KR101258621B1 - In-line type heat treatment apparatus - Google Patents

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Abstract

인라인 열처리 장치가 개시된다. 본 발명에 따른 인라인 열처리 장치는, 열팽창을 고려하여 상호 인접하는 가열로가 상호 간격을 가지고, 상호 인접하는 가열로 사이는 실링된다. 따라서, 수리가 필요한 어느 하나의 가열로의 양측면을 지그로 집어서, 분리해 낼 수 있으므로, 유지 보수가 간편한 효과가 있다. 그리고, 각 가열로의 상면 또는 후면을 개방할 수 있으므로, 더욱 유지 보수가 간편한 효과가 있다.An inline heat treatment apparatus is disclosed. In the in-line heat treatment apparatus according to the present invention, mutually adjacent heating furnaces have a mutual gap in consideration of thermal expansion, and are sealed between mutually adjacent heating furnaces. Therefore, since both sides of any one of the heating furnaces in need of repair can be picked up by a jig and separated, the maintenance is easy. And, since the upper surface or the rear surface of each heating furnace can be opened, there is an effect that is easier to maintain.

Figure R1020110058101
Figure R1020110058101

Description

인라인 열처리 장치 {IN-LINE TYPE HEAT TREATMENT APPARATUS}In-line Heat Treatment Equipment {IN-LINE TYPE HEAT TREATMENT APPARATUS}

본 발명은 연속적으로 배치된 복수의 가열로(Furnace)를 용이하게 유지 보수할 수 있는 인라인 열처리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an inline heat treatment apparatus capable of easily maintaining a plurality of furnaces arranged in series.

평판 표시 장치의 제조시 사용되는 어닐링 장치는 기판에 증착된 막의 특성을 향상시키기 위하여 증착된 막을 결정화 또는 상 변화시키는 열처리 장치이다.The annealing apparatus used in the manufacture of a flat panel display is a heat treatment apparatus that crystallizes or phase changes a deposited film to improve the properties of the film deposited on a substrate.

평판 표시 장치에 사용되는 반도체층인 박막 트랜지스터는 유리 또는 석영 등의 기판에 증착 장치를 이용하여 비정질(Amorphous) 실리콘을 증착시키고, 비정질 실리콘층을 탈수소 처리한 후, 채널을 형성하기 위한 비소(Arsenic), 인(Phosphorus) 또는 붕소(Boron) 등과 같은 도펀트를 주입한다. 그리고, 낮은 전자 이동도를 가지는 비정질 실리콘층을 높은 전자 이동도를 가지는 결정질 구조의 다결정 실리콘층으로 결정화하기 위한 결정화 공정을 실시한다.A thin film transistor, which is a semiconductor layer used in a flat panel display device, deposits amorphous silicon on a substrate such as glass or quartz using a deposition apparatus, dehydrogenates the amorphous silicon layer, and then forms arsenic for forming a channel. ), Dopants such as phosphorus (Phosphorus) or boron (Boron). Then, a crystallization process is performed to crystallize the amorphous silicon layer having a low electron mobility into a polycrystalline silicon layer having a crystalline structure having a high electron mobility.

비정질 실리콘층을 다결정 실리콘층으로 결정화하기 위해서는 비정질 실리콘층에 열이라는 에너지를 가해야 하는 공통적인 특징이 있다.In order to crystallize an amorphous silicon layer into a polycrystalline silicon layer, there is a common feature that an energy of heat must be applied to the amorphous silicon layer.

비정질 실리콘층에 열을 가하는 일반적인 방법은 가열로(Furnace)의 내부에 기판을 투입하고, 가열로의 내부에 설치된 히터 등과 같은 가열 수단으로 비정질 실리콘층에 열을 가한다.A general method of applying heat to the amorphous silicon layer is to put a substrate in the furnace (Furnace), and heat the amorphous silicon layer by a heating means such as a heater installed in the furnace.

종래의 열처리 장치는 한 개의 가열로를 이용하여 기판을 가열 및 냉각하는 열처리 공정을 수행하였다. 그러나, 한 개의 가열로를 이용한 종래의 열처리 장치는 기판을 제품으로 제조하는데 많은 시간이 소요되어 생산성이 저하되는 단점이 있었다.The conventional heat treatment apparatus performs a heat treatment process for heating and cooling a substrate using one heating furnace. However, the conventional heat treatment apparatus using a single heating furnace has a disadvantage in that the productivity takes a long time to manufacture the substrate as a product.

상기와 같은 단점을 해소하기 위하여 복수의 가열로를 연속적으로 배치하고, 기판을 각각의 상기 가열로에 순차적으로 이송시켜 기판을 열처리하는 인라인 열처리 장치가 개발되어 사용되고 있다.In order to solve the above disadvantages, in-line heat treatment apparatuses for continuously arranging a plurality of heating furnaces and transferring the substrates sequentially to the respective heating furnaces to heat-treat the substrates have been developed and used.

종래의 인라인 열처리 장치는 상호 인접하는 가열로의 측면이 거의 접촉된 형태로 배치되어 있다. 이로 인해, 기판의 열처리를 위하여 각 가열로의 온도를 상승시키면, 각 가열로가 팽창되어 상호 인접하는 가열로는 상호 밀착된다. 그러면, 복수의 가열로 중, 어느 하나의 가열로만을 분리하기가 대단히 어렵다. 따라서, 어느 하나의 가열로를 수리하고자 할 경우, 주위의 다른 가열로를 조금씩 외측으로 이동시켜야 하므로, 유지 보수가 불편한 단점이 있었다.The conventional in-line heat treatment apparatus is arrange | positioned in the form which the side surface of the adjacent furnace mutually contacted. For this reason, when the temperature of each heating furnace is raised for the heat treatment of a board | substrate, each heating furnace will expand and abutting mutually adjacent heating furnaces. Then, it is very difficult to separate only one of the plurality of heating furnaces. Therefore, when one of the heating furnace is to be repaired, since the other heating furnaces must be moved outward little by little, there is a disadvantage in that maintenance is inconvenient.

본 발명은 상기와 같은 종래기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 유지 보수가 편리한 인라인 열처리 장치를 제공함에 있다.The present invention has been made to solve the problems of the prior art as described above, the object of the present invention is to provide an in-line heat treatment apparatus for easy maintenance.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 인라인 열처리 장치는, 기판이 열처리되는 공간을 제공하는 가열로(Furnace)를 각각 가지는 로딩부, 승온부, 공정부, 이송부, 냉각부 및 언로딩부가 순차적으로 연속적으로 배치된 인라인 열처리 장치로서, 상기 로딩부와 상기 승온부와 상기 공정부와 상기 이송부의 상기 가열로의 상면에는 각각의 상기 가열로를 개폐하는 뚜껑이 각각 설치된다.Inline heat treatment apparatus according to the present invention for achieving the above object, the loading section, the heating section, the process section, the transfer section, the cooling section and the unloading section each having a furnace (Furnace) for providing a space for the substrate is heat-treated sequentially In a continuous inline heat treatment apparatus, a lid for opening and closing each of the heating furnaces is provided on the upper surface of the heating unit, the heating unit, the process unit, and the transfer unit.

본 발명에 따른 인라인 열처리 장치는 열팽창을 고려하여 상호 인접하는 가열로가 상호 간격을 가지고, 상호 인접하는 가열로 사이는 실링된다. 따라서, 수리가 필요한 어느 하나의 가열로의 양측면을 지그로 집어서, 분리해 낼 수 있으므로, 유지 보수가 간편한 효과가 있다.In the in-line heat treatment apparatus according to the present invention, the mutually adjacent heating furnaces have a mutual gap in consideration of thermal expansion, and the mutually adjacent heating furnaces are sealed. Therefore, since both sides of any one of the heating furnaces in need of repair can be picked up by a jig and separated, the maintenance is easy.

그리고, 각 가열로의 상면 또는 후면을 개방할 수 있으므로, 더욱 유지 보수가 간편한 효과가 있다.And, since the upper surface or the rear surface of each heating furnace can be opened, there is an effect that is easier to maintain.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 인라인 열처리 장치의 개략적 구성을 보인 정면도.
도 2는 도 1에 도시된 승온부의 가열로의 확대도.
도 3은 도 2의 측면도.
도 4는 도 2에 도시된 가열로의 외관을 보인 사시도.
도 5는 도 4의 "A"부 확대도.1 is a front view showing a schematic configuration of an inline heat treatment apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is an enlarged view of a heating furnace of the temperature increasing unit shown in FIG. 1.
Figure 3 is a side view of Figure 2;
Figure 4 is a perspective view showing the appearance of the heating furnace shown in FIG.
5 is an enlarged view of a portion "A" in FIG.

후술하는 본 발명에 대한 상세한 설명은, 본 발명이 실시될 수 있는 특정 실시예를 예시하여 도시한 첨부 도면을 참조한다. 이들 실시예는 당업자가 본 발명을 실시할 수 있도록 충분히 상세하게 설명된다. 본 발명의 다양한 실시예는 상호 다르지만 상호 배타적일 필요는 없음이 이해되어야 한다. 예를 들어, 여기에 기재되어 있는 특정 형상, 특정 구조 및 특정 특성은 일 실시예와 관련하여 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 다른 실시예로 구현될 수 있다. 또한, 각각의 개시된 실시예 내의 개별 구성요소의 위치 또는 배치는 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 변경될 수 있음이 이해되어야 한다. 따라서, 후술하는 상세한 설명은 한정적인 의미가 아니며, 본 발명의 범위는, 적절하게 설명된다면, 그 청구항들이 주장하는 것과 균등한 모든 범위와 더불어 첨부된 청구항에 의해서만 한정된다. 도면에 도시된 실시예들의 길이, 면적, 두께 및 형태는, 편의상, 과장되어 표현될 수도 있다.DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The following detailed description of the invention refers to the accompanying drawings that illustrate specific embodiments in which the invention may be practiced. These embodiments are described in sufficient detail to enable those skilled in the art to practice the invention. It should be understood that the various embodiments of the present invention are mutually exclusive, but need not be mutually exclusive. For example, certain shapes, structures, and specific features described herein may be embodied in other embodiments without departing from the spirit and scope of the invention in connection with one embodiment. It is also to be understood that the position or arrangement of the individual components within each disclosed embodiment may be varied without departing from the spirit and scope of the invention. The following detailed description, therefore, is not to be taken in a limiting sense, and the scope of the present invention is defined only by the appended claims, along with the full scope of equivalents to which such claims are entitled. The length, area, thickness, and shape of the embodiments shown in the drawings may be exaggerated for convenience.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 인라인 열처리 장치를 상세히 설명한다.Hereinafter, an inline heat treatment apparatus according to an exemplary embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 인라인 열처리 장치의 개략적 구성을 보인 정면도이다.1 is a front view showing a schematic configuration of an inline heat treatment apparatus according to an embodiment of the present invention.

도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 인라인 열처리 장치는 로딩부(100), 승온부(200), 공정부(300), 이송부(400), 냉각부(500) 및 언로딩부(600)를 포함하며, 로딩부(100)와 승온부(200)와 공정부(300)와 이송부(400)와 냉각부(500)와 언로딩부(600)는 차례로 연속적으로 배치된다.As shown, the in-line heat treatment apparatus according to the present embodiment, the loading unit 100, the temperature raising unit 200, the process unit 300, the transfer unit 400, the cooling unit 500 and the unloading unit 600 It includes, the loading unit 100, the temperature rising unit 200, the process unit 300, the transfer unit 400, the cooling unit 500 and the unloading unit 600 are sequentially arranged in sequence.

로딩부(100)는 가열로(Furnace)(110)를 포함하며, 가열로(110)의 내부에는 기판(50)을 지지하여 인접하는 승온부(200)의 가열로(210)로 이송하는 이송수단인 복수의 롤러(125)가 설치된다.Loading unit 100 includes a furnace (Furnace) 110, the transport to support the substrate 50 inside the furnace 110 to transfer to the heating furnace 210 of the adjacent heating unit 200 A plurality of rollers 125 which are means are provided.

롤러(125)에는 기판(50)이 탑재 지지된다. 즉, 기판(50)은 로봇아암(미도시)에 지지되어 로딩부(100)로 로딩되며, 롤러(125)에 탑재 지지된다. 기판(50)과 롤러(125) 사이에는 지지판(미도시)이 개재될 수도 있다. 상기 지지판을 사용하는 경우에는 상기 지지판을 롤러(125)에 탑재한 상태에서 기판(50)을 상기 지지판에 탑재하거나, 기판(50)을 상기 지지판에 탑재한 상태에서 상기 지지판을 롤러(125)에 탑재할 수 있다.The substrate 50 is mounted and supported on the roller 125. That is, the substrate 50 is supported by a robot arm (not shown), loaded into the loading unit 100, and mounted on the roller 125. A support plate (not shown) may be interposed between the substrate 50 and the roller 125. In the case of using the support plate, the support plate is mounted on the roller 125 while the support plate is mounted on the roller 125, or the support plate is mounted on the roller 125 while the substrate 50 is mounted on the support plate. It can be mounted.

기판(50)은 로딩부(100)에서, 예를 들어, 약 150℃ 로 균일하게 예열된 후, 승온부(200)로 이송될 수 있다. 이를 위하여, 가열로(110)에는 히터(미도시)가 설치될 수 있다.The substrate 50 may be uniformly preheated to, for example, about 150 ° C. in the loading part 100, and then transferred to the temperature raising part 200. To this end, a heater (not shown) may be installed in the heating furnace 110.

승온부(200)에 대하여 도 1 내지 도 3을 참조하여 설명한다. 도 2는 도 1에 도시된 승온부의 가열로의 확대도이고, 도 3은 도 2의 측면도이다.The temperature rising unit 200 will be described with reference to FIGS. 1 to 3. FIG. 2 is an enlarged view of a heating furnace of the temperature increasing unit shown in FIG. 1, and FIG. 3 is a side view of FIG. 2.

도시된 바와 같이, 승온부(200)는 기판(50)을 소정 온도로 가열하여 공정부(300)로 이송한다. 승온부(200)는 독립적으로 온도가 제어되는 적어도 2개의 가열로(210, 230, 250)를 포함한다. 승온부(200)의 가열로(210, 230, 250)의 개수는 기판(50)의 열처리 온도를 고려하여 적정하게 마련한다.As shown in the drawing, the temperature raising part 200 heats the substrate 50 to a predetermined temperature and transfers it to the process part 300. The temperature raising unit 200 includes at least two heating furnaces 210, 230, and 250 which are independently temperature controlled. The number of heating furnaces 210, 230, and 250 of the temperature raising part 200 is appropriately provided in consideration of the heat treatment temperature of the substrate 50.

예를 들면, 기판(50)의 열처리 온도가 약 600℃ 이면, 승온부(200)의 가열로(210, 230, 250)는 3개 마련된다. 그리하여, 첫 번째 가열로(210)의 온도는 로딩부(100)의 예열 온도를 고려하여 250℃ 전후로 유지되고, 두 번째 가열로(230) 및 세 번째 가열로(250)로의 온도는 각각 450℃ 전후 및 600℃ 전후로 유지되는 것이 바람직하다.For example, when the heat processing temperature of the board | substrate 50 is about 600 degreeC, three heating furnaces 210, 230, 250 of the temperature rising part 200 are provided. Thus, the temperature of the first furnace 210 is maintained at around 250 ° C in consideration of the preheating temperature of the loading unit 100, the temperature of the second furnace 230 and the third furnace 250 are each 450 ° C It is preferable to be maintained at around and around 600 ° C.

기판(50)은 저온에서는 빠르게 가열 온도를 상승시켜도 변형이 방지될 수 있으나, 고온에서는 빠르게 가열 온도를 상승시키면 변형이 될 수 있다. 따라서, 승온부(200)의 가열로(210, 230, 250)는 저온에서는 빠르게 가열 온도가 상승되도록 설정하고, 고온에서는 서서히 가열 온도가 상승되도록 설정하는 것이 바람직하다.The substrate 50 may be deformed even when the heating temperature is rapidly increased at low temperatures, but may be deformed when the heating temperature is rapidly increased at high temperatures. Therefore, it is preferable that the heating furnaces 210, 230, and 250 of the temperature raising unit 200 are set so that the heating temperature is quickly increased at low temperature, and the heating temperature is gradually increased at high temperature.

가열로(210)의 좌측면 및 우측면에는 기판(50)이 투입 및 배출되는 투입구(211) 및 배출구(213)가 각각 형성되며, 투입구(211)와 배출구(213)는 상호 대응되게 형성된다. 그리고, 로딩부(100)의 가열로(110)의 우측면은 가열로(210)의 투입구(211)와 연통되고, 가열로(210)의 배출구(213)는 가열로(230)의 좌측면과 연통된다. 이로 인해, 기판(50)이 로딩부(100)에서 배출되어 가열로(210)로 투입되고, 가열로(210)에서 배출되어 가열로(230)로 투입된다. 따라서, 가열로(210)의 투입구(211) 및 배출구(213)와 대응되게 가열로(110, 230)에도 투입구 및 배출구가 각각 형성된다.An inlet 211 and an outlet 213 are formed on the left side and the right side of the heating furnace 210, respectively, through which the substrate 50 is inserted and discharged, and the inlet 211 and the outlet 213 are formed to correspond to each other. The right side of the heating furnace 110 of the loading unit 100 communicates with the inlet 211 of the heating furnace 210, and the outlet 213 of the heating furnace 210 is connected to the left side of the heating furnace 230. Communicating. As a result, the substrate 50 is discharged from the loading unit 100 and introduced into the heating furnace 210, and discharged from the heating furnace 210 and introduced into the heating furnace 230. Therefore, inlets and outlets are formed in the furnaces 110 and 230, respectively, to correspond to the inlets 211 and outlets 213 of the furnace 210.

기판(50)의 열처리를 위하여 가열로(110, 210, 230, 250) 내부의 온도를 높이면, 가열로(110, 210, 230, 250)가 팽창하게 된다. 그런데, 상호 인접하는 가열로(110, 210)(210, 230)(230, 250)를 상호 접촉시켜 배치하면, 상호 인접하는 가열로(110, 210)(210, 230)(230, 250)가 상호 밀착되므로, 중간에 있는 가열로(210, 230)는 꽉 끼인 상태가 된다. 따라서, 중간에 있는 가열로(210, 230)만을 분리하여 수리할 수 없으므로, 유지 보수가 어렵다.When the temperature inside the heating furnaces 110, 210, 230, and 250 is increased to heat the substrate 50, the heating furnaces 110, 210, 230, and 250 expand. However, when the heating furnaces 110 and 210 (210, 230) and 230 and 250 which are adjacent to each other are disposed to be in contact with each other, the heating furnaces 110 and 210 (210 and 230) and 230 and 250 which are adjacent to each other are arranged. Since they are in close contact with each other, the heating furnaces 210 and 230 in the middle are in a pinched state. Therefore, since only the heating furnaces 210 and 230 in the middle cannot be repaired separately, maintenance is difficult.

본 실시예에 따른 인라인 열처리 장치는 각 가열로(110, 210, 230, 250)를 용이하게 분리할 수 있도록 마련되는데, 이를 도 2 내지 도 5를 참조하여 설명한다. 도 4는 도 2에 도시된 가열로의 외관을 보인 개략 사시도이고, 도 5는 도 4의 "A"부 확대도이다.The inline heat treatment apparatus according to the present embodiment is provided to easily separate the respective heating furnaces 110, 210, 230, and 250, which will be described with reference to FIGS. 2 to 5. FIG. 4 is a schematic perspective view illustrating an external appearance of the heating furnace illustrated in FIG. 2, and FIG. 5 is an enlarged view of portion “A” of FIG. 4.

도시된 바와 같이, 상호 인접하는 가열로(110, 210)(210, 230)(230, 250)는, 가열로(110, 210, 230, 250)의 열팽창을 고려하여, 상호 소정의 간격을 가진다. 그리고, 상호 인접하는 가열로(110, 210)(210, 230)(230, 250) 사이에 실링부재(221)를 개재하여 상호 인접하는 가열로(110, 210)(210, 230)(230, 250) 사이를 실링한다. 즉, 실링부재(221)는 상호 인접하는 가열로(110, 210)(210, 230)(230, 250)의 상호 대응하는 상기 투입구와 상기 배출구의 외측을 실링한다.As shown, the heating furnaces 110, 210, 210, 230, 230, 250 adjacent to each other have a predetermined distance from each other in consideration of thermal expansion of the heating furnaces 110, 210, 230, 250. . The heating furnaces 110, 210, 210, 230, 230, which are adjacent to each other via the sealing member 221 between the heating furnaces 110, 210, 210, 230, 230, 250 that are adjacent to each other. 250) is sealed. That is, the sealing member 221 seals the outside of the inlet and the outlet corresponding to the mutually adjacent heating furnaces (110, 210) (210, 230) (230, 250).

실링부재(221)의 견고한 설치를 위하여, 가열로(210)의 우측면에는 배출구(213)를 에워싸는 형태로 돌출레일(215)이 폐루프를 이루면서 형성되고, 돌출레일(215)에는 돌출레일(215)을 따라 실링부재(221)가 삽입 안치되는 안치홈(215a)이 폐루프를 이루면서 형성된다. 안치홈(215a)에 실링부재(221)가 삽입 안치된다. 그리고, 가열로(210)의 좌측면에도 투입구(211)를 에워싸는 형태로 돌출레일이 형성되고, 상기 돌출레일에는 안치홈이 형성된다.In order to firmly install the sealing member 221, the right side surface of the heating furnace 210 has a protrusion rail 215 formed in the form of enclosing the outlet 213 in a closed loop, and the protrusion rail 215 has a protruding rail 215. Settle groove 215a into which the sealing member 221 is placed is formed along the c) forming a closed loop. The sealing member 221 is inserted into the settling groove 215a. A protruding rail is formed on the left side of the heating furnace 210 so as to surround the inlet 211, and the protruding rail is formed in the protruding rail.

가열로(110, 230, 250)도 가열로(210)와 동일 또는 유사하게 형성된다. 따라서, 가열로(110, 210, 230, 250)가 연속적으로 배치되면, 가열로(110)의 상기 배출구를 에워싸는 상기 돌출레일의 상기 안치홈과 가열로(210)의 투입구(211)를 에워싸는 상기 돌출레일의 상기 안치홈에 실링부재(221)의 일측 부위 및 타측 부위가 각각 삽입 안치된다.The furnaces 110, 230, and 250 are also formed in the same or similar manner as the furnace 210. Accordingly, when the heating furnaces 110, 210, 230, and 250 are continuously disposed, the heating grooves 110 surrounding the outlet grooves of the protruding rails surrounding the outlet of the heating furnace 110 and the inlet 211 of the heating furnace 210 are surrounded. One side portion and the other side portion of the sealing member 221 are inserted and placed in the settling groove of the protruding rail, respectively.

그러면, 열에 의하여 가열로(110, 210, 230, 250)가 팽창되어도, 상호 인접하는 가열로(110, 210)(210, 230)(230, 250)는 상호 밀착되지 않으므로, 각 가열로(110, 210, 230, 250)를 용이하게 분리할 수 있다. 즉, 도 1에 도시된 바와 같이 가열로(210)의 양측면에 존재하는 간격으로 지그(70)를 삽입하여, 가열로(210) 만을 분리할 수 있다. 따라서, 유지 보수가 간편하다.Then, even if the heating furnaces 110, 210, 230, and 250 are expanded by heat, the adjacent heating furnaces 110, 210, 210, 230, 230, and 250 are not in close contact with each other, and thus, each heating furnace 110 is provided. , 210, 230, 250) can be easily separated. That is, as shown in FIG. 1, the jig 70 may be inserted at intervals existing on both sides of the heating furnace 210 to separate only the heating furnace 210. Therefore, maintenance is easy.

가열로(210)의 상면에는, 가열로(210)의 유지 보수시, 가열로(210)를 개폐하기 위한 뚜껑(217)이 설치될 수 있다. 또한, 가열로(210)의 후면에는 유지 보수용 커버(218)(도 3 참조)가 설치될 수 있다.On the upper surface of the heating furnace 210, during maintenance of the heating furnace 210, a lid 217 for opening and closing the heating furnace 210 may be installed. In addition, a maintenance cover 218 (see FIG. 3) may be installed at a rear surface of the heating furnace 210.

가열로(210)의 내부에는 각각 독립적으로 설치되며 각각 독립적으로 제어되면서 기판(50)을 가열하는 복수의 히터(223)가 설치된다. 히터(223)는 튜브 형상으로 형성되어 상호 간격을 가지면서 기판(50)의 이송 방향과 교차하는 형태로 배치된다. 이때, 히터(223)는 분리가능하게 가열로(210)에 설치된다. 따라서, 복수의 히터(223) 중, 어느 하나가 손상되었을 때, 손상된 히터(223) 만을 분리할 수 있으므로, 더욱 유지 보수가 간편하다.The plurality of heaters 223 for heating the substrate 50 are installed inside the heating furnace 210 independently of each other and independently controlled. The heater 223 is formed in a tube shape and is disposed in a shape that crosses the conveying direction of the substrate 50 while having a mutual gap therebetween. At this time, the heater 223 is detachably installed in the heating furnace 210. Therefore, when any one of the plurality of heaters 223 is damaged, only the damaged heater 223 can be separated, thereby further simplifying maintenance.

가열로(210)에는 기판(50)을 탑재 지지하여 이송하는 이송수단이 설치된다. 상기 이송수단은 가열로(210)에 설치되며 회전하면서 기판(50)을 이송하는 복수의 롤러(225)로 마련된다. 상기 이송수단은 기판(50)을 들어서 이송하는 장치로 마련될 수도 있다.The heating unit 210 is provided with a conveying means for mounting and supporting the substrate 50. The transfer means is installed in the heating furnace 210 and is provided with a plurality of rollers 225 for transferring the substrate 50 while rotating. The transfer means may be provided as a device for lifting the substrate 50.

도 1에 도시된 승온부(200)의 첫 번째 가열로(210)의 구성과 두 번째 및 세 번째 가열로(230, 250)의 구성은 동일 또는 유사하다. 그리고, 승온부(200)의 첫 번째 가열로(210)에 설치된 뚜껑(217), 히터(223) 및 상기 이송수단이 로딩부(100)에도 설치될 수 있다.The configuration of the first heating furnace 210 and the configuration of the second and third heating furnaces 230 and 250 of the heating unit 200 shown in FIG. 1 are the same or similar. In addition, the lid 217, the heater 223, and the transfer means installed in the first heating furnace 210 of the temperature raising part 200 may be installed in the loading part 100.

도 1에 도시된 바와 같이, 공정부(300)는 가열로(310)를 포함하며, 승온부(200)에서 이송된 기판(50)을 소정의 열처리 온도에서 열처리한다. 공정부(300)의 가열로(310)의 구성, 설치구조 및 실링구조는 승온부(200)의 가열로(210)와 동일 또는 유사하다.As shown in FIG. 1, the process unit 300 includes a heating furnace 310, and heat-processes the substrate 50 transferred from the temperature raising unit 200 at a predetermined heat treatment temperature. The configuration, installation structure, and sealing structure of the heating furnace 310 of the process unit 300 are the same as or similar to the heating furnace 210 of the temperature raising unit 200.

도 1에 도시된 바와 같이, 이송부(400)는 가열로(410)를 포함하며, 좌측면 상부측에는 투입구가 형성되어 공정부(300)의 가열로(310)의 우측면과 연통된다. 가열로(410)는 공정부(300)로부터 기판(50)을 전달받아 기판(50)을 하측으로 수직 이송한다. 기판(50)은 가열로(410)에 승강가능하게 설치된 지그(미도시) 등과 같은 승강수단에 의하여 하측으로 이송된다. 기판(50)은 가열로(410)의 상측에서 하측으로 이송되면서 천천히 냉각된다.As shown in FIG. 1, the transfer part 400 includes a heating furnace 410, and an inlet is formed at an upper side of the left side so as to communicate with a right side of the heating furnace 310 of the processing unit 300. The heating furnace 410 receives the substrate 50 from the process unit 300 and vertically transfers the substrate 50 downward. The substrate 50 is transported downward by lifting means such as a jig (not shown) installed in the heating furnace 410 so as to be liftable. The substrate 50 is slowly cooled while being transferred from the upper side to the lower side of the heating furnace 410.

이송부(400)의 가열로(410)에도 승온부(200)의 가열로(210)에 설치된 히터(223) 및 상기 이송수단이 설치될 수 있다. 이송부(40)의 가열로(410)의 구성, 설치구조 및 실링구조는 승온로(200)의 가열로(210)와 동일 또는 유사하다.The heater 223 and the transfer means installed in the heating furnace 210 of the heating unit 200 may also be installed in the heating furnace 410 of the transfer unit 400. The configuration, installation structure and sealing structure of the heating furnace 410 of the transfer unit 40 is the same as or similar to the heating furnace 210 of the temperature raising furnace 200.

냉각부(500)는 가열로(510)를 포함하며, 승온부(200) 및 공정부(300)의 하측에 설치되어, 이송부(400)에서 이송된 기판(50)을 소정 온도로 냉각시킨 후 언로딩부(600)로 이송한다. 냉각부(500)의 가열로(510)의 길이는 열처리 온도를 고려하여 적정하게 형성된다. 그리고, 냉각부(500)에는 기판(50)을 균일하게 냉각시키기 위한 다양한 냉각수단이 마련될 수 있다.The cooling unit 500 includes a heating furnace 510 and is installed below the temperature raising unit 200 and the processing unit 300 to cool the substrate 50 transferred from the transfer unit 400 to a predetermined temperature. Transfer to the unloading unit 600. The length of the heating furnace 510 of the cooling unit 500 is appropriately formed in consideration of the heat treatment temperature. In addition, the cooling unit 500 may be provided with various cooling means for uniformly cooling the substrate 50.

냉각부(500)의 가열로(510)의 구성, 설치구조 및 실링구조는 승온로(200)의 가열로(210)와 동일 또는 유사하다. 그리고, 이송부(400)의 가열로(410)의 좌측면 하부측에는 배출구가 형성되어 냉각부(500)의 가열로(510)와 연통된다. 가열로(510)와 가열로(410)의 설치구조 및 실링구조는 가열로(210)와 가열로(230)의 설치구조 및 실링구조와 각각 동일 또는 유사하다.The configuration, installation structure, and sealing structure of the heating furnace 510 of the cooling unit 500 are the same as or similar to the heating furnace 210 of the temperature raising furnace 200. In addition, a discharge port is formed at a lower side of the left side of the heating furnace 410 of the transfer unit 400 so as to communicate with the heating furnace 510 of the cooling unit 500. The installation structure and the sealing structure of the heating furnace 510 and the heating furnace 410 are the same or similar to the installation structure and the sealing structure of the heating furnace 210 and the heating furnace 230, respectively.

언로딩부(600)는 가열로(610)를 포함하며, 로딩부(100)의 가열로(110)의 구성, 설치구조 및 실링구조와 동일 또는 유사하게 구성되어 로딩부(100)의 하측에 위치된다. 언로딩부(600)로 이송된 기판(50)은 변형되지 않도록 예를 들면 100℃ 이하까지 균일하게 냉각된 후, 다음 공정으로 이송된다. 이때, 언로딩부(600)에는 기판(50)의 균일한 냉각을 위하여 기판(50)의 상면을 가열할 수 있는 히터(미도시)가 마련될 수 있다.The unloading part 600 includes a heating furnace 610, and is configured to be the same as or similar to the configuration, installation structure, and sealing structure of the heating furnace 110 of the loading unit 100, and is located below the loading unit 100. Is located. The substrate 50 transferred to the unloading part 600 is uniformly cooled to, for example, 100 ° C. or less so as not to be deformed, and then transferred to the next step. In this case, the unloading unit 600 may be provided with a heater (not shown) capable of heating the upper surface of the substrate 50 to uniformly cool the substrate 50.

본 실시예에 따른 인라인 열처리 장치는 냉각부(500) 및 언로딩부(600)가 공정부(300)와 승온부(200) 및 로딩부(100)의 하측에 위치된다. 그러면, 본 실시예에 따른 인라인 열처리 장치는 2층 구조가 되므로, 기판(50)의 열처리 작업시, 작업자의 이동 거리가 단축되어, 생산성이 향상된다.In the in-line heat treatment apparatus according to the present embodiment, the cooling unit 500 and the unloading unit 600 are positioned below the process unit 300, the temperature raising unit 200, and the loading unit 100. Then, since the in-line heat treatment apparatus according to the present embodiment has a two-layer structure, during the heat treatment of the substrate 50, the moving distance of the worker is shortened, and the productivity is improved.

하측에 위치된 냉각부(500)와 언로딩부(600)의 가열로(510, 610)의 후면에는, 각 가열로(510, 610)의 유지 보수시, 각 가열로(510, 610)를 개폐하기 위한 커버(미도시)가 설치될 수 있다. 즉, 승온부(200)의 가열로(210)의 뚜껑(217) 대신 상기 커버가 설치된다.On the rear surface of the heating units 510 and 610 of the cooling unit 500 and the unloading unit 600 located at the lower side, each of the heating furnaces 510 and 610 is maintained during maintenance of the respective heating furnaces 510 and 610. A cover (not shown) for opening and closing may be installed. That is, the cover is installed in place of the lid 217 of the heating furnace 210 of the heating unit 200.

본 실시예에 따른 인라인 열처리 장치는 상호 인접하는 가열로(110, 210)(210, 230)(230, 250)(250, 310)(310, 410)(410, 510)(510, 610)가 상호 간격을 가지면서 설치되어 상기 실링부재에 의하여 실링된다. 따라서, 각 가열로(110, 210, 230, 250, 310, 410, 510, 610)가 열팽창 되어도 상호 인접하는 가열로(110, 210)(210, 230)(230, 250)(250, 310)(310, 410)(410, 510)(510, 610)는 상호 밀착되지 않으므로, 수리가 필요한 가열로(110, 210, 230, 250, 310, 410, 510, 610)만을 용이하게 분리할 수 있다. 따라서, 유지 보수가 편리하다.In-line heat treatment apparatus according to the present embodiment is the heating furnace 110, 210, 210, 230 (230, 250) (250, 310) 310, 410 (410, 510) (510, 610) adjacent to each other Installed at intervals between each other is sealed by the sealing member. Therefore, even though each of the heating furnaces 110, 210, 230, 250, 310, 410, 510, 610 is thermally expanded, adjacent heating furnaces 110, 210, 210, 230, 230, 250, 250, 310 are mutually adjacent. (310, 410) (410, 510) (510, 610) are not in close contact with each other, it is possible to easily separate only the heating furnace (110, 210, 230, 250, 310, 410, 510, 610) that needs repair. . Therefore, maintenance is convenient.

본 실시예에 따른 인라인 열처리 장치는 상호 인접하는 가열로(110, 210)(210, 230)(230, 250)(250, 310)(310, 410)(410, 510)(510, 610)가 사이가 상기 실링부재에 의하여 실링되므로, 로딩부(100) 및 언로딩부(600)에 로드락(Load Lock)부(700)를 각각 연속적으로 설치할 수 있다.In-line heat treatment apparatus according to the present embodiment is the heating furnace 110, 210, 210, 230 (230, 250) (250, 310) 310, 410 (410, 510) (510, 610) adjacent to each other Since the gap is sealed by the sealing member, the load lock part 700 may be continuously installed in the loading part 100 and the unloading part 600, respectively.

로드락부(700)와 로딩부(100) 사이 및 로드락부(700)와 언로딩부(600) 사이에는 게이트 밸브(미도시) 등이 설치되어 로드락부(700)와 로딩부(100)를 상호 연통 또는 차단시키고, 로드락부(700)와 언로딩부(600)를 상호 연통 또는 차단시킨다.A gate valve (not shown) is installed between the load lock part 700 and the loading part 100 and between the load lock part 700 and the unloading part 600 to mutually connect the load lock part 700 and the loading part 100. Communication or blocking, and the load lock unit 700 and the unloading unit 600 to communicate or block each other.

상기와 같이 기술된 본 발명의 실시예들에 대한 도면은 자세한 윤곽 라인을 생략하여, 본 발명의 기술사상에 속하는 부분을 쉽게 알 수 있도록 개략적으로 도시한 것이다. 또한, 상기 실시예들은 본 발명의 기술사상을 한정하는 기준이 될 수 없으며, 본 발명의 청구범위에 포함된 기술사항을 이해하기 위한 참조적인 사항에 불과하다.The drawings of the embodiments of the present invention described above are schematically illustrated so as to easily understand the parts belonging to the technical idea of the present invention by omitting detailed outline lines. It should be noted that the above-described embodiments are not intended to limit the technical spirit of the present invention and are merely a reference for understanding the technical scope of the present invention.

100: 로딩부 200: 승온부
217: 뚜껑 218: 커버
223: 히터 300: 공정부
400: 이송부 500: 냉각부
600: 언로딩부 700: 로드락부100: loading unit 200: heating unit
217: lid 218: cover
223: heater 300: process part
400: transfer part 500: cooling part
600: unloading unit 700: load lock unit

Claims (10)

기판이 열처리되는 공간을 제공하는 가열로(Furnace)를 각각 가지는 로딩부, 승온부, 공정부, 이송부, 냉각부 및 언로딩부가 순차적으로 연속적으로 배치된 인라인 열처리 장치로서,
상기 언로딩부와 상기 냉각부의 상기 가열로는 하측에 위치되고 상호 인접하는 상기 가열로 사이에는 간격이 형성되며,
상기 로딩부와 상기 승온부와 상기 공정부의 상기 가열로는 상기 언로딩부 및 상기 냉각부의 상측에 위치되고 상호 인접하는 상기 가열로 사이에는 간격이 형성되며,
상기 이송부의 상기 가열로는 상기 공정부 및 상기 냉각부의 외측에 위치되어 상부측은 상기 공정부의 상기 가열로와 간격을 가지고 하부측은 상기 냉각부의 상기 가열로와 간격을 가지며,
상기 기판은 상기 로딩부의 상기 가열로로 투입되어 상기 승온부의 상기 가열로를 거쳐 상기 공정부의 상기 가열로로 이송되면서 가열된 다음, 상기 이송부의 상기 가열로의 상측 부위로 투입되어 하측 부위로 하강된 후, 상기 냉각부의 상기 가열로로 투입되어 상기 언로딩부의 상기 가열로로 이송되면서 냉각되고,
상기 로딩부와 상기 승온부와 상기 공정부와 상기 이송부의 상기 가열로의 상면에는 각각의 상기 가열로를 개폐하는 뚜껑이 각각 설치되는 것을 특징으로 하는 인라인 열처리 장치.An inline heat treatment apparatus in which a loading section, a heating section, a processing section, a conveying section, a cooling section, and an unloading section each have a heating furnace that provides a space where a substrate is heat-treated, are sequentially disposed.
The heating furnace of the unloading unit and the cooling unit is located below and a gap is formed between the heating furnaces adjacent to each other,
The heating section of the loading section, the heating section and the processing section is formed on the upper side of the unloading section and the cooling section and the gap is formed between the adjacent heating furnace,
The heating furnace of the transfer part is located outside the process unit and the cooling unit, and an upper side thereof is spaced apart from the heating furnace of the process unit, and a lower side thereof is spaced apart from the heating furnace of the cooling unit.
The substrate is introduced into the heating furnace of the loading unit, and is heated while being transferred to the heating furnace of the process unit through the heating furnace of the heating unit, and then fed into the upper portion of the heating furnace of the transfer unit and lowered to the lower portion. Thereafter, the cooling unit is introduced into the heating furnace and cooled while being transferred to the heating furnace of the unloading unit,
And a lid for opening and closing each of the heating furnaces is provided on an upper surface of the heating unit, the heating unit, the heating unit, the process unit, and the transfer unit. 제1항에 있어서,
상호 인접하는 각각의 상기 가열로 사이에는 상호 인접하는 상기 가열로 사이를 실링하는 실링부재가 개재된 것을 특징으로 하는 인라인 열처리 장치.The method of claim 1,
In-line heat treatment apparatus, characterized in that the sealing member for sealing between the adjacent heating furnace between each of the heating furnace adjacent to each other. 제2항에 있어서,
상기 로딩부와 상기 승온부와 상기 공정부와 상기 이송부의 상기 가열로의 후면에는 각각의 상기 가열로를 개폐하는 커버가 각각 더 설치된 것을 특징으로 하는 인라인 열처리 장치.The method of claim 2,
And a cover for opening and closing each of the heating furnaces is further provided on a rear surface of the heating unit, the heating unit, the processing unit, and the transfer unit. 제3항에 있어서,
상기 로딩부와 상기 승온부와 상기 공정부와 상기 냉각부와 상기 언로딩부의 상기 가열로의 일측면 및 타측면에는 상기 기판이 투입 및 배출되는 투입구 및 배출구가 각각 상호 대응되게 형성 및 위치되고,
상기 이송부의 상기 가열로의 일측면 상측 및 하측 부위에는 상기 공정부로부터 상기 기판을 전달받기 위한 투입구 및 상기 기판을 상기 냉각부로 전달하기 위한 배출구가 각각 형성되며,
상호 인접하는 상기 가열로 중, 어느 하나의 상기 가열로의 상기 투입구와 다른 하나의 상기 가열로의 상기 배출구는 상호 연통되고,
상기 실링부재는 상호 인접하는 상기 가열로의 상기 투입구와 상기 배출구를 에워싸는 형태로 개재된 것을 특징으로 하는 인라인 열처리 장치.The method of claim 3,
One side and the other side of the heating part, the heating part, the heating part, the processing part, the cooling part, and the unloading part of the heating furnace are formed and positioned to correspond to each other.
An inlet for receiving the substrate from the process unit and an outlet for delivering the substrate to the cooling unit are formed at upper and lower portions of one side of the heating furnace of the transfer unit, respectively.
Of the heating furnaces adjacent to each other, the inlet of one of the heating furnaces and the outlet of the other one of the heating furnaces communicate with each other,
The sealing member is in-line heat treatment apparatus characterized in that the interposed in the form surrounding the inlet and the outlet of the heating furnace adjacent to each other. 제4항에 있어서,
각각의 상기 가열로에는 상기 투입구 및 상기 배출구를 에워싸는 함몰된 안치홈이 각각 형성되고,
상기 실링부재의 일측 및 타측 부위는 상호 인접하는 어느 하나의 상기 가열로의 상기 안치홈 및 다른 하나의 상기 가열로의 상기 안치홈에 각각 삽입 안치된 것을 특징으로 하는 인라인 열처리 장치.5. The method of claim 4,
Each of the heating furnace is each formed with a recessed settled groove surrounding the inlet and the outlet,
One side and the other side portion of the sealing member is inline heat treatment apparatus, characterized in that each of the settled in the settling groove of the one of the heating furnace adjacent to each other and the settled groove of the other. 제5항에 있어서,
각각의 상기 가열로에는 상기 투입구 및 상기 배출구를 에워싸는 돌출레일이 형성되고, 상기 안치홈은 상기 돌출레일에 형성된 것을 특징으로 하는 인라인 열처리 장치.The method of claim 5,
Each of the heating furnace is formed with a protruding rail surrounding the inlet and the outlet, the inlet heat treatment apparatus, characterized in that formed in the protruding rail. 제1항에 있어서,
상호 인접하는 상기 가열로 사이의 간격으로는 어느 하나의 상기 가열로를 분리해 내기 위한 지그가 삽입되는 것을 특징으로 하는 인라인 열처리 장치.The method of claim 1,
In-line heat treatment apparatus characterized in that the jig for separating any one of the heating furnace is inserted into the interval between the adjacent heating furnace. 제1항에 있어서,
상기 로딩부 및 상기 언로딩부에는 로드락(Load Lock)부가 각각 연속적으로 설치된 것을 특징으로 하는 인라인 열처리 장치.The method of claim 1,
In-line heat treatment apparatus, characterized in that the load lock portion (Load Lock) is continuously installed in the loading portion and the unloading portion. 제1항에 있어서,
상기 냉각부와 상기 언로딩부의 상기 가열로의 후면에는 각각의 상기 가열로를 개폐하는 커버가 각각 설치된 것을 특징으로 하는 인라인 열처리 장치.The method of claim 1,
And a cover for opening and closing each of the heating furnaces is provided at the rear of the heating furnace of the cooling unit and the unloading unit. 제1항에 있어서,
각각의 상기 가열로에는 튜브 형태의 복수의 히터가 독립적으로 각각 설치되어, 독립적으로 각각 제어되며,
각각의 상기 히터를 분리 가능하게 설치된 것을 특징으로 하는 인라인 열처리 장치.The method of claim 1,
Each of the heating furnaces are each independently provided with a plurality of heaters in the form of tubes, each independently controlled,
In-line heat treatment apparatus, characterized in that each heater is detachably installed.
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