KR101289794B1 - 블록 코폴리머를 이용한 선택적 표면처리 방법, 블랙매트릭스 및 그 제조방법, 그리고 노즐 플레이트 및 그제조방법 - Google Patents

블록 코폴리머를 이용한 선택적 표면처리 방법, 블랙매트릭스 및 그 제조방법, 그리고 노즐 플레이트 및 그제조방법 Download PDF

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Abstract

블록 코폴리머를 이용한 선택적 표면처리 방법, 블랙 매트릭스 및 그 제조방법, 그리고 노즐 플레이트 및 그 제조방법이 개시된다. 개시된 선택적 표면처리 방법은, 기판의 소정 표면에 친수성 폴리머 블록(hydrophilic polymer block)과 소수성 폴리머 블록(hydrophobic polymer block)으로 이루어진 블록 코폴리머층(block copolymer layer)을 형성하는 것을 특징으로 한다.

Description

블록 코폴리머를 이용한 선택적 표면처리 방법, 블랙 매트릭스 및 그 제조방법, 그리고 노즐 플레이트 및 그 제조방법{Selective surface treatment method using block copolymer, black matrix and method of manufacturing the same, and nozzle plate and method of manufacturing the same}
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 블랙 매트릭스를 도시한 단면도이다.
도 2 내지 도 5는 도 1에 도시된 본 발명의 실시예에 따른 블랙 매트릭스의 제조방법을 설명하기 위한 도면들이다.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 노즐 플레이트를 도시한 단면도이다.
도 7 내지 도 10은 도 6에 도시된 본 발명의 다른 실시예에 따른 노즐 플레이트의 제조방법을 설명하기 위한 도면들이다.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
110,210... 기판 120... 차광층
125,220... 블록 코폴리머층 125a,220a... 친잉크성 폴리머 블록
125b,220b... 발잉크성 폴리머 블록 150... 포토마스크
211...노즐 215... 친잉크성 코팅막
250... 스탬프(stamp)
본 발명은 블록 코폴리머(block copolymer)를 이용한 선택적 표면처리 방법에 관한 것이며, 그 구체적인 구현예로서 블랙 매트릭스 및 그 제조방법, 그리고 노즐 플레이트 및 그 제조방법에 관한 것이다.
액정 디스플레이(LCD)에는 액정층에 의하여 변조된 백색광을 통과시켜 원하는 색상의 화상을 형성하는 컬러 필터가 구비되어 있다. 상기 컬러 필터는 투명한 기판 상에 블랙 매트릭스를 형성하고, 상기 블랙 매트릭스에 의하여 구획된 픽셀들 각각에 소정 색상, 예를 들면 적색, 녹색 및 청색을 잉크를 채움으로써 제작된다. 여기서, 상기 블랙 매트릭스의 상면 및 측면이 모두 친잉크성(ink-philic)을 가지는 경우에는 픽셀들 내에 주입되는 잉크가 블랙 매트릭스의 상면을 넘쳐 흘러서 픽셀들 간에 잉크의 혼색이 발생할 염려가 있다. 한편, 상기 블랙 매트릭스의 상면 및 측면이 모두 발잉크성(ink-phobic)을 가지는 경우에는 픽셀 간의 잉크 혼색은 방지될 수 있으나, 블랙 매트릭스의 측면이 잉크에 대한 웨팅(wetting)이 부족하여 픽셀들 내에 잉크가 균일한 두께로 도포될 수 없게 된다.
따라서, 픽셀들 간 잉크의 혼색을 방지하는 동시에 픽셀들 내에 잉크를 균일한 두께로 형성하기 위해서는 블랙 매트릭스의 상면은 발잉크성을 가지며, 블랙매트릭스의 측면은 친잉크성을 가지는 것이 바람직하다. 이를 위한 표면 처리방법으로는 친잉크성 블랙 매트릭스의 상면에만 발잉크성 코팅막을 선택적으로 형성하는 방법이 있다. 그러나, 상기 발잉크성 코팅막이 너무 두껍게 형성되면 현 상(development)에 어려움이 있다. 그리고, 발잉크성 코팅막이 너무 얇게 형성되면 블랙 매트릭스의 상면과 발잉크성 코팅막 사이의 접착력이 약해 발잉크성 코팅막이 쉽게 벗겨질 염려가 있다. 이는 블랙 매트릭스와 발잉크성 코팅막이 서로 다른 성질을 가지는 물질로 이루어져 있기 때문이다. 따라서, 이를 극복하기 위해서는 친잉크성 블랙 매트릭스과의 접착력이 좋은 동시에 발잉크성을 가지는 물질이 요구된다.
잉크젯 헤드는 잉크 액적들(ink droplets)을 노즐 플레이트의 노즐을 통하여 인쇄 매체 상의 원하는 위치에 토출시켜서 소정 색상의 화상을 인쇄하는 장치이다. 이러한 잉크젯 헤드에는 잉크 토출 방식에 따라 열원에 의하여 발생된 버블의 팽창력에 의해 잉크를 토출시키는 열구동 방식의 잉크젯 헤드와 압전체의 변형으로 잉크에 가해지는 압력에 의해 잉크를 토출시키는 압전 방식의 잉크젯 헤드가 있다.
잉크젯 헤드에 있어서, 노즐 플레이트의 표면 처리는 노즐을 통해 토출되는 잉크 액적의 직진성과 토출 속도 등의 잉크 토출 성능에 직접적인 영향을 미치게 된다. 즉, 잉크 토출 성능을 향상시키기 위해서는, 노즐의 내벽은 친잉크성을 가져야 하고, 노즐 외부의 노즐 플레이트 표면은 발잉크성을 가져야 한다. 구체적으로, 노즐의 내벽이 친잉크성을 가지게 되면, 잉크에 대한 접촉각(contact angle)이 작아져 모세관력(capillary force)이 증가하므로, 잉크의 리필(refill) 시간이 단축되며, 이에 따라 토출 주파수가 증대될 수 있다. 그리고, 노즐 외부의 노즐 플레이트 표면이 발잉크성을 가지게 되면, 노즐 플레이트 표면에서의 잉크 웨팅(ink-wetting)이 방지되어 토출되는 잉크의 직진성이 확보될 수 있다. 이를 위해서는 노 즐 플레이트 표면이 친잉크성을 가지며, 노즐 외부의 노즐 플레이트의 표면에만 발잉크성 코팅막이 선택적으로 형성될 수 있다. 여기서, 상기 발잉크성 코팅막은 잉크젯 헤드의 일련의 유지 과정(maintenance process)이 수행된 이후에도 잉크에 대한 접촉각을 일정하게 유지할 수 있어야 한다. 구체적으로, 상기 발잉크성 코팅막은 노즐 플레이트의 표면과의 접착력이 좋아야만 내구성(durability)이 증대될 수 있다. 이를 위해서는 노즐 플레이트의 친잉크성 표면과 접착력이 좋은 동시에 발잉크성을 가지는 물질이 요구된다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 블록 코폴리머를 이용하여 내구성이 향상된 코팅막을 선택적으로 형성하는 표면처리 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
상기한 목적을 달성하기 위하여,
본 발명의 구현예에 따르면,
기판의 표면을 선택적으로 처리하는 방법에 있어서,
상기 기판의 소정 표면에 친수성 폴리머 블록(hydrophilic polymer block)과 소수성 폴리머 블록(hydrophobic polymer block)으로 이루어진 블록 코폴리머층(block copolymer layer)을 형성하는 선택적 표면처리 방법이 개시된다.
상기 기판의 표면은 친수성을 가지고, 상기 블록 코폴리머층은 상기 기판의 소정 표면에 형성되는 친수성 폴리머 블록과 상기 친수성 폴리머 블록의 상면에 형 성되는 소수성 폴리머 블록으로 이루어질 수 있다.
한편, 상기 기판의 표면은 소수성을 가지고, 상기 블록 코폴리머층은 상기 기판의 소정 표면에 형성되는 소수성 폴리머 블록과 상기 소수성 폴리머 블록의 상면에 형성되는 친수성 폴리머 블록으로 이루어질 수도 있다.
본 발명의 다른 구현예에 따르면,
투명 기판 상에 형성되는 것으로, 친잉크성 물질로 이루어진 차광층; 및
상기 차광층의 상면에 형성되는 것으로, 친잉크성 폴리머 블록과 발잉크성 폴리머 블록으로 이루어진 블록 코폴리머층;을 구비하는 컬러 필터용 블랙 매트릭스가 개시된다.
여기서, 상기 블록 코폴리머층은 상기 차광층의 상면에 형성되는 친잉크성 폴리머 블록과 상기 친잉크성 폴리머 블록의 상면에 형성되는 발잉크성 폴리머 블록으로 이루어질 수 있다.
본 발명의 또 다른 구현예에 따르면,
투명 기판 상에 친잉크성 물질로 이루어진 차광층을 형성하는 단계;
상기 차광층의 상면에 친잉크성 폴리머 블록과 발잉크성 폴리머 블록으로 이루어진 블록 코폴리머층을 형성하는 단계; 및
상기 차광층 및 블록 코폴리머층을 패터닝하는 단계;를 포함하는 컬러 필터용 블랙 매트릭스의 제조방법이 개시된다.
상기 차광층이 감광성 물질로 이루어지는 경우, 상기 차광층 및 블록 코폴리머층은 상기 차광층을 소정 형태로 노광 현상함으로써 패터닝될 수 있다.
상기 차광층이 비감광성 물질로 이루어지는 경우, 상기 차광층 및 블록 코폴리머층을 패터닝하는 단계는, 상기 차광층의 상면에 포토레지스트를 도포하는 단계; 상기 포토레지스트를 소정 형태로 패터닝하는 단계; 및 상기 패터닝된 포토레지스트를 식각마스크로 하여 상기 블록 코폴리머층 및 차광층을 식각하는 단계;를 포함할 수 있다.
본 발명이 또 다른 구현예에 따르면,
노즐들이 형성된 기판;
상기 기판의 외부 표면 및 상기 노즐들의 내벽에 형성되는 친잉크성 코팅막; 및
상기 기판의 외부 표면에 형성된 친잉크성 코팅막의 상면에 형성되는 것으로, 친잉크성 폴리머 블록과 발잉크성 폴리머 블록으로 이루어진 블록 코폴리머층;을 구비하는 잉크젯 헤드용 노즐 플레이트가 개시된다.
상기 기판은 실리콘으로 이루어지고, 상기 친잉크성 코팅막은 산화된 실리콘(oxidized silicon)으로 이루어질 수 있다.
상기 블록 코폴리머층은 상기 친잉크성 코팅막의 상면에 형성되는 친잉크성 폴리머 블록과 상기 친잉크성 폴리머 블록의 상면에 형성되는 발잉크성 폴리머 블록으로 이루어질 수 있다.
본 발명의 또 다른 구현예에 따르면,
스탬프를 준비하는 단계;
상기 스탬프 상에 발잉크성 폴리머 블록과 친잉크성 폴리머 블록으로 이루어 진 블록 코폴리머층을 형성하는 단계;
노즐들이 형성되어 있으며, 외부 표면 및 상기 노즐들의 내벽에 친잉크성 코팅막이 형성된 기판을 준비하는 단계; 및
상기 스탬프 상에 형성된 블록 코폴리머층을 상기 기판의 외부 표면에 형성된 친잉크성 코팅막의 상면에 전사(transfer)시키는 단계;을 포함하는 잉크젯 헤드용 노즐 플레이트의 제조방법이 개시된다.
상기 스탬프는 발잉크성 물질로 이루어질 수 있다.
상기 블록 코폴리머층은 상기 스탬프의 상면에 형성되는 발잉크성 폴리머 블록과 상기 발잉크성 폴리머 블록의 상면에 형성되는 친잉크성 폴리머 블록으로 이루어질 수 있다. 그리고, 상기 전사된 블록 코폴리머층은 상기 기판의 외부 표면에 형성된 친잉크성 코팅막의 상면에 형성되는 친잉크성 폴리머 블록과 상기 친잉크성 폴리머 블록의 상면에 형성되는 발잉크성 폴리머 블록으로 이루어질 수 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 상세히 설명한다. 도면에서 동일한 참조부호는 동일한 구성요소를 지칭하여, 도면상에서 각 구성요소의 크기는 편의상 과장되어 있을 수 있다.
본 발명은 소정 구조물의 표면에 내구성이 있는 코팅막을 선택적으로 형성하기 위하여 블록 코폴리머(block copolymer)를 이용한다. 예를 들면, 본 발명에서는 친수성 기판의 표면에 내구성이 있는 소수성 코팅막을 선택적으로 형성하거나 소수성 기판의 표면에 내구성이 있는 친수성 코팅막을 선택적으로 형성하기 위해서 상기 기판의 소정 표면에 블록 코폴리머층을 형성한다.
일반적으로, 블록 코폴리머는 서로 다른 2종류의 폴리머들이 블록 형태로 교대로 결합되어 형성된 폴리머를 말한다. 여기서, 2종류의 폴리머 블록의 상대적 길이의 비가 비슷한 경우에 블록 코폴리머는 상기 2종류의 폴리머 블록가 교대로 적층된 라멜라 구조(lamellar structure)를 가지게 된다. 그리고, 상기와 같은 라멜라 구조의 블록 코폴리머의 두께를 조절하게 되면 2종류의 폴리머 블록이 각각 한 층으로만 형성된 라멜라 구조를 얻을 수 있다.
본 발명에서는 이와 같이 서로 다른 2종류의 폴리머 블록, 예를 들어 친수성을 가지는 모노머들이 중합되어 형성된 친수성 폴리머 블록(hyhrophilic polymer block)과 소수성을 가지는 모노머들이 중합되어 형성된 소수성 폴리머 블록(hydrophobic polymer block)이 각각 한 층으로 형성된 블록 코폴리머를 이용하여 기판의 표면을 선택적으로 처리하게 된다. 예를 들어, 친수성 기판의 소정 표면에 전술한 블록 코폴리머층을 형성하게 되면 내구성(durability)있는 소수성 코팅막을 얻을 수 있다. 여기서, 상기 블록 코폴리머는 친수성 기판의 표면에 형성되는 친수성 폴리머 블록과 상기 친수성 폴리머 블록의 표면에 형성되는 소수성 폴리머 블록으로 이루어진다. 상기 친수성 기판과 친수성 폴리머 블록은 모두 친수성을 가지는 물질로 이루어져 있으므로, 친수성 기판과 친수성 폴리머 블록 사이의 접착력은 크게 되고, 그 결과 상기 친수성 폴리머 블록이 친수성 기판의 표면에 견고하게 부착된다. 따라서, 외부로 노출된 상기 소수성 폴리머 블록은 내구성이 있는 소수성 코팅막을 형성하게 된다. 이상에서는 기판이 친수성을 가지는 경우에 대하여 설명되었으나, 상기 기판이 소수성을 가지는 경우도 얼마든지 적용가능하다. 이 경 우, 기판 상에 형성되는 블록 코폴리머층은 소수성 기판의 표면에 형성되는 소수성 폴리머 블록과 상기 소수성 폴리머 블록의 표면에 형성되는 친수성 폴리머 블록으로 이루어진다.
이하에서는, 전술한 블록 코폴리머를 이용한 본 발명의 구체적인 구현예들을 설명하기로 한다. 도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 컬러 필터용 블랙 매트릭스를 도시한 단면도이다.
도 1을 참조하면, 투명 기판(110) 상에 본 발명의 실시예에 따른 블랙 매트릭스가 형성되어 있다. 이러한 블랙 매트릭스에 의하여 투명 기판(110) 상에 다수의 픽셀들(121)이 정의된다. 상기 투명 기판(110)은 친잉크성(ink-philic) 물질로 이루어질 수 있다. 상기 투명 기판(110)은 유리 기판이 될 수 있다. 그러나 이에 한정되는 것은 아니다. 일반적으로 사용되는 대부분의 잉크는 수용성(aqueous)이므로, 이 경우에 친잉크성은 친수성(hydrophilic)을 의미한다. 그러나, 잉크가 비수용성(non-aqueous)인 경우도 있을 수 있으며, 이 경우에는 친잉크성이 소수성을 의미할 수 있다.
상기 블랙 매트릭스는 상기 투명 기판(110)의 상면에 소정 형태로 형성되는 차광층(120) 및 상기 차광층(120)의 상면에 형성되는 블록 코폴리머층(block copolymer layer,125)을 포함한다. 상기 차광층(120)은 친잉크성의 검은색 물질로 이루어질 수 있다. 예를 들면, 상기 차광층(120)은 폴리이미드(polyimide) 등과 같은 폴리머 계열의 유기 수지로 이루어질 수 있다. 그러나 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 블록 코폴리머층(125)은 친잉크성을 가지는 모노머들이 중합되어 형성된 친수성 폴리머 블록(125a)과 발잉크성을 가지는 모노머들이 중합되어 형성된 소수성 폴리머 블록(125b)으로 이루어진다. 여기서, 상기 블록 코폴리머층(125)은 전술한 바와 같이 친잉크성 폴리머 블록(125a)과 발잉크성 폴리머 블록(125b)이 각각 한 층으로 형성된 라멜라 구조를 가진다. 이에 따라, 본 실시예에서 상기 블록 코폴리머층(125)은 상기 차광층(120)의 상면에 형성되는 친잉크성 폴리머 블록(125a)과 상기 친잉크성 폴리머 블록(125a)의 상면에 형성되는 발잉크성 폴리머 블록(125b)으로 이루어진다.
이와 같이, 친잉크성 차광층(120)의 상면에 친잉크성 폴리머 블록(125a)과 발잉크성 폴리머 블록(125b)으로 이루어진 블록 코폴리머층(125)을 형성하게 되면 서로 같은 성질(친잉크성)을 가지는 차광층(120)과 친잉크성 폴리머 블록(125a) 사이의 접착력이 크기 때문에 친잉크성 폴리머 블록(125a)이 차광층(120)의 상면에 견고하게 부착될 수 있다. 이에 따라, 외부에 노출되는 발잉크성 폴리머 블록(125b)이 내구성이 증대된 발잉크성 코팅막을 형성할 수 있다. 이와 같이, 블랙 매트릭스의 측면들은 친잉크성을 가지고, 블랙 매트릭스의 상면은 발잉크성을 가지게 되므로, 픽셀들(121) 간 잉크의 혼색이 방지되는 동시에 픽셀들(121) 내에 채워지는 잉크층이 균일한 두께로 형성할 수 있다.
이하에서는 도 2 내지 도 5를 참조하여 도 1에 도시된 본 발명의 실시예에 따른 컬러 필터용 블랙 매트릭스의 제조방법을 설명하기로 한다.
도 2를 참조하면, 먼저, 투명 기판(110)을 준비한다. 상기 투명 기판(110)은 친잉크성 물질로 이루어질 수 있다. 예를 들면, 상기 투명 기판(110)은 유리 기판이 될 수 있으나, 이에 한정되지는 않는다. 이어서, 상기 투명 기판(110) 상에 차광층(120)을 소정 두께로 형성한다. 상기 차광층(120)은 투명 기판(110) 상에 친잉크성의 검은색 물질을 예를 들면, 스핀 코팅(spin coating), 다이 코팅(die coating) 또는 딥 코팅(dip coating) 등과 같은 방법을 이용하여 소정 두께로 도포함으로써 형성될 수 있다. 여기서, 상기 차광층(120)은 폴리머 계열의 유기 수지로 이루어질 수 있다. 구체적으로, 상기 차광층(120)은 폴리이미드(polyimide) 또는 감광성 폴리이미드(photosensitive polyimide) 등으로 이루어 질 수 있다. 하지만, 이에 한정되지는 않는다.
도 3을 참조하면, 상기 차광층(120)의 상면에 블록 코폴리머층(125)을 형성한다. 상기 블록 코폴리머층(125)은 상기 차광층(120)의 상면에 친잉크성 폴리머 블록(125a)과 발잉크성 폴리머 블록(125b)으로 이루어진 블록 코폴리머를 예를 들면 스핀 코팅(spin coating) 방법에 의하여 소정 두께로 도포함으로써 형성될 수 있다. 여기서, 상기 블록 코폴리머층(125)은 라멜라 구조를 가지며, 상기 차광층(120)의 상면에 도포되는 블록 코폴리머층(125)의 두께를 조절하게 되면 친잉크성 폴리머 블록(125a)과 발잉크성 폴리머 블록(125b)이 각각 한 층으로 형성된 라멜라 구조의 블록 코폴리머층(125)을 얻을 수 있다. 이에 따라, 상기 블록 코폴리머층(125)은 상기 차광층(120)의 상면에 형성되는 친잉크성 폴리머 블록(125a)과 상기 친잉크성 폴리머 블록(125a)의 상면에 형성되는 발잉크성 폴리머 블록(125b)으로 이루어지게 된다.
이와 같이, 친잉크성 차광층(120)의 상면에 친잉크성 폴리머 블록(125a)과 발잉크성 폴리머 블록(125b)의 이루어진 블록 코폴리머층(125)을 형성하게 되면 서로 같은 성질(친잉크성)을 가지는 차광층(120)과 친잉크성 폴리머 블록(125a) 사이의 접착력이 크기 때문에 친잉크성 폴리머 블록(125a)이 차광층(120)의 상면에 견고하게 부착될 수 있다. 그리고, 블록 코폴리머층(125)의 발잉크성 폴리머 블록(125b)은 외부로 노출된다.
다음으로, 상기 차광층(120) 및 블록 코폴리머층(125)을 소정 형태로 패터닝하여 투명 기판(110) 상에 다수의 픽셀(121)을 정의하는 블랙 매트릭스를 형성한다. 상기 차광층(120) 및 블록 코폴리머층(125)의 패터닝은 다음과 같은 방법에 의하여 수행될 수 있다.
상기 차광층(120)이 감광성 물질, 예를 들면 감광성 폴리이미드로 이루어지는 경우에는 상기 차광층(120) 및 블록 코폴리머층(125)의 패터닝은 상기 차광층(120)을 포토리소그라피 공정에 의하여 소정 형태로 노광 현상함으로써 수행될 수 있다. 구체적으로, 도 4를 참조하면, 블록 코폴리머층(125)의 상부에 포토마스크(150)를 마련한 다음, 상기 포토마스크(150)을 통하여 자외선을 조사하게 되면 상기 차광층(120)이 소정 형태로 노광된다. 이어서, 차광층(120)의 노광된 부분을 현상에 의하여 제거하게 되면 블랙 매트릭스가 완성된다. 이 과정에서 현상에 의하여 제거되는 차광층(120)의 노광 부분 상부에 위치하는 블록 코폴리머층(125)도 리프트 오프(lift off)에 의하여 함께 제거될 수 있다. 이때, 블록 코폴리머층(125)의 친수성 폴리머 블록(125a)이 차광층(120)의 상면에 견고하게 부착되어 있기 때 문에 현상 공정이 수행된 후에도 블록 코폴리머층(125)이 차광층(125)으로부터 쉽게 벗겨지지 않게 된다. 이와 같은 공정을 통하여 완성된 블랙 매트릭스가 도 5에 도시되어 있다. 이렇게 완성된 블랙 매트릭스에 의하여 투명 기판(110) 상에 다수의 픽셀들(121)이 정의된다. 한편, 이상에서는 차광층(120)이 포지티브(positive) 감광성 물질로 이루이진 경우를 예로 들어 설명되었으나, 차광층(120)이 네가티브(negative) 감광성 물질로 이루어진 경우도 얼마든지 가능하다.
상기 차광층(120)이 비감광성 물질, 예를 들면 폴리이미드로 이루어지는 경우에는 상기 차광층(120) 및 블록 코폴리머층(125)의 패터닝은 다음과 같이 수행된다. 먼저 상기 블록 코폴리머층(125)의 상면에 포토레지스트(미도시)를 도포한 다음, 이를 포토리소그라피 공정에 의하여 소정 형태로 패터닝한다. 그리고, 패터닝된 포토레지스트를 식각마스크로 하여 투명 기판(110)이 노출될 때 까지 블록 코폴리머층(125) 및 차광층(120)을 순차적으로 식각한 다음, 포토레지스트를 제거하게 되면 도 5에 도시된 바와 같은 블랙 매트릭스가 완성된다.
이상의 실시예에서는 액정 디스플레이 분야에 주로 사용되는 컬러 필터용 블랙 매트릭스에 대하여 설명되었으나, 이외에도 본 발명은 예를 들면 유기 발광다이오드(OLED)의 뱅크(bank) 등에도 적용가능하다.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 잉크젯 헤드용 노즐 플레이트를 도시한 단면도이다.
도 6을 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 잉크젯 헤드용 노즐 플레이트는 노즐들(211)이 형성된 기판(210)과, 상기 기판(210)의 표면에 형성되는 친잉 크성 코팅막(215)과, 상기 친잉크성 코팅막(215)의 표면에 선택적으로 형성되는 블록 코폴리머층(220)을 포함한다.
상기 기판(210)에는 잉크의 토출이 이루어지는 노즐들(211)이 관통되어 형성되어 있다. 상기 기판(210)으로는 일반적으로 실리콘 기판이 사용될 수 있다. 하지만 이에 한정되는 것은 아니다. 그리고, 상기 기판(210)의 표면, 구체적으로, 노즐들(211)의 내벽 및 기판(210)의 외부 표면에는 친잉크성 코팅막(215)이 형성되어 있다. 이러한 친잉크성 코팅막(215)은 예를 들면, 산화된 실리콘(oxidized silicon)으로 이루어질 수 있다.
그리고, 상기 블록 코폴리머층(220)은 상기 기판(210)의 상면, 즉 노즐들(211)의 출구쪽에 위치하는 기판(210)의 외부 표면에 형성된 친잉크성 코팅막(215) 상에 형성되어 있다. 상기 블록 코폴리머층(220)은 친잉크성을 가지는 모노머들이 중합되어 형성된 친수성 폴리머 블록(220a)과 발잉크성을 가지는 모노머들이 중합되어 형성된 소수성 폴리머 블록(220b)으로 이루어진다. 여기서, 상기 블록 코폴리머층(220)은 친잉크성 폴리머 블록(220a)과 발잉크성 폴리머 블록(220b)이 각각 한 층으로 형성된 라멜라 구조를 가진다. 이에 따라, 본 실시예에서 상기 블록 코폴리머층(220)은 상기 친잉크성 코팅막(215)의 상면에 형성되는 친잉크성 폴리머 블록(220a)과 상기 친잉크성 폴리머 블록(220a)의 상면에 형성되는 발잉크성 폴리머 블록(220b)으로 이루어진다.
이와 같이, 기판(210)의 외부 표면에 형성된 친잉크성 코팅막(215)의 상면에 친잉크성 폴리머 블록(220a)과 발잉크성 폴리머 블록(220b)으로 이루어진 블록 코 폴리머층(220)을 형성하게 되면 서로 같은 성질(친잉크성)을 가지는 친잉크성 코팅막(215)과 친잉크성 폴리머 블록(220a) 사이의 접착력이 크기 때문에 친잉크성 폴리머 블록(220a)이 친잉크성 코팅막(215)의 상면에 견고하게 부착될 수 있다. 이에 따라, 외부로 노출되는 발잉크성 폴리머 블록(220b)은 내구성이 있는 발잉크성 코팅막을 형성하게 된다.
이와 같이, 노즐들(211)의 내벽은 친잉크성을 가지고, 노즐들(211) 외부의 노즐 플레이트 표면은 발잉크성을 가지게 되므로, 토출 주파수를 증대시킬 수 있는 동시에 토출되는 잉크 액적의 직진성을 확보할 수 있다. 또한, 상기 블록 코폴리머층(220)이 노즐 플레이트의 외부 표면에 견고하게 부착되어 있기 때문에 블록 코폴리머층(220)의 내구성이 향상될 수 있으며, 이에 따라 잉크젯 헤드의 일련의 유지 과정(maintenance process)이 수행하여도 상기 블록 코폴리머층(220)이 노즐 플레이트 표면으로부터 쉽게 벗겨지지 않게 된다.
이하에서는 도 7 내지 도 10을 참조하여 도 6에 도시된 본 발명의 실시예에 따른 잉크젯 헤드용 노즐 플레이트의 제조방법을 설명하기로 한다.
도 7을 참조하면, 먼저 스탬프(stamp,250)를 준비한다. 여기서, 상기 스탬프(250)는 발잉크성 물질로 이루어질 수 있다. 예를 들면, 상기 스탬프(250)는 PDMS(polydimethylsiloane)으로 이루어질 수 있다. 하지만 이에 한정되는 것은 아니다.
이어서, 도 8을 참조하면 상기 스탬프(250) 상에 블록 코폴리머층(220)을 형성한다. 구체적으로, 상기 블록 코폴리머층(220)은 상기 스탬프(250)의 상면에 발 잉크성 폴리머 블록(220b)과 친잉크성 폴리머 블록(220a)으로 이루어진 블록 코폴리머를 예를 들면 스핀 코팅(spin coating) 또는 딥 코팅(dip coating) 방법에 의하여 소정 두께로 도포함으로써 형성될 수 있다. 여기서, 상기 블록 코폴리머층(220)은 라멜라 구조를 가지며, 상기 스탬프(250)의 상면에 도포되는 블록 코폴리머층(220)의 두께를 조절하게 되면 발잉크성 폴리머 블록(220b)과 친잉크성 폴리머 블록(220a)이 각각 한 층으로 형성된 라멜라 구조의 블록 코폴리머층(220)을 얻을 수 있다. 이에 따라, 상기 블록 코폴리머층(220)은 상기 스탬프(250)의 상면에 형성되는 발잉크성 폴리머 블록(220b)과 상기 발잉크성 폴리머 블록(220b)의 상면에 형성되는 친잉크성 폴리머 블록(220a)으로 이루어지게 된다.
도 9을 참조하면, 친잉크성 코팅막(215)이 표면에 형성된 기판(210)을 준비한다. 상기 기판(210)으로는 예를 들면 실리콘 기판이 사용될 수 있다. 상기 기판(210)에는 잉크의 토출이 이루어지는 노즐들(211)이 형성되어 있다. 상기 친잉크성 코팅막(215)은 상기 기판(210)의 표면, 구체적으로 노즐들(211)의 내벽 및 기판(210)의 외부 표면에 형성되어 있다. 상기 친잉크성 코팅막(215)은 예를 들면, 산화된 실리콘(oxidized silicon)으로 이루어질 수 있다. 이러한 친잉크성 코팅막(215)은 실리콘으로 이루어진 기판(210)의 표면을 열산화시킴으로써 형성될 수 있다.
다음으로, 상기 스탬프(250) 상에 형성된 블록 코폴리머층(220)을 상기 기판(210)의 외부 표면에 형성된 친잉크성 코팅막(215)의 상면에 전사(transfer)시킨다. 구체적으로, 상기 스탬프(250) 상에 형성된 블록 코폴리머층(220)의 친잉크성 폴리머 블록(220a)을 상기 친잉크성 코팅막(215)의 상면에 접촉시킨 다음, 상기 스탬프(250)에 압력을 가하게 되면 상기 스탬프(250) 상에 형성된 블록 코폴리머층(220)은 상기 기판의(210) 외부 표면에 형성된 친잉크성 코팅막(215)의 상면에 전사된다. 이렇게 전사된 블록 코폴리머층(220)은 친잉크성 코팅막(215)의 상면에 형성되는 친잉크성 폴리머 블록(220a)과 상기 친잉크성 폴리머 블록(220a)의 상면에 형성되는 발잉크성 폴리머 블록(220b)으로 이루어진다. 이 과정에서, 블록 코폴리머층(220)의 친잉크성 폴리머 블록(220a)과 친잉크성 코팅막(215)은 서로 같은 성질을 가지기 때문에 상기 친잉크성 폴리머 블록(220a)은 친잉크성 코팅막(215)의 상면에 견고하게 부착될 수 있다.
마지막으로, 상기 스탬프(250)를 기판(210)으로부터 떼어내게 되면 도 10에 도시된 바와 같은 노즐 플레이트가 완성된다. 이와 같이, 블록 코폴리머층(220)의 친잉크성 폴리머 블록(220a)이 친잉크성 코팅막(215)의 상면에 견고하게 부착되고, 블록 코폴리머층(220)의 발잉크성 폴리머 블록(220b)은 외부로 노출되기 때문에 노즐(211) 출구쪽의 노즐 플레이트 표면에는 내구성이 있는 발잉크성 코팅막이 형성될 수 있다.
이상에서 본 발명에 따른 바람직한 실시예가 설명되었으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 분야에서 통상적 지식을 가진 자라면 이로부터 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위에 의해서 정해져야 할 것이다.
이상에서 살펴본 바와 같이 본 발명에 의하면 블록 코폴리머를 이용하여 소정 구조물의 표면에 내구성이 있는 코팅막을 선택적으로 형성할 수 있게 된다. 구체적으로, 친잉크성 폴리머 블록과 발잉크성 폴리머 블록으로 이루어진 라멜라 구조의 블록 코폴리머층을 이용하여 블랙 매트릭스의 상면이나 노즐 출구 쪽의 노즐 플레이트의 외부 표면에 내구성이 향상된 발잉크성 코팅막을 형성할 수 있다.

Claims (22)

  1. 기판의 표면을 선택적으로 처리하는 방법에 있어서,
    상기 기판의 소정 표면에 친수성 폴리머 블록(hydrophilic polymer block)과 소수성 폴리머 블록(hydrophobic polymer block)으로 이루어진 블록 코폴리머층(block copolymer layer)을 형성하는 것을 특징으로 하는 선택적 표면처리 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 기판의 표면은 친수성을 가지고, 상기 블록 코폴리머층은 상기 기판의 소정 표면에 형성되는 친수성 폴리머 블록과 상기 친수성 폴리머 블록의 상면에 형성되는 소수성 폴리머 블록으로 이루어진 것을 특징으로 하는 선택적 표면처리 방법.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 기판의 표면은 소수성을 가지고, 상기 블록 코폴리머층은 상기 기판의 소정 표면에 형성되는 소수성 폴리머 블록과 상기 소수성 폴리머 블록의 상면에 형성되는 친수성 폴리머 블록으로 이루어진 것을 특징으로 하는 선택적 표면처리 방법.
  4. 투명 기판 상에 형성되는 것으로, 친잉크성 물질로 이루어진 차광층; 및
    상기 차광층의 상면에 형성되는 것으로, 친잉크성 폴리머 블록과 발잉크성 폴리머 블록으로 이루어진 블록 코폴리머층;을 구비하는 것을 특징으로 하는 컬러 필터용 블랙 매트릭스.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 블록 코폴리머층은 상기 차광층의 상면에 형성되는 친잉크성 폴리머 블록과 상기 친잉크성 폴리머 블록의 상면에 형성되는 발잉크성 폴리머 블록으로 이루어진 것을 특징으로 하는 컬러 필터용 블랙 매트릭스.
  6. 제 4 항에 있어서,
    상기 투명 기판은 유리 기판인 것을 특징으로 하는 컬러 필터용 블랙 매트릭스.
  7. 투명 기판 상에 친잉크성 물질로 이루어진 차광층을 형성하는 단계;
    상기 차광층의 상면에 친잉크성 폴리머 블록과 발잉크성 폴리머 블록으로 이루어진 블록 코폴리머층을 형성하는 단계; 및
    상기 차광층 및 블록 코폴리머층을 패터닝하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 컬러 필터용 블랙 매트릭스의 제조방법.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 블록 코폴리머층은 상기 차광층의 상면에 형성되는 친잉크성 폴리머 블록과 상기 친잉크성 폴리머 블록의 상면에 형성되는 발잉크성 폴리머 블록으로 이루어진 것을 특징으로 하는 컬러 필터용 블랙 매트릭스의 제조방법.
  9. 제 7 항에 있어서,
    상기 블록 코폴리머층은 스핀 코팅(spin coating)에 의하여 형성되는 것을 특징으로 하는 컬러 필터용 블랙 매트릭스의 제조방법.
  10. 제 7 항에 있어서,
    상기 차광층이 감광성 물질로 이루어지는 경우, 상기 차광층 및 블록 코폴리머층은 상기 차광층을 소정 형태로 노광 현상함으로써 패터닝되는 것을 특징으로 하는 컬러 필터용 블랙 매트릭스의 제조방법.
  11. 제 7 항에 있어서,
    상기 차광층이 비감광성 물질로 이루어지는 경우, 상기 차광층 및 블록 코폴리머층을 패터닝하는 단계는,
    상기 차광층의 상면에 포토레지스트를 도포하는 단계;
    상기 포토레지스트를 소정 형태로 패터닝하는 단계; 및
    상기 패터닝된 포토레지스트를 식각마스크로 하여 상기 블록 코폴리머층 및 차광층을 식각하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 컬러 필터용 블랙 매트릭 스의 제조방법.
  12. 제 7 항에 있어서,
    상기 투명 기판은 유리 기판인 것을 특징으로 하는 컬러 필터용 블랙 매트릭스의 제조방법.
  13. 노즐들이 형성된 기판;
    상기 기판의 외부 표면 및 상기 노즐들의 내벽에 형성되는 친잉크성 코팅막; 및
    상기 기판의 외부 표면에 형성된 친잉크성 코팅막의 상면에 형성되는 것으로, 친잉크성 폴리머 블록과 발잉크성 폴리머 블록으로 이루어진 블록 코폴리머층;을 구비하는 것을 특징으로 하는 잉크젯 헤드용 노즐 플레이트.
  14. 제 13 항에 있어서,
    상기 기판은 실리콘으로 이루어지고, 상기 친잉크성 코팅막은 산화된 실리콘(oxidized silicon)으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 잉크젯 헤드용 노즐 플레이트.
  15. 제 13 항에 있어서,
    상기 블록 코폴리머층은 상기 친잉크성 코팅막의 상면에 형성되는 친잉크성 폴리머 블록과 상기 친잉크성 폴리머 블록의 상면에 형성되는 발잉크성 폴리머 블록으로 이루어진 것을 특징으로 하는 잉크젯 헤드용 노즐 플레이트.
  16. 스탬프를 준비하는 단계;
    상기 스탬프 상에 발잉크성 폴리머 블록과 친잉크성 폴리머 블록으로 이루어진 블록 코폴리머층을 형성하는 단계;
    노즐들이 형성되어 있으며, 외부 표면 및 상기 노즐들의 내벽에 친잉크성 코팅막이 형성된 기판을 준비하는 단계; 및
    상기 스탬프 상에 형성된 블록 코폴리머층을 상기 기판의 외부 표면에 형성된 친잉크성 코팅막의 상면에 전사(transfer)시키는 단계;을 포함하는 것을 특징으로 하는 잉크젯 헤드용 노즐 플레이트의 제조방법.
  17. 제 16 항에 있어서,
    상기 스탬프는 발잉크성 물질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 잉크젯 헤드용 노즐 플레이트의 제조방법.
  18. 제 17 항에 있어서,
    상기 스탬프는 PDMS(polydimethylsiloane)으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 잉크젯 헤드용 노즐 플레이트의 제조방법.
  19. 제 17 항에 있어서,
    상기 블록 코폴리머층은 딥 코팅(dip coating) 또는 스핀 코팅(spin coating)에 의하여 상기 스탬프 상에 형성되는 것을 특징으로 하는 잉크젯 헤드용 노즐 플레이트의 제조방법.
  20. 제 17 항에 있어서,
    상기 블록 코폴리머층은 상기 스탬프의 상면에 형성되는 발잉크성 폴리머 블록과 상기 발잉크성 폴리머 블록의 상면에 형성되는 친잉크성 폴리머 블록으로 이루어진 것을 특징으로 하는 잉크젯 헤드의 노즐 플레이트의 제조방법.
  21. 제 20 항에 있어서,
    상기 전사된 블록 코폴리머층은 상기 기판의 외부 표면에 형성된 친잉크성 코팅막의 상면에 형성되는 친잉크성 폴리머 블록과 상기 친잉크성 폴리머 블록의 상면에 형성되는 발잉크성 폴리머 블록으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 잉크젯 헤드의 노즐 플레이트의 제조방법.
  22. 제 21 항에 있어서,
    상기 블록 코폴리머층의 전사는 상기 스탬프 상에 형성된 블록 코폴리머층의 친잉크성 폴리머 블록을 상기 친잉크성 코팅막의 상면에 접촉시킨 다음, 상기 스탬프에 압력을 가함으로써 수행되는 것을 특징으로 하는 잉크젯 헤드의 노즐 플레이 트의 제조방법.
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Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8646179B2 (en) * 2010-08-20 2014-02-11 Xerox Corporation Method for applying nanocoatings with easy clean and self-clean capability on a printhead
KR101407926B1 (ko) * 2010-10-13 2014-06-17 주식회사 엘지화학 블랙매트릭스, 그 형성방법 및 이를 포함하는 컬러필터
KR20130029680A (ko) * 2011-09-15 2013-03-25 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치 및 그 제조방법
JP6255182B2 (ja) * 2013-07-24 2017-12-27 東京応化工業株式会社 下地剤、相分離構造を含む構造体の製造方法
WO2015153706A1 (en) 2014-04-04 2015-10-08 Corning Incorporated Treatment of glass surfaces for improved adhesion
CN104090419A (zh) * 2014-07-11 2014-10-08 京东方科技集团股份有限公司 一种彩色滤光片及其制备方法、显示装置
JP2017185705A (ja) * 2016-04-06 2017-10-12 東芝テック株式会社 インクジェットヘッド記録装置
US20230276685A9 (en) * 2016-08-26 2023-08-31 Najing Technology Corporation Limited Manufacturing method for light emitting device, light emitting device, and hybrid light emitting device
CN108919550A (zh) * 2018-07-18 2018-11-30 深圳市华星光电技术有限公司 彩膜基板及其制作方法、液晶面板
CN111403458B (zh) * 2020-03-27 2023-04-07 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 色转换层及其制造方法
CN111769141A (zh) * 2020-06-23 2020-10-13 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 彩色滤光片、彩色滤光片的制备方法及显示面板

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05124200A (ja) * 1991-11-06 1993-05-21 Fuji Xerox Co Ltd インクジエツトヘツドおよびその製造方法
JP2002187267A (ja) * 2000-12-22 2002-07-02 Hitachi Koki Co Ltd インクジェットプリンタ用ノズルプレート及びその製造方法
JP2002355957A (ja) * 2001-06-01 2002-12-10 Hitachi Koki Co Ltd インクジェットプリントヘッド
JP2006098760A (ja) * 2004-09-29 2006-04-13 Sharp Corp カラーフィルタ基板、液晶表示装置、カラーフィルタ基板の製造方法、及び、液晶表示装置の製造方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100395529B1 (ko) * 2001-10-30 2003-08-25 삼성전자주식회사 잉크젯 프린트 헤드 및 그 제조방법
JP2006341451A (ja) * 2005-06-08 2006-12-21 Fujifilm Holdings Corp ノズルプレートの製造方法、ノズルプレート、液体吐出ヘッド、及び画像形成装置。

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05124200A (ja) * 1991-11-06 1993-05-21 Fuji Xerox Co Ltd インクジエツトヘツドおよびその製造方法
JP2002187267A (ja) * 2000-12-22 2002-07-02 Hitachi Koki Co Ltd インクジェットプリンタ用ノズルプレート及びその製造方法
JP2002355957A (ja) * 2001-06-01 2002-12-10 Hitachi Koki Co Ltd インクジェットプリントヘッド
JP2006098760A (ja) * 2004-09-29 2006-04-13 Sharp Corp カラーフィルタ基板、液晶表示装置、カラーフィルタ基板の製造方法、及び、液晶表示装置の製造方法

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