KR101231184B1 - Permeable membrane inspecting device of glass - Google Patents

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KR101231184B1
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이순종
우봉주
박병찬
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(주)쎄미시스코
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Abstract

PURPOSE: An apparatus for inspecting a film on a substrate is provided to prevent display errors by efficiently inspecting the twist of the film coated on the surface of the substrate. CONSTITUTION: A lighting module(20) is arranged on the lower side of an inspection table(10). The lighting module irradiates light to the substrate. A camera module(30) is arranged on the upper side of the lighting module and photographs the edges of a vertical part and a horizontal part, and the surface of the substrate. An inspecting unit controls the operation of the camera module and the lighting module.

Description

기판 성막 검사장치{Permeable membrane inspecting device of glass}Permeable membrane inspecting device of glass

본 발명은 OLED(Organic Light Emitting Diode, 유기 LED) 또는 LCD용 기판(이하, "기판" 이라함)의 표면에 도포되는 성막(예; 폴리이미드(PI; Polyimde))의 불량여부를 검사하는 기술에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 기판의 표면에 도포되는 성막과 기판 에지부분과의 거리를 측정하여, 기판의 표면에 도포된 성막의 비틀어짐 불량을 검사할 수 있도록 하는 기판 성막 검사장치에 관한 것이다.The present invention is a technology for inspecting defects in film formation (eg, polyimide (PI)) applied to a surface of an organic light emitting diode (OLED) or an LCD substrate (hereinafter referred to as a "substrate"). In more detail, the present invention relates to a substrate deposition inspection apparatus for measuring the distance between the film deposition applied to the surface of the substrate and the edge portion of the substrate so as to inspect the distortion of the film deposition applied to the surface of the substrate. .

박막 트랜지스터 액정표시장치는 크게 박막 트랜지스터가 형성되는 하부 기판과, 컬러 필터가 형성되는 상부 기판 및, 하부 기판과 상부 기판 사이에 주입된 액정으로 구성되며, 상기 액정표시장치를 제조하는 공정은 박막트랜지스터(TFT) 공정, 셀 공정, 모듈 공정과 같이 세 부분으로 나뉠 수 있다.The thin film transistor liquid crystal display device includes a lower substrate on which a thin film transistor is formed, an upper substrate on which a color filter is formed, and a liquid crystal injected between the lower substrate and the upper substrate, and the process of manufacturing the liquid crystal display device is a thin film transistor. It can be divided into three parts such as (TFT) process, cell process and module process.

상기 TFT 공정은 반도체 제작 공정과 매우 유사하며, 증착 공정(deposition) 및 사진식각 공정(Photolithography), 식각 공정(Etching)을 반복하여 기판 위에 박막트랜지스터를 배열하여 제작하는 공정이다.The TFT process is very similar to a semiconductor fabrication process, and is a process of arranging a thin film transistor on a substrate by repeating a deposition process, a photolithography process, and an etching process.

상기 셀 공정은 TFT 하판과 컬러필터(Color filter)가 형성된 상판에 배향막을 형성하고, 배향막에 액정이 잘 정렬할 수 있도록 배향을 한 후, 스페이서(spacer)를 산포하고, 실(Seal) 인쇄를 하여 합착한다. 합착 후에 모세관 현상을 이용하여 액정을 내부에 주입한 후, 주입구를 봉지함으로써 액정표시장치에 대한 제조공정은 마무리가 된다.In the cell process, an alignment layer is formed on a TFT lower plate and an upper plate on which a color filter is formed, alignment is performed so that liquid crystals can be well aligned on the alignment layer, and then, spacers are dispersed and seal printing is performed. To adhere. After the bonding, the liquid crystal is injected into the inside by using a capillary phenomenon, and then the manufacturing process for the liquid crystal display device is finished by sealing the injection hole.

상기 모듈 공정은 최종적으로 사용자에게 전해지는 제품 품질을 결정하는 단계로서, 완성된 패널에 편광판을 부착하고 구동 집적회로(Driver-IC)를 실장한 후, 인쇄회로기판(Printed Circuit Board: PCB)를 조립하여 최종적으로 백라이트 유닛(Backlight unit)과 기구물을 조립함으로써, 액정 모듈이 완성된다.The module process is a step of finally determining the product quality to be delivered to the user, attaching the polarizing plate to the completed panel, mounting the driver-IC, and then printed printed circuit board (PCB) By assembling and finally assembling the backlight unit and the fixture, the liquid crystal module is completed.

한편, OLED는 상판과 하판 그라스 사이의 각 셀에 유기물질을 증착하여 제조하게 되는 것으로, 이러한 OLED는 낮은 전압에서 구동이 가능하고 얇은 박형으로 만들 수 있다는 장점이 있으며, 넓은 시야각과 빠른 응답속도를 갖고 있어 일반 LCD(Liquid Crystal Display)와 달리 바로 옆에서 보아도 화질이 변하지 않고, 화면에 잔상이 남지 않는다.On the other hand, OLED is manufactured by depositing an organic material in each cell between the top and bottom glass, the OLED has the advantage that can be driven at a low voltage and made thin, and has a wide viewing angle and fast response speed Unlike a normal LCD (Liquid Crystal Display), the image quality does not change even when viewed from the side, and no afterimage remains on the screen.

또한 소형 화면에서는 LCD 이상의 화질과 단순한 제조공정으로 인하여 유리한 가격 경쟁력을 갖는다.In addition, the small screen has an advantageous price competitiveness due to the image quality of LCD and simple manufacturing process.

이러한 OLED는 컬러 표시 방식에 있어서, 3(Red, Green, Blue)색 독립화소방식, 색변환 방식(CCM), 컬러 필터 방식이 있으며 디스플레이에 사용하는 발광재료에 따라 저분자 OLED와 고분자 OLED, 구동방식에 따라 수동형 구동방식(passive matrix)과 능동형 구동방식(active matrix)으로 구분한다.These OLEDs have 3 (Red, Green, Blue) color independent pixel method, color conversion method (CCM), and color filter method in the color display method. The passive matrix is divided into passive matrix and active matrix.

또한 OLED는 LCD, PDP(Plasma Display Panel)에 비해 구조적으로 단순하며, 두께가 얇을 뿐 아니라 휘어질 수 있는 성질도 있어 플렉시블 디스플레이(Flexible display) 시장을 밝게 해주고 있다.In addition, OLED is structurally simpler than LCD and plasma display panel (PDP), and it is not only thin, but also flexible, which brightens the flexible display market.

이때, 상기 LCD 또는 OLED의 기판을 제조하는 공정에 있어, 상기 기판 표면에 도포되어 형성되는 성막들은 그 도포에 따른 정렬이 정교하게 이루어져야 하며, 만약 그 정렬에 불량이 발생할 경우에는 기판의 표시 불량이 발생하는 문제가 있다.At this time, in the process of manufacturing the substrate of the LCD or OLED, the deposition formed on the surface of the substrate must be precisely aligned according to the application, if the display failure of the substrate is poor There is a problem that occurs.

즉, 기판의 표면에 성막을 도포시, 성막과 기판의 에지부분 사이의 수평 및 수직 거리는 일정해야 하지만, 기판의 표면에 성막을 도포하여 형성할 때, 상기 도포되는 성막과 기판 에지부분의 수평 및 수직 거리가 일정하지 못하고 비틀어지는 경우가 종종 발생하였는데, 종래에는 이러한 성막의 비틀어짐을 검사하는 장비가 마련되어 있지 않았다.That is, when the film is applied to the surface of the substrate, the horizontal and vertical distance between the film and the edge portion of the substrate should be constant, but when the film is formed by applying the film to the surface of the substrate, the horizontal and Occasionally, vertical distances are not constant and are distorted, and conventionally, there is no equipment for inspecting the distortion of such deposition.

따라서, 본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 개선하기 위한 것으로, 기판의 표면에 도포되는 성막과 기판 에지부분의 수평 및 수직 거리가 일정한지를 검사하는 장비를 구성함으로써, 기판의 표면에 도포된 성막의 비틀어짐 불량을 효과적으로 검사하고, 이를 통해 공정챔버를 통해 LCD 또는 OLED 제품의 제조가 완료된 상태에서 성막 위치 불균일에 따른 표시 불량을 방지할 수 있도록 하는 기판 성막 검사장치를 제공함에 그 목적이 있는 것이다.Accordingly, the present invention is to improve the conventional problems as described above, and to form a film applied to the surface of the substrate by configuring a device for inspecting whether the film is applied to the surface of the substrate and the horizontal and vertical distance of the substrate edge portion is constant It is an object of the present invention to provide a substrate deposition inspection apparatus that effectively inspects a twisting defect of a film, and thereby prevents a display defect due to a film deposition position unevenness in a state in which an LCD or OLED product is manufactured through a process chamber. .

상기 목적 달성을 위한 본 발명 기판 성막 검사장치는, 검사대; 상기 검사대의 하단에 배치되고, 상기 검사대를 성막이 도포된 기판이 통과시 상기 기판으로 광원을 조사하는 조명모듈; 상기 조명모듈의 상단에 배치되고, 상기 조명모듈로부터 기판으로 광원이 조사될 때, 상기 기판의 표면과 수평부 및 수직부의 에지를 촬영하는 카메라모듈; 및, 상기 조명모듈과 상기 카메라모듈의 동작을 제어하고, 상기 카메라모듈에 의해 촬영된 이미지정보로부터 기판의 표면에 도포된 성막과 기판의 수평부 및 수직부 에지의 거리가 각각 정상범위내의 거리인지를 검사하는 검사유닛; 을 포함하여 구성하는 것이다.The present invention substrate deposition inspection apparatus for achieving the above object, the inspection table; An illumination module disposed at a lower end of the inspection table and irradiating a light source to the substrate when the substrate coated with the inspection table passes; A camera module disposed on an upper end of the illumination module and photographing edges of a horizontal portion and a vertical portion of the surface of the substrate when the light source is irradiated from the illumination module to the substrate; And controlling the operation of the illumination module and the camera module, and whether the distances formed on the surface of the substrate from the image information photographed by the camera module and the distance between the horizontal and vertical edges of the substrate are within a normal range, respectively. Inspection unit for inspecting; It will be configured to include.

또한, 상기 카메라모듈은 이동하는 기판의 표면 및 수평부 및 수직부 에지를 라인스캔 방식으로 촬영하는 라인스캔 카메라인 것이다.In addition, the camera module is a line scan camera for photographing the surface of the moving substrate and the horizontal portion and the vertical portion edge in a line scan method.

또한, 상기 조명모듈은 Xe-램프, 할로겐 램프, 고주파 형광등, LED조명기 중 어느 하나인 것이다.In addition, the lighting module is any one of an Xe-lamp, a halogen lamp, a high frequency fluorescent lamp, an LED lighting device.

또한, 상기 검사유닛은 카메라모듈로부터 촬영되는 이미지정보로부터 기판의 표면에 도포된 성막과 기판의 수평부 및 수직부 에지의 거리를 산출한 후 그 산출값을 정상범위 기준값과 비교 연산하여 정상 또는 비틀림 불량인지를 검사하는 검사프로그램을 탑재 구성하는 것이다.In addition, the inspection unit calculates the distance between the film formed on the surface of the substrate and the edges of the horizontal and vertical edges of the substrate from the image information photographed from the camera module, and then calculates the calculated value by comparing it with the normal range reference value to normal or torsion. It is equipped with an inspection program that checks for defects.

또한, 상기 기판의 표면에 도포된 성막과 기판의 수평부 및 수직부 에지의 거리에 대한 정상범위 기준값은 상기 검사유닛내에 기 저장되는 것이다.In addition, the normal range reference value for the film formed on the surface of the substrate and the distance between the horizontal and vertical edges of the substrate is pre-stored in the inspection unit.

또한, 상기 기판의 표면에 도포된 성막과 기판의 수평부 에지의 거리는 이미지정보로부터 측정되는 성막과 수평부 에지 사이의 픽셀(Pixel)값에 1픽셀당 기준길이를 연산(곱셈)하여 산출하고, 상기 기판의 표면에 도포된 성막과 기판의 수직부 에지의 거리는 이미지정보로부터 측정되는 성막과 수직부 에지 사이의 픽셀수에 1픽셀당 기준길이를 연산(곱셈)하여 산출하는 것이다.In addition, the distance between the film formed on the surface of the substrate and the horizontal edge of the substrate is calculated by calculating (multiplying) the reference length per pixel by the pixel value between the film formed from the image information and the horizontal edge. The distance between the film formed on the surface of the substrate and the vertical edge of the substrate is calculated by calculating (multiplying) the reference length per pixel on the number of pixels between the film formed and the vertical edge measured from the image information.

이와 같이 본 발명은 기판의 표면에 도포되는 성막과 기판 에지부분의 수평 및 수직 거리가 일정한지를 검사하는 장비를 구성한 것으로, 이를 통해 육안 식별이 어려운 기판의 표면에 도포된 성막의 비틀어짐 불량을 효과적으로 검사하면서 공정챔버를 통해 LCD 또는 OLED 제품의 제조가 완료된 상태에서 성막 위치 벗어남에 따른 표시 불량을 방지하는 효과를 기대할 수 있는 것이다.As such, the present invention constitutes a device for inspecting whether the film deposited on the surface of the substrate and the horizontal and vertical distances of the edge portion of the substrate are uniform, thereby effectively preventing distortion of the film deposited on the surface of the substrate, which is difficult to visually identify. While inspecting, the manufacturing process of the LCD or OLED products is completed through the process chamber to prevent the display defect due to the deviation of the deposition position can be expected.

도 1은 본 발명의 실시예로 기판 성막 검사장치의 구조를 보인 측면도.
도 2는 본 발명의 실시예로 기판 성막 검사장치의 구조를 보인 평면도.
도 3은 본 발명의 실시예로 카메라모듈에 의해 이루어진 성막이 형성된 기판의 이미지 정보를 보인 개략도.
도 4는 본 발명의 실시예로 도 3에 대한 확대도로서 단층 성막이 도포된 기판의 에지부분 확대도.
도 5는 본 발명의 실시예로 기판 성막 검사장치의 개략적인 블럭 구성도.
도 6은 본 발명의 다른 실시예로 다층 성막이 도포되는 기판의 에지부분에 대한 확대도.
1 is a side view showing the structure of a substrate deposition inspection apparatus according to an embodiment of the present invention.
Figure 2 is a plan view showing a structure of a substrate deposition inspection apparatus in an embodiment of the present invention.
3 is a schematic view showing image information of a substrate on which a film is formed by a camera module in an embodiment of the present invention.
Figure 4 is an enlarged view of Figure 3 in an embodiment of the present invention an enlarged view of the edge portion of the substrate to which a single layer film is applied.
5 is a schematic block diagram of a substrate deposition inspection apparatus according to an embodiment of the present invention.
6 is an enlarged view of an edge portion of a substrate to which multilayer deposition is applied according to another embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하기로 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 실시예로 기판 성막 검사장치의 구조를 보인 측면도이고, 도 2는 본 발명의 실시예로 기판 성막 검사장치의 구조를 보인 평면도이며, 도 3은 본 발명의 실시예로 카메라모듈에 의해 이루어진 성막이 형성된 기판의 이미지 정보를 보인 개략도이고, 도 4는 본 발명의 실시예로 도 3에 대한 확대도로서 단층 성막이 도포된 기판의 에지부분 확대도이며, 도 5는 본 발명의 실시예로 기판 성막 검사장치의 개략적인 블럭 구성도를 도시한 것이다.1 is a side view showing a structure of a substrate deposition inspection apparatus according to an embodiment of the present invention, Figure 2 is a plan view showing a structure of a substrate deposition inspection apparatus according to an embodiment of the present invention, Figure 3 is an embodiment of the present invention the camera 4 is a schematic view showing image information of a substrate on which a film formed by a module is formed, FIG. 4 is an enlarged view of FIG. 3 as an embodiment of the present invention, and is an enlarged view of an edge portion of a substrate to which a single layer film is applied, and FIG. An example of the schematic block diagram of a substrate deposition inspection apparatus is shown.

첨부된 도 1 내지 도 5를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 기판 성막 검사장치는 기판(100)의 표면에 폴리이미드 필름(Polyimde film, 이하 PI필름 이라함)을 포함하는 성막(101)들을 상기 기판(100) 위에 도포함으로써 패턴을 형성시, 상기 성막(101)이 비틀어졌는지를 검사하도록 상기 기판(100)이 투입되는 검사대(10)에 구성되는 것으로, 이러한 본 발명은 조명모듈(20), 카메라모듈(30), 그리고 검사유닛(40)을 포함하는 것이다.1 to 5, the substrate deposition inspection apparatus according to an embodiment of the present invention includes a film formation 101 including a polyimide film (hereinafter referred to as a PI film) on the surface of the substrate 100. When the pattern is formed by coating them on the substrate 100, the substrate 100 is inserted into the inspection table 10 to inspect whether the film formation 101 is twisted. The present invention provides a lighting module 20. ), The camera module 30, and the inspection unit 40.

상기 조명모듈(20)은 Xe-램프, 할로겐 램프, 고주파 형광등, LED조명기 중 어느 하나로서 상기 검사대(10)의 하단에서 기판(100)의 투입방향(길이방향)과 직교되는 폭 방향으로 배치되며, 상기 검사대(10)에 성막(101)이 도포된 기판(100)이 통과될 때, 상기 기판(100)의 표면은 물론 수평부 및 수직부 에지(H)(V)로 광원을 조사하도록 구성되는 것이다.The lighting module 20 is any one of an Xe-lamp, a halogen lamp, a high frequency fluorescent lamp, and an LED lighting device, and is disposed in a width direction orthogonal to an input direction (length direction) of the substrate 100 at the lower end of the inspection table 10. When the substrate 100 having the film deposition 101 applied to the inspection table 10 passes, the light source is irradiated to the surface of the substrate 100 as well as to the horizontal and vertical edges H and V. Will be.

상기 카메라모듈(30)은 상기 검사대(10))의 상단에 배치되는 것으로, 상기 검사대(10)를 통과하는 기판(100)의 표면은 물론 수평부 및 수직부 에지(H)(V)를 라인스캔 방식으로 촬영한 후 이를 상기 검사유닛(40)에 제공하도록 구성된다.The camera module 30 is disposed on an upper end of the inspection table 10 and lines horizontal and vertical edges H and V as well as the surface of the substrate 100 passing through the inspection table 10. After photographing in a scan method, it is configured to provide it to the inspection unit 40.

즉, 상기 카메라모듈(30)은 상기 조명모듈(20)로부터 기판(100)의 표면은 물론 수평부 및 수직부 에지(H)(V)에 조사되는 광원에 따라 이동하는 기판(100)의 표면은 물론 수평부 및 수직부 에지(H)(V)를 라인스캔 방식으로 촬영하도록 구성되는 것이다.That is, the camera module 30 moves from the illumination module 20 to the surface of the substrate 100, as well as the surface of the substrate 100 that moves in accordance with the light source irradiated to the horizontal and vertical edges (H) (V). Of course, the horizontal and vertical edges (H) (V) is configured to shoot in a line scan method.

상기 검사유닛(40)은 상기 조명모듈(20)과 카메라모듈(30)의 동작을 온/오프 제어하는 제어프로그램이 탑재 구성됨은 물론, 상기 카메라모듈(30)에 의해 촬영된 이미지정보로부터 기판(100)의 표면에 도포된 성막(101)과 기판(100)의 수평부 및 수직부 에지(H)(V)의 거리(d1)(d2)가 각각 정상범위내의 거리인지 또는 비틀림에 의해 비정상 거리를 유지하는지를 검사하는 검사프로그램을 탑재 구성하여 둔 것이다.The inspection unit 40 is equipped with a control program for controlling the operation of the lighting module 20 and the camera module 30 on / off, as well as the substrate (from the image information taken by the camera module 30) The distances d1 and d2 of the film formation 101 applied on the surface of the substrate 100 and the horizontal and vertical edges H and V of the substrate 100 are within a normal range, or are abnormal distances due to twisting. It is equipped with an inspection program that checks whether or not it is maintained.

즉, 상기 검사유닛(40)은 카메라모듈(30)로부터 촬영되는 이미지정보로부터 기판(100)의 표면에 도포된 성막(101)과 기판(100)의 수평부 및 수직부 에지(H)(V)의 거리(d1)(d2)를 산출한 후 그 산출값을 기 저장되는 정상범위 기준값과 비교 연산하여 정상 또는 비틀림 불량인지를 검사하게 되는 것이다.That is, the inspection unit 40 is a film 101 applied to the surface of the substrate 100 from the image information photographed from the camera module 30 and the horizontal and vertical edges (H) (V) of the substrate 100. After calculating the distance (d1) (d2) of the) and compares the calculated value with the pre-stored normal range reference value to check whether the normal or torsional failure.

이때, 상기 기판(100)의 표면에 도포된 성막(101)과 기판(100)의 수평부 에지(H)의 거리(d1)는 이미지정보로부터 측정되는 성막(101)과 수평부 에지(H) 사이의 픽셀(Pixel)값에 1픽셀당 기준길이(예; 46㎛)를 연산(곱셈)하여 산출하게 되는 것이고, 상기 기판(100)의 표면에 도포된 성막(101)과 기판(100)의 수직부 에지(V)의 거리(d2)는 이미지정보로부터 측정되는 성막(101)과 수직부 에지(V) 사이의 픽셀수에 1픽셀당 기준길이(예; 46㎛)를 연산(곱셈)하여 산출하도록 구성된다.At this time, the distance d1 between the film deposition 101 applied on the surface of the substrate 100 and the horizontal edge H of the substrate 100 is measured by the image information 101 and the horizontal edge H. It is calculated by calculating (multiplying) a reference length (for example, 46 μm) per pixel to a pixel value between the substrates 101 and the substrate 100 of the film deposition 101 applied to the surface of the substrate 100. The distance d2 of the vertical edge V is calculated (multiplied) by the reference length per pixel (e.g. 46 占 퐉) to the number of pixels between the film formation 101 and the vertical edge V measured from the image information. Is configured to calculate.

이와 같이 구성된 본 발명의 실시예에 따른 기판 성막 검사장치는 첨부된 도 1 내지 도 5에서와 같이, 우선 표면에 성막(100)이 도포된 기판(100)을 검사대(10)측으로 투입시 검사유닛(40)은 검사대(10)에 마련되는 조명모듈(20)는 물론 카메라모듈(30)을 동작 제어하게 된다.In the substrate deposition inspection apparatus according to the embodiment of the present invention configured as described above, as shown in FIGS. 1 to 5, the inspection unit when the substrate 100 having the deposition film 100 coated on the surface is first injected into the inspection table 10. 40 is to control the operation of the camera module 30 as well as the lighting module 20 provided on the inspection table (10).

즉, 상기 검사유닛(40)은 상기 검사대(10)의 상단에 고정 설치되는 카메라모듈(30)은 물론, 상기 검사대(10)의 하단에 고정 배치되는 바 형태의 조명모듈(20)을 동작 제어하게 되는 바, 상기 조명모듈(20)은 검사대(10)를 통과하는 기판(100)으로 광원을 조사하고, 상기 검사대(10)의 상측에 위치하는 카메라모듈(30)은 상기 검사대(10)를 통과하는 기판(100)에서 수평부 및 수직부 에지(H)(V)를 촬영한 후 이를 검사유닛(40)에 전송하게 된다.That is, the inspection unit 40 controls the camera module 30 fixedly installed at the upper end of the inspection table 10 as well as the bar module lighting module 20 fixedly disposed at the lower end of the inspection table 10. The lighting module 20 irradiates the light source to the substrate 100 passing through the inspection table 10, and the camera module 30 positioned above the inspection table 10 controls the inspection table 10. After photographing the horizontal and vertical edge (H) (V) in the substrate 100 passing through it is transmitted to the inspection unit 40.

그러면, 상기 검사유닛(40)은 검사프로그램을 가동하여 상기 카메라모듈(30)로부터 촬영되는 이미지 정보로부터 기판(100)의 표면에 도포되는 성막(101)이 비틀어졌는지를 검출하게 되는 것이다.Then, the inspection unit 40 starts the inspection program to detect whether the film formation 101 applied to the surface of the substrate 100 is twisted from the image information photographed from the camera module 30.

즉, 상기 검사유닛(40)에는 기판(100)의 표면에 도포된 성막(101)과 기판(100)의 수평부 에지(H)의 거리(d1)에 대한 정상범위 기준값, 상기 기판(100)의 표면에 도포된 성막(101)과 기판(100)의 수직부 에지(V)의 거리(d2)에 대한 정상범위 기준값의 정보가 기 저장되어 있는 바(여기서, 상기 정상범위 기준값들은 각 제조사별로 임의 설정하는 것으로 그 기준값들은 달라질 수 있는 것임),That is, the inspection unit 40 has a normal range reference value for the distance d1 between the film formation 101 applied on the surface of the substrate 100 and the horizontal edge H of the substrate 100, and the substrate 100. Information on the normal range reference value for the distance d2 between the film deposition 101 applied on the surface of the substrate 100 and the vertical edge V of the substrate 100 is previously stored. Is set arbitrarily so that the reference values can vary),

상기 검사유닛(40)은 상기 카메라모듈(30)로부터 촬영하여 제공하는 이미지정보로부터 측정되는 성막(101)과 수평부 에지(H) 사이의 픽셀수(Pixel)에 1픽셀당 기준길이(예; 46㎛)를 연산(곱셈)하여 상기 기판(100)의 표면에 도포된 성막(101)과 기판(100)의 수평부 에지(H)의 거리(d1)를 산출하는 한편, 상기 카메라모듈(30)로부터 촬영하여 제공하는 이미지정보로부터 측정되는 성막(101)과 수직부 에지(V) 사이의 픽셀수에 1픽셀당 기준길이(예; 46㎛)를 연산(곱셈)하여 상기 기판(100)의 표면에 도포된 성막(101)과 기판(100)의 수직부 에지(V)의 거리(d2)를 산출한다.The inspection unit 40 has a reference length per pixel (eg, pixel number) between the film formation 101 and the horizontal edge H measured from the image information photographed from the camera module 30. 46 μm) is calculated (multiplied) to calculate the distance d1 between the film formation 101 applied on the surface of the substrate 100 and the horizontal edge H of the substrate 100, and the camera module 30. A reference length (for example, 46 μm) per pixel is calculated (multiplied) on the number of pixels between the film formation 101 and the vertical edge V measured from the image information photographed and provided. The distance d2 between the film formation 101 applied to the surface and the vertical edge V of the substrate 100 is calculated.

다음으로, 상기 검사유닛(40)은 산출된 기판(100)의 표면에 도포된 성막(101)과 기판(100)의 수평부 및 수직부 에지(H)(V)의 거리(d1)(d2)를 기 저장되는 정상범위 기준값과 비교함으로써, 상기 기판(100)의 표면에 도포되는 성막(101)이 비틀림 상태에서 도포가 이루어졌는지 아니면 정상적으로 도포되었는지를 판정하게 되는 것이다.Next, the inspection unit 40 is a distance d1 (d2) between the calculated film deposition 101 applied to the surface of the substrate 100 and the horizontal and vertical edges H and V of the substrate 100. ) Is compared with the pre-stored normal range reference value, and it is determined whether the film formation 101 applied to the surface of the substrate 100 is applied in a torsion state or normally.

일예로, 상기 카메라모듈(30)로부터 촬영된 이미지정보에서 1픽셀(Pixel)은 46㎛의 길이를 가지므로, 상기 카메라모듈(30)로부터 촬영된 이미지 정보에서 기판(100)의 수평부 에지(H)와 성막(101)과의 거리(d1)가 252픽셀로 측정된다고 가정할 때, 상기 수평부 에지(H)와 성막(101)과의 거리(d1)는 252픽셀×46㎛=11.592mm로 산출되고, 상기 산출된 거리(d1=11.592mm)는 상기 검사유닛(40)에 기 저장되는 정상범위 기준값 범위내에 있는지 확인한다.For example, since one pixel has a length of 46 μm in the image information photographed from the camera module 30, the horizontal edge of the substrate 100 in the image information photographed from the camera module 30. Assuming that the distance d1 between H) and the deposition 101 is measured at 252 pixels, the distance d1 between the horizontal edge H and the deposition 101 is 252 pixels × 46 μm = 11.592 mm The calculated distance (d1 = 11.592mm) is determined to be within the normal range reference value range previously stored in the inspection unit 40.

더불어, 상기 카메라모듈(30)로부터 촬영된 이미지정보에서 1픽셀(Pixel)은 46㎛의 길이를 가지므로, 상기 카메라모듈(30)로부터 촬영된 이미지 정보에서 기판(100)의 수직부 에지(V)와 성막(101)과의 거리(d2)가 147픽셀로 측정된다고 가정할 때, 상기 수직부 에지(V)와 성막(101)과의 거리(d2)는 1472픽셀×46㎛=6.762mm로 산출되고, 상기 산출된 거리(d1=6.762mm)는 상기 검사유닛(40)에 기 저장되는 정상범위 기준값 범위내에 있는지 확인한다.In addition, since one pixel (Pixel) has a length of 46㎛ in the image information taken from the camera module 30, the vertical edge (V) of the substrate 100 in the image information taken from the camera module 30 Assuming that the distance d2 between the film deposition 101 and the film formation 101 is measured to be 147 pixels, the distance d2 between the vertical edge V and the film formation 101 is 1472 pixels x 46 탆 = 6.762 mm. The calculated distance (d1 = 6.762mm) is checked to be within the normal range reference value range previously stored in the inspection unit 40.

따라서, 상기 검사유닛(40)은 상기 비교 결과로부터 상기 산출된 거리(d1)(d2)가 정상범위내의 기준값과 동일 내지 유사하다고 판단될 때, 상기 기판(100)의 표면에 도포되는 성막(101)은 비틀림없이 정상적으로 도포된 것으로 판정하게 되는 것이다.Therefore, when the inspection unit 40 determines that the distance d1 (d2) calculated from the comparison result is the same as or similar to the reference value within the normal range, the film forming film 101 is applied to the surface of the substrate 100. ) Is determined to be normally applied without twisting.

한편, 상기 첨부된 도 1 내지 도 5의 실시예는 기판(100)의 표면에 단층으로 성막(101)이 도포되고, 이러한 단층 성막(101)에 대한 비틀림 불량을 검사하는 것에 대하여 설명하였지만, 상기 검사유닛(40)은 다른 한편으로 첨부된 도 6에서와 같이 상기 기판(100)의 표면에 다층으로 성막(101)(101a)(101b)이 도포시, 이러한 다층 성막(101)(101a)(101b)에 대한 비틀림 불량도 검사할 수 있는 것이다.On the other hand, the embodiment of the attached Figures 1 to 5 has been described in that the film forming 101 is applied to the surface of the substrate 100 in a single layer, the inspection of the torsional defect for the single layer film forming 101, The inspection unit 40, on the other hand, as shown in FIG. 6 attached to the other hand, when the film deposition 101, 101a, 101b is applied in multiple layers on the surface of the substrate 100, such multilayer film formation 101 (101a) ( Torsional failure for 101b) can also be checked.

즉, 첨부된 도 6와 같이 기판(100)에 다층 성막(101)(101a)(101b)이 도포되었을 때, 상기 검사유닛(40)은 우선적으로 기판(100)의 수평부 및 수직부 에지(H)(V)와 가장 멀리 떨어지는 성막(101b) 즉, 상기 기판(100)의 표면에 도포되는 성막(101b)의 크기가 가장 작은 것부터 시작하여 큰 것으로 순차적(101b→101a→101)으로 그 거리(d1",d2")(d1',d2')(d1,d2)를 산출하면 되며, 이러한 산출 방법은 각각 앞서 설명되는 첨부된 도 1 내지 도 5의 실시예와 동일하게 이루어지는 것이다.That is, when the multilayer film forming 101, 101a, 101b is applied to the substrate 100 as shown in FIG. 6, the inspection unit 40 preferentially provides the horizontal and vertical edges of the substrate 100. The film 101b farthest away from H) V, i.e., the film 101b applied to the surface of the substrate 100 is the smallest, starting from the smallest, and sequentially, the distance of which is 101b → 101a → 101. (d1 ", d2") (d1 ', d2') (d1, d2) may be calculated, and this calculation method is performed in the same manner as the above-described embodiment of FIGS. 1 to 5, respectively.

이상에서 본 발명 기판 성막 검사장치에 대한 기술사상을 첨부도면과 함께 서술하였지만, 이는 본 발명의 가장 양호한 실시예를 예시적으로 설명한 것이지 본 발명을 한정하는 것은 아니다.Although the technical concept of the substrate deposition inspection apparatus of the present invention has been described together with the accompanying drawings, this is illustrative of the best embodiments of the present invention and is not intended to limit the present invention.

따라서, 본 발명은 상술한 특정의 바람직한 실시예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변형 실시가 가능한 것은 물론이고, 그와같은 변경은 청구범위 기재의 범위내에 있게 된다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims. It is to be understood that such changes and modifications are within the scope of the claims.

10; 검사대 20; 조명모듈
30; 카메라모듈 40; 검사유닛
100; 기판 101,101a,101b; 성막
10; Examination table 20; Lighting module
30; Camera module 40; Inspection unit
100; Substrates 101, 101a, 101b; Tabernacle

Claims (6)

검사대;
상기 검사대의 하단에 배치되고, 상기 검사대를 성막이 도포된 기판이 통과시 상기 기판으로 광원을 조사하는 조명모듈;
상기 조명모듈의 상단에 배치되고, 상기 조명모듈로부터 기판으로 광원이 조사될 때, 상기 기판의 표면과 수평부 및 수직부의 에지를 촬영하는 카메라모듈; 및,
상기 조명모듈과 상기 카메라모듈의 동작을 제어하고, 상기 카메라모듈에 의해 촬영된 이미지정보로부터 기판의 표면에 도포된 성막과 기판의 수평부 및 수직부 에지의 거리가 각각 정상범위내의 거리인지를 검사하는 검사유닛; 을 포함하여 구성하는 것을 특징으로 하는 기판 성막 검사장치.
Inspection table;
An illumination module disposed at a lower end of the inspection table and irradiating a light source to the substrate when the substrate coated with the inspection table passes;
A camera module disposed on an upper end of the illumination module and photographing edges of a horizontal portion and a vertical portion of the surface of the substrate when the light source is irradiated from the illumination module to the substrate; And
The operation of the lighting module and the camera module is controlled, and the image information captured by the camera module is inspected to determine whether the distances formed on the surface of the substrate and the distance between the horizontal and vertical edges of the substrate are within a normal range, respectively. An inspection unit; Substrate film deposition inspection apparatus comprising a.
제 1 항에 있어서, 상기 카메라모듈은 이동하는 기판의 표면 및 수평부 및 수직부 에지를 라인스캔 방식으로 촬영하는 라인스캔 카메라인 것을 특징으로 하는 기판 성막 검사장치.The apparatus of claim 1, wherein the camera module is a line scan camera that photographs the surface of the moving substrate and the edges of the horizontal and vertical portions in a line scan manner. 제 1 항에 있어서, 상기 조명모듈은 Xe-램프, 할로겐 램프, 고주파 형광등, LED조명기 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 기판 성막 검사장치.The apparatus of claim 1, wherein the illumination module is any one of an Xe-lamp, a halogen lamp, a high frequency fluorescent lamp, and an LED illuminator. 제 1 항에 있어서, 상기 검사유닛은 카메라모듈로부터 촬영되는 이미지정보로부터 기판의 표면에 도포된 성막과 기판의 수평부 및 수직부 에지의 거리를 산출한 후 그 산출값을 정상범위 기준값과 비교 연산하여 정상 또는 비틀림 불량인지를 검사하는 검사프로그램을 탑재 구성하는 것을 특징으로 하는 기판 성막 검사장치.The method of claim 1, wherein the inspection unit calculates the distance between the film formed on the surface of the substrate and the edges of the horizontal and vertical edges of the substrate from the image information photographed from the camera module, and compares the calculated value with a normal range reference value. And a test program for inspecting whether or not a normal or torsion defect is mounted. 제 4 항에 있어서,
상기 기판의 표면에 도포된 성막과 기판의 수평부 및 수직부 에지의 거리에 대한 정상범위 기준값은 상기 검사유닛내에 기 저장하는 것을 특징으로 하는 기판 성막 검사장치.
The method of claim 4, wherein
And a normal range reference value for the distance between the film deposited on the surface of the substrate and the edges of the horizontal and vertical portions of the substrate is stored in the inspection unit.
제 5 항에 있어서,
상기 기판의 표면에 도포된 성막과 기판의 수평부 에지의 거리는 이미지정보로부터 측정되는 성막과 수평부 에지 사이의 픽셀수(Pixel)에 1픽셀당 기준길이를 연산(곱셈)하여 산출하고,
상기 기판의 표면에 도포된 성막과 기판의 수직부 에지의 거리는 이미지정보로부터 측정되는 성막과 수직부 에지 사이의 픽셀수에 1픽셀당 기준길이를 연산(곱셈)하여 산출하는 것을 특징으로 하는 기판 성막 검사장치.
The method of claim 5, wherein
The distance between the film deposition applied to the surface of the substrate and the horizontal edge of the substrate is calculated by calculating (multiplying) the reference length per pixel by the pixel number Pixel between the film formation and the horizontal edge measured from the image information,
The distance between the film deposited on the surface of the substrate and the vertical edge of the substrate is calculated by calculating (multiplying) the reference length per pixel on the number of pixels between the film formed from the image information and the vertical edge. Inspection device.
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