가진다. (i) Air is injected directly into the foreign matter so that the foreign matter on the substrate G is removed.

(ii) 공기가 분사되는 경우 집진 후드(2)의 내부로 공기가 흘러 들어갈 수 있으므로 강한 집진력이 요구된다. (ii) When air is injected, strong dust collecting force is required because air can flow into the dust collecting hood 2.

(iii) 분사 노즐(1)의 구조 및 사용 조건에 따라 사각 지역(dead zone)이 발생할 수 있다.(iii) A dead zone may occur depending on the structure of the injection nozzle 1 and the conditions of use.

(iv) 20~30 ㎛ 이상의 직경을 가지는 이물질의 제거가 가능하다. (iv) It is possible to remove foreign substances having a diameter of 20 to 30 µm or more.

기판(G)의 상부 평면을 따르는 기류의 형성의 위하여 다양한 구조를 가지는 공기 나이프(11)가 만들어질 수 있다. Air knives 11 having various structures can be made for the formation of airflow along the upper plane of the substrate G.

도 1b의 (가)를 참조하면, 공기 나이프(11)는 속이 빈 몸체(112)와 몸체(112)와 내부를 소통시키는 공기 갭(111)으로 이루어질 수 있다. 링 기류 장치(ring blower)와 같은 기류 장치에 의하여 일정 압력의 공기가 공기 나이프(11)의 내부로 유입되며 공기는 다시 공기 갭(111)을 통하여 공기 나이프(11)의 외부로 배출되어 도 1b의 (가)의 위쪽에 도시된 것과 같은 기류를 발생시키게 된다. 공기 나이프(11)는 다각형의 단면적을 가지면서 일정 길이만큼 연장된 막대 형상이 될 수 일고 일정 길이는 기판(G)의 폭에 의하여 결정될 수 있다. 다각형의 단면적은 예를 들어 오각형, 육각형 또는 한쪽 면이 곡면 형상을 가지는 다각형이 될 수 있지만 이에 제한되지 않는다. 공기 갭(111)의 크기는 예를 들어 0.01 내지 1.0 ㎜가 될 수 있고 바람직하게 0.03 내지 0.1 ㎜가 될 수 있지만 이에 제한되지 않고 기류 장치의 공기압의 크기 또는 공기 나이프(11)의 길이에 따라 적절하게 조절될 수 있다. Referring to (a) of Figure 1, the air knife 11 may be composed of a hollow body 112 and the air gap 111 to communicate the interior and the body 112. Air of a certain pressure is introduced into the air knife 11 by an air flow device such as a ring blower, and the air is discharged to the outside of the air knife 11 through the air gap 111 again and FIG. 1B. This creates an airflow as shown above (a). The air knife 11 may have a polygonal cross-sectional area and may have a rod shape extending by a predetermined length, and the predetermined length may be determined by the width of the substrate G. The cross-sectional area of the polygon may be, for example, but not limited to, a pentagon, a hexagon, or a polygon having a curved surface on one side. The size of the air gap 111 may be, for example, 0.01 to 1.0 mm and preferably 0.03 to 0.1 mm, but is not limited thereto, and is appropriate depending on the size of the air pressure of the airflow device or the length of the air knife 11. Can be adjusted.

본 발명에 따른 건조 세정기 구조에서 기류의 흐름이 기판으로부터 일정 각도를 이루면서 형성이 되므로 집진 후드는 기류에 포함되어 있는 이물질을 포집할 수 있는 적절한 구조를 가지는 것이 유리하다. In the dry scrubber structure according to the present invention, since the flow of air flow is formed at a predetermined angle from the substrate, it is advantageous that the dust collecting hood has an appropriate structure capable of collecting foreign matter contained in the air flow.

아래에서 본 발명에 따른 건조 세정기 구조에 적용될 수 있는 집진 후드에 대하여 설명한다. Hereinafter, a dust collecting hood that can be applied to a dry cleaner structure according to the present invention will be described.

도 2는 본 발명에 따른 건조 세정기 구조에 적용될 수 있는 집진 후드의 실시 예를 도시한 것이다.2 illustrates an embodiment of a dust collecting hood that can be applied to a dry cleaner structure according to the present invention.

도 2의 (가)를 참조하면, 공기 나이프(11)의 공기 갭(111)을 통하여 배출되는 공기는 속도가 빠른 제1 기류(F1)를 형성하게 되고 집진 후드(12)로 접근함에 따라 속도가 느린 제2 기류(F2)로 변화될 수 있다. 제2 기류(F2)는 기판 위에 축척된 이물질을 포함하고 집진 후드(12)의 제1 측벽(121a)을 통과하여 제2 측벽(121b)의 내부 면과 충돌하게 된다. 만약 집진 후드(12)의 바닥이 경사진 형태가 되면 기판으로부터 제거된 이물질은 다시 화살표(R1)로 표시된 방향을 따라 집진 후드(12)를 벗어날 수 있다. Referring to FIG. 2A, the air discharged through the air gap 111 of the air knife 11 forms the first air stream F1 having a high speed and approaches the dust collecting hood 12. Can be changed to the slow second air stream F2. The second airflow F2 includes foreign matter accumulated on the substrate and passes through the first sidewall 121a of the dust collecting hood 12 to collide with the inner surface of the second sidewall 121b. If the bottom of the dust collecting hood 12 is inclined, foreign matter removed from the substrate may again escape the dust collecting hood 12 along the direction indicated by the arrow R1.

도 2의 (나)를 참조하면, 집진 후드(12)의 측벽이 경사지도록 형성하여 제2 기류(F2)의 방향으로 형성될 수 있다. 집진 후드(12)의 한쪽 벽의 간격을 공기 나이프(11)의 끝단으로부터 예를 들어 100 내지 150 ㎜가 되는 것과 같이 적절하게 조절하는 것에 의하여 집진 능력이 개선될 수 있다. 제2 기류(F2)에 포함된 이물질은 후드 수집 천정(123)을 통하여 수집될 수 있다. Referring to FIG. 2B, the sidewalls of the dust collecting hood 12 may be inclined to be formed in the direction of the second air flow F2. The dust collecting capability can be improved by appropriately adjusting the distance of one wall of the dust collecting hood 12 to be, for example, 100 to 150 mm from the end of the air knife 11. The foreign matter included in the second airflow F2 may be collected through the hood collection ceiling 123.

도 2의 (다)를 참조하면, 집진 후드(12)의 바닥 면(122)은 수평 형상으로 되고 바닥 면(122)의 앞쪽에 돌출 벽(122a)이 형성될 수 있다. 돌출 벽(122a)은 제2 기류(F2)를 따라 이동되어 제2 측벽(121b)에 충돌하여 화살표 방향(R1)을 따라 낙하된 이물질이 집진 후드(12)를 벗어나는 것을 방지하는 기능을 가진다. 돌출 벽(122a) 높이는 예를 들어 제2 측벽(121b) 높이의 1/30 ~ 2/3과 같이 적절하게 결정될 수 있고 특별히 제한되지 않는다. 바닥 면(122)에 수집된 이물질은 이후 집진 후드(12)의 천정을 통하여 수집이 될 수 있다. Referring to (C) of FIG. 2, the bottom surface 122 of the dust collecting hood 12 may have a horizontal shape, and a protruding wall 122a may be formed in front of the bottom surface 122. The protruding wall 122a has a function of preventing foreign substances falling along the arrow direction R1 by moving along the second airflow F2 and colliding with the second sidewall 121b to leave the dust collecting hood 12. The height of the protruding wall 122a may be appropriately determined, for example, 1/30 to 2/3 of the height of the second sidewall 121b and is not particularly limited. The foreign matter collected on the bottom surface 122 may then be collected through the ceiling of the dust collection hood 12.

다양한 구조를 가지는 집진 후드(12)가 형성될 수 있고 본 발명은 제시된 실시 예에 제한되지 않는다. Dust collecting hood 12 having various structures can be formed and the present invention is not limited to the embodiments shown.

아래에서 본 발명에 따른 세정기 구조를 통하여 세정(cleaning)이 되는 실시 예를 설명한다. Hereinafter, an embodiment of cleaning through the cleaner structure according to the present invention will be described.

테이프, 아크릴 판 및 유리 기판을 대상으로 이물질을 유리가루 또는 밀가루를 사용하고 공기 나이프의 내부 압력은 5 kg/㎠으로 설정되고 공기 갭의 크기는 5/100 mm로 형성되었다. 배율이 ×60, ×215, ×220인 디노(Dino) 카메라 및 비전 카메라를 사용하여 세정 전후의 테이프 및 유리판의 상태가 관찰되었다. For the tape, acrylic plate and glass substrate, foreign matter was used as glass powder or flour, and the internal pressure of the air knife was set to 5 kg / cm 2 and the size of the air gap was 5/100 mm. The state of the tape and glass plate before and after cleaning was observed using a Dino camera and a vision camera having magnifications of × 60, × 215, and × 220.

세정 결과는 아래의 표와 같다. The cleaning results are shown in the table below.

Figure 112012037887202-pat00001
Figure 112012037887202-pat00001

* A 및 B는 이물질이 각각 유리가루 및 밀가루가 되는 것을, WT, G, YT 및 AC는 흰색 테이프, 유리, 노란색 테이프 및 아크릴 판을, D 및 V는 디노 카메라 및 비전 카메라를 각각 나타낸다. * A and B indicate that the foreign matter becomes glass powder and flour, WT, G, YT and AC respectively indicate white tape, glass, yellow tape and acrylic plate, and D and V indicate dino camera and vision camera, respectively.

* 5번째 시험 이후 세정 시험의 판정 기준으로 비전 카메라가 사용되었다. Vision camera was used as a criterion for the cleaning test after the fifth test.

*건조는 배치 소성로에서 120 ℃ 온도에서 이루어지고 이물질의 소량 및 다량은 두께로 판정되었다.Drying was carried out at 120 ° C. in a batch kiln and small and large amounts of foreign matter were determined by thickness.

세정 시험에 따른 결과가 도 3a 내지 도 3d로 제시되었다. The results according to the cleaning test are shown in FIGS. 3A-3D.

도 3a 내지 도 3d를 참조하면, 본 발명에 따른 건식 세정기의 경우 10~15 ㎛ 직경의 이물질 제거가 가능하고 일반 세정기에 비하여 50 % 이상 향상된 성능을 나타낸다는 것을 알 수 있다. 만약 10 ~ 15 ㎛ 이하의 이물질 제거가 요구되는 경우 초음파 형태의 건조 세정기가 사용될 수 있다. 3a to 3d, it can be seen that the dry scrubber according to the present invention can remove foreign substances having a diameter of 10 to 15 μm and exhibit an improved performance of 50% or more compared to the general scrubber. If the removal of foreign matter of 10 to 15 ㎛ or less may be used ultrasonic dry cleaner.

기판에 대한 정전기 측정이 이루었지만 정전기가 발생되지 않는 것으로 나타나고 투입되는 이물질의 양에 따라 잔존하는 양의 차이가 발생되었다. 이러한 현상은 미세 물질이 압력에 의하여 강한 표면 장력을 가지고 있는 것으로 보인다. 다른 한편으로 기판의 건조 여부에 따라 세정력의 차이가 발생되고 공기 나이프의 높이가 낮을수록 세정력이 향상되지만 기류의 흐름을 고려하여 기판으로부터 공기 나이프의 높이는 적어도 1.0 mm가 될 필요가 있다. Electrostatic measurements on the substrate were made, but no static electricity was generated, and the difference in the amount remaining was generated according to the amount of foreign matter introduced. This phenomenon appears to be that the fine material has a strong surface tension due to pressure. On the other hand, the difference in the cleaning power occurs depending on whether the substrate is dried, and the lower the height of the air knife, the better the cleaning power, but considering the flow of airflow, the height of the air knife from the substrate needs to be at least 1.0 mm.

본 발명에 따른 세정기는 일반적인 방법으로 10~15 ㎛ 이상의 입자의 크기가 되는 이물질의 제거가 가능하도록 하여 공지된 세정기에 비하여 50 % 이상의 향상된 성능이 나타나도록 한다는 이점을 가진다. 그리고 예를 들어 초음파가 적용되는 경우 10 ㎛ 미만의 직경을 가지는 입자의 제거가 가능하도록 한다는 장점을 가진다. 또한 본 발명에 따른 세정기는 집진 장치의 외부에 대한 기류의 흐름이 차단되어 높은 집진 능력이 요구되지 않는다는 장점을 가진다. 추가로 본 발명에 따른 세정기는 진공 형성에 의하여 이물질이 제거되므로 기판이 받는 충격을 감소시킬 수 있고 표면 전체에 걸쳐 균일한 이물질 제거 효과가 발생되도록 한다는 장점을 가진다. 아울러 본 발명에 따른 세정기는 표면 장력이 큰 미세 입자가 기판으로부터 쉽게 분리가 되도록 한다는 이점을 가진다. The scrubber according to the present invention has the advantage of enabling the removal of foreign matters having the size of particles of 10-15 µm or more in a general manner so that 50% or more of the scrubber can be improved in performance compared to known scrubbers. And, for example, when ultrasonic waves are applied, it is possible to remove particles having a diameter of less than 10 μm. In addition, the scrubber according to the present invention has the advantage that the flow of air to the outside of the dust collecting device is blocked so that a high dust collecting capacity is not required. In addition, the scrubber according to the present invention has the advantage that the foreign matter is removed by vacuum formation, thereby reducing the impact received by the substrate and generating a uniform foreign material removal effect over the entire surface. In addition, the cleaner according to the present invention has the advantage that the fine particles having a large surface tension can be easily separated from the substrate.

위에서 본 발명의 제시된 실시 예를 참조하여 상세하게 설명이 되었지만 이 분야에서 통상의 지식을 가진 자는 제시된 실시 예를 참조하여 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위에서 다양한 변형 및 수정 발명을 만들 수 있을 것이다. 본 발명은 이와 같은 변형 및 수정 발명에 의하여 제한되지 않으며 다만 아래에 첨부된 청구범위에 의하여 제한된다. Although described in detail above with reference to the embodiments of the present invention, those skilled in the art will be able to make various modifications and modifications to the invention without departing from the spirit of the present invention with reference to the embodiments presented. . The invention is not limited by these variations and modifications, but is limited only by the claims appended hereto.

10: 세정기 구조
11, 11a, 11b: 공기 나이프 12, 12a, 12b: 집진 후드
13a, 13b: 이오나이저
111: 공기 갭
121a: 제1 측벽 121b: 제2 측벽
122: 바닥 면 122a: 돌출 벽
G: 기판 F: 프레임
H1, H2: 하우징
10: scrubber structure
11, 11a, 11b: air knife 12, 12a, 12b: dust collecting hood
13a, 13b: ionizer
111: air gap
121a: first sidewall 121b: second sidewall
122: bottom surface 122a: protrusion wall
G: Substrate F: Frame
H1, H2: Housing

Claims (3)

기판(G) 위에 일정 간격만큼 이격되어 설치되어 공기의 흐름을 유도할 수 있는 공기 나이프(11);
기판(G)의 위쪽에 설치되어 공기 나이프(11)에 의하여 유도된 공기가 수집되는 집진 후드(12); 및
공기 나이프(11)에 형성된 공기 갭(111)을 포함하고,
상기 공기 갭(111)을 통하여 배출되는 공기는 공기 나이프(11)의 표면을 따라 흘러 집진 후드(12)로 유도되는 기류를 형성하면서 기판(G)과 공기 나이프(11) 사이에 진공 상태가 형성되고, 상기 기류의 흐름에 수직이 되는 방향을 기준으로 기판(G)과 공기 나이프(11) 사이의 제1 간격(D1)은 집진 후드(12) 사이의 마주보는 제2 간격(D2)에 비하여 작고, 그리고 집진 후드(12)는 기류가 통과하는 제1 측벽(121a), 기류과 충돌하는 제2 측벽(121b) 및 바닥 면(122)으로 이루어지면서 바닥 면(122)의 앞쪽에 돌출 벽(122a)이 형성된 것을 특징으로 하는 공기 나이프 방식의 건식 세정기 구조.
An air knife 11 spaced apart from each other by a predetermined interval on the substrate G to induce a flow of air;
A dust collecting hood 12 installed above the substrate G to collect air guided by the air knife 11; And
An air gap 111 formed in the air knife 11,
The air discharged through the air gap 111 forms a stream of air flowing along the surface of the air knife 11 and guided to the dust collecting hood 12, and a vacuum is formed between the substrate G and the air knife 11. The first gap D1 between the substrate G and the air knife 11 is based on the direction perpendicular to the flow of the airflow, compared to the second gap D2 between the dust collection hoods 12. The small, and dust-collecting hood 12 consists of a first side wall 121a through which air flow passes, a second side wall 121b that collides with the air stream, and a bottom surface 122 and a protruding wall 122a in front of the bottom surface 122. Air cleaner type dry cleaner structure, characterized in that) is formed.
청구항 1에 있어서, 기판(G)의 대전을 방지하는 이오나이저(ionizer)를 더 포함하는 건식 세정기 구조.

The dry cleaner structure according to claim 1, further comprising an ionizer which prevents charging of the substrate (G).

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