KR101243182B1 - Method for fabricating anti fingerprint film with nano-pattern - Google Patents
Method for fabricating anti fingerprint film with nano-pattern Download PDFInfo
- Publication number
- KR101243182B1 KR101243182B1 KR1020100126316A KR20100126316A KR101243182B1 KR 101243182 B1 KR101243182 B1 KR 101243182B1 KR 1020100126316 A KR1020100126316 A KR 1020100126316A KR 20100126316 A KR20100126316 A KR 20100126316A KR 101243182 B1 KR101243182 B1 KR 101243182B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- film
- fingerprint
- nano
- pattern
- present
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 45
- 230000003666 anti-fingerprint Effects 0.000 title claims abstract description 36
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 31
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 claims abstract description 26
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 claims abstract description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 6
- 230000028327 secretion Effects 0.000 abstract description 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 5
- 239000002120 nanofilm Substances 0.000 abstract 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 abstract 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 2
- 210000004907 gland Anatomy 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 208000031872 Body Remains Diseases 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 1
- 230000003248 secreting effect Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0035—Multiple processes, e.g. applying a further resist layer on an already in a previously step, processed pattern or textured surface
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/02—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing
- B29C59/04—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing using rollers or endless belts
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/16—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by wave energy or particle radiation, e.g. infrared heating
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82B—NANOSTRUCTURES FORMED BY MANIPULATION OF INDIVIDUAL ATOMS, MOLECULES, OR LIMITED COLLECTIONS OF ATOMS OR MOLECULES AS DISCRETE UNITS; MANUFACTURE OR TREATMENT THEREOF
- B82B3/00—Manufacture or treatment of nanostructures by manipulation of individual atoms or molecules, or limited collections of atoms or molecules as discrete units
- B82B3/0009—Forming specific nanostructures
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
Abstract
본 발명은 지문 상의 인체 분비물에 의하여 필름 표면이 오염되는 것을 방지하기 위하여 지문 생성을 억제하는 내지문 기능을 갖는 내지문 필름 및 이러한 내지문 필름의 제조 방법에 관한 것이다.
이와 관련하여, 본 발명에서는 인체 분비물이 필름의 기재의 표면에 머무르는 것을 저해할 수 있도록 간단한 제조 공정에 의하여 내지문 기능을 수행하기 위한 나노 패턴이 형성된 내지문 필름의 제조 방법 및 이러한 방법에 의하여 제조된 내지문 필름을 제공하고자 한다.
이를 위해, 본 발명에서는 내지문 필름의 제조 방법에 있어서, 나노 구조물이 형성된 원통형 금형을 이용하여 UV 임프린트 롤 투 롤 공정을 수행함에 따라, 필름 표면 상에 상기 나노 구조물에 대응되는 나노 패턴이 형성되는 것을 특징으로 하는 나노 패턴이 형성된 내지문 필름의 제조 방법을 제공한다.
또한, 본 발명에서는 이러한 나노 패턴이 형성된 내지문 필름의 제조 방법을 구현함에 있어서, 상기 원통형 금형은 진공 챔버 내에서 플라즈마 처리를 수행함에 따라 형성된 표면의 나노 구조물을 갖도록 구성하는 한편, 상기 UV 임프린트 롤 투 롤 공정에서는 필름 표면에 UV 경화성 수지를 도포한 다음, 원통형 금형에 밀착하여 나노 구조물을 전사시킨 후, UV를 조사하여 경화시키는 공정으로 구현함으로써 간단한 공정을 통하여 대량 생산이 가능한 내지문 필름의 제조 방법 및 이러한 방법을 통하여 제작된 나노 패턴이 형성된 내지문 필름을 제공한다.The present invention relates to an anti-fingerprint film having an anti-fingerprint function that suppresses fingerprint generation in order to prevent the film surface from being contaminated by human secretions on the fingerprint and a method of producing such an anti-fingerprint film.
In this regard, in the present invention, a method for producing a fingerprint film and a nano-pattern formed for performing the fingerprint function by a simple manufacturing process so as to inhibit the human secretion stays on the surface of the substrate of the film and the manufacturing method by such a method To provide a fingerprinted film.
To this end, in the present invention, in the production method of anti-fingerprint film, by performing a UV imprint roll-to-roll process using a cylindrical mold having a nanostructure is formed, a nano pattern corresponding to the nanostructure is formed on the film surface It provides a method for producing an anti-fingerprint film is characterized in that the nano-pattern is formed.
In addition, in the present invention, in implementing the method of manufacturing a nano-film formed anti-fingerprint film, the cylindrical mold is configured to have a nanostructure of the surface formed by performing a plasma treatment in a vacuum chamber, while the UV imprint roll In the two-roll process, the UV curable resin is coated on the surface of the film, and then adhered to the cylindrical mold to transfer the nanostructure, and then the UV irradiation is cured to realize the anti-fingerprint film that can be mass-produced through a simple process. It provides a method and anti-fingerprint film formed with a nano-pattern produced through this method.
Description
본 발명은 지문 상의 인체 분비물에 의하여 필름 표면이 오염되는 것을 방지하기 위하여 지문 생성을 억제하는 내지문 기능을 갖는 내지문 필름 및 이러한 내지문 필름의 제조 방법에 관한 것이다.
The present invention relates to an anti-fingerprint film having an anti-fingerprint function that suppresses fingerprint generation in order to prevent the film surface from being contaminated by human secretions on the fingerprint and a method of producing such an anti-fingerprint film.
지문은 손가락 끝 피부에 있는 땀샘의 입구가 융기한 선에 따라 만들어지는 모양 또는 이러한 융선의 형태를 만드는 모양이 물체의 표면에 부착된 후 만들어진 자취를 말한다. 이 때 만들어지는 자취는 피부 분비샘으로부터 생성되는 분비물이 잔류하면서 자취를 남기게 된다.Fingerprints are traces made by the openings of the glands in the skin of the fingertips along the raised lines, or after the shapes forming these ridges are attached to the surface of the object. The traces produced at this time are left behind while the secretions generated from the skin glands remain.
지문으로 형성되는 주요 분비물의 성분으로는 수분과 지방 및 기름 성분을 들 수 있다. 특히 지방 성분은 오랜 기간 표면에서 소실되지 않고 남아서 표면을 더럽히는 주요 요인이라 할 수 있다.Major secretions formed by fingerprints include moisture, fat and oil. In particular, the fat component is a major factor that does not disappear from the surface for a long time to dirty the surface.
도 1은 표면에 남겨진 지문의 구체적인 자취(a) 및 이러한 지문의 자취를 현미경으로 확대하여 촬영한 것(b)을 각각 도시하고 있다.FIG. 1 shows specific traces (a) of fingerprints left on the surface and (b) of magnified images of the fingerprints under a microscope.
도 1에 도시된 바와 같이, 지문이 찍히는 영역에서는 인체에서 나온 분비물이 표면에 액적형태로 뭉치면서 자취를 남기되면서, 이러한 액적의 자취들이 모여 형성하는 구체적인 지문 형태로 표면에 남게된다. 그러므로 내지문 필름으로서의 기능을 발휘하기 위해서는 인체 분비물이 필름의 기재의 표면에 머무르는 것을 저해할 수 있도록 설계되어야 한다.As shown in FIG. 1, in the area where the fingerprint is taken, the secretion from the human body remains in the form of droplets on the surface, leaving traces, and the traces of the droplets remain on the surface in the form of a specific fingerprint. Therefore, in order to function as an anti-fingerprint film, it must be designed to prevent human secretion from remaining on the surface of the substrate of the film.
종래에는 이러한 내지문 기능을 달성하기 위하여, 금속 강판 위에 내지문 기능을 구현하기 위하여 내지문 수지를 코팅(대한민국 등록특허 제0543512호) 하거나, 마이크로 패턴을 표면에 구현(유럽 공개특허 제1,555,249호)하는 방식을 통하여, 내지문 기능을 구현하고자 하는 기술이 제안된 바 있다.Conventionally, in order to achieve such a fingerprinting function, a fingerprinting resin is coated (Korean Patent No. 0543512) or a micropattern is implemented on the surface of the metal sheet to implement the fingerprinting function (European Patent No. 1,555,249). In this way, a technique for implementing a fingerprint function has been proposed.
그러나 이러한 방식들은 지문이 형성되는 것을 일부 개선하는 것에 그치고, 실질적으로는 완전한 내지문 기능을 수행하지 못하여 표면 상에 여전히 지문이 남게 되는 기능적인 문제점이 존재하였다.However, these approaches only partially improve the formation of the fingerprint, and there has been a functional problem in that the fingerprint still remains on the surface because it does not substantially perform a full fingerprint function.
한편, 이러한 내지문 기능을 달성하기 위한 또 다른 시도로서, 초발수 처리를 통한 내지문 기능을 구현(대한민국 공개특허 제2010-3419호) 하려는 시도가 있었다. 하지만 이러한 기술의 경우, 제작 공정이 복잡하며 대면적 및 산업화에 용이하지 않은 문제점이 존재하여, 이러한 내지문 필름의 상용화에 적합하지 않은 문제점이 존재하였다.
On the other hand, as another attempt to achieve such a fingerprint function, there was an attempt to implement the fingerprint function through the super water-repellent treatment (Korean Patent Publication No. 2010-3419). However, such a technology has a problem that the manufacturing process is complicated and not easy to large area and industrialization, there is a problem that is not suitable for the commercialization of such a fingerprint film.
이에 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명에서는 인체 분비물이 필름의 기재의 표면에 머무르는 것을 저해할 수 있도록 간단한 제조 공정에 의하여 내지문 기능을 수행하기 위한 나노 패턴이 형성된 내지문 필름의 제조 방법 및 이러한 방법에 의하여 제조된 내지문 필름을 제공하고자 한다.
Accordingly, the present invention has been made to solve the above problems, in the present invention, a nano-pattern is formed to perform the anti-fingerprint function by a simple manufacturing process to inhibit the human secretion stays on the surface of the substrate of the film It is intended to provide a method for preparing a fingerprint film and a fingerprint film produced by the method.
상기한 목적을 달성하기 위해, 본 발명에서는 내지문 필름의 제조 방법에 있어서, 나노 구조물이 형성된 원통형 금형을 이용하여 UV 임프린트 롤 투 롤 공정을 수행함에 따라, 필름 표면 상에 상기 나노 구조물에 대응되는 나노 패턴이 형성되는 것을 특징으로 하는 나노 패턴이 형성된 내지문 필름의 제조 방법을 제공한다.In order to achieve the above object, in the present invention, in the production method of anti-fingerprint film, by performing a UV imprint roll-to-roll process using a cylindrical mold having a nanostructure is formed, corresponding to the nanostructure on the film surface It provides a method for producing a fingerprint-printed nano-pattern film characterized in that the nano-pattern is formed.
또한, 상기 원통형 금형은 진공 챔버 내에서 플라즈마 처리를 수행함에 따라 형성된 표면의 나노 구조물을 갖는 것을 특징으로 하는 나노 패턴이 형성된 내지문 필름의 제조 방법을 제공한다.In addition, the cylindrical mold provides a method for producing a nano-patterned fingerprint film, characterized in that it has a nanostructure of the surface formed by performing a plasma treatment in a vacuum chamber.
또한, 상기 UV 임프린트 롤 투 롤 공정에서는 필름 표면에 UV 경화성 수지를 도포한 다음, 원통형 금형에 밀착하여 나노 구조물을 전사시킨 후, UV를 조사하여 경화시키는 공정인 것을 특징으로 하는 나노 패턴이 형성된 내지문 필름의 제조 방법을 제공한다.In addition, in the UV imprint roll-to-roll process, after coating the UV curable resin on the surface of the film, the nano-structure is formed, the step of transferring the nanostructures in close contact with the cylindrical mold, and then irradiated with UV cured Provided are methods for producing a fingerprint film.
한편, 본 발명에서는 내지문 필름에 있어서, 나노 구조물이 형성된 원통형 금형을 이용한 UV 임프린트 롤 투 롤 공정을 통하여, 필름 표면에 상기 나노 구조물에 대응되는 나노 패턴이 형성되는 것을 특징으로 하는 나노 패턴이 형성된 내지문 필름을 제공한다.On the other hand, in the present invention, the nano-pattern is characterized in that the nano-pattern is formed on the surface of the anti-fingerprint film, through a UV imprint roll-to-roll process using a cylindrical mold having a nanostructure is formed on the surface of the film Provides a fingerprint film.
또한, 상기 원통형 금형은 진공 챔버 내에서 플라즈마 처리를 수행함에 따라 형성된 표면의 나노 구조물을 갖는 것을 특징으로 하는 나노 패턴이 형성된 내지문 필름을 제공한다.In addition, the cylindrical mold provides a nano-pattern formed fingerprint film, characterized in that it has a nanostructure of the surface formed by performing a plasma treatment in a vacuum chamber.
또한. 상기 UV 임프린트 롤 투 롤 공정에서는 필름 표면에 UV 경화성 수지를 도포한 다음, 원통형 금형에 밀착하여 나노 구조물을 전사시킨 후, UV를 조사하여 경화시키는 공정인 것을 특징으로 하는 나노 패턴이 형성된 내지문 필름을 제공한다.
Also. In the UV imprint roll-to-roll process, after applying a UV curable resin on the surface of the film, the nano-structure formed fingerprint pattern, characterized in that the step of transferring the nanostructures in close contact with the cylindrical mold, and then irradiated and cured with UV To provide.
이상에서 설명한 바와 같이 본 발명에 따른 나노 패턴이 형성된 내지문 필름 및 그 제조 방법은 간단한 공정에 의하여 내지문 필름을 제작하기 위한 나노 패턴이 형성된 원통형 금형 및 이러한 원통형 금형에 의하여 내지문 필름을 제작할 수 있는 방법을 제안한다.As described above, the anti-fingerprint film having a nano-pattern according to the present invention and a method for manufacturing the anti-fingerprint film may be manufactured by a cylindrical mold having a nano-pattern for producing an anti-fingerprint film by a simple process, and by the cylindrical mold. I suggest a way.
따라서, 본 발명에 따른 나노 패턴이 형성된 내지문 필름의 제조 방법에서는 간단한 공정으로 내지문 필름의 제작이 가능해지고, 내지문 필름의 대량 생산이 가능하게 되는 효과가 있다.Therefore, in the method for producing a fingerprint pattern in which the nanopattern is formed according to the present invention, it is possible to produce the fingerprint film in a simple process, thereby enabling mass production of the fingerprint film.
또한, 본 발명에 따른 나노 패턴이 형성된 내지문 필름 및 그 제조 방법에서는 내지문 필름에 형성된 나노 패턴에 의하여 인체 분비물이 필름 표면에 잔류하는 것을 방지하여 내지문 기능이 향상되는 효과가 있다.
In addition, the anti-fingerprint film and the method of manufacturing the nano-pattern formed in accordance with the present invention has the effect that the anti-fingerprint function is improved by preventing the human secretion remains on the film surface by the nano-pattern formed on the anti-fingerprint film.
도 1은 표면에 남겨진 지문의 구체적인 자취 및 이러한 지문의 자취를 현미경으로 확대하여 촬영한 것을 도시한 것이고,
도 2는 본 발명에 따른 나노 패턴이 형성된 내지문 필름의 제조를 위한 금형 제작 공정을 개략적으로 도시한 것이고,
도 3은 본 발명에 따른 나노 패턴이 형성된 내지문 필름의 제작을 위한 롤 투 롤(Roll-to-Roll) 공정을 개략적으로 도시한 것이고,
도 4는 본 발명에 따라 제작된 내지문 필름 상에 지문 액적이 위치한 형상을 개략적으로 도시한 개념도이다.Figure 1 shows a specific trace of the fingerprint left on the surface and a photograph taken by magnifying the trace of such a fingerprint,
Figure 2 schematically shows a mold manufacturing process for the production of the anti-fingerprint film formed nano pattern according to the present invention,
Figure 3 schematically shows a roll-to-roll process for the production of anti-fingerprint film with a nano-pattern according to the present invention,
4 is a conceptual view schematically showing a shape in which fingerprint droplets are placed on a fingerprint film produced according to the present invention.
본 발명은 지문 상의 인체 분비물이 필름의 기재 표면에 머무르는 것을 저해하기 위하여, 필름의 습윤성을 줄이며 필름 표면과 분비물 상이의 표면 에너지를 줄일 수 있도록 필름의 표면에 나노 패턴을 형성하는 한편, 그 표면에 화학적 처리를 병행하여 수행함으로써 간단한 공정으로 내지문성을 제공할 수 있는 내지문 필름의 제조 방법 및 이를 통해 제작된 나노 패턴이 형성된 내지문 필름을 제공한다.The present invention forms nano-patterns on the surface of the film so as to reduce the wettability of the film and reduce the surface energy between the film surface and the secretion, in order to inhibit the human secretion on the fingerprint from remaining on the substrate surface of the film, while By performing a chemical treatment in parallel to provide a fingerprinting method that can provide fingerprinting in a simple process, and provides a fingerprinting film formed with a nano-pattern produced through this.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, “포함하다” 또는 “가지다” 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들의 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular example embodiments only and is not intended to be limiting of the present invention. The singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. In this application, the terms “comprises” or “having” are intended to indicate that there is a feature, number, step, action, component, part, or combination thereof described in the specification, and one or more other It is to be understood that the present invention does not exclude the possibility of the presence or the addition of features, numbers, steps, operations, components, parts, or a combination thereof.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 나노 패턴이 형성된 내지문 필름의 제조 방법 및 이러한 제조 방법에 의하여 제작된 나노 패턴이 형성된 내지문 필름에 관하여 구체적으로 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail with respect to the manufacturing method of the nano-pattern formed fingerprints and the fingerprint-printed nano-pattern produced by the production method according to the present invention.
본 발명에서는 필름에 내지문성을 부여하기 위하여, 표면 상에 자취로 남아 지문을 형성하는 인체 분비물이 필름 기재의 표면에 머무르는 것을 저해할 수 있도록 설계하고자, 이러한 기능을 달성하기 위하여 필름의 습윤성을 줄이며 필름 표면과 분비물 사이의 표면 에너지를 줄일 수 있는 방식의 제작된 내지문 필름을 제안한다.In the present invention, in order to impart a fingerprint to the film, it is designed to inhibit the human secretion remaining as a trace on the surface to form a fingerprint on the surface of the film substrate, to reduce the wettability of the film to achieve this function We propose a fabricated anti-fingerprint film in a manner that can reduce the surface energy between the film surface and the secretions.
이러한 내지문 필름 제작을 위한 구체적인 공정은 도 2 및 도 3에 상세하게 도시되어 있다.The specific process for producing such a fingerprint film is shown in detail in FIGS. 2 and 3.
본 발명에 따른 나노 패턴이 형성된 내지문 필름을 제작하기 위한 제조 공정은 크게 두가지 공정으로 구분된다.The manufacturing process for manufacturing the anti-fingerprint film having a nano-pattern according to the present invention is largely divided into two processes.
구체적으로 이러한 두가지 공정은 필름을 제작하기 전 사전 단계로서 나노 패턴을 형성하기 위한 금형을 제작하는 공정과 이를 통해 제작된 금형을 이용하여 나노 패턴을 필름에 전사하는 공정을 나타낸다.Specifically, these two processes represent a process of manufacturing a mold for forming a nanopattern as a preliminary step before fabricating the film, and a process of transferring the nanopattern to the film using the manufactured mold.
그러므로, 본 발명에 따른 나노 패턴이 형성된 내지문 필름의 제조 방법에서는 나노 패턴을 내지문 필름 상에 형성할 수 있도록 나노 구조물이 형성된 원통형 금형을 제작한 다음, 이러한 원통형 금형을 UV 임프린트 롤 투 롤 공정에 적용함으로써, 상기 원통형 금형의 나노 구조물을 필름에 전사하여 나노 패턴이 형성된 내지문 필름을 제작한다.Therefore, in the manufacturing method of the anti-fingerprint film formed with a nanopattern according to the present invention, a cylindrical mold having a nanostructure is formed to form a nanopattern on the anti-fingerprint film, and then the cylindrical mold is subjected to a UV imprint roll-to-roll process. By applying to, the nanostructure of the cylindrical mold is transferred to a film to produce an anti-fingerprint film having a nano pattern formed thereon.
이와 관련하여, 첨부된 도 2는 본 발명에 따른 나노 패턴이 형성된 내지문 필름을 제작하기 위한 금형 제작 공정을 개략적으로 도시하고 있는 것이고, 도 3은 도 2에서와 같은 공정을 통하여 제작된 금형을 이용하여 나노 패턴을 필름에 전사시키는 공정을 개략적으로 도시한 것이다.In this regard, FIG. 2 is a schematic diagram illustrating a mold fabrication process for fabricating an anti-fingerprint film having a nano-pattern according to the present invention, and FIG. 3 illustrates a mold fabricated through the process as in FIG. Schematically illustrating a process of transferring a nanopattern to a film by using the same.
도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명에서의 나노 패턴 형성을 위한 금형 타입은 필름의 대량 생산을 위하여 후술할 롤 투 롤(Roll-to-Roll) 공정을 적용하기 위한 원통형 금형(100)으로 제작된다.As shown in FIG. 2, the mold type for forming a nano pattern in the present invention is manufactured as a
이러한 원통형 금형(100)은 필름을 제작 시 압력을 가했을 때 압력을 견딜 수 있는 있는 강성을 가지면서 플라즈마 처리를 통한 나노 패턴 형성이 가능한 재료로 구성하여야 한다. 이러한 재료로는 가공성과 공정성을 고려했을 때 질량이 가벼운 금속류나 유리재질이 이용될 수 있다.The
가공된 원통형 금형(100)은 도 2에 도시된 바와 같이, 진공챔버 내에서 플라즈마가 생성 가능한 진공도에서 플라즈마 처리를 실시하면서 소정의 조건에서 표면에 나노 구조물을 생성시키게 된다.As shown in FIG. 2, the processed
도 2에서 도시된 바와 같이, 나노 구조물이 형성된 원통형 금형(100)의 제작 공정과 관련하여, 본 발명에서는 통상적인 플라즈마 이온 스퍼터링 공정을 이용하여 공정 조건을 적절히 조절함에 따라 원통형 금형(100) 표면에서 반복적인 나노 패턴을 형성할 수 있다.As shown in Figure 2, with respect to the manufacturing process of the
이러한 이온 스퍼터링 공정에서, 이온을 이용하여 나노 패턴을 형성할 때 가장 중요한 인자는 이온의 입사각이다. 입사각이 작은 경우(5도 ~ 30도)에는 대체적으로 점 패턴이 형성이 되며, 입사각이 커질 경우(75도) 선 패턴이 형성되는 현상을 볼 수 있다.In this ion sputtering process, the most important factor when forming a nano pattern using ions is the incident angle of ions. When the incident angle is small (5 degrees to 30 degrees), a dot pattern is generally formed, and when the incident angle is large (75 degrees), a line pattern is formed.
또한 전압으로 조절이 가능한 이온의 에너지에 따라 패턴의 사이즈와 간격이 조절 가능하며, 예를 들어, 500 ~ 2000 eV를 가했을 경우 30 ~ 70 nm 간견의 패턴이 형성된다.In addition, the size and spacing of the pattern can be adjusted according to the energy of ions that can be adjusted by voltage. For example, when a 500-2000 eV is applied, a pattern of 30-70 nm intermittent patterns is formed.
도 3에서는 나노 구조물이 제작된 원통형 금형을 이용하여 내지문 필름을 제작하는 공정을 개략적으로 도시하고 있다.FIG. 3 schematically illustrates a process of manufacturing a anti-fingerprint film using a cylindrical mold in which nanostructures are manufactured.
본 발명에서는 도 3에 도시된 것처럼, 원통형 금형(100)을 이용한 롤 투 롤(Roll-to-Roll) 공정을 적용하여 필름(200) 상에 나노 패턴을 형성한다.In the present invention, as shown in Figure 3, by applying a roll-to-roll (Roll-to-Roll) process using the
구체적으로, 본 발명에 따른 나노 패턴이 형성된 내지문 필름의 제조 방법에서는 금형의 나노 구조물을 필름에 전사하기 위하여 UV 임프린트 공정을 사용한다.Specifically, in the method for producing a nano-patterned anti-fingerprint film according to the present invention, a UV imprint process is used to transfer the nanostructure of the mold to the film.
따라서, 본 발명에서는 필름 표면에 UV경화성 수지도포 후 필름을 원통형 금형(100)과 밀착하여 나노 구조물을 전사 후 바로 UV를 조사하여 경화시키는 공정을 거치도록 구성할 수 있다.Therefore, in the present invention, after the UV-curable resin coating on the surface of the film is in close contact with the
도 3에서와 같은 UV 임프린트 롤 투 롤 공정을 통하여, 필름(200) 상에는 원통형 금형(100) 상에 형성된 나노 구조물에 대응되는 나노 패턴이 형성되게 되며, 이러한 나노 패턴은 표면에서의 지문이 형성되는 것을 억제한다.Through the UV imprint roll-to-roll process as shown in FIG. 3, a nanopattern corresponding to the nanostructure formed on the
이러한 방식으로 제작된 나노 패턴이 형성된 내지문 필름의 표면에서의 지문 액적의 형상은 도 4에 도시되어 있다.The shape of the fingerprint droplets on the surface of the anti-fingerprint film formed in this manner is shown in FIG. 4.
도 4에 도시된 바와 같이 본 발명에 따라 제작된 나노 패턴(300)이 형성된 내지문 필름은 필름의 습윤성을 줄이며 필름 표면과 분비물 사이의 표면에너지를 줄임으로 해서 인체 분비물이 필름(200) 표면에 남는 것을 방해하게 되어, 필름(200)의 표면에 지문이 생성되는 것을 억제하여 필름 표면에 지문 형성으로 인한 오염이 발생하는 것을 방지하게 된다.As shown in FIG. 4, the anti-fingerprint film formed with the
이상에서와 같이, 본 발명은 바람직한 실시 예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술분야의 숙련된 당업자는 본 발명의 범위를 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명의 요소들에 대한 수정 및 변경의 가능함을 이해할 수 있을 것이다. 또한, 본 발명의 필수적인 영역을 벗어나지 않는 범위 내에서 특별한 상황들이나 재료에 대하여 많은 변경이 이루어질 수 있다. 그러므로, 본 발명은 본 발명의 바람직한 실시 예의 상세한 설명으로 제한되지 않으며, 첨부된 특허청구범위 내에서 모든 실시 예들을 포함할 것이다.
As described above, the present invention has been described with reference to a preferred embodiment, those skilled in the art will understand that modifications and variations of the elements of the present invention can be made without departing from the scope of the present invention. There will be. In addition, many modifications may be made to particular circumstances or materials without departing from the essential scope of the invention. Therefore, the invention is not limited to the details of the preferred embodiments of the invention, but will include all embodiments within the scope of the appended claims.
100: 원통형 금형
200: 필름
300: 나노 패턴100: cylindrical mold
200: film
300: nano pattern
Claims (6)
나노 구조물이 형성된 원통형 금형을 이용하여 UV 임프린트 롤 투 롤 공정을 수행함에 따라, 필름 표면 상에 상기 나노 구조물에 대응되는 나노 패턴이 형성되고,
상기 원통형 금형은 진공 챔버 내에서 플라즈마 처리를 수행함에 따라 형성된 표면의 나노 구조물을 갖는 것을 특징으로 하는 나노 패턴이 형성된 내지문 필름의 제조 방법.
In the production method of the anti-fingerprint film,
By performing a UV imprint roll-to-roll process using a cylindrical mold having nanostructures formed thereon, a nanopattern corresponding to the nanostructures is formed on the film surface.
The cylindrical mold has a nano-pattern formed anti-fingerprint film, characterized in that it has a nanostructure of the surface formed by performing a plasma treatment in a vacuum chamber.
상기 UV 임프린트 롤 투 롤 공정에서는 필름 표면에 UV 경화성 수지를 도포한 다음, 원통형 금형에 밀착하여 나노 구조물을 전사시킨 후, UV를 조사하여 경화시키는 공정인 것을 특징으로 하는 나노 패턴이 형성된 내지문 필름의 제조 방법.
The method according to claim 1,
In the UV imprint roll-to-roll process, after applying a UV curable resin on the surface of the film, the nano-structure formed fingerprint pattern, characterized in that the step of transferring the nanostructures in close contact with the cylindrical mold, and then irradiated and cured with UV Method of preparation.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020100126316A KR101243182B1 (en) | 2010-12-10 | 2010-12-10 | Method for fabricating anti fingerprint film with nano-pattern |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020100126316A KR101243182B1 (en) | 2010-12-10 | 2010-12-10 | Method for fabricating anti fingerprint film with nano-pattern |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20120065015A KR20120065015A (en) | 2012-06-20 |
| KR101243182B1 true KR101243182B1 (en) | 2013-03-14 |
Family
ID=46684922
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020100126316A KR101243182B1 (en) | 2010-12-10 | 2010-12-10 | Method for fabricating anti fingerprint film with nano-pattern |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR101243182B1 (en) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101720155B1 (en) | 2015-01-21 | 2017-03-27 | 부산대학교 산학협력단 | Complex nanopattern film with antireflectivity and antimirobiality and Method for fabricating the same |
| KR102108732B1 (en) * | 2017-08-31 | 2020-05-28 | 주식회사 그린맥스 | preparing method of paper sheet having feel of velvet |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20100033818A1 (en) | 2008-08-07 | 2010-02-11 | Uni-Pixel Displays,Inc. | Microstructures to reduce the appearance of fingerprints on surfaces |
| KR20100102921A (en) * | 2009-03-12 | 2010-09-27 | 주식회사 미뉴타텍 | Window panel for display device and fabrication method thereof |
-
2010
- 2010-12-10 KR KR1020100126316A patent/KR101243182B1/en not_active IP Right Cessation
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20100033818A1 (en) | 2008-08-07 | 2010-02-11 | Uni-Pixel Displays,Inc. | Microstructures to reduce the appearance of fingerprints on surfaces |
| KR20100102921A (en) * | 2009-03-12 | 2010-09-27 | 주식회사 미뉴타텍 | Window panel for display device and fabrication method thereof |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20120065015A (en) | 2012-06-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2010103464A5 (en) | ||
| KR20080024364A (en) | Mold for nano-imprinting and method of manufacturing the mold | |
| TW201109191A (en) | Production method of three dimensional pattern, workpiece with three demensional pattern, and production device of three dimensional pattern | |
| TW201608607A (en) | Mold for step-and-repeat imprinting, and method for producing same | |
| WO2012027050A3 (en) | Mask for near-field lithography and fabrication the same | |
| KR20130057261A (en) | Method for manufacturing nano wire grid polarizer | |
| TW201111158A (en) | Functional nanoparticles | |
| KR101632504B1 (en) | method for the fabrication of nanostructures based on adhesion control using solvent vapor and nanotransfer printing using the same | |
| JP2010158805A (en) | Method of manufacturing mold for photo imprinting | |
| CN110174818A (en) | The nano impression preparation method and its substrate of substrate | |
| US20130340929A1 (en) | Method of manufacturing stamp for plasmonic nanolithography apparatus and plasmonic nanolithography apparatus | |
| WO2011123433A3 (en) | Method of slimming radiation-sensitive material lines in lithographic applications | |
| TWI665078B (en) | Method of manufacturing patterned stamp forpatterning contoured surface, patterned stampfor use in imprint lithography process, imprint lithography method, article comprising patterned contoured surface and use of a patterned stamp for imprint lithograph | |
| KR101243182B1 (en) | Method for fabricating anti fingerprint film with nano-pattern | |
| CN112558419A (en) | Processing method of large-caliber flexible optical super-structure surface structure | |
| CN102183875A (en) | Roller-type ultraviolet ray soft stamping method | |
| JP2011183731A (en) | Production process of mold for nano-imprinting | |
| CN103744134A (en) | Shading array lens and manufacturing method thereof | |
| US11982938B2 (en) | Imprint template, preparation method thereof and imprint method | |
| KR101575879B1 (en) | Patterning method using reversal imprint process | |
| KR101704587B1 (en) | How to implement a complex pattern and complex pattern implemented sheet | |
| Lee et al. | Large-area nanoimprinting on various substrates by reconfigurable maskless laser direct writing | |
| JP2008226877A (en) | Process for fabricating electronic device | |
| JP2013237157A (en) | Method of manufacturing resin molded body, resin molded body and mold | |
| KR20100050699A (en) | Patterning method of metal line on flexible substrate using nanoimprint lithography |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant | ||
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160307 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170307 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180305 Year of fee payment: 6 |
|
| LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |