KR101289050B1

KR101289050B1 - 진공챔버 정렬 장치

Info

Publication number: KR101289050B1
Application number: KR1020120117779A
Authority: KR
Inventors: 김지연
Original assignee: 유진디스컴 주식회사
Priority date: 2012-10-23
Filing date: 2012-10-23
Publication date: 2013-07-22

Abstract

본 발명은 진공챔버 정렬 장치에 관한 것으로, 특히 제1 챔버에 놓인 제1 기판과 제2 챔버에 놓인 제2 기판의 정밀한 접합을 위해 자석을 이용하여 제1 챔버를 잡고 X축, Y축 및 θ 방향으로 각각 움직여 정렬을 가능하게 하는 진공챔버 정렬 장치에 관한 것이다.

Description

진공챔버 정렬 장치{Alignment apparatus for vaccum chamber}

본 발명은 진공챔버 정렬 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 제1 챔버에 놓인 제1 기판과 제2 챔버에 놓인 제2 기판의 정밀한 접합을 위해 자석을 이용하여 제1 챔버를 잡고 X축, Y축 및 θ 방향으로 각각 움직여 정렬을 가능하게 하는 진공챔버 정렬 장치에 관한 것이다.

일반적으로 LCD(liquid crystal display), PDP(plasma display panel) 및 OLED(organic light emitting diode display)를 비롯한 다양한 디스플레이장치는 보통 복층 구조로 이루어져 있어서 제조시 진공 상태에서 기판을 서로 합착하는 공정을 거치게 된다.

예컨대, 디스플레이장치를 구성하는 유리기판들 간의 합착, 패널과 유리기판의 합착 및 복수의 TFT(Thin Film Transistor)가 매트릭스형으로 형성된 어레이 기판과 컬러필터 기판 간의 합착 등을 비롯하여 다양한 종류의 기판 합착 공정이 이루어진다.

또한, 최근에는 디스플레이장치에 좀더 다양한 기능을 부가하기 위해 LCD 모듈(이하 'LCM'이라 함)에 EGIP(Electric graphic input panel) 또는 터치 패널(touch pannel)이라고도 하는 디지타이저(digitizer)를 합착하기도 한다.

한편, 유기기판, 패널, LCD 모듈 및 터치 패널(혹은 터치 윈도우)과 같은 다양한 기판들을 서로 합착하는 장치는 한국공개특허 제2007-0113843호, 한국등록특허 제0994718호, 한국등록특허 제1073558호 및 한국등록특허 제0499571호 등에서 다양하게 제안되고 있다.

그러나, 이상과 같은 종래의 기술들은 비젼 얼라인 카메라를 이용하여 기판의 정렬 상태를 감시하는데, 기판이 상하에 방향에 서로 대향되게 배치된 상태에서는 이들을 동시에 촬영할 수 없어서, 제1 기판을 비젼 검사 및 정렬 후 공급하고, 후속으로 제2 기판을 비젼 검사 및 정렬 후 공급하여 기 정렬된 제1 기판과 제2 기판을 서로 합착하였다.

따라서, 제1 기판과 제2 기판이 서로 합착되기 직전의 상태 그대로 제1 기판과 제2 기판를 비젼 얼라인 카메라로 동시에 촬영함으로써 좀더 정확한 정렬 상태를 확인하고, 그와 같이 확인된 결과를 참조하여 보정한 후 바로 합착시킬 수 없었다.

또한, 제1 기판과 제2 기판을 합착시 어느 하나의 기판이라도 수평을 유지하지 못하면 제1 기판과 제2 기판의 접합면이 균일하지 못하는 등의 다양한 하자가 발생하고, 결국 디스플레이장치 전체의 신뢰성이 저하됨에도 불구하고 합착이 진행되는 도중 계속해서 수평을 유지시킬 수 있는 별도의 장치가 없었다.

본 발명은 전술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위해 제안된 것으로, 합착 직전에 합착될 모든 기판의 정렬 상태를 동시에 확인 후 정렬할 수 있으며, 또한 자석을 이용하여 제1 챔버를 잡고 X축, Y축 및 θ 방향으로 각각 움직여 정확한 정렬을 가능하게 하는 진공챔버 정렬 장치에 관한 것이다.

이를 위해, 본 발명에 따른 진공챔버 정렬 장치는 제1 챔버(100)에 놓인 제1 기판(LCM)과 제2 챔버(200)에 놓인 제2 기판(TSM)의 접합을 위해 상기 제1 챔버(100)를 정렬시키는 진공챔버 정렬 장치에 있어서, 워크 스테이지(S)의 하면에 고정된 지지 테이블(141)에 설치되며, 상기 워크 스테이지(S)의 상면에 놓인 상기 제1 챔버(100)의 X축 또는 Y축 방향 이동을 안내하는 챔버 가이드부(140)와; 상기 제1 챔버(100)가 작업 위치로 이동시에는 상기 제1 챔버(100)의 회동을 방지하고, 상기 정렬시에만 상기 제1 챔버(100)의 회동이 가능하도록 제한하는 회동 정렬 잠금부(150); 및 상기 제1 챔버(100)와의 연결에 사용되는 정렬용 전자석(161)을 포함하며, 상기 정렬용 전자석(161)을 통해 결합된 제1 챔버(100)를 X축, Y축 및 θ 방향으로 각각 이동시키는 UVW 스테이지 장치(160);를 포함하는 것을 특징으로 한다.

이때, 상기 회동 정렬 잠금부(150)는 상기 지지 테이블(141)의 하측으로 이격 설치된 정렬 디스크(151)와; 하단은 상기 정렬 디스크(151)의 중심부에 고정되고 상단은 상기 챔버 가이드부(140)를 관통하여 상기 제1 챔버(100)에 고정된 정렬용 회동축(152); 및 각각 상기 정렬용 회동축(152)의 외측에 배치되며 하단은 상기 정렬 디스크(151)의 상면에 놓이고 상단부는 상기 지지 테이블(141)에 고정되는 영전자 마그네틱 홀더(153)(electro-permanent magnetic holder);를 포함하는 것이 바람직하다.

또한, 상기 UVW 스테이지 장치(160)는 상기 정렬 디스크(151)의 하면에 결합 가능한 정렬용 전자석(161)을 포함하여, 상기 정렬용 전자석(161)이 상기 정렬 디스크(151)에 부착된 상태에서 상기 정렬 디스크(151)를 X축, Y축 및 θ 방향으로 각각 이동시키는 것이 바람직하다.

또한, 상기 제1 챔버(100)는 상기 워크 스테이지(S) 위에 설치되며 개방된 상부를 통해 제1 기판(LCM)이 수평하게 투입되고, 상기 제2 챔버(200)는 상기 제1 챔버(100)의 측부에 설치되며, 개방된 상부를 통해 상기 제2 기판(TSM)이 수평하게 투입되며, 상기 정렬장치(140, 150, 160)는 비젼 감시장치(400)를 통해 감시된 결과에 따라 상기 제1 챔버(100)를 움직여 상기 제1 기판(LCM)과 제2 기판(TSM)이 나란히 배치되도록 정렬시키는 것이 바람직하다.

또한, 상기 비젼 감시장치(400)는 상기 제1 챔버(100)에 놓인 제1 기판(LCM)과 상기 제2 챔버(200)에 놓인 제2 기판(TSM)의 정렬상태를 감시하도록, 상기 제1 기판(LCM)의 일측면 상하 2개의 모서리 및 합착시 상기 제1 기판(LCM)의 일측면 상하 2개의 모서리에 대향하는 상기 제2 기판(TSM)의 일측면 상하 2개의 모서리를 각각 측정하는 4개의 카메라(410-L, 410-T); 및 상기 카메라(410-L, 410-T)에서 촬상된 영상을 분석하여 상기 제1 기판(LCM)과 제2 기판(TSM)의 정렬 오차를 분석하는 영상 분석모듈;을 포함하는 것이 바람직하다.

또한, 상기 제1 챔버(100)는 상면에 상기 제1 기판(LCM)이 놓이며 상기 제1 기판(LCM)을 잡아주는 지그 어셈블리(122)가 설치되어 있는 지그 플레이트(121)와; 상면에 상기 지그 플레이트(121)가 놓이는 워크 플레이트(123)와; 상기 워크 플레이트(123)의 하부 중심측에 설치되며, 상기 워크 플레이트(123)를 상승시켜 상기 제1 기판(LCM)을 그 위에 놓인 제2 기판(TSM)에 밀착시키는 기판 승하강 실린더(131); 및 상기 워크 플레이트(123)의 하부 모서리에 각각 설치되며, 상기 워크 플레이트(123)의 상승시 수평을 조절하는 4개의 자동 조심 베어링(134);을 포함하는 것이 바람직하다.

이상과 같은 본 발명은 합착 직전에 제1 챔버에 놓인 제1 기판과 제2 챔버에 놓인 제2 기판의 정렬 상태를 동시에 확인 후 자석을 이용하여 제1 챔버를 잡고 X축, Y축 및 θ 방향으로 각각 움직여 정렬하므로 제1 기판과 제2 기판 간의 배치 오차 없이 정밀한 접합을 가능하게 한다.

도 1은 본 발명에 따른 진공챔버 정렬 장치를 나타낸 평면도이다.
도 2는 본 발명에 따른 진공챔버 정렬 장치의 제1 기판과 제2 기판의 배치 상태를 나타낸 사시도이다.
도 3a 내지 도 3d는 본 발명에 따른 진공챔버 정렬 장치의 제1 챔버를 나타낸 도이다.
도 4는 본 발명에 따른 진공챔버 정렬 장치의 비젼 감시장치를 나타낸 사시도이다.
도 5는 본 발명에 따른 진공챔버 정렬 장치의 비젼 감시장치를 통한 촬영 지점을 나타낸 도이다.
도 6은 본 발명에 따른 진공챔버 정렬 장치의 정렬장치를 나타낸 사시도이다.
도 7은 본 발명에 따른 진공챔버 정렬 장치의 정렬장치를 구성하는 부품을 나타낸 분해도이다.
도 8은 본 발명에 따른 진공챔버 정렬 장치의 UVW 스테이지 장치를 나타낸 사시도이다.
도 9는 본 발명에 따른 진공챔버 정렬 장치의 회동결합장치를 나타낸 사시도이다.
도 10a 및 도 10b는 본 발명에 따른 진공챔버 정렬 장치의 진공챔버 조립순서를 나타낸 도이다.
도 11은 본 발명에 따른 진공챔버 정렬 장치의 진공챔버 형성 상태를 나타낸 사시도이다.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 진공챔버 정렬 장치에 대해 상세히 설명한다.

단, 이하에서는 본 발명이 LCM(LCD Module) 위에 TSM(touch screen module, '터치 윈도우'라도고 함)을 합착하는데 적용되는 것을 예로 들어 설명한다.

그러나, 본 발명이 적용되는 '기판'은 LCM과 TSM은 물론, 유리기판, 다양한 디스플레이장치의 패널, 혹은 컬러필터 기판 역시 포함하는 것으로 정의한다.

도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 진공챔버 정렬 장치가 일 실시예로 적용되는 기판 합착 설비는 제1 기판(LCM)인 LCD 모듈과 제2 기판(TSM)인 터치 스크린 모듈이 워크 스테이지(S) 위에 놓여지고, 워크 스테이지(S)가 스텝핑 모터 등에 의해 회전됨에 따라 제1 기판(LCM)과 제2 기판(TSM)이 각 공정부로 순차 이동하는 과정에서 서로 합착되게 한다.

상기 각 공정부로는 로딩부(10), 플라즈마 크리닝부(20), 비젼 얼라인부(30), 챔버 클로즈 & 제1 진공부(40), 제2 진공부(50), 제3 진공 & 합착부(60), 챔버 오픈부(70) 및 언로딩부(80)를 포함한다. 다만, 이들 각부의 구성요소 및 순서는 다소 변경될 수 있다.

로딩부(10)는 워크 스테이지(S)에 설치된 제1 챔버(100)와 제2 챔버(200)에 각각 제1 기판(LCM)과 제2 기판(TSM)을 투입하는 공정부로, 보통은 작업자에 의해 수동으로 수행되나 별도의 자동 공급장치가 사용될 수도 있다.

플라즈마 크리닝부(20)는 이송된 제1 기판(LCM)과 제2 기판(TSM)의 접합면에 플라즈마를 분사하여 세정함으로써 제1 기판(LCM)과 제2 기판(TSM)의 합착이 잘 이루어지게 하고, 먼지 등 이물질을 제거하여 화면 품질이나 작동 성능 등을 향상시킨다.

비젼 얼라인부(30)는 제1 기판(LCM)과 제2 기판(TSM)의 합착이 이루어지기 직전에 각 기판의 정렬 상태를 확인하고, 정렬이 잘못된 경우에는 이를 바로잡는다. 이때, 제1 기판(LCM)과 제2 기판(TSM)이 나란히 배치된 그 상태에서 동시에 정렬 상태를 감시한다.

따라서, 정렬이 완료된 후 나란히 배치된 제1 기판(LCM)과 제2 기판(TSM) 중 제2 기판(TSM)을 회동시켜 제1 기판(LCM)과 제2 기판(TSM)의 합착이 이루어지므로 제1 기판(LCM)과 제2 기판(TSM)의 정렬 오차를 최대한 줄인 그 상태 그대로 합착이 이루어진다.

챔버 클로즈 & 제1 진공부(40)는 제1 챔버(100)를 회동시켜 제2 챔버(200) 위에 포개어지도록 조립함으로써 제1 챔버(100)와 제2 챔버(200)에 의해 둘러싸인 밀폐 공간을 갖는 챔버(이하, '진공챔버'라 함)를 형성한다. 또한, 진공챔버 내부가 진공 상태로 되도록 제1 흡입 공정을 시작한다.

다만, 도 1에서는 챔버 클로즈 & 제1 진공부(40)를 포함한 이후 공정에서 제1 챔버(100)와 제2 챔버(200)가 개방되어 있는 것으로 도시하였지만, 이는 본 발명의 내부 구성이 잘 보이도록 하기 위한 것으로 실제로는 도 11과 같이 제2 챔버(200)가 회동하여 닫힌 상태임을 주의한다.

제2 진공부(50)는 상기 제1 진공부(40)보다 진공 상태를 더욱 강하게 하거나 혹은 그 진공 상태를 일정 시간 유지한다. 진공 합착시 단계적으로 진공 흡입력을 높이거나 일정 시간 진공 상태를 유지하는 방식이 사용되기 때문이다.

다만, 후술할 제3 진공부(60)를 더 포함하여, 제1 진공부(50) 내지 제3 진공부(60)는 설계에 따라 하나로 단계로 통합되거나 혹은 3단계를 초과하여 더욱 세분화할 수도 있다.

제3 진공 & 합착부(60)는 제2 진공부(50)보다 진공 상태를 더욱 강하게 하거나 혹은 그 진공 상태를 일정 시간 유지하고, 그 상태에서 제1 기판(LCM)을 상측으로 밀어올려 제1 기판(LCM)과 제2 기판(TSM)의 합착이 이루어지게 한다.

챔버 오픈부(70)는 합착이 완료되면 진공챔버를 구성하는 제1 챔버(100)와 제2 챔버(200) 중 제2 챔버(200)를 다시 반대 방향으로 회동시켜 제1 챔버(100)와 제2 챔버(200)의 개방부가 각각 상측을 바라보도록 한다. 즉, 로딩부(10)와 같이 개방된 상태가 되게 한다.

언로딩부(80)는 이상과 같이 개방된 제1 챔버(100)와 제2 챔버(200) 중 어느 하나에 있는 합착된 제1 기판(LCM)과 제2 기판(TSM)(이하, '합착기판'이라 함)을 언로딩 장치(700)를 이용하여 언로딩한다.

합착기판은 제1 챔버(100)와 제2 챔버(200) 중 어디에 있어도 되지만 가급적 회동하는 제2 챔버(200) 대신 회동을 하지 않는 제1 챔버(100)에 있는 것이 안정적이다. 언로딩 장치(700)는 보통 흡착 척(chuck)이 사용된다.

한편, 이상과 같은 기판 합착을 위해 회전식 워크 스테이지(S), 제1 챔버(100), 제2 챔버(200), 플라즈마 세척장치(300), 비젼 감시장치(400), 본 발명의 정렬장치(도 6의 140, 150, 160 참조), 회동결합장치(500), 진공 설비부(도면부호 생략), 회동분리장치(600) 및 언로더(700)를 포함한다.

회전식 워크 스테이지(S) 위에 놓인 제1 챔버(100)와 제2 챔버(200)는 로딩부(10)를 시작으로 45°씩 시계 방향으로 회전하여 후속의 각 공정부로 이송된다. 본 발명은 일 실시예로서 전 공정을 8단계로 분류하였기 때문에 45°씩 회전한다. 전방에는 이러한 공정을 제어할 수 있는 조작 패널(P)이 있다.

그외 플라즈마 세척장치(300)는 플라즈마 크리닝부(20)에 배치되고, 비젼 감시장치(400)는 비젼 얼라인부(30)에 배치되고, 회동결합장치(500)는 챔버 클로즈 & 제1 진공부(40)에 배치되고, 진공 설비부는 제1 진공부(40) 내지 제3 진공부(60)에 걸쳐 배치되고, 회동분리장치(600)는 챔버 오픈부(70)에 배치되며, 언로더(700)는 언로딩부(80)에 배치된다.

좀더 구체적으로, 워크 스테이지(S)는 원판 형상으로 이루어져 있으며 보통은 베이스 프레임(B) 위에 설치된다. 또한, 그 하부에 연결된 스텝핑 모터(미도시) 등에 의해 일정 각도로 회전한다. 상술한 바와 같이 일 실시예로서 합착 공정이 8단계로 이루어진 경우에는 45°씩 회전한다.

이러한 워크 스테이지(S)의 회전속도, 회전 타이밍 및 회전 각도 등은 제어장치에 의해 제어되며, 이때 각 공정부에서 해당 공정이 종료되었음을 알리거나 설정된 시간이 경과하면 워크 스테이지(S)가 일정 각도씩 회전한다.

제1 챔버(100)는 워크 스테이지(S) 위에 설치되어 워크 스테이지(S)와 함께 회전한다. 제1 챔버(100)의 상면은 개방되어 있어서 그 개방된 상부를 통해 2개의 기판 중 제1 기판(LCM)이 수평하게 투입된다. 제1 기판(LCM)은 일 실시예로서 LCD 모듈, 즉 LCM이다.

또한, 제2 챔버(200)가 회동하여 그 위에 포개어지도록 결합되면 제2 챔버(200)와 함께 진공챔버를 형성하고, 진공챔버를 형성한 상태에서 제1 기판(LCM)을 상측으로 밀어올려 제2 기판(TSM)에 밀착시키고 이를 통해 합착되게 한다. 제2 기판(TSM)은 일 실시예로서 터치 스크린 모듈, 즉 TSM이다.

도 2에 도시된 바와 같이 제1 챔버(100)는 제2 챔버(200)의 측부에 나란히 배치된다. X/Y/θ 방향 정렬을 위해 제1 챔버(100)는 제2 챔버(200)와 연결되지 않고 독립적으로 설치된다. 제2 챔버(200)는 180°회동되어 그 옆에 배치된 제1 챔버(100) 위에 포개지도록 결합된다.

이러한 제1 챔버(100)는 몸체를 구성하는 제1 챔버 하우징(110)과, 상기 제1 챔버 하우징(110)에 투입된 제1 기판(LCM)을 지지하는 기판 지지부(120) 및 제1 기판(LCM)이 놓여있는 기판 지지부(120)를 상승시키도록 기판 지지부(120)의 하부에 설치된 기판 리프팅부(130)를 포함한다.

또한, 제1 챔버 하우징(110)의 하부에는 정렬을 위한 구성들의 일부로써 챔버 가이드부(140) 및 회동 정렬 잠금부(150)가 연결되어 있다. 챔버 가이드부(140)와 회동 정렬 잠금부(150)는 항상 제1 챔버(100)와 함께 이동한다.

이때, 제1 챔버 하우징(110)은 일 예로 사각 박스 형상으로 이루어져 있고 상면은 개방되어 있다. 측면에는 기판 리프팅부(130) 등을 작동시키는데 사용되는 작동 유압을 공급하는 공급 포트(111) 및 제1 챔버 하우징(110) 내부의 공기를 배출시켜 진공상태로 만드는데 사용되는 흡기구(112) 등이 설치되어 있다.

기판 지지부(120)는 도 3a와 같이 상면에 제1 기판(LCM)이 놓여 지지되며 아울러 제1 기판(LCM)을 잡아주는 지그 어셈블리(122)를 구비한 지그 플레이트(121) 및 상면에 상기 지그 플레이트(121)가 놓이는 워크 플레이트(123)를 포함한다.

지그 어셈블리(122)는 지지편(122a)과, 지그(122b) 및 상기 지그(122b)를 이동시키는 이동판(122c)을 포함한다. 따라서, 제1 기판(LCM)을 지지편(122a)에 맞닿도록 투입한 후 이동판(122c)을 접근시키면 지그(122b)가 제1 기판(LCM)의 일측면을 가압하여 제1 기판(LCM)이 흔들리지 않도록 고정한다.

도 3b와 같이 워크 플레이트(123)의 하부에는 기판 리프팅부(130)가 구비되어 있다. 기판 리프팅부(130)는 기판 승하강 실린더(131)와, 자동 조심 베어링(134) 및 스토퍼(stopper)(135)를 포함한다.

기판 승하강 실린더(131)는 워크 플레이트(123)를 상승시켜 제1 기판(LCM)을 그 위에 놓인 제2 기판(TSM)에 밀착시키는 것으로 워크 플레이트(123)의 하부 중심측에 설치된다. 이러한 기판 승하강 실린더(131)는 그 케이싱(132)의 일단부에 돌출된 유입구(132a)를 통해 공기압을 공급받는다.

유입구(132a)는 플렉서블 관(미도시)을 통해 상술한 공급 포트(111)에 연결된다. 따라서, 공급 포트(111)와, 플렉서블 관 및 유입구(132a)를 통해 고압 공기가 공급되면 기판 승하강 실린더(131)가 작동한다.

또한, 제1 챔버 하우징(110)의 바닥면에는 브릿지(bridge) 형상의 가이드 브라켓(133b)이 고정되어 있고, 기판 승하강 실린더(131)의 실린더 로드(133)는 가이드 브라켓(133b)의 조립공을 관통하여 상측으로 돌출된다. 실린더 로드(133)의 중심측에는 끼움돌기(133a)가 상측으로 돌출되어 있다.

따라서, 끼움돌기(133a)를 워크 플레이트(123)에 끼워 연결하면, 기판 승하강 실린더(131)의 작동시 실린더 로드(133)의 상단면에 지지되는 워크 플레이트(123)가 상승한다.

워크 플레이트(123)가 상승하면 그 위에 놓인 지그 플레이트(121)가 상승하고 결국 제1 기판(LCM)을 상승시킨다. 제1 기판(LCM)이 상승되면 제2 기판(TSM)과 밀착되면서 합착이 이루어진다.

특히, 본 발명은 기판 승하강 실린더(131)를 중심으로 워크 플레이트(123)의 4개의 모서리 부분을 각각 지지하는 자동 조심 베어링(134)이 설치되어 있다. 자동 조심 베어링(134)은 기판 승하강 실린더(131)에 의해 워크 플레이트(123)가 상승될 때 그 워크 플레이트(123)가 항시 수평을 유지하도록 보정한다.

즉, 도 3c와 같이 자동 조심 베어링(134)이 워크 플레이트(123)의 각 모서리 하부에 설치되어 워크 플레이트(123)를 지지하는데, 자동 조심 베어링(134)은 공지된 바와 같이 베어링 브라켓(134b)에 설치되고 중심측에는 회동 가능한 지지축(134a)이 있다. 지지축(134a)은 도 3d와 같이 가해지는 힘에 따라 자유롭게 세워지거나 누울 수 있다.

이상과 같은 구성에 의하면 4개의 자동 조심 베어링(134)이 계속해서 워크 플레이트(123)의 하면 각 모서리 부분을 탄성적으로 지지하고, 이때 자동 조심 베어링(134)의 지지축(134a)이 세워지거나 옆으로 누우면서 워크 플레이트(123)의 수평을 유지시킨다.

따라서, 기판 승하강 실린더(131)에 의해 상승중인 경우에도 자동 조심 베어링(134)이 워크 플레이트(123)의 수평이 계속 유지되도록 연속적으로 보정을 한다.제1 기판(LCM)의 상승시 수평이 계속 유지됨으로써 제2 기판(TSM)과의 합착 특성을 향상시킨다.

한편, 도 2로 다시 돌아가 제2 챔버(200)는 그 개방된 상부를 통해 2개의 기판 중 제2 기판(TSM)이 수평하게 투입된다. 제2 기판(TSM)은 일 예로서 TSM이다. 또한, 제1 챔버(100)의 측부에 나란히 설치되어 180°회동시 제1 챔버(100) 위에 포개어지도록 결합된다.

제2 챔버(200)가 회동하여 제1 챔버(100) 위에 결합되면 제1 챔버(100)와 함께 진공챔버를 형성한다. 따라서, 진공챔버를 형성한 상태에서 기판 승하강 실린더(131)로 제1 기판(LCM)을 상승시키면 제2 기판(TSM)에 밀착되며 합착이 이루어진다.

이를 위해 제2 챔버(200)는 몸체를 구성하는 제2 챔버 하우징(210)과, 상기 제2 챔버 하우징(210)에 투입된 제2 기판(TSM)을 지지하는 기판 지지부(220) 및 제2 챔버 하우징(210)의 회동을 안내하는 회동 지지부(230)를 포함한다.

제2 챔버 하우징(210)도 사각 박스 형상으로 이루어져 있고, 상단부 테두리 형상이 제1 챔버(100)와 동일하여 제2 챔버 하우징(210)이 회동하여 제1 챔버 하우징(110)과 결합하면 그 내부에 밀폐된 환경을 제공한다. 즉, 진공챔버를 형성한다.

또한, 제2 챔버 하우징(210)의 측면에는 그립(211)(grip)이 돌출되어 있다. 따라서, 워크 스테이지(S)가 회동하여 회동결합장치(500)가 설치된 장소로 제2 챔버(200)가 이동하면 회동결합장치(500)가 그립(211)을 잡고 회동시킬 수 있게 한다. 회동결합장치(500)는 이하에서 다시 상세히 설명한다.

제2 챔버(200)에 구비된 기판 지지부(220)도 제1 챔버(100)와 마찬가지로 지그 어셈블리(도면부호 생략)를 구비하여 제2 챔버 하우징(210) 내로 투입된 제2 기판(TSM)을 잡아준다.

다만, 본 발명에서는 제2 기판(TSM)이 고정된 상태에서 제1 기판(LCM)이 상승하며 합착되는 것으로 예를 들었으므로, 제2 챔버(200)는 제1 챔버(100)에 구비된 승하강 가능한 워크 플레이트(123) 및 기판 승하강 실린더(131)와 같은 기판 리프팅부(130)가 필요 없다.

그 대신 제2 챔버(200)를 180°회동시킬 수 있도록 회동 지지부(230)를 갖는다. 회동 지지부(230)는 워크 스테이지(S)에 고정된 지지 프레임(231)과, 제2 챔버 하우징(210)에 연결되는 고정 브라켓(232) 및 지지 프레임(231)에 설치되며 고정 브라켓(232)에 연결된 힌지부(233)를 포함한다. 따라서, 제2 챔버(200)가 회동시 그 회동을 안내한다.

플라즈마 세척장치(300)는 워크 스테이지(S)에 의해 이송되는 제1 기판(LCM)과 제2 기판(TSM)의 접합면에 각각 플라즈마를 분사하여 그 접합면을 세정하며, 도면에서는 일 예로 로딩부(10)를 기준으로 시계 방향으로 45°방향에 설치되어 있다.

이를 위해 플라즈마 세척장치(300)는 워크 스테이지(S)의 상측에 이격 설치되어 있고, 그 하측을 향해 플라즈마를 분사한다. 하측으로 분사된 플라즈마로 제1 기판(LCM)과 제2 기판(TSM)의 접합면을 세정한다.

제1 기판(LCM)과 제2 기판(TSM)의 접합면에 플라즈마를 분사하여 세정하면 제1 기판(LCM)과 제2 기판(TSM)의 합착이 잘 이루어지고, 접합면에 부착된 먼지 등 이물질을 제거하여 화면 품질이나 작동 성능 등을 보장한다.

비젼 감시장치(400)는 제1 챔버(100)에 놓인 제1 기판(LCM)과 제2 챔버(200)에 놓인 제2 기판(TSM)의 정렬상태를 동시에 촬영하고 감시한다. 비젼 감시장치(400)는 제2 챔버(200)를 회동시켜 합착이 이루어지기 직전의 정렬 상태를 감시하고, 나란히 배치된 제1 기판(LCM)과 제2 기판(TSM)의 정렬 상태를 동시에 검출하도록 구성되어 있다.

이때, 비젼 감시장치(400)는 제1 기판(LCM)과 제2 기판(TSM)의 모서리를 각각 촬영하여 제1 기판(LCM)과 제2 기판(TSM) 각각의 정렬 상태는 물론, 제1 기판(LCM)과 제2 기판(TSM) 사이의 상대적 정렬 상태 역시 동시에 검출하는 방식을 사용한다.

도 4에 도시된 바와 같이 비젼 감시장치(400)는 하측을 향하도록 설치된 4대의 카메라(410-L, 410-T)를 포함한다. 이중 2대의 카메라(410-L)는 제1 기판(LCM)을 촬영하는 제1 그룹 카메라(410-L)이고, 나머지 2대의 카메라(410-T)는 제2 기판(TSM)을 촬영하는 제2 그룹 카메라(410-T)이다.

제1 그룹 카메라(410-L)와 제2 그룹 카메라(410-T)는 서로 대향되도록 양측에 이격 설치되어 있다.

제1 그룹 카메라(410-L)는 제1 설치 프레임(420-L)에 연결되고, 제1 설치 프레임(420-L)은 제1 X-축 LM 가이드(430-L)에 의해 이동하며, 제1 X-축 LM 가이드(430-L)는 제1 Y-축 LM 가이드(440-L)에 의해 이동한다.

마찬가지로, 제2 그룹 카메라(410-T)는 제2 설치 프레임(420-T)에 연결되고, 제2 설치 프레임(420-T)은 제2 X-축 LM 가이드(430-T)에 의해 이동하며, 제2 X-축 LM 가이드(430-T)는 제2 Y-축 LM 가이드(440-T)에 의해 이동한다.

도 5에 도시된 바와 같이 제1 그룹 카메라(410-L)로는 제1 기판(LCM)의 일측면 상하 2개의 모서리를 각각 촬영하고, 제2 그룹 카메라(410-T)로는 제2 기판(TSM)의 일측면 상하 2개의 모서리를 각각 촬영한다. 즉, 제2 기판(TSM)이 제1 기판(LCM) 위에 포개어 적층시 상하 방향에 서로 대향하는 각 모서리를 동시에 촬영한다.

이와 같이 제1 그룹 카메라(410-L)와 제2 그룹 카메라(410-T)를 통해 촬영된 영상은 영상 분석 모듈로 제공된다. 영상 분석 모듈은 제1 기판(LCM)과 제2 기판(TSM)의 정렬 오차를 분석한다. 분석된 정렬 상태는 후술한 정렬장치(140, 150, 160)로 제공됨으로써 정렬장치(140, 150, 160)에서 제1 기판(LCM)을 정렬하는데 사용된다.

정렬장치(140, 150, 160)는 비젼 감시장치(400)를 통해 감시된 결과에 따라 제1 기판(LCM)이 놓인 제1 챔버(100)를 움직여 제1 기판(LCM)과 제2 기판(TSM)이 나란히 배치되도록 정렬한다.

도 6과 같이 정렬장치(140, 150, 160)는 제1 챔버(100)의 하부에 연결되어 항상 제1 챔버(100)와 함께 이동하는 챔버 가이드부(140) 및 회동 정렬 잠금부(150)를 포함한다. 또한, 비젼 감시장치(400)와 함께 비젼 얼라인부(30)에 고정 설치된 UVW 스테이지 장치(160)를 더 포함한다.

이때, 챔버 가이드부(140)는 워크 스테이지(S)의 하면에 고정되는 지지 테이블(141)과, 상기 지지 테이블(141)에 설치는 X-축 가이드(142) 및 상기 X-축 가이드(142) 위에 설치된 Y-축 가이드(143)를 포함한다.

지지 테이블(141)의 상단면에는 결합나사공(도 7의 141a 참조)에 있어서 워크 테이블(S)의 하면에 고정되고, 이때 X-축 가이드(142)와 Y-축 가이드(143)는 각각 가이드 레일(도 7의 142a, 143a 참조)를 따라 이동한다. 따라서, 제1 챔버(100)를 X-축 또는 Y-축으로 정렬시 그 이동을 안내한다.

제1 챔버(100)는 워크 스테이지(S)의 상면에 구비되고, 챔버 가이드부(140)는 워크 스테이지(S)의 하부에 구비되며, 상하 방향에 제1 챔버(100)와 챔버 가이드부(140)가 배치된 워크 스테이지(S)의 일측부에는 이들을 서로 연결시키기 위한 통로가 형성되어 있다.

따라서, 워크 스테이지(S)의 통로를 통해 제1 챔버(100)의 하측에 배치된 챔버 가이드부(140)가 제1 챔버(100)를 지지하도록 연결된다. 더욱 정확히는 통로를 관통하여 설치되는 정렬용 회동축(152)을 통해 서로 연결된다.

회동 정렬 잠금부(150)는 제1 챔버(100)가 워크 스테이지(S) 위에 놓여 이동시에는 제1 챔버(100)의 회동을 방지하고, 비젼 얼라인부(30)에서 제1 챔버(100)의 θ방향(수평면을 따라 회전하는 방향) 정렬을 수행할 때만 제1 챔버(100)가 회동될 수 있도록 제한한다.

제1 챔버(100)는 후술할 정렬용 회동축(152)에 연결되어 있어서 θ방향으로 회동할 수 있는데, 정렬 단계 전/후 워크 스테이지(S)에 의해 이동하는 중에 제1 챔버(100)가 θ방향으로 회동할 수 있게 잠금이 해제되면 정렬이 흐트러지고, 다른 작업도 수행할 수 없게 된다.

따라서, 워크 스테이지(S)가 회전하여 제1 챔버(100)가 비젼 얼라인부(30)에 위치한 상태에서만 회동 정렬 잠금부(150)가 잠금 동작을 해제함으로써 정렬장치(140, 150, 160)에 의해 θ방향 정렬을 수행할 수 있게 할 필요가 있다.

이를 위해 회동 정렬 잠금부(150)는 도 7의 (a) 내지 (c)에 도시된 바와 같이 정렬 디스크(151)와, 정렬용 회동축(152) 및 영전자 마그네틱 홀더(153)(electro-permanent magnetic holder)를 포함한다.

정렬 디스크(151)는 지지 테이블(141)의 하측으로 이격 설치된다. 이러한 정렬 디스크(151)의 중심에는 정렬용 회동축(152)을 결합 고정시키는 체결구(152b)가 구비되어 있다.

또한, 정렬 디스크(151)의 상면에는 정렬용 회동축(152)이 고정되는 체결구(152b)를 중심으로 그 외측에 영전자 마그네틱 홀더(153)가 선택적으로 부착 또는 탈착되는 금속 재질의 홀더 탈부착판(153a)이 고정되어 있다.

또한, 정렬 디스크(151)의 하면 전방에는 후술할 UVW 스테이지 장치(160)의 정렬용 전자석(161)이 선택적으로 부착 또는 탈착되는 금속 재질의 정렬용 탈부착판(153b)이 고정되어 있다.

이때 정렬용 회동축(152)은 그 하단부가 체결구(152b)에 결합됨으로써 정렬 디스크(151)의 중심에 고정되고 상단은 챔버 가이드부(140)를 관통하여 제1 챔버(100)에 고정된다.

도 7의 (a)와 같이 정렬용 회동축(152)의 상단부는 그 하부보다 직경이 큰 결합 헤드부(152a)를 구비하고, 결합 헤드부(152a)는 도 7의 (b)와 같은 지지판(154)에 고정되며, 지지판(154)은 도 6과 같이 제1 챔버(100)의 하면에 고정된다.

따라서, 정렬 디스크(151)를 회전시키면 정렬용 회동축(152)이 회전하고, 정렬용 회동축(152)이 제1 챔버(100)를 회전시켜 θ방향의 정렬이 이루어지게 한다.

한편, 복수개의 영전자 마그네틱 홀더(153)는 각각 정렬용 회동축(152)의 외측에 배치되며 하단부는 정렬 디스크(151)의 상면에 접촉하고 상단부는 지지 테이블(141)에 고정된다. 영전자 마그네틱은 공지된 바와 같이 전원이 공급되면 자력이 소멸되고 전원 공급이 중단되면 자력이 발생하는 자석의 일종이다.

이러한 구성에 의하면 워크 스테이지(S)가 움직이고 있을 때에는 전원 공급을 중단하여 삼각형의 꼭지점 방향에 배치된 각각의 영전자 마그네틱 홀더(153)가 자력을 발생시키고 그에 따라 홀더 탈부착판(153a)에 부착되게 한다.

따라서, 정렬 디스크(151)가 영전자 마그네틱 홀더(153)에 고정되고, 영전자 마그네틱 홀더(153)의 상부는 워크 스테이지(S)에 고정된 지지 테이블(141)에 고정됨으로써 정렬 디스크(151)의 회전을 불가능하게 한다.

반면, 워크 스테이지(S)가 제1 챔버(100)를 이송하여 정렬장치(140, 150, 160) 위에 멈춘 상태에서는 영전자 마그네틱 홀더(153)에 전원이 공급되어 영전자 마그네틱 홀더(153)의 자력이 없어지고 홀더 탈부착판(153a)과의 연결이 해제된다.

따라서, 정렬 디스크(151)가 정렬용 회동축(152)을 중심으로 회동 가능한 상태가 되므로, 정렬용 회동축(152)의 상단부에 연결된 제1 챔버(100) 역시 회동 가능한 상태가 되어 θ방향의 정렬이 가능한 상태가 된다.

또한, UVW 스테이지 장치(160)의 정렬용 전자석(161)은 자력이 발생하여 정렬 디스크(151)의 정렬용 탈부착판(153b)에 부착되고, UVW 스테이지 장치(160)는 정렬용 전자석(161)을 X, Y축 및 θ 방향으로 이동시키도록 구동한다.

따라서, UVW 스테이지 장치(160)에 의해 제1 챔버(100)가 X 및 Y축 방향은 물론 θ 방향으로도 정렬이 이루어진다.

UVW 스테이지 장치(160)는 정렬 디스크(151)의 하면에 부착되는 정렬용 전자석(161)을 포함하며, 정렬용 전자석(161)을 통해 정렬 디스크(151)를 붙잡아 X축, Y축 및 θ 방향으로 이동시킨다. 즉, 정렬 디스크(151)에 동기하여 정렬용 회동축(152)도 움직이거나 회동하고 그에 따라 제1 챔버(100)가 X축, Y축 및 θ 방향으로 각각 정렬되는 것이다.

도 6에 도시된 바와 같이 이러한 UVW 스테이지 장치(160)는 회동 정렬 잠금부(150)의 하부에 설치되며, 본 발명의 UVW 스테이지 장치(160)는 특별히 그 상단부에 정렬용 전자석(161)이 설치되어 있다.

정렬용 전자석(161)은 자석 홀더(161a)에 설치되고, 자석 홀더(161a)의 일측에 구비되어 있는 전원공급단자(161b)를 통해 전원을 공급받아 자력을 발생시킨다. 자석 홀더(161a)는 연결판(162) 위에 고정되고, 연결판(162)의 각 모서리 부분에는 조립공이 형성되어 있어서 그 하부에 설치된 구동부의 커넥터(164d)가 끼워진다.

도 8에 도시된 바와 같이 구동부는 서로 마주보는 방향에 이격 설치된 한 쌍의 X축 구동부(163-XL/XR)와, 상기 X축 구동부(163-XL/XR)에 수직하에 배치된 Y축 구동부(163-Y) 및 테이블의 모서리 부분에 각각 설치된 X-Y축 가이드(164) 및 상기 X-Y축 가이드(164)의 상단부에 고정된 커넥터(164d)를 포함한다.

X축 구동부(163-XL/XR)와 Y축 구동부(163-Y)는 각각 모터(M-X, M-Y)와, 상기 모터(M-X, M-Y)에 의해 회전하는 볼 스크류와, 상기 볼 스크류가 체결되는 볼 너트 및 상기 볼 너트와 X-Y축 가이드(164)를 서로 연결하는 동력전달 브라켓(165-X/Y)을 포함한다.

이때, X-Y축 가이드(164)는 Y축 레일(164a)과, 상기 Y축 레일(164a)에 결합된 연결 블럭(164b) 및 상기 연결 블럭(164b) 위에 설치된 X축 레일(164c)을 포함한다. 따라서, X축 방향으로 운동하거나, Y축 방향으로 운동하거나, 혹은 X축과 Y축으로 동시에 움직여 θ방향으로 회전한다.

이러한 구동부의 구성 자체는 이미 공지된 것으로, X축 구동부(163-XL/XR)를 작동시키면 X-Y축 가이드(164)가 X축 방향으로 이동하면서 그에 연결된 연결판(162)도 X축 방향으로 이동시킨다. 따라서, 연결판(162) 위의 정렬용 전자석(161)이 그에 부착된 정렬 디스크(151)를 X축 방향으로 이동시킴으로써 제1 챔버(100)를 X축 방향으로 정렬시킨다.

유사하게, Y축 구동부(163-Y)를 작동시키면 X-Y축 가이드(164)가 Y축 방향으로 이동하면서 연결판(162)도 X축 방향으로 이동시킨다. 따라서, 연결판(162)에 구비된 정렬용 전자석(161)이 정렬 디스크(151)를 Y축 방향으로 이동시킴으로써 제1 챔버(100)를 Y축 방향으로 정렬시킨다.

나아가, X축 구동부(163-XL/XR)와 Y축 구동부(163-Y)를 동시에 작동시키면 X-Y축 가이드(164)가 X축 방향과 Y축 방향으로 동시에 이동하면서 연결판(162)을 θ 방향으로 회전시킨다.

연결판(162)이 회전하면 정렬용 전자석(161)이 정렬 디스크(151)를 회전시키며, 잠금이 해제된 상태의 정렬 디스크(151)는 정렬용 회동축(152)을 중심으로 회동된다. 정렬용 회동축(152)이 회동하면 제1 챔버(100) 역시 회동하므로 제1 챔버(100)를 θ 방향으로 정렬시킨다.

이상과 같은 본 발명은 제1 챔버(100)를 X축 방향, Y축 방향 및 θ 방향으로 각각 움직여 정렬을 할 수 있으므로, 제1 챔버(100) 옆에 놓인 제2 챔버(200)와의 정렬을 정밀하게 수행하고, 그에 따라 서로 합착되는 제1 기판(LCM)과 제2 기판(TSM)의 정렬도 매우 정밀하게 수행한다.

정렬이 완료되면 영전자 마그네틱 홀더(153)에 공급되던 전원이 차단되면서 영전자 마그네틱 홀더(153)에 자력이 발생하고 그에 따라 회동 정렬 잠금부(150)가 정렬 디스크(151)를 고정한다.

반면, UVW 스테이지 장치(160)의 정렬용 전자석(161)은 전원공급이 차단되어 자력을 상실하므로 회동 정렬 잠금부(150)와의 결합이 해제된다. 따라서, 워크 스테이지(S)가 다시 회동할 수 있는 상태가 된다.

계속하여, 이상과 같이 잠금 해제 상태가 되면 워크 스테이지(S)가 회동하여 제1 챔버(100)와 제2 챔버(200)를 챔버 클로즈 & 제1 진공부(40)로 이송시킨다.

챔버 클로즈 & 제1 진공부(40)에는 제2 챔버(200)를 회동시켜 제1 챔버(100) 위에 포개지도록 함으로써 제1 챔버(100)와 제2 챔버(200)에 의해 둘러싸인 진공챔버가 조립되게 하는 회동결합장치(500)가 구비되어 있다.

또한, 회동결합장치(500) 이외에 상술한 제1 진공시 진공챔버 내부의 에어를 배출시켜 진공챔버 내부를 진공상태로 만든 상태에서 제1 기판(LCM)과 제2 기판(TSM)이 합착되게 하는 진공 설비부도 구비되어 있다.

도 9에 도시된 바와 같이 회동결합장치(500)는 일 예로 제2 챔버(200)의 일측에 돌출된 그립(211)을 잡는 바이스(510)(vise)와, 일단부는 바이스(510)에 고정되고 타단부는 모터축(530a)에 연결되어 회동하는 아암(520) 및 모터축(530a)을 작동시키는 구동모터(530)를 포함한다.

또한, 바이스(510) 등을 포함한 상기 구성들은 레일(540a)을 따라 이동하는 이동식 테이블(540)에 설치되어 그립(211)이 있는 제2 챔버(200)를 향해 이동하거나 멀어진다. 이동식 테이블(540)은 이동장치(550)에 의해 이동된다.

따라서, 도 10a 및 도 10b에 도시된 바와 같이 바이스(510)가 그립(211)의 상하부에 위치하도록 근접시킨 상태에서 바이스(510)로 그립(211)를 잡고, 구동모터(530)를 작동시켜 모터축(530a)이 아암(520)을 180°회동시키면 제2 챔버(200)의 개방된 상부가 제1 챔버(100)의 개방된 상부를 덮도록 서로 포개진다.

도 11에 도시된 바와 같이 제2 챔버(200)가 제1 챔버(100)의 위에 포개어져 서로 결합되면 그 내부에 밀폐 공간부를 갖는 진공챔버가 형성되며, 그 상태에서 제1 진공이 시작된다.

다음, 워크 스테이지(S)가 회전하여 진공챔버를 제2 진공부(50) 및 제3 진공 & 합착부(60)로 순차 이송하고, 각 부에서 제2 진공, 제3 진공 및 합착이 이루어지게 한다.

진공은 진공 설비부에 의해 이루어지고, 합착은 제1 챔버(100) 내부에 구비된 기판 승하강 실린더(131)로 제1 기판(LCM)이 놓인 워크 플레이트(123)를 상승시켜 제1 기판(LCM)이 제2 기판(TSM)에 밀착되면서 이루어진다.

다음, 제1 기판(LCM)과 제2 기판(TSM)의 합착이 완료되면 워크 스테이지(S)를 회전시켜 진공챔버를 챔버 오픈부(70)로 이송한다. 챔버 오픈부(70)에는 진공챔버로 조립된 상태의 제2 챔버(200)를 반대로 회동시켜 제1 챔버(100)로부터 분리되게 하는 회동분리장치(600)가 구비되어 있다.

회동분리장치(600)는 실질적으로 회동결합장치(500)와 동일한 구조로 이루어져 있고, 그 작동방향만 반대이다.

다음, 진공챔버가 오픈되어 다시 제1 챔버(100)와 제2 챔버(200)가 나란히 배치된 상태에서 제1 챔버(100)에 놓여있는 합착된 상태의 제1 기판(LCM)과 제2 기판(TSM)(즉, '합착기판')을 언로딩 장치(700)로 인출한다. 언로딩 장치(700)는 보통 흡착 척이 사용된다.

이상, 본 발명의 특정 실시예에 대하여 설명하였다. 그러나, 본 발명의 사상 및 범위는 이러한 특정 실시예에 한정되는 것이 아니라, 본 발명의 요지를 변경하지 않는 범위 내에서 다양하게 수정 및 변형이 가능하다는 것을 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이해할 것이다.

따라서, 이상에서 기술한 실시예들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이므로, 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 하며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.

S: 워크 스테이지 10: 로딩부
20: 플라자마 크리닝부 30: 비젼 얼라인부
40: 챔버 클로즈 & 제1 진공부 50: 제2 진공부
60: 제3 진공 & 합착부 70: 챔버 오픈부
80: 언로딩부 100: 제1 챔버
140, 150, 160: 정렬장치 140: 챔버 가이드부
150: 회동 정렬 잠금부 160: UVW 스테이지 장치
200: 제2 챔버 300: 플라즈마 세척장치
400: 비젼 감시장치 500: 회동결합장치
600: 회동분리장치 700: 언로더

Claims

제1 챔버(100)에 놓인 제1 기판(LCM)과 제2 챔버(200)에 놓인 제2 기판(TSM)의 접합을 위해 상기 제1 챔버(100)를 정렬시키는 진공챔버 정렬 장치에 있어서,
워크 스테이지(S)의 하면에 고정된 지지 테이블(141)에 설치되며, 상기 워크 스테이지(S)의 상면에 놓인 상기 제1 챔버(100)의 X축 또는 Y축 방향 이동을 안내하는 챔버 가이드부(140)와;
상기 제1 챔버(100)가 작업 위치로 이동시에는 상기 제1 챔버(100)의 회동을 방지하고, 상기 정렬시에만 상기 제1 챔버(100)의 회동이 가능하도록 제한하는 회동 정렬 잠금부(150); 및
상기 제1 챔버(100)와의 연결에 사용되는 정렬용 전자석(161)을 포함하며, 상기 정렬용 전자석(161)을 통해 결합된 제1 챔버(100)를 X축, Y축 및 θ 방향으로 각각 이동시키는 UVW 스테이지 장치(160)를 포함하며;
상기 회동 정렬 잠금부(150)는,
상기 지지 테이블(141)의 하측으로 이격 설치된 정렬 디스크(151)와;
하단은 상기 정렬 디스크(151)의 중심부에 고정되고 상단은 상기 챔버 가이드부(140)를 관통하여 상기 제1 챔버(100)에 고정된 정렬용 회동축(152); 및
각각 상기 정렬용 회동축(152)의 외측에 배치되며 하단은 상기 정렬 디스크(151)의 상면에 놓이고 상단부는 상기 지지 테이블(141)에 고정되는 영전자 마그네틱 홀더(153)(electro-permanent magnetic holder);를 포함하는 것을 특징으로 하는 진공챔버 정렬 장치.
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제1항에 있어서,
상기 UVW 스테이지 장치(160)는,
상기 정렬 디스크(151)의 하면에 결합 가능한 정렬용 전자석(161)을 포함하여, 상기 정렬용 전자석(161)이 상기 정렬 디스크(151)에 부착된 상태에서 상기 정렬 디스크(151)를 X축, Y축 및 θ 방향으로 각각 이동시키는 것을 특징으로 하는 진공챔버 정렬 장치.
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